KR19980066135A - Manufacturing method of anisotropic conductive film - Google Patents

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KR19980066135A
KR19980066135A KR1019970001486A KR19970001486A KR19980066135A KR 19980066135 A KR19980066135 A KR 19980066135A KR 1019970001486 A KR1019970001486 A KR 1019970001486A KR 19970001486 A KR19970001486 A KR 19970001486A KR 19980066135 A KR19980066135 A KR 19980066135A
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강충석
김영범
김일용
정일영
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구광시
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Abstract

1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 분야1. Fields to which the invention described in the claims belong

본 발명은 미세한 회로기판의 전기적 접속에 사용되는 이방 도전성 필름의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing an anisotropic conductive film used for the electrical connection of a fine circuit board.

2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제2. The technical problem to be solved by the invention

필름용 코팅액내에 도전입자를 빠른시간 내 균일하게 분산시키므로서 필름 제조시간을 단축시키고, 필름의 접촉저항을 감소시킬 수 있는 이방 도전성 필름의 제조방법을 제공한다.Provided is a method for producing an anisotropic conductive film that can shorten the film production time and reduce the contact resistance of the film by uniformly dispersing the conductive particles in the coating solution for the film within a short time.

3.발명의 해결방법의 요지3. Summary of the solution of the invention

도전입자와 커플링제를 유기용매 존재하에서 먼저 혼합하여 혼합물을 제조한 후, 이들 혼합물을 접속성 접착제용 고분자 수지, 경화제 및 용매로 구성되는 용액에 첨가하여 필름용 코팅액을 제조한다.The conductive particles and the coupling agent are first mixed in the presence of an organic solvent to prepare a mixture, and then the mixture is added to a solution composed of a polymer resin for a connecting adhesive, a curing agent, and a solvent to prepare a coating solution for a film.

4. 발명의 중요한 용도4. Important uses of the invention

본 발명의 방법으로 제조된 이방 도전성 필름은 액정 디스플레이와 플렉시블 회로기판의 접속 등에 사용된다.The anisotropic conductive film produced by the method of the present invention is used for connecting a liquid crystal display and a flexible circuit board.

Description

이방 도전성 필름의 제조방법.The manufacturing method of an anisotropic conductive film.

본 발명은 미세한 회로기판의 전기적 접속 특히 액정 디스플레이(LCD)와 플렉시블 회로기판(FPC)의 접속 및 반도체 칩과 칩탑재용 회로기판의 마이크로 접속 등에 이용되는 이방 도전성 필름의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an anisotropic conductive film used for the electrical connection of fine circuit boards, in particular the connection of liquid crystal displays (LCDs) and flexible circuit boards (FPCs), and the micro connection of semiconductor chips and chip-mounted circuit boards.

일반적으로 이방 도전성 필름은 접착제용 고분자 수지, 도전입자, 경화제, 커플링제 및 용매로 구성된 수지조성물을 이형 필름상에 코팅하여 제조한다.In general, an anisotropic conductive film is prepared by coating a resin composition composed of an adhesive polymer resin, conductive particles, a curing agent, a coupling agent, and a solvent on a release film.

이와 같은 이방 도전성 필름을 제조하기 위한 종래 기술에서는 접착제용 고분자 수지로 열가소성 수지, 열경화성 수지 또는 광경화성 수지 중에서 선택된 1종 이상의 수지를 혼합 사용하고 있다.In the prior art for producing such an anisotropic conductive film, at least one resin selected from a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or a photocurable resin is mixed and used as a polymer resin for an adhesive.

열가소성 수지, 열경화성 수지 또는 광경화성 수지의 구체적인 예로서는 스티렌-부타티엔 수지, 스티렌 수지, 에틸렌-비닐 수지, 아크릴로니트릴부타디엔고무, 실리콘 수지, 아크릴계 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지, 아미드계 수지 또는 아크릴레이트계 수지 등을 사용한다.Specific examples of the thermoplastic resin, the thermosetting resin, or the photocurable resin include styrene-butadiene resin, styrene resin, ethylene-vinyl resin, acrylonitrile butadiene rubber, silicone resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, and amide resin. Or acrylate resins.

또한 필요에 따라서는 접착제용 고분자 수지와 같이 로진, 터빈 수지 및 구마로인딘 수지등으로 대표되는 점착부여제, 가교제, 노화방지제 및 커플링제 등을 겸용하기도 한다.If necessary, a tackifier, a crosslinking agent, an anti-aging agent, a coupling agent, and the like, which are represented by rosin, a turbine resin, and a gumarodine resin, may also be used as the polymer resin for the adhesive.

경화제로서는 아미다졸과 에폭시 화합물과의 반응생성물을 열가소성 수지로 마이크로 캡슐화 시킨 것을 사용하기도 한다.As a curing agent, one obtained by microencapsulating a reaction product of an amidazole with an epoxy compound with a thermoplastic resin may be used.

도전입자로서는 금속입자를 사용하거나 고분자 비드(Bead)에 금속을 맥기한 입자를 사용하기도 한다.As the conductive particles, metal particles may be used, or particles in which metal is impregnated in the polymer beads may be used.

한편 도전입자의 고른 분산을 위하여 유기물 및 무기금속과 친화성이 뛰어난 유기계 황화합물들을 커플링제로서 사용하여 도전입자의 분산속도와 분산 상태를 향상시킬 수 있다.On the other hand, in order to evenly distribute the conductive particles, organic sulfur compounds having excellent affinity with organic substances and inorganic metals may be used as coupling agents to improve the dispersion speed and dispersion state of the conductive particles.

또한 접착제용 고분자 수지 조성물 제조를 위해 사용하는 용매로서는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메틸알콜, 이소프로필알콜 및/또는 n-부틸알콜 등을 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용한다. 이들 용매들은 극성이 높아 배합 후 수지용액의 혼합안정성을 향상시킨다.As the solvent used for preparing the polymer resin composition for an adhesive, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, benzene, toluene, xylene, methyl alcohol, isopropyl alcohol, and / or n-butyl alcohol may be used alone or in combination. Mix and use. These solvents have high polarity to improve the mixing stability of the resin solution after blending.

이상에서 설명한 접착제용 고분자 수지, 도전입자, 경화제, 커플링제 및 용매들을 사용하여 필름용 코팅액을 제조하는 종래 기술로서는 먼저 접착제용 고분자 수지를 용매에 용해시켜 접착제 용액을 제조한 후, 여기에 경화제 및 커플링제를 첨가한 후 계속해서 도전입자를 첨가, 분산시켜 필름용 코팅액을 제조한다.As a conventional technique for preparing a coating liquid for a film using the above-described adhesive polymer resin, conductive particles, curing agent, coupling agent, and solvent, the adhesive polymer resin is dissolved in a solvent to prepare an adhesive solution, and then a curing agent and After the coupling agent is added, the conductive particles are subsequently added and dispersed to prepare a coating solution for a film.

즉, 필름용 코팅액 제조시 커플링제를 도전입자 보다 먼저 첨가한 후 그 다음에 도전입자를 첨가 분산시킨다.That is, the coupling agent is added before the conductive particles in preparing the coating liquid for the film, and then the conductive particles are added and dispersed.

이와 같온 방법으로 필름용 코팅액을 제조하면 도전입자의 균일한 분산이 어렵고, 도전입자 분산에 소요되는 시간이 길고, 제조된 필름의 접촉저항이 높은 문제점이 발생한다.When the coating liquid for the film is prepared in this way, uniform dispersion of the conductive particles is difficult, a long time is required for the dispersion of the conductive particles, and a high contact resistance of the manufactured film occurs.

필름용 코팅액 내에 도전입자를 빠른시간 내에 균일하게 분산시키므로서 필름 제조시간을 단축시키고, 필름의 접촉저항을 감소시킬 수 있는 이방 도전성 필름의 제조방법을 제공하고자 한다.The present invention provides a method for producing an anisotropic conductive film that can shorten the film production time and reduce the contact resistance of the film by uniformly dispersing the conductive particles in the coating liquid for a short time.

도 1은 본 발명의 이방 도전성 필름의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of the anisotropic conductive film of the present invention.

도 2는 이방 도전성 필름을 사용하여 액정 표시기판과 구동용 집적회로를 접속시키기전 상태의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a state before connecting a liquid crystal display substrate and a driving integrated circuit using an anisotropic conductive film.

도 1에 있어서, 1은 접착제이고, 2는 금속피복층이고, 3은 도전성 고분자 입자이고, 4는 이형 필름이다. 도 2에 있어서, 5는 접착제이고, 6은 도전성 입자이고, 7은 액정 표시기판이고, 8은 구동용 집적회로이고, 9는 액정 표시기판의 전극이고, 10은 탭전극이다.In Fig. 1, 1 is an adhesive, 2 is a metal coating layer, 3 is conductive polymer particles, and 4 is a release film. In Fig. 2, 5 is an adhesive, 6 is conductive particles, 7 is a liquid crystal display substrate, 8 is a driving integrated circuit, 9 is an electrode of the liquid crystal display substrate, and 10 is a tab electrode.

본 발명은 미세한 회로기판의 전기적 접속 특히 액정 디스플레이(LCD)와 플렉시블 회로기판(FPC)의 접속 및 반도체 칩과 칩탑재용 회로기판의 마이크로 접속 등에 이용되는 이방 도전성 필름의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an anisotropic conductive film used for the electrical connection of fine circuit boards, in particular the connection of liquid crystal displays (LCDs) and flexible circuit boards (FPCs), and the micro connection of semiconductor chips and chip-mounted circuit boards.

더욱 구체적으로는 필름용 코팅액 내에 도전입자를 빠른 시간내에 균일하게 분산시키기 위해서 도전입자와 커플링제를 유기용매 존재하에서 먼저 혼합하여 혼합물을 제조한 후, 이들 혼합물을 접속성 접착제용 고분자 수지, 용매 및 경화제로 구성되는 용액중에 첨가하여 필름용 코팅액을 제조하고, 이를 이형 필름위에 코팅하여 이방 도전성 필름을 제조하는 방법에 관한 것이다.More specifically, in order to uniformly disperse the conductive particles in the coating solution for the film in a short time, the conductive particles and the coupling agent are first mixed in the presence of an organic solvent to prepare a mixture, and then the mixture is mixed with a polymer resin, a solvent and The present invention relates to a method of manufacturing an anisotropic conductive film by adding a solution for a film to prepare a coating solution for a film and coating the film on a release film.

즉, 도전입자와 커플링제를 먼저 유기용매에 혼합시킨 후 이들 혼합물을 접착제용 용액에 첨가, 분산시키는 방법에 관한 것이다.That is, the present invention relates to a method of first mixing conductive particles and a coupling agent in an organic solvent, and then adding and dispersing these mixtures in an adhesive solution.

본 발명에서 사용하는 접착제용 고분자 수지는 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 광경화성 수지중에서 선택된 1종 이상의 수지이다.The polymer resin for adhesives used in the present invention is at least one resin selected from thermoplastic resins, thermosetting resins and photocurable resins.

열가소성 수지, 열경화성 수지 또는 광경화성 수지의 구체적인 예로서는 스티렌-부타티엔 수지, 스티렌 수지, 에틸렌-비닐 수지, 아크릴로니트릴부타디엔고무, 실리콘 수지, 아크릴계 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지, 아미드계 수지 또는 아크릴레이트계 수지 등이 있다. 또한 필요에 따라서는 로진, 터빈 수지, 구마로인딘 수지등으로 대표되는 점착부여제, 가교제, 노화방지제 및 카플링제 등을 겸용하여도 된다.Specific examples of the thermoplastic resin, the thermosetting resin, or the photocurable resin include styrene-butadiene resin, styrene resin, ethylene-vinyl resin, acrylonitrile butadiene rubber, silicone resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, and amide resin. Or acrylate resins. If necessary, a tackifier, a crosslinking agent, an anti-aging agent and a coupling agent such as rosin, a turbine resin, or a gumarodine resin may also be used.

경화제는 이미다졸과 에폭시 화합물과의 반응 생성물을 마이크로켑슐화 시킨것을 사용할 수도 있다. 여기에 사용된 이미다졸 화합물은 이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸 또는 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸이미다졸 등이 사용되어 진다. 또한 이상의 이미다졸 화합물과 반응하여 이미다졸 유도체 에폭시 화합물을 생성하는 에폭시 화합물로서는 비스페놀 A형, 페놀노블락, 비스페놀 F형 또는 블락화비스페놀 A형 등의 글리시딜에테르형 에폭시 화합물이 사용될 수 있다. 또한 이상에서 생성된 이미다졸 유도체 에폭시 화합물을 캡슐화시키는 열가소성 수지로서는 폴리스티렌, 젤라틴 또는 폴리이소시아네이트 등의 고분자가 사용될 수 있다. 한편, 도전입자의 고른 분산을 위하여 유기물 및 무기금속과 진화성이 뛰어난 유기계 황화합물들을 커플링제로서 사용하여 도전입자의 분산속도와 분산상태를 향상시킬 수 있다.The curing agent may be a microencapsulated product of the reaction of the imidazole and the epoxy compound. The imidazole compound used herein is imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2 -Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole and the like are used. Moreover, glycidyl ether type epoxy compounds, such as bisphenol A type, a phenol noblock, a bisphenol F type, or a block bisphenol A type, can be used as an epoxy compound which reacts with the above-mentioned imidazole compound, and produces | generates an imidazole derivative epoxy compound. In addition, a polymer such as polystyrene, gelatin or polyisocyanate may be used as the thermoplastic resin encapsulating the imidazole derivative epoxy compound produced above. On the other hand, in order to evenly distribute the conductive particles, the organic sulfur compounds and organic sulfur compounds with excellent extinguishing properties can be used as a coupling agent to improve the dispersion rate and dispersion state of the conductive particles.

또한 접착제용 용액 제조를 위해 사용하는 용매로서는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프로필알콜 및/또는 n-부틸알콜 등을 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용한다. 이들 용매들은 극성이 높아 배합 후 수지용액의 혼합안정성을 향상시킨다.As the solvent used for preparing the adhesive solution, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, benzene, toluene, xylene, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol and / or n-butyl alcohol may be used alone or in combination. Mix and use the above. These solvents have high polarity to improve the mixing stability of the resin solution after blending.

본 발명은 필름용 코팅액을 제조함에 있어서, 먼저 도전입자와 커플링제를 유기용매 존재하에서 혼합하여 혼합물(A)을 제조한다.In the present invention, in preparing the coating liquid for film, the mixture (A) is prepared by first mixing the conductive particles and the coupling agent in the presence of an organic solvent.

이때 사용되는 유기용매로는 톨루엔, 벤젠, 크실렌, 사염화 탄소, 클로로 포름, 디클로로 메탄 및 디클로로 에탄 등이다. 이들 유기용매 들은 물과 섞이지 않는다.Organic solvents used here include toluene, benzene, xylene, carbon tetrachloride, chloroform, dichloromethane and dichloroethane. These organic solvents do not mix with water.

한편, 앞에서 설명한 접속성 접착제용 고분자 수지를 용매에 용해시켜 접착제용 용액(B)을 제조한 후 여기에 경화제를 첨가한다.On the other hand, the polymer resin for connectivity adhesives mentioned above is dissolved in a solvent, the adhesive solution (B) is manufactured, and a hardening | curing agent is added here.

경화제가 첨가된 접착제용 용액(B)에 도전입자와 커플링제가 유기용매 존재하에서 혼합된 혼합물(A)를 첨가하여 필름용 코팅액을 제조하고, 이들 이형 필름상에 20∼50㎛의 두께로 코팅 및 건조하여 이형 도전성 필름을 제조한다.To the adhesive solution (B) to which the curing agent was added, a mixture (A) in which the conductive particles and the coupling agent were mixed in the presence of an organic solvent was added to prepare a coating solution for a film, and coated on these release films with a thickness of 20 to 50 μm. And drying to prepare a release conductive film.

이와 같온 본 발명의 방법으로 이형 도전성 필름을 제조하면 도전입자와 커플링제가 동시에 첨가되므로서 접착제용 용액내 도전입자가 빠른 시간내에 균일하게 분산되며, 필름의 접속저항도 감소하게 된다.When the release conductive film is manufactured by the method of the present invention as described above, the conductive particles and the coupling agent are added simultaneously, so that the conductive particles in the adhesive solution are uniformly dispersed in a short time, and the connection resistance of the film is also reduced.

도 1은 본 발명의 이방 도전성 필름의 단면도를 나타낸 것이다.1 shows a cross-sectional view of the anisotropic conductive film of the present invention.

이와 같이 제조한 본 발명의 이방 도전성 필름을 사용하여 액정 표시기판과 그의 구동용 집적회로를 접속시키는 방법을 도 2를 통하여 구체적으로 설명한다.The method of connecting the liquid crystal display substrate and the driving integrated circuit thereof using the anisotropic conductive film of the present invention thus produced will be described in detail with reference to FIG. 2.

도 2는 이방 도전성 필름을 사용하여 액정 표시기판과 그의 구동 회로를 접속시키기 전 상태의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a state before connecting a liquid crystal display substrate and its driving circuit using an anisotropic conductive film.

이방 도전성 필름을 액정 표시기판(7)의 전극(9)과 구동용 집적 회로(8)의 탭 전극(10)사이에 끼운 후 이방 도전성 필름을 일정 온도로 가열한다. 계속해서 액정 표시기판(7)을 아래로 가압하므로서 접착제(6)는 액정 표시기판(7)과 구동용 집적회로(8)의 공간에 충진되고, 도전입자(5)들은 액정 표시기판의 전극(9)과 구동용 집적회로의 탭 전극(10)사이에 위치하여 전기적 도전 통로를 제공하게 된다.The anisotropic conductive film is sandwiched between the electrode 9 of the liquid crystal display substrate 7 and the tab electrode 10 of the driving integrated circuit 8, and then the anisotropic conductive film is heated to a constant temperature. Subsequently, by pressing the liquid crystal display substrate 7 downward, the adhesive 6 is filled in the space between the liquid crystal display substrate 7 and the driving integrated circuit 8, and the conductive particles 5 are formed on the electrodes of the liquid crystal display substrate ( 9) and the tab electrode 10 of the driving integrated circuit to provide an electrically conductive path.

더욱 구체적으로는 이방 도전성 필름을 필름 자체의 셀프 택킹(Self-Tacking)성질을 이용하여 액정 표시기판(7)상에 점착시킨 후 80∼100℃의 온도 및 10㎏F/㎠의 압력하에서 5초 동안 가압착시키고 이형 필름(4)을 제거한다. 필름의 셀프 택킹성을 이용하여 이방 도전성 필름이 가압착되어 있는 액정표시기판상의 회로에 탭 또는 플렉시블 피씨비(PCB)상의 회로를 얼라인닝(Aligning)시킨 후 170∼180℃의 온도 및 20㎏F/㎠의 압력하에서 20초 동안 압착시켜 액정 표시기판과 그의 구동용 집적회로를 접속시킨다.More specifically, the anisotropic conductive film is adhered onto the liquid crystal display substrate 7 using the self-taking property of the film itself, and then 5 seconds under a temperature of 80 to 100 ° C. and a pressure of 10 kgF / cm 2. Is pressed and the release film 4 is removed. By using the self-tacking property of the film, the circuit on the liquid crystal display board to which the anisotropic conductive film is press-bonded is aligned to the circuit on the tab or flexible PCB, and then the temperature of 170 to 180 ° C. and 20 kg F The liquid crystal display substrate and its driving integrated circuit are connected by pressing for 20 seconds under a pressure of / cm 2.

이하 실시예 및 비교실시에를 통하여 본 발명을 보다 상세하게 살펴보기로 한다 그러나 본 발명이 실시예에만 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited to Examples.

[실시예 1]Example 1

비스페놀 A형 에폭시 수지인 YD-128(국도화학 제품) 46 중량부와 페녹시 수지인 YP-50(국도화학 제품) 46 중량부를 부피비가 3:1인 톨루엔/메틸에틸케톤 용매에 환류 용해시켜 접착제용 용액(B)을 제조한다.46 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin YD-128 (product of Kukdo Chemical) and 46 parts by weight of phenoxy resin YP-50 (Kukdo Chemical) were reflux-dissolved in a toluene / methylethylketone solvent with a volume ratio of 3: 1. A solution (B) is prepared.

한편, 고분자 입자에 니켈/금이 코팅된 입자경 5±0.1㎛의 도전입자 1 중량%(수지고형분 기준)와 실란 커플링제인 KBM-403(신에츄 제품) 1 중량부를 3㎖의 톨루엔 유기용매하에서 혼합하여 혼합물(A)을 제조한다.Meanwhile, 1 wt% of conductive particles having a particle size of 5 ± 0.1 μm coated with nickel / gold on a polymer particle (based on resin solid content) and 1 part by weight of KBM-403 (produced by Shin-Echu), a silane coupling agent, were used in a 3 ml toluene organic solvent. Mixing under produces a mixture (A).

상기 접착제용 용액(B)을 실온까지 냉각시킨 후 여기에 경화제인 2MZ(국도화학 제품) 4 중량부와 상기 혼합물(A)를 첨가한 후 호모 믹스를 이용, 균일하게 혼합하여 필름용 코팅액을 제조한다.After cooling the adhesive solution (B) to room temperature, 4 parts by weight of the curing agent 2MZ (Kukdo Chemical Products) and the mixture (A) were added thereto, followed by homogeneous mixing using a homomix to prepare a coating solution for a film. do.

제조한 필름 코팅액을 이형 필름상에 25㎛의 두께로 코팅하여 이방 도전성 필름을 제조한다. 제조한 이방 도전성 필름을 이용하여 라인폭 0.1㎜, 피치 0.2㎜, 후막 35㎛ 및 단자수 160개의 통회로가 있는 플렉시블 회로기판(FPC)과 투명도전회로 글라스기판(ITO 회로)을 열압착에 의해 접속하였다. 접속 후의 접착력 및 접속저항치를 평가한 결과는 표 1과 같다.The film coating solution thus prepared was coated on a release film in a thickness of 25 μm to prepare an anisotropic conductive film. By using the manufactured anisotropic conductive film, thermocompression bonding of a flexible circuit board (FPC) and a transparent conductive circuit glass substrate (ITO circuit) with a line width of 0.1 mm, a pitch of 0.2 mm, a thick film of 35 μm, and 160 terminal circuits is performed. Connected. The result of evaluation of the adhesive force and connection resistance value after connection is shown in Table 1.

[실시예 2∼5][Examples 2 to 5]

실란 커플링제와 도전입자를 톨루엔 용매하에서 혼합하여 혼합물(A)를 제조할 때 도전입자의 첨가량을 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방 도전성 필름을 제조한다.An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of the conductive particles was changed as shown in Table 1 when the silane coupling agent and the conductive particles were mixed in a toluene solvent to prepare the mixture (A).

제조한 이방 도전성 필름을 이용하여 라인폭 0.1㎜, 피치 0.2㎜, 후막 35㎛ 및 단자수 160개의 통회로가 있는 플렉시블 회로기판(FPC)과 투명 도전회로 글라스기판(ITO 회로)을 열압착에 의해 접속하였다. 접속 후의 접착력 및 접속저항치를 평가한 결과는 표 1과 같다.The thermally compressed flexible circuit board (FPC) and transparent conductive circuit glass substrate (ITO circuit) having a line width of 0.1 mm, a pitch of 0.2 mm, a thick film of 35 µm, and 160 terminal circuits were manufactured by using the manufactured anisotropic conductive film. Connected. The result of evaluation of the adhesive force and connection resistance value after connection is shown in Table 1.

[비교실시예 1]Comparative Example 1

비스페놀 A형 에폭시 수지인 YD-128(국도화학 제품) 46 중량부와 페녹시 수지인 YP-50(국도화학 제품) 46 중량부를 부피비가 3:1인-톨루엔/메틸에틸케톤 용매에 환류 용해시켜 접착제용 용액을 제조한다.46 parts by weight of bisphenol A-type epoxy resin YD-128 (product of Kukdo Chemical Co., Ltd.) and 46 parts by weight of phenoxy resin YP-50 (Kukdo Chemical Co., Ltd.) were reflux-dissolved in a 3: 1 volumetric-toluene / methylethylketone solvent. Prepare a solution for the adhesive.

상기 접착제용 용액을 실온까지 냉각시킨 후 여기에 경화제인 2MZ(국도화학 제품) 4 중량부와 실란 커플링제인 KBM-403(신에츄 제품) 1 중량부를 첨가하고 여기에 고분자 입자에 니켈/금이 코팅된 입자경 5±0.1㎛의 도전입자 4 중량%(수지고형분 기준)를 첨가한 후 호모믹서를 이용 균일하게 혼합하여 필름용 코팅액을 제조한다. 제조한 필름 코팅액을 이형 필름상에 25㎛의 두께로 코팅하여 이방 도전성 필름을 제조한다.After cooling the adhesive solution to room temperature, 4 parts by weight of 2MZ (product of Kukdo Chemical Co., Ltd.) and 1 part by weight of KBM-403 (product of Shin-Echu), which is a silane coupling agent, were added thereto, and nickel / gold was added to the polymer particles. 4 wt% (based on resin solid content) of conductive particles having a coated particle diameter of 5 ± 0.1 μm was added thereto, and then uniformly mixed using a homomixer to prepare a coating solution for a film. The film coating solution thus prepared was coated on a release film in a thickness of 25 μm to prepare an anisotropic conductive film.

제조한 이방 도전성 필름을 이용하여 라인폭 0.1㎜, 피치 0.2㎜, 후막 35㎛ 및 단자수 160개의 통회로가 있는 플렉시블 회로기판(FPC)과 투명 도전회로 글라스기판(ITO 회로)을 열압착에 의해 접속하였다. 접속 후의 접착력 및 접속저항치를 평가한 결과는 표 1과 같다.The thermally compressed flexible circuit board (FPC) and transparent conductive circuit glass substrate (ITO circuit) having a line width of 0.1 mm, a pitch of 0.2 mm, a thick film of 35 µm, and 160 terminal circuits were manufactured by using the manufactured anisotropic conductive film. Connected. The result of evaluation of the adhesive force and connection resistance value after connection is shown in Table 1.

[비교실시예 2]Comparative Example 2

도전입자의 첨가량을 10 중량%(수지고형분 기준)로 변경한 것을 제외하고는 비교실시예 1과 동일한 방법으로 이방 도전성 필름을 제조한다.An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the amount of the conductive particles was changed to 10% by weight (based on resin solid content).

