KR19990002102A - DLC coating device of speaker diaphragm - Google Patents

DLC coating device of speaker diaphragm Download PDF

Info

Publication number
KR19990002102A
KR19990002102A KR1019970025629A KR19970025629A KR19990002102A KR 19990002102 A KR19990002102 A KR 19990002102A KR 1019970025629 A KR1019970025629 A KR 1019970025629A KR 19970025629 A KR19970025629 A KR 19970025629A KR 19990002102 A KR19990002102 A KR 19990002102A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
speaker diaphragm
cathode
chamber
dlc coating
dlc
Prior art date
Application number
KR1019970025629A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김기택
Original Assignee
구자홍
엘지전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 구자홍, 엘지전자 주식회사 filed Critical 구자홍
Priority to KR1019970025629A priority Critical patent/KR19990002102A/en
Publication of KR19990002102A publication Critical patent/KR19990002102A/en

Links

Landscapes

  • Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치에 관한 것으로서, 캐소드를 둘러싼 차폐막의 외벽에 자석이 설치되어 상기 캐소드에 인가되는 바이어스 전압의 크기가 감소됨으로써 균일한 밀도의 플라스마층이 형성되어 코팅시 상기 스피커 진동판의 훼손이 방지됨과 아울러, 상기 캐소드의 상면이 상기 스피커 진동판의 저면부와 동일한 형상으로 형성되어 상기 캐소드와 스피커 진동판이 일정 간격을 갖고 결합됨으로써 상기 스피커 진동판 전체가 시드층 내에 위치되어 상기 스피커 진동판의 모든 부분에 DLC 박막이 균일하게 코팅되도록 하는 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a DLC coating apparatus of a speaker diaphragm, wherein a magnet is installed on an outer wall of a shielding film surrounding a cathode to reduce a magnitude of a bias voltage applied to the cathode, thereby forming a plasma layer having a uniform density, thereby coating the speaker diaphragm. In addition to preventing damage to the cathode, the upper surface of the cathode is formed in the same shape as the bottom portion of the speaker diaphragm and the cathode and the speaker diaphragm are combined with a predetermined interval so that the entire speaker diaphragm is located in the seed layer of the speaker diaphragm The present invention relates to a DLC coating apparatus for a speaker diaphragm that uniformly coats a DLC thin film on all portions.

Description

스피커 진동판의 DLC 코팅 장치DLC coating device of speaker diaphragm

본 발명은 스피커 진동판의 DLC(Diamond Like Carbon) 코팅 장치에 관한 것으로서, 특히 폴리머(polymer)를 재료로 하는 스피커 진동판에 DLC막을 코팅하는 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a DLC (Diamond Like Carbon) coating apparatus of a speaker diaphragm, and more particularly, to a DLC coating apparatus of a speaker diaphragm for coating a DLC film on a speaker diaphragm made of a polymer.

일반적으로 스피커 진동판은 약 25㎛의 두께로 박막 가공한 티타늄(Ti)을 사용하고 있으나, 고음의 재생시 음의 변형이 일어나 원음을 완벽하게 재생하는 것이 불가능하므로 티타늄을 모재로 하는 스피커 진동판에 DLC막을 코팅하여 사용하기도 한다.Generally, the speaker diaphragm uses thin-filmed titanium (Ti) with a thickness of about 25 μm, but it is impossible to reproduce the original sound completely due to the deformation of the sound when the high sound is reproduced. It is also used to coat the membrane.

상기 DLC막을 코팅하는 방법에는 스퍼터링(Sputtering)법, 이온 빔 스퍼터링(Ion Beam Sputtering)법, PECVD(Physical Enhanced Chemical Vapor Deposition)법, 레이저 제거(Laser Ablation)법 등이 있으며, 이중에서도 코팅막의 균일성이 월등한 PECVD법을 선호하는 추세이다.Coating methods of the DLC film include sputtering, ion beam sputtering, physical enhanced chemical vapor deposition (PECVD), laser ablation, and the like. This is a trend that favors superior PECVD.

상기 PECVD법을 이용하여 DLC막을 코팅하는 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 챔버(chamber)(1)와, 상기 챔버(1)의 상부에 위치되어 챔버(1) 내로 메탄 가스(CH4)를 유입하는 가스 흡입구(2)와, 상기 챔버(1) 내의 상부에 설치된 애노드(anode)(3)와, 상기 챔버(1)의 내의 하부에 상기 애노드(3)와 소정을 간격을 두고 대향되도록 설치된 캐소드(cathode)(4)와, 상기 캐소드(4)의 주위를 둘러싸서 상기 챔버(1)로부터 상기 캐소드(4)를 분리시키는 차폐막(5)과, 상기 캐소드(4)에 연결된 고주파 발생부를 포함하여 구성된다.DLC coating apparatus of the speaker diaphragm to coat the DLC film by using the PECVD method is a chamber (1), as shown in Fig. 1 and 2, the chamber 1 is located above the chamber (1) A gas inlet (2) for introducing methane gas (CH 4 ) into the chamber, an anode (3) provided at an upper portion of the chamber (1), and an anode (3) at a lower portion of the chamber (1); A cathode 4 provided to face each other at a predetermined interval, a shielding film 5 separating the cathode 4 from the chamber 1 by surrounding the cathode 4, and the cathode ( It is configured to include a high frequency generator connected to 4).

여기서, 상기 고주파 발생부는 고주파를 발생시키는 고주파 발생기(6)와, 상기 캐소드(4)와 고주파 발생기(6) 사이에 연결된 초크 코일(choke coil)(8)과, 상기 초크 코일(8)과 연결되어 상기 캐소드(4)에 바이어스(bias) 전압을 인가하는 전원(7)으로 구성된다.Here, the high frequency generator is connected to the high frequency generator 6 for generating a high frequency, a choke coil 8 connected between the cathode 4 and the high frequency generator 6, and the choke coil 8. And a power supply 7 for applying a bias voltage to the cathode 4.

상기와 같이 구성된 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치는 다음과 같이 동작된다.The DLC coating apparatus of the speaker diaphragm configured as described above is operated as follows.

먼저, 상기 캐소드(4) 위에 티타늄을 재료로 하는 스피커 진동판(10)을 고정시키고 상기 챔버(1) 내의 진공도를 10-5Torr 이상으로 만든다. 이후, 상기 챔버(1) 내의 진공도를 10∼100mTorr 이상으로 유지하면서 상기 가스 흡입구(2)를 통해 적정량의 메탄 가스를 유입시킨다.First, the speaker diaphragm 10 made of titanium is fixed on the cathode 4 and the degree of vacuum in the chamber 1 is made greater than 10 −5 Torr. Thereafter, an appropriate amount of methane gas is introduced through the gas inlet 2 while maintaining the vacuum degree in the chamber 1 at 10 to 100 mTorr or more.

상기와 같이 메탄 가스가 상기 챔버(1) 내로 유입되면, 상기 고주파 발생부에 의해 발생된 13.56MHz의 고주파 전원을 상기 캐소드(4)에 인가한다. 이렇게 고주파 전원을 인가받은 상기 캐소드(4)는 상기 챔버(1)로 고주파를 방출하고, 이 고주파에 의하여 상기 챔버(1) 내의 메탄 가스가 해리되어 화학적으로 활성화된 플라스마(plasma)층(9)을 형성하게 된다. 이때, 상기 플라스마층(9)과 캐소드(4) 사이에는 전극 둘레에 이온이 모여서 전계를 형성하여 전극 작용을 소멸시키는 시드(sheath)층(11)이 형성된다.When methane gas is introduced into the chamber 1 as described above, a high frequency power of 13.56 MHz generated by the high frequency generator is applied to the cathode 4. The cathode 4, to which the high frequency power is applied, emits a high frequency to the chamber 1, and the methane gas in the chamber 1 is dissociated by the high frequency to chemically activate the plasma layer 9. Will form. At this time, a seed layer 11 is formed between the plasma layer 9 and the cathode 4 to form an electric field by collecting ions around the electrode to dissipate the electrode action.

상기와 같이 플라스마층(9)이 형성되면 메탄 가스의 탄소, 수소 활성기가 약 300∼800V의 직류 바이어스 전압이 걸려있는 상기 캐소드(4)를 향하여 빠른 속도로 충돌하게 되므로 상기 캐소드(4) 위에 놓인 스피커 진동판(10) 상에 상기 활성기들이 증착되어 다이아몬드와 유사한 DLC 박막이 코팅된다.As described above, when the plasma layer 9 is formed, carbon and hydrogen activators of methane gas collide at a high speed toward the cathode 4 in which a DC bias voltage of about 300 to 800 V is applied. The active groups are deposited on speaker diaphragm 10 to coat a diamond-like DLC thin film.

그러나 종래 기술에 의한 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치는 스피커 진동판(10)의 재료인 티타늄을 약 25㎛ 두께의 박막으로 가공해야 하므로 복잡한 형상의 스피커 진동판(10)을 성형하는데 어려움이 있고, 티타늄이 고가이기 때문에 상기 스피커 진동판(10)의 제조비가 증가되는 문제점이 있다.However, since the DLC coating apparatus of the speaker diaphragm according to the prior art has to process titanium, which is a material of the speaker diaphragm 10, into a thin film having a thickness of about 25 μm, it is difficult to form a speaker diaphragm 10 having a complicated shape, and titanium is expensive. Because of this, there is a problem that the manufacturing cost of the speaker diaphragm 10 is increased.

또한, 상기한 문제점을 해결하기 위하여 상기 스피커 진동판(10)을 제작하는데 50∼70㎛ 두께의 폴리머를 사용하게 되면, 상기 폴리머가 저융점 재료이기 때문에 코팅시 메탄 가스의 수소, 탄소 활성기가 상기 스피커 진동판(10)에 충돌하는 에너지에 의해 상기 스피커 진동판(10)이 손상되는 문제점이 있다.In addition, in order to solve the above problems, when the polymer having a thickness of 50 to 70 μm is used to fabricate the speaker diaphragm 10, since the polymer is a low melting point material, hydrogen of a methane gas and a carbon active group are coated on the speaker. There is a problem that the speaker diaphragm 10 is damaged by energy impinging on the diaphragm 10.

또한, 상기 스피커 진동판(10)은 상기 캐소드(4)와 플라스마층(9) 사이에 생긴 시드층(11) 내에서 코팅될 때 양질의 DLC 코팅막을 얻을 수 있는데, 종래 기술에 따른 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치는 상기 캐소드(4)가 평평한 형상이기 때문에 그 위에 상기 스피커 진동판(10)을 위치시켰을 경우, 상기 스피커 진동판(10)의 요철로 인하여 상기 캐소드(4)와 스피커 진동판(10) 사이에 틈이 생겨 상기 시드층(11) 외부로 상기 스피커 진동판(10)의 상부가 돌출되므로 이렇게 돌출된 상기 스피커 진동판(10)의 상부에는 DLC 코팅이 제대로 이루어지지 않는 문제점이 있다.In addition, when the speaker diaphragm 10 is coated in the seed layer 11 formed between the cathode 4 and the plasma layer 9, it is possible to obtain a high quality DLC coating film, DLC of the speaker diaphragm according to the prior art Since the cathode 4 has a flat shape, the coating apparatus has a gap between the cathode 4 and the speaker diaphragm 10 due to the irregularities of the speaker diaphragm 10 when the speaker diaphragm 10 is placed thereon. Since the upper portion of the speaker diaphragm 10 protrudes out of the seed layer 11, there is a problem in that DLC coating is not properly performed on the protruding portion of the speaker diaphragm 10.

또한, 종래 기술에 따른 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치는 상기 캐소드(4)에 필요 이상의 높은 직류 바이어스 전압이 걸리게 되어 상기 플라스마층(9)의 밀도가 균일하지 않기 때문에, 상기 캐소드(4)와 플라스마층(9) 사이에 형성된 시드층(11)의 형상이 균일하지 않고 메탄 가스의 탄소, 수소 활성기가 상기 스피커 진동판(10)에 충돌하는 에너지가 불규칙하게 되어 균일한 DLC 코팅막을 얻을 수 없는 문제점이 있다.In addition, the DLC coating apparatus of the loudspeaker diaphragm according to the prior art applies a higher DC bias voltage than necessary to the cathode 4 so that the density of the plasma layer 9 is not uniform, so that the cathode 4 and the plasma layer There is a problem that the shape of the seed layer 11 formed between (9) is not uniform, and the energy of the carbon and hydrogen activator of the methane gas colliding with the speaker diaphragm 10 becomes irregular, so that a uniform DLC coating film cannot be obtained. .

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 스피커 진동판의 재료로 폴리머를 사용하여 스피커 진동판의 제작비를 줄이고, 캐소드에 인가되는 직류 바이어스 전압을 적정한 수준으로 감소시킴으로써 상기 스피커 진동판이 손상되지 않음과 동시에 균일한 코팅막이 형성되도록 하는 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems of the prior art, by using a polymer as the material of the speaker diaphragm to reduce the manufacturing cost of the speaker diaphragm, by reducing the DC bias voltage applied to the cathode to an appropriate level, It is an object of the present invention to provide a DLC coating apparatus for a speaker diaphragm that is not damaged and at the same time a uniform coating film is formed.

도 1은 종래 기술에 따른 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치가 도시된 구성도,1 is a block diagram showing a DLC coating apparatus of the speaker diaphragm according to the prior art,

도 2는 종래 기술에 따른 캐소드의 형상이 도시된 구성도,2 is a configuration diagram showing the shape of a cathode according to the prior art,

도 3은 본 발명에 따른 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치가 도시된 구성도,3 is a block diagram showing a DLC coating apparatus of the speaker diaphragm according to the present invention,

도 4는 본 발명에 의한 캐소드의 형상이 도시된 구성도이다.4 is a configuration diagram showing the shape of the cathode according to the present invention.

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for the main parts of the drawings

51 : 챔버 52 : 가스 흡입구51 chamber 52 gas inlet

53 : 애노드 54 : 캐소드53: anode 54: cathode

55 : 차폐막 60 : 스피커 진동판55 shielding film 60 speaker diaphragm

62 : 자석62: magnet

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치의 특징은 챔버와, 상기 챔버의 상부에 설치되어 챔버 내부로 가스를 유입하는 가스 흡입구와, 상기 챔버 내의 상부에 설치된 애노드와, 상기 애노드와 소정의 간격을 두고 대향되게 설치되고 그 위에 스피커 진동판이 올려지는 캐소드와, 상기 캐소드를 둘러싸고 있는 차폐막과, 상기 캐소드에 연결되어 고주파를 발생시키는 고주파 발생부를 포함하여 구성된 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치에 있어서, 상기 차폐막은 상기 캐소드에 인가되는 직류 바이어스 전압을 감소시키도록 그 외벽에 자석이 설치된 것이다.Features of the DLC coating apparatus of the speaker diaphragm according to the present invention for achieving the above object is a chamber, a gas inlet for injecting gas into the chamber and installed in the upper portion of the chamber, an anode installed in the upper portion of the chamber, DLC coating of a speaker diaphragm including a cathode installed to face the anode at a predetermined interval and a speaker diaphragm mounted thereon, a shielding film surrounding the cathode, and a high frequency generator connected to the cathode to generate high frequency; In the apparatus, the shielding film is provided with a magnet on its outer wall to reduce a direct current bias voltage applied to the cathode.

또한, 본 발명의 부가적인 특징은, 상기 캐소드의 상면이 상기 스피커 진동판의 저면부에 형성된 오목부와 서로 일정한 간격으로 결합되도록 동일한 형상으로 돌출되는데 있다.In addition, an additional feature of the present invention is that the upper surface of the cathode protrudes in the same shape so as to be coupled to the recess formed in the bottom portion of the speaker diaphragm at regular intervals from each other.

또한, 상기와 같이 구성된 본 발명은 상기 캐소드에 인가되는 직류 바이어스 전압이 상기 자석에 의해 적절한 수준으로 감소되어 균일한 밀도를 갖는 플라스마층이 형성되므로, 메탄 가스의 활성기들이 상기 스피커 진동판에 충돌하는 에너지가 일정량으로 감소되어 폴리머로 제조된 스피커 진동판의 손상이 방지되고 상기 스피커 진동판에 DLC막이 균일하게 코팅되는 이점이 있다.In addition, according to the present invention configured as described above, since the DC bias voltage applied to the cathode is reduced to an appropriate level by the magnet to form a plasma layer having a uniform density, energy of the methane gas activators impinges on the speaker diaphragm. Is reduced to a certain amount to prevent damage to the speaker diaphragm made of a polymer and has the advantage that the DLC film is uniformly coated on the speaker diaphragm.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치는 도 3에 도시된 바와 같이 챔버(51)와, 상기 챔버(51)의 상부에 위치되어 챔버(51) 내로 메탄 가스를 유입하는 가스 흡입구(52)와, 상기 챔버(51) 내의 상부에 설치된 애노드(53)와, 상기 챔버(51)의 내의 하부에 상기 애노드(53)와 소정을 간격을 두고 대향되도록 설치되고 그 위에 스피커 진동판(60)이 올려지는 캐소드(54)와, 상기 캐소드(54)의 주위를 둘러싸서 상기 챔버(51)로부터 상기 캐소드(54)를 분리시키는 차폐막(55)과, 상기 차폐막(55)의 외벽에 장착되어 상기 캐소드(54)에 인가되는 직류 바이어스 전압을 적절한 수준으로 감소시키는 자석(62)과, 상기 캐소드(54)에 연결된 고주파 발생부를 포함하여 구성된다.DLC coating apparatus of the speaker diaphragm according to the present invention is a chamber 51, as shown in Figure 3, the gas inlet 52 which is located above the chamber 51 to inject methane gas into the chamber 51 and And an anode 53 disposed at an upper portion of the chamber 51 and a lower portion of the chamber 51 to face the anode 53 at a predetermined interval therebetween, and a speaker diaphragm 60 is placed thereon. A cathode 54, a shielding film 55 surrounding the cathode 54 to separate the cathode 54 from the chamber 51, and a shielding film 55 mounted on an outer wall of the shielding film 55. And a high frequency generator connected to the cathode 54 and a magnet 62 for reducing a DC bias voltage applied to an appropriate level.

여기서, 상기 고주파 발생부는 고주파를 발생시키는 고주파 발생기(56)와, 상기 캐소드(54)와 고주파 발생기(56) 사이에 연결된 초크 코일(58)과, 상기 초크 코일(58)과 연결되어 상기 캐소드(54)에 바이어스 전압을 인가하는 전원(57)으로 구성된다.Here, the high frequency generator is a high frequency generator 56 for generating a high frequency, the choke coil 58 connected between the cathode 54 and the high frequency generator 56, and the choke coil 58 is connected to the cathode ( 54, a power source 57 for applying a bias voltage.

또한, 상기 캐소드(54)는 그 상면이 상기 스피커 진동판(60)의 저면부에 형성된 오목부와 서로 일정한 간격을 갖고 결합되도록 동일한 형상으로 돌출되어 있다.In addition, the cathode 54 protrudes in the same shape such that the upper surface thereof is coupled to the recess formed in the bottom portion of the speaker diaphragm 60 at regular intervals.

상기와 같이 구성된 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치는 다음과 같이 동작된다.The DLC coating apparatus of the speaker diaphragm configured as described above is operated as follows.

먼저, 상기 스피커 진동판(60)의 저면부와 동일한 형상을 갖는 상기 캐소드(54) 위에 폴리머로 제조된 스피커 진동판(60)을 고정시키고, 상기 챔버(51) 내의 진공도를 10-5Torr 이상으로 만든다. 이후, 상기 챔버(51) 내의 진공도를 10∼100mTorr 이상으로 유지하면서 상기 가스 흡입구(52)를 통해 적정량의 메탄 가스를 유입시킨다.First, the speaker diaphragm 60 made of polymer is fixed on the cathode 54 having the same shape as the bottom portion of the speaker diaphragm 60, and the vacuum degree in the chamber 51 is made greater than 10 -5 Torr. . Thereafter, a proper amount of methane gas is introduced through the gas inlet 52 while maintaining the vacuum degree in the chamber 51 at 10 to 100 mTorr or more.

상기와 같이 메탄 가스가 상기 챔버(51) 내로 유입되면, 상기 고주파 발생부에 의해 발생된 고주파 전원을 상기 캐소드(54)에 인가한다. 이때, 상기 캐소드(54)에 인가되는 직류 바이어스 전압은 상기 자석(62)에 의하여 적절한 수준으로 감소된다.When methane gas flows into the chamber 51 as described above, the high frequency power generated by the high frequency generator is applied to the cathode 54. At this time, the DC bias voltage applied to the cathode 54 is reduced to an appropriate level by the magnet 62.

상기와 같이 직류 바이어스 전압을 인가받은 상기 캐소드(54)는 상기 챔버(51)로 고주파를 방출하고, 이 고주파에 의하여 상기 챔버(51) 내의 메탄 가스가 해리되어 화학적으로 활성화된 플라스마층(59)을 형성하게 된다. 이때, 상기 플라스마층(59)과 캐소드(54) 사이에는 전극 둘레에 이온이 모여서 전계를 형성하여 전극 작용을 소멸시키는 시드층(51)이 형성된다.The cathode 54 applied with the DC bias voltage as described above emits a high frequency to the chamber 51, and methane gas in the chamber 51 is dissociated by the high frequency to chemically activate the plasma layer 59. Will form. At this time, a seed layer 51 is formed between the plasma layer 59 and the cathode 54 to form an electric field by collecting ions around the electrode to dissipate the electrode action.

상기와 같이 플라스마층(59)이 형성되면 메탄 가스의 탄소, 수소 활성기가 직류 바이어스 전압이 걸려있는 상기 캐소드(54)를 향하여 충돌하게 되므로 상기 캐소드(54) 위에 놓인 스피커 진동판(60) 상에 상기 활성기들이 증착되어 다이아몬드와 유사한 DLC 박막이 코팅된다.When the plasma layer 59 is formed as described above, since carbon and hydrogen activators of methane gas collide toward the cathode 54 in which the DC bias voltage is applied, the plasma layer 59 is disposed on the speaker diaphragm 60 placed on the cathode 54. Activators are deposited to coat a diamond-like DLC thin film.

이때, 상기 캐소드(54)는 그 상면이 상기 스피커 진동판(60)의 저면부와 동일한 형상으로 형성되어 상기 스피커 진동판(60)과 결합되므로 상기 스피커 진동판(60)은 그 전체가 상기 시드층(61) 내에 위치되어 양질의 코팅막을 얻게 되고, 상기 캐소드(54)에 인가되는 전압이 상기 자석(62)에 의해 감소되어 균일한 밀도의 플라스마층(59)이 형성되므로 메탄 가스의 탄소, 수소 활성기가 상기 스피커 진동판(60)에 충돌하는 에너지가 일정하게 되어 상기 스피커 진동판(60)에 균일한 코팅막이 형성된다.In this case, the cathode 54 is formed in the same shape as the bottom surface of the speaker diaphragm 60 and coupled to the speaker diaphragm 60, so that the speaker diaphragm 60 is entirely in the seed layer 61. ), A high quality coating film is obtained, and the voltage applied to the cathode 54 is reduced by the magnet 62 to form a plasma layer 59 having a uniform density. The energy impinging on the speaker diaphragm 60 is constant, thereby forming a uniform coating film on the speaker diaphragm 60.

한편, 표 1은 스피커 진동판(60)에 각각 DLC 코팅을 하지 않은 경우와 DLC 코팅을 한 경우의 스피커 진동판(6)의 탄성률과, 내부 손실, 음속을 나타내고 있다.On the other hand, Table 1 shows the elastic modulus, internal loss, and sound speed of the speaker diaphragm 6 when the speaker diaphragm 60 is not DLC coated or DLC coated, respectively.

[표 1]TABLE 1

스피커 진동판의 재료Material of speaker diaphragm DLC 코팅DLC coating 탄성률(109N/㎡)Elastic modulus (10 9 N / ㎡) 내부 손실Internal loss 음속(m/sec)Speed of sound (m / sec) 폴리머Polymer 코팅안함No coating 2.332.33 0.10240.1024 1,2901,290 폴리머Polymer 코팅함Coated 10.4010.40 0.06410.0641 2,7272,727

상기 표 1에 나타난 바와 같이 폴리머를 재료로 한 스피커 진동판(60)을 제작하여 DLC 코팅을 하지 않고 탄성률, 내부 손실, 음속을 각각 측정한 결과, 탄성률은 2.33×109N/㎡, 내부 손실은 0.1024, 음속은 1,290m/sec를 기록하였다.As shown in Table 1, the elastic modulus, internal loss, and sound velocity were respectively measured without the DLC coating by producing the speaker diaphragm 60 made of polymer, and the elastic modulus was 2.33 × 10 9 N / m 2, and the internal loss was 0.1024, sound speed recorded 1,290 m / sec.

또한, 폴리머를 재료로 한 스피커 진동판(60)에 DLC 코팅을 한 후 스피커 진동판(60)의 탄성률, 내부 손실, 음속을 각각 측정한 결과, 탄성률은 10.40×109N/㎡, 내부 손실은 0.0641, 음속은 2,727m/sec를 기록하였다.Also, after a DLC coating on a loudspeaker diaphragm 60 is a polymer of a material elastic modulus, internal loss of the speaker diaphragm 60, as a result of each measurement of the sound velocity, the elastic modulus is 10.40 × 10 9 N / ㎡, internal loss is 0.0641 The speed of sound recorded 2,727 m / sec.

상기한 측정 결과를 살펴보면, 폴리머를 재료로 한 스피커 진동판(60)에 DLC 코팅을 한 것이 코팅을 안한 것보다 스피커 진동판(60)에 요구되는 물성치인 탄성률과 음속이 월등히 높고 내부 손실도 작음을 알 수 있다.Looking at the above measurement results, it was found that the DLC coating on the speaker diaphragm 60 made of polymer material was significantly higher in elastic modulus and sound velocity required for the speaker diaphragm 60 and the internal loss was smaller than the uncoated coating. Can be.

본 발명에 의한 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치는 폴리머를 재료로 하여 스피커 진동판(60)을 제작하므로 상기 스피커 진동판(60)의 제작비가 절감되고, 캐소드(54)를 둘러싸고 있는 차폐막(55)의 외벽에 자석(62)을 장착시킴으로써 상기 캐소드(54)에 인가되는 직류 바이어스 전압이 적절한 수준으로 감소되어 균일한 밀도를 갖는 플라스마층(50)이 형성되므로, 메탄 가스의 활성기들이 상기 스피커 진동판(60)에 충돌하는 에너지가 일정량으로 감소되어 폴리머로 제조된 스피커 진동판(60)의 손상이 방지되고 상기 스피커 진동판(60)에 DLC막이 균일하게 코팅되는 이점이 있다.The DLC coating apparatus of the speaker diaphragm according to the present invention manufactures the speaker diaphragm 60 using a polymer material, so that the manufacturing cost of the speaker diaphragm 60 is reduced, and the outer wall of the shielding film 55 surrounding the cathode 54 is reduced. Mounting the magnet 62 reduces the DC bias voltage applied to the cathode 54 to an appropriate level to form a plasma layer 50 having a uniform density, so that methane gas activators are applied to the speaker diaphragm 60. The impact energy is reduced to a certain amount to prevent damage to the speaker diaphragm 60 made of a polymer, and the DLC film is uniformly coated on the speaker diaphragm 60.

또한, 본 발명은 상기 캐소드(54)의 상면을 상기 스피커 진동판(60)의 저면부와 동일한 형상으로 가공하여 상기 스피커 진동판(60)이 상기 캐소드(54)와 일정한 간격을 갖고 결합되므로 상기 스피커 진동판(60) 전체가 시드층(61) 내에 위치되어 상기 스피커 진동판(60)의 모든 부분에 DLC막이 균일하게 코팅되는 이점이 있다.In addition, the present invention is processed by the upper surface of the cathode 54 in the same shape as the bottom portion of the speaker diaphragm 60, the speaker diaphragm 60 is coupled with the cathode 54 at a constant interval, so that the speaker diaphragm The entirety of the 60 is located in the seed layer 61, so that all parts of the speaker diaphragm 60 are uniformly coated with the DLC film.

Claims (2)

챔버와, 상기 챔버의 상부에 설치되어 챔버 내부로 가스를 유입하는 가스 흡입구와, 상기 챔버 내의 상부에 설치된 애노드와, 상기 애노드와 소정의 간격을 두고 대향되게 설치되고 그 위에 스피커 진동판이 올려지는 캐소드와, 상기 캐소드를 둘러싸고 있는 차폐막과, 상기 캐소드에 연결되어 고주파를 발생시키는 고주파 발생부를 포함하여 구성된 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치에 있어서,A chamber, a gas inlet installed at an upper portion of the chamber to introduce gas into the chamber, an anode provided at an upper portion of the chamber, and a cathode disposed to face the anode at predetermined intervals, and a speaker diaphragm mounted thereon In the DLC coating apparatus of the speaker diaphragm comprising a shielding film surrounding the cathode and a high frequency generator connected to the cathode to generate a high frequency, 상기 차폐막은 상기 캐소드에 인가되는 전압을 감소시키도록 그 외벽에 자석이 설치된 것을 특징으로 하는 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치.The shielding film is a DLC coating apparatus of the speaker diaphragm, characterized in that the magnet is installed on the outer wall to reduce the voltage applied to the cathode. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 캐소드는 그 상면이 상기 스피커 진동판의 저면부에 형성된 오목부와 서로 일정한 간격으로 결합되도록 동일한 형상으로 돌출된 것을 특징으로 하는 스피커 진동판의 DLC 코팅 장치.The cathode is a DLC coating apparatus of the speaker diaphragm, characterized in that the upper surface is protruded in the same shape so as to be coupled to the recess formed in the bottom portion of the speaker diaphragm at regular intervals from each other.
KR1019970025629A 1997-06-19 1997-06-19 DLC coating device of speaker diaphragm KR19990002102A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970025629A KR19990002102A (en) 1997-06-19 1997-06-19 DLC coating device of speaker diaphragm

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970025629A KR19990002102A (en) 1997-06-19 1997-06-19 DLC coating device of speaker diaphragm

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR19990002102A true KR19990002102A (en) 1999-01-15

Family

ID=65986326

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970025629A KR19990002102A (en) 1997-06-19 1997-06-19 DLC coating device of speaker diaphragm

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR19990002102A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107005777A (en) * 2017-02-28 2017-08-01 万魔声学科技有限公司 One species bores the preparation method and a kind of loudspeaker of carbon vibrating membrane

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107005777A (en) * 2017-02-28 2017-08-01 万魔声学科技有限公司 One species bores the preparation method and a kind of loudspeaker of carbon vibrating membrane
CN107005777B (en) * 2017-02-28 2020-04-14 万魔声学科技有限公司 Manufacturing method of diamond-like carbon diaphragm and loudspeaker
EP3591994A4 (en) * 2017-02-28 2020-11-18 1More Inc. Manufacturing method for diamond-like carbon vibrating diaphragm and loudspeaker
US10993058B2 (en) 2017-02-28 2021-04-27 1More Inc Manufacturing method for diamond-like carbon vibrating diaphragm and loudspeaker

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6203862B1 (en) Processing systems with dual ion sources
KR100354413B1 (en) Plasma processing system and method
JP2003522297A (en) Plasma processing system and method
JPS58221271A (en) Formation of film by ion plating method
JP2000156370A (en) Method of plasma processing
US6001432A (en) Apparatus for forming films on a substrate
KR20010020525A (en) Sputter coating system and method using substrate electrode
EP0387904A2 (en) Method of producing thin film
US5691010A (en) Arc discharge plasma CVD method for forming diamond-like carbon films
US4921724A (en) Process for coating a substrate with an organic coating having gradated hardness
KR20020081556A (en) Method of forming a thin film
KR19990002102A (en) DLC coating device of speaker diaphragm
JP2000036486A (en) Plasma processing device and method therefor
JP2000178730A (en) High frequency sputtering device and thin film forming method using the same
JP3083008B2 (en) Film forming apparatus and film forming method
JP3296368B2 (en) Plasma CVD equipment
US20050031797A1 (en) Method and apparatus for forming hard carbon film
JP4011401B2 (en) Ion source
JPH05339726A (en) Magnetron sputtering device
JPH0758083A (en) Semiconductor manufacturing apparatus
JPS61272373A (en) Sputtering device
JP3329117B2 (en) Ion plating method and apparatus
JP3378626B2 (en) Method and apparatus for forming diamond-like film
JPH0293073A (en) Sheet plasma-type cvd device
KR100295618B1 (en) High vacuum magnetron sputtering method using ion beam

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid