KR20000075298A - Dual mode gas supply system - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체소자 제조 공정 중 이온주입 공정에 사용되는 가스공급 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 이온주입 공정에서 압축 가스와 SDS(safety delivery system)가스를 선택적으로 공급할 수 있는 듀얼모드 가스공급 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a gas supply system used in an ion implantation process in a semiconductor device manufacturing process, and more particularly, a dual mode gas supply system capable of selectively supplying compressed gas and safety delivery system (SDS) gas in an ion implantation process. It is about.
반도체소자 제조 공정 중, 이온주입 공정은 고전압 이온 포격을 써서 반도체의 조절된 지역에 선별된 불순물을 넣는 공정이다. 이러한 이온주입 공정의 목적은 원하는 불순물을 원하는 양 만큼 그리고 원하는 깊이 만큼 웨이퍼 내로 주입하므로써 웨이퍼에 소정의 전기적 특성을 부여 하는 것이다. 원하는 불순물을 생성하기 위해서 원재료인 가스가 사용되며, 상기 가스는 소스챔버에서 이온화되어 웨이퍼에 주입되게 된다.In the semiconductor device manufacturing process, the ion implantation process is a process of inserting the selected impurities in the controlled region of the semiconductor using high voltage ion bombardment. The purpose of this ion implantation process is to impart desired electrical properties to the wafer by injecting the desired impurities into the wafer in the desired amount and at the desired depth. A raw material gas is used to produce the desired impurities, which are ionized in the source chamber and injected into the wafer.
도1에는 종래 이온주입 공정에 사용되는 가스공급 시스템(500)의 구조가 도시되어 있다.1 illustrates a structure of a gas supply system 500 used in a conventional ion implantation process.
도1에 도시되어 있는 바와 같이, 종래 가스공급 시스템(500)은 압축 가스를 공급하기 위한 가스 박스(400) 및 메인 가스라인(main gas line; 470)을 통해 상기 가스 박스(400)에 연결되어 있는 소스챔버(source chamber; 510)를 구비한다. 상기 메인 가스라인(470)에는 상기 가스 박스(400)로부터 유입되는 가스를 제어하기 위한 메인 밸브(main valve; 475)가 제공된다. 상기 가스 박스(400)로부터 유입되는 가스는 상기 소스챔버(510) 내에서 이온화되어 웨이퍼 내부로 주입된다.As shown in FIG. 1, the conventional gas supply system 500 is connected to the gas box 400 through a gas box 400 and a main gas line 470 for supplying compressed gas. A source chamber 510. The main gas line 470 is provided with a main valve 475 for controlling the gas flowing from the gas box 400. The gas flowing from the gas box 400 is ionized in the source chamber 510 and injected into the wafer.
상기 가스 박스(400) 내에는 다수개의 가스 용기(410)가 제공되어 있다. 상기 가스 용기(410)들은 가스라인(430)을 통해 상기 메인 가스라인(470)에 연결된다. 상기 가스라인(430)의 일단부는 체결구(420)를 통해 상기 가스 용기(410)에 결합되므로써, 가스의 누설을 방지한다.A plurality of gas containers 410 are provided in the gas box 400. The gas containers 410 are connected to the main gas line 470 through a gas line 430. One end of the gas line 430 is coupled to the gas container 410 through the fastener 420, thereby preventing the leakage of gas.
상기 가스라인(430)에는 압축가스에 포함된 불순물을 여과하기 위한 필터(440)가 설치되어 있으며, 상기 필터(440)와 체결구(420) 사이에는 가스의 유입을 개폐하기 위한 제1 밸브(435)가 제공된다. 또한, 상기 필터(440)의 후방에 해당되는 상기 가스라인(430)의 소정위치에는 가스의 압력을 제어하기 위한 레귤레이터(445)가 설치되어 있다. 상기 레귤레이터(445)는 제1 및 제2 압력계(446, 447)를 구비하는데, 상기 제1 압력계(446)는 상기 레귤레이터(445)로 입력되는 가스의 압력을 표시하며, 상기 제2 압력계(447)는 상기 레귤레이터(445)를 통과한 가스의 압력을 표시한다.The gas line 430 is provided with a filter 440 for filtering impurities contained in the compressed gas, the first valve (opening and closing the inflow of gas between the filter 440 and the fastener 420 ( 435 is provided. In addition, a regulator 445 for controlling the pressure of the gas is provided at a predetermined position of the gas line 430 corresponding to the rear of the filter 440. The regulator 445 includes first and second pressure gauges 446 and 447. The first pressure gauge 446 indicates a pressure of a gas input to the regulator 445, and the second pressure gauge 447 ) Denotes the pressure of the gas passing through the regulator 445.
