KR19990006023U - Boat for Semiconductor Wafer Deposition Equipment - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트에 관한 것으로, 종래에는 보트의 세정을 실시한 다음, 엘리베이터에 보트를 설치하기 위하여 수준계로 엘리베이터의 수평을 조절한 다음, 엘리베이터의 상면에 보트를 설치하게 되는데, 조립공차 등에 의하여 수평이 맞지 않아 육안으로 다시 조절해야하는 등의 문제점이 있었다. 본 고안 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트는 하부지지판(12)의 상면에 수평확인수단(20)을 설치하여, 엘리베이터에 보트를 장착시 수평확인수단(20)을 육안으로 확인하며 수평을 조절할 수 있도록 함으로서, 종래보다 수평조절이 용이하고, 수평조절시간이 절감되어 생산성이 향상되는 효과가 있다.The present invention relates to a boat for a semiconductor wafer deposition apparatus, and in the related art, after the boat is cleaned, the elevator is horizontally adjusted with a level gauge to install the boat in the elevator, and then the boat is installed on the upper surface of the elevator. There was a problem such that it is necessary to adjust again with the naked eye because the level is not level due to the tolerance. The boat for the semiconductor wafer deposition apparatus of the present invention has a horizontal check means 20 installed on the upper surface of the lower support plate 12, so that the horizontal check means 20 can be visually checked and horizontally adjusted when the boat is mounted on the elevator. It is easier to adjust the horizontal than before, and the horizontal adjustment time is reduced, thereby improving productivity.
Description
본 고안은 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트에 관한 것으로, 특히 보트의 장착시 수평교정이 용이하도록 하여 수평교정시간의 절감에 따른 생산성을 향상시키도록 하는데 적합한 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트에 관한 것이다.The present invention relates to a boat for a semiconductor wafer deposition apparatus, and more particularly to a boat for a semiconductor wafer deposition apparatus suitable for improving the productivity according to the reduction of the horizontal calibration time to facilitate horizontal calibration when the boat is mounted.
도 1은 종래 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트의 구조를 보인 정면도이고, 도 2는 종래 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트의 구조를 보인 평면도이며, 도 3은 종래 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트의 구조를 보인 좌측면도이다.1 is a front view showing a structure of a boat for a conventional semiconductor wafer deposition apparatus, Figure 2 is a plan view showing a structure of a boat for a conventional semiconductor wafer deposition apparatus, Figure 3 is a left side view showing a structure of a boat for a conventional semiconductor wafer deposition apparatus. to be.
도시된 바와 같이 종래 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트는 상부지지판(1)과 하부지지판(2)이 일정간격을 두고 설치되어 있고, 그 상부지지판(1)과 하부지지판(2)의 사이에는 4개의 라다(3)가 설치되어 있다.As shown, the boat for the conventional semiconductor wafer deposition apparatus is provided with an upper support plate 1 and a lower support plate 2 at regular intervals, and four ladders between the upper support plate 1 and the lower support plate 2. (3) is installed.
그리고, 상기 4개의 라다(3)에는 상,하방향의 등간격으로 다수개의 슬롯(3a)이 형성되어 있어서, 웨이퍼(미도시)를 탑재할 수 있도록 되어 있다.In the four ladders 3, a plurality of slots 3a are formed at equal intervals in the up and down directions so that a wafer (not shown) can be mounted.
