KR19990007801A - Modified poly (maleic anhydride-co-styrene) and related polymers usable as substrates for color filters - Google Patents
Modified poly (maleic anhydride-co-styrene) and related polymers usable as substrates for color filters Download PDFInfo
- Publication number
- KR19990007801A KR19990007801A KR1019970707324A KR19970707324A KR19990007801A KR 19990007801 A KR19990007801 A KR 19990007801A KR 1019970707324 A KR1019970707324 A KR 1019970707324A KR 19970707324 A KR19970707324 A KR 19970707324A KR 19990007801 A KR19990007801 A KR 19990007801A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- coating
- filter
- color filter
- color
- parts
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
색필터 배열 등에 사용하기 위한 색 소자의 제조 방법 및 이러한 방법에 사용되기 위한 재료가 개시되어 있다. 재료는 개질된 폴리(말레산 무수물-코-스티렌) 및 관련된 중합체일 수 있다. 중합체는 보호 또는 차단 및 침출/오염 방지 코팅과 같은 투명하거나 부분적으로 투명한 형태의 비히클로서 사용될 수 있다. 중합체는 또한 각각의 색 소자를 제조하는 염료와 조합될 수 있다. 재료는 종래의 사진 평판술과 병용할 수 있다.A method of manufacturing a color element for use in color filter arrangements and the like and a material for use in such a method are disclosed. The material can be a modified poly (maleic anhydride-co-styrene) and related polymers. The polymer may be used as a vehicle in a transparent or partially transparent form, such as a protective or barrier and leaching / antifouling coating. The polymer may also be combined with the dye to make each color element. The material can be used in combination with conventional photolithography.
Description
칼라 평판 디스플레이 및 칼라 비디오 검출기의 제조는 착색된 중합체 코팅 (이하 색필터)을 사용하여 평판 디스플레이를 위한 착색된 화소, 통상적으로는 붉은색, 녹색 및 파란색의 배열 및 칼라 비디오 검출기를 위한 청록색, 마젠타색 및 노란색의 배열을 구성하는 것에 의존한다. 평판 디스플레이에서 색필터는 색필터 배열 뒤에 위치한 광원으로부터 나온 빛의 선택적 통과를 허용하는 패턴으로 투명한 기판 위에 배열된다. 칼라 비디오 검출기는 미리 결정된 파장의 주변 빛을 색필터 배열의 뒤에 위치한 반도체 광-셀의 어드레스된 배열로 통과시키기 위해 필터 배열을 사용한다.The manufacture of color flat panel displays and color video detectors uses an array of colored pixels, typically red, green and blue, for the flat panel display using colored polymer coatings (hereinafter color filters) and cyan, magenta for color video detectors. It depends on what constitutes an array of colors and yellow. In flat panel displays, color filters are arranged on a transparent substrate in a pattern that allows selective passage of light from a light source located behind the color filter array. The color video detector uses a filter array to pass ambient light of a predetermined wavelength into an addressed array of semiconductor light-cells located behind the color filter array.
색필터 플레이트 및 칼라 비디오 검출기 제조는 착색된 화소의 배열을 정하는 사진 평판술의 사용에 의존한다. 화소를 패턴화하는데 사용하는 두 가지 종래의 통상적 방법은 습식 에칭 (용매 에칭) 및 건식 에칭 (플라스마 또는 반응성 이온 에칭)이다. 두 방법 모두 색필터가 기판에 균일하게 도포되어 전형적으로는 색필터 1 내지 2 ㎛ 두께의 필름을 형성할 필요가 있다.The manufacture of color filter plates and color video detectors relies on the use of photolithography to define the arrangement of colored pixels. Two conventional conventional methods used to pattern pixels are wet etching (solvent etching) and dry etching (plasma or reactive ion etching). In both methods, the color filter is uniformly applied to the substrate to form a film typically having a color filter of 1 to 2 μm.
색필터의 도포는 통상적으로 색필터 용액을 스피닝 기판의 중앙에 놓고 원심력에 의해 균일하게 표면상에 퍼지도록 하는 스핀 코팅과 같은 공지된 방법에 의해 수행한다.Application of the color filter is usually carried out by known methods such as spin coating, which places the color filter solution in the center of the spinning substrate and spreads evenly on the surface by centrifugal force.
습식 에칭 방법은 전형적으로 1) 색필터 도포, 2) 코팅을 부분적으로 불용성화하기 위해 연하게 굽기, 3) 포토레지스트의 도포, 4) 포토레지스트의 노출, 5) 노출된 포토레지스트 및 밑에 있는 색필터의 용매 제거, 6) 잔류 포토레지스트의 용매 제거, 7) 색필터의 최종 경화로 이루어지는 다단계 공정이다. 후속적 색필터가 먼저 처리된 색필터 상에 도포되고 상기 기재한 바와 같이 선택적 제거에 의해 패턴화되는데 사용되는 각각의 추가 색필터에 대해 이들 단계를 반복한다.Wet etching methods typically include 1) color filter application, 2) light baking to partially insoluble the coating, 3) application of photoresist, 4) exposure of photoresist, 5) exposed photoresist and underlying color. It is a multi-step process consisting of solvent removal of the filter, 6) solvent removal of the residual photoresist, and 7) final curing of the color filter. Subsequent color filters are first applied onto the treated color filters and repeated for each additional color filter used to be patterned by selective removal as described above.
건식 에칭법은 전형적으로 1) 색필터의 도포, 2) 단단하게 구워 중합체를 경화시킴, 3) 포토레지스트의 도포, 4) 노출된 포토레지스트의 용매 제거, 5) 잔류 포토레지스트 및 반응성 플라스마를 사용하여 포토레지스트로 코팅되지 않은 색필터의 영역을 제거하는 것으로 이루어지는 다단계 공정이다.Dry etching typically uses 1) application of color filters, 2) hard baking to cure the polymer, 3) application of photoresist, 4) solvent removal of exposed photoresist, 5) residual photoresist and reactive plasma. Thereby removing the area of the color filter which is not coated with the photoresist.
다색 배열을 제조하려면 먼저 처리된 색필터의 상층에 추가의 색필터를 코팅해야 한다. 색필터 용액을 먼저 처리된 색필터 위에 코팅하는 경우, 먼저 처리된 색필터의 염료가 중합체 매트릭스에서 나와, 도포되는 다음 층의 용매로 확산되는, 침출 (leaching)로 명명되는 현상이 일어날 수 있다. 또한 도포되는 색필터 용액의 염료가 이미 처리된 색필터로 확산되는 오염 (staining)이라는 또하나의 현상이 일어날 수 있다. 두 현상 모두 색필터의 색도를 감소시킬 수 있는 염료의 혼합을 유발한다.To produce a multicolor array, an additional color filter must first be coated on top of the treated color filter. When the color filter solution is coated onto the first treated color filter, a phenomenon called leaching may occur, in which the dye of the first treated color filter leaves the polymer matrix and diffuses into the solvent of the next layer to be applied. In addition, another phenomenon may occur, such as staining, in which the dye of the color filter solution to be applied is diffused into an already treated color filter. Both phenomena cause a mixture of dyes that can reduce the chromaticity of the color filter.
출원인은 미국특허 제4,822,718호 및 미국특허 제4,876,165호 및 문헌 {W. Latham 및 D. Hawley, Color Filters From Dyed Polyimides, Solid State Technology, 1988년 5월}을 알고 있으며, 이 개시 내용은 본 명세서에 참고로 도입되어 있다.Applicants are described in US Pat. No. 4,822,718 and US Pat. Latham and D. Hawley, Color Filters From Dyed Polyimides, Solid State Technology, May 1988, the disclosures of which are incorporated herein by reference.
침출 및 오염의 영향은 (예를 들면, 미국특허 제4,876,165호 및 미국특허 제4,822,718호에 기재된 바와 같이) 색필터 매트릭스 재료로 폴리이미드 전구체 (폴리아미드산)를 사용함으로써 감소된 바 있었다. 착색된 폴리이미드를 색필터로 사용하는 것은 또한 문헌 {W. Latham 및 D. Hawley, Color Filters From Dyed Polyimides, Solid State Technology, 1988년 5월}에 기재되어 있다. 라탐 (Latham) 및 호레이 (Hawley)에 따르면, 1 시간 동안 230 ℃에서 경화된 착색된 폴리이미드는 1 내지 2 ㎛의 필름 두께에 대해 침출 및 오염에 대한 실질적 내성을 제공한다. 그러나, 착색된 폴리이미드의 침출 및 오염 내성은 염료 담지량 (loading), 즉 중합체에 대한 염료의 비율, 특정 염료, 경화 시간/온도 및 폴리이미드의 구조에 달려 있다.The effects of leaching and contamination have been reduced by using polyimide precursors (polyamic acid) as color filter matrix materials (as described, for example, in US Pat. No. 4,876,165 and US Pat. No. 4,822,718). The use of colored polyimides as color filters is also described in W. Latham and D. Hawley, Color Filters From Dyed Polyimides, Solid State Technology, May 1988}. According to Latham and Hawley, the colored polyimide cured at 230 ° C. for 1 hour provides substantial resistance to leaching and contamination for film thicknesses of 1 to 2 μm. However, the leaching and contamination resistance of the colored polyimide depends on the dye loading, ie the ratio of dye to polymer, the specific dye, curing time / temperature and the structure of the polyimide.
색필터에 사용되는 폴리이미드를 일정하게 제조하기 위해서는 주의가 필요하다. 알려진 바와 같이, 폴리이미드의 제조에 영향을 주는 주요 인자 중에는 단량체 순도, 단량체 첨가 순서, 단량체 첨가 속도, 반응 온도, 교반 속도 및 시간 및 주변 습도가 포함된다. 알려진 바대로, 폴리이미드를 사용하는 색필터 제제는 확정된 규격에 맞는 제품을 제조하기 위한 주의 깊은 제제/평가 방법을 필요로한다.Care must be taken to uniformly produce the polyimide used in the color filter. As is known, the main factors affecting the preparation of the polyimide include monomer purity, order of monomer addition, rate of monomer addition, reaction temperature, stirring rate and time and ambient humidity. As is known, color filter formulations using polyimides require careful formulation / evaluation methods to produce products that meet established specifications.
색필터에 사용되는 폴리이미드도 또한 적합하게 경화시키기 위한 충분히 높은 온도에서 가열될 경우 얼마간의 이들의 광학적 명징도을 상실한다. 이러한 광학적 투명함의 손실은 경화된 필름의 노란 착색으로 명백하게 드러나며 이는 전하 운반 착물의 생성에 기인된 것으로 생각된다.Polyimides used in color filters also lose some of their optical clarity when heated at a sufficiently high temperature to adequately cure. This loss of optical clarity is evident in the yellow coloration of the cured film, which is believed to be due to the creation of charge transport complexes.
폴리이미드 기재 색필터는 또한 저장 수명이 제한되어 있다. 폴리이미드 전구체 (폴리아미드산)은 시간에 따라 분자량의 변화를 유발하는 아미드 결합의 연속적인 결합/분리를 경험한다. 이러한 분자량 변화는 소정의 스핀 속도로 코팅된 경우 필름 두께의 변화를 유발할 수 있고 공지된 바와 같이 공정 조정을 필요로 할 수 있다.Polyimide based color filters also have a limited shelf life. Polyimide precursors (polyamic acid) undergo continuous linking / separation of amide bonds causing changes in molecular weight over time. Such molecular weight changes can cause changes in film thickness when coated at a given spin rate and may require process adjustments as is known.
발명의 개시Disclosure of the Invention
따라서 본 발명의 목적은 염색된 코팅의 후속적 도포로부터 오염되지 않을 수 있는 투명 중합체 필름을 형성할 수 있는 조성물을 제공하는 것이다.It is therefore an object of the present invention to provide a composition capable of forming a transparent polymer film which may not be contaminated from subsequent application of the dyed coating.
본 발명의 추가적 목적은 코팅이 후속적 처리 단계에서 용매와 접촉하게 될 때 염료의 침출을 견딜 수 있는 유기 염료를 함유한 조성물을 제공하는 것이다.A further object of the present invention is to provide a composition containing an organic dye capable of withstanding leaching of the dye when the coating is brought into contact with the solvent in subsequent processing steps.
본 발명의 추가적 목적은 종래 기술보다 유효한 저장 수명이 더 긴 조성물을 제공함으로써 더 긴 시간 동안 지정된 규격내에서 가공성을 유지하는 최종 제품의 제조를 가능하게 하는 것이다.It is a further object of the present invention to provide a composition with a longer shelf life than the prior art which allows for the preparation of a final product which maintains processability within specified specifications for longer periods of time.
본 발명의 목적은 침출되지 않는 코팅을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a coating that does not leach.
본 발명의 또하나의 목적은 오염되지 않는 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a composition that is not contaminated.
본 발명의 또다른 하나의 목적은 정보 디스플레이 장치 및 센서에서 사용하기 위한 감광성 코팅을 제공하는 것이다.Yet another object of the present invention is to provide a photosensitive coating for use in information display devices and sensors.
본 발명의 목적은 광학적으로 투명한 장벽 코팅을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide an optically transparent barrier coating.
본 발명의 또다른 목적은 저항율 및 유전강도를 비롯한 전기적 성질이 양호한, 양각 및 음각 사진 평판술용 색필터 기재를 제공하는 것이다.It is a further object of the present invention to provide a color filter substrate for embossed and negative photolithography with good electrical properties, including resistivity and dielectric strength.
본 발명의 목적은 종래 기술에 비해 모든 색에 있어서의 명징도가 더 높은 광택제/색대비 투과 필름 (color contrast transmitting film)을 제공하는 것이다. 예를 들면, 투과 필름은 종래 기술의 파란색 보다 더 밝은 파란색을 만든다.It is an object of the present invention to provide a brightener / color contrast transmitting film with higher clarity in all colors as compared to the prior art. For example, the transmissive film produces a lighter blue than the blue of the prior art.
본 발명의 또다른 목적은 일관된 성질을 갖도록 제조될 수 있는 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a composition that can be prepared to have consistent properties.
본 발명의 추가적 또다른 하나의 목적은 종래 재료보다 저장 기간이 더 긴 조성물을 제공하는 것이다.Yet another object of the present invention is to provide a composition with a longer shelf life than conventional materials.
