KR20000021099U - 반도체 식각장비의 종말점 검출장치 - Google Patents

Abstract

본 고안 반도체 식각장비의 종말점 검출장치는 이디피 윈도우(12)의 외측면에 확대렌즈(13)를 설치하고, 식각작업시 확대렌즈(13)에 의하여 챔버(11)의 내부에서 발생되는 파장의 넓은 영역을 센싱되도록 함으로서, 종래보다 파장을 많이 센싱하게 되어 정확한 종말점 검출이 이루어지는 효과가 있다.

Description

반도체 식각장비의 종말점 검출장치{END POINT DETECTING APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR ETCHING EQUIPMENT}

본 고안은 반도체 식각장비의 종말점 검출장치에 관한 것으로, 특히 챔버 내부에 발생되는 넓은 영역의 파장을 검출하여 정확한 종말점검출(EDP: END POINT DETECTION)이 이루어지도록 하는데 적합한 반도체 식각장비의 종말점 검출장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 웨이퍼에 증착된 필름을 식각하기 위한 건식각장비에서는 챔버의 내부에서 필름과 플라즈마의 반응시 발생되는 파장의 일부를 윈도우를 통하여 감지하여 종말점을 검출하게 되며, 이와 같이 종말점을 검출하는 종래 식각장비의 한 형태가 도 1에 도시되어 있는 바, 이를 간단히 설명하면 다음과 같다.

도 1은 종래 반도체 식각장비의 챔버를 보인 정면도로서, 도시된 바와 같이, 원통형의 챔버(1)의 일측에 이디피 윈도우(2)가 설치되어 있고, 그 이디피 윈도우(2)의 외측에는 이디피 윈도우(2)를 통하여 챔버(1)의 내측에서 발생되는 파장을 모니터링하기 위한 모니터(3)가 설치되어 있다.

상기와 같이 구성되어 있는 종래 반도체 식각장비의 종말점 검출장치는 챔버(1)의 내측에 설치되어 있는 스테이지에 웨이퍼를 얹어 놓고, 챔버(1)의 내측으로 공정가스를 공급한 상태에서 전원공급기를 이용하여 챔버(1)의 내부에 전원을 공급하면 챔버(1) 내부에 있는 가스들이 플라즈마 이온상태로 변화하며, 이중 이온상태의 입자들은 제거되고 웨이퍼 상의 필름과 플라즈마 만이 반응을 하여 식각이 이루어진다. 이와 같이 식각이 진행될때는 파장이 발생되는데, 웨이퍼에 증착된 필름들은 각각 고유의 파장을 갖고 있으므로, 이디피 윈도우(2)를 통하여 모니터(3)에서 검출된 파장으로 식각정도를 조절하게 된다.

그러나, 상기와 같은 종래 반도체 식각장치에서는 이디피 윈도우(2)를 통하여 파장의 일부만을 인식하여 식각 종말점을 검출하기 때문에, 인식된 파장에 이상파가 있는 경우에는 정확한 식각 종말점을 검출하지 못하여, 오버 에치 및 언더 에치등의 식각불량이 발생되는 문제점이 있었다.

상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 고안의 목적은 챔버의 내부에서 발생되는 넓은 영역의 파장을 인식하여 파장을 많이 센싱함으로서 정확한 식각상태를 파악할 수 있도록 하는데 적합한 반도체 식각장비의 종말점 검출장치를 제공함에 있다.

도 1은 종래 반도체 식각장치의 챔버를 개략적으로 보인 정면도.

도 2는 본 고안 반도체 식각장비의 종말점 검출장치가 설치된 상태를 보인 정면도.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

11 : 챔버 12 : 이디피 윈도우

13 : 확대렌즈 14 : 모니터

상기와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여 챔버의 일측면에 이디피 윈도우가 설치되어 있고, 그 이디피 윈도우의 외측에 모니터가 설치되어 있는 반도체 식각장비의 종말점 검출장치에 있어서, 상기 이디피 윈도우의 외측면에 챔버 내부에서 발생되는 파장의 센싱영역을 넓히기 위한 확대렌즈를 설치하여서 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 식각장비의 종말점 검출장치가 제공된다.

이하, 상기와 같이 구성되어 있는 본 고안 반도체 식각장비의 종말점 검출장치를 첨부된 도면의 실시예를 참고하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 2는 본 고안 반도체 식각장비의 종말점 검출장치가 설치된 상태를 보인 정면도로서, 도시된 바와 같이, 본 고안 반도체 식각장비의 종말점 검출장치는 챔버(11)의 일측면에 형성된 개구부(11a)에 이디피 윈도우(12)가 설치되어 있고, 그 이디피 윈도우(12)의 외측면에는 챔버(11) 내측의 넓은 영역의 파장을 인식하기 위한 확대렌즈(13)가 설치되어 있으며, 그 확대렌즈(13)의 외측에는 모니터(14)가 설치되어 있다.

상기와 같이 구성되어 있는 본 고안 반도체 식각장비의 종말점 검출장치는 챔버(11)의 내측에 설치되어 있는 스테이지에 웨이퍼를 얹어 놓고, 챔버(11)의 내측으로 공정가스를 공급한 상태에서 전원공급기를 이용하여 챔버(11)의 내부에 전원을 공급하면 챔버(11) 내부에 플라즈마가 발생되어 웨이퍼 상의 필름이 식각되며, 이와 같이 식각이 진행될때는 파장이 발생되는데, 챔버(11)의 내부에 발생되는 파장은 확대렌즈(13)에 의하여 넓은 영역이 센싱되고, 센싱된 파장은 모니터(14)에서 모니터링하여 식각종말점을 검출하게 된다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 고안 반도체 식각장비의 종말점 검출장치는 이디피 윈도우의 외측면에 확대렌즈를 설치하고, 식각작업시 확대렌즈에 의하여 챔버의 내부에서 발생되는 파장의 넓은 영역을 센싱되도록 함으로서, 종래보다 파장을 많이 센싱하게 되어 정확한 종말점 검출이 이루어지는 효과가 있다.

Claims (1)

1. 챔버의 일측면에 이디피 윈도우가 설치되어 있고, 그 이디피 윈도우의 외측에 모니터가 설치되어 있는 반도체 식각장비의 종말점 검출장치에 있어서, 상기 이디피 윈도우의 외측면에 챔버 내부에서 발생되는 파장의 센싱영역을 넓히기 위한 확대렌즈를 설치하여서 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 식각장비의 종말점 검출장치.