상기 레귤레이터(445)의 후방에 해당되는 상기 가스라인(430)의 소정위치에는 가스 유량 조절기(450)가 제공된다. 상기 가스 유량 조절기(450)는 상기 소스챔버(510)로 유입되는 가스의 양을 조절하여 적절한 양의 가스가 상기 소스 챔버(510)로 유입되도록 한다. 상기 레귤레이터(445)와 상기 가스 유량 조절기(450) 사이에는 가스의 유입을 개폐하기 위한 제2 밸브(449)가 제공된다.A gas flow controller 450 is provided at a predetermined position of the gas line 430 corresponding to the rear of the regulator 445. The gas flow controller 450 adjusts the amount of gas introduced into the source chamber 510 to allow an appropriate amount of gas to flow into the source chamber 510. A second valve 449 is provided between the regulator 445 and the gas flow regulator 450 to open and close the inflow of gas.
미설명부호(460)는 바이패스관으로써, 상기 가스공급 시스템(500)에 이상이 생겼을 경우 가스를 배기시키는 기능을 한다. 상기 바이패스관(460)에는 바이패스 밸브(465)가 설치되어 있다. 상기 바이패스 밸브(465)는 상기 가스공급 시스템(500)이 정상작동되고 있는 동안에는 폐쇄된 상태를 유지한다.Reference numeral 460 is a bypass pipe, and functions to exhaust gas when an abnormality occurs in the gas supply system 500. The bypass pipe 460 is provided with a bypass valve 465. The bypass valve 465 remains closed while the gas supply system 500 is operating normally.
이러한 구성을 갖는 종래 가스공급 시스템(500)은 다음과 같이 작동한다.The conventional gas supply system 500 having such a configuration operates as follows.
먼저, 상기 가스 용기(410)에 담겨져 있는 가스는 체결구(420)를 통해 상기 가스라인(420)으로 공급된다. 이어서, 상기 가스는 제1 밸브(435)를 통해 필터(440)를 통과하는데, 상기 필터(440)를 통과하는 동안 상기 가스에 포함된 불순물이 여과된다.First, the gas contained in the gas container 410 is supplied to the gas line 420 through the fastener 420. Subsequently, the gas passes through the filter 440 through the first valve 435, and impurities included in the gas are filtered while passing through the filter 440.
상기 필터(440)를 통과한 가스는 레귤레이터(445)를 거치게 되면서 그 압력이 줄어들게 된다. 통상적으로, 상기 가스 용기(410)로부터 유출되는 가스의 압력은 400-1200 psi이나 상기 레귤레이터(445)를 통과한 가스의 압력은 약 5psi 정도가 된다. 이때, 상기 레귤레이터(445)의 제1 및 제2 압력계(446, 447)에는 상기 레귤레이터(445)로 입/출력되는 가스의 입/출력 압력이 표시된다.Gas passing through the filter 440 is passed through the regulator 445, the pressure is reduced. Typically, the pressure of the gas flowing out of the gas container 410 is 400-1200 psi, but the pressure of the gas passed through the regulator 445 is about 5 psi. In this case, the first and second pressure gauges 446 and 447 of the regulator 445 display the input / output pressure of the gas input / output to the regulator 445.
이렇게 압력이 낮아진 가스는 상기 제2 밸브(449)를 통해 가스유량 조절기(450)로 유입된다. 상기 가스유량 조절기(450)는 상기 가스의 유량을 제어하여 적당량의 가스를 상기 소스챔버(510)로 공급하며, 상기 소스챔버(510)로 공급된 가스는 상기 소스챔버(510) 내에서 이온화되어 웨이퍼 상에 주입되게 된다.The gas lowered in pressure is introduced into the gas flow controller 450 through the second valve 449. The gas flow controller 450 controls the flow rate of the gas to supply an appropriate amount of gas to the source chamber 510, and the gas supplied to the source chamber 510 is ionized in the source chamber 510. It will be injected onto the wafer.