본 발명의 목적은 일성분계를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a one component system.
본 발명의 목적은 유리 또는 다른 기판에 안전하게 고정될 수 있는 화합물을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide compounds that can be securely fixed to glass or other substrates.
이들 및 다른 목적은 펜던트 무수물 기를 함유한 개질된 공중합체 및 카르복실산과 반응할 수 있는 2개 이상의 반응성 관능기를 포함하는 재료를 단일한 화합물로 합함으로써 내용제성, 투명도 및 열 안정성이 양호한 중합체 코팅을 제공하는 본 발명에 의해 만족될 수 있다. 본 발명에 따르면, 반응성 가교결합 성분으로 그래프트되고 카르복실산과 반응할 수 있는 다관능 가교결합 성분 (바람직하게는 차단된 폴리이소시아네이트)과 혼련된, 펜던트 무수물 기를 함유한 공중합체로 이루어진 코팅은 양호한 투명도, 열 안정성, 내용제성, 침출 내성 및 내오염성을 보이는 것으로 밝혀졌다.These and other aims are to combine polymer coatings with good solvent resistance, transparency and thermal stability by combining modified copolymers containing pendant anhydride groups and materials comprising two or more reactive functional groups capable of reacting with carboxylic acids into a single compound. It can be satisfied by the present invention to provide. According to the invention, a coating consisting of a copolymer containing pendant anhydride groups, grafted with a reactive crosslinking component and kneaded with a polyfunctional crosslinking component (preferably blocked polyisocyanate) capable of reacting with a carboxylic acid, has good transparency It has been found to exhibit thermal stability, solvent resistance, leaching resistance and fouling resistance.
본 발명은 본 명세서에 첨부된 도면과 바람직한 태양에 대한 설명을 통해 당분야의 숙련자들에게 보다 완벽하게 이해될 것이다.The invention will be more fully understood by those skilled in the art through the accompanying drawings and the description of the preferred embodiments.
본 발명은 통상적으로, 전자기 스펙트럼의 자외선 (UV), 가시광선 또는 적외선 (IR) 부분의 진동수 밴드를 선택적으로 통과 (또는 차단)시키는 유기 색소가 포함된 코팅이 되어있는 정보 디스플레이 장치 및 센서에서 사용하기 위한 중합체 재료 및 임의로는 침출/오염 내성을 제공하는 투명 장벽 코팅에 관한 것이다.The present invention is typically used in information display devices and sensors with a coating containing an organic pigment that selectively passes (or blocks) the frequency band of the ultraviolet (UV), visible or infrared (IR) portion of the electromagnetic spectrum. To a polymeric material and optionally to a transparent barrier coating that provides leaching / fouling resistance.
도 1은 본 발명을 구현한, 색필터 소자의 침출 내성을 증명하는 그래프이다.1 is a graph demonstrating leaching resistance of a color filter element embodying the present invention.
도 2는 본 발명을 구현한, 다른 칼라 세트의 침출 내성을 증명하는 그래프이다.2 is a graph demonstrating leach resistance of different color sets embodying the present invention.
도 3은 본 발명을 구현한, 시험 칼라 휠의 제조를 보여주는 공정도이다.3 is a process diagram showing the manufacture of a test color wheel embodying the present invention.
도 4는 선행 기술의 종래 코팅의 오염을 보여주는 그래프이다.4 is a graph showing contamination of prior art coatings.
도 5는 본 발명을 구현한, 투명 코팅의 보호 효과를 보여주는 그래프이다.5 is a graph showing the protective effect of a transparent coating, which embodies the present invention.
도 6은 본 발명에 따른 투명 코팅의 제조 및 용도를 보여주는 공정도이다.6 is a process diagram showing the manufacture and use of a transparent coating according to the invention.
도 7은 본 발명의 한 실시태양에 따른 투명 감광성 코팅 사용의 보호 효과를 보여주는 그래프이다.7 is a graph showing the protective effect of using a transparent photosensitive coating according to one embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명에 따른 투명 코팅에 의해 보호되는 코팅의 내오염성 및 침출 내성을 보여주는 그래프이다.8 is a graph showing fouling resistance and leaching resistance of a coating protected by a transparent coating according to the invention.
도 9는 본 발명의 한 실시태양에 따른 투명 감광성 코팅에 의해 제공되는 침출 내성을 보여주는 그래프이다.9 is a graph showing leach resistance provided by a transparent photosensitive coating according to one embodiment of the invention.
도 10은 더 얇은 보호 코팅을 사용하는 도 9와 유사한 그래프이다.FIG. 10 is a graph similar to FIG. 9 using a thinner protective coating.
도 11은 선행 기술에 따른 종래의 칼라계를 보여주는 공정도이다.11 is a process diagram showing a conventional color system according to the prior art.
도 12는 본 발명에 따른 칼라계의 제조를 보여주는 공정도이다.12 is a process chart showing manufacture of a color system according to the invention.
발명을 수행하기 위한 최선의 방법Best way to carry out the invention
본 발명에 따르면, 침출 내성 및 내오염성이 있는 투명한 중합체 코팅재는 폴리(말레산 무수물-코-스티렌), 예를 들면, 아토켐 인크.(Atochem Inc.)가 SMA (등록상표) 수지라는 상품명으로 시판하며 몬산토 캄파니 (Monsanto Company)가 Scripset (등록상표) 수지라는 상품명으로 시판하는 폴리(말레산 무수물-코-스티렌) 및 알드리치 (Aldrich) 및 모노머-폴리머 다작크 랩스 (Monomer-Polymer Dajac Labs)가 시판하는 폴리(말레산 무수물-코-스티렌), 폴리(말레산 무수물-코-메틸비닐 에테르), 예를 들면, 아이에스피 테크날로지즈 (ISP Technologies)가 Gantrez (등록상표) AN 공중합체라는 상품명으로 시판하는 폴리(말레산 무수물-코-메틸비닐 에테르), 또는 폴리(말레산 무수물-코-에틸렌) 예를 들면, 지란 케미칼스 인크. (Zeeland Chemicals Inc.)가 시판하는 폴리(말레산 무수물-코 에틸렌)과 같은 펜던트 무수물기, 바람직하게는 폴리(말레산 무수물-코-스티렌)을 함유한 특정 공중합체를, 무수물과 반응할 수 있는 하나의 관능기 및 열, 광 또는 화학적으로 유도된 중합을 가능하게 하는 하나 이상의 관능기가 있는 다관능 성분과 반응시킴으로써 제조할 수 있다. 다관능 성분 (이하 반응성 그래프트 성분)은 바람직하게는 알릴아민, 디알릴아민, 3-아미노-1-프로판올 비닐 에테르, 알릴 알코올, 4-히드록시부틸 비닐 에테르, 글리세롤 디메타크릴레이트, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트 또는 2-히드록시에틸 아크릴레이트이다. 펜던트 무수물에 대한 반응성 그래프트 성분의 화학량론은 0.5 내지 1.0의 범위, 바람직하게는 1.0일 수 있다. 반응성 그래프트 성분과 펜던트 무수물의 반응은 무수물의 절단, 및 무수물과 반응하는 반응성 그래프트 성분의 관능기가 히드록실기인 경우는 카르복실산 (C=O 스트레치, 1706 - 1760 cm-1) 및 카르복실산 에스테르 (C=O 스트레치, 1715 - 1770 cm-1), 또는 무수물과 반응하는 반응성 그래프트 성분의 관능기가 아미노기인 경우는 아미드 (C=O 스트레치, 1630 - 1700 cm-1)의 후속적 생성을 야기시킨다. 상기한 적외선 C=O 스트레칭 진동수는 문헌 {Silverstein, Rober M., Bassler, G. Clayton, Morrill, Terence C., Spectrometric Identification Of Oragnic Compounds, 제4판, Wiley, N.Y.}에 기재되어 있는 바와 같이 상기한 화학적 관능가에 대한 고유한 흡광 진동수를 나타낸다. 상기한 적외선 흡수 진동수는 무수물 함유 공중합체 상으로 반응성 그래프트 성분을 그래프팅할 때 반응의 지시로서 사용될 수 있다. 히드록시-함유 화합물 또는 아미노-함유 화합물을 공중합체의 무수물 관능기와 반응시킨 결과 생성된 카르복실산은 그래프트된 공중합체가 묽은 염기 수용액에서 용이하게 용해될 수 있도록 한다. 비그래프트된 공중합체의 용해 속도에 대한 묽은 염기 수용액에서 용해의 증가된 속도는 성공적인 그래프트의 정량적 지시를 제공한다. 그래프트 정도의 더욱 정량적 측정은 염기로 적정함으로써 산가를 결정하여 얻는다.According to the present invention, a transparent polymer coating having leaching resistance and fouling resistance is a poly (maleic anhydride-co-styrene), for example Atochem Inc. under the trade name SMA® resin. Poly (maleic anhydride-co-styrene) and Aldrich and monomer-polymer Dazak Labs sold by Monsanto Company under the trade name Scripset® resin Commercially available poly (maleic anhydride-co-styrene), poly (maleic anhydride-co-methylvinyl ether), for example, ISP Technologies, is a Gantrez (R) AN copolymer. Poly (maleic anhydride-co-methylvinyl ether), or poly (maleic anhydride-co-ethylene) sold under the trade name, for example, Jiran Chemicals Inc. Certain copolymers containing pendant anhydride groups, preferably poly (maleic anhydride-co-styrene), such as poly (maleic anhydride-coethylene) commercially available from Zeeland Chemicals Inc., can react with anhydrides It can be prepared by reacting with one functional group and a multifunctional component having at least one functional group to enable thermal, optical or chemically induced polymerization. The multifunctional component (hereinafter reactive graft component) is preferably allylamine, diallylamine, 3-amino-1-propanol vinyl ether, allyl alcohol, 4-hydroxybutyl vinyl ether, glycerol dimethacrylate, 2-hydrate Hydroxyethyl methacrylate or 2-hydroxyethyl acrylate. The stoichiometry of the reactive graft component relative to the pendant anhydride may be in the range of 0.5 to 1.0, preferably 1.0. The reaction of the reactive graft component with the pendant anhydride is carried out by cleavage of the anhydride, and carboxylic acid (C═O stretch, 1706-1760 cm −1 ) and carboxylic acid when the functional group of the reactive graft component reacting with the anhydride is a hydroxyl group. If the functional group of the ester (C═O stretch, 1715-1770 cm −1 ), or reactive graft component, which reacts with anhydride is an amino group, will result in the subsequent production of amide (C═O stretch, 1630 − 1700 cm −1 ) Let's do it. Such infrared C = O stretching frequencies are described above as described in Silverstein, Rober M., Bassler, G. Clayton, Morrill, Terence C., Spectrometric Identification Of Oragnic Compounds, 4th edition, Wiley, NY. Intrinsic absorption frequency for one chemical functional group. The above infrared absorption frequency can be used as an indication of the reaction when grafting the reactive graft component onto an anhydride containing copolymer. The carboxylic acid resulting from the reaction of a hydroxy-containing or amino-containing compound with the anhydride functionality of the copolymer allows the grafted copolymer to be readily dissolved in dilute base aqueous solution. The increased rate of dissolution in dilute base aqueous solution relative to the dissolution rate of the grafted copolymer provides a quantitative indication of successful graft. A more quantitative measure of the degree of grafting is obtained by determining the acid value by titration with a base.
그래프트된 공중합체를 그 다음 그래프트된 공중합체의 펜던트 카르복실산기 또는 반응하지 않은 무수물기와 반응할 수 있는 가교결합 성분과 혼련시킨다. 가교결합 성분은 예를 들면, 시텍크 인더스트리즈 인크. (Cytec Industries Inc.)가 Cymel (등록상표)라는 상품명으로 시판하는 멜라민 기재 경화제 또는 다관능 이소시아네이트일 수 있다. 가교결합 성분은 바람직하게는 차단된 디이소시아네이트 또는 더욱 바람직하게는 차단된 폴리이소시아네이트이다. 이런 유형의 차단된 폴리이소시아네이트는 마일즈 인크. (Miles Inc.)로부터 Desmodur라는 상품명으로, 올린 케미칼스 (Olin Chemicals)로부터 Luxate라는 상품명으로 시판된다. 차단된 이소시아네이트는 미리 결정된 온도까지 가열될 때까지는 반응하지 않기 때문에 이를 사용하면 저장 수명이 연장된 일부 제제의 제조가 가능하다. 차단된 이소시아네이트를 이것의 탈보호 온도까지 가열하면, 이소시아네이트와 전형적으로 결합되는 반응을 할 수 있는 유리 이소시아네이트가 발생된다.The grafted copolymer is then kneaded with a crosslinking component that can react with the pendant carboxylic acid groups or unreacted anhydride groups of the grafted copolymer. Crosslinking components are described, for example, by Sektec Industries Inc. It may be a melamine based curing agent or a polyfunctional isocyanate sold by Cytec Industries Inc. under the trade name Cymel®. The crosslinking component is preferably blocked diisocyanate or more preferably blocked polyisocyanate. This type of blocked polyisocyanate is Miles Inc. Is commercially available under the trade name Desmodur from Miles Inc. and Luxate from Olin Chemicals. Since blocked isocyanates do not react until heated to a predetermined temperature, this allows the preparation of some formulations with extended shelf life. Heating the blocked isocyanate to its deprotection temperature gives rise to free isocyanates that can react with the isocyanate typically.
