KR19990015718A - Ionization chamber - Google Patents

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KR19990015718A
KR19990015718A KR1019970037993A KR19970037993A KR19990015718A KR 19990015718 A KR19990015718 A KR 19990015718A KR 1019970037993 A KR1019970037993 A KR 1019970037993A KR 19970037993 A KR19970037993 A KR 19970037993A KR 19990015718 A KR19990015718 A KR 19990015718A
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cover
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ionization chamber
ionization
end cap
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KR1019970037993A
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Inventor
이종오
박동철
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윤종용
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 이온화 챔버에 관해 개시한다. 본 발명은 이온화 챔버의 몸체와 이온 방출구를 구비하는 덮개가 체결되어 있어 분리가능한 반면, 상기 몸체의 좌, 우 측면에 구비된 엔드 캡은 상기 몸체와 일체화되어 분리 불가능하다. 따라서 상기 아크 챔버를 청소하기 위해서는 상기 덮개를 제거한 후, 상기 아크 챔버의 반응챔버를 청소하므로 상기 엔드 캡을 제거한 후 청소할 때 보다 청소 및 정비가 용이하다. 또한, 이온화 공정중에 상기 엔드 캡이 이탈되는 현상을 방지하여 설비가 다운되는 것을 방지할 수 있으므로 이온화 공정이 안정적으로 진행될 수 있다. 뿐만 아니라 상기 이온 방출구의 교체시 상기 덮개만 교체하면 되므로 상기 몸체 전체를 교체하는 것에 비해 소모품의 교환비용을 줄일 수 있다.The present invention discloses an ionization chamber. The present invention is detachable because the cover having the body of the ionization chamber and the ion outlet is fastened, while the end caps provided on the left and right sides of the body are integrated with the body and are not removable. Therefore, in order to clean the arc chamber, after the cover is removed, the reaction chamber of the arc chamber is cleaned, so cleaning and maintenance are easier than removing the end cap. In addition, the ionization process may be stably performed since the end cap may be prevented from falling off during the ionization process, thereby preventing the equipment from going down. In addition, since only the cover needs to be replaced when the ion release port is replaced, the replacement cost of the consumables can be reduced compared to replacing the entire body.

Description

이온화 챔버Ionization chamber

본 발명은 이온화 챔버에 관한 것으로서 특히, 상, 하 분리 가능한 중 전류(medium current) 이온주입기의 아크 챔버(acr chamber)에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ionization chamber, and more particularly, to an arc chamber of a medium current ion implanter that can be separated up and down.

반도체장치의 제조공정에서 이온주입공정은 웨이퍼내의 불순물 분포를 결정하므로 매우 중요한 공정이다. 웨이퍼내의 불순물 분포는 웨이퍼에 형성되는 소자들간의 절연성이나, 기판 전류등에 영향을 미치기 때문에 이온주입공정에서 불순물이 균일하게 주입될 필요가 있다.In the semiconductor device manufacturing process, the ion implantation process is very important because it determines the distribution of impurities in the wafer. Since the impurity distribution in the wafer affects the insulation between the elements formed on the wafer, the substrate current, etc., it is necessary to uniformly inject impurities in the ion implantation process.

이온 주입에 사용되는 이온들은 이온주입기에 의해 공급된다. 따라서 이온주입기의 정렬이 올바르게 이루어져야 한다. 특히, 이온주입기중에서도 직접 이온이 형성되는 이온 소오스 헤드(source head)는 이온주입 공정에서 주입되는 이온들의 순도를 결정하기 때문에 핵심부분이다.Ions used for ion implantation are supplied by an ion implanter. Therefore, the ion implanter must be aligned correctly. In particular, an ion source head in which direct ions are formed in the ion implanter is a key part because it determines the purity of the ions implanted in the ion implantation process.

중 전류 이온 주입기의 이온 소오스 헤드로는 아크 챔버가 있다. 아크 챔버는 필라멘트 전류, 소오스 마그네트 전류, 아크 전압 및 추출 전압(extraction voltage)를 인가하여 가스 공급 시스템에서 아크 챔버로 공급되는 가스를 이온화하는 반응 챔버이다.An ion source head of the heavy current ion implanter is an arc chamber. The arc chamber is a reaction chamber that applies a filament current, a source magnet current, an arc voltage and an extraction voltage to ionize a gas supplied from the gas supply system to the arc chamber.

아크 챔버는 사용하다보면, 이온화 및 추출에 따른 이온 추출부의 홀의 깍임이나 오염등으로 인해 아크 챔버내부에서 이온화율이 저하된다. 따라서 아크 챔버는 이 부분에 대한 정기적인 교체나 챔버내부에 대한 예방적 정비(preventive maintenance)가 필요하다.In the arc chamber, the ionization rate is lowered in the arc chamber due to chipping or contamination of the hole of the ion extracting part due to ionization and extraction. Therefore, the arc chamber needs regular replacement of this part or preventive maintenance inside the chamber.

종래 기술에 의한 이온화 챔버를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.The ionization chamber according to the prior art will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 4는 각각 종래 기술에 의한 이온화 챔버의 정면도, 우측면도, 평면도 및 배면도이다.1 to 4 are a front view, a right side view, a top view and a back view of the ionization chamber according to the prior art, respectively.

도 5 및 도 6은 각각 종래 기술에 의한 이온화 챔버의 한 구성요소인 엔드 캡(END CAP)의 정면도와 평면도이다.5 and 6 are front and top views, respectively, of an end cap END CAP, which is a component of the ionization chamber of the prior art.

도 1을 참조하면, 종래 기술에 의한 아크 챔버는 몸체(10)와 몸체(10)의 좌, 우측에 각각 한 개씩 체결되는 아크 챔버 엔드 캡(도 5 및 도 6 참조)으로 나눌 수 있다. 몸체(10)의 중앙에는 소정의 직경을 갖는 한 개의 제1 홀(16)이 구비되어 있다. 그리고 제1 홀(16)을 중심으로 제1 홀(16)에 비해 직경이 작고 제1 홀(16)을 중심으로 삼각형의 세 정점에 위치한 제1 내지 제3 홈(16a, 16b, 16c)이 구비되어 있다.Referring to FIG. 1, the arc chamber according to the related art may be divided into an arc chamber end cap (see FIGS. 5 and 6) which is fastened one by one to the left and right sides of the body 10 and the body 10. The center of the body 10 is provided with one first hole 16 having a predetermined diameter. The first to third grooves 16a, 16b, and 16c having a smaller diameter than the first hole 16 with respect to the first hole 16 and located at three vertices of a triangle with respect to the first hole 16 are formed. It is provided.

제1 홀(16)은 제1 내지 제3 홈들(16a, 16b, 16c)로 이루어지는 삼각형의 삼중점 위치보다 다소 아래에 위치해 있다.The first hole 16 is located somewhat below the triple point position of the triangle consisting of the first to third grooves 16a, 16b, 16c.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 제1 홀(16)은 반응챔버(18)와 통해 있으나, 제1 내지 제3 홈들(16a, 16b, 16c)은 그렇지 않고 단지, 아크 챔버 측면에 소정의 깊이를 갖는다는 것을 알 수 있다.2 to 4, the first hole 16 is through the reaction chamber 18, but the first to third grooves 16a, 16b, 16c are not, but only at a predetermined depth on the arc chamber side. It can be seen that it has.

도 1에서 아크 챔버의 몸체(10)의 하부와 상부에는 각각 몸체(10)의 하부 대(12)와 지붕(14)이 존재하는데, 몸체(10)와 일체형으로 되어 있다. 몸체(10)의 하부 대(12)와 지붕(14)은 각각 좌, 우측으로 동일한 길이 만큼 돌출되어 있다. 따라서 몸체(10)의 좌, 우측 지붕(14) 아래에는 돌출된 부분만큼의 처마(20)가 형성된다. 몸체(10) 좌, 우측의 처마(20)에는 도 5 및 도 6에 도시한 엔드 캡이 체결된다. 몸체(10)의 하부 대(12)의 좌, 우 돌출된 부분에는 엔드 캡을 고착시키기 위한 고정수단이 투입되는 홈(22)이 구비되어 있다.In FIG. 1, the lower base 12 and the roof 14 of the body 10 exist at the lower and upper portions of the body 10 of the arc chamber, respectively, and are integral with the body 10. The lower base 12 and the roof 14 of the body 10 protrude by the same length to the left and the right, respectively. Therefore, the left and right roof 14 of the body 10, the eaves 20 as much as the protruding portion is formed. End caps shown in FIGS. 5 and 6 are fastened to the eaves 20 on the left and right sides of the body 10. The left and right protruding portions of the lower base 12 of the body 10 are provided with grooves 22 into which the fixing means for fixing the end caps is inserted.

또한, 도 1, 도 2 및 도 4를 참조하면, 하부 대(12)의 중앙에는 반응챔버(18)와 통하는 제2 홀(19)이 구비되어 있고, 제2 홀(19)을 중심으로 제4 내지 제7 홈들(19a, 19b, 19c, 19d)이 구비되어 있는 것을 알 수 있다. 제4 내지 제7 홈(19a, 19b, 19c, 19d)은 하부 대(12)에 소정의 깊이를 갖고 제2 홀(19)보다 직경이 작다.1, 2, and 4, a second hole 19 communicating with the reaction chamber 18 is provided at the center of the lower stand 12, and is formed around the second hole 19. It can be seen that the fourth to seventh grooves 19a, 19b, 19c, and 19d are provided. The fourth to seventh grooves 19a, 19b, 19c, and 19d have a predetermined depth in the lower base 12 and are smaller in diameter than the second hole 19.

도 1을 참조하면, 몸체(10)의 지붕(14)에는 아크 챔버에서 형성되는 이온들이 방출되는 이온 방출구(extraction hole)(24)가 구비되어 있다. 도 2를 참조하면, 이온 방출구(24)는 반응챔버(18)와 닺는 부분은 좁고 반응챔버(18)로부터 멀어질수록 넓어진다. 또한, 도 3을 참조하면, 이온 방출구(24)는 직사각형이라는 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 1, the roof 14 of the body 10 is provided with an ion extraction hole 24 through which ions formed in the arc chamber are released. Referring to FIG. 2, the ion outlet 24 is narrower with the reaction chamber 18 and becomes wider as it moves away from the reaction chamber 18. In addition, referring to FIG. 3, it can be seen that the ion outlet 24 is rectangular.

