KR102673802B1 - Apparatus for plating reel type material - Google Patents

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Abstract

본 발명은 릴 타입 도금장치에 관한 것이다.
이러한 본 발명의 실시예에 따르면, 공급풀리에 감겨있는 릴을 언코일러를 통해 상기 릴을 풀어 공급하는 릴 공급부, 상기 릴 공급부로부터 일정 길이만큼 이격되어 구비되며, 상기 공급된 릴을 회수하여 회수풀리에 감는 릴 회수부 및 상기 릴 공급부와 상기 릴 회수부 사이에 구비되며, 상기 릴을 도금하는 릴 도금부를 포함한다.
The present invention relates to a reel-type plating device.
According to this embodiment of the present invention, a reel supply unit that unwinds and supplies a reel wound on a supply pulley through an uncoiler is provided at a certain length and is spaced apart from the reel supply unit, and collects the supplied reel and provides a recovery pulley. It is provided between a reel recovery part for winding and the reel supply part and the reel recovery part, and includes a reel plating part for plating the reel.

Description

릴 타입 도금장치{APPARATUS FOR PLATING REEL TYPE MATERIAL}Reel type plating equipment {APPARATUS FOR PLATING REEL TYPE MATERIAL}

본 발명은 릴 타입 도금장치에 관한 것이다. The present invention relates to a reel-type plating device.

일반적으로 내열성 강화, 내부식성 강화 등 여러 목적에 의해 강판 표면에 피막을 형성하는데, 강판(steel sheet)을 코팅하여 피막을 형성하기 위한 방법에는 여러 가지가 있으나, 코일 상태에서 연속적으로 코팅 작업을 수행하기 위해, 코팅하고자 하는 물질이 포함된 코팅 용액이 저장되어 있는 도금조에 강판을 통과시키는 방식이 주로 사용된다.In general, a film is formed on the surface of a steel sheet for various purposes such as strengthening heat resistance and corrosion resistance. There are several methods for forming a film by coating a steel sheet, but the coating operation is performed continuously in the coil state. To do this, a method of passing a steel sheet through a plating tank in which a coating solution containing the material to be coated is stored is mainly used.

이러한 도금 방식의 경우, 사용자가 도금이 필요한 원자재를 도금액, 세수등의 동작을 지속적으로 진행해야해서 도금의 효율을 줄이게 된다. In the case of this plating method, the user must continuously process the plating solution and wash the raw materials that require plating, thereby reducing the efficiency of plating.

본 발명의 배경이 되는 기술은 대한민국 특허등록 제10-1481606호(2015.01.12. 공고)에 개시되어 있다. The technology behind the present invention is disclosed in Republic of Korea Patent Registration No. 10-1481606 (announced on January 12, 2015).

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 도출된 것으로, 작은 공간에서 릴 타입 소재의 도금을 끊김없이 진행하도록 하기 위한 릴 타입 도금장치의 제공을 목적으로 한다. The present invention was developed to solve the above problems, and its purpose is to provide a reel-type plating device for seamlessly plating reel-type materials in a small space.

본 발명의 실시예에 따르면, 공급풀리에 감겨있는 릴을 언코일러를 통해 상기 릴을 풀어 공급하는 릴 공급부, 상기 릴 공급부로부터 일정 길이만큼 이격되어 구비되며, 상기 공급된 릴을 회수하여 회수풀리에 감는 릴 회수부 및상기 릴 공급부와 상기 릴 회수부 사이에 구비되며, 상기 릴을 도금하는 릴 도금부를 포함한다. According to an embodiment of the present invention, a reel supply unit that unwinds and supplies a reel wound on a supply pulley through an uncoiler, is provided at a certain length and is spaced apart from the reel supply unit, and collects the supplied reel and supplies it to the recovery pulley. It is provided between a winding reel recovery part and the reel supply part and the reel recovery part, and includes a reel plating part for plating the reel.

상기 릴 도금부는 적어도 하나 이상의 구역으로 각각 구분되며, 상기 각각의 구역은 복수의 3개의 단으로 형성되며, 상기 3개의 단은 턴 방식으로 형성될 수 있다. The reel plating unit is each divided into at least one zone, and each zone is formed of a plurality of three stages, and the three stages may be formed in a turn manner.

상기 릴 도금부는 턴1단, 턴2단 및 턴3단으로 형성되며, 상기 턴1단은 전해탈지 구역, 전극수세구역, 산화처리구역, 초음파 세척 구역으로 형성되고, 상기 턴2단은 제1고속니켈 도금구역, 제2고속니켈 도금구역으로 형성되며, 상기 턴3단은 금 도금구역, 수세 및 봉공 구역으로 형성될 수 있다. The reel plating section is formed of a turn 1 stage, a turn 2 stage, and a turn 3 stage, wherein the turn 1 stage is formed of an electrolytic degreasing zone, an electrode washing zone, an oxidation treatment zone, and an ultrasonic cleaning zone, and the turn 2 stage is a first It is formed of a high-speed nickel plating zone and a second high-speed nickel plating zone, and the turn 3 stage can be formed of a gold plating zone and a washing and sealing zone.

상기 릴 도금부는 상기 턴3단의 하측에는 사용된 용액을 처리하는 수세틀 및 상기 수세틀에서 처리가 완료된 폐수를 수용하는 폐수조를 더 포함할 수 있다. The reel plating unit may further include a flushing frame for treating the used solution and a wastewater tank for receiving wastewater that has been processed in the flushing frame at a lower side of the third stage of the turn.

상기 방법 및 특징을 갖는 본 발명에 따르면, 릴 공급부, 릴 도금부 및 릴 회수부가 하나의 장치로 결합되어 있어 좁은 공간에 배치하여 사용할 수 있다. According to the present invention having the above method and features, the reel supply unit, reel plating unit, and reel recovery unit are combined into one device, so it can be placed and used in a narrow space.

또한, 릴 도금부는 복수의 단으로 형성되어 릴 타입 소재를 도금함으로써, 일열로 배치되어 도금되는 방법보다 작은 면적에서 도금을 빠르게 진행시킬 수 있다. In addition, the reel plating portion is formed in a plurality of stages to plate reel-type materials, allowing plating to proceed more quickly in a smaller area than when plating is arranged in a row.