상기와 같이 구성되어 있는 종래 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트는 부착되어 있는 증착막들을 제거하기 위하여 엘리베이터(미도시)에서 해체하여 주기적으로 세정을 실시하며, 이와 같이 세정을 실시한 다음 다시 엘리베이터(미도시)의 상면에 설치하게 되는데, 이때 일반적인 수준계(미도시)를 엘리베이터(미도시)의 수평을 맞춘 상태에서 그 엘리베이터(미도시)의 상면에 보트(4)를 설치한 다음, 튜브(미도시)의 내측으로 이동하여 튜브(미도시)의 내벽과 보트(4)의 외측면 사이의 거리를 육안으로 확인하며 보트(4)의 수평을 조절한다.The boat for the conventional semiconductor wafer deposition apparatus constructed as described above is dismantled in an elevator (not shown) to periodically remove the deposited films, and is periodically cleaned. In this case, the general level gauge (not shown) is leveled with the elevator (not shown), and the boat 4 is installed on the top of the elevator (not shown), and then the tube (not shown) By moving inward, the distance between the inner wall of the tube (not shown) and the outer surface of the boat 4 is visually checked and the level of the boat 4 is adjusted.
그러나, 상기와 같은 종래 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트(4)는 세정을 실시한 다음, 수준계를 이용하여 수평이 맞추어진 엘리베이터의 상면에 설치하게 되는데, 엘리베이터의 상면에 보트의 조립시 수평이 틀어지게 되어 육안으로 다시 조절을 해야하므로 번거롭고 시간이 많이 소요될뿐만 아니라, 정확한 수평조절이 불가능한 문제점이 있었다.However, the boat 4 for the conventional semiconductor wafer deposition apparatus as described above is installed on the upper surface of the elevator, which is leveled using a level gauge, so that the horizontal surface is displaced when the boat is assembled on the upper surface of the elevator. Since it has to be adjusted again with the naked eye, it is cumbersome and time consuming, and there was a problem that accurate leveling is impossible.
상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 고안의 목적은 수평조절이 용이하고, 수평을 조절하는 시간이 절감되어 생산성을 향상시키도록 하는데 적합한 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트를 제공함에 있다.The object of the present invention devised in view of the above problems is to provide a boat for a semiconductor wafer deposition apparatus that is easy to adjust the horizontal, the time to adjust the horizontal is improved to improve the productivity.
도 1은 종래 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트의 구조를 보인 정면도.1 is a front view showing the structure of a boat for a conventional semiconductor wafer deposition apparatus.
도 2는 종래 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트의 구조를 보인 평면도.2 is a plan view showing the structure of a boat for a conventional semiconductor wafer deposition apparatus.
도 3은 종래 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트의 구조를 보인 좌측면도.Figure 3 is a left side view showing the structure of a boat for a conventional semiconductor wafer deposition apparatus.
도 4는 본 고안 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트의 실시예를 보인 사시도.Figure 4 is a perspective view showing an embodiment of the boat for the inventive semiconductor wafer deposition apparatus.
도 5는 본 고안 실시예에 따른 하부지지판의 구조를 보인 평면도.5 is a plan view showing a structure of a lower support plate according to an embodiment of the present invention.
도 6은 도5의 A-A'를 절취하여 보인 단면도.6 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 5;
도 7은 도 5의 B-B'를 절취하여 보인 단면도.FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 5;
도 8은 본 고안의 변형예를 평면도.8 is a plan view of a modification of the present invention.
도 9는 도 8의 C-C'를 절취하여 보인 단면도.FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line CC ′ of FIG. 8; FIG.
* * 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 * ** * Explanation of symbols for main parts of drawing * *
11 : 상부지지판 12 : 하부지지판11: upper support plate 12: lower support plate
13 : 라다 13a: 슬롯13: Lada 13a: slot
20 : 수평확인수단 21 : 좌우방향수평조절부20: horizontal confirmation means 21: horizontal direction adjustment unit
22 : 전,후방향수평조절부 31,31': 노치홈22: front and rear horizontal adjustment section 31,31 ': notch groove
32,32',42: 원형볼 33,33': 눈금32,32 ', 42: Round ball 33,33': Scale
41 : 반구홈41: hemisphere groove
상기와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여 상,하부지지판의 사이에 수개의 라다가 설치되어 있고, 그 라다에는 등간격으로 다수개의 슬롯이 형성되어 있는 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트에 있어서, 상기 하부지지판에 수평 상태를 확인하기 위한 수평확인수단을 설치하여서 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트가 제공된다.In order to achieve the object of the present invention as described above, a plurality of ladders are installed between upper and lower support plates, and a plurality of slots are formed at equal intervals in the boat for the semiconductor wafer deposition apparatus. Provided is a boat for a semiconductor wafer deposition apparatus, characterized in that the support plate is provided with a horizontal check means for checking the horizontal state.