그러나, 상기 구성을 갖는 종래 가스공급 시스템(500)은 압축가스를 공급하는 용도로는 유용하게 사용될 수 있으나, SDS(safety delivery system)가스를 공급하는 용도로 호환 사용할 수 없다는 단점이 있다. 즉, 종래에는 이온주입 공정에 사용되는 가스가 압축가스로 국한되었으나, 현재는 안전도의 관점에서 SDS 가스를 혼용해서 사용하고 있다. 그런데, 상기 SDS 가스는 대기압 상태에서는 가스 용기 내에 있는 가스가 용기 밖으로 나오지 못하도록 설계되어 있기 때문에, 상기 압축가스 시스템에 사용되는 레귤레이터(445)와 가스 유량 조절기(450)를 SDS 가스에 사용할 수 없다는 문제가 발생한다. 즉, SDS 가스에 적합한 별도의 레귤레이터와 가스 유량 조절기가 필요하게 된다.However, the conventional gas supply system 500 having the above configuration may be usefully used for supplying compressed gas, but has a disadvantage in that it cannot be used interchangeably for supplying SDS (safety delivery system) gas. That is, conventionally, the gas used in the ion implantation process is limited to compressed gas, but at present, SDS gas is used in combination from the viewpoint of safety. However, since the SDS gas is designed to prevent the gas in the gas container from coming out of the container at atmospheric pressure, the regulator 445 and the gas flow regulator 450 used in the compressed gas system cannot be used for the SDS gas. Occurs. In other words, a separate regulator and gas flow regulator suitable for the SDS gas is required.
한편, 가스 비용면에서는 상기 SDS 가스가 상기 압축가스의 수십배에 해당되는 가격차이를 보이고 있기 때문에, 현재 SDS 가스 공급구조로 되어 있는 가스공급 시스템을 압축가스 공급 시스템으로 바꾸고 있는 실정이다. 따라서, 비용을 들여 SDS 가스 공급 시스템을 압축가스 공급 시스템으로 바꾼후, 향후 추세가 SDS 가스를 사용하는 추세가 되면 또 비용을 들여 SDS 가스 공급 시스템으로 바꾸어야 하므로, 비용이 이중으로 소요될 뿐만 아니라 장치의 효율이 저하되는 문제가 있다.On the other hand, in terms of gas cost, since the SDS gas shows a price difference corresponding to several tens of times of the compressed gas, the current SDS gas supply system is changing to a compressed gas supply system. Therefore, after switching the SDS gas supply system to the compressed gas supply system at a cost, the future trend is to use the SDS gas, and the cost must be changed to the SDS gas supply system. There is a problem that the efficiency is lowered.
본 발명은 상기 종래기술의 문제점을 극복하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 이온주입 공정에서 압축 가스와 SDS가스를 선택적으로 공급할 수 있는 듀얼모드 가스공급 시스템을 제공하는 것이다.The present invention has been made to overcome the problems of the prior art, an object of the present invention is to provide a dual mode gas supply system capable of selectively supplying compressed gas and SDS gas in the ion implantation process.
도1은 종래 이온주입 공정에 사용되는 가스공급 시스템의 구조를 보여주는 도면이다.1 is a view showing the structure of a gas supply system used in the conventional ion implantation process.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 이온주입 공정에 사용되는 듀얼모드 가스공급 시스템의 구조를 보여주는 도면이다.2 is a view showing the structure of a dual mode gas supply system used in the ion implantation process according to an embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
100 : 듀얼모드 가스공급 시스템 200 : 가스 박스100: dual mode gas supply system 200: gas box
210 : 가스 용기 220 : 제1 체결구210: gas container 220: first fastener
230 : 제1 가스라인 235 : 제2 가스라인230: first gas line 235: second gas line
240 : 제1 필터 250 : 제1 레귤레이터240: first filter 250: first regulator
260 : 제1 가스유량 조절기 270 : 제1 바이패스관260: first gas flow regulator 270: first bypass pipe
280 : 메인 가스라인 300 : 소스(source) 챔버280: main gas line 300: source chamber
330 : 제2 필터 340 : 제2 레귤레이터330: second filter 340: second regulator
360 : 제2 가스유량 조절기 370 : 제2 바이패스관360: second gas flow regulator 370: second bypass pipe
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 압축가스 또는 SDS 가스가 충전되는 가스용기, 그 일단부가 제1 연결구를 통해 상기 가스용기의 일측에 연결되며, 압축가스의 통로 역할을 하는 제1 가스라인, 그 일단부가 제2 연결구를 통해 상기 가스 용기의 타측에 연결되며, SDS가스의 통로역할을 하는 제2 가스라인 및 그 일단부가 상기 제1 및 제2 가스라인의 타단부에 연통되어 있으며, 그 타단부는 가스를 이온화시켜 웨이퍼로 주입하는 소스 챔버에 연통되어 있는 메인 가스라인을 구비하는 것을 특징으로 하는 듀얼모드 가스공급 시스템을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention, the gas container filled with the compressed gas or SDS gas, one end thereof is connected to one side of the gas container through the first connector, the first gas line serving as a passage of the compressed gas A second gas line, one end of which is connected to the other side of the gas container through a second connector, and a second gas line serving as a passageway of the SDS gas, and one end of which is in communication with the other ends of the first and second gas lines; The other end provides a dual mode gas supply system, characterized in that the main gas line is in communication with the source chamber for ionizing the gas into the wafer.