또한, 도금 방법에 따라 릴 도금부의 구역을 변경하여 사용할 수 있어, 복수의 도금 방법에 대해 대응되어 사용될 수 있다. In addition, the area of the reel plating part can be changed and used depending on the plating method, so it can be used correspondingly for a plurality of plating methods.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 도금장치를 설명하기 위한 구성도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 릴 도금부를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 수세틀 및 폐수조를 나타낸 도면이다.
1 is a configuration diagram for explaining a plating device according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a diagram for explaining a reel plating unit according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a diagram showing a flushing frame and a waste water tank according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 구현예(態樣, aspect)(또는 실시예)들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Since the present invention can be subject to various changes and can have various forms, implementation examples (or embodiments) will be described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific disclosed form, and should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and technical scope of the present invention.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 구현예(태양, 態樣, aspect)(또는 실시예)를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, ~포함하다~ 또는 ~이루어진다~ 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in this specification are merely used to describe specific implementation examples (sun, aspect, aspect) (or examples), and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this application, terms such as ~include~ or ~consist of~ are intended to designate the presence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but are not intended to indicate the presence of one or more other features. It should be understood that this does not exclude in advance the possibility of the existence or addition of elements, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by a person of ordinary skill in the technical field to which the present invention pertains. Terms defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and should not be interpreted in an ideal or excessively formal sense unless explicitly defined in the present application. No.

본 명세서에서 기재한 ~제1~, ~제2~ 등은 서로 다른 구성 요소들임을 구분하기 위해서 지칭할 것일 뿐, 제조된 순서에 구애받지 않는 것이며, 발명의 상세한 설명과 청구범위에서 그 명칭이 일치하지 않을 수 있다.~First~, ~Second~, etc. described in this specification are only used to distinguish different components, and are not limited by the order of manufacture, and the names are used in the detailed description and claims of the invention. may not match.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 도금장치를 설명하기 위한 구성도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 릴 도금부를 설명하기 위한 도면이며, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 수세틀 및 폐수조를 나타낸 도면이다. Figure 1 is a configuration diagram for explaining a plating device according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a diagram for explaining a reel plating unit according to an embodiment of the present invention, and Figure 3 is a diagram according to an embodiment of the present invention. This is a drawing showing the sewer and waste water tank.

도 1 내지 도 3에서 나타낸 것처럼, 본 발명의 실시예에 따른 도금장치(100)는 릴 공급부(110), 릴 도금부(120) 및 릴 회수부(130)를 포함한다. 이러한 도금장치(100)를 릴을 이동시키면서 릴의 표면에 도금을 제공하기 위한 것으로, 릴의 이동의 멈춤없이 릴을 복수번 도금하는 것이다. 1 to 3, the plating device 100 according to an embodiment of the present invention includes a reel supply unit 110, a reel plating unit 120, and a reel recovery unit 130. This plating device 100 is used to provide plating on the surface of the reel while moving the reel, and plating the reel multiple times without stopping the movement of the reel.

릴 공급부(110)는 타래 형태로 공급풀리에 감겨있는 릴을 언코일러를 통해 릴을 풀어 릴 도금부(120)측으로 공급한다. 이때, 릴은 릴타입 소재로써, 공급풀리에 타래형태로 감겨있는 소재이며, 지속적으로 공급풀리가 풀리게되어 릴 도금부 측으로 제공되게 된다. 또한, 공급풀리에 감겨있는 릴은 언코일러를 통해 풀려지게되며, 언코일러를 지나간 릴은 곡률을 포함하지 않도록 직선형태를 가지도록 형성될 수 있다. 이러한 언코일러를 통해 공급풀리에 감겨있는 릴을 풀어 후술할 릴 도금부(120)에서 릴의 표면에 도금을 더욱 원활하게 제공할 수 있다. The reel supply unit 110 unwinds the reel wound on the supply pulley in the form of a skein through an uncoiler and supplies it to the reel plating unit 120. At this time, the reel is a reel-type material that is wound around the supply pulley in the form of a skein, and the supply pulley is continuously unwound to be provided to the reel plating part. Additionally, the reel wound on the supply pulley is unwound through an uncoiler, and the reel that passes the uncoiler may be formed to have a straight shape so as not to include curvature. Through this uncoiler, the reel wound around the supply pulley can be unwound to more smoothly provide plating on the surface of the reel in the reel plating unit 120, which will be described later.

다음으로, 릴 도금부(120)는 턴1단(121), 턴2단(122) 및 턴3단(123)으로 복수개가 형성되며, 각각의 턴1단(121), 턴2단(122) 및 턴3단(123)에는 서로 다른 단계를 진행시키기 위해 서로 다른 복수의 구역으로 형성된다. Next, the reel plating portion 120 is formed in plural pieces into a turn 1 stage 121, a turn 2 stage 122, and a turn 3 stage 123, each of which has a turn 1 stage 121 and a turn 2 stage 122. ) and the turn 3 stage 123 are formed into a plurality of different zones to proceed with different stages.

먼저, 턴1단(121)은 전해탈지 구역, 전극수세구역, 산화처리구역, 초음파 세척 구역으로 형성되고, 턴2단(122)은 제1고속니켈 도금구역, 제2고속니켈 도금구역으로 형성되며, 턴3단(123)은 금 도금구역, 수세 및 봉공 구역으로 형성된다. First, the first stage of the turn (121) is formed of an electrolytic degreasing zone, an electrode washing zone, an oxidation treatment zone, and an ultrasonic cleaning zone, and the second stage of the turn (122) is formed of a first high-speed nickel plating zone and a second high-speed nickel plating zone. The turn 3 stage (123) is formed of a gold plating area, a washing area, and a sealing area.

