KR20000005087A - 콘디쇼닝 샴푸 조성물 - Google Patents

Abstract

불용성의 분산된 콘디쇼닝제, 저 점도 유기 콘디쇼닝 오일 및 선택된 가용성 셀룰로즈 양이온 유기 중합체 모발 콘디쇼닝제를 갖는 샴푸에서 에톡시화 약 1 내지 약 8 몰을 갖는 에톡시화 알킬 설페이트 계면활성제 및 양쪽성 계면활성제를 포함하는 특정 계면활성제 성분을 포함하는 수성 모발 콘디쇼닝 샴푸 조성물이 기술되어 있다.

Description

콘디쇼닝 샴푸 조성물

인간의 모발은 주위 대기와의 접촉 및 대부분은 머리에서 분비된 피지에 의해 오염된다. 피지의 축적은 모발에 더러운 느낌과 호감을 주지 못하는 외모를 제공한다. 모발의 더러움은 모발을 정규적으로 샴푸하도록 한다.

모발의 샴푸는 과량의 오염물 및 피지를 제거하므로써 모발을 깨끗하게 한다. 그러나, 샴푸 방법은 모발을 축축하고, 엉키고 일반적으로 다루기 힘든 상태로 남기는 단점이 있다. 또한, 샴푸에 의해 천연 오일 또는 기타 모발 모습 물질이 제거되므로써 건조하거나 "곱슬"거리고 윤기가 없는 모발이 생성될 수 있다. 샴푸한 후, 모발은 또한 건조시킬 때 사용자가 인식하는 "부드러움"의 손실을 경험할 수 있다. 모발은 또한 샴푸한 후 건조시킬 때 증가된 정전기도를 경험할 수 있다. 이로인해 빗질이 어려워지고, 모발이 들뜰수 있다. 샴푸후 문제를 완화시키기 위해 다양한 시도가 행해졌다. 여기에는, 샴푸에 모발 콘디쇼닝 보조제를 포함시키는 것에서부터 샴푸후 모발 콘디쇼닝제의 적용, 즉 헤어 린스의 적용에 이르기 까지 다양하다. 헤어 린스는 일반적으로 천연상태에서 액체이며, 샴푸후 별도 단계로 적용하고, 일정 기간동안 모발에 잔류시키고 새로운 물로 헹궈야 한다. 이것은 물론 시간이 걸리는 작업이며, 세척 및 모발 콘디쇼닝 성분을 둘다 함유하는 샴푸만큼 편리하지 못하다.

특정 콘디쇼닝 제제를 함유하는 다양한 샴푸들이 개시되었지만, 이들은 여러 가지 이유로 완전히 만족스럽지는 못했다. 양이온 콘디쇼닝제는 정전기를 제어하고, 축축한 상태에서 엉키지 않도록 하고, 사용자에게 실크같은 축축한 모발 느낌을 제공하는 능력면에서 모발 콘디쇼닝제에 사용하는 것이 대단히 바람직하다. 샴푸에서 경험하는 한가지 문제점은 이제까지 콘디쇼닝제로 사용되었던, 우수한 세척 음이온 계면활성제와 많은 통상의 양이온제사이의 상용성 문제와 관련이 있다. 대체 계면활성제 및 개선된 양이온 콘디쇼닝제의 사용을 통해 부작용을 최소화하려는 노력을 기울였다. 헤어 린스 제품에 우수한 전체 콘디쇼닝을 제공하는 양이온 계면활성제는 일반적으로 음이온 세척 계면활성제와 착화합물을 형성하여, 샴푸에 불량한 콘디쇼닝을 제공한다. 특히, 가용성 이온 착체를 형성하는 가용성 양이온 계면활성제의 사용은 모발에 발 부착되지 않는다. 불용성 이온 착체를 형성하는 가용성 양이온 계면활성제는 모발에 부착하나, 우수한 모발 콘디쇼닝 잇점을 제공하지 못하고, 모발에 더러운 피복감을 주는 경향이 있다. 불용성 양이온 계면활성제, 예를 들면 트리세틸 메틸 암모늄 클로라이드의 사용은 우수한 대전방지 잇점을 제공하나 달리 우수한 전체 콘디쇼닝 효과를 제공하지 못한다. 많은 양이온 중합체는 모발에 축적되어 만족스럽지 못하고, "깨끗하지 못한" 피복감을 야기하는 경향이 있다. 그러므로, 이러한 문제를 최소화시키기 위해 양이온 중합체는 통상적으로 제한된 농도로 사용하는 것이 바람직하다. 그러나, 이것은 얻게되는 전체 콘디쇼닝 잇점을 제한할 수 있다. 추가로, 양이온 콘디쇼닝제는 특히 샴푸 조성물에서 성분으로 전달될 때, 특별히 "유연성"면에서 최적 전체 콘디쇼닝 잇점을 제공하지 못하는 것이 통상적이다.

증대된 유연성을 제공할 수 있는 물질은 비이온성 실리콘이다. 샴푸 조성물에서 실리콘은 다수의 여러 공보에 기술되었다. 이러한 공보에는 1958년 3월 11일 허여된 진(Geen)의 미국 특허 제 2,826,551 호; 1976년 6월 22일 허여된 드라코프(Drakoff)의 미국 특허 제 3,964,500 호; 1982년 12월 21일 허여된 패더(Pader)의 미국 특허 제 4,364,837 호; 및 1960년 9월 28일 허여된 울스톤(Woolston)의 영국 특허 제 849,433 호가 있다. 상기 특허는 실리콘을 함유하는 조성물을 기술하고 있지만, 이들은 또한 실리콘을 제품에 잘 분산시키고 현탁시키도록 하기 어렵다는 점에서 전체적으로 만족스러운 제품을 제공하지 못했다. 최근에, 안정하고, 불용성의 실리콘 함유 모발 콘디쇼닝 샴푸 조성물이 1988년 5월 3일 허여된 그로트 및 러썰(Grote and Russell)의 미국 특허 제 4,741,855 호 및 1988년 11월 29일 허여된 볼리치와 윌리암스(Bolich and Williams)의 미국 특허 제 4,788,066 호에 기술되었다. 이들 샴푸 조성물은 음이온 세정 계면활성제를 사용하여서도 다양한 모발 유형에 탁월한 세척 성능을 보유하는 한편, 모발에 탁월한 전체 콘디쇼닝 잇점을 제공할 수 있다.

더욱 최근에, 개선된 콘디쇼닝 샴푸가 1990년 12월 5일 출원된 로버트 엘. 웰즈(Robert L. Wells)의 미국 특허원 제 07/622,699 호(현재 포기되었음)에 제공되었으며, 1991년 10월 21일 출원된 그의 연속 출원 제 07/778,765 호에 제공되었고, 여기에는 음이온 계면활성제, 분산된 불용성 실리콘 및 특정 비교적 낮은 이온 강도의 양이온 중합체(약 0.4 meq/gm 이상)를 함유하는 샴푸가 제공되었다. 이들 조성물은 광범위한 모발 유형, 특히, 염색, 표백, 퍼머 등에 의해 손상된 모발에 개선된 콘디쇼닝을 제공하는 것을 포함하는 탁월한 모발 콘디쇼닝을 제공한다.

1981년 6월 16일 히로타(Hirota) 등의 일본 특허 출원 공개 공보 제 56-72095 호(카오 소프 코포레이션(Kao Soap Corp.))는 또한 양이온 중합체 및 실리콘 콘디쇼닝제를 함유하는 샴푸를 기술하고 있다. 양이온 제제 및 실리콘을 갖는 샴푸와 관련된 기타 특허 공보에는 1991년 2월 20일 하트네트(Hartnett) 등의 유럽 특허 공보 제 0 413 417 호를 포함한다.

샴푸 조성물에 모발 콘디쇼닝 잇점을 제공하는 또다른 시도는 접촉할 때 오일같은 물질을 사용하는 것이다. 이들 물질은 모발에 개선된 광택 및 반짝임을 제공한다. 오일성 물질은 또한 샴푸 배합물에서 양이온 물질과 배합되었다. 1979년 10월 6일 공개된 엔. 우치노(N. Uchino)의 일본 특허 출원 (소) 제 53-35902 호((소)54-129135)(라이온 유시 캄파니(Lion Yushi Co.))에는 양이온 중합체, 지방산 염 및 샴푸하기 전 또는 후에 사용하기 위한 오일 성분 10% 이상을 함유하는 모발 처리 조성물이 기술되었다. 1987년 12월 25일 출원되어 1989년 7월 4일 공개된 일본 특허 출원 제 62(1987)-327266 호(공개일 평성1(1987)-168612 호, 호리에(Horie) 등)는 양이온 계면활성제 및/또는 양이온 중합체, 음이온 계면활성제 및 화학식 RCOOR'(이때, R 및 R'는 직쇄 또는 분지쇄 알킬이다)의 특정 에스테르를 함유하는 세정 조성물을 기술하고 있다.

세척 능력 및 모발 콘디쇼닝의 최적 조합을 제공하는 이러한 노력에도 불구하고, 더욱 개선된 모발 콘디쇼닝 샴푸 조성물을 제공하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 전체적인 콘디쇼닝을 개선시키고, 특히 실리콘 및 양이온 물질을 함유하는 샴푸로 처리된 모발의 반짝임 및 광택, 습윤 및 건조시 빗질, 및 건조 모발 느낌을 개선시키는 것이 바람직하다. 양이온 물질과 조합한 오일 물질을 함유하는 샴푸의 경우, 전체적인 콘디쇼닝을 개선시키고, 특히 젖은 머리의 빗질 및 엉키지 않음, 건조시 빗질 및 건조 모발 느낌을 개선시키는 것이 바람직하다. 그러나, 콘디쇼닝 성분중 하나 또는 둘다의 양을 단순히 증가시키는 것은 기름기 있는 모발 느낌 및 충실도의 부족과 같은 부작용을 야기할 수 있다. 이러한 단점을 경험하지 않고 콘디쇼닝을 개선시키는 것이 바람직하다.