상기 제1 가스라인에는 유입되는 가스에 포함된 불순물을 제거하기 위한 제1 필터, 상기 제1 필터를 통과한 가스의 압력을 감소시키기 위한 제1 레귤레이터 및 상기 제1 레귤레이터를 통과한 가스의 유량을 제어하여 상기 소스챔버로 공급하는 제1 가스유량 조절기가 설치된다.The first gas line includes a first filter for removing impurities contained in the gas introduced therein, a first regulator for reducing the pressure of the gas passing through the first filter, and a flow rate of the gas passing through the first regulator. A first gas flow regulator that controls and supplies the source chamber is installed.
상기 제1 연결구와 상기 제1 필터 사이에는 가스의 유입을 허용/차단하는 제1 밸브가 제공되며 상기 제1 레귤레이터와 제1 가스유량 조절기 사이에도 가스의 유입을 허용/차단하는 제2 밸브가 제공된다.A first valve is provided between the first connector and the first filter to allow / block gas inflow and a second valve is provided between the first regulator and the first gas flow regulator to allow / block gas inflow. do.
상기 제2 가스라인에는 유입되는 가스에 포함된 불순물을 제거하기 위한 제2 필터, 상기 제2 필터를 통과한 가스의 압력을 감소시키기 위한 제2 레귤레이터 및 상기 제2 레귤레이터를 통과한 가스의 유량을 제어하여 상기 소스챔버로 공급하는 제2 가스유량 조절기가 제공된다.The second gas line includes a second filter for removing impurities contained in the gas introduced therein, a second regulator for reducing the pressure of the gas passing through the second filter, and a flow rate of the gas passing through the second regulator. A second gas flow regulator is provided to control and supply the source chamber.
상기 제2 연결구와 상기 제2 필터 사이에는 가스의 유입을 허용/차단하는 제3 밸브가 제공되며, 상기 제2 레귤레이터와 제2 가스유량 조절기 사이에도 가스의 유입을 허용/차단하는 제4 밸브가 제공된다.A third valve is provided between the second connector and the second filter to allow / block gas inflow, and a fourth valve to allow / block gas inflow between the second regulator and the second gas flow regulator is provided. Is provided.
상기 제1 가스라인으로 압축가스가 유입될 때에는 상기 제3 및 제4 밸브가 차단상태를 유지하며, 상기 제2 가스라인으로 SDS 가스가 유입될 때에는 상기 제1 및 제2 밸브가 차단상태를 유지한다.When the compressed gas flows into the first gas line, the third and fourth valves remain blocked. When the SDS gas flows into the second gas line, the first and second valves remain blocked. do.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도2에는 본 발명의 일 실시예에 따른 듀얼모드 가스공급 시스템(100)이 도시되어 있다.2 shows a dual mode gas supply system 100 according to an embodiment of the present invention.
도2에 도시되어 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 듀얼모드 가스공급 시스템(100)은 압축 가스 또는 SDS 가스를 공급하기 위한 가스 박스(200) 및 메인 가스라인(280)을 통해 상기 가스 박스(200)에 연결되어 있는 소스챔버(300)를 구비한다. 상기 메인 가스라인(280)에는 상기 가스 박스(200)로부터 유입되는 가스를 개방/폐쇄하기 위한 메인 밸브(285)가 제공된다. 상기 가스 박스(200)로부터 유입되는 가스는 상기 소스챔버(300) 내에서 이온화되어 웨이퍼 내부로 주입된다.As shown in FIG. 2, the dual mode gas supply system 100 according to the present invention includes a gas box 200 through a gas box 200 and a main gas line 280 for supplying compressed gas or SDS gas. And a source chamber 300 connected thereto. The main gas line 280 is provided with a main valve 285 for opening / closing the gas flowing from the gas box 200. Gas flowing from the gas box 200 is ionized in the source chamber 300 and injected into the wafer.
상기 가스 박스(200) 내에는 압축가스 또는 SDS 가스가 충전되는 가스 용기(210)가 배치된다. 도2에는 하나의 가스 용기(210) 만이 도시되어 있지만, 두 개 또는 그 이상의 가스 용기가 배치될 수 있다.In the gas box 200, a gas container 210 filled with a compressed gas or an SDS gas is disposed. Although only one gas container 210 is shown in FIG. 2, two or more gas containers may be disposed.
상기 가스용기(210)의 일측에는 압축가스의 통로 역할을 하는 제1 가스라인(230)이 연결된다. 상기 제1 가스라인(230)의 일단부와 상기 가스용기(210) 사이에는 제1 연결구(220)가 제공되어 가스의 누설을 방지하도록 되어 있다. 또한, 상기 가스 용기(210)의 타측에는 SDS가스의 통로역할을 하는 제2 가스라인(235)이 연결되어 있다. 상기 제2 가스라인(235)의 일단부와 상기 가스용기(210) 사이에는 제2 연결구(320)가 제공되어 가스의 누설을 방지하도록 되어 있다.One side of the gas container 210 is connected to the first gas line 230 serving as a passage of the compressed gas. A first connector 220 is provided between one end of the first gas line 230 and the gas container 210 to prevent the leakage of gas. In addition, a second gas line 235 serving as a passage of the SDS gas is connected to the other side of the gas container 210. A second connector 320 is provided between one end of the second gas line 235 and the gas container 210 to prevent the leakage of gas.
상기 제1 및 제2 가스라인(230, 235)의 타단부는 상기 메인 가스라인(280)의 일단부에 연통되어 있다. 따라서, 상기 압축 가스 또는 SDS 가스는 상기 가스 용기(210)로부터 상기 제1 및 제2 가스라인(230, 235)을 통해 상기 메인 가스라인(280)의 일단부로 공급된다. 한편, 상기 메인 가스라인(280)의 타단부는 상기 소스 챔버(300)에 연통되어 상기 제1 및 제2 가스라인(230, 235)을 통해 선택적으로 유입되는 압축가스 또는 SDS 가스를 상기 소스 챔버(300)로 전달한다.The other ends of the first and second gas lines 230 and 235 communicate with one end of the main gas line 280. Accordingly, the compressed gas or the SDS gas is supplied from the gas container 210 to one end of the main gas line 280 through the first and second gas lines 230 and 235. On the other hand, the other end of the main gas line 280 is in communication with the source chamber 300 and the compressed gas or SDS gas selectively introduced through the first and second gas lines 230, 235 to the source chamber Forward to 300.
상기 제1 가스라인(230)에는 유입되는 압축가스에 포함된 불순물을 제거하기 위한 제1 필터(240), 상기 제1 필터(240)를 통과한 가스의 압력을 감소시키기 위한 제1 레귤레이터(250) 및 상기 제1 레귤레이터(250)를 통과한 가스의 유량을 제어하여 상기 소스챔버(300)로 공급하는 제1 가스 유량 조절기(260)가 설치되어 있다.The first gas line 230 includes a first filter 240 for removing impurities included in the compressed gas introduced therein, and a first regulator 250 for reducing the pressure of the gas passing through the first filter 240. And a first gas flow controller 260 for controlling the flow rate of the gas passing through the first regulator 250 and supplying the gas to the source chamber 300.
상기 제1 연결구(220)와 상기 제1 필터(240) 사이에는 가스의 유입을 허용/차단하는 제1 밸브(238)가 제공되며, 상기 제1 레귤레이터(250)와 제1 가스 유량 조절기(260) 사이에는 가스의 유입을 허용/차단하는 제2 밸브(257)가 제공된다.A first valve 238 is provided between the first connector 220 and the first filter 240 to allow / block the inflow of gas, and the first regulator 250 and the first gas flow regulator 260 are provided. A second valve 257 is provided to allow / block gas inflow.