먼저, 전해탈지 구역은 릴 소재의 오염물의 제거와 동시에 금속표면을 활성화하는 것으로, 주로 알칼리 탈지 방법인 직류, 교류 및 PR 전류로 전해하며 탈지한다. 이러한 전해탈지 구역은 릴 소재의 표면상의 오물을 완전히 제거하면서 금속표면을 활성화하는 데 있으며, 활성화는 부품을 양극에서 전해하여 이루어진다. 즉, 양극에서 발생하는 산소가 오물을 파고 들어가서 이들 오염물의 제거를 촉진한다. 그리고 양극전해로는 도금밀착성을 방해하는 불순금속의 전착을 방지할 수 있다. 또한, 릴소재가 열처리한 제품이나 용접한 부품 기타 산화막이 있는 경우 산화막의 정도에 따라 2중 전해법을 사용하는데 이 경우 양극전해 한 (필요시 전처리한 후에) 다음에 산세에서 산화막을 제거하고 산세에서 생긴 스마트를 제2전해탈지 (최종탈지)에서 제거한다. 처음의 전해탈지 구역은 스케일 제거 시에 방해가 되는 유지 및 오물을 미리 제거하기 위한 것이다.First, the electrolytic degreasing zone removes contaminants from the reel material and activates the metal surface at the same time. It is degreased by electrolysis using direct current, alternating current, and PR current, which are mainly alkaline degreasing methods. This electrolytic degreasing zone is designed to completely remove dirt on the surface of the reel material and activate the metal surface, and activation is achieved by electrolyzing the component at the anode. In other words, oxygen generated at the anode penetrates the dirt and promotes the removal of these pollutants. Additionally, anodic electrolysis can prevent electrodeposition of impure metals that interfere with plating adhesion. In addition, if the reel material has an oxide film on heat-treated products, welded parts, etc., a double electrolysis method is used depending on the degree of the oxide film. In this case, anodic electrolysis is performed (after pretreatment if necessary), and then the oxide film is removed through pickling. The smarts formed in are removed in the second electrolytic degreasing (final degreasing). The first electrolytic degreasing zone is intended to remove grease and dirt that may interfere with scale removal.

다음으로, 전극수세구역은 전해탈지의 후처리 공정으로 로 엷은 산세액에 침적하여 알칼리 잔유물을 중화한다. 즉, 전해 탈지된 릴타입 소재의 경우, 알칼리성을 가지고 있으며, 알칼리성이 릴 타입 소재에 지속적으로 존재하는 경우, 추후 도금시 도금에 문제가 있어 산성액을 이용하여 알칼리성을 중화시킨다. Next, the electrode washing area is immersed in a thin pickling solution as a post-treatment process of electrolytic degreasing to neutralize alkaline residues. That is, in the case of electrolytically degreased reel-type material, it has alkalinity, and if alkalinity continues to exist in the reel-type material, plating problems may occur during later plating, so the alkalinity is neutralized using an acidic solution.

다음으로, 산화처리구역은 릴 타입 소재에 산화피막을 형성하기 위해 사용하고, 초음파 세척구역은 초음파를 통해 릴타입 소재를 세척한다. Next, the oxidation treatment area is used to form an oxide film on the reel-type material, and the ultrasonic cleaning area cleans the reel-type material using ultrasonic waves.

다음으로, 제1고속니켈도금 구역은 릴 타입 소재의 내식성을 제공하고, 경도를 향상시키기 위해 수행하는 것으로, 니켈 이온이 전류를 통해 릴 타입 소재의 표면에 증착되는 전기 도금이다. 이러한 고속니켈도금을 통해 릴 타입 소재를 1차 코팅할 수 있다. 그리고 제1고속니켈도금구역이 종료되면, 릴 타입 소재를 수세하기 위해 앞서 전극 수세구역에서 사용된 수세액과 동일한 수세액을 이용하여 수세한다. 이때, 제1고속니켈도금은 니켈 도금을 30초 이내로 도금을 진행할 수 있다. 이렇게 도금이 진행됨에 따라 니켈도금의 속도를 향상시킬 수 있다. Next, the first high-speed nickel plating zone is performed to provide corrosion resistance and improve hardness of the reel-type material, and is electroplating in which nickel ions are deposited on the surface of the reel-type material through electric current. Through this high-speed nickel plating, reel-type materials can be first coated. And when the first high-speed nickel plating zone is completed, the reel-type material is washed using the same washing liquid used in the electrode washing zone previously. At this time, the first high-speed nickel plating can proceed with nickel plating in less than 30 seconds. As plating progresses in this way, the speed of nickel plating can be improved.

다음으로, 제2고속니켈도금 구역은 제1니켈도금구역과 마찬가지로 니켈을 이용하여 도금을 더 진행한다. 도 2에서 나타낸 것과 같이 제1고속니켈도금구역에 비해 제2고속니켈도금구역이 길게 형성되는데 이는 제2고속니켈도금을 통해 릴 타입 소재에 니켈을 도금시키기 위함이다. Next, in the second high-speed nickel plating zone, further plating is performed using nickel, similar to the first nickel plating zone. As shown in Figure 2, the second high-speed nickel plating zone is formed longer than the first high-speed nickel plating zone in order to plate nickel on the reel-type material through the second high-speed nickel plating.

그리고 제2고속니켈도금 구역이 종료되면, 전극수세 및 초음파 수세를 통해 릴타입 소재의 표면에 존재하는 이물질을 제거한다. And when the second high-speed nickel plating zone is completed, foreign substances present on the surface of the reel-type material are removed through electrode washing and ultrasonic washing.

다음으로, 금 도금구역은 금을 이용하여 도금하는 구역으로, 니켈 도금이 완료된 릴 타입 소재에 금을 도금한다. 금을 도금하는 것은 릴 타입 소재의 전도성을 증가시키기 위해 사용된다. Next, the gold plating area is an area where gold is plated, and gold is plated on the reel-type material on which nickel plating has been completed. Gold plating is used to increase the conductivity of reel-type materials.

또한, 금 도금이 완료되면, 수세 및 보공구역으로 릴 타입 소재가 이동하는데 이는 금 도금이 완료된 릴 타입 소재의 표면을 세정하고, 릴 타입 소재의 표면에 존재하는 도금된 원료들이 외부로의 반출을 최소화 시키시기 위해 봉공을 진행한다. In addition, when gold plating is completed, the reel-type material is moved to the washing and repair area. This cleans the surface of the reel-type material on which gold plating has been completed and prevents the plated raw materials present on the surface of the reel-type material from being exported to the outside. We carry out sealing to minimize it.

