KR20010013484A - 래티스 게이트 및 고무를 사출 성형하는 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 게이트(76)내에 고무의 스트림을 열적으로 혼합하는 복수개의 교차 채널(78, 80)을 통하여 사출 성형 장치내로 고무의 스트림을 배향하기 위한 래티스 게이트(lattice gate)에 관한 것으로, 이것은 유동 채널의 교차점을 통과할 때 고무의 사출 시간을 감소하는 한편 몰드내에 고무를 경화하기 위한 시간을 동시에 감소하게 된다.

Description

래티스 게이트 및 고무를 사출 성형하는 방법{LATTICE GATE FOR INJECTION MOLDING OF RUBBER COMPOUNDS}

전형적인 고무 사출 성형 공정에서는, 경화되지 않은 점성의 고무 화합물이 대기 온도에서 사출 성형 장치의 기다란 배럴(barrel)내로 도입된다. 이것은 일반적으로 회전 스크류 콘베이어 또는 배럴내에 배치된 왕복 램이나 피스톤에 의해 배럴의 하류에 연결된 몰드를 향하여 배럴을 통하여 나아가게 된다. 고무 화합물의 전진시에, 이것은 열 전도(heat conduction)에 의해 가열되고, 배럴내의 기계적인 시어 가열(shear heating)은 그 점도를 감소시키고, 몰드내로 연속해서 사출되는 것이 보다 유동가능하게 되고 유순하게 된다. 전형적으로, 고무 화합물의 점도가 감소되면, 이것은 러너(runners) 및 게이트(gates)를 통하여 보다 용이하게 유동되고, 몰드 캐비티를 용이하게 채워서 안정된 몰드 물품을 생산하게 된다.

고무 화합물의 경화는 "온도에 대한 시간(time at temperature)" 현상이기 때문에, 가열은 배럴내에 화합물을 때아닌(prematurely) 경화 또는 스코칭(scorching) 없이 배럴내에 소정의 "온도에 대한 시간" 요구를 공급하는 역할을 한다. 이것은 온도에 대해 증가시키고, 또한 몰드내에 요구되는 "온도에 대한 시간"을 감소하므로 가황 사이클 시간을 감소하게 된다. 공지된 바와 같이, 대부분의 고무 화합물은 고온에서의 짧은 노출이나 저온에서의 긴 노출을 통하여 경화될 수 있고, 이것은 "온도에 대한 시간" 조건에 의해 본 명세서에 참조되는 이러한 현상이다.

예를 들면, 램 고무 사출 성형내의 경화 시간은 3개의 분리된 별개의 "온도에 대한 시간" 주기(periods)로 구성된다. 첫 번째는 고무를 사출 성형 장치의 배럴의 상류 단부내로 도입하기 전에 재료의 혼합 및 저장중에 "온도에 대한 시간"이고, "공정 스코치 시간(process scorch time)"으로 불려진다. 두 번째 "온도에 대한 시간"은 "나머지 스코치 시간" 또는 초기의 경화 발생전에 사출 성형의 배럴내에 허용되는 시간이다. 공정 스코치 시간중에 더 높은 "온도에 대한 시간"은, 더 짧은 것은 장치의 배럴내에 나머지 스코치 시간을 위해 허용된 "온도에 대한 시간"이 될 것이다. 세 번째의 "온도에 대한 시간"은 몰드 자체내에 혼합의 "가황 시간(vulcanization time)"이다. 시간의 세 번째 주기는 전체 사이클 시간을 함께 포함하고, 첫 번째 2개의 주기의 "온도에 대한 시간"의 정도는 3번째 주기, 즉 경화 또는 가황 시간에 대한 영향을 가진다. 따라서, 고온에서의 동일한 형식(formation)을 갖는 고무 화합물은 저온에서의 동일한 고무 화합물보다 신속하게 가황될 것이다. 대부분의 사출 성형 작용에서, "온도에 대한 시간" 요구의 작은 부분은 사출 성형 장치의 배럴내에, 즉 나머지 스코치 시간내에 공급되고, "온도에 대한 시간" 요구의 큰 부분은 가열된 몰드내에, 즉 가황 시간내에 공급된다.

상기 "온도에 대한 시간" 주기의 축적적인 효과와 더불어, 고무의 가황이 시작되는 "임계 나머지 스코치 온도 범위"로 불려지는 각 고무 화합물을 위한 임계 온도 범위가 있다. 이러한 온도 범위는 공지되고 당업자에 의해 결정될 수 있다. 전형적인 고무 화합물에서, 임계 스코치 온도 범위는 약 240℉(115℃) 내지 320℉(160℃)가 될 수 있다. 이러한 온도 범위에서는, 화합물이 분 또는 초가 될 수도 있는 소정 주기의 시간에 때아닌 "스코치" 또는 가황하도록 시작할 것이다. 이러한 온도 이하의 범위에서는, 가황이 시간을 요구할 수도 있다.

전형적인 고무 사출 성형 공정에서, 대상물은 임계 스코치 온도 범위의 바로 아래인 최대의 온도까지 고무 화합물을 가열해야 되고, 이것은 이러한 제한된 온도에서 화합물의 가장 낮은 점도(viscosity)를 제공할 것이다. 몰드내에 가황 시간이 감소될 수 있도록 배럴내에 높은 온도 또는 열 에너지 또는 "온도에 대한 시간"을 공급에 대한 무력함은 종래 기술의 공정 및 장치내에 계속적인 문제가 되었다. 본 발명이 일반적으로 지향하는 것이 이러한 문제에 대한 것이다.

일반적으로 고무 화합물은, 스팀 재킷(steam jacket) 또는 다소 다른 이러한 외부 열원으로부터 전기적으로 장치의 배럴을 외부적으로 가열하므로, 또 배럴을 통하여 하류로 이동하는 고무 화합물의 매스(mass)내에 고온 배럴 벽으로부터 전도에 의한 열을 전달하므로 초기에 가열된다. 추가의 열은 배럴 및 스크류, 탕구(sprue), 및 몰드의 러너 및 게이트내에 발생하는 마찰력에 의해 또한 시어링(shearing)에 의해 화합물로 공급된다. 대부분의 경우에, 이러한 추가의 열은 가황이 의존하는 중요한 요소이다. 화합물이 몰드 캐비티내에 있으면, 추가의 열은 화합물로 공급되고, 화합물은 요구된 "온도에 대한 시간"을 위해 몰드내에 고정되어 가황되고 경화를 마치게 된다.