열경화 과정시에 차단된 이소시아네이트기는 사용된 차단제의 종류에 따라 60 ℃ 내지 200 ℃ 범위의 온도에서 탈보호되기 시작하여 유리 이소시아네이트기를 형성한다. 이런 방식으로 생겨난 유리 이소시아네이트는 문헌 {K.J. Saunders, Organic Polymer Chemistry, Chapman and Hall, 뉴욕, 1973}에 기재되어 있는 바와 같이, 그래프트된 공중합체의 카르복실산기와 반응하여 아미드를 형성한다. 또한 다른 이소시아네이트기와 반응하는 것뿐 아니라, 아미드와 같은 불안정한 양성자를 포함하는 다른 관능기와 이소시아네이트의 2차 반응 가능성도 있다. 상기 기재한 바와 같은 탈보호된 이소시아네이트의 반응은 중합체 매트릭스의 연장된 가교결합을 일으킨다. 반응성 그래프트 성분이 불포화 알킬기인 경우, 200 ℃ 이상의 온도에서 펜던트 반응성 그래프트 성분의 불포화 결합은 반응하여 추가의 가교결합을 제공하는 것으로 생각된다. 반응성 그래프트 성분은 또한 아크릴레이트 라디칼과 같은 광-가교결합 가능한 관능기를 포함할 수 있다.The isocyanate groups blocked during the thermosetting process begin to deprotect at temperatures ranging from 60 ° C. to 200 ° C. depending on the type of blocking agent used to form free isocyanate groups. Free isocyanates generated in this way are described in K.J. Saunders, Organic Polymer Chemistry, Chapman and Hall, New York, 1973}, react with the carboxylic acid groups of the grafted copolymer to form amides. In addition to reacting with other isocyanate groups, there is also the possibility of secondary reactions of isocyanates with other functional groups, including unstable protons such as amides. The reaction of deprotected isocyanates as described above leads to prolonged crosslinking of the polymer matrix. If the reactive graft component is an unsaturated alkyl group, it is believed that the unsaturated bonds of the pendant reactive graft component at temperatures above 200 ° C. react to provide further crosslinking. The reactive graft component may also include photo-crosslinkable functional groups such as acrylate radicals.
출발 말레산 무수물 공중합체의 구조는 통상적으로 하기에 기재한 바와 같다.The structure of the starting maleic anhydride copolymer is typically as described below.
식 중, R은 H, -OCH3,이다.Wherein R is H, -OCH 3 , to be.
그래프트된 말레산 무수물 공중합체의 구조는 통상적으로 하기에 기재한 바와 같다.The structure of the grafted maleic anhydride copolymer is typically as described below.
식 중, X는 탄소 원자수가 2 내지 20인 직쇄 또는 분지쇄 불포화 알코올 또는 아민일 수 있다. 직쇄 또는 분지쇄 불포화 알코올 및(또는) 아민의 혼합물을 사용할 수도 있다. m은 0.2 내지 1일 수 있고 n은 0.8 내지 0일 수 있다.Wherein X may be a straight or branched chain unsaturated alcohol or amine having 2 to 20 carbon atoms. Mixtures of straight or branched chain unsaturated alcohols and / or amines may also be used. m may be 0.2 to 1 and n may be 0.8 to 0.
오른쪽 (B) 부분은 상기한 바와 같은 말레산 무수물 공중합체이고 왼쪽의 (A) 부분은 아민 또는 알코올 성분을 포함할 수 있는, 상기 기재한 바와 같은 그래프트된 성분이다. 무수물의 반응성 위치에 첨가된 치환체는 복잡성 및 관능가가 더 큰 기, 예를 들면, 하기한 것과 같은 기를 포함할 수 있다.The right (B) part is a maleic anhydride copolymer as described above and the left (A) part is a grafted component as described above which may comprise an amine or alcohol component. Substituents added to the reactive sites of the anhydride may include groups of greater complexity and functionality, such as those described below.
식 중, X는 산소 또는 질소 원자이다. R1은 탄소 원자수가 약 1 내지 6인 직쇄 또는 분지쇄 2가 알킬렌이거나 또는 그의 옥시알킬화 유도체이다. R2는 비닐, 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트 라디칼이다. m은 0.2 내지 1이고 n은 0.8 내지 0일 수 있다.Wherein X is an oxygen or nitrogen atom. R 1 is a straight or branched chain divalent alkylene having about 1 to 6 carbon atoms or an oxyalkylated derivative thereof. R 2 is a vinyl, acrylate or methacrylate radical. m may be 0.2 to 1 and n may be 0.8 to 0.
본 출원인들의 그래프트된 공중합체/차단된 폴리이소시아네이트 블렌드는 직접 도포되어 광학적으로 투명하고, 열에 안정적이며, 화학적 내성을 지니고 침출/오염 내성인, 코팅 두께가 일정한 장벽 코팅을 제공할 수 있다. 본 출원인들의 그래프트된 공중합체/차단된 폴리이소시아네이트 블렌드는 또한 색소와 합해져서 정보 디스플레이 및 검출기용 색필터로 사용되기 위한, 침출/오염 내성이 있는 균일한 착색 필름 코팅을 제공할 수 있다.Applicants' grafted copolymer / blocked polyisocyanate blends can be applied directly to provide a barrier coating with a constant coating thickness that is optically clear, heat stable, chemically resistant and leach / fouling resistant. Applicants' grafted copolymer / blocked polyisocyanate blends can also be combined with pigments to provide a uniform colored film coating that is leach / fouling resistant for use as color filters for information displays and detectors.
방법 및 응용에 따라, 본 출원인들의 (색소가 있거나 또는 없는) 중합체 코팅의 두께는 수 ㎛ 내지 수백 Å일 수 있다. 종래의 스핀 코팅은 그래프트된 공중합체의 분자량 및 코팅이 스핀 코팅되는 속도에 따라 두께가 통상적으로 0.1 ㎛ 내지 10 ㎛인 필름을 제조한다. 본 출원인의 (색소가 있거나 또는 없는) 중합체 코팅의 스핀 코팅을 위한 전형적인 속도는 코팅되는 기판의 유형 및 크기와 코팅 성분은 물론이고 사용된 공중합체 및 가교결합제의 분자량에 따라 500 rpm 내지 6000 rpm까지 다양할 수 있다. 두께가 더 큰 필름은 다른 코팅법을 사용하는 것 뿐 아니라 중합체 고체 수준을 높이고(거나) 분자량이 더 큰 중합체를 사용하여 얻을 수 있다. 본 출원인들의 중합체 코팅을 위한 전형적인 경화 주기는 10 분 내지 60 분의 시간 동안 200 ℃ 내지 280 ℃의 범위이다.Depending on the method and application, the thickness of the polymer coatings (with or without pigments) of the applicants can be several micrometers to several hundred millimeters. Conventional spin coating produces films having a thickness of typically 0.1 μm to 10 μm, depending on the molecular weight of the grafted copolymer and the rate at which the coating is spin coated. Typical speeds for spin coating of the polymer coating (with or without pigment) of the applicant are from 500 rpm to 6000 rpm depending on the type and size of the substrate being coated and the coating components as well as the molecular weight of the copolymer and crosslinker used. It can vary. Larger thickness films can be obtained by using polymers with higher molecular weight levels and / or higher molecular weights, as well as using other coating methods. Typical curing cycles for our polymer coatings range from 200 ° C. to 280 ° C. for a time between 10 minutes and 60 minutes.
본 출원인들의 중합체 코팅용 몇가지 특정 응용물은 액정 디스플레이, 전기발광 디스플레이, 플라스마 디스플레이 및 칼라비디오 검출기용 전하-커플링 장치와 같은 이미지화 시스템에서 사용하기 위한 색필터 배열을 형성하는 염료용 또는 안료용 결합제를 포함한다. 본 출원인들의 중합체 코팅은 또한 충분한 침출/오염 내성이 결여된 코팅 위에 도포되어 상기의 코팅의 오염 및 침출을 막는 장벽 코팅으로 기능할 수 있다. 본 출원인들의 중합체 코팅은 또한 다층 초소형 회로 제작시 중간유전층으로 사용될 수도 있다. 본 출원인들의 중합체 코팅은 또한 광학적 도파관 (wave-guide)의 제작에 사용될 수 있다.Some specific applications of the Applicants' polymer coatings include binders for dyes or pigments to form color filter arrays for use in imaging systems such as charge-coupling devices for liquid crystal displays, electroluminescent displays, plasma displays and color video detectors. It includes. Applicants' polymer coatings may also be applied as a barrier coating applied over a coating lacking sufficient leach / fouling resistance to prevent contamination and leaching of the coating. Applicants' polymer coatings may also be used as intermediate dielectric layers in the manufacture of multilayer microcircuits. Applicants' polymer coatings may also be used in the fabrication of optical waveguides.
실시예 1Example 1
교반기, 질소 흡입 튜브 및 염화칼슘 건조 튜브가 장착된 반응 용기를 N-메틸-2-피롤리디논 800 부 및 알릴아민 49.8 부로 채운다. 수분 동안 질소로 반응기를 씻어낸 후, 수평균 분자량이 약 350,000 (Aldrich 18,293-1)이고 산가가 473인 스티렌-말레산 무수물 공중합체 250.56 부를 교반시키면서 한번의 충전으로 첨가한다. N-메틸-2-피롤리디논 100 부를 추가로 사용하여 반응기의 내벽을 세척한다. 약 48시간 동안 계속 교반시킨다. 중합체의 적외선 스펙트럼은 1858 cm-1및 1780 cm-1에서 무수물 흡광의 강도 감소와 1732 cm-1및 1646 cm-1에서 각각 카르복실산 및 2차 아미드의 C=O 스트레칭 진동에 상응하는 새로운 흡광 밴드를 보여준다. 생성물의 산가는 157이었다.The reaction vessel equipped with the stirrer, the nitrogen suction tube and the calcium chloride drying tube is filled with 800 parts of N-methyl-2-pyrrolidinone and 49.8 parts of allylamine. After washing the reactor with nitrogen for several minutes, 250.56 parts of a styrene-maleic anhydride copolymer having a number average molecular weight of about 350,000 (Aldrich 18,293-1) and an acid value of 473 are added in one charge with stirring. An additional 100 parts of N-methyl-2-pyrrolidinone is used to wash the inner wall of the reactor. Stirring is continued for about 48 hours. The infrared spectrum of the polymer shows a new absorption corresponding to the decrease in intensity of anhydride absorption at 1858 cm -1 and 1780 cm -1 and the C = O stretching vibrations of carboxylic acid and secondary amide at 1732 cm -1 and 1646 cm -1 , respectively. Show the band. The acid value of the product was 157.
실시예 2Example 2
교반기, 질소 흡입 튜브 및 염화칼슘 건조 튜브가 장착된 반응 용기를 수평균 분자량이 약 350,000 (Aldrich 18,293-1)이고 산가가 473인 스티렌-말레산 무수물 공중합체 202.23 부 및 N-메틸-2-피롤리디논 500 부로 채운다. 수분 동안 질소로 반응기를 씻어낸 후, 반응기를 교반시키면서 전열 맨틀피스를 사용하여 25 ℃ 내지 75 ℃의 온도로 가열한다. 결국 고체가 용해되면, 용액을 약 35 ℃까지 냉각시킨다. 교반중인 용액에 N-메틸-2-피롤리돈 152.78 부 중의 알릴아민 48.50 부로 이루어진 용액을 적가한다. 상온에서 약 48시간 동안 계속 교반시킨다. 생성물의 산가는 159였다.A reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen suction tube, and a calcium chloride drying tube was prepared with 202.23 parts of styrene-maleic anhydride copolymer having a number average molecular weight of about 350,000 (Aldrich 18,293-1) and an acid value of 473 and N-methyl-2-pyrroli Fill with 500 copies of Dinon. After flushing the reactor with nitrogen for a few minutes, the reactor is heated to a temperature of 25 ° C. to 75 ° C. using an electrothermal mantle piece with stirring. Eventually, when the solid is dissolved, the solution is cooled to about 35 ° C. To the stirring solution is added dropwise a solution consisting of 48.50 parts of allylamine in 152.78 parts of N-methyl-2-pyrrolidone. Stirring is continued at room temperature for about 48 hours. The acid value of the product was 159.
실시예 3Example 3
교반기, 질소 흡입 튜브 및 염화칼슘 건조 튜브가 장착된 반응 용기를 N-메틸-2-피롤리디논 100 부로 채운다. 수분 동안 질소로 반응기를 씻어낸 후, 수평균 분자량이 약 1600 내지 2600이고 산가가 475인 스티렌-말레산 무수물 공중합체 (Monomer-Polymer Dajac Labs. 카탈로그 #9182) 46.71 부를 첨가한다. N-메틸-2-피롤리디논 20 부를 추가로 사용하여 반응기의 내벽을 세척한다. 교반 중인 용액에 N-메틸-2-피롤리디논 20 부 중의 알릴아민 13.19 부로 이루어진 용액을 적가한다. 상온에서 약 24시간 동안 계속 교반시킨다. 생성물의 산가는 144였다.The reaction vessel equipped with the stirrer, the nitrogen suction tube and the calcium chloride drying tube is filled with 100 parts of N-methyl-2-pyrrolidinone. After washing the reactor with nitrogen for a few minutes, 46.71 parts of styrene-maleic anhydride copolymer (Monomer-Polymer Dajac Labs. Catalog # 9182) having a number average molecular weight of about 1600 to 2600 and an acid value of 475 are added. An additional 20 parts of N-methyl-2-pyrrolidinone is used to wash the inner wall of the reactor. To the stirring solution is added dropwise a solution consisting of 13.19 parts of allylamine in 20 parts of N-methyl-2-pyrrolidinone. Stirring is continued at room temperature for about 24 hours. The acid value of the product was 144.
실시예 4Example 4
교반기, 질소 흡입 튜브 및 염화칼슘 건조 튜브가 장착된 반응 용기를 N-메틸-2-피롤리디논 50 부, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 50 부 및 알릴아민 5.87 부로 채운다. 수분 동안 질소로 반응기를 씻어낸 후, 수평균 분자량이 약 350,000 (Aldrich 18,293-1)이고 산가가 473인 스티렌-말레산 무수물 공중합체 30 부를 교반 중인 용액에 첨가한다. N-메틸-2-피롤리디논 21.74부 및 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 21.74 부의 혼합물을 사용하여 반응기의 내벽을 세척한다. 약 48시간 동안 계속 교반시킨다. 생성물의 산가는 172였다.The reaction vessel equipped with the stirrer, the nitrogen suction tube and the calcium chloride drying tube is filled with 50 parts of N-methyl-2-pyrrolidinone, 50 parts of diethylene glycol dimethyl ether and 5.87 parts of allylamine. After flushing the reactor with nitrogen for a few minutes, 30 parts of styrene-maleic anhydride copolymer having a number average molecular weight of about 350,000 (Aldrich 18,293-1) and an acid value of 473 are added to the stirring solution. The inner wall of the reactor is washed with a mixture of 21.74 parts of N-methyl-2-pyrrolidinone and 21.74 parts of diethylene glycol dimethyl ether. Stirring is continued for about 48 hours. The acid value of the product was 172.
