KR20000025582A - Safety device of gas supply equipment for manufacturing semiconductor - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 웨이퍼의 확산 공정으로 가연성 가스인 SiH₄를 공급함에 있어, 전원 오프나 작업자의 실수로 공급 밸브가 폐쇄될 경우, 예비 가스를 공급하여 공정 진행을 정상적으로 유지하므로 제품 불량을 방지할 수 있도록 한 반도체 제조용 가스 공급설비의 안전장치에 관한 것이다.In the present invention, in supplying the combustible gas SiH₄ in the wafer diffusion process, when the supply valve is closed due to power off or an operator's mistake, the process is maintained by supplying a preliminary gas to prevent product defects. It relates to a safety device for a gas supply facility for semiconductor manufacturing.
반도체 공정에서는 실리콘 단결정기판 즉, 웨이퍼의 표면에 산화 공정, 확산 공정, 애피텍설 성장 공정, 절연막 형성 공정, 이온 주입공정 및 금속 박막 형성 공정 등을 통하여, 최종적으로 전극 배선 패턴을 형성한다.In the semiconductor process, an electrode wiring pattern is finally formed on the surface of a silicon single crystal substrate, that is, a wafer through an oxidation process, a diffusion process, an epitaxial growth process, an insulating film formation process, an ion implantation process, and a metal thin film formation process.
이러한 각각의 제조 공정에서 웨이퍼는 여러 종류의 반응 가스에 노출되어, 성장, 재배열 및 불순물 확산에 의해 소망의 막을 형성하게 된다.In each of these manufacturing processes, the wafers are exposed to various kinds of reactive gases to form desired films by growth, rearrangement, and impurity diffusion.
여기서 반응 가스는 다른 가스나 탄화수소 등에 오염될 경우 예기치 않은 반응을 초래하므로 고순도를 유지한 채로 가스 용기에 충진되며, 반도체 제조공정에서 가스량 조절기와 파이프라인을 통해 반응로 안으로 공급되어 진다.Here, the reaction gas is filled in the gas container while maintaining a high purity because it causes an unexpected reaction when contaminated with other gases or hydrocarbons, and is supplied into the reactor through the gas volume regulator and the pipeline in the semiconductor manufacturing process.
도 1은 웨이퍼 확산 공정용 설비의 반응 가스 공급 라인을 나타내고 있다. 도면에서와 같이 종래의 반응 가스(SiH₄)는 가스 용기(2)와 반응로의 사이에 파이프라인(4)을 연결하고, 그 파이프라인(4) 상에 설치된 다수개의 밸브(V1∼V5)와 레귤레이터(R)에 의해 조절되어 반응로 안으로 공급되어 진다. 이렇게 공급된 가스는 반응로 내부의 웨이퍼 표면에 소망의 막질을 형성하게 된다.1 shows a reactive gas supply line in a wafer diffusion process facility. As shown in the drawing, the conventional reaction gas (SiH ') connects the pipeline 4 between the gas vessel 2 and the reactor, and the plurality of valves V1 to V5 provided on the pipeline 4 It is controlled by the regulator (R) and fed into the reactor. The gas thus supplied forms a desired film on the wafer surface inside the reactor.
한편 도면에서 설명 부호 (6)은 바큠 제너레이터, (8)은 프레스 스위치, (4a)는 가스 리크 센싱라인, (4b)는 잔류 가스 제거라인을 나타내고 있다.In the drawings, reference numeral 6 denotes a reverse generator, 8 a press switch, 4a a gas leak sensing line, and 4b a residual gas removal line.
그러나 상술한 반응 가스 공급설비에서는 전원이 오프되거나 전원 공급에 문제가 발생할 경우 모든 밸브가 폐쇄되므로 반응로 내부의 공정 진행에 큰 피해를 주게 된다.However, in the above-described reactive gas supply facility, all the valves are closed when the power is turned off or a problem occurs in the power supply, which causes a great damage to the process in the reactor.
또 종래에는 가스 용기(2)를 교체할 경우 작업자의 실수로 밸브(V2, V3)를 폐쇄하게 되면 반응로 내부의 공정 진행에 큰 피해를 주게 된다.In the related art, when the gas container 2 is replaced, accidentally closing the valves V2 and V3 causes a great damage to the process inside the reactor.
앞서 설명한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명은 전원 오프나 작업자의 실수로 인해 밸브 폐쇄시 예비로 가스를 공급함으로써, 반응로 내부의 공정 진행을 정상적으로 수행할 수 있도록 하는 반도체 제조용 가스 공급설비의 안전장치를 제공함에 그 목적을 두고 있다.In order to solve the problems of the prior art described above, the present invention provides a gas supply for manufacturing a semiconductor that can normally proceed the process inside the reactor by supplying a preliminary gas when the valve is closed due to power off or operator error. The aim is to provide a safety device for the installation.