화합물이 고온으로 신속하고 일정하게 가열되고 몰드내로 신속하게 사출될 수 있다면 가황 사이클 시간이 감소될 수 있고, 따라서 고무 화합물을 경화하는데 요구되는 다수의 "온도에 대한 시간"은 화합물이 몰드로 유입될 때 발생한다. 그러나, 고무 화합물은 배럴내에 시간의 짧은 주기중에 고온에 노출될 수 없고, 또는 고무 화합물이 몰드로 들어가기 전에 바람직하지 않은 경화 또는 스코칭(scorching)이 발생하게 될 것이다. 고무 화합물이 아직 배럴내에 있을 때, 고무 화합물을 신속하고 균일하게 가열하기 위해 시도되는데 만나게 되는 하나의 어려움은 고무 화합물의 빈약한 열 전도성에서 발생한다. 고무 화합물을 전체적으로 균일한 온도로 신속하게 가열하기 위한 외부 열을 사용하는 것이 어렵게 된다. 열 공급원, 예를 들어 전기 또는 증기 가열식 배럴 벽으로부터 떨어진 고무 화합물의 부분내에 소망하는 온도를 신속히 달성하기 위하여, 고무 화합물내에 소망하는 실질적으로 상기의 온도를 갖는 것이 열 공급원을 위해 필요하게 된다. 이것은 배럴 벽에 근접한 고무 화합물내에 국부적인 고온 스폿(hot spots)을 제공하고, 배럴 벽은 배럴 벽에 가까운 스코칭된 고무 화합물 또는 때아닌 가황된 고무 화합물의 형식을 야기한다. 이것은 재료가 제품 나머지의 최종적인 경화를 위한 몰드에 도달하기 전에 재료내에 경화된 고무 화합물의 바람직하지 않은 경화된 고무 화합물을 제공할 수 있다. 경화된 고무 화합물의 이러한 편(pieces)은 탕구 및 몰드 러너를 막을 수 있고, 몰드 제품을 못쓰게 할 수 있다. 그 결과, 배럴 벽의 온도는 이러한 고온 스폿을 방지하기 위하여 일반적으로 상당히 낮게 되고, 임계 스코치 온도 이하로 유지된다. 그 결과, 화합물 온도는 과도하게 높지 않으므로, 고무 화합물을 경화하기 위해 요구되는 "온도에 대한 시간"의 비교적 작은 부분만이 배럴내에 제공된다. 또한, 화합물의 온도는 전체에 걸쳐서 변경되고, 배럴 벽에 가까운 화합물보다 배럴 벽에서 먼 화합물이 더 저온이 된다. 이러한 요인의 결과는, 고무 재료의 전체적인 매스(mass)의 경화를 종료하는데 요구되는 "온도에 대한 시간"을 제공하기 위하여 고무 화합물이 몰드내로 사출되면 긴 가황 사이클이 요구된다는 것이다.

다양한 기술은, 예를 드면 배럴내에 고무 화합물을 고온으로 가열하므로 몰드에 유입되는 화합물을 보다 신속하고 균일하게 가열하도록 제안되었다. 화합물의 가열은 그 온도를 증가시키고 그 점도를 감소하므로 몰드내로 사출하기에 적합한 가열된 성형적인(plasticized) 보다 유동가능한 재료를 제공하게 된다. 그러나, 사출된 재료의 온도가 균일하지 않기 때문에, 또 배럴내에 "온도에 대한 시간"이 화합물을 경화하는데 요구되는 것보다 작기 때문에, 몰드내에 비교적 긴 가황 사이클이 아직까지 요구되고 있다.

게이트 디자인은 고품질의 몰드 부분을 제공할 경우에 몰드 사이클 시간을 줄이기 위한 공정에서 다른 중요한 변수이다. 전형적으로 게이트는 시어 및 구조 가열 모두의 결합을 통하여 약 240℉(115℃) 내지 약 320℉(160℃)에서 신속히 고무를 가열하도록 설계되어 있다. 시어 가열(shear heating)은 배럴의 영역보다 작은 영역내로 유동하도록 가압되는 게이트내에 고무 화합물에 의해 발생되고, 고무 화합물은 게이트내로 배향되고, 전도 열은 게이트내에 고무 화합물내로 후방으로 전도되는 열이다.

성형 사이클 시간을 감소하기 위한 노력에서, 신속한 사출률(injection rates)이 사출 시간을 감소하데 필요하게 된다. 종래 기술의 성형 적용에서, 연속적인 얇고 플랫 단면의 막형 게이트 디자인(film-type gate design)이 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 사용되고 있다. 이러한 게이트 디자인의 유형은 우수하나, 그 고무 가열의 효율은 신속한 사출 속도에 의해 발생되는 시어 열(shear heat)이 게이트 벽 내에 또는 몰드 자체에 의해 주로 흡수되기 때문에 증가된 사출 속도와 함께 감소하게 된다.

시험 데이터에 기초하면, 열의 과도한 양은 시어 가열(shear heating)에 의해 플랫 게이트 디자인내에 발생하고, 이것은 사출 속도와 함께 증가된다. 시어 가열에서의 열은 일반적으로 고무 유동 두께의 외부 10% 층내에 발생하게 된다. 고무가 열의 빈약한(poor) 전도체(conductor)일 때, 이러한 열은 게이트를 통해 유동하는 고무 전체를 균일하게 가열하기에 신속히 수행되지 않는다. 게이트를 통해 유동하는 고무로부터의 시어 열의 대부분은 금속 게이트의 벽 자체에 또는 몰드내로 전달된다. 더욱이, 게이트의 과열(overheating)은 바람직하지 않은 표면 싱크 마크(surface sink marks) 및 고무 스코치(rubber scorch)를 야기할 수 있다.

몰드 내에 고무의 성형 및 가황 부분을 위해 전체의 사이클 시간내에 감소를 제한하는 종래 기술의 문제를 극복하기 위한 뚜렷한 필요가 있다.

발명의 요약

본 발명의 목적은 첨부된 청구항의 하나 또는 그 이상에서 규정되는 바와 같이, 하나 또는 그 이상의 다음의 종속적인 목적을 달성하기 위해 구성된 성능을 갖는, 고무를 사출 성형 장치내로 배향하기 위하여 개선된 게이트를 제공하는 것이다.