상기 제1 레귤레이터(250)는 제1 및 제2 압력계(254, 255)를 구비하는데, 상기 제1 압력계(254)는 상기 제1 레귤레이터(250)로 입력되는 가스의 압력을 표시하며, 상기 제2 압력계(255)는 상기 제1 레귤레이터(250)를 통과한 가스의 압력을 표시한다. 상기 제1 가스 유량 조절기(260)는 상기 소스챔버(300)로 유입되는 가스의 양을 조절하여 적절한 양의 가스가 상기 소스 챔버(300)로 유입되도록 한다.The first regulator 250 includes first and second pressure gauges 254 and 255, wherein the first pressure gauge 254 indicates a pressure of a gas input to the first regulator 250. The second pressure gauge 255 displays the pressure of the gas passing through the first regulator 250. The first gas flow controller 260 adjusts the amount of gas introduced into the source chamber 300 so that an appropriate amount of gas enters the source chamber 300.
상기 제2 가스라인(235)에는 유입되는 압축가스에 포함된 불순물을 제거하기 위한 제2 필터(330), 상기 제2 필터(330)를 통과한 가스의 압력을 감소시키기 위한 제2 레귤레이터(340) 및 상기 제2 레귤레이터(340)를 통과한 가스의 유량을 제어하여 상기 소스챔버(300)로 공급하는 제2 가스 유량 조절기(360)가 설치되어 있다.The second gas line 235 includes a second filter 330 for removing impurities included in the compressed gas introduced therein and a second regulator 340 for reducing the pressure of the gas passing through the second filter 330. ) And a second gas flow controller 360 for controlling the flow rate of the gas passing through the second regulator 340 and supplying the gas to the source chamber 300.
상기 제2 연결구(320)와 상기 제2 필터(330) 사이에는 가스의 유입을 허용/차단하는 제3 밸브(325)가 제공되며, 상기 제2 레귤레이터(340)와 제2 가스 유량 조절기(360) 사이에는 가스의 유입을 허용/차단하는 제4 밸브(350)가 제공된다.A third valve 325 is provided between the second connector 320 and the second filter 330 to allow / block the inflow of gas, and the second regulator 340 and the second gas flow controller 360 are provided. The fourth valve 350 is provided to allow / block the inflow of gas.
상기 제2 레귤레이터(340)는 제3 및 제4 압력계(344, 345)를 구비하는데, 상기 제3 압력계(344)는 상기 제2 레귤레이터(340)로 입력되는 SDS 가스의 압력을 표시하며, 상기 제4 압력계(345)는 상기 제2 레귤레이터(340)를 통과한 SDS 가스의 압력을 표시한다. 상기 제2 가스 유량 조절기(360)는 상기 소스챔버(300)로 유입되는 SDS 가스의 양을 조절하여 적절한 양의 SDS 가스가 상기 소스 챔버(300)로 유입되도록 한다.The second regulator 340 includes third and fourth pressure gauges 344 and 345, and the third pressure gauge 344 indicates the pressure of the SDS gas input to the second regulator 340. The fourth pressure gauge 345 indicates the pressure of the SDS gas passing through the second regulator 340. The second gas flow controller 360 adjusts the amount of SDS gas introduced into the source chamber 300 so that an appropriate amount of SDS gas flows into the source chamber 300.
상기 제1 가스라인(230)으로 압축가스가 유입될 때에는 상기 제3 및 제4 밸브(325, 350)가 차단상태를 유지하며, 상기 제2 가스라인(235)으로 SDS 가스가 유입될 때에는 상기 제1 및 제2 밸브(238, 257)가 차단상태를 유지하도록 되어 있다. 따라서, 상기 압축 가스 또는 SDS 가스가 상기 제1 및 제2 가스라인(230, 235) 사이에서 역류되는 것을 방지할 수 있다.When the compressed gas flows into the first gas line 230, the third and fourth valves 325 and 350 maintain a blocked state, and when the SDS gas flows into the second gas line 235, The first and second valves 238 and 257 are arranged to remain in a shut off state. Therefore, it is possible to prevent the compressed gas or the SDS gas from flowing back between the first and second gas lines 230 and 235.
한편, 상기 제1 가스유량 조절기(260)의 위치에 상응하는 상기 제1 가스라인(230)의 소정 위치에는 시스템의 오동작시 압축가스를 배기시키기 위한 제1 바이패스관(270)이 분기되어 있으며, 상기 제2 가스유량 조절기(360)의 위치에 상응하는 상기 제2 가스라인(235)의 소정 위치에는 시스템의 오동작시 SDS 가스를 배기시키기 위한 제2 바이패스관(370)이 분기되어 있다.Meanwhile, a first bypass pipe 270 is branched at a predetermined position of the first gas line 230 corresponding to the position of the first gas flow regulator 260 to exhaust the compressed gas when the system malfunctions. The second bypass pipe 370 for branching the SDS gas when the system malfunctions is branched at a predetermined position of the second gas line 235 corresponding to the position of the second gas flow regulator 360.