한가지 시도가 1991년 2월 20일 공개된 로빈스(Robbins) 등의 유럽 특허 공보 제 0 413 416 호에 기술되어 있으며, 이것은 아미노실리콘, 음이온 계면활성제, 양이온 계면활성제 및 탄화수소 성분을 함유하는 샴푸를 기술하고 있다. 이러한 유형의 배합물은 정상적으로는 모발에 과도한 아미노실리콘의 축적 및 그 결과 기름기 있는 모발 느낌 및 충실도의 부족을 야기하거나, 또는 이러한 부작용을 피하기 위해 매우 소량의 아미노실리콘의 의도적인 사용에 의거한 비교적 제한된 개선도를 야기할 것으로 예상될 것이다. 양이온 계면활성제는 음이온 계면활성제와의 상호작용에 의해 모발을 콘디쇼닝하는데 제한된 능력을 가질 것이다.

1991년 2월 20일 공개된 유럽 특허 출원 공보 제 0 413 417 호는 음이온 계면활성제, 및 불용성 실리콘(바람직하게는 아미노실리콘), 양이온 계면활성제, 폴리에틸렌, 파라핀, 미정질 왁스, C₁₈-C₃₆지방산 또는 트리글리세라이드, 고급 지방산의 고급 지방 알콜 에스테르 및 밀납과 같은 콘디쇼닝제를 함유하는 샴푸를 기술하고 있다. 샴푸 조성물 및 다양한 콘디쇼닝제를 기술하는 또다른 특허 문헌으로 1976년 6월 22일 허여된 드라코프(Drakoff)의 미국 특허 제 3,964,500 호를 들수 있다. 이 특허는 실리콘 콘디쇼너 및 특정 우드 로진, 셀락, 슈크로즈 아세테이트 이소부티레이트 및 양이온 아민 셀룰로즈중에서 선택된 모발 형상제를 함유하는 샴푸에 관한 것이다.

샴푸에 모발 콘디쇼닝 잇점을 제공하는 최근의 시도는 미국 특허 제 5,085,857 호(Reid et al)에 기술되어 있다. 이 조성물은 계면활성제 시스템(음이온, 비이온 또는 양쪽성, 또는 이들의 혼합물에서 선택됨), 양이온 구아에서 유래된 중합체, 및 2μ 미만의 입자 크기를 갖는 비휘발성 실리콘의 조합물을 기술하고 있다. 이론에 제한되지 않고, 출원인은 형성된 콘디쇼닝 코아세르베이트를 최적화하는, 특정 계면활성제 시스템에 양이온 구아에서 유래된 중합체 대신에 선택된 양이온 셀룰로즈에서 유래된 중합체를 사용하므로써, 본 발명은 상당히 개선된 콘디쇼닝 성능을 야기하는 것으로 밝혀졌다.

샴푸 및 모발 콘디쇼너의 최적 조합을 제공하는 이러한 모든 시도 및 의도에도 불구하고, 아직도 개선된 콘디쇼닝 샴푸를 제공하는 것이 바람직하다. 이제, 불용성, 분산된 비이온성 콘디쇼닝제, 저 점도 유기 콘디쇼닝 오일 및 가용성 셀룰로즈 양이온성 유기 중합체 모발 콘디쇼닝제를 갖는 샴푸에서 약 1 내지 약 8몰의 에톡시화도를 갖는 에톡시화 알킬 설페이트 계면활성제 및 양쪽성 계면활성제를 포함하는 특정 계면활성제 성분을 조합하므로써 개선된 전체 콘디쇼닝을 이룩할 수 있다는 것이 밝혀졌다. 이러한 조성물은 이전에 공지된 콘디쇼닝 시스템에 콘디쇼닝제의 양을 증가시키므로써 야기될 수 있는 불만족스러운 부작용을 감소시키면서, 개선된 콘디쇼닝을 제공할 수 있다. 이전에 논의한 바와 같이, 많은 양의 실리콘을 함유하는 콘디쇼닝제 시스템은 반복 사용할 때 모발에 실리콘 축적을 야기하고 모발의 충실도를 손상시킬 수 있다. 훨씬 많은 양의 오일에 의해 모발에 오일같은 느낌 및 충실도의 손상을 야기한다. 너무 많은 양의 양이온 콘디쇼닝제는 모발의 피복된 더러운 느낌을 야기한다. 이제, 본 발명의 성분들은 이전에 공지된 콘디쇼닝 시스템에서 개별 성분의 양을 증가시키므로써 달리 야기될 수 있는 콘디쇼닝제 축적의 부작용을 최소화하면서 동시에 개선된 전체 콘디쇼닝을 제공할 수 있다는 것을 밝혀냈다. 저 점도 유기 콘디쇼닝 오일을 첨가하므로써, 예를 들면 실리콘 콘디쇼너의 부착을 증대시키고, 습윤 및 건조 느낌 및 빗질과 같은 개선된 콘디쇼닝 잇점을 제공하는 것이 밝혀졌다.

본 발명의 목적은 과도한 콘디쇼닝제를 사용하여 생성된 축적과 관련된 임의의 부작용을 최소화하면서 동시에 개선된 콘디쇼닝 및 탁월한 세척을 제공할 수 있는 샴푸 조성물을 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 목적은 모발에 과도한 콘디쇼닝제 축적과 관련된 불리한 부작용을 최소화하면서, 개선된 콘디쇼닝과 함께 탁월한 세척을 제공할 수 있는 모발의 세척 및 콘디쇼닝 방법을 제공하는 것이다.

상기 목적 및 기타 목적은 상기 및 하기 발명의 상세한 설명에 의거 쉽게 분명해질 것이다.

발명의 요약

본 발명은 a) i) 에톡시화도 약 1 내지 약 8 몰을 갖는 에톡시화 알킬 설페이트 계면활성제; 및 ii) 양쪽성 계면활성제를 포함하는 계면활성제 성분 약 5.0% 내지 약 50%; b) 분자량 약 400,000 내지 약 1,500,000 및 전하 밀도 약 0.6 내지 약 3 meq/g을 갖는 양이온 셀룰로즈 중합체 약 0.01% 내지 약 3.0%; c) 약 4μ 미만의 평균 입자 크기를 갖는 수 불용성 비휘발성 실리콘 콘디쇼닝제 약 0.005% 내지 약 5%; d) 주위 압력에서 약 250℃ 이상의 비점을 갖는 탄화수소 오일 및 지방산 에스테르 및 이들의 혼합물로 구성된 군중에서 선택된, 약 1 내지 약 300 센티포이즈의 점도를 가지며, 계면활성제 성분중에서 용해되는 유기, 비휘발성 수 불용성 액체 약 0.05 중량% 내지 약 5 중량%; 및 e) 수성 담체를 포함하며, 에톡시화도 1 몰 미만을 갖는 에톡시화 알킬 설페이트 계면활성제 약 5% 미만을 포함하는 모발 콘디쇼닝 샴푸 조성물에 관한 것이다. 샴푸 조성물은 개선된 습윤 모발 느낌을 포함하여 개선된 콘디쇼닝 성능을 제공한다.

본 발명은 불용성, 분산된 비이온성 콘디쇼닝제, 저 점도 유기 콘디쇼닝 오일 및 선택된 가용성 셀룰로즈 양이온성 유기 중합체 모발 콘디쇼닝제를 갖는 샴푸에서 약 1 내지 약 8몰의 에톡시화도를 갖는 에톡시화 알킬 설페이트 계면활성제 및 양쪽성 계면활성제를 포함하는 특정 계면활성제 성분을 함유하는 콘디쇼닝 샴푸 조성물에 관한 것이다. 조성물은 개선된 촉촉한 모발감을 포함하여 개선된 모발 콘디쇼닝 성능을 제공한다.

본 발명의 샴푸 조성물은 본원에 기술된 발명의 필수 요소 및 제한 뿐만 아니라 본원에 개시된 임의의 추가적이거나 또는 선택적인 성분들 또는 제한을 포함하거나, 이들로 이루어지거나 또는 이들로 필수적으로 이루어질 수 있다.

모든 퍼센트, 부 및 비는 달리 나타내지 않는 한 본 발명의 샴푸 조성물의 전체 중량을 기준으로 하다. 기술된 성분들에 대한 모든 이러한 중량들은 달리 나타내지 않는한 활성 수준을 기준으로 하며, 따라서 시판된 물질들에 포함될 수 있는 담체 또는 부산물들은 포함되지 않는다.

본원에 사용된 "가용성"이란 용어는 25℃에서 수중에 물질 0.1 중량%의 농도에서 나안으로 관찰시 실질적으로 등명한 용액을 형성하기에 충분히 수용성인 임의의 물질을 지칭한다. 환언하면, "불용성"이란 용어는 25℃에서 수중에 다른 물질 0.1 중량%의 농도에서 나안으로 관찰시 실질적으로 등명한 용액을 형성하기에는 충분히 수용성이지 않은 다른 모든 물질을 지칭한다.

본원에 사용된 "액체"라는 용어는 주위 조건(약 25℃에서 약 1 대기압) 하에서 임의의 가시적으로(나안에 의해) 유동성 유체를 지칭한다.

본 발명의 샴푸 조성물은 이의 필수 및 선택적인 성분들을 포함하여 이후에 상세히 개시된다.

계면활성제 성분

알킬 에테르 계면활성제

본 발명의 샴푸 조성물은 조성물에 대한 세척 성능을 제공하기 위해 i) 약 1 내지 약 8몰의 에톡시화도를 갖는 에톡시화된 알킬 설페이트 계면활성제; 및 ii) 양쪽성 계면활성제 성분을 포함하는 약 5.0 % 내지 약 50 %의 세정 계면활성제 성분을 포함하고, 이때 상기 생성된 조성물은 1몰 미만의 에톡시화도를 갖는, 약 5 % 미만, 바람직하게는 3 % 미만, 가장 바람직하게는 약 2 % 미만의 알킬 설페이트 에톡시화된 계면활성제를 포함한다.

세정 계면활성제 성분은 선택적으로 추가의 세정 계면활성제를 포함할수 있다. 이런 계면활성제는 본원에 기술된 필수 성분과 물리적 및 화학적으로 혼화성이거나, 또는 다르게는 제품에 안정성, 심미성 또는 성능을 심하게 손상시키지 않아야 한다.

샴푸 조성물에서 계면활성제 성분의 농도는 조성물의 약 5 중량% 내지 약 50 중량%, 바람직하게는 약 8 중량% 내지 약 30 중량%, 보다 바람직하게는 약 10 중량% 내지 약 25 중량%, 보다 더 바람직하게는 약 12 중량% 내지 약 20 중량%의 범위이다.