본 발명의 목적은 사출 성형 장치의 몰드 캐비티내로 고무를 배향하기 위한 개선된 게이트를 제공하는 것과 몰드 캐비티내로 유동하는 고무의 온도 변화를 감소하기 위해 게이트를 통해 유동하는 고무의 스트림(rubber of streams)을 열적으로 혼합하는 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 상당한 유량을 갖는 플랫 게이트(flat gate)와 비교하여 사이클 시간이 감소되는 사출 성형 장치의 몰드 캐비티내로 고무의 스트림(streams)을 배향하기 위한 개선된 래티스 게이트를 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 고무를 몰드 캐비티내로 배향하기 위한 개선된 래티스 게이트를 제공하여 최소의 경화 시간이 감소되는 것이다.

본 발명의 실시예에 따르면, 사출 성형 장치의 몰드 캐비티내로 고무를 배향하기 위한 래티스 게이트 시스템은 고무를 게이트내로 배향하기 위한 탕구(sprue)와; 고무를 수용하기 위한 탕구에 연결된 기다란 분배 채널과; 기다란 분배 채널에 대한해 하나의 단부 및 상기 몰드 캐비티내로 고무의 스트림을 배향하기 위한 몰드의 입구에 대한 대향 단부에 연결된 다수의 분리된 교차 유동 채널을 포함한다.

또한, 본 발명에 따르면, 게이트의 분리형 교차 유동 채널은 약 60˚내지 140˚, 바람직하게는 약 90˚내지 120˚의 각도에서 교차하게 된다.

본 발명에 따르면, 게이트는 입구 단부 및 출구 단부를 갖는 플랫 내부면을 갖는 래티스 게이트 탕구 플레이트로서, 상기 다수의 분리 유동 채널은 상기 입구 단부에서 상기 출구 단부로 상기 래티스 게이트 탕구 플레이트를 통해 연장되는 중심선에 대해 약 30˚내지 약 70˚의 각도에서 서로 평행하게 연장되는, 상기 래티스 게이트 탕구 플레이트와; 입구 단부 및 출구 단부를 갖는 플랫 내부면을 갖는 래티스 게이트 플레이트로서, 상기 다수의 분리 유동 채널은 상기 입구 단부에서 상기 출구 단부로 상기 래티스 게이트 플레이트를 통해 연장되는 중심선에 대해 약 30˚내지 약 70˚의 각도에서 서로 평행하게 연장되는, 상기 래티스 게이트 플레이트와; 상기 래티스 게이트 플레이트의 플랫 내부면에 대해 인접하는 상기 래티스 게이트 탕구 플레이트의 상기 플랫 내부 표면을 포함한다. 래티스 게이트 플레이트내에 분리 유동 채널은 래티스 게이트 탕구 플레이트내에 분리 유동 채널과 교차하고, 래티스 게이트 플레이트내에 분리 유동 채널을 통하여 유동하는 고무 스트림은 물리적으로(physically) 및 열적으로(thermally) 혼합되고 분리 유동 채널의 교차점(intersections)에서 다수의 시어 열을 발생하게 된다.

또한, 본 발명에 따르면, 래티스 게이트 탕구 플레이트는 입구 단부에 근접한 래티스 게이트 플레이트를 통하여 연장되는 입구 보어(inlet bore)를 갖고, 래티스 게이트 플레이트는 입구 단부에 근접한 래티스 게이트 플레이트내로 연장되는 탕구 입구 카운터보어(sprue inlet counterbore) 및 래티스 게이트 플레이트를 가로질러 연장되는 기다란 분배 채널을 갖고, 탕구 입구 카운터보어로 및 래티스 게이트 플레이트를 통해 연장되는 다수의 분리 유동 채널로 연장되고, 게이트 탕구 플레이트는 기다란 분배 채널에서 출구 단부로 래티스로 연장되어 있다.

본 발명에 따르면, 고무의 스트림을 탕구 채널에서 기다란 부배 채널내로 배향하는 단계와; 고무의 스트림을 기다란 분배 채널에서 기다란 분배 채널에 대해 하나의 단부에 연결된 다수의 분리 교차 유동 채널내로 배향하는 단계와; 분리 유동 채널의 교차점에서 분리 유동 채널을 통하여 유동하는 고무를 열적으로 혼합하는 단계와; 교차 유동 채널을 나가는 고무를 몰드내로 배향하는 단계를 포함하는 사출 성형 장치내로 고무의 스트림을 사출하기 위한 공정이 제공되고 있다.

또한, 본 발명에 따르면, 이러한 공정은 고무를 다수의 분리 교차 유동 채널내로 배향하고, 분리 교차 유동 채널이 교차하여 유동 채널의 플랫 표면이 서로 접촉하는 단계를 포함한다.

본 발명의 제 2 실시예에 따르면, 래티스 게이트는 고무를 교차 유동 채널을 갖는 원형 및 환상형 몰드내로 사출하는 링 디자인을 구비할 수 있다.

본 발명은 고무 화합물(rubber compounds)의 사출 성형을 위한 개선된 게이트 디자인에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 게이트 가열 효율이 증가되고 사출 성형되는 고무 부분을 경화하기 위한 사이클 시간(cycle time)이 감소된 고무 화합물의 사출 성형을 위한 개선된 게이트 디자인에 관한 것이다.

도 1은 종래 기술의 플랫 게이트내에 형성된 고무의 평면도,

도 2는 도 1의 2-2선을 절취한 도면,

도 3은 본 발명에 따른 래티스 게이트내에 형성된 고무의 평면도,

도 4는 도 3의 4-4선을 절취한 도면,

도 5는 래티스 게이트를 통해 고무의 유동을 각각 나타내는 2개의 유동 채널의 3개의 교차점의 분해도,

도 6은 플레이트를 통해 중심선에 대해 45˚의 각도에 배치된 다수의 평행 유동 채널을 갖는 래티스 게이트 탕구 플레이트의 평면도,

도 7은 탕구 경로를 도시하는 도 6의 7-7선을 절취한 단면도,

도 8은 유동 채널의 단면 형상을 나타내는 도 7의 8-8선을 절취한 단면도,

도 9는 플레이트를 통해 중심선에 대해 45˚의 각도에 배치된 다수의 평행 유동 채널을 갖는 래티스 게이트 플레이트의 평면도,

도 10은 기다란 분배 채널에 연결된 탕구 홈(groove)을 나타내는 도 9의 10-10선을 절취한 단면도,

도 11은 유동 채널의 단면 형상을 나타내는 도 9의 11-11선을 절취한 단면도,

도 12는 본 발명의 래티스 게이트를 나타내는 개략도,

도 12a는 도 12의 12A-12A선을 절취한 도면,

도 13은 본 발명의 래티스 게이트를 통합한 사출 성형 장치의 개략도,

도 14는 증가된 사출 속도에서 플랫 및 래티스형 게이트에 대한 사이클 시간의 변화를 나타내는 도표,

도 15는 증가된 사출 속도에서 플랫 및 래티스형 게이트에 대한 경화 시간의 변화를 나타내는 도표,

도 16은 상이한 크기의 플랫 및 래티스형 게이트에 대한 전체 사이클 시간 비교를 나타내는 도표,

도 17은 래티스 레이지 링의 상부 플레이트의 평면도,

도 18은 래티스 게이지 링의 하부 플레이트의 평면도,

도 19는 본 발명의 래티스 게이트 링의 개략도.

