KR19990030011U - 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템 - Google Patents

Abstract

본 고안은 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템에 관한 것으로서, 공저진행중에 냉각용가스의 누설이 있어 공정실 직전에서 냉각용가스의 흐름을 제어하는 밸브를 교체할 필요가 있는 경우를 대비하여 소정의 위치에 수동차폐밸브를 설치하여 구성한 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템을 제공, 상기의 경우 수동차폐밸브를 닫아 공정실로 혹은 공정실과 타 밸브쪽으로 외기가 유입되는 것을 막은 상태에서 교체작업을 하는 것이 가능하도록 하여 공정실 등의 오염을 방지할 수 있어 세정에 요하는 시간과 노력을 절감할 수 있게 된 것이다.

Description

웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템

본 고안은 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템에 관한 것으로서, 특히 공정실 직전에 위치하는 밸브가 고장나 누설이 발생하는 경우 공정실을 오염시키지 않고 그 밸브를 교체할 수 있도록 되는 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템에 관한 것이다.

식각장비 중 케미컬에 웨이퍼를 담그는 습식각방식이 아니라 고온의 플라즈마를 이용하는 건식각방식으로 되는 장비의 경우에는, 노광된 웨이퍼를 공정실 내부의 척상면에 고정한 상태에서 플라즈마를 발생시켜 웨이퍼를 식각하도록 하고 있는데, 이러한 경우 웨이퍼가 지나치게 고온으로 되면 감광제가 부착되어 있어야 하는 부분의 감광제가 녹아 흘러내리는 등 불량이 발생하게 되므로, 척과 웨이퍼의 사이에 일정한 공간이 형성되도록 하고 척의 내부에 가스유로를 관통 형성하여 공정중 헬륨과 같은 냉각용가스를 상기 공간을 공급하여 냉각용가스가 웨이퍼의 배면과 접촉하며 유동하여 웨이퍼를 냉각하도록 하고 있다.

또한 이러한 냉각용가스가 공정실에 유출되는 경우에는 진공에 가깝게 유지되어야 하는 공정실이 오염되게 되어 공정에 좋지 않은 영향을 미치게 되므로, 공정이 종료된 웨이퍼를 척으로부터 들어내기 전에는 웨이퍼의 배면과 척의 상면 사이에 있던 냉각용가스를 다시 뽑아내도록 하고 있다.

본 고안은 이렇게 냉각용가스를 척으로 공급하거나 척으로부터 배기하도록 하는 시스템인 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템에 관한 것인데, 종래의 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템은, 도 1 에 도시한 바와 같이, V○○와 같이 표시된 다수개의 밸브와, MFC로 표시된 유량제어기, PUMP로 표시된 펌프등과 상기 밸브, 유량제어기, 펌프등을 서로 연결하고 있는 선으로 표시된 가스라인으로 구성되게 된다.

상기 밸브중 V22 밸브는 공정실 직전에 설치되어 냉각용가스의 흐름을 제어하는 밸브인데, 냉각용가스를 배기할 때 뿐만이 아니라 공급할 때도 중요하게 작용하여 V22 밸브가 고장으로 가스누설이 있는 경우에는 냉각용가스의 공급량이 부족하게 되며 이때는 V22밸브를 교체하게 된다.

그런데 상기한 바와 같은 구조로 되는 본 고안에 의한 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템에서 상기 공정실 직저네 설치된 밸브를 교체하는 작업을 진행하는 경우에는 공정실이 진공으로 유지되지 못하고 교체를 위한 밸브의 분리에 외기에 노출되어 대기압으로 되게 되며, 이에 따라 공정실 내부가 오염되게 되어 장시간에 걸친 세정을 해야하는 문제점이 있었다.

따라서 상기한 바와 같은 문제점을 인식하여 안출된 본 고안의 목적은 공정실 직전에 설치된 밸브의 교체시 공정실이 오염되는 것을 방지하는데 적합한 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템을 제공하고자 하는 것이다.

도 1 은 종래의 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템의 구성을 도시한 장치도.

도 2 는 본 고안의 일실시례에 의한 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템의 구성을 도시한 장치도.

상기한 바와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 식각장비의 공정실 내부 척상에 놓인 웨이퍼의 배면으로 냉각용가스를 공급하고 배기하기 위한 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템에 있어서; 상기 공정실 직전에서 냉각용가스의 흐름을 제어하는 밸브와 공정실 사이에는 수동차폐밸브를 설치한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템이 제공된다.

본 고안의 일실시례에 의한 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템의 구성을 도시한 장치도인 도 2 에 도시한 바와 같이, 종래의 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템과의 차이점은 공정실 직전에 설치되어 냉각용가스의 흐름을 제어하는 밸브인 V22와 공정실의 사이에 냉각용가스가 흐르는 가스라인을 차폐하는 것이 가능한 V27로 표시된 수동차폐밸브를 설치한다는 점에 있다.

상기 V22의 직후에 설치되는 V27외에도, 도시하지 않았으나, V22의 직전에 또 하나의 수동차폐밸브를 설치하는 것도 바람직한데, 이는 교체작업시 타밸브의 오염을 방지하기 위함이다.

상기한 바와 같은 구조로 되는 본 고안에 의한 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템은 공정진행 중에는 V27등의 수동차폐밸브가 개방된 상태로 있어 아무런 작용을 행하지 않아 그러한 수동차폐밸브가 설치되지 않은 종래의 것과 동일한 작용을 행하다가, 웨이퍼 배면에 냉각용가스를 공급하는 중에 누설이 발생되면 수동 차폐밸브를 닫은 후 V22밸브를 교체하게 된다.

상기한 바와 같은 구조로 되는 본 고안에 의한 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템은, 공정진행중에 냉각용가스의 누설이 있어 공정실 직전에서 냉각용가스의 흐름을 제어하는 밸브를 교체할 필요가 있는 경우에는 수동차폐밸브를 닫아 공정실로 혹은 공정실과 타 밸브쪽으로 외기가 유입되는 것을 막은 상태에서 교체작업을 하는 것이 가능하여 공정실등의 오염을 방지할 수 있어 이의 세정에 요하는 시간과 노력을 절감할 수 있는 효과가 있다.

Claims (2)

1. 식각장비의 공정실 내부 척상에 놓인 웨이퍼의 배면으로 냉각용가스를 공급하고 배기하기 위한 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템에 있어서; 상기 공정실 직전에서 냉각용가스의 흐름을 제어하는 밸브와 공정실 사이에는 수동차폐밸브를 설치한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 공정실 직전에서 냉각용가스의 흐름을 제어하는 밸브의 직전에도 수동차폐밸브가 설치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 배면 냉각용가스 공급 및 배기 시스템.