KR19990016635A - Horizontal boat for semiconductor device manufacturing - Google Patents
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Abstract
본 발명은 웨이퍼를 소정의 각도로 적재지지하는 지지대를 구비시킨 반도체장치 제조용 수평형보트에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a horizontal boat for manufacturing a semiconductor device having a support for supporting a wafer at a predetermined angle.
본 발명은, 웨이퍼를 수직형태로 적재지지하는 지지대가 구비되는 반도체장치 제조용 수평형보트에 있어서, 상기 웨이퍼가 소정의 각도로 적재지지될 수 있도록 상기 수평형보트의 지지대를 상기 소정의 각도로 경사형성시켜 이루어짐을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a horizontal boat for manufacturing a semiconductor device having a support for supporting a wafer in a vertical form, wherein the support of the horizontal boat is inclined at the predetermined angle so that the wafer can be loaded at a predetermined angle. Characterized by forming.
따라서, 웨이퍼 상에 균일한 막을 형성시킬 수 있음으로 인해 이로 인한 불량을 최소화시켜 제품의 신뢰도가 향상되는 효과가 있다.Therefore, since a uniform film can be formed on the wafer, there is an effect of minimizing the defect caused by this and improving the reliability of the product.
Description
본 발명은 반도체장치 제조용 수평형보트에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼(Wafer)를 소정의 각도로 적재지지하는 지지대를 구비시킨 반도체장치 제조용 수평형보트에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a horizontal boat for manufacturing a semiconductor device, and more particularly, to a horizontal boat for manufacturing a semiconductor device having a support for supporting a wafer at a predetermined angle.
일반적으로 반도체장치의 제조에서는 웨이퍼 즉, 반도체 기판 상에 소정의 막을 형성시키기 위하여 확산로를 이용한 공정을 수행하고, 이러한 확산로를 이용한 공정은 다수매의 웨이퍼를 적재하는 보트(Boat)를 이용하여 수행한다.In general, in the manufacture of a semiconductor device, a process using a diffusion path is performed to form a predetermined film on a wafer, that is, a semiconductor substrate, and the process using the diffusion path uses a boat that loads a plurality of wafers. Perform.
여기서 상기 확산로는 그 형태에 따라 수직형(Vertical)과 수평형(Horizontal)으로 나눌 수 있고, 상기 보트 또한 수직형보트과 수평형보트로 나눌 수 있다.In this case, the diffusion path may be divided into a vertical type and a horizontal type according to its shape, and the boat may also be divided into a vertical boat and a horizontal boat.
이러한 확산로를 이용한 공정중에서 종래의 상기 수평형보트를 이용한 공정의 수행에서는 상기 수평형보트에 웨이퍼가 90°로 적재지지됨으로 인해 상기 확산로에 유입되는 가스의 공급이 원할하게 이루어지지 않았다.In the process using the horizontal boat in the process using such a diffusion furnace, since the wafer is loaded at 90 ° on the horizontal boat, supply of gas flowing into the diffusion furnace is not smooth.
즉, 상기 수평형보트의 지지대가 수직형태로 형성되어 있음으로 인해 가스의 원할한 공급이 이루어지지 않아 웨이퍼 상에 형성되는 막의 균일도가 저하되었다.That is, since the support of the horizontal boat is formed in a vertical shape, the gas is not supplied smoothly, and thus the uniformity of the film formed on the wafer is reduced.
따라서 종래의 수평형보트를 이용한 공정의 수행시 막이 균일하게 형성되지 못함으로 인해 불량이 빈번하게 발생하였고, 이로 인하여 제품의 신뢰도가 저하되는 문제점이 있었다.Therefore, defects frequently occur because the film is not uniformly formed during the process using the conventional horizontal boat, and thus there is a problem that the reliability of the product is lowered.
본 발명의 목적은, 웨이퍼를 소정의 각도로 적재지지하는 수평형보트를 이용한 공정이 수행으로 균일한 막을 형성시킬 수 있어 제품의 신뢰도를 향상시키기 위한 반도체장치 제조용 수평형보트를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a horizontal boat for manufacturing a semiconductor device for improving the reliability of a product by forming a uniform film by performing a process using a horizontal boat for supporting a wafer at a predetermined angle.
도1은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 수평형보트의 일 실시예를 나타내는 모식도이다.1 is a schematic diagram showing an embodiment of a horizontal boat for manufacturing a semiconductor device according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
10 : 웨이퍼 12 : 수평형보트10: wafer 12: horizontal boat
14 : 지지대 16 : 확산로14: support 16: diffusion path
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 수평형보트는, 웨이퍼를 수직형태로 적재지지하는 지지대가 구비되는 반도체장치 제조용 수평형보트에 있어서, 상기 웨이퍼가 소정의 각도로 적재지지될 수 있도록 상기 수평형보트의 지지대를 상기 소정의 각도로 경사형성시켜 이루어짐을 특징으로 한다.In the horizontal boat for manufacturing a semiconductor device according to the present invention for achieving the above object, in the horizontal boat for manufacturing a semiconductor device provided with a support for supporting the wafer in a vertical form, the wafer can be loaded at a predetermined angle. It characterized in that it is made by inclining the support of the horizontal boat to the predetermined angle.
상기 소정의 각도는 90°이하로 이루어지는 것이 바람직하다.It is preferable that the said predetermined angle consists of 90 degrees or less.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도1은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 수평형보트의 일 실시예를 나타내는 모식도이다.1 is a schematic diagram showing an embodiment of a horizontal boat for manufacturing a semiconductor device according to the present invention.
먼저, 웨이퍼(10)를 로딩 및 언로딩하는 수평형보트(12) 및 상기 수평형보트(12)에 웨이퍼(10)가 적재지지되는 지지대(14)가 구비되어 있고, 상기 수평형보트(12)를 이용한 공정이 수행되는 확산로(16)가 구비되어 있다.First, a horizontal boat 12 for loading and unloading the wafer 10 and a support 14 for supporting the wafer 10 on the horizontal boat 12 are provided. The horizontal boat 12 is provided. Diffusion furnace 16 in which the process using the step is carried out is provided.
여기서 상기 수평형보트(12)의 지지대(14)는 웨이퍼(10)를 소정의 각도로 경사지게 적재지지되도록 형성하여 공정의 수행시 원할한 가스의 공급이 이루어지도록 한다.Here, the support 14 of the horizontal boat 12 is formed so that the wafer 10 is supported to be inclined at a predetermined angle so that a smooth supply of gas is performed during the process.
그리고 본 발명은 상기 소정의 각도를 제작자의 의도에 따라 그 가변은 다양하게 변형할 수 있고, 바람직하기로는 90°이하로 형성시킬 수 있다.In the present invention, the predetermined angle may be variously modified according to the intention of the manufacturer, and preferably, 90 ° or less.
이러한 구성으로 이루어지는 본 발명은 상기 수평형튜브(12)를 이용한 공정의 수행시 상기 웨이퍼(10)가 소정의 각도로 적재지지됨으로 가스의 공급이 원할하게 이루어진다.According to the present invention having such a configuration, the gas is smoothly supplied because the wafer 10 is supported at a predetermined angle when the process using the horizontal tube 12 is performed.
이에 따라 상기 웨이퍼(10)에 형성되는 막을 균일하게 형성시킬 수 있다.Accordingly, the film formed on the wafer 10 can be formed uniformly.
즉, 상기 가스의 공급이 웨이퍼(10)의 중심부에서 가장자리까지 원할하게 이루어지기 때문에 균일한 막을 형성시킬 수 있다.That is, since the gas is supplied smoothly from the center of the wafer 10 to the edge, a uniform film can be formed.
본 발명은 상기 수평형보트(12)의 지지대(14)를 소정의 각도로 경사지게 형성시켜 상기 웨이퍼(10)를 소정의 각도로 경사지게 적재지지하여 공정을 수행하여 균일한 막을 형성시킬 수 있다.According to the present invention, the support 14 of the horizontal boat 12 may be inclined at a predetermined angle to support the wafer 10 inclined at a predetermined angle to perform a process to form a uniform film.
따라서, 본 발명에 의하면 웨이퍼 상에 균일한 막을 형성시킬 수 있음으로 인해 이로 인한 불량을 최소화시켜 제품의 신뢰도가 향상되는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, it is possible to form a uniform film on the wafer, thereby minimizing defects resulting therefrom, thereby improving the reliability of the product.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications are within the scope of the appended claims.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019970039244A KR19990016635A (en) | 1997-08-18 | 1997-08-18 | Horizontal boat for semiconductor device manufacturing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019970039244A KR19990016635A (en) | 1997-08-18 | 1997-08-18 | Horizontal boat for semiconductor device manufacturing |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19990016635A true KR19990016635A (en) | 1999-03-15 |
Family
ID=66047016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019970039244A KR19990016635A (en) | 1997-08-18 | 1997-08-18 | Horizontal boat for semiconductor device manufacturing |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR19990016635A (en) |
-
1997
- 1997-08-18 KR KR1019970039244A patent/KR19990016635A/en not_active Application Discontinuation
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| WITN | Withdrawal due to no request for examination |