도 13을 참조하면, 본 발명에 따른 전형적인 사출 성형 장치(10)의 개략도를 나타내고 있다. 사출 성형 장치(10)는 고무 또는 고무 화합물이 도입되는 기다란 배럴(12)을 구비한다. 고무는 종래 기술의 사출 성형 장치에서 통상적으로 수행된던 바와 같이, 배럴(12)내에 배치된 스크류 콘베이어(screw conveyor) 또는 왕복 램 또는 피스톤(18)를 회전하므로 배럴(12)을 통하여 구동된다. 고무는 게이트 시스템(20)을 통해 이동하여 고무의 대응하는 게이트형 부분을 형성한다. 예를 들면, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 통상의 플랫 게이트 시스템의 형상에 대응하는 고무(21)의 게이트형 부분에 나타나 있다. 그 다음 게이트 시스템(20)을 나가는 고무는 몰드(19)의 몰드 캐비티(28)내로 유동한다.

본 발명은 먼저 종래 기술의 플랫 게이트 섹션(21)과 비교되는 바와 같이, 게이트 섹션내에 고무의 개선된 혼합 및 온도의 균일함을 초래하도록 고무를 게이트 시스템을 통해 고무 콘택트로 증가시키기 위한 래티스 게이트 시스템(lattice gate system)(30)의 디자인에 관한 것이다. 본 발명의 목적을 위하여, 오스트리아의 엔겔 코포레이션(Engel Corporation)의 275톤(ton) 사출 성형 장치가 본 발명에 사용하기에 적합하게 된다.

종래에는, 종래 기술의 플랫 게이트 시스템(도시하지 않음)을 통하는 내부 유동 통로에 대응하는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 고무의 연속적인 플랫 게이트형 부분(21)은 탕구(sprue)(22), 분배 러너(distribution runner)(24) 및 플랫 게이트 섹션(26)을 구비한다. 전형적인 플랫 게이트형 부분(21)에서, 플랫 게이트 섹션은 약 0.012인치의 두께(t), 약 5.0인치의 폭(w) 및 약 1.25인치의 길이(l)를 갖는다.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 고무의 연속적인 플랫 게이트형 부분(21)에 따르면, 전도 및 시어 가열 양쪽으로부터의 최대의 열 효율을 얻기 위하여 최적의 게이트 사출 속도가 있다. 플랫 게이트 형상 디자인을 위해, 가열 효율은 사출 속도가 증가할 때 떨어지고, 게이트를 통해 유동하는 고무를 전체적으로 가열하기 위한 시간이 충분하지 않기 때문에 열 전도가 고무 가열의 상당한 부분에서 발생하는 것을 의미한다. 일반적으로, 플랫 게이트 디자인내에 비록 빠른 사출 속도가 도 14, 도 15 및 도 16에 도시된 바와 같이 긴 부분의 경화 시간을 야기할 수 있고, 이것은 사출 후에 직접적으로 측정될 때 낮은 고무 온도로 분배될 수 있다.

일반적으로 도 12에 도시된 바와 같이, 개선된 래티스 게이트 시스템(30)은 탕구 채널(32), 분배 채널(34), 및 개선된 열 분배용 유동 채널의 교차점에서 연속적으로 혼합되도록 래치스 게이트 시스템을 통하여 유동하는 고무를 가압하는 교차하는 고무 유동 채널(36, 38)의 래티스형 게이트 섹션(lattice shaped gate section)(35)을 통합하고 있다. 실질적으로, 래티스 게이트 시스템(30)은 "스태틱 믹서(static mixers)", 즉 2개의 고무 유동 채널(36, 38)의 각 교차점에서의 다양성을 사용하고, 연속적인 배열에서 사출 성형 장치의 몰드 캐비티(28)로 유입되기 바로 전에 래티스형 게이트 섹션(35)내에 고무를 열적으로 혼합하게 된다. 전술한 바와 같이, 래티스 게이트 시스템(30)은 사출 성형 장치의 배럴(12)의 하류로부터 몰드 캐비티(28)내로 고무 유동을 배향하기 위해 사용된다. 본 발명에 따르면, 래티스 게이트 시스템(30)이 몰드내에 배치된다. 그러나, 래티스 게이트 시스템(30)을 몰드의 외부에 배치하는 것이 본 발명의 범위내에 있다.

도 6 내지 도 11을 참조하면, 래티스 게이스 시스템(30)의 구성요소, 즉 래티스 게이트 탕구 플레이트(lattice gate sprue plate)(40) 및 래티스 게이트 플레이트(42)가 도시되어 있다. 도 6을 참조하면, 래티스 게이트 탕구 플레이트(40)의 내부면(44)의 평면도가 도시되어 있다. 도 6 및 도 7에 도시되어 있는 바와 같이, 탕구 플레이트(40)는 외부면(48)으로부터 내부면(44)으로 연장되는 탕구 보어(46)를 구비한다. 플레이트(40)의 내부면내로 형성된 다수의 유동 채널(36)은, 도 6, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 서로간에 평행하고, 입구 단부(52)로부터 래티스 게이트 탕구 플레이트(40)의 출구 단부(54)로 연장되는 중심선(50)에 대해 약 30˚내지 약 70˚의 각도, 바람직하게는 약 45˚내지 약 60˚의 각도로 배치되어 있다. 아래에 설명되는 바와 같이, 중심선에 대해 평행한 유동 채널(36)의 각도가 증가할 때, 각기 래티스 게이트 탕구 플레이트(40)의 입구와 출구 측면(52, 54) 사이의 거리를 가로지르는 요구되는 고무의 시간이 증가하고 역도 또한 같다. 도 8에 도시된 바와 같이, 유동 채널(36)은 반원형 단면으로 도시되어 있다. 그러나, 예를 들면, 소망하는 바와 같이 타원형, 삼각형 또는 사각형과 같이 다른 단면을 갖는 유동 채널(36)을 형성하는 것이 본 발명의 범위내에 있다.

도 9를 참조하면, 입구 단부(58) 및 출구 단부(60)를 갖는 래티스 게이트 플레이트(42)의 플랫 내부면(56)의 평면도를 도시하고 있다. 내부면(56)내로 연장되는 탕구 입구 카운터보어(62)는 래티스 게이트 플레이트(42)의 입구 단부(58)와 출구 단부(60) 사이에 배치된다. 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 탕구 입구 카운터보어(62)는 래티스 게이트 플레이트(42)의 길이를 부분적으로 가로질러 연장되는 기다란 분배 채널(64)과 유체 연통되고 또 출구 단부(60)에 대해 평행하게 된다. 도 9, 도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 래티스 게이트 플레이트(42)의 내부면내에 형성되는 다수의 유동 채널(66)은 서로 평행하고, 래티스 게이트 플레이트(42)의 입구 단부(58)에서 출구 단부(60)로 연장되는 중심선(68)에 대해 약 30˚내지약 70˚의 각도, 바람직하게는 약 45˚내지 약 60˚의 각도로 배치되어 있다. 아래에 보다 상세히 설명되는 바와 같이, 중심선에 대해 평행한 유동 채널(66)의 각도가 증가할 때, 래티스 게이트 플레이트(42)의 각 입구 및 출구 측면(58, 60) 사이의 거리를 가로지르는데 요구되는 고무에 대한 시간도 증가하고 그 역도 또한 같다. 도 11에 도시된 바와 같이, 유동 채널(36)은 반원형 단면으로 형성되는 것이 바람직하다. 소망하는 바와 같이, 예를 들면 직사각형, 삼각형 또는 타원형과 같은 임의의 소망하는 단면을 갖는 유동 채널(66)을 형성하는 것이 본 발명의 범위내에 있다. 도 12 및 도 12a를 참조하면, 래티스 게이트 플레이트(42)의 플랫 내부면(56)에 대해 인접하는 래티스 게이트 탕구 플레이트(40)의 플랫 내부면(44)을 갖는 래티스 게이트 시스템(30)이 도시되어 있고, 서로간에 볼트 체결과 같은 통상의 수단에 의해서 여기에 고정된다.래티스 게이트 탕구 플레이트(40)와 래티스 게이트 플레이트(42)가 서로 고정된 후에, 탕구 보어(46) 및 탕구 입구 카운터보어(62)가 탕구 채널(32)을 형성하도록 교차한다. 또한, 탕구 플레이트(40)의 플랫 내부 표면(44)은 기다란 분배 채널(64)에 대해 인접하여 분배 채널(34)을 형성한다. 도 12에 도시된 바와 같이, 분배 채널(34)은 래티스형 게이트 섹션(35)를 형성하도록 교차하는 유동 채널(36, 38)과 유체 연통된다.

본 발명의 중요한 실시예는 래티스 게이트 시스템(30)이 조립된 후에 분배 채널(34)의 구성에 관한 것이다. 즉, 유동 채널(36, 38)은 서로에 대해 약 60˚내지 약 140˚의 각도로, 바람직하게는 서로에 대해 약 90˚내지 약 120˚의 각도로 교차하도록 배치된다. 또한, 래티스 게이트 탕구 플레이트(40) 및 래티스 게이트 플레이트(42)의 유동 채널(36, 38)의 부분은, 전형적으로 각기 반원형 또는 타원형으로 부분적으로 형성되고, 래티스 게이트 플레이트(42)나 또는 래티스 게이트 탕구 플레이트(40)에 대향하는 플랫면에 대해 인접하게 된다. 유동 채널(36, 38)의 나머지 부분은 유동 채널(36, 38)의 교차점에 형성되고, 타원형을 갖는 바와 같이 도 12a에 도시되어 있다.

본 발명의 어떤 이점은 래티스 게이트 시스템(30)을 통합하는 사출 성형 장치내로 고무를 사출하는 공정을 고려하므로 이해될 수 있다. 이러한 공정은 사출 성형 장치(10)의 배럴(12)의 입구(14)내에 고무 또는 고무 화합물을 배향하는 단계를 구비한다. 고무는 통상적으로 종래 기술에 공지된 바와 같이 램 또는 스크류 인젝터 장치와 같은 종래의 수단에 의해 배럴(12)을 하부로 가압한다. 그 다음, 고무는 래티스형 게이트 섹션(35)내에 형성되는 탕구 채널(32)을 통해 그다음 기다란 분배 채널(34)내로 배향된다. 다음에, 고무는 기다란 분배 채널(34)로부터 기다란 분배 채널(34)에 대해 상류 단부에 연결된 또 사출 성형 장치(10)의 몰드 캐비티(28)에 대해 대향하는 하류 단부에 연결된 다수의 분배 교차 유동 채널(36, 38)내로 배향된다.

도 3, 도 4 및 도 5를 참조하면, 래티스형 게이트 섹션(35)을 통한 고무의 유동은 탕구(72), 분배 러너(74) 및 교차 평행 고무 스트림(78, 80)의 래티스 게이트 섹션(76)을 구비하는 고무의 래티스 게이트형 부분(70)을 형성한다. 고무 유동의 스트림(78, 80)이 분배 교차 유동 채널(36, 38)을 통해 가압될 때, 고무는 도 5에 도시된 바와 같이 분배 유동 채널의 각 교차점에서 가열되고 열적으로 혼합된다. 분배 교차 고무 유동 스트림(78, 80)이 다수의 교차점에서 서로에 대해 인접하는 플랫 내부면(82, 84)에 배치되는 단면을 각각 갖게 되면, 고무 유동 스트림은 도 5에 도시된 바와 같이 채널(36, 38)의 교차점에서 타원형과 같이 상이한 형상의 단면을 형성하게 된다. 고무 스트림이 게이트의 일 단부에서 다른 단부로 그 유동이 연속될 때, 이들은 고무가 열적으로 혼합되는 일련의 교차점을 통과하게 된다. 본 발명의 중요한 실시예는 교차점의 수 및 교차점의 형상을 특정 적용에 따라 변경할 수 있고, 고무 스트림이 유동하는 교차점의 수간 증가할 때 고무 스트림은 열적으로 많이 고온에서 혼합된다.

도 3에 도시된 바와 같이, 고무의 래티스 게이트형 부분(70)은 도 1에 도시된 바와 같이 상당한 프랫 게이트 디자인보다 많은 물리적 혼합, 고무 대 고무 시어 가열 및 열 혼합을 효과적으로 만든다. 비교를 위하여, 플랫 및 래티스형 게이트 모두는 동일한 효과의 단면 유동 영역을 갖는다. 도 14, 도 15 및 도 16에 도시되는 아래에 설명된 결과에서, 도 3의 래티스 게이트 디자인을 위한 블로우 포인트 경화 시간(blow point cure time)은 사출 속도가 증가하므로 감소되었고, 부분 스코치(part scorch)에 따른 역효과가 없었고, 유사한 조건을 받게 될 때 도 1의 상당한 플랫 게이트 디자인이 부분 스코치를 나타내었다.

성형 고무 제품의 당업자에게, 고무 제품의 내부내에 다공성(porosity)이 방지되어야 한다는 것이 공지되어 있다. 다공성은 제품이 사용할 때에 블로우(blows)하거나 실패하는 위치가 될 수 있는 최종적인 제품내에 취약한 스폰지 영역(spongy areas)을 만들게 된다. 또한 최종적인 제품은 부분이 찢어질 수 있는 다공성으로부터 바람직하지 않은 벌지(bulges)를 갖을 수 있다. 블로잉(blowing)은 고무 화합물내에 변하기 쉬운 내부 압력이 디몰딩(demolding) 또는 몰드로부터 제거 시간에 재료의 강도를 초과할 때 발생하게 된다. 다공성은 부분의 블로우 포인트에 대한 경화 전에 고무 제품이 디몰딩될 때에 초래한다. 당업자에게 경화 시간은 제품에 대한 적어도 경화의 포인트에 의해 결정되거나 제한된다. 제품은 경화 시간이 "블로우 포인트" 경화 시간 보다 작을 때 다공성을 "블로우(blow)"하거나 갖게 될 것이다.

도 14, 도 15 및 도 16을 참조하면, 실질적으로 동일한 효과의 단면 유동 영역을 갖는 상당한 또는 실질적으로 동등한 래티스 게이트 디자인과 비교하는 바와 같이 플랫 게이트 다지인을 통해 사출 속도를 증가하는 것으로 도시되어 있다. 특히, 도 14를 참조하면, 전체의 사이클 시간, 즉 사출 시간과 경화 시간을 더한 것과 비교하는 도표가 도시되어 있고, 다음에 종래 기술의 플랫 게이트와 본 발명의 상당한 래티스 게이트 디자인 사이에 비교하는 도표가 도시되어 있다. 도 14의 도표는 사출 시간이 플랫 게이트를 위해 감소하고, 최소의 경화 시간이 증가하는 것으로 나타나 있다. 역으로, 사출 시간이 래티스 게이트 디자인을 위해 증가할 때, 경화 시간이 감소하게 된다. 시험 절차시에, 소정의 사출 속도에 대해 플랫 및 래티스 게이트 모두를 통과하는 사출 시간은 동일한 것으로 관찰되었고, 이들이 동일한 효과의 단면 유동 영역을 갖기 때문인 것으로 기대될 것이다. 그러나, 기대되지 않은 결과는 전체 사이클 시간이 최소의 경화 시간내의 사이함에 기초하여 발생되었다는 것이었다. 도 14에 도시된 결과는 래티스 게이트 디자인의 매우 큰 이점을 도표로 나타낸 것이다. 즉, 래티스 게이트 디자인을 위한 사출 시간에서의 감소는 최소의 경화 시간에서의 감소 및 전체 사이클 시간의 가장 큰 부분을 초래한다. 최소의 경화 시간은 성형되는 제품내에 최소의 경화의 포인트에서 블로우 포인트를 초과하는 최소의 경화 시간으로 규정된다.

도 15는 특정 사출 속도에 대한 시간이 래티스 게이트와 함께 증가할 때 및 동일한 사출 속도를 위한 상당히 높은 최소의 경화 시간 블로우 포인트를 갖는 플랫 게이트에 대향하게 될 때, 최소의 경화 시간내에서의 감소를 도시하는 도 14와 같은 동일한 데이터를 이용하는 도표이다. 도 15에 도시된 바와 같이, 플랫 게이트 디자인을 위한 경화 시간은 사출 속도에 따르게 된다. 즉, 사출 속도가 초당 0.1인치에 대해 증가할 때, 최소의 경화 시간도 증가한다. 역으로, 래티스 게이트 디자인에 따르면, 사출 속도는 최소의 경화 시간에 반비례하게 되고, 즉 사출 속도가 증가할 때 최소의 경화 시간이 감소하게 된다.

도 16을 참조하면, 실질적으로 동일한 효과의 단면 유동 영역을 갖는 실질적으로 동일한 플랫 및 래티스 게이트 디자인을 위한 전체의 사이클 시간, 즉 사출 시간과 고정 시간과 최소의 경화 시간을 더한 것과 비교하는 그래프가 도시되어 있다. 고정 시간은 인젝터가 다음의 스크류 및 인젝션 리필 사이클(injection refill cycle)을 위해 수축되기 전에 부분이 고압에서 고정되는 시간이다.

막대 도표내에 도시된 데이터에 기초한 다른 관찰은 고무의 스트림이 교차하는 각도, 즉 약 90˚내지 120˚의 교차 각도로 서로 증가할 때를 나타낸 것으로, 게이트를 통하는 저항(resistance)은 사출 시간을 따라 증가하게 된다. 그러나, 증가된 저항은 전체의 사이클 시간이 더 증가하게 되는 다수의 열 가열을 초래한다. 하나의 시험에서, 스트림의 수는 20개 스트림의 게이트(A)에서 30개의 스트림이 있는 게이트(C)로 증가되었다. 그 결과는 게이트를 통하는 저항이 다시 증가되는 한편, 사출 시간이 증가되어, 전체 사이클 시간을 초래하게 된다.

본 발명의 제 2 실시예에 따르면, 아래에 설명되는 바와 같은 래티스 게이트의 개념을 따라 설치된 래티스 게이트는 원형 및 환형 몰드(도시하지 않음)내로 사출 고무을 위한 링 형상을 갖는다. 도 17에 도시된 바와 같이, 상부 래티스 게이트 링(90)은 원형 분배 채널(96) 주위에 배치된 다수의 탕구 구멍(94)을 갖는 내부면(92)을 갖는다. 채널(96)은 래티스 게이트 링(90)의 주변 에지 주위로 연장된 다수의 유동 채널(98)에 의해 교차된다. 유동 채널(98)을 형성하는 각각의 홈은 약 30˚내지 약 70˚의 각도, 바람직하게는 약 45˚내지 약 60˚의 각도로 중심선(100)을 교차하도록 배치된다. 도시된 바와 같이, 채널(98)은 약 45˚의 "각도(d)"를 갖고, 링(90)의 원주방향 주위에 360 채널을 제공하기 위해 1˚만큼 이격되어 있다. 360 채널(98)이 도시되어 있는 한편, 임의의 소망하는 채널의 수를 사용하는 것이 본 발명의 범위내에 있다.

도 18에 도시된 바와 같이, 하부 플레이트(102)는 원형 분배 채널(106)을 갖는 내부면(104)을 갖는다. 다수의 채널(108)은 증심선(110)에 대해 "각도(e)"로 하부 래티스 게이트 링 플레이트(102)의 외주부 주위로 연장되고, 각도(e)는 채널(98)을 위해 선택된 바와 같이 동일한 각도를 갖는 상부 래티스 게이트 링 플레이트(90)내에 "각도(d)"에 대응하게 된다. 상부 래티스 게이트 링 플레이트(90)에 따라, 채널(108)은 360 채널(108)이 하부 플레이트(102)의 원주방향 주위로 연장되도록 1˚이격되어 배치되는 것으로 도시되어 있다.

도 19는 래티스 게이트 링(112)의 섹션을 도시한 것으로, 상부 래티스 게이트 링 플레이트가 하부 래티스 게이트 링 플레이트(102)의 내부면(104)에 인접하여 채널(98, 108)이 서로 교차하게 된다. 고무의 스트림이 탕구 보어(94)를 통하여 채널(96, 106) 사이에 형성된 분배 채널내로 가압되고 그 다음 교차 채널(98, 108)내로 가압됨으로써, 고무는 몰드 캐비티내로 배향될 때 고무는 개선된 열 분배를 위해 유동 채널의 교차점에서 계속해서 혼합된다.

도 19에 도시된 바와 같이, 래티스 게이트 링(112)의 제 2 실시예는 전술한 래티스 게이트 시스템(30)과 같이 기본적으로 동일한 원리로 작동되고, 일반적으로 도 12에 도시되어 있다.

본 명세서에 설정된 목적, 수단 및 이점을 구현하는 사출 성형 장치를 갖는 래티스 게이트를 사용하는 래티스 게이트 디자인 및 방법이 본 발명에 따라 제공되어 있는 것이 명백하다. 본 발명에 따르면, 개선된 래티스 게이트 디자인은 사출 성형 장치내로 고무를 배향시키고, 고무를 사출 시간을 감소시키기 위하여 게이트내에 물리적으로 혼합시키는 한편, 래티스 게이트에 의해 공정되는 몰드 캐비티내에 형성된 고무 부분을 위한 경화 시간을 동시에 감소시킬 수 있다.

본 발명은 이것의 실시예와 결합하여 설명되는 한편, 전술한 기술에 대해 당업자에 의해 많은 변형예, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 명백하게 될 것이다. 따라서, 본 발명은 첨부된 청구범위의 정신 및 범위내에서 이러한 모든 변형예, 변형 및 변경이 포함하게 된다.

Claims (19)

1. 고무를 사출 성형 장치의 몰드 캐비티내로 사출 성형하기 위한 래티스 게이트(lattice gate)에 있어서,

   상기 고무의 스트림을 수용하기 위한 기다란 분배 채널과,

   상기 기다란 분배 채널에 대한 일 단부에 및 상기 몰드 캐비티에 대한 대향하는 단부에 연결된 다수의 제 1 이격 유동 채널과,

   상기 기다란 분배 채널에 대한 일 단부에 및 상기 몰드 캐비티에 대한 대향 단부에 연결된 다수의 제 2 이격 유동 채널로서, 상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 유동 채널은 열적으로 혼합하기 위해 상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 유동 채널의 각각을 통하여 상기 고무의 스트림이 서로 교차하도록 배치되는, 상기 제 2 이격 유동 채널을 포함하는

   래티스 게이트.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 유동 채널은 타원형, 반원형, 직사각형 및 삼각형 단면을 포함하는 상기 그룹에서 선택된 형상을 구비하는

   래티스 게이트.
3. 제 2 항에 있어서,

   상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 유동 채널은 타원형 단면의 상기 유동 채널의 교차점에 형성되는

   래티스 게이트.
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 유동 채널은 서로에 대해 약 60˚내지 약 140˚의 각도에서 교차하는

   래티스 게이트.
5. 제 4 항에 있어서,

   상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 유동 채널은 바람직하게는 서로에 대해 약 90˚내지 약 120˚의 각도에서 교차하는

   래티스 게이트.
6. 제 1 항에 있어서,

   상기 다수의 제 1 이격 유동 채널은 서로 평행한 관계로 배치되고, 상기 다수의 제 2 이격 유동 채널은 서로 평행하게 배치되는

   래티스 게이트.
7. 제 1 항에 있어서,

   고무를 상기 기다란 분배 채널내로 배향하기 위한 탕구 채널(sprue channel)을 더 포함하는

   래티스 게이트.
8. 제 1 항에 있어서,

   입구 단부 및 출구 단부를 갖는 플랫 내부면을 갖는 래티스 게이트 탕구 플레이트로서, 상기 다수의 제 1 이격 유동 채널은 상기 입구 단부에서 상기 출구 단부로 상기 래티스 게이트 탕구 플레이트를 통해 연장되는 중심선에 대해 약 30˚내지 약 70˚의 각도에서 서로 평행하게 연장되는, 상기 래티스 게이트 탕구 플레이트와,

   입구 단부 및 출구 단부를 갖는 플랫 내부면을 갖는 래티스 게이트 플레이트로서, 상기 다수의 제 2 이격 유동 채널은 상기 입구 단부에서 상기 출구 단부로 상기 래티스 게이트 플레이트를 통해 연장되는 중심선에 대해 약 30˚내지 약 70˚의 각도에서 서로 평행하게 연장되는, 상기 래티스 게이트 플레이트와,

   상기 래티스 게이트 플레이트의 플랫 내부면에 대해 인접하므로, 상기 래티스 게이트 탕구 플레이트내에 상기 다수의 제 1 이격 유동 채널이 상기 래티스 게이트 탕구 플레이트내에 상기 다수의 제 2 이격 유동 채널과 교차하는 상기 래티스 게이트 탕구 플레이트의 상기 플랫 내부 표면을 포함하는

   래티스 게이트.
9. 제 8 항에 있어서,

   상기 래티스 게이트 탕구 플레이트내에 상기 다수의 제 1 이격 유동 채널과 상기 래티스 게이트 플레이트내에 상기 다수의 제 2 이격 유동 채널은 각기 게이트 탕구 플레이트 및 게이트 플레이트를 통하여 상기 중심선에 대해 동일한 각도를 형성하는

   래티스 게이트.
10. 제 9 항에 있어서,

    상기 입구 단부에 근접한 상기 래티스 게이트 플레이트를 통하여 연장되는 탕구 입구 보어를 갖는 상기 래티스 게이트 탕구 플레이트와,

    상기 입구 단부에 근접한 상기 래티스 게이트 플레이트내로 연장되는 탕구 입구 카운터보어(counterbore), 및 상기 래티스 게이트 플레이트를 가로질러 연장되고 상기 탕구 입구 카운터보어에 연장되고 또 상기 래티스 게이트 플레이트를 통해 연장되는 상기 다수의 분리 유동 채널에 연결되는 기다란 분배 채널을 구비하고, 상기 래티스 게이트 탕구 플레이트는 상기 기다란 분배 채널에서 상기 각 게이트 플레이트 및 게이트 탕구 플레이트로 연장되는, 상기 래티스 게이트 플레이트를 포함하는

    래티스 게이트.
11. 고무를 사출 성형하는 방법에 있어서,

    고무의 스트림을 기다란 분배 채널내로 배향시키는 단계와;

    상기 고무의 스트림을 상기 기다란 분배 채널로부터 상기 기다란 분배 채널에 대해 하나의 단부에 연결된 다수의 제 1 및 제 2 이격 교차 유동 채널내로 배향하는 단계와;

    상기 제 1 및 제 2 이격 유동 채널의 교차점에서 상기 제 1 및 제 2 이격 유동 채널을 통해 유동하는 상기 고무 스트림을 열적으로 혼합하는 단계와;

    상기 제 1 및 제 2 이격 유동 채널을 나가는 상기 고무를 몰드 캐비티내로 배향하는 단계를 포함하는

    고무를 사출 성형하는 방법.
12. 제 11 항에 있어서,

    상기 고무의 스트림을 상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 교차 유동 채널내로 배향하는 단계는 상기 다수의 제 1 및 제 2 유동 채널을 통해 유동하는 상기 고무의 스트림을 교차하여 상기 다수의 제 1 유동 채널을 통해 유동하는 상기 고무의 스트림의 플랫 표면이 상기 다수의 제 2 유동 채널을 통해 유동하는 상기 고무의 스트림의 플랫 표면에 대해 인접하는 단계를 포함하는

    고무를 사출 성형하는 방법.
13. 제 12 항에 있어서,

    서로에 대해 약 60˚내지 약 140˚의 각도에서 교차하는 상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 유동 채널내로 상기 고무의 스트림을 배향하는 단계를 더 포함하는

    고무를 사출 성형하는 방법.
14. 제 13 항에 있어서,

    서로에 대해 약 80˚내지 약 120˚의 각도에서 교차하는 상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 유동 채널내로 상기 고무를 배향하는 단계를 더 포함하는

    고무를 사출 성형하는 방법.
15. 고무를 사출 성형 장치의 환형(annulus-shaped) 몰드 캐비티내로 사출 성형하기 위한 래티스 게이트에 있어서,

    상기 고무의 스트림을 수용하기 위한 원형 분배 채널과,

    상기 원형 분배 채널에 대한 일 단부에 및 상기 환형 몰드 캐비티에 대한 대향하는 단부에 연결된 다수의 제 1 이격 유동 채널과,

    상기 원형 분배 채널에 대한 일 단부에 및 상기 환형 몰드 캐비티에 대한 대향 단부에 연결된 다수의 제 2 이격 유동 채널로서, 상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 유동 채널은 열적으로 혼합하기 위해 상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 유동 채널의 각각을 통하여 상기 고무의 스트림이 서로 교차하도록 배치되는, 상기 제 2 이격 유동 채널을 포함하는

    래티스 게이트.
16. 제 15 항에 있어서,

    상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 유동 채널은 서로에 대해 약 60˚내지 약 140˚의 각도에서 교차하는

    래티스 게이트.
17. 고무를 사출 성형하는 방법에 있어서,

    고무의 스트림을 원형 분배 채널내로 배향시키는 단계와;

    상기 고무의 스트림을 상기 원형 분배 채널로부터 상기 원형 분배 채널에 대해 하나의 단부에 연결된 다수의 제 1 및 제 2 이격 교차 유동 채널내로 배향하는 단계와;

    상기 제 1 및 제 2 이격 유동 채널의 교차점에서 상기 제 1 및 제 2 이격 유동 채널을 통해 유동하는 상기 고무 스트림을 열적으로 혼합하는 단계와;

    상기 제 1 및 제 2 이격 유동 채널을 나가는 상기 고무를 환형 몰드 캐비티내로 배향하는 단계를 포함하는

    고무를 사출 성형하는 방법.
18. 제 17 항에 있어서,

    상기 고무의 스트림을 상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 교차 유동 채널내로 배향하는 단계는 상기 다수의 제 1 및 제 2 유동 채널을 통해 유동하는 상기 고무의 스트림을 교차하여 상기 다수의 제 1 유동 채널을 통해 유동하는 상기 고무의 스트림의 플랫 표면이 상기 다수의 제 2 유동 채널을 통해 유동하는 상기 고무의 스트림의 플랫 표면에 대해 인접하는 단계를 포함하는

    고무를 사출 성형하는 방법.
19. 제 18 항에 있어서,

    서로에 대해 약 60˚내지 약 140˚의 각도에서 교차하는 상기 다수의 제 1 및 제 2 이격 유동 채널내로 상기 고무의 스트림을 배향하는 단계를 더 포함하는

    고무를 사출 성형하는 방법.