이하, 상기와 같이 구성되는 본 고안 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트를 첨부된 도면의 실시예를 참고하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, with reference to the embodiment of the accompanying drawings, the boat for the inventive semiconductor wafer deposition apparatus configured as described above in more detail as follows.
도 4는 본 고안 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트의 실시예를 보인 사시도이고, 도 5는 본 고안 실시예에 따른 하부지지판의 구조를 보인 평면도이며, 도 6은 도5의 A-A'를 절취하여 보인 단면도이고, 도 7은 도 5의 B-B'를 절취하여 보인 단면도이다.Figure 4 is a perspective view showing an embodiment of the boat for the semiconductor wafer deposition apparatus of the present invention, Figure 5 is a plan view showing the structure of the lower support plate according to the embodiment of the present invention, Figure 6 is a cutaway A-A 'of FIG. FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 5.
도시된 바와 같이, 본 고안 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트는 상,하부지지판(11)(12)의 사이에 4개의 라다(13)가 설치되어 있고, 그 라다(13)에는 상,하방향의 등간격으로 다수개의 슬롯(13a)이 형성되어 있다.As shown in the drawing, the boat for the semiconductor wafer deposition apparatus of the present invention is provided with four ladders 13 between the upper and lower support plates 11 and 12, and the ladder 13 has a vertical and the like direction. A plurality of slots 13a are formed at intervals.
그리고, 상기 하부지지판(12)의 상면에는 수평상태를 확인하기 위한 수평확인수단(20)이 설치되어 있다.And, the upper surface of the lower support plate 12 is provided with a horizontal confirmation means 20 for confirming the horizontal state.
상기 수평확인수단(20)은 좌우방향의 수평상태를 확인하기 위한 좌,우방향수평조절부(21)와, 전,후방향의 수평상태를 확인하기 위한 전,후방향수평조절부(22)로 구성되어 있다.The horizontal checking means 20 is left and right horizontal control unit 21 for confirming the horizontal state of the left and right direction, and the front and rear horizontal control unit 22 for confirming the horizontal state of the front, rear direction Consists of
상기 좌,우/전,후방향수평조절부(21)(22)는 일정 길이의 노치홈(31)(31')이 중앙부보다 양단부가 높게 각각 형성되어 있고, 상기 노치홈(31)(31')의 내측에는 석영재질의 원형볼(32)(32')이 각각 삽입되어 있으며, 상기 노치홈(31)(31')의 상면 양측에는 수개의 눈금(33)(33')이 각각 일정간격으로 형성되어 있다.The left, right, front, and rear horizontal adjustment portions 21 and 22 are notched grooves 31 and 31 ′ having a predetermined length, and both ends thereof are formed higher than the center portion, and the notch grooves 31 and 31 are respectively formed. Inside the '), circular balls 32 and 32' of quartz material are inserted, respectively, and several scales 33 and 33 'are fixed on both sides of the upper surface of the notch grooves 31 and 31', respectively. It is formed at intervals.
상기 도면부호중 전,후방향수평조절부(22)의 도면부호는 괄호안에 기입하였다.In the reference numerals, reference numerals of the front and rear horizontal control units 22 are given in parentheses.