이를 위하여 본 발명에서는 가스 용기와 반응로의 사이에 파이프라인을 연결하고, 그 파이프라인에 가스 조절 밸브와 레귤레이터를 설치하되, 그 레귤레이터 전에 별도의 파이프라인을 연결하여 예비 가스 용기를 설치하고 있으며, 그 별도의 파이프라인에 솔레노이드 밸브를 설치하여 제어부에 의해 개폐되도록 하고, 상기 제어부는 반응로의 가동 정보와 설비의 전원 오프 정보를 확인하여 반응로가 가동중이고 전원이 오프되어 가스 공급이 중단될 경우 예비 가스 용기를 개방하도록 되어 있다.To this end, in the present invention, a pipeline is connected between the gas vessel and the reactor, and a gas control valve and a regulator are installed in the pipeline, and a spare gas vessel is installed by connecting a separate pipeline before the regulator. The solenoid valve is installed in the separate pipeline to be opened and closed by the controller, and the controller checks the operation information of the reactor and the power off information of the facility, and the reactor is in operation and the power is turned off to stop the gas supply. The preliminary gas container is adapted to be opened.
도 1은 종래 공지된 반도체 제조용 가스 공급설비를 도시한 구성도.1 is a configuration diagram showing a gas supply facility for manufacturing a conventionally known semiconductor.
도 2는 본 발명에 의한 반도체 제조용 가스 공급설비의 안전장치를 도시한 구성도.Figure 2 is a block diagram showing a safety device of a gas supply facility for semiconductor manufacturing according to the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
R-레귤레이터 V1~V5-밸브R-regulator V1 to V5-valve
Vs-솔레노이드 밸브 10-제어부Vs solenoid valve 10 control
20-예비 가스 용기 40-파이프라인20-spare gas container 40-pipeline
이하, 본 발명을 실현하기 위한 바람직한 실시예를 첨부 도면에 의거하여 보다 상세하게 설명한다. 여기서 종래 기술의 도면을 통하여 설명한 구성과 동일한 부분에 대하여는 동일 부호를 부여하기로 한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment for implementing this invention is demonstrated in detail based on an accompanying drawing. Here, the same reference numerals are given to the same parts as those described through the drawings of the prior art.
도 2는 본 발명에 의한 반도체 제조용 가스 공급설비로서 안전장치가 갖추어진 구성을 나타내고 있다.2 shows a configuration in which a safety device is provided as a gas supply facility for semiconductor manufacturing according to the present invention.
도면에서와 같이 본 발명의 반응 가스(SiH₄)는 고순도의 상태로 가스 용기(2)에 충전된 후, 제조 공정의 진행에 따라 파이프라인(4)을 통해 반응로 안으로 공급되는 것이며, 이때 파이프라인(4) 상에 설치된 복수개의 밸브(V1~V5)와 레귤레이터(R)에 의해 조절 및 압력 변환되어서 규정의 압력으로 반응로 내부로 공급되어 진다.As shown in the drawing, the reaction gas (SiH ′) of the present invention is filled into the gas container 2 in a state of high purity, and is supplied into the reactor through the pipeline 4 as the manufacturing process proceeds. It is regulated and pressure-converted by the plurality of valves V1 to V5 and regulator R provided on (4), and is supplied into the reactor at a prescribed pressure.
파이프라인(4)에는 바큠 제너레이터(6)와 프레스 스위치(8)가 연결되어 가스 압력을 조절하고 있으며, 바큠 제너레이터(6)에는 잔류 가스 제거라인(4b)이 연결되고, 가스 용기(2)에는 가스 리크 센싱라인(4a)이 연결되어서 복수 밸브(V0, V6∼V8)에 의해 개폐되어 진다.The inverter generator 6 and the press switch 8 are connected to the pipeline 4 to regulate the gas pressure. The inverter generator 6 is connected to the residual gas removal line 4b. The gas leak sensing line 4a is connected and opened and closed by the plurality of valves V0, V6 to V8.
여기서 본 발명은 전원 오프나 작업자의 실수로 인한 밸브(V1∼V5) 폐쇄시, 반응로의 내부로 공급되는 반응 가스가 중단되므로 발생할 수 있는 웨이퍼 및 설비의 손상을 방지하기 위해, 예비 가스 공급수단을 제시하고 있다.Herein, the present invention provides a preliminary gas supply means in order to prevent damage to the wafer and equipment, which may occur because the reactive gas supplied into the reactor is stopped when the valves V1 to V5 are closed due to a power off or an operator mistake. Presenting.
보다 구체적으로 예비 가스 공급수단은 파이프라인(4) 상의 레귤레이터(R) 전에 연결되는 것이며, 별도의 파이프라인(40)을 통해 예비 가스 용기(20)를 연결한 구성으로 되어 있다. 별도의 파이프라인(40)에는 솔레노이드 밸브(Vs)를 설치하여 제어부(10)에 의해 개폐되도록 한다.More specifically, the preliminary gas supply means is connected before the regulator R on the pipeline 4, and is configured to connect the preliminary gas container 20 through a separate pipeline 40. The separate pipeline 40 is provided with a solenoid valve (Vs) to be opened and closed by the control unit 10.
상기 제어부(10)는 반응로의 가동 정보와 설비의 전원 오프 정보를 입력 받아, 반응로가 가동중이고 전원이 오프되어 가스 공급이 중단될 경우 솔레노이드 밸브(Vs)를 개방하도록 되어 있으며, 이에 따라 예비 가스 용기(20)의 반응 가스(SiH₄)를 바이 패스시켜 레귤레이터(R)와 밸브(V3)를 통해 반응로 내부로 공급한다.The control unit 10 receives the operation information of the reactor and the power-off information of the equipment, so that the solenoid valve Vs is opened when the reactor is in operation and the power is turned off to stop the gas supply. The reaction gas SiH 'of the gas container 20 is bypassed and supplied into the reactor through the regulator R and the valve V3.
이러한 작용에 따라 본 발명의 예비 반응 가스(SiH₄)는 전원이 오프되거나 전원 공급에 문제가 발생되어 밸브(V1∼V5)가 폐쇄되더라도, 제어부(10)에 의해 솔레노이드 밸브(Vs)와 밸브(V3)가 개방되므로서, 파이프라인(40)(4)을 통해 반응로 내부로 공급되어 정상적인 작업 공정이 이루어지도록 한다.According to this action, even if the preliminary reaction gas SiH ′ of the present invention is turned off or a problem occurs in the power supply, the valves V1 to V5 are closed, but the solenoid valve Vs and the valve V3 are controlled by the controller 10. As it is opened, it is supplied into the reactor through the pipeline (40) (4) to ensure a normal working process.
또한 가스 용기(2)를 교체할 경우 작업자의 실수로 밸브(V2, V3)를 폐쇄하게 되더라도, 상기와 마찬가지의 작용으로 반응로 내부의 공정 진행을 정상적으로 유지할 수 있다.In addition, when the gas container 2 is replaced, even if the operator accidentally closes the valves V2 and V3, the process in the reactor can be normally maintained in the same manner as described above.
이상에서 설명한 구성 및 작용을 통하여 알 수 있듯이, 본 발명에 의한 반도체 제조용 가스 공급설비의 안전장치는 전원의 오프나 작업자의 실수로 가스 공급이 중단될 경우 예비 가스를 공급함으로써 종래 기술의 문제점을 실질적으로 해소하고 있다.As can be seen from the above-described configuration and operation, the safety device of the gas supply facility for semiconductor manufacturing according to the present invention substantially solves the problems of the prior art by supplying a spare gas when the gas supply is stopped due to the power off or an operator's mistake. It is resolved.
즉 본 발명에 의하면 반도체 제조 공정의 피해를 방지할 수 있고, 아울러 공정 중단에 의한 제품 및 설비 손상을 방지할 수 있다.That is, according to the present invention, it is possible to prevent damage to the semiconductor manufacturing process, and to prevent damage to products and equipment caused by the process interruption.
또 본 발명에 의하면 가스 용기의 교체 작업을 안전하게 실시할 수 있다.Moreover, according to this invention, the replacement operation of a gas container can be performed safely.
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| KR1019980042723A KR20000025582A (en) | 1998-10-13 | 1998-10-13 | Safety device of gas supply equipment for manufacturing semiconductor |
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| KR1019980042723A KR20000025582A (en) | 1998-10-13 | 1998-10-13 | Safety device of gas supply equipment for manufacturing semiconductor |
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| KR (1) | KR20000025582A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100816234B1 (en) * | 2006-12-27 | 2008-03-21 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | Apparatus for proccessing safety sensor in system of production semiconductor device |
-
1998
- 1998-10-13 KR KR1019980042723A patent/KR20000025582A/en not_active Application Discontinuation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR100816234B1 (en) * | 2006-12-27 | 2008-03-21 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | Apparatus for proccessing safety sensor in system of production semiconductor device |
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