또한, 릴 도금부(120)는 턴3단(123)의 하측에 사용된 용액을 처리하는 수세틀(124)와 수세틀(124)에서 처리가 완료된 폐수를 수용하는 폐수조(125)를 포함할 수 있다. 이러한 수세틀(124)는 앞서 도금구역에서 사용된 도금액을 재처리하여, 재사용할 수 있는 용액의 경우, 도금구역에서 재사용하고, 재처리가 불가능한 도금액은 폐수조(125) 측으로 용액을 제공한다. 그러면, 사용자는 페수조(125)가 일정량을 초과한 경우, 폐수조(125)를 교체하여 재사용할 수 있으며, 수세틀(124)도 동일하게 처리용량을 넘게되면 교체하여 사용할 수 있다. In addition, the reel plating unit 120 includes a washing frame 124 that processes the solution used on the lower side of the turn 3 stage 123 and a waste water tank 125 that accommodates wastewater that has been processed in the washing frame 124. can do. This washing frame 124 reprocesses the plating solution previously used in the plating area, and in the case of a reusable solution, it is reused in the plating area, and for the plating solution that cannot be reprocessed, the solution is provided to the waste water tank 125. Then, when the waste water tank 125 exceeds a certain amount, the user can replace and reuse the waste water tank 125, and the flushing frame 124 can also be replaced and reused when the treatment capacity is exceeded.

다음으로, 릴 회수부(130)는 릴 도금부(120)를 통해 도금이 완료된 릴 타입 소재를 건조시킴과 동시에 리코일러에 감아 타래형태로 감는다. Next, the reel recovery unit 130 dries the reel-type material for which plating has been completed through the reel plating unit 120 and simultaneously winds it around a recoiler into a skein.

이러한 릴 공급부(110)와 릴 회수부(130)는 동일한 속도로 릴 타입 소재를 공급 및 회수하게 되며, 바람직하게는 35m/min(분당 35m)의 이동속도를 제공할 수 있다. 이때, 릴 공급부(110)와 릴 회수부(130)의 속도가 다르게 형성되는 경우에는 릴 타입 소재의 공급이 불안정하게 되어 릴 도금을 방해할 수 있으며, 도금장치(100)의 고장을 유발시킬 수 있다. The reel supply unit 110 and reel recovery unit 130 supply and retrieve reel-type materials at the same speed, and can preferably provide a moving speed of 35 m/min (35 m per minute). At this time, if the speeds of the reel supply unit 110 and the reel recovery unit 130 are formed differently, the supply of reel-type material may become unstable, which may interfere with reel plating and cause malfunction of the plating device 100. there is.

또한, 본 발명에서 릴 도금부(120)는 턴1단(121), 턴2단(122) 및 턴3단(123)에 복수의 다른 단계를 진행하기 위한 구역이 설정되어 동작하지만, 도금의 종류가 변경되는 경우, 구역을 재배치하여 다른 도금을 진행할 수 있다. 즉, 릴 도금부(120)는 턴1단(121), 턴2단(122) 및 턴3단(123)의 구역을 변경하여 제공할 수 있다. 이렇게 도금방법에 따라 릴 도금부(120)의 각각의 단을 변경하여 제공할 수 있어, 복수의 도금방법에 대응될 수 있다. In addition, in the present invention, the reel plating unit 120 operates by setting a zone for performing a plurality of different steps in the turn 1 stage 121, turn 2 stage 122, and turn 3 stage 123, but the plating process If the type changes, the area can be rearranged to proceed with another plating. That is, the reel plating unit 120 can be provided by changing the zones of the first turn stage 121, the second turn stage 122, and the third turn stage 123. In this way, each stage of the reel plating unit 120 can be changed and provided according to the plating method, so that it can correspond to a plurality of plating methods.

그리고 도 1에서 나타낸 것과 같이 재생장치를 포함할 수 있는데 본원 발명에서의 재생장치는 사용된 용액을 필터를 통해 정수를 진행하고, 정수가 완료된 용액을 다시 릴도금부(120)에 제공한다. 이렇게 재생장치를 통해 용액을 재사용함에따라 도금시 발생하는 폐수의 양을 줄일 수 있다. And, as shown in FIG. 1, it may include a regeneration device. The regeneration device in the present invention purifies the used solution through a filter and provides the purified solution back to the reel plating unit 120. By reusing the solution through a regeneration device, the amount of wastewater generated during plating can be reduced.

또한, 본원발명의 도금장치(100)는 자동으로 제어가 됨으로써, 턴1단, 턴2단 및 턴3단으로 진행할수록 상부에서 하부로 릴이 이동하게 되며, 각각의 단에는 도금 및 수세조를 일체형으로 포함하기 때문에 기존의 독립적으로 도금을 하는 방법보다 빠른 속도로 도금을 진행할 수 있다. In addition, the plating device 100 of the present invention is automatically controlled, so that the reel moves from the top to the bottom as it progresses to turn 1, turn 2, and turn 3, and each stage is equipped with a plating and washing tank. Because it is included in an integrated form, plating can be carried out at a faster rate than the existing independent plating method.

그리고 도 2에서 나타낸 것과 같이 릴이 도금창치로 공급될 때 릴의 텐션을 유지하기 위해 덴서를 이용한다. 이러한 덴서는 복수개의 회전하는 롤러를 포함하고 있으며, 롤러가 회전함에 따라 릴이 롤러의 표면으로 이동하여 릴의 텐션을 유지할 수 있다. And, as shown in Figure 2, a denser is used to maintain the tension of the reel when it is supplied to the plating machine. This denser includes a plurality of rotating rollers, and as the rollers rotate, the reel moves to the surface of the roller to maintain the tension of the reel.