도 1을 참조하면, 하부 대(12)의 좌, 우측 코너에는 도 5 및 도 6에 도시한 엔드 캡을 고정시키기 위한 고정수단이 투입되는 제3 홀(22)이 구비되어 있다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 이러한 제3 홀(22)은 하부 대(12)의 각 코너에 한 개씩 구비된 것으로 짐작할 수 있고, 도 3 및 도 4를 참조하면, 이러한 사실을 확인할 수 있다. 곧, 제3 홀(22)은 하부 대(12)의 네 코너에 한 개씩 모두 네 개 구비되어 있다.Referring to FIG. 1, the left and right corners of the lower stand 12 are provided with third holes 22 into which fixing means for fixing the end caps shown in FIGS. 5 and 6 are inserted. Referring to FIGS. 1 and 2, it can be assumed that one third hole 22 is provided at each corner of the lower base 12. Referring to FIGS. 3 and 4, this fact can be confirmed. . In other words, four third holes 22 are provided at four corners of the lower base 12.

도 2에서 반응챔버(18)의 형태는 원형으로 도시되고, 도 3에서 반응챔버(18)의 형태는 직사각형으로 도시된다. 따라서 반응챔버(18)는 실린더형임을 알 수 있다.In FIG. 2, the shape of the reaction chamber 18 is shown circularly, and in FIG. 3 the shape of the reaction chamber 18 is shown rectangular. Therefore, it can be seen that the reaction chamber 18 is cylindrical.

도 5 및 도 6을 참조하면, 몸체(10)의 좌, 우측 처마(20)에 체결되는 엔드 캡(26)의 중앙에는 제4 홀(28)이 구비되어 있고, 제4 홀(28)을 감싸는 원형의 제8 홈(30)이 구비되어 있다.5 and 6, a fourth hole 28 is provided at the center of the end cap 26 fastened to the left and right eaves 20 of the body 10, and the fourth hole 28 is provided. A circular eighth groove 30 is provided.

상술한 바와 같은 종래 기술에 의한 이온화 챔버인 아크 챔버는 몸체(10)와 몸체(10)의 상, 하부에 각각 지붕(14)과 하부 대(12)가 구비되어 있는데, 몸체(10)와 일체형으로 되어 있어 분리가 불가능하다. 그리고 몸체(10)의 좌, 우측 처마에는 분리가능한 엔드 캡(26)이 체결되어 있다.The arc chamber, which is an ionization chamber according to the prior art as described above, is provided with a roof 14 and a lower stand 12 on the body 10 and the upper and lower portions of the body 10, respectively, and are integrated with the body 10. It cannot be separated because of A detachable end cap 26 is fastened to the left and right eaves of the body 10.

따라서 아크 챔버가 오염되어 이온화율이 저하되는 경우, 아크 챔버 내부를 청소하기 위해서는 엔드 캡(26)을 분리해야 하고 챔버내부를 청소한 후에는 다시 엔드 캡(26)을 체결시켜야 한다. 엔드 캡(26)을 몸체(10)에 체결하기 위해서 통상 탄탈륨(Ta) 와이어(wire)가 사용되는데, 아크 챔버의 사용에 따른 와이어의 팽창으로 엔드 캡(26)이 사용도중 이탈되는 경우가 발생되어 설비의 다운을 유발한다.Therefore, when the arc chamber is contaminated and the ionization rate is lowered, the end cap 26 must be removed to clean the inside of the arc chamber, and the end cap 26 must be tightened again after cleaning the inside of the chamber. Tantalum (Ta) wire is usually used to fasten the end cap 26 to the body 10. The end cap 26 may be detached during use due to the expansion of the wire due to the use of the arc chamber. To cause downtime.

또한, 아크 챔버를 사용하다 보면, 이온 방출구(24)가 마모되는 교체가 필요한데, 종래 기술에 의한 아크 챔버는 이온 방출구(24)가 형성된 지붕(14)이 아크 챔버의 몸체(10)와 일체형으로 되어 있어 아크 챔버 전체를 교체해야 하는 불합리한 점이 있다. 따라서 이온 방출구(24)의 교체비용이 증가한다.In addition, when using the arc chamber, it is necessary to replace the wear of the ion outlet 24, the arc chamber according to the prior art is that the roof 14 is formed with the ion outlet 24 is formed with the body of the arc chamber (10) There is an unreasonable need to replace the entire arc chamber because it is integrated. Therefore, the replacement cost of the ion outlet 24 is increased.

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 종래 기술에 나타나는 불합리한 점이나 문제점을 해소하기 위한 것으로서, 반응챔버의 내부청소와 관련되어 발생되는 설비의 고장이나 반응챔버를 구성하는 부분의 교체에 따른 비용증가 요인을 제거한 이온화 챔버를 제공함에 있다.Therefore, the technical problem to be achieved by the present invention is to solve the unreasonable problems and problems shown in the above-described prior art, the cost of equipment failure caused by the internal cleaning of the reaction chamber or replacement of the parts constituting the reaction chamber. It is to provide an ionization chamber to eliminate the increase factor.

도 1 내지 도 4는 각각 종래 기술에 의한 이온화 챔버의 정면도, 우측면도, 평면도 및 배면도이다.1 to 4 are a front view, a right side view, a top view and a back view of the ionization chamber according to the prior art, respectively.

도 5 및 도 6은 각각 종래 기술에 의한 이온화 챔버의 한 구성요소인 엔드 캡(END CAP)의 정면도와 평면도이다.5 and 6 are front and top views, respectively, of an end cap END CAP, which is a component of the ionization chamber of the prior art.

도 7 내지 도 10은 각각 본 발명의 실시예에 의한 이온화 챔버의 정면도, 우측면도, 평면도 및 배면도 다.7 to 10 are a front view, a right side view, a plan view, and a rear view of the ionization chamber according to the embodiment of the present invention, respectively.

도 11 및 도 12는 각각 본 발명의 실시예에 의한 이온화 챔버의 이온 추출부의 평면도 및 우측면도이다.11 and 12 are a plan view and a right side view of the ion extracting unit of the ionization chamber according to the embodiment of the present invention, respectively.

도면의 주요 부분에 대한 부호 설명Explanation of symbols for the main parts of the drawings

40:몸체. 42:엔드 캡(end cap).40: body. 42: end cap.

44:덮개. 46:하부 대.44: A cover. 46: Lower part.

48, 58, 60, 70:제1 내지 제4 홀.48, 58, 60, 70: first to fourth holes.

74:이온 방출구.74: ion outlet.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 이온화 챔버는 반응챔버를 포함하는 몸체와 상기 몸체 상, 하부에 각각 덮개와 하부 대를 구비하고, 상기 몸체의 좌, 우측에 엔드 캡(end cap)을 구비하는 아크 챔버에 있어서, 상기 덮개와 상기 몸체는 분리 가능하게 체결되어 있고, 상기 몸체와 상기 엔드 캡은 일체형으로 되어 있다.In order to achieve the above technical problem, the ionization chamber according to the present invention includes a body including a reaction chamber, and a cover and a lower base on the upper and lower portions of the body, and end caps on the left and right sides of the body. In the arc chamber provided, the lid and the body are detachably fastened, and the body and the end cap are integrated.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 덮개와 상기 몸체는 슬라이딩 방식으로 체결되어 있다.According to an embodiment of the present invention, the cover and the body are fastened in a sliding manner.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 덮개는 상기 반응챔버의 벽과 상기 몸체의 좌, 우 측면 사이의 몸체와 체결되어 있다.According to an embodiment of the invention, the cover is fastened to the body between the wall of the reaction chamber and the left and right sides of the body.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 덮개의 상기 체결부위에 대응하는 부분의 하부에는 단면이 삼각형인 체결수단이 양각되어 있다.According to an embodiment of the present invention, a fastening means having a triangular cross section is embossed on a lower portion of the portion corresponding to the fastening portion of the cover.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 몸체의 체결부위에는 상기 덮개의 양각된 체결수단이 체결될 수 있도록 단면이 삼각형인 홈이 음각되어 있다.According to an embodiment of the present invention, a groove having a triangular cross section is engraved on the fastening portion of the body so that an embossed fastening means of the cover can be fastened.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 양각 및 음각된 체결수단의 단면은 원형, 마름모형, 사각형 또는 타원형중 선택된 어느 하나이다.According to an embodiment of the present invention, the cross section of the embossed and engraved fastening means is any one selected from circular, rhombus, square or oval.

본 발명은 이온화 챔버의 몸체와 이온 방출구를 구비하는 덮개가 체결되어 있어 분리가능한 반면, 상기 몸체의 좌, 우 측면에 구비된 엔드 캡은 상기 몸체와 일체화되어 분리 불가능하다. 따라서 상기 아크 챔버를 청소하기 위해서는 상기 덮개를 제거한 후, 상기 아크 챔버의 반응챔버를 청소하므로 상기 엔드 캡을 제거한 후 청소할 때 보다 청소 및 정비가 용이하다. 또한, 이온화 공정중에 상기 엔드 캡이 이탈되는 현상을 방지하여 설비가 다운되는 것을 방지할 수 있으므로 이온화 공정이 안정적으로 진행될 수 있다. 뿐만 아니라 상기 이온 방출구의 교체시 상기 덮개만 교체하면 되므로 상기 몸체 전체를 교체하는 것에 비해 소모품의 교환비용을 줄일 수 있다.The present invention is detachable because the cover having the body of the ionization chamber and the ion outlet is fastened, while the end caps provided on the left and right sides of the body are integrated with the body and are not removable. Therefore, in order to clean the arc chamber, after the cover is removed, the reaction chamber of the arc chamber is cleaned, so cleaning and maintenance are easier than removing the end cap. In addition, the ionization process may be stably performed since the end cap may be prevented from falling off during the ionization process, thereby preventing the equipment from going down. In addition, since only the cover needs to be replaced when the ion release port is replaced, the replacement cost of the consumables can be reduced compared to replacing the entire body.

이하, 본 발명의 실시예에 의한 이온화 챔버를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, an ionization chamber according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

첨부된 도면들 중, 도 7 내지 도 10은 각각 본 발명의 실시예에 의한 이온화 챔버의 정면도, 우측면도, 평면도 및 배면도이다.Among the accompanying drawings, FIGS. 7 to 10 are a front view, a right side view, a top view, and a rear view, respectively, of an ionization chamber according to an embodiment of the present invention.

도 11 및 도 12는 각각 본 발명의 실시예에 의한 이온화 챔버의 이온 추출부의 평면도 및 우측면도이다.11 and 12 are a plan view and a right side view of the ion extracting unit of the ionization chamber according to the embodiment of the present invention, respectively.

상기 각 도에서 동일한 참조번호는 동일한 부재를 나타낸다.Like reference numerals in the drawings denote like elements.

도 7을 참조하면, 본 발명의 실시예에 의한 이온화 챔버는 몸체(40)와 기타 부분으로 구분할 수 있다. 상기 기타 부분은 상기 몸체(40)의 좌, 우측 측면에 상기 몸체(40)와 일체화되어 있는 엔드 캡(42)과 상기 몸체(40)와 상기 엔드 캡(42)의 상부를 덮고 있는 덮개(44) 및 상기 엔드 캡(42)과 상기 몸체(40)의 하부를 덮고 있는 하부 대(46)이다. 상기 덮개(44)는 상기 몸체(40)와 체결되어 있으며 분리가능하다. 반면, 상기 하부 대(46)는 상기 몸체(40)와 일체화 되어 있어 분리 가능하지 않다. 또한, 도 9를 참조하면, 상기 덮개(44)가 상기 엔드 캡(42)과 상기 몸체(40)로 이루어지는 상부 사이즈와 동일한 사이즈인 반면, 도 10을 참조하면, 상기 하부 대(46)의 사이즈는 상기 엔드 캡(42)과 상기 몸체(40)로 이루어지는 하부 사이즈보다 크다. 따라서 도 7에서 상기 하부 대(46)의 좌, 우측은 소정의 길이 만큼 돌출되어 있다.Referring to FIG. 7, the ionization chamber according to the embodiment of the present invention may be divided into a body 40 and other parts. The other part has an end cap 42 integrated with the body 40 on the left and right sides of the body 40 and a cover 44 covering the upper portion of the body 40 and the end cap 42. And a lower stand 46 covering the lower end of the end cap 42 and the body 40. The cover 44 is fastened to and detachable from the body 40. On the other hand, the lower base 46 is integrated with the body 40 is not removable. In addition, referring to FIG. 9, the lid 44 is the same size as the upper size consisting of the end cap 42 and the body 40, while referring to FIG. 10, the size of the lower stem 46. Is larger than the bottom size consisting of the end cap 42 and the body 40. Therefore, in FIG. 7, the left and right sides of the lower base 46 protrude by a predetermined length.

도 1에서 상기 몸체(40)의 중앙에는 소정의 직경을 갖는 제1 홀(48)과 상기 제1 홀(48)보다는 직경이 작은 제2 내지 제4 홀(50, 52, 54)이 구비되어 있다. 그런데, 도 8 및 도 9 또는 도 10을 참조하면, 상기 제1 홀(48)은 반응챔버(56)와 통해 있는 홀이나, 상기 제2 내지 제4 홀(50, 52, 54)는 홀이아니라 상기 몸체(40)에 소정의 깊이를 홈인 것을 알 수 있다.In FIG. 1, a center of the body 40 includes a first hole 48 having a predetermined diameter and second to fourth holes 50, 52, and 54 having a smaller diameter than the first hole 48. have. 8 and 9 or 10, the first hole 48 is a hole through the reaction chamber 56, but the second to fourth holes 50, 52, and 54 are holes. It can be seen that the groove has a predetermined depth rather than the body 40.

이하, 상기 제2 내지 제 4 홀(50, 52, 54)을 제1 내지 제3 홈(50, 52, 54)이라 한다.Hereinafter, the second to fourth holes 50, 52, and 54 are called first to third grooves 50, 52, and 54.

상기 제1 내지 제3 홈(50, 52, 54)은 삼각형의 정점에 위치해 있는데, 도 8을 참조하면, 상기 제1 홀(48)은 상기 제3 홈(54)보다 상기 제1 및 제2 홈(50, 52) 쪽으로 치우쳐 있다는 것을 알 수 있다. 상기 제1 홀(48)을 통해서 이온화 가스가 공급된다.The first to third grooves 50, 52, and 54 are located at the apex of a triangle. Referring to FIG. 8, the first hole 48 is the first and second grooves than the third groove 54. It can be seen that it is biased toward the grooves 50 and 52. Ionization gas is supplied through the first hole 48.

도 7을 참조하면, 상기 하부 대(46)의 좌, 우측 돌출부에 제2 홀(58)이 구비된 것을 알 수 있는데, 도 8을 참조하면, 상기 제2 홀(58)은 상기 하부 대(46)의 네 모서리에 각 한 개씩, 모두 네 개 구비되어 있는 것을 알 수 있다. 상기 제2 홀(58)은 베이퍼라이즈 홀이다.Referring to FIG. 7, it can be seen that the second hole 58 is provided at the left and right protrusions of the lower base 46. Referring to FIG. 8, the second hole 58 is the lower base ( It is understood that four corners of 46) are provided, one for each one. The second hole 58 is a vaporization hole.

또한, 도 7, 도 8 및 도 10을 참조하면, 상기 하부 대(46)의 중앙에 한 개의 제3 홀(60)이 있고, 상기 제3 홀(60)을 중심으로 상, 하, 좌, 우에 각 하나 씩 제4 내지 제7 홈(62, 64, 66, 68)이 구비되어 있다. 상기 제3 홀(60)은 상기 반응챔버(56)와 통해 있다. 상기 제4 내지 제7 홈(62, 64, 66, 68)은 동일한 홈이고, 상기 제3 홀(60)보다 작은 직경을 갖는다.7, 8, and 10, there is one third hole 60 in the center of the lower base 46, and the upper, lower, left, Fourth to seventh grooves 62, 64, 66, and 68 are provided at the right side thereof, respectively. The third hole 60 is through the reaction chamber 56. The fourth to seventh grooves 62, 64, 66, and 68 are the same grooves, and have a diameter smaller than that of the third hole 60.

도 7 및 도 8을 참조하면, 상기 엔드 캡(42)의 중앙에 제4 홀(70)과 상기 제4 홀(70)을 감싸는 원형의 제8 홈(72)이 구비되어 있다. 상기 제4 홀(70)은 상기 반응챔버(56)와 통해 있고 여기에는 필라멘트가 삽입된다.7 and 8, a circular eighth groove 72 surrounding the fourth hole 70 and the fourth hole 70 is provided at the center of the end cap 42. The fourth hole 70 is through the reaction chamber 56 and a filament is inserted therein.

도 7 및 도 9를 참조하면, 상기 덮개(44)의 안쪽은 상기 반응챔버(56)의 상부의 일부를 담당하고 있다. 곧, 상기 덮개(44)의 안쪽은 상기 반응챔버(56) 벽의 일부로 사용된다. 상기 덮개(44)의 상기 반응챔버의 벽으로 사용되는 부분에는 상기 반응챔버(56)에서 형성되는 이온을 방출하는 이온 방출구(74)가 구비되어 있다. 도 8을 참조하면, 상기 이온 방출구(74)의 사이즈는 상기 반응챔버(56)와 접하는 부분에서 작고 밖으로 갈수록 커지는 것을 알 수 있고, 도 9를 참조하면, 상기 이온 방출구(74)의 평면적 형태는 직사각형인 것을 알 수 있다. 하지만, 상기 이온 방출구(74)의 형태는 상기 직사각형으로 한정하지 않으며, 다른 형태 예컨대, 정사각형이나 (복수개의)원형이어도 무방하다.7 and 9, the inside of the lid 44 is responsible for a part of the upper portion of the reaction chamber 56. In other words, the inside of the lid 44 is used as part of the reaction chamber 56 wall. A portion of the lid 44 used as a wall of the reaction chamber is provided with an ion discharge port 74 for releasing ions formed in the reaction chamber 56. Referring to FIG. 8, it can be seen that the size of the ion outlet 74 is small in contact with the reaction chamber 56 and becomes larger toward the outside. Referring to FIG. 9, the area of the ion outlet 74 is planar. It can be seen that the shape is rectangular. However, the shape of the ion ejection opening 74 is not limited to the rectangle, and may be other shapes such as square or (plural) circles.

도 7에서 참조번호 76은 상기 이온화 챔버의 몸체(40)와 상기 덮개(44)의 체결된 부분을 투영으로 나타낸다. 도 7을 참조컨대, 상기 몸체(40)와 상기 덮개(44)는 상기 몸체(40)의 상단부에 체결되어 있고, 상기 몸체(40)의 좌측 끝에서 우측 끝까지 이어져 있는 것을 알 수 있다. 아울러, 상기 몸체(40)의 좌, 우측에 구비된 엔드 캡(42) 까지 상기 체결부위가 형성되어 있는 것을 알 수 있다. 도 8을 참조하면, 상기 덮개(44)는 상기 반응챔버(56)의 벽과 상기 몸체(40)의 좌, 우 측면 사이의 몸체와 체결되어 있다. 또한, 상기 덮개(44)의 상기 체결부위에 대응하는 부분의 하부에는 단면이 삼각형인 체결수단이 상기 덮개(44)의 한쪽 끝에서 반대쪽 끝까지 양각되어 있다. 결과적으로 상기 단면이 삼각형이고 양각된 체결수단은 상기 덮개(44)에 부착된 삼각형 기둥이다. 상기 몸체(40)의 체결부위에는 상기 덮개(44)의 양각된 체결수단이 체결될 수 있도록 단면이 삼각형인 홈이 체결수단으로서 상기 몸체(40)의 한쪽 끝에서 반대 쪽 끝까지 형성되어 있다. 따라서 상기 덮개(44)의 양각된 체결수단(78)의 한쪽을 상기 몸체(40)에 음각된 체결수단(80)의 한쪽에 끼운 다음 반대쪽으로 슬라이딩 시켜서 상기 덮개(44)를 상기 몸체(40)에 체결시킨다.In FIG. 7, reference numeral 76 denotes a projected portion of the body 40 of the ionization chamber and the cover 44. Referring to FIG. 7, it can be seen that the body 40 and the cover 44 are fastened to the upper end of the body 40 and extend from the left end to the right end of the body 40. In addition, it can be seen that the fastening portion is formed to the end cap 42 provided on the left and right sides of the body 40. Referring to FIG. 8, the cover 44 is engaged with a body between the wall of the reaction chamber 56 and the left and right sides of the body 40. In addition, a fastening means having a triangular cross section is embossed from one end to the opposite end of the cover 44 at a lower portion of the portion corresponding to the fastening portion of the cover 44. As a result the cross section is triangular and the embossed fastening means is a triangular pole attached to the cover 44. In the fastening portion of the body 40, a groove having a triangular cross section is formed from one end to the opposite end of the body 40 as a fastening means so that the embossed fastening means of the cover 44 can be fastened. Accordingly, one side of the embossed fastening means 78 of the cover 44 is inserted into one side of the fastening means 80 engraved in the body 40 and then slid to the opposite side to thereby cover the cover 44 with the body 40. Fasten to

도 9에서 참조번호 80a와 80b는 각각 상기 몸체(40)에 음각된 체결수단(도 8의 80)의 바닥의 가장자리 선과 입구의 가장자리 선을 나타낸다.In FIG. 9, reference numerals 80a and 80b denote edge lines at the bottom and edge lines at the bottom of the fastening means (80 in FIG. 8) engraved in the body 40, respectively.

도 11에서 참조번호, 78a와 78b는 각각 상기 단면이 삼각형인 양각된 체결수단(78)의 밑면의 폭과 상기 양각된 체결수단(78)의 상기 덮개(44)와 맞닿은 부분의 폭을 나타낸다.In Fig. 11, reference numerals 78a and 78b denote the width of the bottom surface of the embossed fastening means 78 having the triangles in cross section, respectively, and the width of the portion which abuts on the cover 44 of the embossed fastening means 78.

도 12를 참조하면, 상기 단면이 삼각형인 양각된 체결수단(78)을 명확히 볼 수 있다. 상기 양각된 체결수단(78)은 단면이 삼각형이 아닌 다른 형태일 수 있다. 예를 들면, 상기 양각된 체결수단(78)의 단면은 사각형, 원형, 마름모형 또는 타원형 등일 수 있다. 아울러, 상기 몸체(40)에 음각된 체결수단(80)도 그 단면이 상기 양각된 체결수단(78)의 단면 형태에 맞게 사각형, 원형, 마름모형 또는 타원형일 수 있다. 상기 양각된 체결수단(78)과 상기 음각된 체결수단(80)은 항상 그 단면 형태가 일치해야 한다.Referring to Figure 12, it can be clearly seen the embossed fastening means 78, the cross section is triangular. The embossed fastening means 78 may have a shape other than a triangle in cross section. For example, the cross section of the embossed fastening means 78 may be rectangular, circular, rhombus or elliptical. In addition, the fastening means 80 engraved in the body 40 may also be rectangular, circular, rhombus or elliptical in shape so that the cross section of the fastening means 80 is embossed. The embossed fastening means 78 and the engraved fastening means 80 should always match their cross-sectional shape.

상기한 바와 같이, 상기 양각된 체결수단(78)과 상기 음각된 체결수단(80)은 각각 상기 덮개(44) 또는 몸체(40)의 한쪽 끝에서 반대쪽 끝까지 형성되는 것이 바람직하지만, 필요에 따라 소정의 길이로 형성될 수도 있다.As described above, the embossed fastening means 78 and the engraved fastening means 80 are preferably formed from one end to the opposite end of the cover 44 or the body 40, respectively, if necessary It may be formed in the length of.

이상으로, 본 발명에 의한 이온화 챔버 즉, 아크 챔버는 몸체(40)와 이온 방출구(74)가 구비된 덮개(44)가 체결되어 있어 분리가능한 반면, 상기 몸체(40)의 좌, 우 측면에 구비된 엔드 캡(42)은 상기 몸체(40)와 일체화되어 분리 불가능하다. 따라서 상기 아크 챔버를 청소하기 위해서는 상기 덮개(44)를 제거한 후, 상기 아크 챔버의 반응챔버를 청소하므로 상기 엔드 캡(42)을 제거한 후 청소할 때 보다 청소 및 정비가 용이하다. 또한, 이온화 공정중에 상기 엔드 캡(42)이 이탈되는 현상을 방지하여 설비가 다운되는 것을 방지할 수 있으므로 이온화 공정이 안정적으로 진행될 수 있다. 뿐만 아니라 상기 이온 방출구의 교체시 상기 덮개만 교체하면 되므로 상기 몸체 전체를 교체하는 것에 비해 소모품의 교환비용을 줄일 수 있다.As described above, the ionization chamber, that is, the arc chamber according to the present invention is detachable because the cover 44 having the body 40 and the ion outlet 74 is fastened, and is detachable from the left and right sides of the body 40. The end cap 42 provided in the body 40 is integral with the detachable. Therefore, in order to clean the arc chamber, after removing the cover 44, the reaction chamber of the arc chamber is cleaned, so cleaning and maintenance is easier than removing the end cap 42 and then cleaning. In addition, the ionization process may be stably performed since the end cap 42 may be prevented from falling off during the ionization process, thereby preventing the equipment from being down. In addition, since only the cover needs to be replaced when the ion release port is replaced, the replacement cost of the consumables can be reduced compared to replacing the entire body.

본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 발명의 기술적 사상내에서 당 분야에서의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 실시 가능함은 명백하다.The present invention is not limited to the above embodiments, and it is apparent that many modifications can be made by those skilled in the art within the technical idea of the present invention.

Claims (11)

반응챔버를 포함하는 몸체와 상기 몸체 상, 하부에 각각 덮개와 하부 대를 구비하고, 상기 몸체의 좌, 우측에 엔드 캡(end cap)을 구비하는 아크 챔버에 있어서,An arc chamber including a body including a reaction chamber and upper and lower portions of the upper and lower portions of the body, and end caps on the left and right sides of the body, 상기 덮개와 상기 몸체는 분리 가능하게 체결되어 있고, 상기 몸체와 상기 엔드 캡은 일체형으로 된 것을 특징으로 하는 이온화 챔버.And the cover and the body are detachably fastened, and the body and the end cap are integral. 제 1 항에 있어서, 상기 덮개와 상기 몸체가 체결되는 부위는 두 군데 인 것을 특징으로 하는 이온화 챔버.The ionization chamber of claim 1, wherein two parts of the cover and the body are fastened to each other. 제 1 항에 있어서, 상기 덮개의 사이즈는 상기 몸체와 상기 엔드 캡으로 이루어지는 상부 사이즈와 동일한 것을 특징으로 하는 이온화 챔버.The ionization chamber of claim 1, wherein the size of the cover is the same as the upper size of the body and the end cap. 제 1 항에 있어서, 상기 덮개와 상기 몸체는 슬라이딩 방식으로 체결된 것을 것을 특징으로 하는 이온화 챔버.The ionization chamber of claim 1, wherein the cover and the body are fastened in a sliding manner. 제 2 항에 있어서, 상기 덮개는 상기 반응챔버의 벽과 상기 몸체의 좌, 우 측면 사이의 몸체와 체결되어 있는 것을 특징으로 하는 이온화 챔버.The ionization chamber of claim 2, wherein the cover is engaged with a body between a wall of the reaction chamber and left and right sides of the body. 제 5 항에 있어서, 상기 덮개의 상기 체결부위에 대응하는 부분의 하부에는 단면이 삼각형인 체결수단이 구비된 것을 특징으로 하는 이온화 챔버.The ionization chamber according to claim 5, wherein a lower end of a portion corresponding to the fastening portion of the cover is provided with a fastening means having a triangular cross section. 제 6 항에 있어서, 상기 덮개의 상기 체결부위에 대응하는 부분의 하부에는 단면이 삼각형인 체결수단이 양각되어 있는 것을 특징으로 하는 이온화 챔버.7. The ionization chamber according to claim 6, wherein a fastening means having a triangular cross section is embossed under a portion corresponding to the fastening portion of the lid. 제 7 항에 있어서, 상기 양각된 체결수단은 상기 덮개의 한쪽 끝에서 반대쪽 끝까지 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 이온화 챔버.8. The ionization chamber of claim 7, wherein said embossed fastening means is formed from one end of said cover to the other end. 제 7 항에 있어서, 상기 몸체의 체결부위에는 상기 덮개의 양각된 체결수단이 체결될 수 있도록 단면이 삼각형인 홈이 음각되어 있는 것을 특징으로 하는 이온화 챔버.8. The ionization chamber of claim 7, wherein a groove having a triangular cross section is engraved in the fastening portion of the body so that an embossed fastening means of the cover can be fastened. 제 9 항에 있어서, 상기 단면이 삼각형인 음각된 홈은 상기 몸체의 한쪽 끝에서 반대 쪽 끝까지 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 이온화 챔버.10. The ionization chamber of claim 9, wherein the indented groove having a triangular cross section is formed from one end to the opposite end of the body. 제 7 항에 있어서, 상기 양각 및 음각된 체결수단의 단면은 원형, 마름모형, 사각형 또는 타원형중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이온화 챔버.8. The ionization chamber of claim 7, wherein a cross section of the embossed and engraved fastening means is any one selected from a circle, a rhombus, a rectangle, and an oval.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100290052B1 (en) * 1999-04-30 2001-05-15 최익순 method for manufacturing rolling compactional soil concrete and composition of rolling compactional soil concrete
KR100290051B1 (en) * 1999-04-30 2001-05-15 최익순 method for manufacturing fluid soil concrete and composition of fluid soil concrete

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100290052B1 (en) * 1999-04-30 2001-05-15 최익순 method for manufacturing rolling compactional soil concrete and composition of rolling compactional soil concrete
KR100290051B1 (en) * 1999-04-30 2001-05-15 최익순 method for manufacturing fluid soil concrete and composition of fluid soil concrete

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