알킬 에테르 설페이트는 식 RO(C₂H₄O)_xSO₃M(이때, R은 약 8 내지 약 24의 탄소수의 알킬 또는 알케닐이고, x는 1 내지 8이고, M은 예를 들면 암모늄과 같은 양이온, 트리에탄올아민과 같은 알칸올아민, 나트륨 및 칼륨과 같은 일가 금속, 및 마그네슘 및 칼슘과 같은 다가 금속 양이온이다)을 갖는다. 음이온성 세정 계면활성제의 양이온 M은 세정 계면활성제 성분이 수용성이도록 선택되어야 한다. 용해도는 선택된 양이온 및 특별한 음이온성 세정 계면활성제에 의존할 것이다.

바람직하게는, R은 알킬 및 알킬 에테르 설페이트 둘에서 모두 약 8 내지 약 18의 탄소수, 보다 바람직하게는 약 10 내지 약 16의 탄소수, 가장 바람직하게는 약 12 내지 약 14의 탄소수를 갖는다. 알킬 설페이트 에테르는 전형적으로 산화 에틸렌과 약 8 내지 약 24의 탄소수를 갖는 일가 알콜의 축합 생성물로서 제조된다. 알콜은 지방, 예를 들면 코코넛 오일, 팜심유 또는 탈로우로부터 유도되거나, 또는 합성될수 있다. 코코넛 오일 또는 팜심유로부터 유도된 라우릴 알콜 및 직쇄 알콜은 본원에 바람직하다. 이런 알콜은 약 1 내지 약 10, 특히 약 3 몰분율의 산화 에틸렌과 반응하고, 예를 들면, 알콜 몰당 평균 3몰의 산화 에틸렌을 갖는 분자종의 생성된 혼합물은 설페이트화되고 중화된다.

매우 바람직한 알킬 에테르 설페이트는 개별적인 화합물의 혼합물을 포함하는 것들이고, 상기 혼합물은 약 10 내지 약 16의 탄소수의 평균 알킬쇄 길이, 및 약 1 내지 약 4몰의 평균 에톡시화도의 산화 에틸렌을 갖는다.

양쪽성 계면활성제

본원의 샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 양쪽성 계면활성제는 샴푸 조성물 또는 다른 개인용 보호 세척 조성물에 사용하는데 공지되고, 샴푸 조성물의 pH에서 음이온성인 그룹을 함유한 것들을 포함한다. 샴푸 조성물에서 이런 계면활성제의 농도는 바람직하게는 조성물의 약 0.5 중량% 내지 약 20 중량%, 바람직하게는 약 1 중량% 내지 약 10 중량%, 보다 바람직하게는 약 2 중량% 내지 약 5 중량%의 범위이다. 본원의 샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 양쪽성 계면활성제의 예들은 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 5,104,646 호(볼리치 쥬니어(Bolich Jr.) 등) 및 미국 특허 제 5,106,609 호(볼리치 쥬니어 등)에 기술되어 있다. 본 발명의 조성물에 사용될수 있는 양성 세정 계면활성제의 예들은 지방족 라디칼이 직쇄 또는 분지쇄일수 있는 지방족 2급 및 3급 아민의 유도체로서 넓게 기술된 것들이고, 이때 지방족 치환체의 하나는 약 8 내지 약 18의 탄소수를 함유하고 하나는 음이온성 수용해 그룹, 예를 들면 카복시, 설포네이트, 설페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트를 함유한다. 상기 정의된 화합물의 예들은 나트륨 3-도데실-아미노프로피오네이트, 나트륨 3-도데실아미노프로판 설포네이트, 나트륨 라우릴 사코시네이트, 미국 특허 제 2,658,072 호의 개시에 따라 도데실아민을 나트륨 이세티오네이트와 반응시킴으로써 제조된 것과 같은 N-알킬타우린, 미국 특허 제 2,438,091 호의 개시에 따라 제조된 것과 같은 N-고급 알킬 아스파트산, 및 "미라놀(등록상표(MIRANOL))"로 시판되고 미국 특허 제 2,528,378 호에 기술된 제품이다.

베타인과 같은 쯔비터이온성으로서 종종 분류되는 다른 양성 물질은 또한 본 발명에 유용할수 있다. 이런 쯔비터이온성 물질은 쯔비터이온성 물질이 조성물의 pH에서 음이온성인 결합 그룹을 갖는 본 발명에서 양성 물질로서 생각된다. 본원에 유용한 베타인의 예들은 고급 알킬 베타인, 예를 들면 코코 디메틸 카복시메틸 베타인, 코코아미도프로필 베타인, 코코베타인, 라우릴 아미도프로필 베타인, 올레일 베타인, 라우릴 디메틸 카복시메틸 베타인, 라우릴 디메틸 알파카복시에틸 베타인, 세틸 디메틸 카복시메틸 베타인, 라우릴 비스-(2-하이드록시에틸) 카복시메틸 베타인, 스테아릴 비스-(2-하이드록시프로필) 카복시메틸 베타인, 올레일 디메틸 감마-카복시프로필 베타인 및 라우릴 비스-(2-하이드록시프로필)알파-카복시에틸 베타인을 포함한다. 설포베타인은 코코 디메틸 설포프로필 베타인, 스테아릴 디메틸 설포프로필 베타인, 라우릴 디메틸 설포에틸 베타인, 라우릴 비스-(2-하이드록시에틸) 설포프로필 베타인 등으로 나타낼수 있고; 이때 RCONH(CH₂)₃라디칼이 베타인의 질소 원자에 결합된 아미도베타인 및 아미도설포베타인은 또한 본 발명에 유용하다. 코코아미도프로필 베타인이 본원에 사용하기에 가장 바람직하다.

본 발명의 샴푸 조성물은 본원에 이전에 기술된 음이온성 세정 계면활성제와 혼합하여 사용하기 위한 추가의 세정 계면활성제를 추가로 포함할수 있다. 적합한 선택적인 계면활성제는 비이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제 및 이의 혼합물을 포함한다. 선택적인 추가의 계면활성제가 또한 샴푸 조성물의 필수 성분과 화학적 및 물리적으로 혼화성이거나, 또는 다르게는 제품의 성능을 심하게 손상시키지 않는다면, 모발 또는 개인용 보호 제품에 사용하기 위한 당해 분야의 공지된 임의의 이런 계면활성제는 사용될수 있다. 샴푸 조성물에 선택적인 추가의 계면활성제의 농도는 목적하는 세척 또는 거품 성능, 선택된 선택적인 계면활성제, 목적하는 제품 농도, 조성물에 다른 성분의 존재 및 당해 분야에 공지된 다른 인자들에 따라 다양할수 있다.

알킬 에테르 설페이트 외에 사용될수 있는 사용하기에 바람직한 세정 계면활성제는 식 [R₁-SO₃-M](여기에서 R₁은 약 8 내지 약 24, 바람직하게는 약 10 내지 약 18의 탄소수를 갖는 직쇄 또는 분지쇄의 포화된 지방족 탄화수소 라디칼로 구성된 군으로부터 선택되고, M은 전기된 것과 같은 다가 금속 양이온에 관해 같은 제한을 받는 전기된 양이온이다)의 유기 황산 반응 생성물의 수용성 염이다. 이러한 세정 계면활성제의 예들은 약 8 내지 약 24, 바람직하게는 약 12 내지 약 18의 탄소수를 갖는, 이소-, 네오- 및 n-파라핀을 포함한 메탄계 탄화수소의 유기 황산 반응 생성물의 염, 및 표백 및 가수분해를 포함한 공지된 설폰화 방법에 따라 수득된 설폰화제, 예를 들면 SO₃, H₂SO₄이 있다. 바람직한 것은 알칼리 금속 및 암모늄 설폰화된 C₁₀내지 C₁₈n-파라핀이다.

추가의 다른 적합한 음이온성 세정 계면활성제는 이세티온산으로 에스테르화되고 수산화 나트륨으로 중화된 지방산의 반응 생성물(이때, 예를 들면 지방산은 코코넛 오일 또는 팜심유로부터 유도된다); 및 메틸 타우라이드의 지방산 아미드의 나트륨 또는 칼륨염(이때, 예를 들면 지방산은 코코넛 오일 또는 팜심유로부터 유도된다)이다. 다른 유사한 음이온성 계면활성제들이 본 발명에 참고로 인용된 미국 특허 제 2,486,921 호; 미국 특허 제 2,486,922 호; 및 미국 특허 제 2,396,278 호에 개시되어 있다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 다른 음이온성 세정 계면활성제는 숙시네이트이고, 이의 예들은 이나트륨 N-옥타데실설포숙시네이트; 이나트륨 라우릴 설포숙시네이트; 디암모늄 라우릴 설포숙시네이트; 사나트륨 N-(1,2-디카복시에틸)-N-옥타데실설포숙시네이트; 나트륨 설포숙신산의 디아밀 에스테르; 나트륨 설포숙신산의 디헥실 에스테르; 및 나트륨 설폭숙신산의 디옥틸 에스테르이다.

다른 적합한 음이온성 세정 계면활성제에는 약 10 내지 약 24의 탄소수를 갖는 올레핀 설포네이트가 포함된다. 이와 관련하여, "올레핀 설포네이트"란 용어는 비착화된 삼산화 황을 사용하여 알파-올레핀을 설폰화시킨 다음, 상기 산 반응 혼합물을 상기 반응에서 형성된 임의의 설폰을 가수분해시켜 상응하는 하이드록시-알칸설포네이트를 제공하도록 하는 조건하에서 중화시킴으로써 제조할 수 있는 화합물을 지칭한다. 삼산화 황은 액체이거나 또는 기체일 수 있으며, 반드시는 아니지만, 대개 액체 형태로 사용되는 경우 불활성 희석제, 예를 들면 액체 SO₂, 염화된 탄화수소 등에 의해 희석되거나, 또는 기체 형태로 사용되는 경우 공기, 질소, 기체 SO₂등에 의해 희석된다.

올레핀 설포네이트가 유도되는 알파-올레핀은 약 10 내지 약 24, 바람직하게는 약 12 내지 약 16의 탄소수를 갖는 모노-올레핀이다. 바람직하게 이들은 직쇄 올레핀이다.

진정한 알켄 설포네이트와 일정 비의 하이드록시-알칸설포네이트이외에, 올레핀 설포네이트는 예를 들면 반응 조건, 반응물의 비, 출발 올레핀의 성질 및 올레핀 원료중의 불순물 및 설폰화 공정중의 부반응에 따라 소량의 다른 물질들, 예를 들면 알켄 디설포네이트를 함유할 수 있다.

상기 형태의 특정한 알파-올레핀 설포네이트 혼합물은 본 발명에 참고로 인용된 미국 특허 제 3,332,880 호에 기술되어 있다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 또다른 부류의 음이온성 세정 계면활성제는 베타-알킬옥시 알칸 설포네이트이다. 이들 화합물은 하기 화학식 1을 갖는다:

상기 식에서,

R¹은 약 6 내지 약 20의 탄소수를 갖는 직쇄 알킬 그룹이고,

R²는 약 1(바람직하게는) 내지 약 3의 탄소수를 갖는 저급 알킬 그룹이고,

M은 전기된 것과 같은 수용성 양이온이다.

샴푸 조성물에 사용하기에 바람직한 추가의 음이온성 세정 계면활성제로는 암모늄 라우릴 설페이트, 암모늄 라우레트 설페이트, 트리에틸아민 라우릴 설페이트, 트리에틸아민 라우레트 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우레트 설페이트, 모노에탄올아민 라우릴 설페이트, 모노에탄올아민 라우레트 설페이트, 디에탄올아민 라우릴 설페이트, 디에탄올아민 라우레트 설페이트, 라우릭 모노글리세라이드 나트륨 설페이트, 나트륨 라우릴 설페이트, 나트륨 라우레트 설페이트, 칼륨 라우릴 설페이트, 칼륨 라우레트 설페이트, 나트륨 라우릴 사르코시네이트, 나트륨 라우로일 사르코시네이트, 라우릴 사르코신, 코코일 사르코신, 암모늄 코코일 설페이트, 암모늄 라우로일 설페이트, 나트륨 코코일 설페이트, 나트륨 라우로일 설페이트, 칼륨 코코일 설페이트, 칼륨 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 모노에탄올아민 코코일 설페이트, 모노에탄올아민 라우릴 설페이트, 나트륨 트리데실 벤젠 설포네이트, 나트륨 도데실 벤젠 설포네이트 및 이의 혼합물이 있다.

양이온성 모발 콘디쇼닝 중합체

본원에 사용하기에 적합한 양이온성 셀룰로즈성 유도에 중합체 물질은 하기 화학식 2의 것들을 포함한다:

상기 식에서,

A는 셀룰로즈 무수글루코즈 잔기이고,

R은 알킬렌, 옥시알킬렌, 폴리옥시알킬렌 또는 하이드록시알킬렌 그룹 또는 이의 혼합물이고,

R¹, R²및 R³은 독립적으로 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 알콕시알킬 또는 알콕시아릴 그룹이고, 각각의 그룹은 약 18개 이하의 탄소원자를 함유하고, 각각의 양이온성 잔기에 대한 탄소원자의 총 수(즉, R¹, R²및 R³중의 탄소원자의 합계)는 바람직하게는 약 20 이하이고,

X는 전에 기술된 것과 같은 음이온성 대이온이다.

양이온성 셀룰로즈성 중합체는 약 400,000 내지 약 1,500,000, 바람직하게는 약 500,000 내지 약 1,500,000, 가장 바람직하게는 약 800,000 내지 약 1,200,000 범위의 분자량 및 약 0.6 meq/g 내지 약 3 meq/g, 바람직하게는 약 0.7 meq/g 내지 약 2.0 meq/g, 가장 바람직하게는 약 0.9 meq/g 내지 약 1.5 meq/g의 전하 밀도를 갖는다. 양이온성 셀룰로즈 중합체는 폴리쿼터늄(Polyquaternium)-10으로서 산업적으로 지칭되는(CTFA) 트리메틸 암모늄 치환된 에폭시드와 반응한 하이드록시에틸 셀룰로즈의 염으로서 중합체의 폴리머(Polymer) JR 및 LR 시리즈로 아메르콜 코포레이션(Amerchol Corp)(미국 뉴저지주 에디슨 소재)으로부터 시판된다.

본원에 기술된 수용성 양이온성 물질은 샴푸 조성물에 가용성이거나, 또는 바람직하게는 본원에 이전에 기술된 양이온성 중합체 및 음이온성 중합체에 의해 형성된 샴푸 조성물에서 착체 코아세르베이트상에 착체 코아세르베이트상에 가용성이다.

코아세르베이트 형성은 다양한 기준, 예를 들면 분자량, 성분 농도 및 상호작용하는 이온성 성분의 비, 이온 강도(예를 들면, 염의 첨가에 의한 이온 강도의 개질을 포함함), 양이온성 및 음이온성 성분의 전하 밀도, pH 및 온도에 의존한다. 코아세르베이트 시스템, 및 이들 변수의 효과는 예를 들면, 본원에 참고로 인용된 카엘레스(J. Caelles) 등의 문헌["Anionic and Cationic Compounds in Mixed Systems", Cosmetics & Toiletries, Vol.106, April 1991, pp 49-54], 씨 제이 반 오스(C. J. van Oss)의 문헌["Coacervation, Complex-Coacervation and Flocculation", J. Dispersion Science and Technology, Vol.9(5,6), 1988-89, pp 561-573] 및 버게스(D. J. Burgess)의 문헌["Practical Analysis of Complex Coacervate Systems", J. of Colloid and Interface Science, Vol.140, No.1, November 1990, pp 227-238]에 기술되어 있다.

양이온성 중합체가 코아세르베이트상에서 샴푸 조성물에 존재하거나, 또는 모발에 또는 모발로부터 샴푸의 도포 또는 헹굼시 코아세르베이트상을 형성하는 것이 특히 유리하다고 생각된다. 착체 코아세르베이트는 모발 상에 보다 쉽게 침착한다고 생각된다. 따라서, 일반적으로 양이온성 중합체가 샴푸 조성물에서 코아세르베이트상으로서 샴푸 조성물에 존재하거나, 또는 희석시 코아세르베이트상을 형성하는 것이 바람직하다. 샴푸 조성물에서 아직 착체 코아세르베이트가 아니면, 양이온성 중합체는 바람직하게는 물로 희석시 샴푸에 착체 코아세르베이트 형태로 존재할 것이다.

착체 코아세르베이트 형성의 분석 기법은 당해 분야에 공지되어 있다. 예를 들면, 임의의 선택된 희석 단계에서 샴푸 조성물의 현미경 분석은 코아세르베이트가 형성되었는지 여부를 확인하는데 사용될수 있다. 이런 코아세르베이트상은 조성물에서 추가의 유화된 상으로서 확인될 것이다. 염료를 사용하면 샴푸 조성물에 분산된 다른 불용성 상으로부터 코아세르베이트 형태를 구별하는데 도움을 줄수 있다.

불용성 모발 콘디쇼닝제

본 발명의 샴푸 조성물은 모발 콘디쇼닝 잇점을 제공하는데 효과적인 농도의 불용성 모발 콘디쇼닝제를 추가로 포함한다. 이런 농도는 일반적으로 샴푸 조성물의 약 0.005 중량% 내지 약 5 중량%, 바람직하게는 약 0.05 중량% 내지 약 4 중량%, 보다 바람직하게는 약 0.1 중량% 내지 약 3.5 중량%, 가장 바람직하게는 약 0.2 중량% 내지 약 3 중량%의 범위이다. 본 발명에 유용한 불용성 모발 콘디쇼닝 입자는 약 4 마이크론 이하, 바람직하게는 약 1 마이크론 이하, 가장 바람직하게는 약 0.5 마이크론 이하 범위의 입자 크기를 갖는다. 유용한 콘디쇼닝제는 실리콘 및 페트로라텀을 포함한다.

실리콘 모발 콘디쇼닝제

비휘발성 실리콘 콘디쇼닝제가 본원에 사용하기에 가장 바람직하다. 전형적으로는, 이것은 소위 소적으로 불리는 분산된 불용성 입자의 분리 불연속상의 형태이기 위해 샴푸 조성물에서 혼합될 것이다. 이들 소적은 전형적으로 본원에 이후 기술된 선택적인 현탁제로 현탁된다. 모발 콘디쇼닝제 상은 특히 고 굴절율(예를 들면, 약 1.46) 실리콘 콘디쇼닝제가 사용될때(예를 들면, 고페닐화된 실리콘) 실리콘 유체 침착 효율을 개선시키거나 또는 모발의 광택을 향상시키기 위해 실리콘 유체와 같은 실리콘 유체 모발 콘디쇼닝제를 포함할 것이고, 또한 실리콘 수지와 같은 다른 성분을 포함할수 있다.

본원에 사용된 "비휘발성"이란 용어는 당해 분야의 숙련자에게 이해된 것과 같이 주변 조건하에서 상당한 증기압이 거의 또는 전혀 없는 실리콘 물질을 지칭한다. 1 대기압(atm)하에서 비점은 바람직하게는 약 250℃ 이상, 보다 바람직하게는 약 275℃ 이상, 가장 바람직하게는 약 300℃ 이상일 것이다. 증기압은 바람직하게는 25℃ 이하에서 약 0.2 mm Hg 미만, 바람직하게는 25℃ 이하에서 약 0.1 mm Hg 미만이다.

실리콘 모발 콘디쇼닝제 상은 휘발성 실리콘, 비휘발성 실리콘, 또는 이의 혼합물을 포함할 수 있다. 전형적으로, 휘발성 실리콘이 존재하는 경우, 실리콘 검 및 수지와 같은 시판된 형태의 비휘발성 실리콘 물질 성분을 위한 용매 또는 담체로 이들을 부수적으로 사용할 것이다.

샴푸 조성물에 사용하기 위한 실리콘 모발 콘디쇼닝제는 25℃에서 약 20 내지 약 2,000,000 센티스톡, 보다 바람직하게는 약 1,000 내지 약 1,800,000 센티스톡, 보다 더 바람직하게는 약 10,000 내지 약 1,500,000 센티스톡, 가장 바람직하게는 약 30,000 내지 약 100,000 센티스톡의 점도를 갖는 것이 바람직하다. 점도는 1970년 7월 20일자로 다우 코닝 코포레이트(Dow Corning Corporate) 시험 방법 CTM0004에 개시된 것과 같이 유기 모세관 점도계에 의해 측정될수 있다.