상기와 같이 구성되어 있는 본 고안 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트는 증착막을 제거하기 위하여 엘리베이터에서 해체하여 세정을 실시한 다음, 다시 엘리베이터의 상면에 장착하게 되는데, 이때 좌,우/전,후방향수평조절부(21)(22)의 노치홈(31)(31')에 삽입되어 있는 원형볼(32((32')이 중앙의 영점에 위치되도록 육안으로 확인하며 수평을 조절하게 된다.The boat for a semiconductor wafer deposition apparatus of the present invention, which is configured as described above, is dismantled in an elevator to remove the deposited film, and then, is mounted on the upper surface of the elevator again. (21) The circular ball 32 ((32 ') inserted into the notch grooves 31 and 31' of the 22 is visually checked to be positioned at the zero point of the center and the horizontal is adjusted.
도 8은 본 고안의 변형예를 평면도이고, 도 9는 도 8의 C-C'를 절취하여 보인 단면도이다.FIG. 8 is a plan view showing a modification of the present invention, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line CC ′ of FIG. 8.
도시된 바와 같이, 수평확인수단(20)으로 중앙보다 가장자리가 높은 반구홈(41)을 형성하고, 그 반구홈(41)의 내측에 석영재질의 원형볼(42)을 수납하여, 석영볼(42)의 위치로 수평상태를 확인할 수 있도록 되어 있다.As shown in the figure, the horizontal check means 20 forms a hemispherical groove 41 with a higher edge than the center, and accommodates the quartz ball circular ball 42 inside the hemisphere groove 41, thereby providing a quartz ball ( It is possible to check the horizontal state by the position of 42).
즉, 엘리베이터에 보트(50)를 장착시 상기 반구홈(41)에 수납되어 있는 원형볼(42)이 반구홈(41)의 중앙에 위치되도록 육안으로 확인하며 수평을 조절하게 된다.That is, when the boat 50 is mounted on the elevator, the circular ball 42 accommodated in the hemisphere groove 41 is visually checked to adjust the horizontal position so that the circular ball 42 is located at the center of the hemisphere groove 41.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 고안 반도체 웨이퍼 증착장치용 보트는 하부지지판의 상면에 수평확인수단을 설치하여, 엘리베이터에 보트를 장착시 수평확인수단을 육안으로 확인하며 수평을 조절할 수 있도록 함으로서, 종래보다 수평조절이 용이하고, 수평조절시간이 절감되어 생산성이 향상되는 효과가 있다.As described in detail above, the boat for the semiconductor wafer deposition apparatus of the present invention has a horizontal check means installed on the upper surface of the lower support plate, so that when the boat is mounted on the elevator, the horizontal check means can be visually checked and the horizontal can be adjusted. Easier horizontal adjustment, the horizontal adjustment time is reduced, there is an effect that the productivity is improved.
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Priority Applications (1)
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| KR2019970019438U KR19990006023U (en) | 1997-07-23 | 1997-07-23 | Boat for Semiconductor Wafer Deposition Equipment |
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| KR2019970019438U KR19990006023U (en) | 1997-07-23 | 1997-07-23 | Boat for Semiconductor Wafer Deposition Equipment |
Publications (1)
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| KR19990006023U true KR19990006023U (en) | 1999-02-18 |
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| KR2019970019438U KR19990006023U (en) | 1997-07-23 | 1997-07-23 | Boat for Semiconductor Wafer Deposition Equipment |
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| KR (1) | KR19990006023U (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100447995B1 (en) * | 2002-05-21 | 2004-09-10 | 동부전자 주식회사 | Horizontal boat for furnace boat elevator leveling |
| KR101467551B1 (en) * | 2014-08-20 | 2014-12-02 | 정병철 | Teaching Jig for Swmiconductor Wafer |
-
1997
- 1997-07-23 KR KR2019970019438U patent/KR19990006023U/en not_active Application Discontinuation
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| KR100447995B1 (en) * | 2002-05-21 | 2004-09-10 | 동부전자 주식회사 | Horizontal boat for furnace boat elevator leveling |
| KR101467551B1 (en) * | 2014-08-20 | 2014-12-02 | 정병철 | Teaching Jig for Swmiconductor Wafer |
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