또한, 다른 실시예에 따르면, 각각의 구역의 내부의 표면에 도포되는 코팅층을 포함하고, 코팅층은 제1층 및 제2층으로 형성되며, 제1층은 도금시 발생하는 악취 입자가 적제함의 내부의 표면에 부착되는 것을 방지함과 동시에 일부의 악취 입자는 제거되고, 제2층이 함께 형성됨으로써, 릴 도금부(120)로부터 존재하는 날카로운 기구들(칼같은 것)에 의해 적제함의 내부에 스크래치 또는 파임이 형성되는 것을 억제하여 스크래치나 파임이 있는 곳에 수분이 인입되어 녹이 발생되는 것을 방지할 수 있다. 이러한 제1층은 인산화칼슘 10중량부와, 상기 인산화칼슘 10중량부를 기준으로 하여, 산화칼슘(Cao) 0.3 ~ 0.89중량부와, 황산구리(CuSO45H2O) 0.001 ~ 2.5 중량부와, 유무기산 0.5 ~ 3.0중량부 및 산화은 0.1 ~ 0.15중량부를 포함하고, 제2층은 과불화화합물 10중량부와, 상기 과불화화합물 10중량부를 기준으로 하여, 실리콘알콕시드 0.11중량부와, 옥타데실트리클로로실란을 포함하는 반응성실란 0.5 ~ 2.0 중량부와, 폴리테트라메틸렌글리콜 0.13중량부와, 광중합 개시제 0.1중량부 및 유기용매 2중량부를 포함한다. In addition, according to another embodiment, it includes a coating layer applied to the inner surface of each zone, the coating layer is formed of a first layer and a second layer, and the first layer is the inside of the box where odor particles generated during plating are deposited. At the same time as preventing them from adhering to the surface, some odorous particles are removed and a second layer is formed together, preventing scratches on the inside of the loading box by sharp instruments (such as knives) present from the reel plating part 120. Alternatively, by suppressing the formation of dents, it is possible to prevent moisture from entering where there are scratches or dents and causing rust. This first layer includes 10 parts by weight of calcium phosphorylation, 0.3 to 0.89 parts by weight of calcium oxide (Cao), 0.001 to 2.5 parts by weight of copper sulfate (CuSO45H2O), and 0.5 to 3.0 parts by weight of organic and inorganic acids, based on 10 parts by weight of calcium phosphorylation. parts by weight and 0.1 to 0.15 parts by weight of silver oxide, and the second layer contains 10 parts by weight of a perfluorinated compound, 0.11 parts by weight of silicon alkoxide, and octadecyltrichlorosilane based on 10 parts by weight of the perfluorinated compound. It contains 0.5 to 2.0 parts by weight of reactive silane, 0.13 parts by weight of polytetramethylene glycol, 0.1 parts by weight of a photopolymerization initiator, and 2 parts by weight of an organic solvent.

먼저, 인산화 칼슘은 후술할 산화칼슘(CaO)의 반응성을 증대시키기 위해 촉매로 사용되며, 인산화 칼슘은 10중량부가 사용되는 것이 바람직한데, 인산화 칼슘이 10중량부보다 작게 사용되는 경우, 후술할 산화칼슘의 반응성을 저하시킬 수 있으며, 인산화 칼슘이 10중량부보다 많이 사용되는 경우, 후술할 산화칼슘의 반응을 더욱 촉진하여 다른 첨가물에 대한 거부반응을 일으킬 수 있다. 그리고 이러한 인산화 칼슘은 수산화아파타이트 또는 칼슘포스페이트등이 사용될 수 있다. First, phosphorylated calcium is used as a catalyst to increase the reactivity of calcium oxide (CaO), which will be described later, and 10 parts by weight of phosphorylated calcium is preferably used. If less than 10 parts by weight of phosphorylated calcium is used, oxidation, which will be described later, It may reduce the reactivity of calcium, and if more than 10 parts by weight of calcium phosphorylation is used, it may further promote the reaction of calcium oxide, which will be described later, and cause a rejection reaction to other additives. And this phosphorylated calcium can be hydroxyapatite or calcium phosphate.

다음으로, 산화칼슘(CaO)은 일반적으로 위생소독용으로 사용되는 것으로, 물과 반응하여 80℃ 이상의 고온을 나타낸다. 상기 인산화칼슘 10중량부를 기준으로 할 때, 0.3 내지 0.89중량부의 산화칼슘의 혼합량이 바람직하다. 상기 인산화칼슘 함량이 0.3 중량부보다 작게 사용되는 경우, 악취를 발생시키는 악취 입자의 멸균력이 떨어지게 되며, 반대로 상기 인산화칼슘 함량이 0.89중량부보다 많이 사용되는 경우, 산화칼슘의 독특한 냄새가 나며 다른 제1층에 존재하는 첨가물에 거부반응이 나타날 수 있다. Next, calcium oxide (CaO) is generally used for sanitary disinfection, and reacts with water to produce a high temperature of 80°C or higher. Based on 10 parts by weight of calcium phosphate, a mixing amount of 0.3 to 0.89 parts by weight of calcium oxide is preferable. If the calcium phosphorylation content is less than 0.3 parts by weight, the sterilizing power of malodor particles that generate bad odors decreases, and on the contrary, if the calcium phosphorylation content is more than 0.89 parts by weight, a unique odor of calcium oxide is generated and other Rejection reactions may occur with additives present in the first layer.

다음으로, 황산구리(CuSO45H2O)는 악취를 제거하는 조성물로, 푸른색의 투명한 결정으로 비중은 2.286이다. 건조한 공기 중에서 서서히 수분을 잃고 가루가 된다. 45℃에서 2분자의 물, 110℃에서 4분자의 물, 다시 250℃에서 모든 물분자를 잃고 무색의 무수물이된다. 본 발명의 바람직한 실시예로서, 인산화 칼슘 10 중량부를 기준으로 할 때, 0.001 ~ 2.5 중량부의 황산구리가 함유되는 것이 바람직하다. 이때, 황산구리가 0.001중량부 미만이 사용되는 경우 구리이온의 농도가 낮아 산성취에 대한 탈취효과가 거이 없으며, 반대로 상기 황산구리가 2.5 중량부를 초과하여 사용되는 경우에는 과포화된 황산구리용액으로 결정이 생성되어 본 발명에서 설명하는 악취를 제거하는 효과가 저하된다. Next, copper sulfate (CuSO 4 5H 2 O) is a composition that removes bad odors and is a blue transparent crystal with a specific gravity of 2.286. In dry air, it gradually loses moisture and turns into powder. At 45℃, it loses 2 molecules of water, at 110℃, it loses 4 molecules of water, and again at 250℃, it loses all water molecules and becomes a colorless anhydride. As a preferred embodiment of the present invention, it is preferable that 0.001 to 2.5 parts by weight of copper sulfate be contained based on 10 parts by weight of calcium phosphorylation. At this time, if less than 0.001 parts by weight of copper sulfate is used, the concentration of copper ions is low, so there is virtually no deodorizing effect on acid odor. Conversely, if copper sulfate is used in excess of 2.5 parts by weight, crystals are formed from the supersaturated copper sulfate solution. The effect of removing bad odors described in the present invention is reduced.

