KR20010000452A

KR20010000452A - Silicone squeeze for device

Info

Publication number: KR20010000452A
Application number: KR1020000057643A
Authority: KR
Inventors: 이범형
Original assignee: 이범형
Priority date: 2000-09-30
Filing date: 2000-09-30
Publication date: 2001-01-05

Abstract

PURPOSE: A silicon squeezing apparatus of plating solution bath is proposed to prevent leakage of the solution by controlling outflow received into a transfer opening at the plating bath to accomplish economical and environmental benefits. CONSTITUTION: The squeezing apparatus made of silicon is constructed by a fixed stand (10), a projecting guide part integrated with a vertical guide part (12), a projection part (20) inserted into the projecting guide part, a connection groove matched to the projection part and a resilient side (24). The resilient side consists of a forward and a backward watertight sealing sides (26), a watertight groove opened upward and a blocking projection formed at front part of the sealing sides divided by the groove. The squeezing apparatus effects to prevent leakage of plating solution to ensure economical and environmental benefits for manufacturer and workers.

Description

Silicon squeeze device

본 발명은 도금조에 수용된 도금액의 유출을 막는 밀봉장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 도금될 물체를 이송하여 도금시키는 도금조에 형성된 이송개구부에 본 발명에 따른 밀봉장치를 설치하여 도금물체의 이동시 그 도금물체의 틈으로 유출되는 도금액의 유출을 막는 실리콘 스퀴즈장치에 관한 것이다.The present invention relates to a sealing device for preventing the outflow of the plating liquid contained in the plating bath, and more particularly, to install the sealing device according to the present invention in the transfer opening formed in the plating bath for transporting and plating the object to be plated when the plating object is moved The present invention relates to a silicon squeeze device that prevents leakage of a plating liquid flowing out into a gap of an object.

일반적으로 PCB나 일반적인 물체를 도금하는 도금조는 일정한 체적을 갖는 수용부가 형성되고, 그 수납부에 도금을 하기위한 도금액이 수용되는 것이다.In general, a plating bath for plating a PCB or a general object is provided with an accommodating part having a constant volume, and a plating solution for plating an accommodating part is accommodated.

뿐만 아니라, 도금을 하는 본 공정외에 에칭이나 수세를 하는 전 공정 역시 일정한 체적 내부에 수납부가 형성되어 소정의 에칭액이나 수세액이 수용되어 있는 것이다.In addition, in addition to this process of plating, all the processes of etching or washing with water also contain an accommodating portion in a predetermined volume to accommodate a predetermined etching liquid or washing liquid.

그러나, 종래의 상측에서 소정의 걸이에 의해 투입되는 방식으로부터 상기의 각각의 도금의 전 공정과 본 공정인 도금을 수행하는 도금조를 연속적으로 배치하여 도금이 되는 물체를 소정의 이송장치로 이송을 하여 일괄적인 도금이 행하여 지고 있는 것이다.However, in the conventional way, the plating tank for performing the plating process, which is the previous process and the present process, is continuously disposed from the method of feeding by a predetermined hook, and the object to be plated is transferred to a predetermined conveying device. Collective plating is performed.

뿐만 아니라, 상기 도금조만을 단독으로 분리하여 이송장치에 의하여 이송되되 도금만을 수행하기도 하는 것이다.In addition, only the plating bath is separated by being transported by a transfer device to perform only plating.

또한, 일괄적인 공정및 단독 도금조는 상기 이송장치에 의해 이송되는 특징으로 인하여 도금조의 측면이 개구되어 이송개구부가 형성되어 있는 것이다.In addition, the collective process and the single plating bath is a side of the plating bath is opened due to the feature to be transferred by the transfer device is formed with a transfer opening.

그러나, 상기 도금조의 이송개구부를 밀봉하기 위한 장치의 개발은 미약한 실정이다.However, the development of a device for sealing the transfer opening of the plating bath is a weak situation.

만약, 도금시 수용된 도금액이 유출된다면 환경의 오염은 물론 작업자의 산재에 커다란 영향을 미치며, 고가의 도금액을 낭비하게 되는 것이다.If the plating solution contained in the plating is leaked, it will not only pollute the environment, but will also have a great impact on the worker's scattering and waste expensive plating solution.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 극복하기 위한 것으로서, 이송장치에 의해서 단독으로 도금이 수행되는 도금조나 상기 이송장치에 의해 일괄 배치된 도금조의 측면에 형성된 이송개구부로 수용된 도금액의 유출을 방지하기 위하여 본 발명에 따른 실리콘 스퀴즈장치를 제공하여 작업자의 안전은 물론 경제적이고,환경의 오염을 유발할 수 있는 도금액을 밀봉하는 본 발명에 따른 실리콘 스퀴즈장치를 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention is to overcome the above problems, to prevent the outflow of the plating liquid accommodated in the plating tank that the plating is performed alone by the transfer device or the transfer opening formed on the side of the plating tank collectively arranged by the transfer device In order to provide a silicone squeeze apparatus according to the present invention to provide a silicone squeeze apparatus according to the present invention for sealing a plating liquid that can cause pollution of the environment as well as the safety of the operator.

도 1은 본 발명에 따른 실리콘 스퀴즈장치의 사시도이고,1 is a perspective view of a silicon squeeze device according to the present invention,

도 2은 본 발명에 따른 실리콘 스퀴즈장치의 분해 사시도이고,2 is an exploded perspective view of a silicon squeeze device according to the present invention,

도 3은 본 발명에 따른 실리콘 스퀴즈장치가 도금조에 적용된 일실시예이고,3 is an embodiment in which the silicon squeeze apparatus according to the present invention is applied to a plating bath,

도 4는 본 발명에 따른 실리콘 스퀴즈장치가 적용된 다른 실시예이다.4 is another embodiment to which the silicon squeeze device according to the present invention is applied.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10; 고정대 12; 수직가이드부10; Fixture 12; Vertical guide part

14; 결합돌기 가이드부 20; 결합돌기14; Engaging projection guide portion 20; Engaging protrusion

22; 고정보 24; 탄성면22; High information 24; Elastic cotton

26; 전방 수밀면 28; 후방 수밀면26; Front watertight surface 28; Rear watertight surface

30; 수밀차단홈 32; 차단돌기30; Watertight groove 32; Blocking protrusion

본 발명은 실리콘 스퀴즈장치에 관한 것으로서, 도금조의 벽체에 설치되는 고정대와, 그 고정대와 일체로 형성되되, 일측면이 개구되어 있는 수직 가이드부와 일체인 결합돌기 가이드부와, 그 결합돌기 가이드부에 안내되어 삽입되는 결합돌기와, 그 결합돌기와 일체로 형성되되, 전방으로 돌출된 고정보와, 그 고정보의 전방으로 수직되게 형성된 탄성면와, 상기 탄성면의 상측 말단에서 하향으로 경사지게 돌출된 전방 수밀면과, 그 탄성면의 하측 말단에서 상향으로 경사지게 돌출된 후방 수밀면과, 그 전,후방 수밀면의 꼭지점에 형성되되, 전방으로 수직 개구된 수밀차단홈과, 그 수밀차단홈에 의해 나뉘어진 상기 전,후방 수밀면의 전방에 형성된 차단돌기로 이루어진 실리콘 스퀴즈을 포함하여 구성된다.The present invention relates to a silicone squeeze device, and a fixing stand provided on the wall of the plating bath, a coupling protrusion guide part integrally formed with the fixing stand, and integral with a vertical guide part having one side open, and a coupling protrusion guide part thereof. A coupling protrusion which is guided to and inserted into the coupling protrusion, which is integrally formed with the coupling protrusion, and has a high information projecting forward, an elastic surface vertically formed vertically in front of the high information, and a front number protruding downward from an upper end of the elastic surface. It is divided by the sealing surface, the rear watertight surface projecting upwardly inclined upward from the lower end of the elastic surface, the watertight blocking groove which is formed at the vertex of the front and rear watertight surface, and is vertically opened forward, and the watertight blocking groove. It comprises a silicon squeeze made of blocking projections formed in front of the front, rear watertight surface.

이상에서와 같은 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다.When described in detail with reference to the accompanying drawings a preferred embodiment of the present invention as follows.

도 1 내지 도 2에 의해서 본 발명에 의한 구성을 설명한다.The structure by this invention is demonstrated with reference to FIGS.

먼저, 본 발명이 적용되는 도금조의 벽체에 PVC재질의 고강도 압출판인 고정대(10)가 설치된다.First, the fixing table 10, which is a high-strength extruded plate made of PVC, is installed on the wall of the plating bath to which the present invention is applied.

또한, 상기 고정대(10)는 일측면에 전면을 향하여 내부가 개구되어진 수직 가이드부(12)가 형성되어 있고, 그 후방으로는 결합돌기 가이드부(14)가 일체로 형성되는 것이다.In addition, the holder 10 is formed on one side of the vertical guide portion 12 is opened to the front toward the front side, the rear of the engaging projection guide portion 14 is formed integrally.

뿐만 아니라, 상기 수직 가이드부(12)의 개구되어진 그 폭이 상기 결합돌기 가이드부(14)의 그 폭 보다 작게 형성되어 있다.In addition, the width of the vertical guide portion 12 opened is smaller than the width of the engaging projection guide portion 14.

이와 더불어, 상기 결합돌기 가이드부(14)에 삽입되어 고정되는 실리콘 스퀴즈(30)가 구비된다.In addition, the silicon squeeze 30 is inserted and fixed to the coupling projection guide 14 is provided.

또한, 상기 실리콘 스퀴즈(30)는 상기 결합돌기 가이드부(14)에 삽입되는 원통형의 결합돌기(20)에 의해서 상기 고정대(10)와 결합되는 것이다.In addition, the silicon squeeze 30 is coupled to the fixing table 10 by a cylindrical coupling protrusion 20 inserted into the coupling protrusion guide portion 14.

그러나, 상기 결합돌기(20)는 원통형 뿐만 아니라 다각형의 모양으로도 형성되는 것이다.However, the coupling protrusion 20 is formed in the shape of a polygon as well as a cylinder.

이러한, 상기 결합돌기(20)의 일측면에 그 결합돌기(20)와 일체로 형성된 고정보(12)가 형성되고, 상기 고정보(22)의 전방으로 수직되게 탄성부(24)가 형성된다.The high information 12 formed integrally with the coupling protrusion 20 is formed on one side of the coupling protrusion 20, and the elastic part 24 is formed to be perpendicular to the front of the high information 22. .

또한, 상기 탄성보(24)의 상측 말단으로 부터 하향, 경사지게 돌출된 전방 수밀면(26)이 형성되고, 상기 탄성보(24)의 하측 말단으로 부터 상향, 경사지게 돌출된 후방 수밀면(28)이 형성된다.In addition, a front watertight surface 26 protruding downwardly and obliquely from an upper end of the elastic beam 24 is formed, and a rear watertight surface 28 protruding upwardly and obliquely from a lower end of the elastic beam 24. Is formed.

이렇게 하여, 언뜻보기에 삼각형의 형상으로 상기 결합돌기(20)의 중앙을 기준으로 하여 상기 후방 수밀면(28)의 면적이 더 크게 형성되는 것이다.Thus, at first glance, the area of the rear watertight surface 28 is formed to be larger with respect to the center of the coupling protrusion 20 in a triangular shape.

뿐만 아니라, 상기 삼각형 형상의 꼭지점이 형성되는 부위 즉, 상기 결합돌기(20)의 중앙을 기준으로 꼭지점의 모서리에 수밀차단홈(30)이 소정의 폭으로 전방이 개구되어 있는 것이다.In addition, the front of the watertight blocking groove 30 has a predetermined width at the corner of the corner of the triangle is formed, that is, the center of the coupling projection (20).

또한, 상기 수밀차단홈(30)으로 나뉘어진 양단의 말미에는 차단돌기(32)가 형성되는 것이다.In addition, at the end of both ends divided into the watertight blocking groove 30 is a blocking projection 32 is formed.

상기와 같은 구성으로 인한 본 고안의 작용은 도 3내지 도 4에 의해서 설명하면 다음과 같다.The operation of the present invention due to the configuration as described above is described as follows with reference to FIGS.

이송되는 도금물체는 상기 실리콘 스퀴즈장치가 장착된 상기 도금조를 통과된다.The plated object to be transferred is passed through the plating bath equipped with the silicon squeeze device.

또한, 상기 실리콘 스퀴즈(40)의 전방 수밀면(28)이 전면에 위치되도록 하고, 그 전방 수밀면(28)을 이송되는 힘에 의해서 밀면 상기 전방 수밀면(28)이 뒤로 밀린다.In addition, the front watertight surface 28 of the silicone squeeze 40 is positioned in front, and the front watertight surface 28 is pushed back by the force transmitted by the front watertight surface 28.

그러나, 규정 이상의 하중으로 밀게 되면 상기 탄성면(24)이 상기 고정대 (10)의 전면에 마주쳐 더이상 뒤로 꺽이지 않게 되고, 상기 수직 가이드부(12)의 개구되어진 그 폭이 상기 결합돌기 가이드부(14)의 그 폭 보다 작게 형성되어 있음으로 해서 상기 수직 가이드부(12)에 삽입된 고정보(22)는 상기 결합돌기(20)의 측면에 걸려 더이상 꺽기지 않는 구조인 것이다.However, when pushed under a specified load, the elastic surface 24 faces the front surface of the holder 10 so that it is no longer bent backwards, and the width of the vertical guide portion 12 opened is the coupling protrusion guide portion ( Since the high information 22 inserted into the vertical guide portion 12 by being smaller than the width of 14) is caught in the side of the engaging projection 20 no longer bent.

뿐만 아니라, 이송이 끝나고 전방으로 미는 힘이 소멸되는 경우에는 상기 탄성면(24)의 탄성 반발력에 의해 원 상태로 다시 돌아오는 것이다.In addition, when the transfer force is terminated after the end of the transfer is to return to the original state by the elastic repulsive force of the elastic surface 24.

또한, 상기 수밀차단홈(30)에 의하여 이송물체에 의해 꺽기는 부분은 상기 전, 후방 수밀면(16,18)의 상기 수밀차단홈(30) 부위만 꺽이는 구조로 인하여 이송물체가 접촉되지 않는 부위는 원래의 상태로 유지되는 것이다.In addition, the portion that is bent by the conveying object by the watertight blocking groove 30 is not in contact with the conveying object due to the structure of bending only the portion of the watertight blocking groove 30 on the front and rear watertight surfaces 16 and 18. The site is to remain intact.

이와 더불어, 상기 전방 수밀면(16)은 하향으로 경사지게 형성되어 미는 힘에 의해서는 쉽게 꺽기나 반대방향의 힘에 의해서는 쉽게 꺽기지 않는 구조인 것이다.In addition, the front watertight surface 16 is formed to be inclined downward and is not easily bent by the pushing force or by the opposite direction.

그리고, 상기 전, 후방 수밀면(16,18)의 무게 중심이 상기 후방 수밀면(18)에 치우침으로 인해 이송물체의 진행이 더욱 수월하게 되고, 역시 반대방향의 힘에 의해서는 쉽게 꺽기지 않는 것이다.In addition, the center of gravity of the front and rear watertight surfaces 16 and 18 is biased to the rear watertight surface 18 so that the movement of the conveying object becomes easier, and is not easily bent by the force in the opposite direction. will be.

또한, 상기 전, 후방 수밀면(16,18)의 전방에 형성된 차단돌기(32)가 상호 밀착이 되어 내부로 부터의 도금액 자체의 압력을 견디는 구조로 상기 실리콘 스퀴즈장치를 다수개로 배치하여 도금조에 수용된 도금액의 용량에 견디는 구조인 것이다.In addition, the blocking projections 32 formed in front of the front and rear watertight surfaces 16 and 18 are in close contact with each other, and thus, the silicon squeeze device is arranged in a plating bath in such a manner as to withstand the pressure of the plating solution itself from the inside. The structure withstands the capacity of the plating solution accommodated.

뿐만 아니라, 다른 종류의 밀봉장치인 회전밀봉롤러장치(50)를 더 구비하여 도금액의 밀봉을 더욱 효과적으로 하는 것이다.In addition, the rotary sealing roller device 50, which is another kind of sealing device, is further provided to more effectively seal the plating liquid.

본 발명에 의하면 이송시 개구된 이송개구부에서 유출되는 도금액의 유출과 정지시 수용되어 있는 도금액의 유출을 본 발명에 따른 실리콘 스퀴즈장치의 밀착에 의하여 확실히 밀착되게 하고, 회전밀봉롤러장치를 전,후면에 더 설치하여 밀봉을 더욱 확실히 하는 매우 효과적인 발명인 것이다.According to the present invention, the outflow of the plating liquid flowing out from the opening opening at the time of conveyance and the outflow of the plating liquid accommodated at the time of stopping are ensured to be in close contact by the adhesion of the silicon squeeze device according to the present invention, and the rotary sealing roller device is front and rear It is a very effective invention to further install and to further ensure the sealing.

Claims

In the sealing device which is provided in the ordinary plating tank wall to prevent the outflow of the plating liquid,

A fixed base 10 installed on the wall of the plating bath,

A vertical guide part 12 formed integrally with the fixing stand 10 and having one side opened;

Coupling projection guide portion 14 formed at the rear of the vertical guide portion 12,

A coupling protrusion 20 which is guided and inserted into the coupling protrusion guide 14;

Is formed integrally with the coupling protrusion 20, and the high information 22 protruding forward,

An elastic surface 24 formed perpendicular to the front of the high information 22,

A front watertight surface 26 protruding obliquely downward from an upper end of the elastic surface 24,

A rear watertight surface 18 projecting obliquely upward from the lower end of the elastic surface 16,

A watertight blocking groove 20 formed at a vertex of the front watertight surface 14 and the rear watertight surface 18 and vertically opened forward;

It characterized in that it comprises a silicon squeeze (40) consisting of a blocking projection 22 formed in front of the front watertight surface 14 and the rear watertight surface 18 divided by the watertight blocking groove (20) Silicone squeeze device

The method of claim 1,

The silicon squeeze device is provided to face each other, the silicon squeeze device, characterized in that the blocking projections 22 are in close contact with each other.

The method of claim 1,

Silicon squeeze device characterized in that the sealing by installing a plurality of the silicon squeeze device on the wall surface of the plating bath.