상기 제1 및 제2 바이패스관(270, 370)에는 시스템의 정상작동시 폐쇄상태를 유지하며, 시스템의 오동작시 개방되게 되는 제1 및 제2 바이패스 밸브(275, 375)가 각각 제공된다. 상기 제1 내지 제4 밸브(238, 257, 325, 350) 및 상기 제1 및 제2 바이패스 밸브(275, 375)는 전자적으로 제어되는 솔레노이드 밸브를 사용하는 것이 바람직하다.The first and second bypass pipes 270 and 370 are provided with first and second bypass valves 275 and 375, which are kept closed in the normal operation of the system and open when the system malfunctions. . The first to fourth valves 238, 257, 325, and 350 and the first and second bypass valves 275 and 375 may preferably use solenoid valves that are electronically controlled.
이러한 구성을 갖는 본 발명에 따른 듀얼모드 가스공급 시스템(100)은 다음과 같이 작동한다.The dual mode gas supply system 100 according to the present invention having such a configuration operates as follows.
먼저, 압축가스를 공급할 경우에는 압축가스가 충전된 가스용기(210)가 장착되며, 상기 제1 가스라인(230)의 제1 및 제2 밸브(238, 257)는 개방되고, 상기 제2 가스라인(235)의 제3 및 제4 밸브(325, 350)는 차단된다.First, when supplying compressed gas, the gas container 210 filled with the compressed gas is mounted, and the first and second valves 238 and 257 of the first gas line 230 are opened, and the second gas is opened. The third and fourth valves 325, 350 of line 235 are shut off.
따라서, 상기 가스 용기(210)에 담겨져 있는 압축가스는 제1 체결구(220)를 통해 상기 제1 가스라인(230)으로 공급된다. 상기 압축가스는 상기 제1 밸브(238)를 통해 제1 필터(240)를 통과하는데, 상기 제1 필터(240)를 통과하는 동안 상기 압축가스에 포함된 불순물이 여과된다.Therefore, the compressed gas contained in the gas container 210 is supplied to the first gas line 230 through the first fastener 220. The compressed gas passes through the first filter 240 through the first valve 238, and impurities included in the compressed gas are filtered while passing through the first filter 240.
상기 제1 필터(240)를 통과한 압축가스는 제1 레귤레이터(250)를 거치게 되면서 그 압력이 줄어들게 된다. 통상적으로, 상기 가스 용기(210)로부터 유출되는 가스의 압력은 400-1200 psi이나 상기 제1 레귤레이터(250)를 통과한 가스의 압력은 약 5psi 정도가 된다. 이때, 상기 제1 레귤레이터(250)의 제1 및 제2 압력계(254, 255)에는 상기 제1 레귤레이터(250)로 입/출력되는 가스의 입/출력 압력이 표시된다.Compressed gas passing through the first filter 240 is passed through the first regulator 250, the pressure is reduced. Typically, the pressure of the gas flowing out of the gas container 210 is 400-1200 psi, but the pressure of the gas passed through the first regulator 250 is about 5 psi. In this case, the first and second pressure gauges 254 and 255 of the first regulator 250 display the input / output pressure of the gas input / output to the first regulator 250.
이렇게 압력이 낮아진 가스는 상기 제2 밸브(257)를 통해 제1 가스유량 조절기(260)로 유입된다. 상기 제1 가스유량 조절기(260)는 상기 압축가스의 유량을 제어하여 적당량의 압축가스를 상기 소스챔버(300)로 공급하며, 상기 소스챔버(300)로 공급된 압축가스는 상기 소스챔버(300) 내에서 이온화되어 웨이퍼 상에 주입되게 된다.The pressure lowered gas is introduced into the first gas flow regulator 260 through the second valve 257. The first gas flow controller 260 controls the flow rate of the compressed gas to supply an appropriate amount of compressed gas to the source chamber 300, and the compressed gas supplied to the source chamber 300 is the source chamber 300. And ionized into the wafer.