샴푸 조성물에 사용하기 위한 선택적인 실리콘 유체는 25℃에서 1,000,000 센티스톡 미만, 바람직하게는 약 5 내지 약 1,000,000 센티스톡, 보다 바람직하게는 약 10 내지 약 600,000 센티스톡, 보다 바람직하게는 약 10 내지 약 500,000 센티스톡, 가장 바람직하게는 10 내지 300,000 센티스톡의 점도를 갖는 유동성 실리콘 물질인 실리콘 오일을 포함한다. 적합한 실리콘 오일은 폴리알킬실록산, 폴리아릴실록산, 폴리알킬아릴실록산, 폴리에테르실록산 공중합체 및 이의 혼합물을 포함한다. 모발 콘디쇼닝 성질을 갖는 다른 불용성, 비휘발성 실리콘 유체가 사용될수 있다.

선택적인 실리콘 오일은 하기 화학식 3의 폴리알킬 또는 폴리아릴 실록산을 포함한다:

상기 식에서,

R은 지방족, 바람직하게는 알킬 또는 알케닐, 또는 아릴이고, R은 치환되거나 또는 비치환될 수 있고, x는 1 내지 약 8,000의 정수이다. 적합한 비치환된 R 그룹은 알콕시, 아릴옥시, 알크아릴, 아릴알킬, 아릴알케닐, 알크아미노 및 에테르-치환된, 하이드록시-치환된 및 할로겐-치환된 지방족 및 아릴 그룹을 포함한다. 적합한 R 그룹은 또한 양이온성 아민 및 4급 암모늄 그룹을 포함한다.

실록산 쇄상에서 치환된 지방족 또는 아릴 그룹은 생성된 실리콘이 실온에서 유체로 존재하는 한 임의의 구조를 가질 수 있으며, 소수성이고, 모발에 도포할 때 무자극성, 무독성 또는 다르게는 무해하고, 샴푸 조성물의 다른 성분과 혼화성이고, 일반적인 사용 및 저장 조건하에서 화학적으로 안정하고, 샴푸 조성물에서 불용성이고, 모발에 부착되고 콘디쇼닝할 수 있다.

각각의 단량체성 실리콘 단위의 규소 원자상의 2개의 R 그룹은 동일하거나 상이한 그룹을 나타낼 수 있다. 바람직하게는, 2개의 R 그룹은 동일한 그룹을 나타낸다.

바람직한 알킬 및 알케닐 치환체는 C₁내지 C₅알킬 및 알케닐, 보다 바람직하게는 C₁내지 C₄, 가장 바람직하게는 C₁내지 C₂이다. 다른 알킬-, 알케닐- 또는 알키닐-함유 그룹의 지방족 부위(예를 들면, 알콕시, 알크아릴 및 알크아미노)는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 바람직하게는 1 내지 5, 보다 바람직하게는 1 내지 4, 보다 더 바람직하게는 1 내지 3, 가장 바람직하게는 1 내지 2의 탄소수를 갖는다. 상기에서 논의한 것과 같이, 이의 R 치환체는 아미노 작용기, 예를 들면 알크아미노 그룹을 함유할 수 있으며, 또한 1급, 2급 또는 3급 아민 또는 4급 암모늄일 수 있다. 이들은 모노-, 디- 및 트리- 알킬아미노 및 알콕시아미노 그룹을 포함하고, 이때지방족 부위 쇄 길이가 전술한 것과 같은 것이 바람직하다. R 치환체는 또한 할로겐(예를 들면, 클로라이드, 플루오라이드 및 브로마이드), 할로겐화 지방족 또는 아릴 그룹 및 하이드록시(예를 들면, 하이드록시 치환된 지방족 그룹)과 같은 다른 그룹으로 치환될 수 있다. 적합한 할로겐화 R 그룹은 예를 들면 -R¹-C(F)₃(이때, R¹은 C₁내지 C₃알킬이다)와 같은 트리-할로겐화(바람직하게는 플루오로)알킬 그룹을 포함할 수 있다. 상기 폴리실록산의 예를 들면 폴리메틸-3,3,3-트리플루오로프로필실록산을 포함한다.

적합한 R 그룹은 메틸, 에틸, 프로필, 페닐, 메틸페닐 및 페닐메틸을 포함한다. 바람직한 실리콘은 폴리디메틸실록산, 폴리디에틸실록산 및 폴리메틸페닐실록산이다. 폴리디메틸실록산이 특히 바람직하다. 다른 적합한 R 그룹은 메틸, 메톡시, 에톡시, 프로폭시 및 아릴옥시를 포함한다. 실리콘의 말단 캡 상의 3개의 R 그룹은 또한 같거나 상이한 그룹을 나타낼수 있다.

사용될수 있는 비휘발성 폴리알킬실록산 유체는 예를 들면 폴리디메틸실록산을 포함한다. 이들 실록산은 예를 들면 제네랄 일렉트릭 캄파니(General Electric Company)에서 비스카실(Viscasil) R 및 SF 96 시리즈로 시판되며, 다우 코닝에서 다우 코닝 200 시리즈로 시판된다.

사용될수 있는 폴리알킬아릴 실록산 유체는 예를 들면 폴리메틸페닐실록산을 포함한다. 이들 실록산은 예를 들면 제네랄 일렉트릭 캄파니에서 SF 1075 메틸 페닐 유체로 또는 다우 코닝에서 556 코스메틱 그레이드 플루이드(Cosmetic Grade Fluid)로 시판된다.

사용할 수 있는 폴리에테르실록산 공중합체는 예를 들면 폴리프로필렌 옥사이드 개질된 폴리디메틸실록산(예를 들면, 다우 코닝 DC-1248)을 포함하지만, 산화 에틸렌 또는 산화 에틸렌과 산화 프로필렌의 혼합물을 또한 사용할수 있다. 산화 에틸렌 및 산화 폴리프로필렌의 수준은 물 및 이의 조성물에서 용해를 방지하기 위해 충분히 낮아야 한다.

적합한 알킬아미노 치환된 실리콘은 하기 화학식 4로 나타낸 것을 포함한다:

상기 식에서,

x 및 y는 정수이다. 이 중합체는 또한 "아모디메티콘"으로 공지되어 있다.

적합한 양이온성 실리콘 유체는 하기 일반식으로 나타낸 것을 포함한다:

(R₁)_aG_3-a-Si-(-OSiG₂)_n-(-OSiG_b(R₁)_2-b)_m-O-SiG_3-a(R₁)_a

상기 식에서,

G는 수소, 페닐, OH, C₁내지 C₈알킬, 바람직하게는 메틸로 구성된 군으로부터 선택되고, a는 0 또는 1 내지 3의 정수, 바람직하게는 0이고, b는 0 또는 1, 바람직하게는 1이고; n + m의 합은 1 내지 2,000의 수이고, 바람직하게는 50 내지 150이고, n은 0 내지 1,999의 수를 나타낼 수 있고, 바람직하게는 4 내지 149이고, m은 1 내지 2,000의 정수, 바람직하게는 1 내지 10의 정수를 나타낼 수 있고, R₁은 화학식 C_qH_2qL을 나타내는 일가 라디칼이고, 이때, q는 2 내지 8의 정수이고, L은 -N(R₂)CH₂-CH₂-N(R₂)₂, -N(R₂)₂, -N(R₂)₃A^-, -N(R₂)CH₂-CH₂-NR₂H₂A^-그룹으로부터 선택되고, 이때, R₂는 수소, 페닐, 벤질, 포화 탄화수소 라디칼, 바람직하게는 1 내지 20의 탄소수를 함유하는 알킬 라디칼로 구성된 군으로부터 선택되고, A^-는 할라이드 이온이다.

상기 화학식 4에 상응하는 특히 바람직한 양이온성 실리콘은 "트리메틸실릴아모디메티콘"으로 공지된 하기 화학식 5의 중합체이다:

샴푸 조성물에 사용할 수 있는 다른 실리콘 양이온성 중합체는 하기 화학식 6로 나타낸다:

상기 식에서,

R³은 1 내지 18의 탄소수를 갖는 1가 탄화수소 라디칼, 바람직하게는 메틸과 같은 알킬 또는 알케닐 라디칼을 나타내고; R₄는 탄화수소 라디칼, 바람직하게는 C₁내지 C₁₈알킬렌 라디칼 또는 C₁내지 C₁₈이고, 보다 바람직하게는 C₁내지 C₈, 알킬렌옥시 라디칼을 나타내고; Q^-는 할라이드 이온, 바람직하게는 클로라이드이고; r은 2 내지 20, 바람직하게는 2 내지 8의 평균 통계적 값이고; s는 20 내지 200, 바람직하게는 20 내지 50의 평균 통계적 값이다. 이 부류의 바람직한 중합체는 유니온 카바이드(Union Carbide)의 "유카 실리콘(등록 상표(UCAR SILICONE)) ALE56"으로 시판된다.

실리콘 콘디쇼닝제에 사용하기에 적합한 다른 실리콘 유체는 불용성 실리콘 검이다. 이들 검은 25℃에서 1,000,000 센티스톡 이상의 점도를 갖는 폴리오가노실록산 물질이다. 실리콘 검은 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 4,152,416 호; 놀 및 월터(Noll, Walter)의 문헌[Chemistry and Technology of Silicones, New York: Academic Press 1968]; 및 제네랄 일렉트릭 실리콘 러버 프로덕트 데이터 시이트(General Electric Silicone Rubber Products Data Sheets) SE 30, SE 33, SE 54 및 SE 76 등에 기술된다. 실리콘 검은 전형적으로 약 200,000 이상, 일반적으로 약 200,000 내지 약 1,000,000의 질량 분자량을 가질 것이고 이의 구체적인 예들은 폴리디메틸실록산, (폴리디메틸실록산) (메틸비닐실록산)공중합체, 폴리(디메틸실록산) (디페닐 실록산)(메틸비닐실록산)공중합체 및 이의 혼합물을 포함한다.

실리콘 모발 콘디쇼닝제는 또한 폴리디메틸실록산 검(약 1,000,000 센티스톡 이상의 점도)과 폴리디메틸실록산 오일(약 10 내지 약 100,000 센티스톡의 점도)의 혼합물을 포함할수 있고, 이때 검과 유체의 비는 약 30:70 내지 약 70:30, 바람직하게는 약 40:60 내지 60:40이다.

또다른 종류의 비휘발성, 불용성 실리콘 유체 콘디쇼닝제는 약 1.46 이상, 바람직하게는 약 1.48이상, 보다 바람직하게는 약 1.52 이상, 가장 바람직하게는 약 1.55 이상의 고 굴절율 실리콘이다. 반드시 제한하고자 함은 아니지만, 폴리실록산 유체의 굴절율은 일반적으로 약 1.70 미만, 전형적으로는 약 1.60 미만일 것이다. 폴리실록산 "유체"는 검 뿐 아니라 오일을 포함한다.

이의 목적에 적합한 고 굴절율 폴리실록산 유체는 하기 화학식 7로 나타낸 것과 같은 사이클릭 폴리실록산 뿐 아니라 상기 화학식 3으로 나타낸 것을 포함한다:

상기 식에서,

R은 상기에서 정의한 것과 같고, n은 약 3 내지 약 7, 바람직하게는 3 내지 5이다.

고 굴절율 폴리실록산 유체는 굴절율을 전술한 목적하는 수준으로 증가시키는데 충분한 양의 아릴-함유 R 치환체를 함유한다. 추가로, R 및 n은 물질이 상기에서 정의한 것과 같이 비휘발성이도록 선택되어야 한다.

아릴-함유 치환체는 지환족 및 헤테로사이클릭 5원 및 6원 아릴 고리 및 치환체 함유 융합된 5원 또는 6원 고리를 함유한다. 아릴 고리는 그자체로 치환되거나 치환되지 않을 수 있다. 치환체는 지방족 치환체를 포함하고, 또한 알콕시 치환체, 아실 치환체, 케톤, 할로겐(예를 들면, Cl 및 Br) 및 아민 등을 포함할수 있다. 아릴 함유 그룹의 예는 치환 또는 비치환된 아렌, 예를 들면 페닐, 및 페닐 유도체, 예를 들면 C₁내지 C₅알킬 또는 알케닐 치환체를 갖는 페닐, 예를 들면 알킬페닐, 메틸 페닐 및 에틸 페닐, 스티레닐과 같은 비닐 페닐, 및 페닐 알킨(예를 들면, 페닐 C₂내지 C₄알킨)을 포함한다. 헤테로사이클릭 아릴 그룹은 푸란, 이미다졸, 피롤, 피리딘 등에서 유래된 치환체를 포함한다. 융합된 아릴 고리 치환체는 예를 들면 나프탈렌, 쿠마린 및 푸린을 포함한다.

일반적으로, 고 굴절율 폴리실록산 유체는 약 15% 이상, 바람직하게는 약 20% 이상, 보다 바람직하게는 약 25% 이상, 보다 더 바람직하게는 약 35% 이상, 가장 바람직하게는 약 50% 이상의 아릴-함유 치환도를 가질 것이다. 전형적으로, 본 발명을 제한하고자 함은 아니지만, 아릴 치환도는 약 90% 미만, 보다 일반적으로는 약 85% 미만, 바람직하게는 약 55% 내지 약 80%일 것이다.

폴리실록산 유체는 또한 아릴 치환의 결과로 비교적 높은 표면 장력을 특징으로 한다. 일반적으로, 폴리실록산 유체는 약 24 다인/cm²이상, 전형적으로는 약 27 다인/cm²이상의 표면 장력을 가질 것이다. 이의 목적을 위해, 표면 장력은 1971년 11월 23일자 다우 코닝 코포레이트 시험 방법 CTM 0461(Dow Corning Corporate Test Method)에 따른 드 노이 고리 장력계(de Nouy ring tensimeter)로 측정된다. 표면 장력의 변화는 상기 시험 방법 또는 ASTM 방법 D 1331에 따라 측정될수 있다.

바람직한 고 굴절율 폴리실록산 유체는 페닐 또는 페닐 유도체 치환체(바람직하게는 페닐)과 알킬 치환체, 바람직하게는 C₁내지 C₄알킬(가장 바람직하게는 메틸), 하이드록시, C₁내지 C₄알킬아미노(특히, -R¹NHR²-NH₂(이때, R¹및 R²는 각각 독립적으로 C₁내지 C₃알킬, 알케닐, 및/또는 알콕시이다))의 혼합물을 갖는다. 고 굴절율 폴리실록산은 다우 코닝 코포레이션(미국 미시간주 미들랜드 소재), 휼스 아메리카(Huls America)(미국 뉴저지주 피스카타웨이 소재) 및 제네랄 일렉트릭 실리콘(미국 뉴욕주 워터포드)에서 시판된다.

전착을 증대시키기에 충분한 양만큼 표면 장력을 감소시킴으로써, 조성물로 처리된 모발의 광택 특성을 증대시키기 위해(후속단계로 건조시킴) 실리콘 수지 또는 계면활성제와 같은 전착제를 용액상태의 고 굴절율 실리콘과 함께 사용하는 것이 바람직하다. 일반적으로, 고 굴절율의 폴리실록산 유체의 표면 장력을 약 5% 이상, 바람직하게는 약 10% 이상, 보다 바람직하게는 약 15% 이상, 보다 더 바람직하게는 약 20% 이상, 가장 바람직하게는 약 25% 이상 감소시키기에 충분량의 전착제를 사용하는 것이 바람직하다. 폴리실록산 유체/전착제 혼합물의 표면 장력 감소는 모발의 개선된 광택 증대를 제공할 수 있다.

또한, 전착제는 바람직하게는 표면 장력을 약 2 다인/cm²이상, 바람직하게는 약 3 다인/cm²이상, 보다 더 바람직하게는 약 4 다인/cm²이상, 가장 바람직하게는 약 5 다인/cm²이상 감소시킬 것이다.

최종 제품에 존재하는 비에서 폴리실록산 유체와 전착제의 혼합물의 표면 장력은 바람직하게는 30 다인/cm²이하, 보다 바람직하게는 약 28 다인/cm²이하, 가장 바람직하게는 약 25 다인/cm²이하이다. 전형적으로, 표면 장력은 약 15 내지 약 30, 보다 전형적으로는 약 18 내지 약 28, 가장 일반적으로는 약 20 내지 약 25 다인/cm²의 범위일 것이다.

고도로 아릴화된 폴리실록산 유체 대 전착제의 중량비는 일반적으로 약 1000:1 내지 약 1:1, 바람직하게는 약 100:1 내지 약 2:1, 보다 바람직하게는 약 50:1 내지 약 2:1, 가장 바람직하게는 약 25:1 내지 약 2;1의 범위일 것이다. 불화 계면활성제를 사용하는 경우, 특히 폴리실록산:전착제의 비가 높은 것은 이들 계면활성제의 효율로 인해 효과적일 수 있다. 따라서, 1000:1 보다 상당히 높은 비를 사용하는 것도 고려된다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 몇몇 실리콘 유체의 예를 예시하는 참고 문헌은 본원에 참고로 인요된 미국 특허 제 2,826,551 호; 미국 특허 제 3,964,500 호; 미국 특허 제 4,364,837 호; 및 영국 특허 제 849,433 호; 1984년 페트라치 시스템즈 인코포레이티드(Petrarch Systems, Inc.)에서 배급한 문헌[Silicon Compounds]을 포함한다.

실리콘 콘디쇼닝제에 실리콘 수지를 포함시킬 수 있다. 이들 수지는 고도로 가교결합된 중합체 실록산 시스템이다. 실리콘 수지를 제조하는 동안 일작용성 또는 이작용성, 또는 둘다의 실란과 함께 삼작용성 및 사작용성 실란을 혼입하여 가교결합을 도입한다. 당해 분야에서 잘 이해하고 있는 것과 같이, 실리콘 수지에 혼입된 특정 실란 단위에 따라, 실리콘 수지를 생성하는데 필요한 가교결합도는 다양할 것이다. 일반적으로, 충분한 수준의 삼작용성 및 사작용성 실록산 단량체 단위(및 따라서, 충분한 수준의 가교결합)를 가져 딱딱하거나 또는 경질의 필름으로 건조되는 실리콘 물질을 실리콘 수지로 간주한다. 산소 원자 대 규소 원자의 비는 특정 실리콘 물질에서 가교결합 수준의 지표이다. 규소 원자당 약 1.1 이상의 산소 원자를 갖는 실리콘 물질은 본원에서 일반적으로 실리콘일 것이다. 바람직하게는, 산소:규소 원자의 비는 약 1.2:1.0 이상이다. 실리콘 수지의 제조에 사용된 실란은 모노메틸-, 디메틸-, 트리메틸-, 모노페닐-, 디페닐-, 메틸페닐-, 모노비닐- 및 메틸비닐-클로로실란 및 테트라클로로실란을 포함하고, 메틸-치환된 실란이 가장 일반적으로 사용된다. 바람직한 수지는 제네랄 일렉트릭에서 GE SS4230 및 SS4267로 제공된다. 시판된 실리콘 수지는 용해된 형태로 저 점도 휘발성 또는 비휘발성 실리콘 유체로 공급되어야 한다. 본원에서 사용하기 위한 실리콘 수지는 당해 분야의 숙련가들에게 명백한 것과 같이, 용해된 형태로 본 발명의 조성물에 공급 및 혼입되어야 한다.

실리콘 유체, 검 및 수지 뿐 아니라 실리콘의 제조를 논의하는 부분을 포함하는 실리콘에 대한 배경 자료에 관해서는 본원에 참고로 인용한 문헌[Encyclopedia of Polymer and Engineering, Volume 15, Second Edition, pp 204-308, John Wiley & Sons, Inc., 1989]에서 찾을 수 있다.

실리콘 물질 및 특히 실리콘 수지는 당해 분야의 숙련가들에게 "MDTQ" 명명법으로 잘 알려진 속기 명명법에 따라 편리하게 확인될수 있다. 이 시스템하에서, 실리콘을 구성하는 다양한 실록산 단량체 단위의 존재에 따라 실리콘을 기술한다. 간단하게 언급하면, 기호 M은 일작용성 단위 (CH₃)₃SiO_0.5를 나타내고; D는 이작용성 단위 (CH₃)₂SiO를 나타내고; T는 삼작용성 단위(CH₃)SiO_1.5를 나타내고, Q는 쿼드리 또는 사작용성 단위 SiO₂를 나타낸다. 단위 기호의 프라임, 예를 들면, M', D', T' 및 Q'는 메틸이 아닌 치환체를 나타내고, 각각의 출현에 대해 구체적으로 정의해야 한다. 대표적인 다른 치환체들은 비닐, 페닐, 아민, 하이드록실 등과 같은 그룹을 포함한다. 실리콘에서 각 유형의 단위의 총수(또는 평균)를 나타내는 기호에 대한 첨자로 나타내거나 또는 분자량과 함께 구체적으로 표시한 비로 나타내는 여러 단위의 몰비는 MDTQ 시스템 하에서 실리콘 물질의 기술을 완성한다. 실리콘 수지에서 T, Q, T' 및/또는 Q' 내지 D, D', M 및/또는 M'의 상대적인 몰량이 클수록 가교결합이 높다는 지표이다. 그러나, 전에 논의한 것과 같이, 가교결합의 총 수준은 또한 산소 대 실리콘 비를 나타낼 수 있다.

