KR19990029514U - In-line double-sided exposure device - Google Patents

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Abstract

소재의 양면을 동시에 노광할 수 있도록 된 인라인형 양면 노광장치가 개시되어 있다.An inline double-sided exposure apparatus is disclosed which enables both surfaces of a material to be exposed simultaneously.

이 인라인형 양면 노광장치는 박판의 소재가 감긴 공급릴과; 공급릴에서 공급되는 소재의 양면 각각에 연속적으로 감광막을 부착하는 감광막부착수단과; 감광막 부착수단을 통과한 감광막이 부착된 소재의 장력 조절에 의해 공급타이밍을 조절하는 타이밍 조절수단과; 제2프로파일과, 제2프로파일 내부의 상,하부에 각각 설치된 자외선램프와, 소재와 두 자외선램프 사이에 각각 개폐 가능하게 위치되어 두 자외선램프에서 조사된 광을 투과 또는 차단시키는 브라인더와, 소재의 양면에 각각 밀착되며 소정 패턴을 갖는 한쌍의 마스크와, 마스크를 가동하는 마스크 가동수단을 포함하는 노광수단과; 노광수단에 의해 노광이 완료된 소재를 이송하는 이송수단과; 이송수단을 통과한 소재가 감기는 수용릴;을 구비하여 된 것을 특징으로 한다.The inline double-sided exposure apparatus includes a supply reel in which a thin sheet of material is wound; Photosensitive film attachment means for continuously attaching the photosensitive film to each of both surfaces of the material supplied from the supply reel; Timing adjusting means for adjusting the supply timing by adjusting the tension of the material having the photosensitive film passing through the photosensitive film attaching means; A second profile, an ultraviolet lamp disposed at the upper and lower portions of the second profile, respectively, a blender positioned between the material and the two ultraviolet lamps so as to be opened and closed, and transmitting or blocking light emitted from the two ultraviolet lamps; Exposure means including a pair of masks in close contact with both surfaces of the mask and having a predetermined pattern, and mask moving means for moving the mask; Conveying means for conveying the material whose exposure has been completed by the exposure means; Characterized in that it comprises a; receptacle winding the material passed through the conveying means.

Description

인라인형 양면 노광장치In-line double-sided exposure device

본 고안은 소재의 양면을 동시에 노광할 수 있도록 된 양면 노광장치에 관한 것으로서, 상세하게는 감광성 드라이 필름 부착 및 노광공정을 인라인(in-line) 작업으로 수행할 수 있도록 된 인라인형 양면 노광장치에 관한 것이다.The present invention relates to a double-sided exposure apparatus that is capable of simultaneously exposing both sides of the material, and more particularly, to an in-line double-sided exposure apparatus that can perform the photosensitive dry film attaching and exposing process by in-line work. It is about.

일반적으로 반도체 리드프레임은 반도체 칩과 함께 반도체 패키지를 이루는 핵심 구성요소로서, 반도체 패키지의 내부와 외부를 연결해 주는 도선(lead)의 역할과 반도체 칩을 지지해는 지지체의 역할을 한다.In general, a semiconductor lead frame is a core component of a semiconductor package together with a semiconductor chip, and serves as a lead connecting the inside and the outside of the semiconductor package and a support for supporting the semiconductor chip.

이 반도체 리드프레임은 통상 스탬핑(stamping)공정 또는 식각고정에 의해 제조되는데, 상기한 스탬핑공정은 프레스 금형장치를 이용하여 순차적으로 이송되는 박판의 소재를 소정 형상으로 타발하여 제품을 형성하는 제조방법이다. 반면, 상기 식각공정은 화학약품을 이용하여 원하는 부분을 부식시키는 화학적방법에 의해 제품을 형성하는 제조방법이다.The semiconductor lead frame is usually manufactured by a stamping process or an etching fixation process. The stamping process is a manufacturing method for forming a product by punching a thin sheet of material sequentially transferred using a press mold apparatus into a predetermined shape. . On the other hand, the etching process is a manufacturing method for forming a product by a chemical method to corrode a desired portion using a chemical.

최근 반도체 리드프레임은 반도체 칩의 고집적화와 박형화 추세에 따라 소형이면서 미세 피치를 갖는 제품이 요구되고 있다. 이러한 제품은 미세 피치의 형성등을 위한 정밀도가 요구되므로, 주로 상기한 식각고정에의해 제조되는 추세이다. 상기 식각공정의 일예에 의하면, 박판의 소재 표면에 포터레지스트(photoresist)를 코팅하고, 그 위에 소정 패턴을 갖는 마스크를 고정시킨 후 빛을 조사하는 노광공정과, 화학약품에 의해 노광된 부분 혹은 노광되지 않은 부분을 제거하므로써 소정 패턴을 갖는 리드프레임이 제조된다.Recently, the semiconductor lead frame has been required to have a small size and a fine pitch according to the trend of high integration and thinning of semiconductor chips. Since such products require precision for formation of fine pitch, etc., they are mainly manufactured by the above-described etching fixing. According to one example of the etching process, a photoresist is coated on the surface of the thin plate material, an exposure process of irradiating light after fixing a mask having a predetermined pattern thereon, and a portion or exposure exposed by chemicals By removing the portion that is not present, a lead frame having a predetermined pattern is manufactured.

상기한 식각고정에 의해 리드프레임 제조시, 소재의 일면에 마스크를 위치시킨 후 노광 및 식각하는 경우, 다른 면에서의 패턴 정밀도가 떨어지므로, 미세 피치의 장애요소가 된다. 이러한 점을 고려하여, 소재의 양면을 동시에 노광하는 공정이 개시된 바 있다.When the lead frame is manufactured by the above-mentioned etching fixation, when the mask is placed on one surface of the raw material and then exposed and etched, the pattern precision on the other surface is lowered, which is a barrier to fine pitch. In view of this point, a process of simultaneously exposing both surfaces of a material has been disclosed.

도 1은 종래의 리드프레임 제조용 노광장치를 보인 개략적인 단면도이다. 이를 참조하면, 종래의 노광장치는 케이스(10)와, 소재(1)의 이송을 가이드하는 가이드대(미도시)와, 상기 케이스(10) 내부의 상,하부에 각각 대칭적으로 설치된 자외선램프(20)(30)와, 상기 소재(1)와 상기 두 자외선램프(20)(30) 사이에 각각 위치되어 상기 자외선램프(20)(30)에서 조사된 광을 투과 또는 차단시키는 브라인더(blinder)(21)(31)와, 상기 소재(1)의 양면에 각각 밀착되며 소정 패턴을 갖는 한쌍의 마스크(41)(43)와, 상기 한쌍의 마스크(41)(43)가 각각 탑재되며 이를 유동시키는 마스크 가동수단(40)으로 구성된다.1 is a schematic cross-sectional view showing an exposure apparatus for manufacturing a conventional lead frame. Referring to this, the conventional exposure apparatus has a case 10, a guide table (not shown) for guiding the transfer of the raw material 1, and an ultraviolet lamp installed symmetrically on the upper and lower portions of the case 10, respectively. (20) 30, a blender positioned between the material (1) and the two ultraviolet lamps (20, 30), respectively, to transmit or block the light emitted from the ultraviolet lamps (20, 30) ( a pair of masks (41) (43) and a pair of masks (41) (43), which are in close contact with both sides of the blinder (21) (31), each of the material (1), and have a predetermined pattern, respectively. It consists of a mask movable means 40 for flowing it.

상기 소재(1)는 상기 케이스(10)의 외부에 위치된 한쌍의 릴(미도시) 각각에 감기며, 소정 피치씩 연속하여 상기 케이스(10) 내부로 공급된다. 상기 케이스(10) 내로 공급되는 소재의 양면에는 노광시 감광될 수 있도록 드라이필름이 도포된다.The material 1 is wound around each of a pair of reels (not shown) positioned outside the case 10, and is supplied into the case 10 continuously by a predetermined pitch. On both sides of the material supplied into the case 10, a dry film is applied to be exposed to light during exposure.

상기 한쌍의 마스크(41)(43) 각각은 서로 대칭적인 피치 패턴을 가지며, 상기 소재(10)의 공급시 그 양면 각각에 위치된 피치 패턴은 서로 매치되어야 한다. 이를 위하여 상기 마스크 가동수단(40)은 두 마스크(41)(43)를 상기 소재(10)의 양면에 접촉시킨 후, 진공흡착을 통해 밀착시킨다. 이후, 카메라를 이용하여 촬상하고, 이를 모니터링하면서, 상기 마스크 가동수단(10)을 미세 이동시켜 상기 두 마스크(41)(43)를 일치시킨다. 이후, 상기 자외선램프(20)(30)가 점등됨과 동시에 상기 블라이더(21)(31)가 개구되어 상기 자외선램프(20)(30)로부터 상기 마스크(41)(43)로 광이 조사된다. 상기 마스크(41)(43)의 패턴에 따라 상기 드라이필름은 감광된다. 이후, 상기 블라이더(21)(31)가 닫히고, 상기 자외선램프(20)(30)는 점멸된다. 그리고, 상기 마스크가동수단(40)이 상기 마스크(41)(43)를 상기 소재(1)로부터 일탈 시키며, 상기 소재(1)가 상기 가이드대(미도시)를 통해 소정 피치 이송하며, 후공정을 걸쳐 리드프레임이 제조된다.Each of the pair of masks 41 and 43 has a symmetrical pitch pattern, and when the material 10 is supplied, the pitch patterns positioned on each of both surfaces thereof must match each other. To this end, the mask movable means 40 contacts the two masks 41 and 43 to both surfaces of the material 10 and then closes them by vacuum adsorption. Subsequently, imaging is performed using a camera, and the mask movable means 10 is finely moved to match the two masks 41 and 43 while monitoring the same. Thereafter, the ultraviolet lamps 20 and 30 are turned on and the bladder 21 and 31 are opened to emit light from the ultraviolet lamps 20 and 30 to the masks 41 and 43. . The dry film is exposed to the pattern of the masks 41 and 43. Thereafter, the bladders 21 and 31 are closed, and the ultraviolet lamps 20 and 30 blink. The mask moving means 40 deviates the masks 41 and 43 from the material 1, and the material 1 transfers a predetermined pitch through the guide post (not shown). Leadframes are fabricated throughout.

상기한 바와 같은, 종래의 노광장치는 연속공정 즉, 인라인(in-line)공정으로 리드프레임을 제조할 수 있는 잇점이 있으나, 상기한 마스크 가동장치를 채용하여 상기 마스크를 얼라인 하므로 매 공정마다 마스크의 위치를 모니터링하고 이를 통해 얼라인 하여야 하므로, 리드프레임의 제조공정 시간이 오래 걸리는 단점이 있다.As described above, the conventional exposure apparatus has an advantage that the lead frame can be manufactured in a continuous process, that is, an in-line process. However, the mask moving apparatus is used to align the mask so that every exposure process is performed. Since the position of the mask needs to be monitored and aligned, the manufacturing process of the lead frame takes a long time.

따라서, 본 고안은 상기한 바와 같은 단점을 극복하기 위하여 안출된 것으로서, 미리 마스크를 얼라인하고, 두 마스크를 소재에 공압에 의해 하드 접촉시킬 수 있도록 하여 노광시간을 대폭 단축할 수 있도록 된 인라인형 양면 노광장치를 제공하는데 그 목적이 있다.Therefore, the present invention was devised to overcome the above-mentioned disadvantages, and the in-line type in which the mask is aligned in advance and the two masks can be hard-contacted by the pneumatic material to greatly shorten the exposure time. The object is to provide a double-sided exposure apparatus.

도 1은 종래의 리드프레임 제조용 노광장치를 보인 개략적인 단면도.1 is a schematic cross-sectional view showing an exposure apparatus for manufacturing a conventional lead frame.

도 2는 본 고안의 실시예에 따른 인라인형 양면 노광장치를 보인 개략적인 단면도.Figure 2 is a schematic cross-sectional view showing an inline double-sided exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 고안에 따른 감광막부착수단을 보인 개략적인 단면도.Figure 3 is a schematic cross-sectional view showing a photosensitive film attachment means according to the present invention.

도 4는 도 3의 평면도.4 is a plan view of FIG.

도 5는 본 고안에 따른 마스크 가동수단을 보인 개략적인 분리사시도.Figure 5 is a schematic exploded perspective view showing a mask movable means according to the present invention.

도 6은 본 고안에 따른 마스크 가동수단을 보인 개략적인 단면도.Figure 6 is a schematic cross-sectional view showing a mask movable means according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1...리드프레임 소재 3...감광막 3...테이프1 ... Lead frame material 3 ... Photosensitive film 3 ... Tape

50...공급릴 60...수용릴 100...감광막 부착수단50.Supply reel 60 ... Acceptor reel 100

110...제1프로파일 120...예열수단110 First profile 120 Preheating means

121,122...제1예열용 로울러부재 123,124...제2예열용 로울러부재121,122 ... 1st preheat roller member 123,124 ... 2nd preheat roller member

130...압착로울러부재 131,132...제1압착로울러부재130 ... Pressure roller member 131,132 ... First compression roller member

133,134...제2압착로울러부재 140,141...공급로울러부재133,134 ... 2nd compression roller member 140,141 ... supply roller member

145,146...감기로울러부재 150...구동원 155,156,157...동력전달부145,146 Winding member 150 Driving force 155,156,157 Power transmission

160...타이밍 조절수단 161...아암 163...회전부재160 Timing adjustment means 161 Arm 163 Rotating member

165...탄성부재 200...노광수단 210...제2프로파일165 Elastic members 200 Exposure means 210 Second profile

220,230...자외선램프 221,223...브라인드 301...제1고정부재220,230 UV lamp 221,223 BIND 301 1st fixing member

310...제1개구부 320...제1마스크 401...제2고정부재310 ... first opening 320 ... first mask 401 ... second fixing member

410...제2개구부 420...몸체부 430...플랜지부410.2nd opening 420.Body 430.Flange

440...제2마스크 450...승강부재 460...설치홈440 ... 2nd mask 450 ... elevation member 460 ... installation groove

500...승강수단 510...가이드 포스트 511...가이드부재500 Lifting means 510 Guide post 511 Guide member

513...가이드홈 520...공압실린더 521...실린더몸체513 Guide groove 520 Pneumatic cylinder 521 Cylinder body

523...로드 600...위치조정수단523 ... rod 600 ... position adjusting means

610...위치조정나사 611...회동부 613...가동부610 Positioning screw 611 Rotating part 613 Moving part

613,621...로울러 620...탄성바이어스부재 700...이송수단613,621 Roller 620 ... Elastic bias member 700 ... Transport means

710...제3프로파일 711...가이드레일 720...제1스토퍼710 ... 3rd profile 711 ... Guide rail 720 ... 1st stopper

730...제2스토퍼 740...그리퍼730 ... 2nd stopper 740 ... gripper

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 고안에 따른 인라인형 양면 노광장치는, 박판의 소재가 감긴 공급릴과; 상기 소재가 출입할 수 있도록 된 입구와 출구를 갖는 제1프로파일과, 상기 제1프로파일 내에 위치된 예열수단과, 상기 소재의 상하와 마주하도록 형성되어 감광막을 부착시키는 압착로울러부재와, 압착로울러부재 각각에 감광막을 공급하는 공급로울러부재와, 상기 압착로울러부재와 공급로울러부재를 구동하는 구동원과, 상기 구동원의 동력을 전달하는 동력전달부를 포함하여 상기 공급릴에서 공급되는 소재의 양면 각각에 연속적으로 감광막을 부착하는 감광막부착수단과; 상기 제1프로파일에 힌지 결합된 아암과, 상기 아암의 단부에 회전 가능하게 설치되며 상기 소재와 접촉되는 회전부재 및, 상기 아암의 힌지 주변에 설치되어 상기 아암의 일방향으로 탄성력을 제공하는 탄성부재를 포함하여, 상기 감광막 부착수단을 통과한 감광막이 부착된 소재의 장력 조절에 의해 공급타이밍을 조절하는 타이밍 조절수단과; 제2프로파일과, 상기 제2프로파일 내부의 상,하부에 각각 설치된 자외선램프와, 상기 소재와 상기 두 자외선램프 사이에 각각 개폐 가능하게 위치되어 상기 두 자외선램프에서 조사된 광을 투과 또는 차단시키는 브라인더와, 상기 소재의 양면에 각각 밀착되며 소정 패턴을 갖는 한쌍의 마스크와, 상기 마스크를 가동하는 마스크 가동수단을 포함하는 노광수단과; 상기 노광수단에 의해 노광이 완료된 소재를 이송하는 이송수단과; 상기 이송수단을 통과한 소재가 감기는 수용릴;을 구비하여 된 것을 특징으로 한다.Inline type double-sided exposure apparatus according to the present invention in order to achieve the above object, and a feed reel wound of a thin material; A first profile having an inlet and an outlet through which the material can enter and exit, a preheating means located in the first profile, a compression roller member formed to face the top and bottom of the material, and a photoresist film attached thereto, and a compression roller member A supply roller member for supplying a photosensitive film to each one, a driving source for driving the compression roller member and the supply roller member, and a power transmission unit for transmitting power of the driving source, each continuously on both sides of the material supplied from the supply reel. Photosensitive film attachment means for attaching a photosensitive film; An arm hinged to the first profile, a rotating member rotatably installed at an end of the arm and in contact with the material, and an elastic member installed around the hinge of the arm to provide elastic force in one direction of the arm; And timing adjustment means for adjusting the supply timing by adjusting the tension of the material with the photosensitive film passing through the photosensitive film attachment means. A brine for transmitting or blocking the light emitted from the two UV lamps, respectively located in the second profile, the upper and lower UV lamps installed in the upper and lower portions of the second profile, and open and close between the material and the two UV lamps. Furthermore, exposure means including a pair of masks which are in close contact with both surfaces of the material and have a predetermined pattern, and mask moving means for moving the mask; Transfer means for transporting the material whose exposure has been completed by the exposure means; It characterized in that it comprises a; receptacle winding the material passed through the conveying means.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 고안의 실시예에 따른 인라인형 양면 노광장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, an inline double-sided exposure apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 고안의 실시예에 따른 인라인형 양면 노광장치를 보인 개략도이다.2 is a schematic view showing an inline double-sided exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 노광 대상 소재(1) 예컨대, 리드프레임 소재는 공급릴(50)과 수용릴(60)에 감긴채로 연속으로 이송되면서, 감광막(3)의 부착 및 노광이 행해진다. 이를 위하여 인라인형 양면 노광장치는 공급릴(50)과 수용릴(60) 사이에는 순차로 상기 공급릴(50)에서 공급되는 소재(1)의 양면 각각에 연속적으로 감광막(3)을 부착하는 감광막 부착수단(100)과, 상기 감광막 부착수단(100)을 통과한 감광막이 부착된 소재(1)의 장력 조절에 의해 공급 타이밍을 조절하는 타이밍 조절수단(160)과, 감광막(3)이 도포된 양면 각각에 소정 패턴의 마스크를 위치시킨 후 자외선 광을 조사하여 노광하는 노광수단(200)과, 상기 노광수단(200)을 통과한 노광이 완료된 소재(1)를 이송하는 이송수단(700)을 포함하여 구성된다.As shown, the exposure target material 1, for example, the lead frame material, is continuously transferred while being wound around the supply reel 50 and the accommodation reel 60, and the attachment and exposure of the photosensitive film 3 are performed. To this end, the in-line double-sided exposure apparatus is a photosensitive film for sequentially attaching the photosensitive film 3 to each of both surfaces of the material (1) supplied from the supply reel 50 in sequence between the supply reel 50 and the receiving reel (60) The timing adjusting means 160 for adjusting the supply timing by adjusting the tension of the attachment means 100, the material 1 with the photosensitive film passing through the photosensitive film attachment means 100, and the photosensitive film 3 is coated After placing a mask of a predetermined pattern on each side of the exposure means 200 for irradiating ultraviolet light and exposed, and the conveying means 700 for conveying the exposed material 1 through the exposure means 200 is completed. It is configured to include.

상기한 바와 같이, 구성된 인라인형 양면 노광장치는 상기한 소재(1)의 흐름에 있어서, 상기 공급릴(50)과 상기 감광막 부착수단(100)을 통과하는 경우 연속적으로 진행된다. 반면, 상기 노광수단(200)에서는 정지에 의해 소재(1)의 양면에 노광을 행하고, 다시 진행하는 방식으로 노광공정이 수행되므로 단속적으로 소재(1)가 이송된다. 즉, 노광공정시 상기 노광수단(200)에서의 상기한 소재(1)는 정지하며, 상기 공급릴(50)에서는 연속적으로 공급된다. 이때, 상기한 타이밍 조절수단(160)은 공급되는 소재(1)가 느슨해지는 것을 방지한다. 상기 이송수단(700)은 상기 노광수단(200)의 노광 타이밍에 맞추어 동작되며, 소재(1)의 이동시 상기 소재(1)를 잡아당긴다. 상기 수용릴(60)은 구동모터에 의해 감기는 방향으로 힘을 받으며, 상기 노광수단(200) 및 이송수단(700)에 의해 소재(1)의 이송이 정지시 클러치(미도시)에 의해 멈추게 된다.As described above, the constructed in-line double-sided exposure apparatus proceeds continuously when passing through the supply reel 50 and the photosensitive film attachment means 100 in the flow of the material (1). On the other hand, in the exposure means 200, the exposure process is performed in such a way that the exposure is performed on both surfaces of the material 1 by stopping and proceeding again, so that the material 1 is intermittently transferred. That is, in the exposure process, the material 1 in the exposure means 200 stops, and the supply reel 50 is continuously supplied. At this time, the timing adjusting means 160 prevents the material 1 supplied from being loosened. The transfer means 700 is operated in accordance with the exposure timing of the exposure means 200, and pulls the material (1) when the material (1) moves. The accommodating reel 60 receives a force in a winding direction by a driving motor, and stops by a clutch (not shown) when the transfer of the material 1 is stopped by the exposure means 200 and the conveying means 700. do.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 노광막 부착수단(100), 타이밍 조절수단(160), 노광수단(200) 및 이송수단(700) 각각의 구조 및 동작을 상세히 설명한다.Hereinafter, the structures and operations of the exposure film attaching means 100, the timing adjusting means 160, the exposure means 200, and the transfer means 700 will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 고안의 실시예에 따른 노광막 부착수단(100) 및 타이밍 조절수단(160)을 보인 개략적인 단면도이고, 도 4는 도 3의 평면도이다.3 is a schematic cross-sectional view showing the exposure film attaching means 100 and the timing adjusting means 160 according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a plan view of FIG.

도시된 바와 같이, 노광막 부착수단(100)은 소재(1)가 출입할 수 있도록 된 입구(111)와 출구(112)를 갖는 제1프로파일(110)과, 상기 제1프로파일(110) 내에 위치된 예열수단(120)과, 소재(1)의 상하에 마주하도록 쌍으로 형성된 두쌍의 압착로울러부재(130)와, 압착로울러부재(130) 각각에 감광막(3)을 공급하는 공급로울러부재(140)(141)와, 상기 공급로울러부재(140)(141)에 감겨있던 감광막(3) 이외의 테이프(4)를 감는 감기로울러부재(142)(143)와, 상기 압착로울러부재(130)를 통과한 감광막이 부착된 소재(1)의 이송을 가이드하는 가이드로울러부재(145)(146)와, 상기 예열수단(120)과 압착로울러부재(130)와 상기 가이드로울러부재(145)(146)를 구동하는 구동원(150) 및, 상기 구동원(150)의 동력을 전달하는 동력전달부(155)(156)(157)를 포함하여 구성된다.As shown, the exposure film attaching means 100 includes a first profile 110 having an inlet 111 and an outlet 112 through which the material 1 can enter and exit, and within the first profile 110. A supply roller member for supplying the photosensitive film 3 to each of the preheating means 120 positioned, the pair of pressing roller members 130 formed in pairs so as to face the upper and lower sides of the raw material 1, and the pressing roller members 130. 140 and 141, winding roller members 142 and 143 which wind the tape 4 other than the photosensitive film 3 wound around the supply roller members 140 and 141, and the compression roller member 130. Guide roller members 145 and 146 for guiding the transfer of the photosensitive film 1 having passed therethrough, the preheating means 120, the compression roller member 130, and the guide roller members 145 and 146. ) Is configured to include a driving source 150 for driving) and power transmission units 155, 156, and 157 for transmitting power of the driving source 150.

상기 예열수단(120)은, 도시된 바와 같이, 상기 소재(1)의 상,하면을 각각 열압착하여 그 이송방향으로 진행시킬 수 있도록 상기 제1프로파일(110) 내에 회전 가능하게 설치되는 한쌍의 제1예열용 로울러부재(121)(122) 및 이와 나란하게 설치되는 한쌍의 제2예열욜 로울러부재(123)(124)를 포함하여 구성된다. 한편, 상기 예열수단(120)은 도시되어 있지는 않으나, 통상의 히터 또는 히터와 연결되는 송풍기를 포함하여 구성할 수 있다.The preheating means 120, as shown, a pair of rotatably installed in the first profile 110 so as to thermally compress the upper and lower surfaces of the material (1), respectively, to advance in the conveying direction. The first preheat roller members 121 and 122 and a pair of second preheat roller members 123 and 124 installed in parallel therewith are configured. On the other hand, the preheating means 120 is not shown, but may comprise a conventional heater or a blower connected to the heater.

상기 압착로울러부재(130)는 상기 소재(1)의 상,하면을 각각 열압착하여 그 이송방향으로 진행 시킬 수 있도록 상하 한쌍으로 이루어진 제1압착로울러부재(131)(132)와, 상기 제1압착로울러부재(131)(132)와 이웃되게 위치되며 상하 한쌍으로 이루어진 제2압착로울러부재(133)(134)로 구성된다. 상기 로울러부재(130)는 상기 구동부(150)에서 제공되고, 상기 동력전달부(155)를 통해 전달된 회전력에 의해 회전되며, 그 사이를 통과하는 소재(1)의 상,하면 각각에 열압착에 의해 감광막(3)을 부착한다. 상기 한쌍의 공급로울러부재(140)(141) 각각은 제1압착로울러부재(131)(132)에 감광막(3)을 제공하는 부재로, 외부면에 테이프(4)가 부착된 채로 감광막이 감겨져 있다. 즉, 상기 공급로울러부재(140)(141)에서 제공되는 감광막(3)은 상기 제1압착로울러부재(131)(132)로 전달되고, 상기 테이프(4)는 상기 감기로울러부재(142)(143)로 전달된다. 상기 가이드로울러부재(145)(146)는 상기 제2압착로울러부재(133)(134)와 상기 제1프로파일(110)의 출구(112) 사이의 상기 감광막(3)이 부착된 소재(1)가 통과하는 경로 상에 위치되며, 상기 소재(1)의 이송을 가이드한다. 상기한 바와 같이, 구성된 본 고안의 감광막 부착수단(100)은 상기 공급릴(50)에서 연속적으로 공급되는 소재(1)의 상,하면 각각을 예열 및 열압착하여 양면에 감광막(3)을 부착할 수 있도록 한다.The pressing roller member 130 is a first pressing roller member 131, 132 and the first pair of upper and lower pairs so as to thermally compress the upper and lower surfaces of the material 1 to proceed in the conveying direction, and the first It is positioned to be adjacent to the compression roller members 131 and 132 and is composed of a second compression roller member 133 and 134 made up of a pair. The roller member 130 is provided by the driving unit 150, is rotated by the rotational force transmitted through the power transmission unit 155, and the thermocompression bonding on each of the upper and lower surfaces of the material (1) passing therebetween The photosensitive film 3 is attached by this. Each of the pair of supply roller members 140 and 141 is a member for providing the photosensitive film 3 to the first compression roller members 131 and 132, and the photosensitive film is wound with the tape 4 attached to an outer surface thereof. have. That is, the photosensitive film 3 provided from the supply roller members 140 and 141 is transferred to the first compression roller members 131 and 132, and the tape 4 is wound around the winding roller member 142. 143). The guide roller members 145 and 146 may be formed of a material 1 to which the photosensitive film 3 is attached between the second compression roller members 133 and 134 and the outlet 112 of the first profile 110. Located on the path through which it passes, guides the transfer of the material (1). As described above, the photosensitive film attachment means 100 according to the present invention is configured to attach the photosensitive film 3 to both sides by preheating and thermocompressing each of the upper and lower surfaces of the material 1 continuously supplied from the supply reel 50. Do it.

상기 타이밍 조절수단(160)은 상기 제1프로파일(110)의 출구(112) 주변에 설치되며, 상기 출구(112)를 통해 나온 소재(1)를 탄성 가압하여 장력을 조절한다. 즉, 상기 타이밍 조절수단(160)은 상기 제1프로파일(110)에 힌지 결합된 아암(161)과, 상기 아암(161)의 단부에 회전 가능하게 설치되며 상기 소재(1)와 접촉되는 회전부재(163) 및 상기 아암(161)의 힌지 주변에 설치되어 상기 아암의 일방향으로 탄성력을 제공하는 탄성부재(165)로 구성된다. 상기 탄성부재(165)는 일방향으로 복원력을 갖는 통상의 부재로, 코일스프링 등으로 구현할 수 있다.The timing adjusting means 160 is installed around the outlet 112 of the first profile 110 and elastically pressurizes the material 1 through the outlet 112 to adjust the tension. That is, the timing adjusting means 160 is an arm 161 hinged to the first profile 110, a rotating member rotatably installed at the end of the arm 161 and in contact with the material (1) 163 and an elastic member 165 installed around the hinge of the arm 161 to provide an elastic force in one direction of the arm. The elastic member 165 is a conventional member having a restoring force in one direction, and may be implemented as a coil spring or the like.

그러므로, 상기 타이밍 조절수단(160)는 상기 아암(161)의 회동에 따라 상기 소재(1)의 느슨해짐 정도를 조절함으로써, 상기 공급릴(50)에서 연속적으로 소재(1)를 공급함과 아울러 후술하는 노광수단(200)에서 단속적인 작업이 가능하도록 할 수 있다.Therefore, the timing adjusting means 160 adjusts the degree of loosening of the material 1 in accordance with the rotation of the arm 161, thereby continuously supplying the material 1 from the supply reel 50, and will be described later. The intermittent operation may be enabled in the exposure means 200.

상기 노광수단(200)은 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 타이밍 조절수단(160)과 상기 이송수단(700) 사이에 설치되며, 소재(1)의 양면에 마스크를 밀착시킨 채로 광을 조사하여 노광을 행한다. 이를 위하여, 상기 노광수단(200)은 소재(1)가 출입할 수 있는 입구(211)와 출구(212)를 갖는 제2프로파일(210)과, 상기 제2프로파일(210) 내부의 상,하부에 각각 대칭적으로 설치된 자외선램프(220)(230)와, 상기 소재(1)와 상기 두 자외선램프(220)(230) 사이에 각각 위치되어 상기 자외선램프(220)(230)에서 조사된 광을 투과 또는 차단시키는 브라인더(blinder)(221)(231)와, 상기 소재(1)의 양면에 각각 밀착되며 소정 패턴을 갖는 한쌍의 마스크(320)(440)와, 상기 한쌍의 마스크(320)(440)가 각각 탑재되며 이를 유동시키는 마스크 가동수단(300)을 포함하여 구성된다. 여기서, 상기 자외선램프(220)(230), 브라인더(221)(231) 및 마스크(320)(440)는 널리 알려진 바와 같으므로, 그 자세한 설명은 생략한다.As shown in FIG. 2, the exposure means 200 is installed between the timing adjusting means 160 and the transfer means 700, and irradiates light with the mask adhered to both surfaces of the material 1. Exposure is performed. To this end, the exposure means 200 has a second profile 210 having an inlet 211 and an outlet 212 through which the material 1 can enter and exit, and the upper and lower portions of the inside of the second profile 210. Light irradiated from the ultraviolet lamps 220 and 230 and positioned between the material 1 and the two ultraviolet lamps 220 and 230, respectively, symmetrically disposed on the substrate. Binders 221 and 231 for transmitting or blocking the light, a pair of masks 320 and 440 closely contacted to both surfaces of the material 1, and having a predetermined pattern, and the pair of masks 320. ) 440 is mounted, respectively, and comprises a mask movable means 300 for flowing it. Here, since the ultraviolet lamp 220, 230, the blender 221, 231 and the mask 320, 440 is well known, detailed description thereof will be omitted.

상기한 양면 노광용 마스크 가동수단(300)을 도 5 및 도 6을 참조하여 설명한다. 도 5는 마스크 가동수단의 개략적인 분리사시도이고, 도 6은 도 5의 단면도이다.The above-mentioned double-sided exposure mask movable means 300 will be described with reference to FIGS. 5 and 6. 5 is a schematic exploded perspective view of the mask movable means, and FIG. 6 is a cross-sectional view of FIG. 5.

도시된 바와 같이, 양면 노광용 마스크 가동수단(300)은 제1고정부재(301)와, 상기 제2고정부재(401)와, 상기 제2고정부재(401)가 움직임 가능하게 끼워지는 설치홈(460)을 가지며 상기 제1고정부재(301)에 승강 가능하게 설치된 승강부재(450)와, 상기 승강부재(450)를 승강시키는 승강수단(500)과, 상기 승강부재(450) 상에 위치되어 상기 제2고정부재(401)의 위치를 조정하는 위치조정수단(600)을 포함하여 구성된다.As shown, the mask movable means 300 for double-sided exposure includes an installation groove in which the first fixing member 301, the second fixing member 401, and the second fixing member 401 are movably fitted. A lifting member 450 having a lifting force of 460 and installed on the first fixing member 301, lifting means 500 for lifting up and down the lifting member 450, and being positioned on the lifting member 450. It is configured to include a position adjusting means 600 for adjusting the position of the second fixing member 401.

상기 제1고정부재(301)는 양면에 포토레지스트가 도포된 채로 공급되는 소재(1)의 저면에 제1마스크(320)를 밀착시키기 위한 것으로, 노광용 광이 투과될 수 있는 제1개구부(310)를 가지며, 그 제1개구부(310) 상에는 제1마스크(320)가 결합된다. 상기 제2고정부재(401)는 상기 소재(1)의 상부면에 제2마스크(440)를 밀착시키기 위한 것으로, 노광용 광이 투과될 수 있는 제2개구부(410)를 가지며, 그 하부에 상기 제2마스크(440)가 결합된다. 상기 두 마스크(320)(440)는 서로 대응되는 패턴을 가지며, 상기 위치조정수단(600)에 의해 상기 제2고정부재(401)를 좌,우로 유동시킴에 의해 그 위치가 얼라인된다. 상기 제2고정부재(401)는 그 하부면에 상기 제2마스크(440)가 결합되며, 상기 설치홈(460)에 자유롭게 끼워질 수 있는 몸체부(420)와, 상기 설치홈(460) 상에 위치되며 상기 위치조정수단(600)과 접촉되도록 돌출된 플랜지부(430)를 포함한다.The first fixing member 301 is to close the first mask 320 to the bottom surface of the material 1 supplied with the photoresist applied to both surfaces, and the first opening 310 through which exposure light can be transmitted. ) And a first mask 320 is coupled to the first opening 310. The second fixing member 401 is for bringing the second mask 440 into close contact with the upper surface of the material 1 and has a second opening 410 through which exposure light can be transmitted. The second mask 440 is coupled. The two masks 320 and 440 have patterns corresponding to each other, and their positions are aligned by flowing the second fixing member 401 left and right by the position adjusting means 600. The second fixing member 401 is coupled to the lower surface of the second mask 440, the body portion 420 that can be freely fitted in the installation groove 460, and the installation groove 460 Located in and includes a flange portion 430 protruding to contact the positioning means 600.

상기 승강수단(500)은 다수의 가이드 포스트(510)와, 상기 승강부재(450)와 결합되며 상기 가이드 포스트(510)가 슬라이딩 가능하게 끼워지는 가이드홈(513)을 갖는 가이드부재(511)와, 상기 승강부재(450)를 승강 구동하는 공압실린더(520)로 구성된다. 상기 가이드 포스트(510)는 그 일단이 상기 제1고정부재(301)에 체결되며, 상기 제1고정부재(301)에 수직하게 배치된다. 상기 가이드부재(511)는 상기 승강부재(450)가 좌,우로 유동되지 않도록 지지하며, 그 가이드홈(513)이 상기 가이드 포스트(510)에 끼워져 상기 가이드 포스트(510)의 길이방향으로 슬라이딩된다. 상기 가이드부재(511)는 상기 승강부재(450)와 일체로 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 상기 승강부재(450)와 별도로 구비되고, 통상의 체결수단에 의해 상기 승강부재(450)에 결합되어도 무방하다. 상기 공압실린더(520)는 상기 승강부재(450)에 체결된 실린더몸체(521)와, 상기 실린더몸체(521)에 직선왕복운동 가능하게 설치되며, 그 단부가 상기 제1고정부재(301)에 체결된 로드(rod)(523)로 구성되며, 상기 제1고정부재(301)에 대해 상기 승강부재(450)를 승강시킨다. 여기서, 상기 공압실린더(520)는 상기 실린더몸체(521)와 상기 로드(523)의 체결위치가 서로 바뀌어도 무방하다.The elevating means 500 includes a guide member 511 having a plurality of guide posts 510, a guide groove 513 that is coupled to the elevating member 450 and to which the guide post 510 is slidably fitted. In addition, the lifting member 450 is composed of a pneumatic cylinder 520 for driving up and down. One end of the guide post 510 is fastened to the first fixing member 301, and is disposed perpendicular to the first fixing member 301. The guide member 511 supports the lifting member 450 so as not to flow left and right, and the guide groove 513 is fitted into the guide post 510 to slide in the longitudinal direction of the guide post 510. . The guide member 511 is preferably formed integrally with the lifting member 450. In addition, the lifting member 450 is provided separately, and may be coupled to the lifting member 450 by a conventional fastening means. The pneumatic cylinder 520 is installed to the cylinder body 521 fastened to the elevating member 450, the cylinder body 521 is capable of linear reciprocating movement, the end of the pneumatic cylinder 520 to the first fixing member 301 Consists of a rod (523) fastened to, and elevating the elevating member 450 relative to the first fixing member (301). Here, the pneumatic cylinder 520 may be changed in the fastening position of the cylinder body 521 and the rod 523.

상기 위치조정수단(600)은 상기 제2마스크(440)를 상기 제1마스크(320)와 얼라인하기 위하여 상기 제2고정부재(401)를 수평방향으로 유동시킨다. 이를 위하여 상기 위치조정수단(600)은 상기 제2고정부재(401)의 상기 플랜지부(430)의 외측면과 접촉되어 상기 제2고정부재(401)를 밀어주는 다수의 위치조정나사(610)와, 상기 위치조정나사(610) 각각에 접촉되는 상기 플랜지부(430)의 측면과 대향되는 다른 측면에 접촉되어 상기 제2고정부재(401)를 탄성 가압하는 탄성바이어스부재(620)로 구성된다. 상기 위치조정나사(610)는 상기 승강부재(450)에 결합된 회동부(611)와, 상기 회동부(611)의 회전에 의해 상기 제2고정부재(401)의 일측면에 접촉된 채로 직선이송되는 가동부(613)로 구성된다.The position adjusting means 600 moves the second fixing member 401 in a horizontal direction to align the second mask 440 with the first mask 320. To this end, the positioning means 600 is in contact with the outer surface of the flange portion 430 of the second fixing member 401 a plurality of positioning screws 610 for pushing the second fixing member 401 And an elastic bias member 620 contacting the other side of the flange portion 430 which is in contact with each of the positioning screws 610 to elastically press the second fixing member 401. . The positioning screw 610 is a straight line while being in contact with one side of the second fixing member 401 by the rotation of the rotating part 611 and the rotating part 611 coupled to the elevating member 450. It consists of a movable part 613 to be conveyed.

상기 탄성바이어스부재(620)는 상기 플랜지부(430)와 접촉되어 상기 제2고정부재(401)를 일방향으로 밀어주며, 상기 위치조정나사(610)와 짝을 이루어 상기 제2마스크(440)의 위치를 조정한다.The elastic bias member 620 is in contact with the flange 430 to push the second fixing member 401 in one direction, paired with the positioning screw 610 of the second mask 440 Adjust the position.

상기 위치조정나사(610)와 상기 탄성바이어스부재(620) 각각의 상기 제2고정부재(401)와 접촉되는 단부에는 회전가능하게 설치된 로울러(615)(621)가 더 구비될 수 있다. 상기 로울러(615)(621)는 상기 제2고정부재(401)와의 접촉부분에서 상기 접촉부분의 접선방향으로의 힘이 작용하는 경우, 회전되어 상기 제2고정부재(401), 상기 위치조정나사(610) 및 탄성바이어스부재(620)의 손상을 방지한다.Rollers 615 and 621 rotatably installed may be further provided at ends of the positioning screw 610 and the second fixing member 401 of the elastic bias member 620. The rollers 615 and 621 are rotated when a force in a tangential direction of the contact portion is applied at the contact portion with the second fixing member 401 to rotate the second fixing member 401 and the position adjusting screw. 610 and damage to the elastic bias member 620 is prevented.

이하, 본 고안에 따른 양면 노광용 마스크 가동장치의 동작을 설명한다.Hereinafter, the operation of the mask movable apparatus for double-sided exposure according to the present invention will be described.

본 고안의 마스크 가동장치는 상기한 소재(1)에 노광하기 전에, 별도의 마이크로 셋팅장치를 이용하여, 제1마스크(320)와 제2마스크(440)의 패턴이 일치하는지 측정하면서, 상기 위치조정수단(600) 즉, 상기 위치조정나사(610)를 이용하여 제2마스크(440)를 얼라인한다.The mask movable device of the present invention measures the position of the first mask 320 and the second mask 440 by using a separate microsetting device before exposing the above-described material 1 to the above position. The second mask 440 is aligned using the adjusting means 600, that is, the position adjusting screw 610.

이후, 공압실린더(520)를 동작하여, 공급된 리드프레임 소재(1)의 양면에 상기 두 마스크(320)(440)를 밀착시킨다. 이후, 후공정에 의해 상기 리드프레임 소재(1)를 노광하고, 상기 공압실린더(520)가 상기 제2마스크(440)가 멀어지는 방향으로 동작한다. 이와 같은, 동작에 의해 연속적으로 공급되는 소재(1)의 일부분을 노광하며, 이후, 상기 소재(1)가 소정 피치만큼 이송된 후, 상기 얼라인 동작은 재차 수행하지 않고, 바로, 상기 승강부재(450)의 동작에 의해 마스크(320)(440)를 소재(1)에 밀착시킨다. 이는 상기 승강부재(450)가 상기 가이드 포스트(510)에 가이드되어 승강되어 초기 두 마스크(320)(440)간의 얼라인이 유지되는 것에 근거한 것이다.Thereafter, the pneumatic cylinder 520 is operated to bring the two masks 320 and 440 into close contact with both surfaces of the supplied lead frame material 1. Thereafter, the lead frame material 1 is exposed by a post process, and the pneumatic cylinder 520 operates in a direction away from the second mask 440. Such a part of the material 1 continuously supplied by the operation is exposed, and after the material 1 is transferred by a predetermined pitch, the alignment operation is not performed again. The masks 320 and 440 are brought into close contact with the material 1 by the operation of 450. This is based on the lifting member 450 being guided and lifted by the guide post 510 to maintain alignment between the initial two masks 320 and 440.

상기한 이송수단(700)은 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 노광수단(200)과 수용릴(60) 사이에 위치되어 상기 소재(1)를 이송시킨다. 이를 위하여 상기 이송수단(700)은 제3프로파일(710)과, 상기 제3프로파일(710) 상에 상호 이격되게 설치된 제1 및 제2스토퍼(720)(730)와, 상기 제1스토퍼(720)와 제2스토퍼(730) 사이에 설치된 그리퍼(740)를 포함하여 구성된다. 상기 그리퍼(740)는 슬라이딩 가능하도록 상기 제3프로파일(710) 상에 구비된 가이드레일(711) 상에 설치된다. 즉, 통상의 구동원(미도시)에 의해 상기 가이드레일(711)을 따라 이송되는 그리퍼몸체(741)와, 상기 그리퍼몸체(741)에 설치되며 상기 소재(1)를 잡을 수 있도록 된 아암(743)을 포함한다. 상기 아암(743)은 상기 그리퍼몸체(741)에 고정된 실린더 로드(745)에 연결되어 상기 소재(1)를 선택적으로 잡아준다.As shown in FIG. 2, the transfer means 700 is positioned between the exposure means 200 and the accommodation reel 60 to transfer the material 1. To this end, the transfer means 700 includes a third profile 710, first and second stoppers 720 and 730 spaced apart from each other on the third profile 710, and the first stopper 720. ) And a gripper 740 installed between the second stopper 730. The gripper 740 is installed on the guide rail 711 provided on the third profile 710 to be slidable. That is, the gripper body 741 is transferred along the guide rail 711 by a normal driving source (not shown), and the arm 743 installed on the gripper body 741 to hold the material 1. ). The arm 743 is connected to the cylinder rod 745 fixed to the gripper body 741 to selectively hold the material 1.

상기 제1스토퍼(720)와 제2스토퍼(730)는 동일 구조로 되어 있으며, 상기 그리퍼(740)의 동작에 따라 상기 소재(1)를 선택적으로 잡아준다. 이를 위하여 상기 두 스토퍼(720)(730)는 상기 제3프로파일(710) 상에 설치된 실린더의 로드(721)(731)의 단부에 결합된 스토퍼몸체(723)(733)로 구성된다.The first and second stoppers 720 and 730 have the same structure, and selectively hold the material 1 according to the operation of the gripper 740. To this end, the two stoppers 720 and 730 are composed of stopper bodies 723 and 733 coupled to the ends of the rods 721 and 731 of the cylinder installed on the third profile 710.

상기한 바와 같이, 구성된 이송수단(700)의 동작을 설명한다. 상기 노광수단(200)에 의해 상기 소재(1)의 양면에 노광시, 상기 스토퍼몸체(723)(733)은 상기 소재(1)를 고정시켜, 상기 수용릴(60)에 의해 소재(1)에 스트레스가 가해지는 것을 방지한다. 이후, 소재(1)의 일부분에 노광이 완료되면, 상기 스토퍼몸체(723)(733)가 상승하여 상기 소재(1)가 자유롭게 움직이도록 함과 아울러, 상기 그리퍼(740)가 상기 소재(1)를 잡은채로 상기 가이드레일(711)을 따라 이동하면서 상기 소재(1)를 이송시킨다. 이후, 상기 스토퍼몸체(723)(733)가 하강하여 상기 소재(1)를 고정하고, 상기 그리퍼(740)가 원위치 즉, 상기 노광수단(200)쪽에 위치한다. 이와 같은, 동작을 반복하면서, 단속적으로 상기 소재(1)를 상기 수용릴(60)쪽으로 이송시킨다.As described above, the operation of the configured conveying means 700 will be described. When the exposure means 200 is exposed to both surfaces of the material 1, the stopper bodies 723 and 733 fix the material 1 and the material 1 by the accommodating reel 60. To prevent stress. Then, when the exposure is completed to a portion of the material 1, the stopper body 723 (733) is raised to allow the material 1 to move freely, and the gripper 740 is the material (1) While transporting the material (1) while moving along the guide rail (711). Thereafter, the stopper bodies 723 and 733 are lowered to fix the material 1, and the gripper 740 is positioned at its original position, that is, toward the exposure means 200. While repeating the above operation, the raw material 1 is intermittently transferred to the housing reel 60.

상기한 바와 같이, 구비된 본 고안에 따른 인라인형 양면 노광장치는 상기 마스크고정수단에 의해 선 얼라인 후, 두 마스크(320)(440) 밀착 및 해제 동작을 반복적으로 수행함으로써, 노광시간을 대폭 줄일 수 있다. 또한, 공급릴(50)에 감긴 소재(1)의 양면에 감광막 부착공정과, 노광공정을 연속적으로 수행함으로써 작업속도를 크게 향상시킬 수 있다.As described above, in-line double-sided exposure apparatus according to the present invention provided by the mask fixing means, after performing line alignment, and repeatedly performing the two mask 320, 440 contact and release operation, the exposure time significantly Can be reduced. In addition, by continuously performing a photosensitive film attaching process and an exposure process on both surfaces of the material 1 wound on the supply reel 50, the working speed can be greatly improved.

Claims (9)

박판의 소재가 감긴 공급릴과;A feed reel in which a thin material is wound; 공급릴에서 공급되는 소재의 양면 각각에 연속적으로 감광막을 부착하는 감광막부착수단과;Photosensitive film attachment means for continuously attaching the photosensitive film to each of both surfaces of the material supplied from the supply reel; 감광막 부착수단을 통과한 감광막이 부착된 소재의 장력 조절에 의해 공급타이밍을 조절하는 타이밍 조절수단과;Timing adjusting means for adjusting the supply timing by adjusting the tension of the material having the photosensitive film passing through the photosensitive film attaching means; 제2프로파일과, 상기 제2프로파일 내부의 상,하부에 각각 설치된 자외선램프와, 상기 소재와 상기 두 자외선램프 사이에 각각 개폐 가능하게 위치되어 상기 두 자외선램프에서 조사된 광을 투과 또는 차단시키는 브라인더와, 상기 소재의 양면에 각각 밀착되며 소정 패턴을 갖는 한쌍의 마스크와, 상기 마스크를 가동하는 마스크 가동수단을 포함하는 노광수단과;A brine for transmitting or blocking the light emitted from the two UV lamps, respectively located in the second profile, the upper and lower UV lamps installed in the upper and lower portions of the second profile, and open and close between the material and the two UV lamps. Furthermore, exposure means including a pair of masks which are in close contact with both surfaces of the material and have a predetermined pattern, and mask moving means for moving the mask; 상기 노광수단에 의해 노광이 완료된 소재를 이송하는 이송수단과;Transfer means for transporting the material whose exposure has been completed by the exposure means; 상기 이송수단을 통과한 소재가 감기는 수용릴;을 구비하여 된 것을 특징으로 하는 인라인형 양면 노광장치.In-line double-sided exposure apparatus, characterized in that it comprises a; receptacle winding the material passed through the conveying means. 제1항에 있어서, 상기 감광막부착수단은,The method of claim 1, wherein the photosensitive film attaching means, 상기 소재가 출입할 수 있도록 된 입구와 출구를 갖는 제1프로파일과, 상기 제1프로파일 내에 위치된 예열수단과, 상기 소재의 상하와 마주하도록 형성되어 감광막을 부착시키는 압착로울러부재와, 압착로울러부재 각각에 감광막을 공급하는 공급로울러부재와, 상기 압착로울러부재와 공급로울러부재를 구동하는 구동원과, 상기 구동원의 동력을 전달하는 동력전달부를 포함하여 된 것을 특징으로하는 인라인형 양면 노광장치.A first profile having an inlet and an outlet through which the material can enter and exit, a preheating means located in the first profile, a compression roller member formed to face the top and bottom of the material, and a photoresist film attached thereto, and a compression roller member And a supply roller member for supplying a photosensitive film to each one, a driving source for driving the compression roller member and the supply roller member, and a power transmission portion for transmitting power of the driving source. 제2항에 있어서, 상기 예열수단은 상기 소재의 상하면을 각각 열압착하여 그 이송방향으로 진행시킬 수 있도록 상기 제1프로파일에 회전가능하게 설치되는 적어도 한쌍의 예열용 로울러부재를 포함하여 된 것을 특징으로 하는 인라인형 양면 노광장치.3. The preheating means according to claim 2, wherein the preheating means includes at least one pair of preheating roller members rotatably installed on the first profile so as to thermally compress the upper and lower surfaces of the material and advance in the conveying direction thereof. In-line double-sided exposure apparatus. 제1항에 있어서, 상기 타이밍 조절수단은,The method of claim 1, wherein the timing adjusting means, 상기 제1프로파일에 힌지 결합된 아암과, 상기 아암의 단부에 회전 가능하게 설치되며 상기 소재와 접촉되는 회전부재 및, 상기 아암의 힌지 주변에 설치되어 상기 아암의 일방향으로 탄성력을 제공하는 탄성부재를 포함하여 된 것을 특징으로하는 인라인형 양면 노광장치.An arm hinged to the first profile, a rotating member rotatably installed at an end of the arm and in contact with the material, and an elastic member installed around the hinge of the arm to provide elastic force in one direction of the arm; In-line double-sided exposure apparatus comprising a. 제1항에 있어서, 상기 마스크 가동수단은,The method of claim 1, wherein the mask movable means, 일 마스크가 거치되며, 노광용 광이 투과될 수 있는 제1개구부를 갖는 제1고정부재와;A first fixing member mounted with a mask and having a first opening through which exposure light can be transmitted; 다른 마스크가 거치되며, 노광용 광이 투과될 수 있는 제2개구부를 갖는 제2고정부재와;A second fixing member mounted with another mask and having a second opening through which exposure light can be transmitted; 내부에 상기 제2고정부재가 여유있게 끼워질 수 있는 설치홈을 가지며, 상기 제1고정부재에 승강 가능하게 설치되는 승강부재와;An elevating member having an installation groove in which the second fixing member can be inserted with ease, and being installed to be liftable on the first fixing member; 상기 제1고정부재에 대해 상기 승강부재를 승강시키는 승강수단과;Elevating means for elevating the elevating member with respect to the first fixing member; 상기 승강부재 상에 설치되어 상기 제2고정부재의 위치를 조정할 수 있도록 된 위치조정수단;을 포함하여,A position adjusting means installed on the elevating member to adjust a position of the second fixing member. 상기 위치조정수단에 의해 상기 한쌍의 마스크가 얼라인된 상태로 상기 승강부재의 승강에 의해 상기 소재의 양면에 마스크를 밀착시킬 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 인라인형 양면 노광장치.And the mask is brought into close contact with both surfaces of the material by the lifting and lowering of the elevating member while the pair of masks are aligned by the position adjusting means. 제5항에 있어서, 상기 승강수단은 일단이 상기 제1고정부재 상에 고정된 다수의 가이드포스트와; 상기 승강부재에 설치되며, 내부에 상기 가이드포스트가 슬라이딩 가능하게 끼워지는 가이드홈을 갖는 가이드부재와; 상기 승강부재와 제1고정부재 사이에 설치되어 상기 승강부재를 승강시키도록 된 적어도 하나의 공압실린더;를 포함하여 된 것을 특징으로 하는 인라인형 양면 노광장치.The method of claim 5, wherein the lifting means comprises: a plurality of guide posts, one end of which is fixed on the first fixing member; A guide member installed on the elevating member and having a guide groove in which the guide post is slidably fitted; And at least one pneumatic cylinder installed between the elevating member and the first fixing member to elevate the elevating member. 제5항에 있어서, 상기 위치조정수단은 상기 승강부재에 결합된 몸체부와, 상기 제2고정부재의 일측면에 접촉된 채로 상기 몸체부의 회전에 의해 직선이송되는 단부를 포함하는 다수의 위치조정나사와; 상기 위치조정나사 각각에 접촉되는 상기 제2고정부재의 측면과 대향되는 다른 측면에 접촉되며, 상기 제2고정부재를 탄성 가압하는 탄성바이어스부재를 구비한 것을 특징으로 하는 인라인형 양면 노광장치.According to claim 5, The position adjusting means is a plurality of position adjustment including a body portion coupled to the elevating member and the end portion linearly transferred by the rotation of the body portion while being in contact with one side of the second fixing member With screws; And an elastic biasing member which is in contact with another side surface of the second fixing member which is in contact with each of the positioning screws, and elastically pressurizes the second fixing member. 제7항에 있어서, 상기 위치조정나사와 상기 탄성바이어스부재 각각의 상기 제2고정부재와 접촉되는 부분에 회전가능하게 설치된 로울러를 더 구비한 것을 특징으로 하는 인라인형 양면 노광장치.The inline double-sided exposure apparatus according to claim 7, further comprising a roller rotatably installed at a portion of each of the positioning screw and the elastic bias member that is in contact with the second fixing member. 제1항에 있어서, 상기 이송수단은,The method of claim 1, wherein the transfer means, 상기 노광수단과 상기 수용릴 사이에 위치된 제3프로파일과;A third profile located between the exposure means and the accommodation reel; 상기 제3프로파일 상에 상호 이격되게 설치되며 선택적으로 상기 소재를 고정하는 제1 및 제2스토퍼와;First and second stoppers installed on the third profile to be spaced apart from each other and selectively fixing the material; 상기 제1 및 제2스토퍼 사이의 상기 제3프로파일 상에 설치된 가이드레일과;A guide rail installed on the third profile between the first and second stoppers; 상기 가이드레일 상에 슬라이딩 가능하게 설치되며, 상기 소재를 잡아 상기 제1스토퍼 쪽에서 상기 제2스토퍼 쪽으로 이송시키는 그리퍼와;A gripper slidably installed on the guide rail, the gripper configured to move the material from the first stopper to the second stopper; 상기 그리퍼를 구동하는 구동원;을 포함하여 된 것을 특징으로 하는 인라인형 양면 노광장치.In-line double-sided exposure apparatus comprising a; drive source for driving the gripper.
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KR100478730B1 (en) * 2002-07-30 2005-03-24 주식회사 제일 Substrate edge lighting apparatus
KR100665165B1 (en) * 2003-05-23 2007-01-04 우시오덴키 가부시키가이샤 Double-sided projection exposure apparatus of band-shaped work
KR100974182B1 (en) * 2007-07-04 2010-08-05 에이피시스템 주식회사 Method for imprinting dual side using roll stamps
CN116864433A (en) * 2023-09-04 2023-10-10 砺铸智能设备(天津)有限公司 Automatic feeding hot-pressing packaging mechanism for chip packaging

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100478730B1 (en) * 2002-07-30 2005-03-24 주식회사 제일 Substrate edge lighting apparatus
KR100665165B1 (en) * 2003-05-23 2007-01-04 우시오덴키 가부시키가이샤 Double-sided projection exposure apparatus of band-shaped work
KR100974182B1 (en) * 2007-07-04 2010-08-05 에이피시스템 주식회사 Method for imprinting dual side using roll stamps
CN116864433A (en) * 2023-09-04 2023-10-10 砺铸智能设备(天津)有限公司 Automatic feeding hot-pressing packaging mechanism for chip packaging
CN116864433B (en) * 2023-09-04 2023-11-10 砺铸智能设备(天津)有限公司 Automatic feeding hot-pressing packaging mechanism for chip packaging

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