한편, SDS가스를 공급할 경우에는 SDS 가스가 충전된 가스 용기(210)가 장착되며, 상기 제1 가스라인(230)의 제1 및 제2 밸브(238, 257)는 폐쇄되고, 상기 제2 가스라인(235)의 제3 및 제4 밸브(325, 350)는 개방된다.Meanwhile, when supplying SDS gas, a gas container 210 filled with SDS gas is mounted, and the first and second valves 238 and 257 of the first gas line 230 are closed and the second gas is closed. The third and fourth valves 325, 350 of line 235 are open.
따라서, 상기 가스 용기(210)에 담겨져 있는 SDS가스는 제2 체결구(320)를 통해 상기 제2 가스라인(235)으로 공급된다. 상기 SDS가스는 상기 제3 밸브(325)를 통해 제2 필터(330)를 통과하는데, 상기 제2 필터(330)를 통과하는 동안 상기 SDS가스에 포함된 불순물이 여과된다.Therefore, the SDS gas contained in the gas container 210 is supplied to the second gas line 235 through the second fastener 320. The SDS gas passes through the second filter 330 through the third valve 325, and impurities included in the SDS gas are filtered while passing through the second filter 330.
상기 제2 필터(330)를 통과한 SDS가스는 제2 레귤레이터(340)를 거치게 되면서 그 압력이 줄어들게 된다. 이때, 상기 제2 레귤레이터(340)의 제3 및 제4 압력계(344, 345)에는 상기 제2 레귤레이터(340)로 입/출력되는 가스의 입/출력 압력이 표시된다.As the SDS gas passing through the second filter 330 passes through the second regulator 340, its pressure is reduced. At this time, the third and fourth pressure gauges 344 and 345 of the second regulator 340 display the input / output pressure of the gas input / output to the second regulator 340.
이렇게 압력이 낮아진 SDS가스는 상기 제4 밸브(350)를 통해 제2 가스유량 조절기(360)로 유입된다. 상기 제2 가스유량 조절기(360)는 상기 SDS가스의 유량을 제어하여 적당량의 SDS가스를 상기 소스챔버(300)로 공급하며, 상기 소스챔버(300)로 공급된 SDS가스는 상기 소스챔버(300) 내에서 이온화되어 웨이퍼 상에 주입되게 된다.The pressure-reduced SDS gas flows into the second gas flow controller 360 through the fourth valve 350. The second gas flow controller 360 controls the flow rate of the SDS gas to supply an appropriate amount of SDS gas to the source chamber 300, and the SDS gas supplied to the source chamber 300 is the source chamber 300. And ionized into the wafer.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 듀얼모드 가스공급 시스템은 사용자의 필요에 따라 압축가스 또는 SDS 가스를 선택적으로 공급할 수 있다는 장점을 갖는다.As described above, the dual mode gas supply system according to the present invention has an advantage of selectively supplying compressed gas or SDS gas according to a user's needs.
또한, 상기 가스들을 선택적으로 공급하기 위해 장치를 해체 및 조립하거나 개조하지 않아도 되므로 비용이 절감되고 시스템의 효율이 향상된다는 장점을 갖는다.In addition, there is no need to dismantle, assemble or modify the device to selectively supply the gases, thereby reducing the cost and improving the efficiency of the system.
이상 본 발명이 바람직한 실시예를 참고로 설명되었으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범주 내에서 다양한 개량이나 변형이 가능하고, 이러한 개량이나 변형 또한 본 발명에 속한다는 것은 당업자라면 인지할 수 있을 것이다.Although the present invention has been described with reference to preferred embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various improvements or modifications are possible within the scope of the technical idea of the present invention, and such improvements or modifications also belong to the present invention. Will be appreciated by those skilled in the art.
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019990019817A KR20000075298A (en) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | Dual mode gas supply system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019990019817A KR20000075298A (en) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | Dual mode gas supply system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20000075298A true KR20000075298A (en) | 2000-12-15 |
Family
ID=19588882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019990019817A KR20000075298A (en) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | Dual mode gas supply system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20000075298A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160138877A (en) | 2015-05-26 | 2016-12-06 | (주)펠리테크 | Ceramic heating hybrid dryer using microwave |
-
1999
- 1999-05-31 KR KR1019990019817A patent/KR20000075298A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160138877A (en) | 2015-05-26 | 2016-12-06 | (주)펠리테크 | Ceramic heating hybrid dryer using microwave |
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| WITN | Withdrawal due to no request for examination |