실시예 5Example 5
교반기, 질소 흡입 튜브 및 염화칼슘 건조 튜브가 장착된 반응 용기를 수평균 분자량이 약 350,000 (Aldrich 18,293-1)이고 산가가 473인 스티렌-말레산 무수물 공중합체 40.44 부 및 N-메틸-2-피롤리디논 100 부로 채운다. 수분 동안 질소로 반응기를 씻어낸 후, 알릴 알코올 8.60 부 및 N-메틸-2-피롤리디논 23.56 부로 이루어진 용액을 첨가한 후, 트리에틸아민 15.00 부 및 N-메틸-2-피롤리디논 23.56 부의 용액을 교반시키면서 첨가한다. 반응을 전열 맨틀피스로 50 ℃ 내지 65 ℃로 가열한다. 약 48시간 동안 계속 교반시킨다. 생성물의 산가는 148이었다.A reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen suction tube, and a calcium chloride drying tube was used to prepare 40.44 parts of a styrene-maleic anhydride copolymer having a number average molecular weight of about 350,000 (Aldrich 18,293-1) and an acid value of 473 and N-methyl-2-pyrroly Fill with 100 parts of dinon. After washing the reactor with nitrogen for several minutes, a solution consisting of 8.60 parts of allyl alcohol and 23.56 parts of N-methyl-2-pyrrolidinone was added, followed by 15.00 parts of triethylamine and 23.56 parts of N-methyl-2-pyrrolidinone. The solution is added with stirring. The reaction is heated to 50 ° C. to 65 ° C. with an electrothermal mantle. Stirring is continued for about 48 hours. The acid value of the product was 148.
실시예 6Example 6
30.00 부 실시예 1에 기재된 바와 같은 알릴아민 그래프트된 스티렌-말레산 무수물 공중합체 용액 150 부, 차단된 폴리이소시아네이트 (Desmodur BL-3175A, Miles Inc.) 51 부, N-메틸-2-피롤리디논 10 부 및 시클로헥사논 25 부로 이루어진 중합체 블렌드30.00 parts 150 parts of allylamine grafted styrene-maleic anhydride copolymer solution as described in Example 1, 51 parts blocked polyisocyanate (Desmodur BL-3175A, Miles Inc.), N-methyl-2-pyrrolidinone Polymer blend of 10 parts and 25 parts of cyclohexanone
26.55 부 N-메틸 피롤리디논26.55 parts N-methyl pyrrolidinone
10.86 부 시클로헥사논10.86 parts cyclohexanone
7.22 부 솔벤트 블루 457.22 Part Solvent Blue 45
2.40 부 솔벤트 블루 672.40 PART SOLVENT BLUE 67
10 부 Dowex (등록상표) HCR-S-H 이온 교환 수지 (Dow Chemical Company 제품)로 이루어진 코팅제제를 사용하여 약 12 시간 동안 혼합물을 교반시켜 파란색 코팅을 제조했다. 그 다음 혼합물을 여과하여 이온 교환 수지 및 용해되지 않은 물질을 제거했다. 이 코팅은 완전 칼라 평판 디스플레이에 사용하기 위한 다색 화소 배열에서 색필터로 사용되어 평판 뒤의 광원으로부터 파란색 빛을 압도적으로 선택적으로 통과시킬 수 있다. 이 코팅은 또한 다색 화소 배열에서 색필터로 사용되어 압도적으로 파란색 빛을 반도체 광검출기 배열로 선택적으로 통과시킬 수 있다. 이 코팅은 기판 상에 종래의 스핀 또는 분무 기술에 의해 도포되고 230 ℃에서 60 분간 또는 250 ℃에서 30 분간 경화될 수 있다. 이 코팅은 종래의 플라스마 에칭 기술에 의해 패턴화될 수 있다.A blue coating was prepared by stirring the mixture for about 12 hours using a coating formulation consisting of 10 parts Dowex® HCR-S-H ion exchange resin (manufactured by Dow Chemical Company). The mixture was then filtered to remove ion exchange resins and undissolved material. The coating can be used as a color filter in a multicolor pixel array for use in a full color flat panel display to selectively pass blue light from the light source behind the flat panel. The coating can also be used as a color filter in multicolor pixel arrays to selectively pass overwhelmingly blue light into a semiconductor photodetector array. This coating may be applied on a substrate by conventional spin or spray techniques and cured at 230 ° C. for 60 minutes or at 250 ° C. for 30 minutes. This coating can be patterned by conventional plasma etching techniques.
실시예 7Example 7
30.00 부 실시예 6에 기재된 중합체 블렌드30.00 parts of the polymer blend described in Example 6
26.55 부 N-메틸 피롤리디논26.55 parts N-methyl pyrrolidinone
10.86 부 시클로헥사논10.86 parts cyclohexanone
5.61 부 솔벤트 블루 385.61 Part Solvent Blue 38
4.03 부 솔벤트 옐로우 824.03 Part Solvent Yellow 82
10 부 Dowex (등록상표) HCR-S-H 이온 교환 수지 (Dow Chemical Company 제품)로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 실시예 6에 기재된 바와 같이 녹색 코팅을 제조했다.A green coating was prepared as described in Example 6 using a coating formulation consisting of 10 parts Dowex® HCR-S-H ion exchange resin (manufactured by Dow Chemical Company).
실시예 8Example 8
30.00 부 실시예 6에 기재된 중합체 블렌드30.00 parts of the polymer blend described in Example 6
26.55 부 N-메틸 피롤리디논26.55 parts N-methyl pyrrolidinone
10.86 부 시클로헥사논10.86 parts cyclohexanone
4.50 부 솔벤트 옐로우 824.50 Part Solvent Yellow 82
5.13 부 솔벤트 레드 1195.13 Part Solvent Red
10 부 Dowex (등록상표) HCR-S-H 이온 교환 수지 (Dow Chemical Company 제품)로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 실시예 6에 기재된 바와 같이 적색 코팅을 제조했다.A red coating was prepared as described in Example 6 using a coating formulation consisting of 10 parts Dowex® HCR-S-H ion exchange resin (manufactured by Dow Chemical Company).
실시예 9Example 9
30.00 부 실시예 1에 기재된 바와 같은 알릴아민 그래프트된 스티렌-말레산 무수물 공중합체 150 부, 차단된 폴리이소시아네이트 75 부 (Desmour BL-4165, Miles Inc.), N-메틸-2-피롤리디논 10 부 및 시클로헥사논 25 부로 이루어진 중합체 블렌드30.00 parts 150 parts of allylamine grafted styrene-maleic anhydride copolymer as described in Example 1, 75 parts blocked polyisocyanate (Desmour BL-4165, Miles Inc.), N-methyl-2-pyrrolidinone 10 Polymer blend consisting of 25 parts and 25 parts of cyclohexanone
28.42 부 N-메틸 피롤리디논28.42 parts N-methyl pyrrolidinone
11.30 부 시클로헥사논11.30 parts cyclohexanone
7..47 부 솔벤트 블루 457..47 Part Solvent Blue 45
2.49 부 솔벤트 블루 672.49 Part Solvent Blue 67
10 부 Dowex (등록상표) HCR-S-H 이온 교환 수지 (Dow Chemical Company 제품)로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 실시예 6에 기재된 바와 같이 파란색 코팅을 제조했다.A blue coating was prepared as described in Example 6 using a coating formulation consisting of 10 parts Dowex® HCR-S-H ion exchange resin (manufactured by Dow Chemical Company).
실시예 10Example 10
30.00 부 실시예 9에 기재된 중합체 블렌드30.00 parts of the polymer blend described in Example 9
28.42 부 N-메틸 피롤리디논28.42 parts N-methyl pyrrolidinone
11.30 부 시클로헥사논11.30 parts cyclohexanone
5.80 부 솔벤트 블루 385.80 parts Solvent Blue 38
4.16 부 솔벤트 옐로우 824.16 Part Solvent Yellow 82
10 부 Dowex (등록상표) HCR-S-H 이온 교환 수지 (Dow Chemical Company 제품)로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 실시예 6에 기재된 바와 같이 녹색 코팅을 제조했다.A green coating was prepared as described in Example 6 using a coating formulation consisting of 10 parts Dowex® HCR-S-H ion exchange resin (manufactured by Dow Chemical Company).
실시예 11Example 11
30.00 부 실시예 9에 기재된 중합체 블렌드30.00 parts of the polymer blend described in Example 9
28.42 부 N-메틸 피롤리디논28.42 parts N-methyl pyrrolidinone
11.30 부 시클로헥사논11.30 parts cyclohexanone
4.65 부 솔벤트 옐로우 824.65 Part Solvent Yellow 82
5.31 부 솔벤트 레드 1195.31 Part Solvent Red 119
10 부 Dowex (등록상표) HCR-S-H 이온 교환 수지 (Dow Chemical Company 제품)로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 실시예 6에 기재된 바와 같이 적색 코팅을 제조했다.A red coating was prepared as described in Example 6 using a coating formulation consisting of 10 parts Dowex® HCR-S-H ion exchange resin (manufactured by Dow Chemical Company).
실시예 12Example 12
20.00 부 실시예 1에 기재된 바와 같은 알릴아민 그래프트된 스티렌-말레산 무수물 공중합체 100 부, 차단된 폴리이소시아네이트 (Desmour BL-3175A, Miles Inc.) 18.5 부, N-메틸-2-피롤리디논 28.68 부 및 시클로헥사논 51.84 부로 이루어진 중합체 블렌드20.00 parts 100 parts of allylamine grafted styrene-maleic anhydride copolymer as described in Example 1, 18.5 parts of blocked polyisocyanate (Desmour BL-3175A, Miles Inc.), N-methyl-2-pyrrolidinone 28.68 Polymer blend consisting of 5 parts and 51.84 parts of cyclohexanone
22.06 부 N-메틸 피롤리디논22.06 parts N-methylpyrrolidinone
11.03 부 시클로헥사논11.03 part cyclohexanone
3.36 부 솔벤트 블루 383.36 Part Solvent Blue 38
10 부 Dowex (등록상표) HCR-S-H 이온 교환 수지 (Dow Chemical Company 제품)로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 실시예 6에 기재된 바와 같이 청록색 코팅을 제조했다.A cyan coating was prepared as described in Example 6 using a coating formulation consisting of 10 parts Dowex® HCR-S-H ion exchange resin (manufactured by Dow Chemical Company).
실시예 13Example 13
20.00 부 실시예 12에 기재된 바와 같은 중합체 블렌드20.00 parts polymer blend as described in Example 12
17.78 부 N-메틸 피롤리디논17.78 parts N-methyl pyrrolidinone
8.89 부 시클로헥사논8.89 parts cyclohexanone
2.40 부 솔벤트 레드 1272.40 Part Solvent Red
10 부 Dowex (등록상표) HCR-S-H 이온 교환 수지 (Dow Chemical Company 제품)로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 실시예 6에 기재된 바와 같이 마젠타색 코팅을 제조했다.Magenta coatings were prepared as described in Example 6 using a coating formulation consisting of 10 parts Dowex® HCR-S-H ion exchange resin (manufactured by Dow Chemical Company).
실시예 14Example 14
20.00 부 실시예 12에 기재된 바와 같은 중합체 블렌드20.00 parts polymer blend as described in Example 12
24.89 부 N-메틸 피롤리디논24.89 parts N-methyl pyrrolidinone
12.44 부 시클로헥사논12.44 parts cyclohexanone
4.00 부 솔벤트 옐로우 824.00 Part Solvent Yellow 82
10 부 Dowex (등록상표) HCR-S-H 이온 교환 수지 (Dow Chemical Company 제품)로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 실시예 6에 기재된 바와 같이 노란색 코팅을 제조했다.A yellow coating was prepared as described in Example 6 using a coating formulation consisting of 10 parts Dowex® HCR-S-H ion exchange resin (manufactured by Dow Chemical Company).
실시예 15Example 15
5.00 부 실시예 5에 기재된 바와 같은 알릴 알코올 그래프트된 스티렌-말레산 무수물 공중합체 용액 20.00 부, 차단된 폴리이소시아네이트 (Desmodur BL-3175A, Miles Inc.) 5.41 부, N-메틸 피롤리디논 15.36 부 및 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 10.00 부로 이루어진 중합체 블렌드5.00 parts 20.00 parts of allyl alcohol grafted styrene-maleic anhydride copolymer solution as described in Example 5, 5.41 parts of blocked polyisocyanate (Desmodur BL-3175A, Miles Inc.), 15.36 parts of N-methyl pyrrolidinone and Polymer blend of 10.00 parts of diethylene glycol dimethyl ether
1.00 부 N-메틸 피롤리디논1.00 parts N-methyl pyrrolidinone
1.38 부 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르1.38 Butadiethylene Glycol Dimethyl Ether
4.92 부 Dowex (등록상표) HCR-S-H 이온 교환 수지 (Dow Chemical Company 제품) 64 부 상에서 12 내지 24 시간 동안 교반된 후, 여과되어 이온 교환 수지 및 용해되지 않은 물질이 제거된, 솔벤트 블루 45 56.25 부, 솔벤트 블루 67 18.75 부, N-메틸 피롤리디논 112.5 부 및 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 112.5 부로 이루어진 염료 혼합물로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 실시예 6에 기재된 바와 같이 파란색 코팅을 제조했다.4.92 parts Dowex® HCR-SH ion exchange resin (Dow Chemical Company) 56.25 parts of Solvent Blue 45, stirred for 12 to 24 hours on 64 parts, then filtered to remove ion exchange resin and undissolved material A blue coating was prepared as described in Example 6 using a coating formulation consisting of 18.75 parts of Solvent Blue 67, 112.5 parts of N-methyl pyrrolidinone and 112.5 parts of diethylene glycol dimethyl ether.