다음으로, 유무기산은 황산구리에 함유되어 있는 구리 및 황산이온을 활성화 시키?z 것으로, 황산, 질산, 염산, 초산, 시트릭산, 살리실산, 주석산, 말레인산, 젖산, 사과산, 아스코빅산등의 유,무기산 중에서 하나 또는 그 이상을 선택하여 혼합 사용할 수 있다. 본 발명의 바람직한 실시예로서, 인산화 칼슘 10 중량부를 기준으로 할 때, 유무기산은 0.5 ~ 3.0중량부가 함유되는 것이 바람직하다. 이러한 유무기산이 0.5 중량부보다 작게 사용되는 경우, 낮은 농도로 악취원에 적용할 때 구리 및 황산이온을 활성화 시키지 못하며, 유무기산이 30중량부보다 많이 사용되는 경우, 황산구리의 용해도를 떨어뜨리게 되어 결정이 석출되며, 이러한 결정이 석출됨으로써, 구리 및 황산이온의 활성화를 저하시킬 수 있다. Next, organic and inorganic acids activate the copper and sulfate ions contained in copper sulfate, and organic and inorganic acids such as sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, acetic acid, citric acid, salicylic acid, tartaric acid, maleic acid, lactic acid, malic acid, and ascorbic acid. You can choose one or more of them and use them in combination. As a preferred embodiment of the present invention, based on 10 parts by weight of calcium phosphorylation, it is preferable that 0.5 to 3.0 parts by weight of organic and inorganic acids are contained. If these organic and inorganic acids are used in amounts less than 0.5 parts by weight, they fail to activate copper and sulfate ions when applied to odor sources at low concentrations, and if more than 30 parts by weight are used, the solubility of copper sulfate decreases. Crystals precipitate, and by precipitating these crystals, the activation of copper and sulfate ions can be reduced.

다음으로, 산화은은 황산구리의 반응성을 증대시키기 위해 사용되는 것으로, 인산화 칼슘 10 중량부를 기준으로 할 때, 0.1 ~ 0.15중량부의 산화은이 함유되는 것이 바람직하다. 여기서, 상기 산화은이 0.1 중량부보다 적게 사용되는 경우, 황산구리의 반응을 저하시키게 되며, 0.15 중량부보다 많이 사용되는 경우, 황산구리의 용해도를 떨어뜨리게 되어 황산구리의 활성화를 저하시킬 수 있다. Next, silver oxide is used to increase the reactivity of copper sulfate, and it is preferable that 0.1 to 0.15 parts by weight of silver oxide is contained based on 10 parts by weight of calcium phosphorylation. Here, when less than 0.1 parts by weight of silver oxide is used, the reaction of copper sulfate is reduced, and when more than 0.15 parts by weight is used, the solubility of copper sulfate is reduced, which may reduce the activation of copper sulfate.

즉, 제1층이 각각의 구역의 내부의 표면에에 형성됨으로써, 산화칼슘이 물과 반응해서 80도 이상의 고온을 발생시킴과 동시에 멸균을 진행 인산화칼슘은 산화칼슘이 반응을 빠르게 제공함과 동시에 황산구리와 유무기산의 반응성을 높게 형성시켜 구리 및 황산이온을 활성화됨에 따라 악취가 제거된다. 이때, 산화 칼슘은 각각의 구역의 내부의 표면에 존재하는 수분에 의해 활성화 되거나, 인입되는 물체에 함유되어 있는 수분을 통해 활성화될 수 있다. In other words, as the first layer is formed on the inner surface of each zone, calcium oxide reacts with water and generates a high temperature of 80 degrees or more, and sterilization proceeds at the same time. Calcium oxide provides a rapid reaction and at the same time, copper sulfate By forming a high level of reactivity between organic and inorganic acids and activating copper and sulfate ions, bad odors are eliminated. At this time, calcium oxide may be activated by moisture present on the inner surface of each zone, or may be activated through moisture contained in the incoming object.

다음으로, 제2층은 각각의 구역의 내부의 표면에 스크래치가 형성되는 것을 방지하고, 스크래치가 형성된 부분에 수분이 들어가는 것을 방지하여 각각의 구역의 내부의 표면에 녹이 발생하는 것을 억제하기 위해 제1층과 각각의 구역의 내부의 표면 사이의 상면에 도포된다. 이러한 제2층은 과불화화합물 10중량부, 상기 과불화화합물 10중량부를 기준으로 할 때, 실리콘알콕시드 0.11중량부, 옥타데실트리클로로실란을 포함하는 반응성실란 0.5 ~ 2.0 중량부 및 폴리테트라메틸렌글리콜 0.13중량부, 광중합 개시제 0.1중량부 및 유기용매 2중량부를 포함한다. Next, the second layer is applied to prevent scratches from forming on the inner surface of each zone, prevent moisture from entering the scratched area, and suppress rust from forming on the inner surface of each zone. It is applied to the top surface between the ground floor and the interior surface of each section. This second layer is 10 parts by weight of a perfluorinated compound, based on 10 parts by weight of the perfluorinated compound, 0.11 parts by weight of silicon alkoxide, 0.5 to 2.0 parts by weight of reactive silane containing octadecyltrichlorosilane, and polytetramethylene. It contains 0.13 parts by weight of glycol, 0.1 parts by weight of photopolymerization initiator, and 2 parts by weight of organic solvent.

먼저, 과불화화합물은 각각의 구역의 내부의 표면으로 수분 또는 물이 인입되는 것을 방지하기 위한 발수코팅제로써, 무기물로 이루어진 무기향균제를 함께 사용한다. 이러한 과불화화합물은 10중량부가 사용되는 것이 바람직한데, 과불화화합물이 10 중량부보다 작게 사용되는 경우, 발수기능이 저하될 수 있으며, 10 중량부보다 크게 사용되는 경우, 침전물이 형성되어 발수코팅의 코팅력을 상실할 수 있다. First, the perfluorinated compound is used as a water-repellent coating agent to prevent moisture or water from entering the inner surface of each area, and is used together with an inorganic antibacterial agent made of inorganic substances. It is desirable to use 10 parts by weight of the perfluorinated compound. However, if the perfluorinated compound is used in an amount less than 10 parts by weight, the water-repellent function may be reduced, and if it is used in an amount greater than 10 parts by weight, a precipitate is formed and the water-repellent coating is damaged. coating power may be lost.

다음으로, 실리콘알콕시드는 과불화화합물을 각각의 구역의 내부의 표면에 결합력을 증대시키기 위해 사용되는 것으로, 상기 과불화화합물 10 중량부를 기준으로 할 때 0.11중량부의 실리콘알콕시드가 사용되는 것이 바람직하다. 상기 실리콘알콕시드가 0.11중량부보다 작게 사용되는 경우, 과불화화합물이 각 구역의 내부 표면에 접착되는 접착성이 저하될 수 있으며, 실리콘알콕시드가 0.11중량부보다 크게 사용되는 경우, 투명성이 저하될 수 있다. Next, silicon alkoxide is used to increase the binding force of the perfluorinated compound to the inner surface of each zone, and it is preferable to use 0.11 parts by weight of silicon alkoxide based on 10 parts by weight of the perfluorinated compound. If the silicon alkoxide is used in a smaller amount than 0.11 parts by weight, the adhesion of the perfluorinated compound to the inner surface of each zone may be reduced, and if the silicon alkoxide is used in a larger amount than 0.11 parts by weight, the transparency may be reduced. there is.

다음으로, 반응성실란은 옥타데실트리클로로실란(CH3(CH2)17SiCl3)을 포함하며, 실리콘알콕시드의 반응을 용이하게 제공하고 임계경사각을 작게 하기 위해 사용한다. 이러한 목적으로 포함되는 반응성 실란은 상기 과불화화합물 10중량부를 기준으로 할 때, 0.5 ~ 2.0 중량부가 사용되는 것이 바람직하다. 상기 반응성실란이 0.5 중량부보다 작게 사용되는 경우, 실리콘알콕시드의 반응성이 저하되며, 2.0중량부보다 많이 사용하는 경우, 임계경사각이 증가하여 반응성이 저하된다. Next, the reactive silane includes octadecyltrichlorosilane (CH3(CH2)17SiCl3), and is used to facilitate the reaction of silicon alkoxide and to reduce the critical tilt angle. The reactive silane included for this purpose is preferably used in an amount of 0.5 to 2.0 parts by weight, based on 10 parts by weight of the perfluorinated compound. When the reactive silane is used in less than 0.5 parts by weight, the reactivity of the silicon alkoxide decreases, and when it is used in more than 2.0 parts by weight, the critical inclination angle increases and the reactivity decreases.

다음으로, 폴리테트라메틸렌글리콜은 유리전이온도가 50도 이상이며, 경도값이 60이상을 가진다. 즉, 폴리테트라메틸렌글리콜을 이용함으로써, 제2층이 높은 온도인 80도 이상에서도 높은 경도값을 가지게 제공할 수 있다. 상기 폴리테트라메틸렌글리콜은 상기 과불화화합물 10중량부를 기준으로 할 때, 0.13중량부가 사용되는 것이 바람직하다. 만약, 상기 폴리테트라메틸렌글리콜이 0.13중량부보다 크거나 작게 사용되는 경우, 제2층의 유리전이온도와 높은 경도값을 가지기가 힘들다는 단점이 있다. Next, polytetramethylene glycol has a glass transition temperature of 50 degrees or more and a hardness value of 60 or more. That is, by using polytetramethylene glycol, the second layer can be provided with a high hardness value even at a high temperature of 80 degrees or higher. The polytetramethylene glycol is preferably used in an amount of 0.13 parts by weight, based on 10 parts by weight of the perfluorinated compound. If the polytetramethylene glycol is used in an amount greater or less than 0.13 parts by weight, there is a disadvantage in that it is difficult to have a glass transition temperature and a high hardness value of the second layer.

다음으로, 광중합 개시제는 자외선을 이용하여 경화시키는 것으로, 폴리테트라메틸렌글리콜을 경화시키기 위해 사용되며, 경화속도를 촉진시키기 위해 사용한다. 이러한 광중합 개시제는 상기 과불화화합물 10중량부를 기준으로 할 때, 0.1중량부를 사용하는 것이 바람직하다. 만약 상기 광중합 개시제가 0.1중량부보다 적게 사용되는 경우, 상기한 폴리테트라메틸렌글리콜의 경화가 충분히 형성되지 않으며, 상기 광중합 개시제가 0.1중량부보다 많이 사용되는 경우, 상기 폴리테트라메틸렌글리콜의 경화가 과도하게 촉진되어 원하는 경도 값을 가지기 어렵다. Next, the photopolymerization initiator is used to cure polytetramethylene glycol by curing it using ultraviolet rays, and is used to accelerate the curing speed. It is preferable to use 0.1 parts by weight of this photopolymerization initiator based on 10 parts by weight of the perfluorinated compound. If the photopolymerization initiator is used in less than 0.1 parts by weight, the curing of the polytetramethylene glycol is not sufficiently formed, and if the photopolymerization initiator is used in more than 0.1 parts by weight, the curing of the polytetramethylene glycol is excessive. This makes it difficult to obtain the desired hardness value.

다음으로, 유기용매는 폴리테트라메틸렌글리콜을 액체상의 물질로 형성시켜 놓기 위해 사용되는 것으로, 에테르, 아세톤 또는 알코올을 포함할 수 있다. 이러한 유기용매는 상기 과불화화합물 10중량부를 기준으로 할 때, 2중량부를 가지는 것이 바람직하다. 만약 상기 유기용매가 2중량부보다 적게 사용되는 경우, 폴리테트라메틸렌글리콜이 액화가 적게 되며, 유기용매가 2중량부보다 많이 사용되는 경우, 폴리테트라메틸렌글리콜의 경화가 느리게 진행되는 문제가있다. Next, the organic solvent is used to form polytetramethylene glycol into a liquid substance and may include ether, acetone, or alcohol. It is preferable to have 2 parts by weight of this organic solvent based on 10 parts by weight of the perfluorinated compound. If less than 2 parts by weight of the organic solvent is used, polytetramethylene glycol is less liquefied, and if more than 2 parts by weight of the organic solvent is used, curing of polytetramethylene glycol progresses slowly.

이상에서 첨부된 도면을 참조하여 설명한 본 발명은 통상의 기술자에 의하여 다양한 변형 및 변경이 가능하고, 청구범위를 통해 한정되지 않은 이러한 변형 및 변경은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The present invention described above with reference to the accompanying drawings is capable of various modifications and changes by those skilled in the art, and such modifications and changes not limited by the claims should be construed as being included in the scope of rights of the present invention.

100: 도금장치
110: 릴 공급부
120: 릴 도금부
121: 턴1단
122: 턴2단
123: 턴3단
124: 수세틀
125: 폐수조
130: 릴 회수부
100: Plating device
110: Reel supply unit
120: Reel plating part
121: Turn 1 stage
122: Turn 2
123: Turn 3
124: Washing machine
125: waste water tank
130: Reel recovery unit

Claims (4)

공급풀리에 감겨있는 릴을 언코일러를 통해 상기 릴을 풀어 공급하는 릴 공급부;
상기 릴 공급부로부터 일정 길이만큼 이격되어 구비되며, 상기 공급된 릴을 회수하여 회수풀리에 감는 릴 회수부; 및
상기 릴 공급부와 상기 릴 회수부 사이에 구비되며, 상기 릴을 도금하는 릴 도금부를 포함하되,
상기 릴 도금부의 표면에 도포되는 코팅층을 포함하고,
상기 코팅층은 제1층 및 제2층으로 형성되며,
상기 제1층은 인산화칼슘 10중량부와, 산화칼슘(Cao) 0.3 ~ 0.89중량부와, 황산구리(CuSO45H2O) 0.001 ~ 2.5 중량부와, 유무기산 0.5 ~ 3.0중량부 및 산화은 0.1 ~ 0.15중량부를 포함하고,
상기 제2층은 과불화화합물 10중량부와, 실리콘알콕시드 0.11중량부와, 옥타데실트리클로로실란을 포함하는 반응성실란 0.5 ~ 2.0 중량부와, 폴리테트라메틸렌글리콜 0.13중량부와, 광중합 개시제 0.1중량부 및 유기용매 2중량부
를 포함하는 도금장치.
A reel supply unit that unwinds and supplies a reel wound on a supply pulley through an uncoiler;
a reel recovery unit that is spaced apart from the reel supply unit by a predetermined length and collects the supplied reel and winds it on a recovery pulley; and
It is provided between the reel supply unit and the reel recovery unit, and includes a reel plating unit for plating the reel,
It includes a coating layer applied to the surface of the reel plating part,
The coating layer is formed of a first layer and a second layer,
The first layer includes 10 parts by weight of calcium phosphate, 0.3 to 0.89 parts by weight of calcium oxide (Cao), 0.001 to 2.5 parts by weight of copper sulfate (CuSO45H2O), 0.5 to 3.0 parts by weight of organic and inorganic acids, and 0.1 to 0.15 parts by weight of silver oxide. do,
The second layer includes 10 parts by weight of a perfluorinated compound, 0.11 parts by weight of silicon alkoxide, 0.5 to 2.0 parts by weight of reactive silane containing octadecyltrichlorosilane, 0.13 parts by weight of polytetramethylene glycol, and 0.1 part by weight of a photopolymerization initiator. 2 parts by weight and organic solvent
A plating device comprising a.
청구항 1에 있어서,
상기 릴 도금부는 적어도 하나 이상의 구역으로 각각 구분되며, 상기 각각의 구역은 복수의 3개의 단으로 형성되며, 상기 3개의 단은 턴 방식으로 형성되는 도금장치.
In claim 1,
The reel plating unit is each divided into at least one zone, and each zone is formed of a plurality of three stages, and the three stages are formed in a turn manner.
청구항 2에 있어서,
상기 릴 도금부는 턴1단, 턴2단 및 턴3단으로 형성되며, 상기 턴1단은 전해탈지 구역, 전극수세구역, 산화처리구역, 초음파 세척 구역으로 형성되고, 상기 턴2단은 제1고속니켈 도금구역, 제2고속니켈 도금구역으로 형성되며, 상기 턴3단은 금 도금구역, 수세 및 봉공 구역으로 형성되는 도금장치.
In claim 2,
The reel plating section is formed of a turn 1 stage, a turn 2 stage, and a turn 3 stage, wherein the turn 1 stage is formed of an electrolytic degreasing zone, an electrode washing zone, an oxidation treatment zone, and an ultrasonic cleaning zone, and the turn 2 stage is a first A plating device formed of a high-speed nickel plating zone and a second high-speed nickel plating zone, and the turn 3 stage is formed of a gold plating zone and a washing and sealing zone.
청구항 3에 있어서,
상기 릴 도금부는 상기 턴3단의 하측에는 사용된 용액을 처리하는 수세틀 및 상기 수세틀에서 처리가 완료된 폐수를 수용하는 폐수조를 더 포함하는 도금장치.
In claim 3,
The reel plating unit further includes a washing frame for processing the used solution at a lower side of the third stage of the turn, and a waste water tank for receiving wastewater that has been processed in the washing frame.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR920003633A (en) * 1990-07-28 1992-02-29 서주인 Electrode fabrication method of surface acoustic wave device
JP2007162118A (en) * 2005-12-16 2007-06-28 Fujifilm Corp Plating apparatus, plating method, translucent conductive film, and translucent electromagnetic wave shield film
KR102545209B1 (en) * 2022-10-12 2023-06-16 대성하이피(주) Continuous plating process method using snake-turn method to reduce process length

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR920003633A (en) * 1990-07-28 1992-02-29 서주인 Electrode fabrication method of surface acoustic wave device
JP2007162118A (en) * 2005-12-16 2007-06-28 Fujifilm Corp Plating apparatus, plating method, translucent conductive film, and translucent electromagnetic wave shield film
KR102545209B1 (en) * 2022-10-12 2023-06-16 대성하이피(주) Continuous plating process method using snake-turn method to reduce process length

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