KR19990061416A - Thin film type optical path controller - Google Patents

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KR19990061416A
KR19990061416A KR1019970081675A KR19970081675A KR19990061416A KR 19990061416 A KR19990061416 A KR 19990061416A KR 1019970081675 A KR1019970081675 A KR 1019970081675A KR 19970081675 A KR19970081675 A KR 19970081675A KR 19990061416 A KR19990061416 A KR 19990061416A
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구명권
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전주범
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Abstract

본 발명은 구동기판 상부에 형성된 패드와 TCP(Tape Carrier Package)의 패드간의 접촉 불량을 방지할 수 있는 박막형 광로조절장치에 관한 것이다.The present invention relates to a thin film type optical path control apparatus capable of preventing poor contact between a pad formed on an upper portion of a driving substrate and a pad of a tape carrier package (TCP).

본 발명에서는 구동기판의 상부에 형성된 패드와 TCP의 패드간의 접촉 불량을 방지하기 위해서 패드의 상부에 전기 도전성 접착성 물질로 접착층을 형성한다. 그리고, 접착층의 상부에 종래에 비해 두껍게 접속층을 형성한다. 다음, 접속층의 상부에 금속구를 장착한 후, 금속구와 TCP의 패드를 접촉시켜 구동기판의 패드와 TCP의 패드의 접촉불량을 방지한다.In the present invention, in order to prevent poor contact between the pad formed on the top of the driving substrate and the pad of the TCP, an adhesive layer is formed of an electrically conductive adhesive material on the pad. And a connection layer is formed in the upper part of a contact bonding layer thicker than before. Next, after the metal sphere is mounted on the connection layer, the metal sphere and the pad of the TCP are contacted to prevent a poor contact between the pad of the driving substrate and the pad of the TCP.

Description

박막형 광로조절장치Thin film type optical path controller

본 발명은 박막형 광로조절장치에 관한 것으로서, 특히 구동기판의 상부에 형성된 패드와 TCP(Tape Carrier Package)의 패드간의 접촉 불량을 방지할 수 있는 박막형 광로조절장치에 관한 것이다.The present invention relates to a thin film type optical path control device, and more particularly, to a thin film type optical path control device capable of preventing poor contact between a pad formed on an upper portion of a driving substrate and a pad of a tape carrier package (TCP).

일반적으로, 광학 에너지(optical energy)를 스크린상에 투영하기 위한 장치인 공간적인 광 모듈레이터(spatial light modulator)는 광통신, 화상 처리 및 정보 디스플레이 장치등에 다양하게 응용될 수 있다. 이러한 장치들은 광원으로부터 입사되는 광속을 스크린에 투영하는 방법에 따라서 직시형 화상표시장치와 투사형 화상표시장치로 구분된다. 직시형 화상표시장치로는 CRT(Cathod Ray Tube)등이 있으며, 투사형 화상표시장치로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display:이하 'LCD'라 칭함), DMD(Deformable Mirror Device), 또는 AMA(Actuated Mirror Arrays)등이 있다.In general, a spatial light modulator, which is an apparatus for projecting optical energy onto a screen, may be variously applied to optical communication, image processing, and information display apparatus. Such devices are classified into a direct view type image display device and a projection type image display device according to a method of projecting a light beam incident from a light source onto a screen. CRT (Cathod Ray Tube) is a direct type image display device, and liquid crystal display (hereinafter referred to as LCD), DMD (Deformable Mirror Device), or AMA (Actuated) is a projection type image display device. Mirror Arrays).

상술한 CRT장치는 평균 100ft-L(백색 표시) 이상인 휘도, 30:1 이상인 콘트라스트비, 1만시간 이상의 수명등이 보증된 우수한 표시장치이다. 그러나, CRT는 중량 및 용적이 크고 높은 기계적인 강도를 유지하기 때문에 화면을 완전한 평면으로 하기가 곤란하여 주변부가 왜곡되는 문제점이 있었다. 또한, CRT는 전자빔으로 형광체를 여기해서 발광시키므로 화상을 만들기 위해 고전압을 필요로 하는 문제점이 있었다.The above-described CRT apparatus is an excellent display apparatus which is guaranteed an average brightness of 100 ft-L (white display) or more, a contrast ratio of 30: 1 or more, a lifetime of 10,000 hours or more. However, since the CRT has a large weight and volume and maintains high mechanical strength, it is difficult to make the screen completely flat, which causes distortion of the peripheral part. In addition, since CRTs excite phosphors with an electron beam to emit light, there is a problem that a high voltage is required to produce an image.