제조한 이방 도전성 필름을 이용하여 라인폭 0.1㎜, 피치 0.2㎜, 후막 35㎛ 및 단자수 160개의 통회로가 있는 플렉시블 회로기판(FPC)과 투명 도전회로 글라스기판(ITO 회로)을 열압착에 의해 접속하였다. 접속 후의 찹착력 및 접속저항치를 평가한 결과는 표 1과 같다.The thermally compressed flexible circuit board (FPC) and transparent conductive circuit glass substrate (ITO circuit) having a line width of 0.1 mm, a pitch of 0.2 mm, a thick film of 35 µm, and 160 terminal circuits were manufactured by using the manufactured anisotropic conductive film. Connected. The results of evaluating the gluing adhesion and the connection resistance after connection are shown in Table 1.

접착력은 박리시험으로 측정하였고 접속저항값은 접속초기와 고온 고습도 방치 후 각각 4 단자법(Four Probe Method)을 이용하여 측정하였다.Adhesion was measured by peel test, and connection resistance was measured by Four Probe Method after initial connection and high temperature and high humidity.

본 발명의 제조방법으로 제조한 이방 도전성 필름은 접착제 성분중에 도전입자가 빠른 시간내에 고르게 분산되므로 필름 제조시간이 단축될 뿐만 아니라 필름의 접속저항값이 감소된다.In the anisotropic conductive film prepared by the production method of the present invention, the conductive particles are evenly dispersed in the adhesive component within a short time, thereby shortening the film production time and reducing the connection resistance value of the film.

Claims (4)

접속성 접착제용 고분자 수지, 도전입자, 경화제, 커플링제 및 용매를 주요성분으로 하는 이방 도전성 필름을 제조함에 있어서, 도전입자와 커플링를 유기용매 존재하에서 먼저 혼합하여 혼합물을 제조한 후, 이들 혼합물을 접속성 접착제용 고분자 수지, 용매 및 경화제로 구성되는 용액중에 첨가함을 특징으로 하는 이방 도전성 필름의 제조방법.In preparing an anisotropic conductive film containing a polymer resin for conductive adhesive, a conductive particle, a curing agent, a coupling agent and a solvent as main components, the conductive particles and the coupling are first mixed in the presence of an organic solvent to prepare a mixture, and then the mixtures are prepared. The manufacturing method of the anisotropic conductive film characterized by adding in the solution which consists of a polymeric resin for connection adhesives, a solvent, and a hardening | curing agent. 1 항에 있어서, 도전입자와 커플링제를 혼합할 때 사용되는 유기용매가 톨루엔, 벤젠, 크실렌, 사염화 탄소, 클로로포름, 디클로로 메탄 또는 디클로 에탄인 것을 특징으로 하는 이방 도전성 필름의 제조방법.The method for producing an anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the organic solvent used when mixing the conductive particles and the coupling agent is toluene, benzene, xylene, carbon tetrachloride, chloroform, dichloromethane or dichloroethane. 1 항에 있어서, 도전입자 함량이 접속성 접착제용 고분자 수지에 대하여 3∼10 중량%임을 특징으로 하는 이방 도전성 필름의 제조방법.The method for producing an anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the conductive particle content is 3 to 10% by weight based on the polymer resin for the connecting adhesive. 1 항에 있어서, 도전입자가 고분자 비드(Bead)에 금속이 맥기된 입자인 것을 특징으로 하는 이방 도전성 필름의 제조방법.The method for producing an anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the conductive particles are particles in which metal is impregnated in the polymer beads.
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KR20030041572A (en) * 2001-11-20 2003-05-27 엘지전선 주식회사 Anisotropic conductive films using acrylate-modified polyurethane
KR100831482B1 (en) * 2006-08-02 2008-05-21 주식회사 에이스 디지텍 Manufacturing method for optical element with glare reducing complementary film

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