실시예 16Example 16
5.00 부 실시예 15에 기재된 바와 같은 중합체 블렌드5.00 Polymer Blend as described in Example 15
1.00 부 N-메틸 피롤리디논1.00 parts N-methyl pyrrolidinone
1.38 부 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르1.38 Butadiethylene Glycol Dimethyl Ether
4.92 부 Dowex (등록상표) HCR-S-H 이온 교환 수지 (Dow Chemical Company 제품) 64 부 상에서 12 내지 24 시간 동안 교반된 후, 여과되어 용해되지 않은 물질이 제거된, 솔벤트 블루 38 43.65 부, 솔벤트 옐로우 82 31.35 부, N-메틸 피롤리디논 112.5 부 및 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 112.5 부로 이루어진 염료 혼합물로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 실시예 6에 기재된 바와 같이 녹색 코팅을 제조했다.4.92 parts Dowex® HCR-SH ion exchange resin (manufactured by Dow Chemical Company) after stirring for 12 to 24 hours on 64 parts, filtered off to remove undissolved material, Solvent Blue 38 43.65 parts, Solvent Yellow 82 A green coating was prepared as described in Example 6 using a coating formulation consisting of a dye mixture consisting of 31.35 parts, 112.5 parts N-methyl pyrrolidinone and 112.5 parts diethylene glycol dimethyl ether.
실시예 17Example 17
5.00 부 실시예 15에 기재된 바와 같은 중합체 블렌드5.00 Polymer Blend as described in Example 15
1.00 부 N-메틸 피롤리디논1.00 parts N-methyl pyrrolidinone
1.38 부 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르1.38 Butadiethylene Glycol Dimethyl Ether
4.92 부 Dowex (등록상표) HCR-S-H 이온 교환 수지 (Dow Chemical Company 제품) 64 부 상에서 12 내지 24 시간 동안 교반된 후, 여과되어 이온 교환 수지 및 용해되지 않은 물질이 제거된, 솔벤트 옐로우 82 35.03 부, 솔벤트 레드 119 39.97 부, N-메틸 피롤리디논 130 부 및 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 130 부로 이루어진 염료 혼합물로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 실시예 6에 기재된 바와 같이 적색 코팅을 제조했다.4.92 parts Dowex (R) HCR-SH ion exchange resin (manufactured by Dow Chemical Company) on 64 parts of solvent yellow 12 35 hours, and then filtered to remove ion exchange resin and undissolved material 82 35.03 parts A red coating was prepared as described in Example 6 using a coating formulation consisting of 39.97 parts of solvent red 119, 130 parts N-methyl pyrrolidinone and 130 parts diethylene glycol dimethyl ether.
실시예 18Example 18
5.50 부 실시예 1에 기재된 바와 같은 그래프트된 공중합체5.50 Grafted Copolymers as Described in Example 1
1.93 부 차단된 폴리이소시아네이트1.93 parts blocked polyisocyanate
(Desmodur BL-3175A, Miles Inc.)(Desmodur BL-3175A, Miles Inc.)
1.19 부 솔벤트 블루 671.19 Part Solvent Blue 67
1.64 부 솔벤트 브라운 441.64 parts Solvent Brown 44
11.31 부 시클로헥사논11.31 parts cyclohexanone
4.13 부 N-메틸-2-피롤리디논4.13 parts N-methyl-2-pyrrolidinone
10 부 HCR-S-H 이온 교환 수지로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 실시예 6에 기재된 바와 같이 흑색 코팅을 제조했다.A black coating was prepared as described in Example 6 using a coating formulation consisting of 10 parts HCR-S-H ion exchange resin.
실시예 19Example 19
6.37 부 실시예 1에 기재된 바와 같은 그래프트된 공중합체6.37 Grafted Copolymers as described in Example 1
2.17 부 차단된 폴리이소시아네이트2.17 parts blocked polyisocyanate
(Desmodur BL-3175A, Miles Inc.)(Desmodur BL-3175A, Miles Inc.)
3.56 부 시클로헥사논3.56 parts cyclohexanone
3.42 부 N-메틸-2-피롤리디논으로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 혼합물을 약 1 시간 동안 교반시킴으로써 투명 코팅을 제조했다. 그 다음 혼합물을 0.2 ㎛ 필터를 통해 여과시켰다. 코팅은 색필터 상에 투명 장벽 층으로 사용되어 후속 처리 단계 시에 색필터로부터 염료의 침출을 막고 색필터의 오염을 방지한다. 각종 염료를 첨가하여 선택된 파장에서는 투명하고 다른 파장에서는 탁한 코팅을 제조할 수 있다는 것이 이해될 것이다. 예를 들면, 코팅은 정합 (alignment)를 결정하는데 사용된 스펙트럼에서는 투명할 수 있지만, 다른 파장에서는 탁하거나 유색이 된다.A transparent coating was prepared by stirring the mixture for about 1 hour using a coating formulation consisting of 3.42 parts N-methyl-2-pyrrolidinone. The mixture was then filtered through a 0.2 μm filter. The coating is used as a transparent barrier layer on the color filter to prevent leaching of the dye from the color filter during subsequent processing steps and to prevent contamination of the color filter. It will be appreciated that various dyes can be added to produce a coating that is transparent at selected wavelengths and cloudy at other wavelengths. For example, the coating may be transparent in the spectrum used to determine alignment, but may be cloudy or colored at other wavelengths.
실시예 20Example 20
실시예 6에 기재된 파란 색필터 제제를 90 초 동안 1000 rpm으로 직경이 7.62 cm (3 in)인 유리 기판 상으로 스핀 코팅하고 30 내지 60 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트 상에서 굽고 30 분 동안 170 ℃의 환류 오븐에서 예비로 굽고 30 분 동안 250 ℃의 환류 오븐에서 단단하게 굽는다 (경화시킨다). 필름 두께는 1.45 ㎛였다. 경화된 색필터 필름의 투과 스펙트럼은 도 1에서 라인 (a)로 나타난다. 그 다음 코팅된 유리 기판을 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 담근 후, 건조 질소 스트림하에서 건조시켰다. 투과 스펙트럼을 다시 기록했으며, 도 1에 라인 (b)로 나타난다. 코팅된 유리 기판을 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 두번째로 담근 후, 건조 질소 스트림 하에서 건조시켰다. 투과 스펙트럼을 다시 기록했으며 도 1에서 라인 (c)로 나타난다.The blue color filter formulation described in Example 6 was spin coated onto a glass substrate with a diameter of 7.62 cm (3 in) at 1000 rpm for 90 seconds and baked on a hot plate at 100 ° C. for 30 to 60 seconds and at 170 ° C. for 30 minutes. Bake preliminarily in reflux oven and hard (cure) in reflux oven at 250 ° C. for 30 minutes. The film thickness was 1.45 μm. The transmission spectrum of the cured color filter film is shown by line (a) in FIG. 1. The coated glass substrate was then dipped in N-methyl-2-pyrrolidinone for 30 seconds and then dried under a stream of dry nitrogen. The transmission spectra were recorded again, shown in line (b) in FIG. 1. The coated glass substrate was immersed in N-methyl-2-pyrrolidinone for a second time for 30 seconds and then dried under a stream of dry nitrogen. The transmission spectra were recorded again and shown as line (c) in FIG. 1.
실시예 21Example 21
실시예 7에 기재된 녹색 색필터 제제를 90 초 동안 1000 rpm으로 직경이 7.62 cm (3 in)인 유리 기판 상으로 스핀 코팅하고 30 내지 60 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트 상에서 굽고 30 분 동안 170 ℃의 환류 오븐에서 예비로 굽고 30 분 동안 250 ℃의 환류 오븐에서 단단하게 굽는다 (경화시킨다). 필름 두께는 1.24 ㎛였다. 경화된 색필터 필름의 투과 스펙트럼은 도 1에서 라인 (d)로 나타난다. 그 다음 코팅된 유리 기판을 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 담근 후, 건조 질소 스트림하에서 건조시켰다. 투과 스펙트럼을 다시 기록했으며, 도 1에 라인 (e)로 나타난다. 코팅된 유리 기판을 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 두번째로 담근 후, 건조 질소 스트림 하에서 건조시켰다. 투과 스펙트럼을 다시 기록했으며 도 1에서 라인 (f)로 나타난다.The green color filter formulation described in Example 7 was spin coated onto a glass substrate with a diameter of 7.62 cm (3 in) at 1000 rpm for 90 seconds and baked on a hot plate at 100 ° C. for 30 to 60 seconds and at 170 ° C. for 30 minutes. Bake preliminarily in reflux oven and hard (cure) in reflux oven at 250 ° C. for 30 minutes. The film thickness was 1.24 μm. The transmission spectrum of the cured color filter film is shown by line (d) in FIG. 1. The coated glass substrate was then dipped in N-methyl-2-pyrrolidinone for 30 seconds and then dried under a stream of dry nitrogen. The transmission spectra were recorded again, shown in line (e) in FIG. 1. The coated glass substrate was immersed in N-methyl-2-pyrrolidinone for a second time for 30 seconds and then dried under a stream of dry nitrogen. The transmission spectra were recorded again and shown as line (f) in FIG. 1.
실시예 22Example 22
실시예 8에 기재된 적색 색필터 제제를 90 초 동안 1000 rpm으로 직경이 7.62 cm (3 in)인 유리 기판 상으로 스핀 코팅하고 30 내지 60 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트 상에서 굽고 30 분 동안 170 ℃의 환류 오븐에서 예비로 굽고 30 분 동안 250 ℃의 환류 오븐에서 단단하게 굽는다 (경화시킨다). 필름 두께는 1.36 ㎛였다. 경화된 색필터 필름의 투과 스펙트럼은 도 1에서 라인 (g)로 나타난다. 그 다음 코팅된 유리 기판을 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 담근 후, 건조 질소 스트림 하에서 건조시켰다. 투과 스펙트럼을 다시 기록했으며, 도 1에 라인 (h)로 나타난다. 코팅된 유리 기판을 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 두번째로 담근 후, 건조 질소 스트림 하에서 건조시켰다. 투과 스펙트럼을 다시 기록했으며 도 1에서 라인 (i)로 나타난다.The red color filter formulation described in Example 8 was spin coated onto a glass substrate with a diameter of 7.62 cm (3 in) at 1000 rpm for 90 seconds and baked on a hot plate at 100 ° C. for 30 to 60 seconds and at 170 ° C. for 30 minutes. Bake preliminarily in reflux oven and hard (cure) in reflux oven at 250 ° C. for 30 minutes. The film thickness was 1.36 μm. The transmission spectrum of the cured color filter film is shown by line (g) in FIG. 1. The coated glass substrate was then immersed in N-methyl-2-pyrrolidinone for 30 seconds and then dried under a dry nitrogen stream. The transmission spectra were recorded again, shown in line (h) in FIG. 1. The coated glass substrate was immersed in N-methyl-2-pyrrolidinone for a second time for 30 seconds and then dried under a stream of dry nitrogen. The transmission spectra were recorded again and shown as line (i) in FIG. 1.
실시예 23Example 23
실시예 12에 기재된 청녹색 색필터 제제를 90 초 동안 2000 rpm으로 직경이 7.62 cm (3 in)인 유리 기판 상으로 스핀 코팅하고 30 내지 60 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트 상에서 굽고 30 분 동안 250 ℃의 환류 오븐에서 단단하게 굽는다 (경화시킨다). 필름 두께는 0.579 ㎛였다. 경화된 색필터 필름의 투과 스펙트럼은 도 2에서 라인 (a)로 나타난다. 그 다음 코팅된 유리 기판을 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 담근 후, 건조 질소 스트림 하에서 건조시켰다. 투과 스펙트럼을 다시 기록했으며, 도 2에 라인 (b)로 나타난다. 코팅된 유리 기판을 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 두번째로 담근 후, 건조 질소 스트림 하에서 건조시켰다. 투과 스펙트럼을 다시 기록했으며 도 2에서 라인 (c)로 나타난다.The blue-green color filter formulation described in Example 12 was spin coated onto a glass substrate with a diameter of 7.62 cm (3 in) at 2000 rpm for 90 seconds, baked on a hot plate at 100 ° C. for 30 to 60 seconds and at 250 ° C. for 30 minutes. Bake tightly in a reflux oven (cure). The film thickness was 0.579 μm. The transmission spectrum of the cured color filter film is shown by line (a) in FIG. 2. The coated glass substrate was then immersed in N-methyl-2-pyrrolidinone for 30 seconds and then dried under a dry nitrogen stream. The transmission spectra were recorded again, shown in line (b) in FIG. 2. The coated glass substrate was immersed in N-methyl-2-pyrrolidinone for a second time for 30 seconds and then dried under a stream of dry nitrogen. The transmission spectra were recorded again and shown as line (c) in FIG. 2.
실시예 24Example 24
실시예 14에 기재된 노란색 색필터 제제를 90 초 동안 2000 rpm으로 직경이 7.62 cm (3 in)인 유리 기판 상으로 스핀 코팅하고 30 내지 60 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트 상에서 굽고 30 분 동안 250 ℃의 환류 오븐에서 단단하게 굽는다 (경화시킨다). 필름 두께는 0.585 ㎛였다. 경화된 색필터 필름의 투과 스펙트럼은 도 2에서 라인 (d)로 나타난다. 그 다음 코팅된 유리 기판을 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 담근 후, 건조 질소 스트림 하에서 건조시켰다. 투과 스펙트럼을 다시 기록했으며, 도 2에 라인 (e)로 나타난다. 코팅된 유리 기판을 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 두번째로 담근 후, 건조 질소 스트림 하에서 건조시켰다. 투과 스펙트럼을 다시 기록했으며 도 2에서 라인 (f)로 나타난다.The yellow color filter formulation described in Example 14 was spin coated onto a glass substrate with a diameter of 7.62 cm (3 in) at 2000 rpm for 90 seconds and baked on a hot plate at 100 ° C. for 30 to 60 seconds and at 250 ° C. for 30 minutes. Bake tightly in a reflux oven (cure). The film thickness was 0.585 μm. The transmission spectrum of the cured color filter film is shown by line (d) in FIG. 2. The coated glass substrate was then immersed in N-methyl-2-pyrrolidinone for 30 seconds and then dried under a dry nitrogen stream. The transmission spectra were recorded again, as shown in line (e) in FIG. 2. The coated glass substrate was immersed in N-methyl-2-pyrrolidinone for a second time for 30 seconds and then dried under a stream of dry nitrogen. The transmission spectra were recorded again and shown as line (f) in FIG. 2.
실시예 25Example 25
실시예 13에 기재된 마젠타색 색필터 제제를 90 초 동안 2000 rpm으로 직경이 7.62 cm (3 in)인 유리 기판 상으로 스핀 코팅하고 30 내지 60 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트 상에서 굽고 30 분 동안 250 ℃의 환류 오븐에서 단단하게 굽는다 (경화시킨다). 필름 두께는 0.708 ㎛였다. 경화된 색필터 필름의 투과 스펙트럼은 도 2에서 라인 (g)로 나타난다. 그 다음 코팅된 유리 기판을 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 담근 후, 건조 질소 스트림 하에서 건조시켰다. 투과 스펙트럼을 다시 기록했으며, 도 2에 라인 (h)로 나타난다. 코팅된 유리 기판을 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 두번째로 담근 후, 건조 질소 스트림 하에서 건조시켰다. 투과 스펙트럼을 다시 기록했으며 도 2에서 라인 (i)로 나타난다.The magenta color filter formulation described in Example 13 was spin coated onto a glass substrate with a diameter of 7.62 cm (3 in) at 2000 rpm for 90 seconds, baked on a hot plate at 100 ° C. for 30 to 60 seconds and 250 ° C. for 30 minutes. Bake hard at reflux oven (cured). The film thickness was 0.708 μm. The transmission spectrum of the cured color filter film is shown by line (g) in FIG. 2. The coated glass substrate was then immersed in N-methyl-2-pyrrolidinone for 30 seconds and then dried under a dry nitrogen stream. The transmission spectra were recorded again, shown in line (h) in FIG. 2. The coated glass substrate was immersed in N-methyl-2-pyrrolidinone for a second time for 30 seconds and then dried under a stream of dry nitrogen. The transmission spectrum was recorded again and shown in line (i) in FIG. 2.
실시예 26Example 26
6.37 부 실시예 1에 기재된 바와 같은 그래프트된 공중합체6.37 Grafted Copolymers as described in Example 1
2.17 부 차단된 폴리이소시아네이트2.17 parts blocked polyisocyanate
(Desmodur BL-3175A, Miles Inc.)(Desmodur BL-3175A, Miles Inc.)
3.56 부 시클로헥사논3.56 parts cyclohexanone
3.42 부 N-메틸-2-피롤리디논로 이루어진 코팅 제제를 사용하여 혼합물을 약 1 시간 동안 교반시켜 투명 코팅을 제조했다. 그 다음, 혼합물을 0.2 ㎛ 필터를 통해 여과했다. 코팅을 색필터 상의 투명 장벽 층으로 사용하여 후속 처리 단계에서 색필터로부터 염료의 침출을 막고 색필터의 오염을 막을 수 있다.The transparent coating was prepared by stirring the mixture for about 1 hour using a coating formulation consisting of 3.42 parts N-methyl-2-pyrrolidinone. The mixture was then filtered through a 0.2 μm filter. The coating can be used as a transparent barrier layer on the color filter to prevent leaching of the dye from the color filter and to prevent contamination of the color filter in subsequent processing steps.
실시예 27Example 27
색필터 플레이트 제조시 사용되는 처리 단계를 도시한 도 3에 예시된 바와 같이 직경이 7.62 cm (3 in)인 유리 기판 상에 3색 칼라 휠을 제조함으로써 실시예 25의 제제의 내오염성 평가를 수행했다. 칼라 휠의 제조 단계는 다음과 같다 :The fouling resistance evaluation of the formulation of Example 25 was carried out by making a three-color color wheel on a glass substrate with a diameter of 7.62 cm (3 in) as illustrated in FIG. 3 showing the processing steps used to produce the color filter plate. did. The manufacturing steps of the color wheel are as follows:
1) 90 초 동안 1220 rpm으로 실시예 25의 투명한 장벽 코팅을 스핀 코팅하고, 30 내지 60 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트에서 굽고, 60 분 동안 250 ℃의 환류 오븐에서 굽는다. 필름 두께는 1.1 ㎛였다. 이 단계 후에 투명 코팅 스펙트럼은 도 4에서 라인 (a)로 나타난다.1) Spin coat the transparent barrier coating of Example 25 at 1220 rpm for 90 seconds, bake in a hot plate at 100 ° C. for 30 to 60 seconds, and bake in a reflux oven at 250 ° C. for 60 minutes. The film thickness was 1.1 μm. After this step the clear coating spectrum is shown by line (a) in FIG. 4.
2) 90 초 동안 1200 rpm으로 적색 색필터 (Brewer Science, Inc. PiC (등록상표) Red 101)를 스핀 코팅하고 30 내지 60 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트에서 굽고 30 분 동안 164 ℃의 환류 오븐에서 굽는다.2) Spin coat a red color filter (Brewer Science, Inc. PiC® Red 101) at 1200 rpm for 90 seconds and bake in a hot plate at 100 ° C. for 30 to 60 seconds and in a reflux oven at 164 ° C. for 30 minutes. Bake.
3) 30 초 동안 5000 rpm으로 양각 처리 포토레지스트 (Shipley Microposit (등록상표) 1400 - 27)를 스핀 코팅하고 30 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트에서 굽는다.3) Spin coat the embossed photoresist (Shipley Microposit® 1400-27) at 5000 rpm for 30 seconds and bake on a hot plate at 100 ° C. for 30 seconds.
4) 그 다음 샘플을 코팅된 기판 상에 위치한 쐐기형 마스크를 통해 접촉 인쇄기로부터 화학광 (150 mJ/cm2)에 노출시켰다.4) The sample was then exposed to actinic light (150 mJ / cm 2 ) from the contact printer through a wedge shaped mask placed on the coated substrate.
5) 샘플을 20 초 동안 0.27 N 테트라메틸암모늄 히드록시드 (TMAH)에 담근 후, 탈이온수로 세척하여 노출된 레지스트 및 밑에 있는 레드 101을 제거하고 레드 101의 반원 패턴을 남겼다. 레드 101의 상층에 남아있는 노출되지 않은 레지스트를 SafeStrip (등록상표) (Brewer Science, Inc.)로 제거했다. 그 다음 남아있는 레드 101을 10 분 동안 280 ℃의 환류 오븐에서 단단하게 구웠다 (경화시켰다). 레드 101 필름 두께는 분석 증명에 의하여 약 1.25 ㎛이었다. 이 단계 이후의 레드 101 및 투명 코팅의 스펙트럼은 도 4에서 라인 (b) 및 (c)로 각각 나타난다.5) The sample was soaked in 0.27 N tetramethylammonium hydroxide (TMAH) for 20 seconds and then washed with deionized water to remove the exposed resist and the underlying red 101 and left a semi-circle pattern of red 101. Unexposed resist remaining on top of Red 101 was removed with SafeStrip® (Brewer Science, Inc.). The remaining Red 101 was then hard baked (cured) in a reflux oven at 280 ° C. for 10 minutes. Red 101 film thickness was about 1.25 μm by proof of analysis. The spectra of Red 101 and the clear coating after this step are shown as lines (b) and (c) in FIG. 4, respectively.
6) 90 초 동안 1200 rpm으로 녹색 색필터 (Brewer Science, Inc. PiC (등록상표) Green 02)를 스핀 코팅하고 30 내지 60 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트 상에서 굽고, 30 분 동안 170 ℃의 환류 오븐에서 굽는다. 양각 처리 포토레지스트 (Shipley Microposit (등록상표) 1400-27)를 30 초 동안 5000 rpm으로 스핀 코팅하고 30 초 동안 100 ℃ 고온 플레이트에서 굽는다. 그 다음 샘플을 코팅된 기판 상에 위치한 쐐기형 마스크를 통해 접촉 인쇄기로부터 화학광 (150 mJ/cm2)에 노출시키고 4 단계에서 그것의 위치로부터 90 도 회전시켰다.6) Spin coat green color filter (Brewer Science, Inc. PiC® Green 02) at 1200 rpm for 90 seconds and bake on hot plate at 100 ° C. for 30 to 60 seconds, reflux oven at 170 ° C. for 30 minutes Bake in. Embossed photoresist (Shipley Microposit® 1400-27) is spin coated at 5000 rpm for 30 seconds and baked on a 100 ° C. hot plate for 30 seconds. The sample was then exposed to actinic light (150 mJ / cm 2 ) from the contact printing machine through a wedge shaped mask placed on the coated substrate and rotated 90 degrees from its position in step 4.
7) 샘플을 20 초 동안 0.27 N 테트라메틸암모늄 히드록시드 (TMAH)에 담근 후, 탈이온수로 세척하여 노출된 레지스트 및 밑에 있는 그린 02를 제거하고 그린 02의 반원 패턴을 남긴다. 그린 02의 상층에 남아있는 노출되지 않은 레지스트를 SafeStrip (등록상표) (Brewer Science, Inc.)로 제거한다. 그 다음 남아있는 그린 02를 60 분 동안 230 ℃의 환류 오븐에서 단단하게 굽는다 (경화시켰다). 그린 02 필름 두께는 분석 증명에 의하여 약 1.20 ㎛이었다. 이 단계 후에, 그린 02, 레드 101 및 투명 코팅의 스펙트럼은 도 4에서 라인 (d), (e) 및 (f)로 각각 나타난다.7) The sample is soaked in 0.27 N tetramethylammonium hydroxide (TMAH) for 20 seconds and then washed with deionized water to remove the exposed resist and the underlying Green 02 and leave a semicircle pattern of Green 02. Unexposed resist remaining on top of Figure 02 is removed with SafeStrip® (Brewer Science, Inc.). The remaining Green 02 is then hardened (cured) in a reflux oven at 230 ° C. for 60 minutes. Green 02 film thickness was about 1.20 μm by proof of analysis. After this step, the spectra of Green 02, Red 101 and the clear coating are shown as lines (d), (e) and (f) in FIG. 4, respectively.
8) 90 초 동안 1000 rpm으로 파란색 색필터 (Brewer Science, Inc. PiC (등록상표) EXP93004)를 스핀 코팅하고 30 내지 60 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트 상에서 굽고, 30 분 동안 155 ℃의 환류 오븐에서 굽는다. 양각 처리 포토레지스트 (Shipley Microposit (등록상표) 1400-27)를 30 초 동안 5000 rpm으로 스핀 코팅하고 30 초 동안 100 ℃ 고온 플레이트에서 굽는다. 그 다음 샘플을 코팅된 기판 상에 위치한 쐐기형 마스크를 통해 접촉 인쇄기로부터 화학광 (150 mJ/cm2)에 노출시키고 6 단계에서 그것의 위치로부터 90 도 회전시켰다.8) Spin coat a blue color filter (Brewer Science, Inc. PiC® EXP93004) at 1000 rpm for 90 seconds and bake on a hot plate at 100 ° C. for 30 to 60 seconds and in a reflux oven at 155 ° C. for 30 minutes. Bake. Embossed photoresist (Shipley Microposit® 1400-27) is spin coated at 5000 rpm for 30 seconds and baked on a 100 ° C. hot plate for 30 seconds. The sample was then exposed to actinic light (150 mJ / cm 2 ) from the contact printing machine through a wedge shaped mask placed on the coated substrate and rotated 90 degrees from its position in step 6.
9) 샘플을 20 초 동안 0.27 N 테트라메틸암모늄 히드록시드 (TMAH)에 담근 후, 탈이온수로 세척하여 노출된 레지스트 및 밑에 있는 EXP93004를 제거하고 EXP93004의 반원 패턴을 남겼다. EXP93004의 상층에 남아있는 노출되지 않은 레지스트를 SafeStrip (등록상표) (Brewer Science, Inc.)로 제거했다. 그 다음 남아있는 EXP93004를 60 분 동안 230 ℃의 환류 오븐에서 단단하게 구웠다 (경화시켰다). 그린 02 필름 두께는 분석 증명에 의하여 약 1.00 ㎛이었다. 이 단계 후에, EXP93004, 그린 02, 레드 101 및 투명 코팅의 스펙트럼은 도 4에서 라인 (g), (h), (i) 및 (j)로 각각 나타난다.9) The sample was soaked in 0.27 N tetramethylammonium hydroxide (TMAH) for 20 seconds and then washed with deionized water to remove the exposed resist and the underlying EXP93004 and leave a semicircle pattern of EXP93004. Unexposed resist remaining on top of EXP93004 was removed with SafeStrip® (Brewer Science, Inc.). The remaining EXP93004 was then hard baked (cured) in a reflux oven at 230 ° C. for 60 minutes. Green 02 film thickness was about 1.00 μm by proof of analysis. After this step, the spectra of EXP93004, Green 02, Red 101 and the clear coating are shown as lines (g), (h), (i) and (j) in FIG. 4, respectively.
도 4에서, 라인 (a), (c), (f) 및 (j)로 나타난 투명 코팅의 투과의 약간의 감소는 열에 의한 암화 (darkening)의 결과이다. 후속적인 색필터 처리 단계 중 어느 것으로부터도 오염의 스펙트럼 증거는 없다. 도 4의 라인 (g)는 파란 색필터의 후속적 처리로부터 오염에 기인한 적색 색필터의 투과의 감소를 보여준다.In FIG. 4, a slight decrease in the transmission of the transparent coating represented by lines (a), (c), (f) and (j) is the result of darkening by heat. There is no spectral evidence of contamination from any of the subsequent color filter processing steps. Line (g) of FIG. 4 shows the reduction of transmission of the red color filter due to contamination from the subsequent treatment of the blue color filter.