본원에서 사용하기 위한 바람직한 실리콘 수지는 MQ, MT, MTQ, MDT 및 MDTQ 수지이다. 따라서, 바람직한 실리콘 치환체는 메틸이다. 특히 바람직한 것은 M:Q 비가 약 0.5:1.0 내지 약 1.5:1.0이고, 수지의 평균 분자량이 약 1000 내지 약 10,000인 MQ 수지이다.

사용할 때, 1.46 이하의 굴절율을 갖는 비휘발성 실리콘 유체 대 실리콘 수지 성분의 중량비는 특히, 실리콘 유체 성분이 전술한 것과 같은 폴리디메틸실록산 유체이거나 또는 폴리디메틸실록산 유체와 폴리디메틸실록산 검의 혼합물일 때, 약 4:1 내지 약 400:1이 바람직하고, 바람직하게는 이 비가 약 9:1 내지 약 200:1, 보다 바람직하게는 약 19:1 내지 약 100:1이다. 실리콘 수지가 본원의 조성물에서 실리콘 유체와 동일한 상의 일부를 형성하는 한, 즉, 콘디쇼닝 활성이 있는한 조성물에서 실리콘 콘디쇼닝제의 수준을 측정할 때 유체와 수지의 합을 포함시켜야 한다.

본 발명의 샴푸 조성물은 불용성 콘디쇼닝제용 현탁제를 추가로 포함할수 있다. 이런 현탁제는 샴푸 및 콘디쇼딩 분야에서 공지되어 있다. 몇몇 적합한 현탁제의 예들은 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 4,741,855 호, 미국 특허 제 4,788,006 호, 미국 특허 제 4,704,272 호 및 미국 특허 제 2,798,053 호에 기술되어 있다. 불용성 콘디쇼닝제와 혼합하여 사용하기에 적합한 현탁제는 아실 유도체, 장쇄 산화 아민, 크산검 및 카복시비닐 중합체를 포함한다. 다른 적합한 현탁제는 약 16 이상의 탄소수의 지방 알킬 잔기를 갖는 1급 아민, 각각 약 12 이상의 탄소수의 2개의 지방 알킬 잔기를 갖는 2급 아민, 디(수소화된 탈로우)프탈산 아미드 및 가교결합된 말레산 무수물-메틸 비닐 에테르 공중합체를 포함한다.

불용성 콘디쇼닝제와 혼합하여 사용하기에 적합한 다른 현탁제는 조성물에 겔-같은 점도를 제공할수 있는 것들, 예를 들면 셀룰로즈 에테르(예를 들면, 메틸셀룰로즈, 하이드록시부틸 메틸셀룰로즈, 하이드록시프로필셀룰로즈, 하이드록시프로필 메틸셀룰로즈, 하이드록시에틸 에틸셀룰로즈 및 하이드록시에틸셀룰로즈), 구아검, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 필롤리돈, 하이드록시프로필 구아검, 전분 및 전분 유도체, 및 다른 증점제, 점도 개질제, 겔화제 등과 같은 수용성 또는 콜로이드성 수용성 중합체를 포함한다.

유기 콘디쇼닝 오일

본 발명의 샴푸 조성물은 전술한 양이온 모발 콘디쇼닝 중합체와 함께 사용하기 위한 추가 모발 콘디쇼닝제로, 계면활성제 성분에 용해되는 저점도 유기 콘디쇼닝 오일을 포함한다. 저점도 유기 오일의 농도는 샴푸 조성물의 중량을 기준으로 약 0.05 중량% 내지 약 3 중량%, 바람직하게는 약 0.08 중량% 내지 약 1.5 중량%의 범위이다.

저점도 유기 콘디쇼닝 오일은 탄화수소 오일 및 지방산 에스테르, 또는 이들의 조합물로 구성된 군중에서 선택된 수불용성, 수분산성 액체이며, 이들은 ASTM D-445에 따라 40℃에서 측정한 바와 같이, 약 1 내지 약 300 센티포이즈, 바람직하게는 약 1 내지 약 150 센티포이즈, 더욱 바람직하게는 약 2 내지 약 50 센티포이즈의 점도를 갖는다.

이들 저점도 유기 콘디쇼닝 오일은 조성물의 필수 성분과 함께 사용할 때 개선된 콘디쇼닝 성능을 샴푸 조성물에 제공하는 것으로 밝혀졌다. 이들 유기 콘디쇼닝 오일은 샴푸 조성물의 계면활성제 마이셀에서 용해되는 것으로 생각된다. 또한, 계면활성제 마이셀로의 용해는 본원의 샴푸 조성물의 개선된 모발 콘디쇼닝 성능에 기여하는 것으로 생각된다.

샴푸 조성물에 사용하기 적합한 유기 콘디쇼닝 오일은 환형 탄화수소, 직쇄 지방족 탄화수소(포화 또는 불포화) 및 분지된 지방족 탄화수소(포화 또는 불포화) 및 이들의 중합체와 같은 탄소수 약 10 이상을 갖는 탄화수소 오일을 포함한다. 직쇄 탄화수소 오일은 탄소수 약 12 내지 약 19를 함유하는 것이 바람직하다. 탄화수소 중합체를 포함하여 분지쇄 탄화수소 오일은 탄소 원자수 19 이상을 함유할 수 있으며, 이를 함유하는 것이 전형적이다. 이들 탄화수소 오일의 특정 비제한적인 예로는 파라핀 오일, 광유, 포화 및 불포화 도데칸, 포화 및 불포화 트리데칸, 포화 및 불포화 테트라데칸, 포화 및 불포화 펜타데칸, 포화 및 불포화 헥사데칸, 폴리부텐, 폴리데켄 및 이들의 조합물을 포함한다. 이들 화합물의 분지쇄 이성체 뿐 아니라 고급 탄화수소를 또한 사용할 수 있으며, 이들의 예를 들면 퍼메틸-치환된 이성체와 같은 고급 분지된 포화 또는 불포화 알칸, 예를 들면 헥사데칸 및 에이코산의 퍼메틸-치환된 이성체, 예를 들면 2,2,4,4,6,6,8,8-디메틸-10-메틸운데칸 및 2,2,4,4,6,6-디메틸-8-메틸노난(퍼메틸 코포레이션에서 시판)이 있다. 폴리부텐 및 폴리데센, 특히 폴리부텐과 같은 탄화수소 중합체를 또한 사용할 수 있다.

샴푸 조성물에 사용하기 위한 기타 유기 콘디쇼닝 오일은 액체 폴리알파올레핀 또는 탄화수소화 액체 폴리알파올레핀과 같은 액체 폴리올레핀을 포함한다. 본원의 샴푸 조성물에 사용하기 위한 폴리올레핀은 탄소수 약 4 내지 약 14, 바람직하게는 탄소수 약 6 내지 약 12를 함유하는 올레핀성 단량체를 중합하여 제조한다. 폴리알파올레핀이 바람직하고, 탄소수 약 4 내지 약 14를 갖는 1-알켄 단량체, 바람직하게는 탄소수 약 6 내지 약 12를 갖는 1-알켄 단량체를 중합하여 제조한다.

본원의 폴리올레핀 액체를 제조할 때 사용하기 위한 비제한적인 올레핀 단량체의 예를 들면 에틸렌, 프로필렌, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 1-옥텐, 1-데켄, 1-도데켄, 1-테트라데켄, 분지쇄 이성체(예: 4-메틸-1-펜텐) 및 이들의 조합물을 포함한다. 또한, 폴리올레핀 액체를 제조하는데 적합한 것은 올레핀 함유 정제 공급원료 또는 유출액이다. 그러나, 탄소수 약 4 내지 약 14를 갖는 탄화수소화 알파-올레핀 단량체 또는 이들의 조합물이 바람직하고, 이들을 예를 들면 1-헥센 내지 1-헥사데켄 및 이들의 혼합물이 있으며, 1-옥텐 내지 1-테트라데켄 또는 이들의 혼합물이 바람직하다.

물

본 발명의 샴푸 조성물은 약 20 중량% 내지 약 94 중량%, 바람직하게는 약 50 중량% 내지 약 94 중량%, 보다 바람직하게는 약 60 중량% 내지 약 85 중량%의 물을 포함한다.

다른 선택적인 성분

본 발명의 샴푸 조성물은 선택적인 성분이 본원에 기술된 필수 성분과 물리적 및 화학적으로 혼화성이거나, 또는 다르게는 제품에 안정성, 심미성 또는 성능을 심하게 손상시키지 않는다면, 모발 보호 또는 개인용 보호 제품에 사용하는데 공지된 하나 이상의 선택적인 성분을 추가로 포함할수 있다. 이런 선택적인 성분의 농도는 전형적으로 샴푸 조성물의 약 0.001 중량% 내지 약 10 중량%이다.

샴푸 조성물에 사용하기 위한 선택적 성분의 비제한적인 예들은 대전방지제,염료, 유기 용매 또는 희석제, 진주광택 보조제, 거품 증진제, 부가 계면활성제 또는 조계면활성제(비이온성, 양이온성, 쯔비터이온성), 살슬제, pH 조절제, 향료, 방부제, 단백질, 피부 활성제, 현탁제, 스타일링 중합체, 일광 차단제, 증점제, 비타민 및 점도 조절제를 포함한다. 선택적인 성분의 이 목록은 배타적이지 않고, 다른 선택적인 성분이 사용될수 있다.

제조 방법

본 발명의 샴푸 조성물은 계면활성제, 콘디쇼닝 조성물 또는 다른 유사한 조성물의 제조를 위해 당해 분야에 공지된 여러 배합 및 혼합 기법 또는 방법을 사용하여 제조될수 있다.

사용 방법

본 발명의 샴푸 조성물은 모발 또는 피부를 세척 및 콘디쇼닝하기 위해 통상적인 방법으로 사용된다. 모발 또는 피부를 세척 및 콘디쇼닝하기 위한 효과량의 조성물은 모발 또는 피부에 도포되고, 바람직하게 물로 습윤시키고 이어서 헹군다. 이러한 효과량은 일반적으로 약 1 g 내지 약 50 g, 바람직하게 약 1 g 내지 약 20 g이다. 모발에 대한 도포는 대다수 또는 모든 모발이 조성물과 접하도록, 전형적으로 모발을 통해 조성물을 작용시키는 것을 포함한다.

모발 또는 피부의 세척 및 콘디쇼닝 방법은 a) 물로 모발 또는 피부를 습윤시키는 단계, b) 모발 또는 피부에 효과량의 샴푸 조성물을 도포하는 단계, c) 물을 사용하여 모발로부터 샴푸 조성물을 헹구는 단계를 포함한다. 이들 단계는 목적하는 세척 및 콘디쇼닝 잇점을 얻기 위해 목적하는 것과 같이 수회 반복할 수 있다.

실시예 1 내지 15에 예시된 샴푸 조성물은 본 발명의 샴푸 조성물의 구체적인 양태이지만, 여기에 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 발명의 진의 및 범위로부터 이탈하지 않고 숙련자들에 의해 다른 변형이 이루어질 수 있다. 본 발명의 샴푸 조성물의 이들 예시된 양태는 모발의 세척 및 개선된 모발 콘디쇼닝 성능을 제공한다.

통상적인 배합 및 혼합 기법에 의해 모든 예시된 조성물을 제조할 수 있다. 성분함량은 중량%로 나타내고, 희석제, 충전제 등과 같은 소량 물질은 제외한다. 따라서 나타난 배합물은 기술된 성분 및 이런 성분과 관련된 임의의 소량 물질을 포함한다.

성분	실시예 1	실시예 2	실시예 3	실시예 4	실시예 5
암모늄 라우레트-3 설페이트	14.00	14.00	14.00	14.00	14.00
코카미도프로필베타인	2.70	2.70	2.70	2.70	2.70
폴리쿼터늄-10(3)	0.15	0.15	0.05	0.30	0.15
경질 광유	0.30	0.15	0.05	0.30	0.15
코카이드 MEA	0.80	0.80	0.80	0.80	0
세틸 알콜	0.42	0.42	0.42	0.42	0.42
스테아릴 알콜	0.18	0.18	0.18	0.18	0.18
에틸렌 글리콜 디스테아레이트	1.50	1.50	1.50	1.50	1.50
디메티콘(1)	1.00	3.00	1.00	1.00	1.00
향료 용액	0.70	0.70	0.70	0.70	0.70
DMDM 하이단토인	0.37	0.37	0.37	0.37	0.37
색 용액(ppm)	64	64	64	64	64
물 및 소량 물질	100 %까지 적당량
(1) 디메티콘은 다우 코닝으로부터 시판된 약 300 nm의 입자 크기를 갖는 60,000 csk 폴리데메틸 실록산의 유화액이다(DC 1664).(2) 카보폴 981은 비 에프 굿리치(B. F. Goodrich)로부터 시판된 가교결합된 폴리아크릴레이트이다.(3) 폴리쿼터늄-10은 아메르콜로부터 시판된 양이온성 셀룰로즈 유도된 중합체인 JR30M이다.

성분	실시예 6	실시예 7	실시예 8	실시예 9	실시예 10
암모늄 라우레트-3 설페이트	14.00	11.75	12.50	14.85	12.50
코카미도프로필베타인	2.70	2.25	4.20	1.85	4.20
폴리쿼터늄-10(3)	0.15	0.13	0.15	0.15	0.15
경질 광유	0.60	0.30	0.15	0.60	0.30
코카이드 MEA	0.80	0.80	0.80	0.80	0
세틸 알콜	0	0.42	0.42	0.42	0.42
스테아릴 알콜	0	0.18	0.18	0.18	0.18
에틸렌 글리콜 디스테아레이트	1.50	1.50	1.50	1.50	1.50
디메티콘(1)	1.00	3.00	1.00	1.00	1.00
향료 용액	0.70	0.70	0.70	0.70	0.70
DMDM 하이단토인	0.37	0.37	0.37	0.37	0.37
색 용액(ppm)	64	64	64	64	64
물 및 소량 물질	100 %까지 적당량
(1) 디메티콘은 다우 코닝으로부터 시판된 약 300 nm의 입자 크기를 갖는 60,000 csk 폴리데메틸 실록산의 유화액이다(DC 1664).(2) 카보폴 981은 비 에프 굿리치로부터 시판된 가교결합된 폴리아크릴레이트이다.(3) 폴리쿼터늄-10은 아메르콜로부터 시판된 양이온성 셀룰로즈 유도된 중합체인 JR30M이다.

성분	실시예 11	실시예 12	실시예 13	실시예 14	실시예 15
암모늄 라우레트-3 설페이트	14.00	14.00	14.00	10.00	10.00
코카미도프로필베타인	2.70	2.70	2.70	2.00	2.00
폴리쿼터늄-10(3)	0.15	0.15	0.15	0.10	0.10
폴리부텐(4)	0.15	0.30	0.30	0.10	0.20
코카이드 MEA	0.80	0.80	0	0.80	0.60
세틸 알콜	0	0.42	0	0.42	0
스테아릴 알콜	0	0.18	0	0.18	0
에틸렌 글리콜 디스테아레이트	0	0	0	1.50	1.50
카보폴 981(2)	0.50	0.50	0.50	0	0
디메티콘(1)	1.00	1.00	1.00	1.00	0.50
향료 용액	0.70	0.70	0.70	0.70	0.70
DMDM 하이단토인	0.37	0.37	0.37	0.37	0.3
색 용액(ppm)	64	64	64	64	64
물 및 소량 물질	100 %까지 적당량
(1) 디메티콘은 다우 코닝으로부터 시판된 약 300 nm의 입자 크기를 갖는 60,000 csk 폴리데메틸 실록산의 유화액이다(DC 1664).(2) 카보폴 981은 비 에프 굿리치로부터 시판된 가교결합된 폴리아크릴레이트이다.(3) 폴리쿼터늄-10은 아메르콜로부터 시판된 양이온성 셀룰로즈 유도된 중합체인 JR30M이다.

Claims (10)

1. a) i) 에톡시화도 1 내지 8 몰을 갖는 에톡시화 알킬 설페이트 계면활성제; 및 ii) 양쪽성 계면활성제를 포함하는 계면활성제 성분 5.0% 내지 50%;

   b) 분자량 400,000 내지 1,500,000 및 전하 밀도 0.6 내지 3 meq/g, 바람직하게는 0.7 meq/g 내지 2 meq/g, 더욱 바람직하게는 0.9 meq/g 내지 1.5 meq/g을 갖는 양이온 셀룰로즈 중합체 0.01% 내지 3.0%;

   c) 4μ 미만의 평균 입자 크기를 갖는 수 불용성 비휘발성 실리콘 콘디쇼닝제 0.005% 내지 5%, 바람직하게는 0.05% 내지 4%, 더욱 바람직하게는 0.2% 내지 3%;

   d) 주위 압력에서 250℃ 이상의 비점을 갖는 탄화수소 오일 및 지방산 에스테르 및 이들의 혼합물로 구성된 군중에서 선택된, 1 내지 300 센티포이즈의 점도를 가지며, 계면활성제 성분중에서 용해되는 유기, 비휘발성 수 불용성 액체 0.05 중량% 내지 5 중량%; 및

   e) 수성 담체를 포함하며, 에톡시화도 1 몰 미만을 갖는 에톡시화 알킬 설페이트 계면활성제 5% 미만을 포함하는 수성 샴푸 조성물.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 조성물이 상기 계면활성제 성분 8% 내지 30%를 포함하고, 에톡시화도 1몰 미만을 갖는 에톡시화 계면활성제 3% 미만을 포함하고, 상기 양쪽성 계면활성제가 코코아미도프로필 베타인이고, 상기 비휘발성 콘디쇼닝제가 실리콘인 수성 샴푸 조성물.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

   상기 성분(d)가 탄소수 20 이상을 갖는 직쇄 및 분지쇄 탄화수소 오일 및 지방산 에스테르 및 이들의 혼합물로 구성된 군중에서 선택되는 수성 샴푸 조성물.
4. 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서,

   상기 성분(d)가 40℃에서 150cS 이하의 점도를 갖는 수성 샴푸 조성물.
5. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서,

   상기 지방산 에스테르가 지방산의 알킬 및 알케닐 에스테르, 지방 알콜의 알킬 및 알케닐 에스테르, 다가 알콜 에스테르, 디카복실산 에스테르, 트리카복실산 에스테르 및 모노-, 디- 및 트리-글리세라이드, 및 이들의 혼합물로 구성된 군중에서 선택되는 수성 샴푸 조성물.
6. 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,

   상기 비휘발성 실리콘 콘디쇼닝제가 폴리아릴실록산, 폴리알킬실록산, 폴리알킬아릴실록산, 그의 유도체 및 이들의 혼합물로 구성된 군중에서 선택되고, 바람직하게는 폴리디메틸실록산인 수성 샴푸 조성물.
7. 제 1 항 내지 제 6 항중 어느 한 항에 있어서,

   상기 비휘발성 실리콘 콘디쇼닝제가 1μ미만, 바람직하게는 0.5μ미만의 평균 입자 크기를 갖는 수성 샴푸 조성물.
8. 제 1 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 있어서,

   상기 양이온 셀룰로즈 중합체 모발 콘디쇼닝제가 폴리쿼터늄-10인 수성 샴푸 조성물.
9. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 있어서,

   상기 양쪽성 계면활성제가 코코아미도프로필 베타인이고, 조성물의 1 중량% 내지 10 중량%, 바람직하게는 2 중량% 내지 약 5 중량%를 차지하는 수성 샴푸 조성물.
10. 제 1 항 내지 제 9 항중 어느 한 항에 있어서,

    상기 양이온 중합체 모발 콘디쇼닝제가 800,000 내지 1,200,000의 분자량을 갖는 수성 샴푸 조성물.