KR19990061355A - Spacer manufacturing method of field effect electron emission display device - Google Patents

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KR19990061355A
KR19990061355A KR1019970081614A KR19970081614A KR19990061355A KR 19990061355 A KR19990061355 A KR 19990061355A KR 1019970081614 A KR1019970081614 A KR 1019970081614A KR 19970081614 A KR19970081614 A KR 19970081614A KR 19990061355 A KR19990061355 A KR 19990061355A
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KR1019970081614A
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오재열
김희수
조영래
정효수
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김덕중
사단법인 고등기술연구원 연구조합
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  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
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Abstract

본 발명은 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조방법에 관한 것으로, 스페이서를 원하는 장소에 위치시킬 수 있도록 홀을 형성한 서스 또는 세라믹 재질의 마스크를 형성하는 단계와, 구형 스페이서와 고착제를 혼합하는 단계와, 마스크를 기판에 정렬하는 단계와, 혼합체를 도포하여 홀에 삽입시켜 기판에 부착하는 단계와, 고착제를 건조시켜 스페이서를 고정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a method of manufacturing a spacer of a field effect electron emission display device, comprising: forming a mask made of sus or ceramic material having holes formed so as to position a spacer at a desired place, and mixing a spherical spacer and a fixing agent; And aligning the mask to the substrate, applying the mixture to the hole and attaching the mask to the substrate, and drying the fixing agent to fix the spacer.

또한, 본 발명에 따른 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조용 하드마스크는, 스페이서가 고정될 위치에 마스크 홀이 형성된 서스 또는 세라믹 재질의 기판과, 기판의 둘레면을 따라 설치되어 기판의 인장력을 발생하는 프레임과, 기판을 캐소드 기판 또는 애노드 기판과 밀착시킬 수 있도록 기판의 후면에 도포된 보호층으로 구성되는 것을 특징으로 한다.In addition, a hard mask for manufacturing a spacer of the field effect electron emission display device according to the present invention may be provided along a circumferential surface of a substrate made of a sus or ceramic material having a mask hole formed at a position where the spacer is to be fixed, and a tensile force of the substrate. And a protective layer applied to the rear surface of the substrate so that the frame can be brought into close contact with the cathode substrate or the anode substrate.

따라서, 본 발명에 의하면 간단한 스크린 프린팅 방법으로 스페이서를 원하는 장소에 정확하게 위치시킬 수 있게 됨으로써 제조공정이 크게 단축되고 스페이서의 높이를 균일하게 유지할 수 있게 된다.Therefore, according to the present invention, the spacer can be accurately positioned at a desired place by a simple screen printing method, thereby greatly shortening the manufacturing process and maintaining the height of the spacer uniformly.

Description

전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조방법Spacer manufacturing method of field effect electron emission display device

본 발명은 전계효과 전자방출 표시소자(Field Emission Display: 이하, FED로 약칭함.)에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 양극판과 음극판을 분리해주는 스페이서를 형성함에 있어, 열처리 건조공정을 포함하는 스페이서의 제조공정을 단축시키고 스페이서의 높이를 균일하게 유지되게 함과 동시에 원하는 장소에 정확하게 스페이서를 위치시킬 수 있게 한 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a field effect electron emission display device (hereinafter, abbreviated to FED), and more particularly, to forming a spacer separating the positive electrode plate and the negative electrode plate, The present invention relates to a method for manufacturing a spacer of a field effect electron emission display device, which shortens the manufacturing process, maintains the height of the spacer uniformly, and enables the spacer to be accurately positioned at a desired place.

전계효과 전자방출 표시소자는 캐소드에서 방출된 전자가 형광체에 충돌하여 발광함으로써 원하는 패턴 또는 문자나 기호를 표시하는 평판 디스플레이의 일종으로서, 전력소모가 적고 고휘도의 칼라패턴을 구현할 수 있는 장점이 있다.The field effect electron emission display device is a kind of flat panel display that displays a desired pattern or letter or symbol by emitting light emitted from the cathode by colliding with a phosphor. The field effect electron emission display device has a low power consumption and a high brightness color pattern.

이러한 FED는 전계집중을 위하여 전자를 방출하는 마이크로팁(Microtips) 형상의 캐소드를 형성하며, 그 위에 전계유도를 위한 게이트 및 형광체가 도포된 애노드를 형성하여 다수의 마이크로팁으로부터 전자방출을 유도하여 발생된 전자를 형광체에 충돌시킴으로써 형광체가 자극을 받아 형광체의 최외곽전자들이 여기되고 천이되는 과정에서 발생된 빛을 이용하여 이미지를 구현하게 된다.The FED forms a microtips-shaped cathode that emits electrons for field concentration, and forms an anode coated with a gate and phosphor for electric field induction to induce electron emission from a plurality of microtips. When the electrons collide with the phosphor, the phosphor is stimulated to realize an image using light generated in the process of exciting and transitioning the outermost electrons of the phosphor.

도 1에는 이러한 FED의 기본적인 구성이 도시되어 있다. 이것은, 캐소드 기판(10) 위에 절연층(18)에 의해 분리되는 행(Column)전극의 캐소드 전극(12)과 열(Row)전극의 게이트 전극(16)이 서로 교차되어 형성되며, 절연층(18) 사이마다 마이크로팁 형상의 에미터(14)가 캐소드 전극(12)과 일체로 형성되고, 그 상방의 게이트 전극(16)에는 게이트 홀(20)이 형성되어 개방되어 있다.Figure 1 shows the basic configuration of this FED. This is formed by crossing the cathode electrode 12 of the column electrode and the gate electrode 16 of the row electrode, which are separated by the insulating layer 18, on the cathode substrate 10. The microtip-shaped emitter 14 is formed integrally with the cathode electrode 12 between each of the electrodes 18, and a gate hole 20 is formed in the upper gate electrode 16 to open.

한편, 애노드 기판(40) 저면에는 투명도전막(ITO)의 애노드 전극(42)과 형광체(44)가 형성되며, 애노드 기판(40)과 캐소드 기판(10)이 다수의 스페이서(30)를 매개로하여 에미터(14)의 마이크로팁 형상이 형광체(44)를 향하도록 서로 마주보게 형성되어 미소면적에 저전압만을 인가하여도 에미터(14)의 선단에서 전자가 방출되도록 형성되어 있으며, FED 패널의 최외각부는 봉착제(Sealent: 60)에 의해 진공 패키징 되어 있다.Meanwhile, the anode electrode 42 and the phosphor 44 of the transparent conductive film ITO are formed on the bottom surface of the anode substrate 40, and the anode substrate 40 and the cathode substrate 10 are formed through a plurality of spacers 30. The microtips of the emitter 14 are formed to face each other to face the phosphor 44 so that electrons are emitted from the tip of the emitter 14 even when only a low voltage is applied to the micro area. The outermost part is vacuum packaged with a sealant (Sealent 60).

이와같은 구조로 이루어진 FED는 캐소드 전극(12)과 게이트 전극(16)에 적절한 양의 전압을 인가하면 에미터(14)의 마이크로팁에 강한 전기장이 형성되어 양자 역학적 터널효과에 의해 전자가 방출된다. 방출된 전자가 수백볼트의 전압이 가해진 애노드 전극(42)에 끌려 형광체(44)에 충돌하면 형광체(44)상에 발광이 되는 것이다.In the FED having such a structure, when an appropriate amount of voltage is applied to the cathode electrode 12 and the gate electrode 16, a strong electric field is formed at the microtip of the emitter 14, and electrons are emitted by the quantum mechanical tunnel effect. . When the emitted electrons are attracted to the anode electrode 42 to which a voltage of several hundred volts is applied and collide with the phosphor 44, the emitted electrons are emitted on the phosphor 44.

한편, 종래의 FED 제조방법은 다음과 같다. 통상적인 반도체 공정을 이용하여 캐소드 기판(10)상에 캐소드 전극(12), 절연층(18), 게이트 전극(16)을 증착한 구조에 게이트 홀(20) 및 캐비티(22)를 형성하고, 캐소드 기판(10)을 회전시키면서 소정의 투사각을 갖는 전자빔 증착장치를 이용하여 몰리브덴(Mo)증기를 증착함으로써 캐비티(22)의 내측에 마이크로팁 형상의 에미터(14)를 형성한다.On the other hand, the conventional FED manufacturing method is as follows. The gate hole 20 and the cavity 22 are formed in a structure in which the cathode electrode 12, the insulating layer 18, and the gate electrode 16 are deposited on the cathode substrate 10 using a conventional semiconductor process. By rotating the cathode substrate 10 and depositing molybdenum (Mo) vapor using an electron beam evaporation apparatus having a predetermined projection angle, the microtip-shaped emitter 14 is formed inside the cavity 22.

또한, 별도의 애노드 기판(40)상에 ITO 투명도전막으로 형성된 애노드 전극(42)을 형성하고 그 위에 형광체(44)를 도포하여 형성한 후, 애노드 기판(40)과 캐소드 기판(10)이 서로 일정한 간격으로 유지된 상태에서 대향될 수 있도록 캐소드 기판(10)의 게이트 전극(16) 상면에 다수개의 스페이서(30)를 형성한 다음 그 위에 애노드 기판(40)을 접합하여 FED 패널을 형성한다. 그리고, FED 패널의 가장자리를 봉착체(60)로 봉입하고 내부에 진공이 형성될 수 있도록 배기구(24)를 통해 배기시켜 고진공 패키징을 한다.In addition, after forming an anode electrode 42 formed of an ITO transparent conductive film on a separate anode substrate 40 and applying a phosphor 44 thereon, the anode substrate 40 and the cathode substrate 10 are mutually A plurality of spacers 30 are formed on the upper surface of the gate electrode 16 of the cathode substrate 10 so as to be opposed to each other at a constant interval, and then the anode substrate 40 is bonded to the FED panel. Then, the edge of the FED panel is encapsulated with the encapsulation body 60 and exhausted through the exhaust port 24 to form a vacuum therein, thereby performing high vacuum packaging.

그리고, 형광체(44)가 도포된 애노드 기판(40) 혹은 에미터(14)가 형성되어 있는 캐소드 기판(10)의 소정 위치에 유전체 페이스트(Dielectric paste)를 수차례의 스크린 프린팅(Screen printing) 공정으로 도포한 후 소성시켜 스페이서(30)를 형성한다. 도 2에서는 이와 같은 방법으로 스페이서(30)를 형성한 것을 나타내고 있으며, 여기서 스페이서(30)는 애노드 기판(40)과 캐소드 기판(10) 사이의 간격을 결정하게 되므로, 수백 미크론에서 수천 미크론의 높이를 갖도록 형성된다.In addition, a screen printing process of several times a dielectric paste is performed at a predetermined position of the anode substrate 40 on which the phosphor 44 is applied or the cathode substrate 10 on which the emitter 14 is formed. After coating, the resultant is baked to form the spacer 30. FIG. 2 shows the formation of the spacer 30 in this manner, where the spacer 30 determines the spacing between the anode substrate 40 and the cathode substrate 10, thus increasing the height from several hundred microns to several thousand microns. It is formed to have.

그런데, 상술한 바와 같은 종래의 스페이서 제조공정은, 스페이서(30)의 높이를 충분히 형성하기 위해 스크린 프린팅 공정과 열처리 공정을 교대로 반복하여 여러차례 수행하게 됨으로써, 공정에 많은 시간이 투입되고 이미 형성된 소자가 장시간 주변환경에 노출되어 오염되기 쉬운 단점이 있다. 뿐만 아니라, 형성된 스페이서(30)의 높이가 균일하지 못한 문제점도 발생된다.However, in the conventional spacer manufacturing process as described above, by repeatedly performing the screen printing process and the heat treatment process several times in order to sufficiently form the height of the spacer 30, a lot of time is put into the process and the already formed device Has a disadvantage of prone to contamination by exposure to the surrounding environment for a long time. In addition, there is a problem that the height of the formed spacer 30 is not uniform.

본 발명은 상술한 바와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위하여 발명된 것으로, 본 발명의 목적은 양극판과 음극판 사이를 분리해주기 위한 수단으로서 구형의 스페이서를 사용하고, 스페이서가 고정될 위치에 마스크 홀이 형성된 하드 마스크를 이용하여 스페이서의 높이를 균일하게 유지하면서 한 번의 열처리 공정으로 스페이서를 고정시킬 수 있게 한 스페이서 제조방법을 제공하고, 상술한 제조방법을 구현하기 위한 장치로서 고착제와 혼합된 스페이서를 도포하여 원하는 장소에 위치시킬 수 있도록 홀을 형성한 서스 또는 세라믹 재질의 스페이서 제조용 하드 마스크를 제공하는 것이다.The present invention has been invented to solve the conventional problems as described above, an object of the present invention is to use a spherical spacer as a means for separating between the positive electrode plate and the negative electrode plate, the mask hole is formed in the position where the spacer is to be fixed By using a hard mask to provide a spacer manufacturing method that allows the spacer to be fixed in one heat treatment process while maintaining the height of the spacer uniformly, as a device for implementing the above manufacturing method by applying a spacer mixed with a fixing agent The present invention provides a hard mask for manufacturing spacers made of sus or ceramics in which holes are formed to be positioned at a desired place.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조방법에 있어서, 스페이서를 원하는 장소에 위치시킬 수 있도록 홀을 형성한 서스 또는 세라믹 재질의 마스크를 형성하는 단계와, 구형의 스페이서와 고착제를 혼합하는 단계와, 마스크를 기판에 정렬하는 단계와, 혼합체를 도포하여 홀에 삽입시켜 기판에 부착하는 단계와, 고착제를 건조시켜 스페이서를 고정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a method of manufacturing a spacer of a field effect electron emission display device, the method comprising: forming a mask made of sus or ceramic material having holes formed so as to position a spacer at a desired place; Mixing the spacer and the fixing agent, aligning the mask on the substrate, applying the mixture to the hole and attaching the substrate, and drying the fixing agent to fix the spacer. .

또한, 본 발명에 따른 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조용 하드마스크는, 스페이서가 고정될 위치에 마스크 홀이 형성된 서스 또는 세라믹 재질의 기판과, 기판의 둘레면을 따라 설치되어 기판의 인장력을 발생하는 프레임과, 기판을 캐소드 기판 또는 애노드 기판과 밀착시킬 수 있도록 기판의 후면에 도포된 보호층으로 구성되는 것을 특징으로 한다.In addition, a hard mask for manufacturing a spacer of the field effect electron emission display device according to the present invention may be provided along a circumferential surface of a substrate made of a sus or ceramic material having a mask hole formed at a position where the spacer is to be fixed, and a tensile force of the substrate. And a protective layer applied to the rear surface of the substrate so that the frame can be brought into close contact with the cathode substrate or the anode substrate.

이러한 본 발명에 의하면, 스페이서를 원하는 장소에 위치시킬 수 있도록 마스크 홀을 형성한 하드 마스크를 기판상에 정렬하고, 구형의 스페이서를 고착제와 혼합한 후 하드 마스크의 마스크 홀에 삽입함으로써 기판에 부착되게하여 한 차례의 건조과정을 통해 고착되게 함으로써 스페이서를 원하는 장소에 정확하게 위치시킴과 동시에 스페이서의 높이를 균일하게 유지할 수 있게 된다. 이때, 하드 마스크의 기판 후면에 도포된 보호층에 의해 기판과 기판이 상호 밀착되므로 고착제가 흐르거나 번지는 것을 방지할 수 있게 되고, 따라서 형광체가 고착제에 의해 덮여지게 됨으로써 해상도가 저하되는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, a hard mask having a mask hole formed thereon is aligned on a substrate so that the spacer can be positioned at a desired place, and the spherical spacer is mixed with a fixing agent and then inserted into the mask hole of the hard mask so as to be attached to the substrate. By being fixed through one drying process, the spacer can be accurately positioned at a desired place and the height of the spacer can be maintained uniformly. At this time, since the substrate and the substrate are in close contact with each other by the protective layer applied on the back surface of the hard mask, the fixing agent can be prevented from flowing or spreading, and thus the phosphor is covered by the fixing agent to prevent the resolution from being lowered. Can be.

도 1은 일반적인 FED의 구조를 나타낸 단면도,1 is a cross-sectional view showing the structure of a typical FED,

도 2는 종래 스크린 프린팅 방법으로 제작된 스페이서를 나타낸 단면도,Figure 2 is a cross-sectional view showing a spacer produced by a conventional screen printing method,

도 3a 내지 도 3c는 본 발명에 따른 스페이서 제조공정에 선행하는 공정을 나타낸 공정도,3a to 3c is a process diagram showing a process preceding the spacer manufacturing process according to the present invention,

도 4a는 FED 제조공정에서 스페이서의 제작에 사용되기 위한 본 발명에 따른 하드마스크를 나타낸 평면도,Figure 4a is a plan view showing a hard mask according to the present invention for use in the manufacture of the spacer in the FED manufacturing process,

도 4b는 본 발명에 따른 하드마스크의 단면도,4b is a cross-sectional view of a hard mask according to the present invention;

도 5a 내지 도 5d는 본 발명에 따른 스페이서 제조공정도.5a to 5d is a spacer manufacturing process according to the present invention.

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for main parts of the drawings

10: 캐소드 기판(Cathode) 12: 캐소드 전극(Cathode electrode)10: cathode substrate 12: cathode electrode (Cathode electrode)

14: 에미터(Emiter) 16: 게이트 전극(Gate electrode)14: emitter 16: gate electrode

18: 절연층 20: 게이트 홀(Gate hole)18: insulating layer 20: gate hole

22: 캐비티(Cavity) 24: 배기구22: Cavity 24: Exhaust vent

30: 스페이서(Spacer) 32: 고착제30: spacer 32: fixing agent

40: 애노드 기판(Anode) 42: 애노드 전극(Anode electrode)40: anode substrate 42: anode electrode

44: 형광체(Color phosphors) 50: 하드 마스크44: color phosphors 50: hard mask

52: 프레임 54: 기판52: frame 54: substrate

56: 마스크 홀(Mask hole) 58: 보호층56: mask hole 58: protective layer

60: 봉착제(Sealant)60: Sealant

이와같은 본 발명의 특징적인 구성 및 이에따른 작용효과는 후술하는 첨부된 도면을 참조한 실시예의 상세한 설명을 통해 더욱 명확해 질 것이다.Such a characteristic configuration and the effects thereof according to the present invention will become more apparent from the detailed description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

먼저, 본 발명에 따른 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조공정에 선행하는 공정을 간단히 설명하면 다음과 같다.First, the process preceding the spacer manufacturing process of the field effect electron emission display device according to the present invention will be briefly described as follows.

도 3a는 캐소드 기판을 제조하는 공정을 도시한 공정 단면도로서, 캐소드 기판(10)상에 캐소드 전극(12)을 증착하여 열(Column)방향으로 패터닝하고, 이 캐소드 전극(12) 위에 SiO2등과 같은 절연층(도시안됨)을 증착법으로 형성하며, 이 절연층상에 게이트 전극(16)을 증착하여 캐소드 전극(12)과 직교하는 방향으로 게이트 전극(16)을 패터닝하여 캐소드 전극(12)과 게이트 전극(16)이 절연층에 의해 분리되며 격자 형상으로 배열 형성된다.3A is a cross-sectional view illustrating a process of manufacturing a cathode substrate, in which a cathode electrode 12 is deposited on the cathode substrate 10 and patterned in a column direction, and SiO 2 or the like is deposited on the cathode electrode 12. The same insulating layer (not shown) is formed by a deposition method, and the gate electrode 16 is deposited on the insulating layer to pattern the gate electrode 16 in a direction orthogonal to the cathode electrode 12 to form the cathode electrode 12 and the gate. The electrodes 16 are separated by an insulating layer and arranged in a lattice shape.

도 3b는 홀과 캐비티 그리고 에미터를 형성하는 공정을 도시한 공정 단면도로서, 게이트 전극(16)의 일단에 다수의 게이트 홀(20)을 형성하고, 이에 의해 노출된 절연층(18)을 제거하여 캐비티(22)를 형성한다. 이어서, 선행 공정에 의해 캐소드 기판(10)상에 캐소드 전극(12), 절연층(18), 게이트 전극(16), 게이트 홀(20) 및 캐비티(22)가 형성된 구조체를 회전시키면서 소정의 투사각을 갖는 전자빔 증착장치로 금속층을 형성하여 캐비티(22)의 내측에 날카로운 팁을 갖는 에미터(14)를 형성한다.3B is a cross-sectional view illustrating a process of forming a hole, a cavity, and an emitter, in which a plurality of gate holes 20 are formed at one end of the gate electrode 16, thereby removing the exposed insulating layer 18. To form the cavity 22. Subsequently, a predetermined projection angle is rotated while rotating the structure in which the cathode electrode 12, the insulating layer 18, the gate electrode 16, the gate hole 20, and the cavity 22 are formed on the cathode substrate 10 by the preceding process. A metal layer is formed by an electron beam evaporation apparatus having a to form an emitter 14 having a sharp tip inside the cavity 22.

도 3c는 애노드 기판을 형성하기 위한 공정을 도시한 공정 단면도로서, 애노드 기판(40)상에 ITO투명도전막으로 형성된 애노드 전극(42)을 형성하고, 그 위에 형광체(44)를 도포하여 소정 형상으로 패터닝한다.FIG. 3C is a cross-sectional view showing a process for forming an anode substrate. An anode electrode 42 formed of an ITO transparent conductive film is formed on an anode substrate 40, and a phosphor 44 is applied thereon to form a predetermined shape. Pattern.

도 4a와 도 4b는 FED 제조공정에서 스페이서를 원하는 장소에 위치시키기 위한 본 발명에 따른 하드 마스크(50)를 나타낸 것으로, 스페이서가 고정될 각각의 위치에 마스크 홀(56)이 형성된 서스 또는 세라믹 재질로 이루어진 기판(54)과, 기판(54)의 둘레면을 따라 설치되어 기판(54)의 인장력을 발생하는 프레임(52)으로 구성되고, 기판(54)의 후면에는 보호층(58)이 형성된다.4A and 4B illustrate a hard mask 50 according to the present invention for positioning a spacer at a desired place in an FED manufacturing process, wherein a mask or ceramic material having a mask hole 56 formed at each position to which the spacer is to be fixed is shown. And a frame 52 provided along the circumferential surface of the substrate 54 and generating a tensile force of the substrate 54. A protective layer 58 is formed on the rear surface of the substrate 54. do.

여기서, 기판(54)의 두께는 스페이서로 사용될 구형 스페이서(30)의 직경보다 다소 두껍게 제작되고, 마스크 홀(56)은 레이저를 이용하여 제작한다. 이에 의하면, 홀(56) 사이즈의 조절이 용이한 장점이 있다. 또한, 보호층(58)은 하드 마스크(50)의 기판(54)이 캐소드 기판(10) 또는 애노드 기판(40)에 밀착되게하여 그 사이에서 갭(Gap)이 발생하지 않게 하며, 감광제 또는 폴리머를 스핀코터(Spin coater) 방식으로 도포하여 형성한다.Here, the thickness of the substrate 54 is made somewhat thicker than the diameter of the spherical spacer 30 to be used as a spacer, the mask hole 56 is produced using a laser. According to this, there is an advantage that the size of the hole 56 can be easily adjusted. In addition, the protective layer 58 allows the substrate 54 of the hard mask 50 to be in close contact with the cathode substrate 10 or the anode substrate 40 so that a gap does not occur therebetween, and a photosensitive agent or polymer It is formed by applying a spin coater (Spin coater) method.

그리고, 이와같이 형성된 스크린 프린팅용 하드 마스크(50)를 도 5a에 도시된 바와 같이, 애노드 전극(42) 및 형광체(44)가 패터닝된 애노드 기판(40)상에 정렬시킨다.The hard mask 50 for screen printing thus formed is aligned on the anode substrate 40 on which the anode electrode 42 and the phosphor 44 are patterned, as shown in FIG. 5A.

스페이서로 사용할 구형의 스페이서(30)는 유리구슬을 사용하거나 또는 부도체인 재료도 사용 가능하며, 애노드 기판(40)에 위치된 후 고정되게 하기 위해 일정한 비율로 고착제(32)와 혼합된다. 고착제(32)의 재질은 진공 패키징을 위해 봉착제(60) 소결시 이와 동시에 소성변형이 일어날 수 있도록 봉착제(60)의 재질과 동일한 것이 바람직하며, 통상적으로 프릿유리 등이 봉착제(60)로서 이용되는 것을 가정하면 고착제(32)의 재질도 이와 동일한 것이 바람직하다.The spherical spacer 30 to be used as a spacer may be made of glass beads or a nonconducting material, and may be mixed with the fixing agent 32 in a predetermined ratio to be fixed after being placed on the anode substrate 40. The material of the fixing agent 32 is preferably the same as that of the sealing material 60 so that plastic deformation may occur at the same time when the sealing material 60 is sintered for vacuum packaging, and frit glass or the like is typically used as the sealing material 60. Assuming that it is used as, the material of the fixing agent 32 is also the same.

이와같은 상태에서, 도 5b에 도시된 바와 같이, 구형의 스페이서(30)를 스페이서 제작용 하드 마스크(50)상에 산란시켜 마스크 홀(56)을 통해 삽입되게 한다.In this state, as shown in FIG. 5B, the spherical spacer 30 is scattered on the hard mask 50 for manufacturing the spacer to be inserted through the mask hole 56.

이때, 하드 마스크(50)와 애노드 기판(40)은 보호층(58)에 의해 밀착되어 양자간의 간격이 밀접하게 유지되므로 구형의 스페이서(30)에 도포된 고착제(32)가 흐르거나 번지는 것을 방지하게 된다. 따라서, 고착되지 않은 고착제(32)에 의해 형광체가 덮이는 것을 방지할 수 있다.At this time, since the hard mask 50 and the anode substrate 40 are closely contacted by the protective layer 58 and the gap between them is maintained closely, the fixing agent 32 applied to the spherical spacer 30 flows or smears. Will be prevented. Therefore, it is possible to prevent the phosphor from being covered by the fixing agent 32 which is not fixed.

한편, 상술한 공정에서는 애노드 기판(40)상에 스페이서(30)를 형성하는 공정을 설명하고 있으나, 스페이서(30)가 캐소드 기판(10)상에 형성되게 하는 것도 가능할 것이다.Meanwhile, in the above-described process, the process of forming the spacer 30 on the anode substrate 40 is described. However, the spacer 30 may be formed on the cathode substrate 10.

그리고, 도 5c 및 도 5d에 도시된 바와 같이, 가열공정을 통해 고착제(32)에 함유된 수분 및 바인더를 제거하여 스페이서(30)를 고착시킨 후, 스페이서(30)가 형성된 기판을 다른 한 기판에 정렬시킨 후 진공 패키징 공정으로 접합하여 FED 패널을 형성한다.5C and 5D, after the spacer 30 is fixed by removing moisture and binder contained in the fixing agent 32 through a heating process, the substrate on which the spacer 30 is formed is replaced with another substrate. After aligning, the bonding is performed by a vacuum packaging process to form a FED panel.

이와같은 진공 패키징 공정은 배기공정을 통해 패널의 진공을 유지하면서 이루어지며, 프릿유리 재질의 봉착제(60)를 약 400℃ 이상의 온도에서 소결하여 패널을 밀봉시킨다. 이때, 소정 압력으로 애노드 기판(40)과 캐소드 기판(10)을 압착하게 되는데, 프릿유리 재질로 이루어진 고착제(32)도 소결온도에서 소성변형이 일어나 패널간의 내부간격이 스페이서(30)와 동일하게 형성된다.This vacuum packaging process is performed while maintaining the vacuum of the panel through the exhaust process, the sealing material 60 of the frit glass material is sintered at a temperature of about 400 ℃ or more to seal the panel. At this time, the anode substrate 40 and the cathode substrate 10 are pressed at a predetermined pressure, and the fixing agent 32 made of frit glass material also undergoes plastic deformation at the sintering temperature, so that the internal spacing between the panels is the same as that of the spacer 30. Is formed.

이상은 본 발명을 바람직한 실시예와 관련하여 설명한 것으로, 본 발명의 기술적 사상은 이와 같은 것에 한정되지 않으며 청구된 범위내에서 요지의 변경없이 수정 및 변경을 가할 수 있을 것이다.The foregoing has described the present invention with reference to the preferred embodiments, and the technical idea of the present invention is not limited thereto, and modifications and changes may be made without changing the scope within the scope of the claims.

위에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조방법에 의하면, 간단한 스크린 프린팅 방법으로 스페이서를 원하는 장소에 정확하게 위치시킬 수 있게 됨으로써 제조공정이 크게 단축되고 스페이서의 높이를 균일하게 유지할 수 있게 된다.As described above, according to the spacer manufacturing method of the field effect electron emission display device according to the present invention, the spacer can be accurately positioned at a desired place by a simple screen printing method, thereby greatly shortening the manufacturing process and maintaining the height of the spacer uniformly. It becomes possible.

또한, 스페이서를 위치시키기 위한 하드 마스크와 기판이 보호층에 의해 밀착되어 구형의 스페이서에 도포된 고착제가 흐르거나 번지는 것을 방지하므로, 고착제가 형광체를 덮게됨으로써 해상도가 저하되는 것을 방지할 수 있으며, 유리 재질로 이루어진 구형의 스페이서를 이용하면 종래의 유전체 페이스트를 이용한 스페이서 제조공정에 비해 공정을 단축시킬 수 있게되고, 소자의 오염을 줄일 수 있게 되어 패널 제작시 수율(Yeild)을 크게 향상시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In addition, since the hard mask and the substrate for positioning the spacer are closely contacted by the protective layer to prevent the fixer applied to the spherical spacer from flowing or smearing, the fixer covers the phosphor to prevent the resolution from being lowered. Using a spherical spacer made of glass material can shorten the process compared to the conventional spacer manufacturing process using a dielectric paste, and can reduce the contamination of the device, thereby greatly improving the yield in panel manufacturing. The effect can be obtained.

Claims (8)

전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조방법에 있어서,In the spacer manufacturing method of the field effect electron emission display device, 스페이서를 원하는 장소에 위치시킬 수 있도록 홀을 형성한 서스 또는 세라믹 재질의 마스크를 형성하는 단계와,Forming a mask made of sus or ceramic material in which holes are formed to position the spacers in a desired place; 구형의 스페이서와 고착제를 혼합하는 단계와,Mixing the spherical spacer and the fixing agent, 마스크를 기판에 정렬하는 단계와,Aligning the mask to the substrate, 상기 혼합체를 도포하여 홀에 삽입시켜 기판에 부착하는 단계와,Applying the mixture and inserting the mixture into a hole and attaching the mixture to a substrate; 상기 고착제를 건조시켜 스페이서를 고정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조방법.And drying the fixing agent to fix the spacers. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구형의 스페이서는 유리 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조방법.The spherical spacer is a method of manufacturing a spacer of a field effect electron emission display device, characterized in that made of a glass material. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스페이서가 애노드 기판상에 형성되는 것을 특징으로 하는 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조방법.And the spacer is formed on the anode substrate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스페이서가 캐소드 기판상에 형성되는 것을 특징으로 하는 전계효과 전자방츨 표시소자의 스페이서 제조방법.And the spacer is formed on the cathode substrate. 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조장치에 있어서,In the spacer manufacturing apparatus of the field effect electron emission display device, 스페이서가 고정될 위치에 마스크 홀이 형성된 서스 또는 세라믹 재질의 기판과,A substrate made of sus or ceramic material having a mask hole formed at a position where the spacer is to be fixed; 상기 기판의 둘레면을 따라 설치되어 상기 기판의 인장력을 발생하는 프레임과,A frame installed along a circumferential surface of the substrate to generate a tensile force of the substrate; 상기 기판을 상기 캐소드 기판 또는 상기 애노드 기판과 밀착시킬 수 있도록, 상기 기판의 후면에 도포된 보호층으로 구성되는 것을 특징으로 하는 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조용 하드 마스크.And a protective layer coated on a rear surface of the substrate so that the substrate is in close contact with the cathode substrate or the anode substrate. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 기판은 상기 구형 스페이서의 직경보다 더 두꺼운 두께로 제작되는 것을 특징으로 하는 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조용 하드 마스크.The substrate is a hard mask for manufacturing a spacer of the field effect electron emission display device, characterized in that the thickness is made thicker than the diameter of the spherical spacer. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 마스크 홀은 레이저로 가공되는 것을 특징으로 하는 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조용 하드 마스크.The mask hole is a hard mask for manufacturing a spacer of the field effect electron emission display device, characterized in that the laser processing. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 보호층은 감광제나 폴리머를 스핀코터 방식으로 도포하여 구성된 것을 특징으로 하는 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조용 하드 마스크.The protective layer is a hard mask for manufacturing a spacer of a field effect electron emission display device, characterized in that formed by applying a photosensitive agent or polymer in a spin coater method.
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