따라서, 상술한 CRT의 문제점을 해결하기 위해 LCD가 개발되었다. 이러한 LCD의 장점을 CRT와 비교하여 설명하면 다음과 같다. LCD는 저전압에서 동작하며, 소비 전력이 작고, 변형없는 화상을 제공한다.Therefore, LCDs have been developed to solve the above-mentioned problems of CRT. The advantages of such LCDs are explained in comparison with CRTs. LCDs operate at low voltages, consume less power, and provide images without distortion.

그러나, 상술한 장점들에도 불구하고 LCD는 광속의 편광으로 인하여 1∼2%의 낮은 광효율을 가지며, 그 내부의 액정물질의 응답속도가 느린 문제점이 있었다.However, despite the advantages described above, the LCD has a low light efficiency of 1 to 2% due to the polarization of the light beam, and there is a problem that the response speed of the liquid crystal material therein is slow.

이에 따라, 상술바와 같은 LCD의 문제점들을 해결하기 위하여 DMD, 또는 AMA등의 장치가 개발되었다. 현재, DMD가 약 5%정도의 광효율을 가지는 것에 비하여 AMA는 10%이상의 광효율을 얻을 수 있다. 또한, AMA는 입사되는 광속의 극성에 의해 영향을 받지 않을 뿐만아니라 광속의 극성에 영향을 끼치지 않는다.Accordingly, in order to solve the problems of the LCD as described above, a device such as a DMD or an AMA has been developed. Currently, AMA can achieve a light efficiency of 10% or more, while DMD has a light efficiency of about 5%. In addition, the AMA is not only affected by the polarity of the incident luminous flux but also does not affect the polarity of the luminous flux.

통상적으로, AMA 내부에 형성된 각각의 액츄에이터들은 인가되는 화상 신호 및 바이어스 전압에 의하여 발생되는 전계에 따라 변형을 일으킨다. 이 액츄에이터가 변형을 일으킬 때, 액츄에이터의 상부에 장착된 각각의 거울들은 전계의 크기에 비례하여 경사지게 된다.Typically, the respective actuators formed inside the AMA cause deformation depending on the electric field generated by the applied image signal and bias voltage. When this actuator causes deformation, each of the mirrors mounted on top of the actuator is inclined in proportion to the magnitude of the electric field.

따라서, 이 경사진 거울들은 광원으로부터 입사된 빛을 소정의 각도로 반사시킬 수 있게 된다. 이 각각의 거울들을 구동하는 액츄에이터의 구성재료로서 PZT(Pb(Zr, Ti)O3), 또는 PLZT((Pb, La)(Zr, Ti)O3)등의 압전 세라믹이 이용된다. 또한, 이 액츄에이터의 구성 재료로 PMN(Pb(Mg, Nb)O3)등의 전왜 세라믹을 이용할 수 있다.Thus, these inclined mirrors can reflect light incident from the light source at a predetermined angle. Piezoelectric ceramics such as PZT (Pb (Zr, Ti) O 3 ), or PLZT ((Pb, La) (Zr, Ti) O 3 ) are used as the constituent material of the actuator for driving the respective mirrors. As the constituent material of this actuator, electrodistorted ceramics such as PMN (Pb (Mg, Nb) O 3 ) can be used.

상술한 AMA는 벌크(bulk)형과 박막(thin film)형으로 구분된다. 현재 AMA는 박막형 광로조절장치가 주종을 이루는 추세이다.The AMA is classified into a bulk type and a thin film type. Currently, AMA is the main trend of the thin-film optical path control device.

도 1은 종래의 박막형 광로조절장치의 평면도를 도시한 것이고, 도 2는 도 1의 장치를 A-A'선으로 자른 단면도를 도시한 것이다.1 is a plan view of a conventional thin film type optical path control device, Figure 2 is a cross-sectional view taken along the line AA 'of the device of FIG.

도 1 및 도 2를 참조하면, 박막형 광로조절장치는 구동기판(10)과 그 상부에 형성된 액츄에이터(140)를 포함한다.1 and 2, the thin film type optical path control apparatus includes a driving substrate 10 and an actuator 140 formed thereon.

구동기판(10)은 M×N(M, N은 정수)개의 MOS(Metal Oxide Semiconductor) 트랜지스터(도시되지 않음)가 내장된다. 구동기판(10)은 그 일측 표면에 형성된 드레인 패드(drain pad : 20), 구동기판(10) 및 드레인 패드(20)의 상부에 형성된 보호층(passivation layer : 30)과 보호층(30)의 상부에 형성된 식각 방지층(etch stop layer : 40)을 포함한다.The driving substrate 10 includes M x N (M, where N is an integer) MOS (Metal Oxide Semiconductor) transistors (not shown). The driving substrate 10 may include a drain pad 20 formed on one surface of the driving substrate 10, a passivation layer 30 formed on the driving substrate 10, and a top of the drain pad 20. An etch stop layer 40 is formed on the upper portion.

액츄에이터(140)는 식각 방지층(40)중 하부에 드레인 패드(20)가 형성된 부분에 그 일측이 접촉되며 타측이 에어갭(air gap : 60)을 개재하여 식각 방지층(40)과 평행하도록 적층된 멤브레인(membrane : 70), 멤브레인(70)의 상부에 적층된 하부전극(bottom electrode : 80), 하부전극(80)의 상부에 적층뙨 변형층(active layer : 90), 변형층(90)의 일측 상부에 형성된 상부전극(top electrode : 100), 변형층(90)의 타측으로부터 변형층(90), 하부전극(80), 멤브레인(70), 식각 방지층(60) 및 보호층(40)을 통하여 드레인 패드(20)까지 수직하게 형성된 배전홀(120), 그리고 배전홀(120)의 내부에 하부전극(80)과 드레인 패드(20)가 서로 전기적으로 연결되도록 형성된 배전체(130)를 포함한다. 상부전극(100)의 일측에는 스트라이프(stripe : 110)가 형성된다.The actuator 140 has one side contacted to a portion where the drain pad 20 is formed in the lower portion of the etch stop layer 40, and the other side of the actuator 140 is stacked in parallel with the etch stop layer 40 through an air gap 60. A membrane 70, a bottom electrode 80 stacked on top of the membrane 70, an active layer 90 stacked on top of the bottom electrode 80, and a deformation layer 90 The upper electrode (top electrode) 100 formed on one side and the strained layer 90, the lower electrode 80, the membrane 70, the etch stop layer 60, and the protective layer 40 are formed from the other side of the strained layer 90. A distribution hole 120 vertically formed to the drain pad 20, and a power distribution 130 formed to electrically connect the lower electrode 80 and the drain pad 20 to each other in the distribution hole 120. do. A stripe 110 is formed on one side of the upper electrode 100.

또한, 도 1를 참조하면, 멤브레인(70)의 일측은 그 중앙부에 사각형 형상의 오목한 부분을 가지며, 이러한 사각형 형상의 오목한 부분이 양쪽 가장자리로 갈수록 계단형으로 넓어지는 형상을 가진다. 멤브레인(70)의 타측은 인접한 액츄에이터의 멤브레인이 계단형으로 넓어지는 오목한 부분에 대응하도록 계단형으로 좁아지는 돌출부를 갖는다. 따라서, 멤브레인(70)의 돌출부는 인접한 멤브레인의 오목한 부분에 끼워지고, 멤브레인(70)의 오목한 부분에는 인접한 멤브레인의 돌출부가 끼워져서 형성된다.In addition, referring to FIG. 1, one side of the membrane 70 has a rectangular concave portion at a central portion thereof, and the rectangular concave portion has a shape widening stepwise toward both edges. The other side of the membrane 70 has a protrusion that narrows stepwise to correspond to the recessed portion where the membrane of the adjacent actuator is stepped wide. Thus, the protrusion of the membrane 70 is formed by fitting into the concave portion of the adjacent membrane, and the protrusion of the adjacent membrane is formed by inserting into the concave portion of the membrane 70.

도 3은 도 2에 도시한 장치를 M×N(M, N은 정수)으로 배열한 평면도이고, 도 4는 도 3에 도시한 장치에 TCP를 연결한 평면도이고, 도 5는 도 4의 장치를 B-B'선으로 자른 단면도이다.FIG. 3 is a plan view of the apparatus shown in FIG. 2 arranged in M × N (M, N is an integer), FIG. 4 is a plan view connecting TCP to the apparatus shown in FIG. 3, and FIG. 5 is the apparatus of FIG. Is a cross-sectional view taken along the line B-B '.

도 3, 도 4 및 도 5를 참조하면, M×N개의 박막형 광로조절장치를 완성한 후, 크롬(Cr), 구리(Cu), 또는 금(Au) 등의 금속을 증착(evaporation) 또는 스퍼터링 방법을 이용하여 구동기판(10)의 하단에 증착시켜 저항 컨택(ohmic contact : 도시되지 않음)을 형성한다. 그리고, 공통전극인 상부전극(100)에 바이어스 전압을 인가하고 신호전극인 하부전극(80)에 화상신호를 인가하기 통상의 포토리쏘그래피방법을 이용하여 AMA 패널(150)의 가장자리의 구동기판(10)을 식각한 후, TCP(170) 본딩을 수행한다.3, 4 and 5, after completing the M × N thin film type optical path control device, a method of evaporation or sputtering a metal such as chromium (Cr), copper (Cu), or gold (Au) Is deposited on the bottom of the driving substrate 10 to form an ohmic contact (not shown). In addition, a bias voltage is applied to the upper electrode 100, which is a common electrode, and an image signal is applied to the lower electrode 80, which is a signal electrode, by using a photolithography method. After etching 10), TCP 170 bonding is performed.

보다 상세하게 설명하면, 패드(160), 보호층(30), 식각 방지층(40), 희생층(50) 및 멤브레인(70)이 순차적으로 형성된 구동기판(10)의 상부에 포토레지스트층(도시되지 않음)을 적층한다. 즉, 멤브레인(70)의 상부에 포토레지스트층이 형성된다.In more detail, a photoresist layer (not shown) is formed on the driving substrate 10 in which the pad 160, the protective layer 30, the etch stop layer 40, the sacrificial layer 50, and the membrane 70 are sequentially formed. Not stacked). That is, a photoresist layer is formed on the membrane 70.

이어서, 포토레지스트층중 하부 방향에 패드(160)가 형성되어 있는 부분의 포토레지스트층을 제거한 후, 멤브레인(70), 희생층(50), 식각 방지층(40) 및 보호층(30)을 순차적으로 식각하여 패드(160)를 노출시킨다. 패드(160)가 노출되면 멤브레인(70)의 상부에 형성되어 있는 포토레지스트를 제거한다.Subsequently, after removing the photoresist layer of the portion where the pads 160 are formed in the lower direction of the photoresist layer, the membrane 70, the sacrificial layer 50, the etch stop layer 40, and the protective layer 30 are sequentially removed. Etching to expose the pad 160. When the pad 160 is exposed, the photoresist formed on the membrane 70 is removed.

다음, 노출된 패드(160)의 상부에 ACF(Anisotropic Conductive Film : 190)를 적층한 후, TCP(170)의 패드(180)를 부착시킨다. 따라서, AMA의 패드(160)와 TCP(170)의 패드(180)는 ACF(190)에 의해 서로 전기적으로 연결된다.Next, an ACF (Anisotropic Conductive Film) 190 is stacked on the exposed pad 160, and then the pad 180 of the TCP 170 is attached. Thus, pad 160 of AMA and pad 180 of TCP 170 are electrically connected to each other by ACF 190.

상술한 바와 같이, 종래의 박막형 광로조절장치는 AMA의 패드와 TCP의 패드를 ACF를 사용하여 연결할 때 AMA의 패드에서의 단차로 인하여 AMA의 패드와 TCP의 패드간에 접촉 불량이 발생하는 문제점이 있었다.As described above, the conventional thin film type optical path control device has a problem in that a poor contact occurs between the pad of the AMA and the pad of TCP when the pad of the AMA is connected to the pad of the TCP using the ACF. .

본 발명은 상술한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 구동기판의 상부에 형성된 패드의 상부에 전기 도전성 물질로 접속층을 형성하여 구동기판의 상부에 형성된 패드와 TCP의 패드간의 접촉불량을 방지할 수 있는 박막형 광로조절장치를 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, an object of the present invention is to form a connection layer of an electrically conductive material on top of the pad formed on the top of the drive substrate and the pad formed on the top of the drive substrate; It is to provide a thin film type optical path control device that can prevent a poor contact between the pads of the TCP.

상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, M×N(M, N은 정수)개의 트랜지스터가 내장되고 가장자리에 다수 개의 패드와 일측 상부에 드레인 패드가 형성된 구동기판과; 구동기판의 가장자리에 형성된 패드에 대응하는 다수 개의 TCP와; 구동기판의 가장자리에 형성된 패드의 상부에 형성된 접착층과; 접착층의 상부에 형성된 접속층과; 접속층의 상부에 형성되어 전기적으로 연결된 금속구와; 금속구의 상부와 형성되어 전기적으로 연결된 상기 TCP의 패드를 구비한다.In order to achieve the above object, the present invention includes a driving substrate in which M × N (M, N is an integer) transistors are built, and a plurality of pads are formed at edges and drain pads are formed on one side; A plurality of TCPs corresponding to pads formed at edges of the driving substrate; An adhesive layer formed on an upper portion of a pad formed at an edge of the driving substrate; A connection layer formed on the adhesive layer; A metal sphere formed on the connection layer and electrically connected to the connection layer; And a pad of the TCP formed with an upper portion of the metal sphere and electrically connected thereto.

본 발명의 상술한 목적과 여러 가지 장점은 이 기술 분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 하기에 기술되는 발명의 바람직한 실시예로 부터 더욱 명확하게 될 것이다.The above objects and various advantages of the present invention will become more apparent from the preferred embodiments of the invention described below with reference to the accompanying drawings by those skilled in the art.

도 1은 종래의 박막형 광로조절장치의 평면도,1 is a plan view of a conventional thin film type optical path control device,

도 2는 도 1에 도시한 장치를 A-A'선으로 자른 단면도,FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of the apparatus shown in FIG. 1; FIG.

도 3은 도 2에 도시한 장치를 M×N(M, N은 정수)으로 배열한 평면도,3 is a plan view in which the apparatus shown in FIG. 2 is arranged in M × N (M and N are integers);

도 4는 도 3에 도시한 장치에 TCP를 연결한 평면도,4 is a plan view connecting the TCP to the device shown in FIG.

도 5는 도 4의 장치를 B-B'선으로 자른 단면도,5 is a cross-sectional view taken along line B-B 'of the apparatus of FIG. 4;

도 6은 본 발명에 따른 박막형 광로조절장치의 평면도,6 is a plan view of a thin film type optical path control apparatus according to the present invention,

도 7은 도 6에 도시한 장치를 C-C'선으로 자른 단면도,FIG. 7 is a cross-sectional view of the apparatus shown in FIG. 6 taken along line C-C '; FIG.

도 8은 도 7에 도시한 장치를 M×N(M, N은 정수)으로 배열한 평면도,FIG. 8 is a plan view of the apparatus shown in FIG. 7 arranged in M × N (M and N are integers)

도 9는 도 8에 도시한 장치에 TCP를 연결한 평면도,9 is a plan view connecting the TCP to the device shown in FIG. 8;

도 10은 도 9의 장치를 D-D'선으로 자른 단면도.10 is a cross-sectional view taken along the line D-D 'of the device of FIG.

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for the main parts of the drawings

510 : 구동기판 520 : 드레인 패드 530 : 보호층510: driving substrate 520: drain pad 530: protective layer

540 : 식각 방지층 550 : 희생층 560 : 에어갭540: etch stop layer 550: sacrificial layer 560: air gap

570 : 멤브레인 580 : 하부전극 590 : 변형층570: membrane 580: lower electrode 590: strained layer

600 : 상부전극 610 : 스트라이프 620 : 배전홀600: upper electrode 610: stripe 620: power distribution hole

630 : 배전체 640 : 액츄에이터 650 : AMA 패널630: distributor 640: actuator 650: AMA panel

660 : 패드 670 : 접착층 680 : 접속층660: pad 670: adhesive layer 680: connection layer

690 : 금속구 700 : TCP 710 : TCP 패드690 metal sphere 700 TCP 710 TCP pad

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 박막형 광로조절장치를 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a thin film type optical path control apparatus according to the present invention.

도 6은 본 발명에 따른 박막형 광로조절장치의 평면도를 도시한 것이고, 도 7는 도 6의 장치를 C-C'선으로 자른 단면도를 도시한 것이다.Figure 6 shows a plan view of the thin film type optical path control apparatus according to the present invention, Figure 7 shows a cross-sectional view of the device of Figure 6 cut along the line CC '.

도 6 및 도 7를 참조하면, 박막형 광로조절장치는 구동기판(510)과 그 상부에 형성된 액츄에이터(640)를 포함한다.6 and 7, the thin film type optical path control apparatus includes a driving substrate 510 and an actuator 640 formed thereon.

구동기판(510)은 M×N(M, N은 정수)개의 MOS(Metal Oxide Semi- conductor) 트랜지스터(도시되지 않음)가 내장된다. 구동기판(510)은 그 일측 표면에 형성된 드레인 패드(drain pad : 520), 구동기판(510) 및 드레인 패드(520)의 상부에 형성된 보호층(passivation layer : 530)과 보호층(530)의 상부에 형성된 식각 방지층(etch stop layer : 540)을 포함한다.The driving substrate 510 includes M x N (M, N is an integer) MOS (Metal Oxide Semi-conductor) transistors (not shown). The driving substrate 510 may include a drain pad 520 formed on one surface of the driving substrate 510, a passivation layer 530 and a passivation layer 530 formed on the driving substrate 510 and the drain pad 520. An etch stop layer 540 is formed on the upper portion.

액츄에이터(640)는 식각 방지층(540)중 하부에 드레인 패드(520)가 형성된 부분에 그 일측이 접촉되며 타측이 에어갭(air gap : 560)을 개재하여 식각 방지층(540)과 평행하도록 적층된 멤브레인(membrane : 570), 멤브레인(570)의 상부에 적층된 하부전극(bottom electrode : 580), 하부전극(580)의 상부에 적층뙨 변형층(active layer : 590), 변형층(590)의 일측 상부에 형성된 상부전극(top electrode : 600), 변형층(590)의 타측으로부터 변형층(590), 하부전극(580), 멤브레인(570), 식각 방지층(540) 및 보호층(530)을 통하여 드레인 패드(520)까지 수직하게 형성된 배전홀(620), 그리고 배전홀(620)의 내부에 하부전극(580)과 드레인 패드(520)가 서로 전기적으로 연결되도록 형성된 배전체(630)를 포함한다. 상부전극(600)의 일측에는 스트라이프(stripe : 610)가 형성된다.The actuator 640 contacts one side of a portion of the etch stop layer 540 where the drain pad 520 is formed, and the other side thereof is stacked in parallel with the etch stop layer 540 through an air gap 560. A membrane 570, a bottom electrode 580 stacked on top of the membrane 570, an active layer 590 stacked on top of the bottom electrode 580, and a modified layer 590 The strained layer 590, the lower electrode 580, the membrane 570, the etch stop layer 540, and the protective layer 530 are formed from the other side of the upper electrode 600, the strained layer 590 formed on one side. A distribution hole 620 vertically formed to the drain pad 520, and a power distribution 630 formed in the distribution hole 620 to electrically connect the lower electrode 580 and the drain pad 520 to each other. do. A stripe 610 is formed at one side of the upper electrode 600.

또한, 도 6을 참조하면, 멤브레인(570)의 일측은 그 중앙부에 사각형 형상의 오목한 부분을 가지며, 이러한 사각형 형상의 오목한 부분이 양쪽 가장자리로 갈수록 계단형으로 넓어지는 형상을 가진다. 멤브레인(570)의 타측은 인접한 액츄에이터의 멤브레인이 계단형으로 넓어지는 오목한 부분에 대응하도록 계단형으로 좁아지는 돌출부를 갖는다. 따라서, 멤브레인(570)의 돌출부는 인접한 멤브레인의 오목한 부분에 끼워지고, 멤브레인(570)의 오목한 부분에는 인접한 멤브레인의 돌출부가 끼워져서 형성된다.In addition, referring to FIG. 6, one side of the membrane 570 has a rectangular concave portion at a central portion thereof, and the rectangular concave portion has a shape widening stepwise toward both edges. The other side of the membrane 570 has a protrusion that narrows stepwise to correspond to the recessed portion where the membrane of the adjacent actuator widens stepwise. Thus, protrusions of the membrane 570 are formed by fitting into concave portions of the adjacent membrane, and protrusions of adjacent membranes are formed by inserting into the concave portions of the membrane 570.

도 8은 도 7에 도시한 장치를 M×N(M, N은 정수)으로 배열한 평면도이고, 도 9는 도 8의 장치에 TCP를 연결한 평면도이고, 도 10은 도 9의 장치를 D-D'선으로 자른 단면도이다.FIG. 8 is a plan view of the device shown in FIG. 7 arranged in M × N (M, N is an integer), FIG. 9 is a plan view of connecting the TCP to the device of FIG. 8, and FIG. It is a cross-sectional view cut by the line 'D'.

도 8, 도 9 및 도 10을 참조하면, M×N개의 박막형 광로조절장치를 완성한 후, 크롬(Cr), 구리(Cu), 또는 금(Au) 등의 금속을 증착(evaporation) 또는 스퍼터링 방법을 이용하여 구동기판(510)의 하단에 증착시켜 저항 컨택(ohmic contact : 도시되지 않음)을 형성한다.8, 9 and 10, after completing the M × N thin film type optical path control device, a method of evaporation or sputtering a metal such as chromium (Cr), copper (Cu), or gold (Au) Is deposited on the bottom of the driving substrate 510 to form a ohmic contact (not shown).

그리고, 공통전극인 상부전극(600)에 바이어스 전압을 인가하고 신호전극인 하부전극(580)에 화상신호를 인가하기 위한 TCP(700) 본딩(bonding)을 대비하여 도 10에 도시한 것처럼 통상의 포토리쏘그래피방법을 이용하여 AMA 패널(650)의 가장자리의 구동기판(510)을 식각하여 패드(660)를 노출시킨 후, TCP(700) 본딩을 수행한다.As shown in FIG. 10, a bias voltage is applied to the upper electrode 600, which is a common electrode, and TCP 700 bonding for applying an image signal to the lower electrode 580, which is a signal electrode. After etching the driving substrate 510 at the edge of the AMA panel 650 using the photolithography method, the pad 660 is exposed, and then the TCP 700 is bonded.

보다 상세하게 설명하면, 먼저 패드(660), 보호층(530), 식각 방지층(540), 희생층(550) 및 멤브레인(570)이 순차적으로 형성되어 있는 구동기판(510)의 상부에 포토레지스트층(도시되지 않음)을 도포한다. 따라서, 멤브레인(570)의 상부에 포토레지스트층이 형성된다.In more detail, first, a photoresist is formed on the driving substrate 510 on which the pad 660, the protective layer 530, the etch stop layer 540, the sacrificial layer 550, and the membrane 570 are sequentially formed. Apply a layer (not shown). Thus, a photoresist layer is formed on the membrane 570.

다음, 패드(660)가 형성되어 있는 부분의 멤브레인(570), 희생층(550), 식각 방지층(540) 및 보호층(530)을 순차적으로 식각하여 패드(660)를 외부로 노출시킨다.Next, the membrane 570, the sacrificial layer 550, the etch stop layer 540, and the protective layer 530 of the portion where the pad 660 is formed are sequentially etched to expose the pad 660 to the outside.

이어서, 패드(660)와 포토레지스트층의 상부에 전기 도전성이 있는 접착성 물질(670')을 적층한다. 계속하여, 포토레지스트층의 상부에 형성된 접착성 물질(670')을 제거하여 접착층(670)을 형성한다. 접착층(670)은 후술하는 접속층(680)과 패드(660)의 접착을 용이하게 한다. 따라서, 패드(660)의 상부에 접착층(670)이 형성된다. 그리고, 멤브레인(570)의 상부에 형성된 포토레지스트층을 제거한다.Next, an electrically conductive adhesive material 670 ′ is stacked on the pad 660 and the photoresist layer. Subsequently, the adhesive material 670 ′ formed on the photoresist layer is removed to form the adhesive layer 670. The adhesive layer 670 facilitates adhesion of the connection layer 680 and the pad 660 to be described later. Thus, the adhesive layer 670 is formed on the pad 660. Then, the photoresist layer formed on the membrane 570 is removed.

그 다음, 접착층(670)의 상부에 전기 도전성이 우수한 물질, 예를 들어 알루미늄으로 접속층(680)을 형성한다. 접속층(680)은 리프트-오프(lift-off)에 의한 방법으로 형성한다. 접속층(680)의 하부는 접착층(670)과 전기적으로 연결되며 그 상부는 희생층(550)보다 높게 형성하여 패드(660) 부근의 단차를 제거한다.Next, the connection layer 680 is formed on the adhesive layer 670 with a material having excellent electrical conductivity, for example, aluminum. The connection layer 680 is formed by a lift-off method. The lower portion of the connection layer 680 is electrically connected to the adhesive layer 670, and the upper portion thereof is formed higher than the sacrificial layer 550 to remove the step near the pad 660.

그리고, 접속층(680)의 상부에 전기 도전성 금속구(690)를 장착한 후, 금속구(690)의 상부에 TCP(700)의 패드(710)를 접합시킨다. 따라서, AMA의 패드(660)와 TCP(700)의 패드(710)는 접착층(670), 접속층(680)과 금속구(690)를 통하여 전기적으로 연결된다.After the electrically conductive metal sphere 690 is mounted on the connection layer 680, the pad 710 of the TCP 700 is bonded to the upper portion of the metal sphere 690. Accordingly, the pad 660 of the AMA and the pad 710 of the TCP 700 are electrically connected through the adhesive layer 670, the connection layer 680, and the metal sphere 690.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 박막형 광로조절장치는 구동기판의 상부에 형성된 패드와 TCP의 패드의 사이의 도전성 물질로 접속층을 형성하여 단차를 줄임으로써 구동기판의 상부에 형성된 패드와 TCP의 패드간의 접촉 불량을 제거할 수 있는 효과가 있다.As described above, the thin film type optical path control device according to the present invention forms a connection layer with a conductive material between the pad formed on the top of the drive board and the pad of the TCP, thereby reducing the step, thereby reducing the pad and the pad formed on the top of the drive board. There is an effect that can remove the poor contact between the liver.

상술한 바와 같이, 본 발명을 도면을 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.As described above, although the present invention has been described with reference to the drawings, those skilled in the art may variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. I can understand that you can.

Claims (3)

M×N(M, N은 정수)개의 트랜지스터가 내장되고 가장자리에 다수 개의 패드(660)와 일측 상부에 드레인 패드(520)가 형성된 구동기판(510)과;A driving substrate 510 having M × N (M, N is an integer) transistors formed therein, a plurality of pads 660 at edges, and a drain pad 520 at one side thereof; 상기 구동기판(510)의 가장자리에 형성된 상기 패드(660)에 대응하는 다수 개의 TCP(700)와;A plurality of TCPs 700 corresponding to the pads 660 formed at edges of the driving substrate 510; 상기 구동기판(510)의 가장자리에 형성된 상기 패드(660)의 상부에 형성된 접착층(670)과;An adhesive layer 670 formed on an upper surface of the pad 660 formed at an edge of the driving substrate 510; 상기 접착층(670)의 상부에 형성된 접속층(680)과;A connection layer 680 formed on the adhesive layer 670; 상기 접속층(680)의 상부에 형성되어 전기적으로 연결된 금속구(690)와;A metal ball 690 formed on the connection layer 680 and electrically connected to the connection layer 680; 상기 금속구(690)의 상부와 형성되어 전기적으로 연결된 상기 TCP(700)의 패드(710)를 구비한 박막형 광로조절장치.Thin film type optical path control device having a pad (710) of the TCP (700) formed and electrically connected to the upper portion of the metal sphere (690). 제 1 항에 있어서, 상기 접속층(680)이 전기 도전성 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막형 광로조절장치.The apparatus of claim 1, wherein the connection layer (680) is made of an electrically conductive material. 제 1 항에 있어서, 상기 접착층(670)은 전기 도전성 접착성 물질로 형성되는 것을 특징으로하는 박막형 광로조절장치.The apparatus of claim 1, wherein the adhesive layer is formed of an electrically conductive adhesive material.
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