KR19990015450A - 반도체 장치 제조용 로장치 - Google Patents

Abstract

본 발명에 따른 로장치는 히터(heater)와 히터에 의해 가열되는 프로세스 튜브(process tube)와 프로세스 튜브에 삽입되며 프로세스 튜브를 봉하는 플랜지(flange)를 가지는 앳모스캔 튜브(atmoscan tube) 및 앳모스캔 튜브의 일단에 앳모스캔 튜브와 일체로 형성된 도어 플레이트(door plate)를 포함한다.

Description

반도체 장치 제조용 로장치

본 발명은 반도체 장치 제조용 장치에 관한 것으로, 특히 로장치(furnace apparatus)에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체 장치를 제조하는 공정에는 열적 공정, 예컨대 확산 공정, 화학 기상 증착 공정 등을 포함하고 있다. 이러한 열적 공정에서는 로장치가 주로 이용된다.

도 1은 종래의 로장치를 개략적으로 나타내고, 도 2는 도 1의 A부분을 확대하여 개략적으로 나타낸다.

도 1을 참조하면, 종래의 로장치는 히터(heater;10), 상기 히터(10)에 의해서 가열되는 프로세스 튜브(process tube;20), 상기 프로세스 튜브(20)에 삽입되는 앳모스캔 튜브(atmoscan tube;30)를 포함한다. 프로세스 튜브(10)는 챔버(chamber;도시되지 않음)에 부착되며 챔버에 부착되는 제어 장치(도시되지 않음)에 의해서 온도가 조절되어 요구되는 열적 공정이 진행된다. 이때, 상기 앳모스캔 튜브(30)내에는 반도체 기판(도시되지 않음)이 인입된다.

도 2를 참조하면, 상기 앳모스캔 튜브(30)는 상기 프로세스 튜브를 봉하는 제1플랜지(first flange;40)와 도어 플레이트(door plate;51) 및 제2플랜지(55)를 가지는 일단부를 가진다. 이때, 상기 도어 플레이트(51)와 상기 제2플랜지(55)의 사이에는 흑연(graphite) 재질의 제1개스킷(first gasket;52)이 도입되어 상기 도어 플레이트(51)와 상기 제2플랜지(55)의 사이를 밀봉한다. 또한 상기 제2플랜지(55)의 배후에는 제2개스킷(53) 및 스프링 링(spring ring;56)이 도입되어 상기 제2플랜지(55)와 도어 플레이트(51)를 연결시킨다. 상기 도어 플레이트(51)의 앞단에는 가스를 인입할 수 있는 인렛 플러그(inlet plug;59)가 상기 도어 플레이트(51)와 일체형으로 형성된다. 또한 상기 도어 플레이트(51)의 앞단에 지지용 플레이트(57)가 도입되어 상기 앳모스캔 튜브(30)를 이동시키고 대기시킬 때 지지하는 작용을 한다. 이때, 상기 지지용 플레이트(57)는 스테인리스 스틸(stainless steel)로 형성된다. 또한, 상기 지지용 플레이트(57)와 상기 도어 플레이트(52)의 사이에는 제3개스킷(54)이 도입된다.

상술한 바와 같은 종래의 로장치는, 도어 플레이트(51)와 제2플랜지(55)를 연결시킬 때, 흑연 재질의 제1개스킷(52)을 도입함으로써, 공정에 좋지 않은 영향을 주어 불량의 발생을 야기할 수 있다. 또한, 도어 플레이트(51)에 인렛 플러그(57)가 형성되어 있어, 상기한 바와 같이 앳모스캔 튜브(40)를 조립하거나 해체할 때, 또는 도어 플레이트(51)를 교체할 때 파손되거나 번거러운 점이 있다. 또한, 상기 제2플랜지(55)에 도어 플레이트(51)를 연결할 때, 상기 제2플랜지(55)가 파손되어 고가의 앳모스캔 튜브(30) 전체를 폐기해야하는 자재 손실이 발생할 수 있다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 플랜지의 파손을 방지하며 흑연 재질의 개스킷의 도입에 따른 공정에서의 불량의 발생을 방지할 수 있는 반도체 제조 장치의 로장치를 제공하는 데 있다.

도 1 및 도 2는 종래의 로장치를 설명하기 위해서 도시한 개략도들이다.

도 3 내지 도 5는 본 발명에 따른 로장치를 설명하기 위해서 도시한 개략도들이다.

상기의 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은, 히터와 상기 히터에 의해 가열되는 프로세스 튜브와 상기 프로세스 튜브에 삽입되며 상기 프로세스 튜브를 봉하는 플랜지를 가지는 앳모스캔 튜브 및 상기 앳모스캔 튜브의 일단에 상기 앳모스캔 튜브와 일체로 형성된 도어 플레이트를 포함한다.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.

도 3은 본 발명에 따른 로장치를 개략적으로 나타낸다.

도 4는 도 3의 B부분을 확대하여 개략적으로 나타낸다.

도 5는 도 4의 C부분의 개략적인 단면을 나타낸다.

구체적으로, 본 발명에 따른 로장치는 히터(300)와 상기 히터(300)에 의해 가열되는 프로세스 튜브(200)와 상기 프로세스 튜브(200)에 삽입되며 상기 프로세스 튜브(200)를 봉하는 플랜지(400)를 가지는 앳모스캔 튜브(300) 및 상기 앳모스캔 튜브(300)의 일단에 상기 앳모스캔 튜브(300)와 일체로 형성된 도어 플레이트(510)를 포함한다.

상술한 바와 같은 본 발명에 따른 로장치의 앳모스캔 튜브(300)는 그 일단부에 도어 플레이트(510)가 일체형으로 형성된다. 이때, 상기 도어 플레이트(510)는 상기 앳모스캔 튜브(300)와 동일한 재질, 예컨대 석영으로 이루어진다. 또한, 상기 도어 플레이트(510)가 상기 앳모스캔 튜브(300)와 일체형으로 형성되므로, 상기 도어 플레이트(510)는 종래의 제2플랜지(55)의 역할을 겸하고 있어 그 두께가 종래의 도어 플레이트(51)에 비해 두껍게 형성된다. 따라서, 종래에서와 같이 상기 도어 플레이트(510)와 앳모스캔 튜브(300)를 밀봉하기 위한 흑연 재질의 제1개스킷(52)을 도입할 필요가 없다. 따라서, 공정 중 흑연에 의한 오염과 같은 공정 불량의 발생을 방지할 수 있다.

상술한 바와 같이 도어 플레이트(510)이 일단부에서 일체형으로 형성된 앳모스캔 튜브(300)에 지지용 플레이트(570)를 연결한다. 이에 따라 상기 지지용 플레이트(570)와 상기 도어 플레이트(510)의 사이에는 제3개스킷(540)이 도입된다. 또한, 상기 도어 플레이트(510)의 후면에는 제2개스킷(530) 및 스프링 링(560)이 도입되어 상기 도어 플레이트(510)와 지지용 플레이트(570)를 연결시킨다.

또한, 상기 도어 플레이트(510)에는, 도어 플레이트(510)의 앞단에 가스를 인입하며 착탈 가능한 인렛 플러그(590)를 연결하기 위한 홈(515)이 형성되어 있다. 상기 홈(515)에 독립적인 인렛 플러그(590)가 연결되어 상기 앳모스캔 튜브(300)에 가스, 예컨대 질소 가스(N₂)를 공급한다. 이와 같이 인렛 플러그(590)가 분리 가능하게 형성되므로, 상기 인렛 플러그(590)가 파손될 시에 그 교체가 용이하다. 즉, 종래에서의 도어 플레이트(51) 전체를 교체하는 것과는 달리 인렛 플러그(590)만 교체하는 것이 가능하다.

이상, 본 발명을 구체적인 실시예를 통해서 상세히 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.

상술한 본 발명에 따르면, 앳모스캔 튜브의 일단에 일체형으로 도어 플레이트를 형성함으로써, 공정을 수행할 때 흑연의 오염과 같은 공정 불량을 방지할 수 있다. 또한, 상기 도어 플레이트에 착탈 가능한 인렛 플러그를 도입함으로써 파손 교체시 그 수행을 보다 용이하게 할 수 있다.

Claims (1)

1. 히터;

   상기 히터에 의해 가열되는 프로세스 튜브;

   상기 프로세스 튜브에 삽입되며 상기 프로세스 튜브를 봉하는 플랜지를 가지는 앳모스캔 튜브; 및

   상기 앳모스캔 튜브의 일단에 상기 앳모스캔 튜브와 일체로 형성된 도어 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 제조용 로장치.