실시예 25에서 투명 코팅의 제2 도포가 5 단계에 기재된 바와 같이 적색 필터 처리 후, 도포된다는 것을 제외하면, 상기 1 내지 9 단계에서 기재된 바와 같이 제2 칼라 휠을 제조했다. 투명 코팅의 제2 도포는 90 초 동안 6000 rpm으로 스핀 코팅하고 30 내지 60 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트 상에서 굽고, 60 분 동안 250 ℃의 환류 오븐에서 구웠다. 투명 코팅 및 각 색필터의 투과 스펙트럼은 제1 칼라 휠에 대해 1 내지 9 단계에서 기재된 바와 같이 각각 단단하게 구운 후에 기록했다. 도 5에서 라인 (a) 내지 (j)는 도 4에서 라인 (a) 내지 (j)과 같은 동일한 처리 단계에 상응한다. 도 5에서 라인 (g)는 파란 색필터의 뒤이은 도포에 의해 적색 색필터의 오염이 없음을 지시한다. 도 5에서 라인 (g)로 나타낸, 적색 색필터의 투과에서 약간의 감소는 염료의 열분해에 기인한다.A second color wheel was prepared as described in steps 1-9 above except that a second application of the clear coating in Example 25 was applied after a red filter treatment as described in step 5. A second application of the clear coating was spin coated at 6000 rpm for 90 seconds and baked on a hot plate at 100 ° C. for 30 to 60 seconds and baked in a reflux oven at 250 ° C. for 60 minutes. The transmission spectra of the clear coating and each color filter were recorded after each hard baking as described in steps 1-9 for the first color wheel. Lines (a) to (j) in FIG. 5 correspond to the same processing steps as lines (a) to (j) in FIG. Line (g) in FIG. 5 indicates no contamination of the red color filter by subsequent application of the blue color filter. A slight decrease in the transmission of the red color filter, indicated by line (g) in FIG. 5, is due to the pyrolysis of the dye.
실시예 28Example 28
교반기 및 염화칼슘 건조 튜브가 장착된 반응 용기를, 수평균 분자량이 약 1900 (Atochem SMA3000A)이고 산가가 290인 스티렌-말레산 무수물 공중합체 40.00 부가 첨가된 SafeStrip (등록상표) (Brewer Science, Inc. 제품) 50.00 부로 채운다. 모든 고체를 용해시킨 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 (HEA) (RohmTech AM-414) 12.00 부 및 트리에틸아민 (Aldrich 23,962-3) 10 방울을 첨가한다. 약 24 시간 동안 상온에서 계속 교반시킨다.A reaction vessel equipped with a stirrer and a calcium chloride dry tube was prepared with SafeStrip® (Brewer Science, Inc. product added 40.00 parts of a styrene-maleic anhydride copolymer having a number average molecular weight of about 1900 (Atochem SMA3000A) and an acid value of 290. ) Fill it with 50.00 parts. After all solids are dissolved, 12.00 parts of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) (RohmTech AM-414) and 10 drops of triethylamine (Aldrich 23,962-3) are added. Stirring is continued at room temperature for about 24 hours.
실시예 29Example 29
100 ml 폴리에틸렌 비이커를 실시예 27에서 제조된 그래프트된 중합체 29.82 부, 디펜타에리트리톨 펜타-/헥사-아크릴레이트 (Aldrich 40,728-3) 5.00 부 및 SafeStrip (등록상표) (Brewer Science, Inc. 제품) 8.69 부로 채운다. 혼합물을 1 시간 동안 상온에서 교반시키고 호박색 폴리에틸렌 나사 뚜껑 병에 14일 동안 보관한다.A 100 ml polyethylene beaker was prepared with 29.82 parts of the grafted polymer prepared in Example 27, 5.00 parts of dipentaerythritol penta- / hexa-acrylate (Aldrich 40,728-3) and SafeStrip® from Brewer Science, Inc. Fill with 8.69 wealth. The mixture is stirred for 1 hour at room temperature and stored for 14 days in an amber polyethylene screw cap bottle.
실시예 30Example 30
광학적으로 투명한 음각 처리 포토레지스트를 실시예 28에서 제조된 제제 10.00 부, 차단된 폴리이소시아네이트 (Desmodur B1-3175A, Miles Inc.) 1.90 부, SafeStrip (등록상표) 20.00 부, 이소프로필티옥산톤 (ITX) (First Chemical Corp.) 1.00 부, 옥틸-파라-(디메틸아미노) 벤조에이트 (ODAB) (First Chemical Corp.) 0.50 부 및 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 (Aldrich D2,780-2) 0.025 부을 합하여 제조한다. 혼합물을 상온에서 1 시간 동안 교반시키고 0.2 ㎛를 통해 여과한다.Optically clear intaglio photoresist was prepared using 10.00 parts of the formulation prepared in Example 28, 1.90 parts of blocked polyisocyanate (Desmodur B1-3175A, Miles Inc.), 20.00 parts of SafeStrip®, isopropyl thioxanthone (ITX (First Chemical Corp.) 1.00 parts, octyl-para- (dimethylamino) benzoate (ODAB) (First Chemical Corp.) 0.50 parts and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (Aldrich D2,780) -2) Prepare by combining 0.025 parts. The mixture is stirred at room temperature for 1 hour and filtered through 0.2 μm.
실시예 31Example 31
색필터 플레이트 제조시 사용되는 처리 단계를 도시한 도 6에 예시된 바와 같이 직경이 7.62 cm (3 in)인 유리 기판 상에 3색 칼라 휠을 제조함으로써 실시예 29의 제제의 평가를 수행했다. 칼라 휠의 제조 단계는 다음과 같다 :Evaluation of the formulation of Example 29 was carried out by making a three-color color wheel on a glass substrate with a diameter of 7.62 cm (3 in) as illustrated in FIG. 6 showing the processing steps used to produce the color filter plates. The manufacturing steps of the color wheel are as follows:
1) 90 초 동안 1000 rpm으로 적색 색필터 (Brewer Science, Inc. PiC (등록상표) Red 02)를 스핀 코팅하고 30 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트에서 굽고 30 분 동안 151 ℃의 환류 오븐에서 굽는다.1) Spin coat a red color filter (Brewer Science, Inc. PiC® Red 02) at 1000 rpm for 90 seconds and bake in a hot plate at 100 ° C. for 30 seconds and in a reflux oven at 151 ° C. for 30 minutes.
2) 90 초 동안 4000 rpm으로 투명한 음각 처리 포토레지스트를 스핀 코팅하고 3 분 동안 100 ℃의 고온 플레이트에서 굽는다.2) Spin coat the transparent intaglio photoresist at 4000 rpm for 90 seconds and bake on a hot plate at 100 ° C. for 3 minutes.
3) 그 다음 샘플을 코팅된 기판 상에 위치한 쐐기형 마스크를 통해 접촉 인쇄기로부터 화학광 (150 mJ/cm2)에 노출시킨 후, 2 분 동안 100 ℃의 고온 플레이트에서 구웠다.3) The sample was then exposed to actinic light (150 mJ / cm 2 ) from the contact printing machine through a wedge shaped mask placed on the coated substrate and then baked on a hot plate at 100 ° C. for 2 minutes.
4) 샘플을 20 초 동안 0.27 N 테트라메틸암모늄 히드록시드 (TMAH)에 담근 후, 탈이온수로 세척하여 노출된 레지스트 및 밑에 있는 레드 02를 제거하고 상층의 투명한 레지스트 층과 함께 레드 02의 반원 패턴을 남겼다. 그 다음 남아았는 레드 02 및 투명한 레지스트를 30 분 동안 230 ℃의 환류 오븐에서 단단하게 구웠다 (경화시켰다). 레드 02 필름 두께는 분석 증명에 의하여 약 1.2 ㎛이었다. 투명한 레지스트 필름의 두께는 약 0.35 ㎛이었다. 이 단계 이후의 투명 레지스트로 코팅된 레드 02의 스펙트럼은 도 7에서 라인 (a)로 나타난다.4) The sample was soaked in 0.27 N tetramethylammonium hydroxide (TMAH) for 20 seconds and then washed with deionized water to remove the exposed resist and the underlying red 02 and the semicircle pattern of red 02 with the upper transparent resist layer. Left. The remaining Red 02 and clear resist were then baked (cured) in a reflux oven at 230 ° C. for 30 minutes. Red 02 film thickness was about 1.2 μm by proof of analysis. The thickness of the transparent resist film was about 0.35 μm. The spectrum of red 02 coated with transparent resist after this step is shown by line (a) in FIG. 7.
5) 90 초 동안 1100 rpm으로 녹색 색필터 (Brewer Science, Inc. PiC (등록상표) Green 02)를 스핀 코팅하고 30 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트 상에서 굽고, 30 분 동안 165 ℃의 환류 오븐에서 굽는다. 실시예 29에서 제조된 투명한 음각 처리 포토레지스트를 90 초 동안 4000 rpm으로 스핀 코팅하고 3 분 동안 100 ℃ 고온 플레이트에서 굽는다. 그 다음 샘플을 코팅된 기판 상에 위치한 쐐기형 마스크를 통해 접촉 인쇄기로부터 화학광 (150 mJ/cm2)에 노출시키고 3 단계에서 그것의 위치로부터 90 도 회전시켰다.5) Spin coat green color filter (Brewer Science, Inc. PiC® Green 02) at 1100 rpm for 90 seconds and bake on hot plate at 100 ° C. for 30 seconds and bake at reflux oven at 165 ° C. for 30 minutes. . The transparent intaglio photoresist prepared in Example 29 is spin coated at 4000 rpm for 90 seconds and baked on a 100 ° C. hot plate for 3 minutes. The sample was then exposed to actinic light (150 mJ / cm 2 ) from the contact printing machine through a wedge shaped mask placed on the coated substrate and rotated 90 degrees from its position in three steps.
6) 샘플을 20 초 동안 0.27 N 테트라메틸암모늄 히드록시드 (TMAH)에 담근 후, 탈이온수로 세척하여 노출된 레지스트 및 밑에 있는 그린 02를 제거하고 그린 02의 반원 패턴을 남겼다. 그 다음, 남아있는 그린 02 및 투명한 레지스트를 30 분 동안 230 ℃의 환류 오븐에서 단단하게 구웠다 (경화시켰다). 그린 02 필름 두께는 분석 증명에 의하여 약 1.20 ㎛이었다. 투명한 레지스트 필름 두께는 약 0.35 ㎛였다. 이 단계 이후에, 투명 레지스트로 코팅된 그린 02 및 투명 레지스트로 코팅된 레드 02의 스펙트럼은 도 7에서 라인 (b) 및 (c)로 각각 나타난다.6) The sample was soaked in 0.27 N tetramethylammonium hydroxide (TMAH) for 20 seconds and then washed with deionized water to remove the exposed resist and the underlying Green 02 and left a semicircle pattern of Green 02. The remaining Green 02 and clear resist were then hard baked (cured) in a reflux oven at 230 ° C. for 30 minutes. Green 02 film thickness was about 1.20 μm by proof of analysis. The transparent resist film thickness was about 0.35 μm. After this step, the spectra of green 02 coated with transparent resist and red 02 coated with transparent resist are shown as lines (b) and (c) in FIG. 7, respectively.
7) 90 초 동안 1200 rpm으로 파란색 색필터 (Brewer Science, Inc. PiC (등록상표) EXP93004)를 스핀 코팅하고 30 초 동안 100 ℃의 고온 플레이트 상에서 굽고, 30 분 동안 160 ℃의 환류 오븐에서 굽는다. 실시예 29에서 제조된 투명한 음각 처리 포토레지스트를 90 초 동안 4000 rpm으로 스핀 코팅하고 3 분 동안 100 ℃ 고온 플레이트에서 굽는다. 그 다음 샘플을 코팅된 기판 상에 위치한 쐐기형 마스크를 통해 접촉 인쇄기로부터 화학광 (150 mJ/cm2)에 노출시키고 5 단계에서 그것의 위치로부터 90 도 회전시켰다.7) Spin coat the blue color filter (Brewer Science, Inc. PiC® EXP93004) at 1200 rpm for 90 seconds and bake on a hot plate at 100 ° C. for 30 seconds and bake in a reflux oven at 160 ° C. for 30 minutes. The transparent intaglio photoresist prepared in Example 29 is spin coated at 4000 rpm for 90 seconds and baked on a 100 ° C. hot plate for 3 minutes. The sample was then exposed to actinic light (150 mJ / cm 2 ) from the contact printing machine through a wedge shaped mask placed on the coated substrate and rotated 90 degrees from its position in step 5.
8) 샘플을 20 초 동안 0.27 N 테트라메틸암모늄 히드록시드 (TMAH)에 담근 후, 탈이온수로 세척하여 노출된 레지스트 및 밑에 있는 블루 10을 제거하고 블루 10의 반원 패턴을 남겼다. 남아있는 블루 10 및 투명한 레지스트를 30 분 동안 230 ℃의 환류 오븐에서 단단하게 구웠다 (경화시켰다). 블루 10 필름 두께는 분석 증명에 의하여 약 1.20 ㎛이었다. 투명한 레지스트 필름 두께는 약 0.35 ㎛였다. 투명한 레지스트로 코팅된 블루 10, 투명한 레지스트로 코팅된 그린 02 및 투명한 레지스트로 코팅된 레드 02의 스펙트럼은 이 단계 후에, 도 7에서 라인 (d), (e) 및 (f)로 각각 나타난다.8) The sample was soaked in 0.27 N tetramethylammonium hydroxide (TMAH) for 20 seconds and then washed with deionized water to remove the exposed resist and the underlying blue 10 and leaving a semi-circle pattern of blue 10. The remaining Blue 10 and clear resist was hard baked (cured) in a reflux oven at 230 ° C. for 30 minutes. Blue 10 film thickness was about 1.20 μm by proof of analysis. The transparent resist film thickness was about 0.35 μm. The spectra of blue 10 coated with transparent resist, green 02 coated with transparent resist and red 02 coated with transparent resist are shown by lines (d), (e) and (f) respectively in FIG. 7 after this step.
도 7에서, 라인 (a), (c) 및 (f)로 나타난 레드 02의 투과의 약간의 감소 및 라인 (b) 및 (e)로 나타난 그린 02의 투과의 약간의 감소는 뒤이은 색필터 처리 단계 중 임의의 단계로부터의 약간의 오염과 열에 의한 암화 (darkening)의 결과이지만, 영향은 극미하다.In Fig. 7, a slight decrease in the transmission of red 02 represented by lines (a), (c) and (f) and a slight decrease in the transmission of green 02 represented by lines (b) and (e) are followed by a color filter. It is the result of some contamination from any of the treatment steps and darkening by heat, but the impact is minimal.
블루 10을 TMAH에서 현상한 후 경화시키지 않은 것을 제외하면 1 내지 8 단계에서 상기 기재한 바와 같이 제2 칼라 휠을 제조했다. 대신 칼라 휠을 스피너 상에 놓고, 약 10 초 동안 스퀴즈 병으로부터 N-메틸-2-피롤리디논의 스트림으로 분무하면서 2000 rpm로 잡아늘렸다. 칼라 휠을 추가의 80 초 동안 2000 rpm에서 스핀하도록 하여 휠을 건조시키는 것을 도왔다. 도 8은 각각 경화 및 블루 10을 제거한 후 레드 02 및 그린 02의 스펙트럼을 보여주는데, 거기서 라인 (a), (c) 및 (e)는 레드 02의 투과 스펙트럼을 나타내며, 라인 (b) 및 (d)는 그린 02의 투과 스펙트럼을 나타낸다. 스펙트럼은 염료의 열분해에 기인한 레드 02 및 그린 02에 대한 투과의 약간의 감소를 보여준다. 스펙트럼은 N-메틸-2-피롤리디논을 사용하여 블루 10을 제거하는 것이 그린 02 및 레드 02를 오염시키지 않았음과 블루 10의 제거 단계시에 그린 02 및 레드 02로부터 염료의 침출이 없었음을 지시한다.A second color wheel was prepared as described above in steps 1-8 except blue 10 was developed in TMAH and not cured. Instead the color wheel was placed on the spinner and stretched at 2000 rpm while spraying with a stream of N-methyl-2-pyrrolidinone from the squeeze bottle for about 10 seconds. The color wheel was spun at 2000 rpm for an additional 80 seconds to help dry the wheel. FIG. 8 shows the spectra of red 02 and green 02 after curing and removing blue 10, respectively, where lines (a), (c) and (e) show transmission spectra of red 02, and lines (b) and (d ) Shows the transmission spectrum of Green 02. The spectrum shows a slight decrease in transmission for Red 02 and Green 02 due to the pyrolysis of the dye. Spectra showed that removal of Blue 10 using N-methyl-2-pyrrolidinone did not contaminate Green 02 and Red 02 and there was no leaching of dye from Green 02 and Red 02 during the Blue 10 removal step. To indicate.
실시예 32Example 32
직경이 7.62 cm (3 in)인 3 개의 유리 기판을 파란 색필터 물질 (EXP94056, Brewer Science, Inc.)을 사용하여 90 초 동안 800 rpm에서 스핀 코팅함으로써 코팅했다. 각 샘플을 30 초 동안 고온 플레이트에서 구웠다. 샘플 1을 30 분 동안 250 ℃의 환류 오븐에서 굽고, 샘플 2를 60 분 동안 230 ℃의 환류 오븐에서 굽고, 샘플 3을 30 분 동안 165 ℃의 환류 오븐에서 구웠다. 샘플 2를 실시예 29에 기재된 투명 레지스트 및 SafeStrip (등록상표) (Brewer Science, Inc. 제품)의 1 : 1 희석물로 스핀 코팅했다. 희석된 투명 레지스트를 90 초 동안 1000 rpm으로 스핀 코팅한 후 3 분 동안 100 ℃의 고온 플레이트에서 구웠다. 샘플을 접촉 인쇄기 상에서 플러드 노출시키고 (150 mJ/cm2) 30 분 동안 230 ℃의 환류 오븐에 두었다. 필름 두께는 스핀 커브로부터 0.39 ㎛인 것으로 측정되었다. 샘플 3을 상기 기재한 바와 같이 희석된 투명 레지스트을 사용하여 90 초 동안 5000 rpm으로 스핀 코팅함으로써 코팅한 후 3 분 동안 100 ℃의 고온 플레이트에서 구웠다. 샘플을 접촉 인쇄기 상에서 플러드 노출시키고 (150 mJ/cm2) 30 분 동안 230 ℃의 환류 오븐에 두었다. 필름 두께는 스핀 커브로부터 0.1 ㎛인 것으로 측정되었다. 내용제성의 평가는 N-메틸-2-피롤리디논 중에 각 샘플을 담금으로써 수행했다. 각 샘플의 스펙트럼을 N-메틸-2-피롤리디논에 담그기 전후에 기록했다. 샘플 1을 N-메틸-2-피롤리디논에 담근 동안 기판으로부터 벗겨냈다. 도 9의 라인 (a)는 투명 레지스트의 도포 전에 샘플 2의 파란 색필터의 투과 스펙트럼을 나타낸다. 도 9의 라인 (b)는 투명 레지스트가 그 위에 구워진 샘플 2의 투과 스펙트럼을 나타낸다. 도 9의 라인 (c)는 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 담근 후, 투명 레지스트를 그 위에 구운 샘플 2의 투과 스펙트럼을 나타낸다.Three glass substrates with a diameter of 7.62 cm (3 in) were coated by spin coating at 800 rpm for 90 seconds using a blue color filter material (EXP94056, Brewer Science, Inc.). Each sample was baked on a hot plate for 30 seconds. Sample 1 was baked in a reflux oven at 250 ° C. for 30 minutes, sample 2 was baked in a reflux oven at 230 ° C. for 60 minutes, and sample 3 was baked in a reflux oven at 165 ° C. for 30 minutes. Sample 2 was spin coated with a 1: 1 dilution of the transparent resist described in Example 29 and SafeStrip® (Brewer Science, Inc.). The diluted transparent resist was spin coated at 1000 rpm for 90 seconds and then baked on a hot plate at 100 ° C. for 3 minutes. Samples were flood exposed on a contact press (150 mJ / cm 2 ) and placed in a reflux oven at 230 ° C. for 30 minutes. The film thickness was determined to be 0.39 μm from the spin curve. Sample 3 was coated by spin coating at 5000 rpm for 90 seconds using a transparent resist diluted as described above and then baked on a hot plate at 100 ° C. for 3 minutes. Samples were flood exposed on a contact press (150 mJ / cm 2 ) and placed in a reflux oven at 230 ° C. for 30 minutes. The film thickness was measured to be 0.1 μm from the spin curve. Evaluation of solvent resistance was performed by soaking each sample in N-methyl-2-pyrrolidinone. Spectra of each sample were recorded before and after dipping in N-methyl-2-pyrrolidinone. Sample 1 was stripped from the substrate while soaked in N-methyl-2-pyrrolidinone. Line (a) of FIG. 9 shows the transmission spectrum of the blue color filter of Sample 2 before application of the transparent resist. Line (b) of FIG. 9 shows the transmission spectrum of Sample 2 in which the transparent resist was baked. Line (c) of FIG. 9 shows the transmission spectrum of Sample 2 after soaking in N-methyl-2-pyrrolidinone for 30 seconds and baking the transparent resist thereon.
도 10에서 라인 (a)는 투명 레지스트의 도포 및 경화 후에 샘플 3의 파란 색필터의 투과 스펙트럼을 나타낸다. 도 10에서 라인 (b)는 30 초 동안 N-메틸-2-피롤리디논에 담근 후, 투명 레지스트를 그 위에 구운 샘플 3의 투과 스펙트럼을 나타낸다.Line (a) in FIG. 10 shows the transmission spectrum of the blue color filter of Sample 3 after application and curing of the transparent resist. In FIG. 10, line (b) shows the transmission spectrum of Sample 3 which was soaked in N-methyl-2-pyrrolidinone for 30 seconds and then baked transparent resist thereon.
별도의 비히클 및 가용성 염료를 사용하는 경우에 대해서도 상기의 실시예를 보일 수 있는 반면 염료는 예를 들면 추가 화합물로서 중합체에 부착된, 비히클 중합체의 일부일 수 있다는 것이 이해될 것이다. 중합체는 또한 원하는 파장의 빛을 방출하고 다른 파장을 배제하는 원하는 여광 성질이 있는 것일 수 있다.It will be appreciated that the above examples can also be shown for the use of separate vehicles and soluble dyes, while the dyes can be part of the vehicle polymer, for example attached to the polymer as additional compounds. The polymer may also be one having the desired filtering properties which emit light of the desired wavelength and exclude other wavelengths.
당 분야의 숙련가들은 개시된 본 발명의 진의에서 벗어나지 않으면서 본 명세서에 개시된 본 발명의 변형이 가능하다는 것을 이해할 것이다. 본 발명은 본 명세서에 개시된 특정 실시태양에 의해 제한되지 않으며, 여기에 첨부된 청구의 범위에 의해서만 한정된다.Those skilled in the art will appreciate that variations of the invention disclosed herein are possible without departing from the spirit of the invention disclosed. The invention is not limited by the specific embodiments disclosed herein, but only by the claims appended hereto.
Claims (10)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US43140395A | 1995-04-17 | 1995-04-17 | |
US8/431,403 | 1995-04-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19990007801A true KR19990007801A (en) | 1999-01-25 |
Family
ID=23711792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019970707324A KR19990007801A (en) | 1995-04-17 | 1996-04-15 | Modified poly (maleic anhydride-co-styrene) and related polymers usable as substrates for color filters |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0821813A4 (en) |
JP (1) | JPH11504128A (en) |
KR (1) | KR19990007801A (en) |
AU (1) | AU5664196A (en) |
WO (1) | WO1996033445A1 (en) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9713074D0 (en) | 1997-06-21 | 1997-08-27 | Cambridge Display Tech Ltd | Electrically-conducting colour filters for use in organic light-emitting displays |
US5998090A (en) * | 1997-12-01 | 1999-12-07 | Brewer Science, Inc. | High optical density ultra thin organic black matrix system |
JP3742366B2 (en) * | 2002-07-26 | 2006-02-01 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | Color wheel forming method |
JP4408380B2 (en) * | 2003-08-20 | 2010-02-03 | 富士フイルム株式会社 | Negative curable composition, negative color filter and method for producing the same |
KR100820525B1 (en) | 2005-06-16 | 2008-04-07 | 엘지이노텍 주식회사 | Method for manufacturing color wheel of using projector |
US7550199B2 (en) * | 2006-07-31 | 2009-06-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Copolymers for stain resistance |
JP5932435B2 (en) * | 2012-03-29 | 2016-06-08 | サカタインクス株式会社 | Blue pigment dispersion composition for color filter and blue pigment dispersion resist composition for color filter containing the same |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS574012A (en) * | 1980-06-09 | 1982-01-09 | Canon Inc | Production of color filter |
US4822718A (en) * | 1982-09-30 | 1989-04-18 | Brewer Science, Inc. | Light absorbing coating |
KR960005891B1 (en) * | 1987-01-12 | 1996-05-03 | 브루어 사이언스, 인코포레이티드 | Light filters for microelectronics |
US5236793A (en) * | 1990-06-06 | 1993-08-17 | Okuno Chemical Industries Co., Ltd. | Material for color filter overcoat and material for color filter useful for liquid crystal display, process for formation of overcoat and process for formation of color filter |
JPH06123967A (en) * | 1992-08-26 | 1994-05-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition, color filter using the same and its production |
JPH0675375A (en) * | 1992-08-26 | 1994-03-18 | Sony Corp | Color resist material |
JPH0743522A (en) * | 1993-05-28 | 1995-02-14 | Nippon Oil Co Ltd | Method for forming, substrate having light-shading layer, substrate having light-shading layer, counter electrode substrate for black-and-white display thin film transistor(tft) array substrate, and black-and-white liquid crystal display device |
US5445919A (en) * | 1993-06-14 | 1995-08-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
-
1996
- 1996-04-15 EP EP96913794A patent/EP0821813A4/en not_active Withdrawn
- 1996-04-15 AU AU56641/96A patent/AU5664196A/en not_active Abandoned
- 1996-04-15 WO PCT/US1996/005192 patent/WO1996033445A1/en not_active Application Discontinuation
- 1996-04-15 KR KR1019970707324A patent/KR19990007801A/en not_active Application Discontinuation
- 1996-04-15 JP JP8531831A patent/JPH11504128A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11504128A (en) | 1999-04-06 |
AU5664196A (en) | 1996-11-07 |
EP0821813A4 (en) | 1998-08-26 |
EP0821813A1 (en) | 1998-02-04 |
WO1996033445A1 (en) | 1996-10-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0758097B1 (en) | Polymerizable composition for color filter | |
KR101844803B1 (en) | Coloring composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state imaging element, image display device, organic electroluminescent element, dye and method for producing dye | |
US5882843A (en) | Photosensitive resin composition for color filter production | |
US5817441A (en) | Process for preparation of color filter and liquid crystal display device | |
KR100203791B1 (en) | Photopolymerizable composition for color filter and color filter prepared therefrom | |
KR102158230B1 (en) | Near-infrared absorbing composition and filter for solid-state image sensor | |
US5756239A (en) | Method of forming a color filter array with improved resolution | |
JP6645335B2 (en) | Coloring composition for color filter, and color filter | |
KR19990007801A (en) | Modified poly (maleic anhydride-co-styrene) and related polymers usable as substrates for color filters | |
US5998569A (en) | Environmentally stable optical filter materials | |
CN108663904B (en) | Colored photosensitive resin composition, color filter and display device | |
CN113366029A (en) | Photosensitive resin composition, polymer, pattern, color filter, black matrix, display device, and imaging element | |
JPH10171118A (en) | Production of color filter | |
JPH0862841A (en) | Photosensitive resin composition, color filter using the same, and its production | |
KR102456397B1 (en) | Red colored photosensitive resin composition and color filter comprising the same | |
JPH10160921A (en) | Colored photosensitive resin composition for color filter | |
JPH10339959A (en) | Colored pattern forming method | |
Guerrero et al. | Dyed red, green, and blue photoresist for manufacture of high-resolution color filter arrays for image sensors | |
JPH01221584A (en) | Method for dyeing resin | |
WO2018173706A1 (en) | Composition, color filter, and hemoglobin sensor | |
WO2000014603A1 (en) | Process for preparing a color filter or overlay | |
JP2652071B2 (en) | Color filter | |
JPH0940886A (en) | Pigment-dispersed thermosetting resin solution composition, its production and color filter | |
CN108333873B (en) | Black photosensitive resin composition, black matrix for image display device, column spacer, and black matrix-integrated column spacer | |
WO2024150574A1 (en) | Pattern formation method and method for producing electronic device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |