KR102629263B1 - EUV Photo Resist Polymer Filtering System - Google Patents

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Abstract

본 발명은 EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템에 관한 것으로, 반응기탱크에서 공급되는 약액의 불순물을 제거하고 적어도 3개의 공급라인을 구비하는 필터유닛, 상기 필터유닛을 고정하고. 복수개의 이동수단으로 구비된 작업대, 및 상기 필터유닛을 경유한 불순물이 제거된 슬러리를 추출하는 샘플링 라인을 포함하며, 상기 복수개의 이동수단을 통해 이동이 가능하다.The present invention relates to an EUV photoresist polymer filtering system, which removes impurities from a chemical solution supplied from a reactor tank, includes a filter unit having at least three supply lines, and fixes the filter unit. It includes a workbench equipped with a plurality of moving means, and a sampling line for extracting a slurry from which impurities have been removed after passing through the filter unit, and can be moved through the plurality of moving means.

Description

EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템{EUV Photo Resist Polymer Filtering System}EUV Photo Resist Polymer Filtering System

본 발명은 EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to an EUV photoresist polymer filtering system.

일반적으로 반도체소자 제조공정의 포토리소그래피(Photolithography) 공정은, 웨이퍼 상에 포토 레지스트(photoresist: PR)를 코팅한 후, 노광 및 현상 공정을 수행함으로써 웨이퍼 상에 소정의 포토 레지스트 패턴을 형성하고, 이렇게 형성된 패턴을 이후의 식각, 금속 증착 등의 공정에서 마스크로 사용할 수 있도록 하는 공정이다. 이러한 공정에 있어서, 웨이퍼 상에 포토 레지스트의 공급은 보틀, 펌프, 필터 및 노즐을 포함한 각 구성이 조합 연결된 포토 레지스트 공급장치에 의해서 이루어진다.In general, the photolithography process in the semiconductor device manufacturing process involves coating photoresist (PR) on a wafer and then performing exposure and development processes to form a predetermined photoresist pattern on the wafer. This is a process that allows the formed pattern to be used as a mask in subsequent processes such as etching and metal deposition. In this process, photoresist is supplied on the wafer by a photoresist supply device in which each component including a bottle, pump, filter, and nozzle is connected in combination.

포토 레지스트 공급시스템은 액상의 포토 레지스트 소정량은 밀폐된 분위기의 보틀에 수용된 상태에서 보틀에 작용하는 압력과 연통 연결된 포토 레지스트 공급라인 상에 설치되는 펌프의 구동에 의해 포토 레지스트 공급라인의 끝단에 설치된 노즐을 통과하게 됨으로써 웨이퍼 상에 공급된다.The photoresist supply system is installed at the end of the photoresist supply line by driving a pump installed on the photoresist supply line in communication with the pressure acting on the bottle while a predetermined amount of liquid photoresist is contained in a bottle in a sealed atmosphere. By passing through the nozzle, it is supplied onto the wafer.

이렇게 공급되는 포토 레지스트에는 각종 형태의 파티클 또는 기포 등의 이물질이 함유되어 있으며, 이들 이물질은 이후에 형성되는 마스크의 불량 요소로 작용하게 됨으로써 반도체장치 제조 수율을 높이기 위해서는 그 공급 과정에서 제거 과정이 요구된다.The photo resist supplied in this way contains foreign substances such as various types of particles or bubbles, and these foreign substances act as defective elements in the mask formed later, so a removal process is required during the supply process to increase the manufacturing yield of semiconductor devices. do.

이러한 문제를 해결하기 위해, 불순물 내지 파티클을 제거하기 위해 세척액 및 박리액을 포함하여 이를 여과하고 재순환 방법이 통상 적용되고 있다.To solve this problem, a method of filtering and recirculating the cleaning liquid and stripping liquid to remove impurities or particles is usually applied.

그러나 현재 상용화되어 있는 여과장치는 약액을 여과하고 재순환하기 위한 방법이 복잡할 뿐만 아니라, 반도체 가공장치에 연결되어 이동이 불가능한 문제점이 있다.However, currently commercialized filtration devices not only have complex methods for filtering and recirculating chemical solutions, but also have the problem of being impossible to move because they are connected to semiconductor processing equipment.

또한, 파티클이 여과장치 내에 흡착되어 디바이스를 고장내는 문제가 존재하였다.Additionally, there was a problem of particles being adsorbed within the filtration device and causing the device to malfunction.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하고자 창출된 것으로서, 본 발명의 목적은, 간단한 구조를 통해 효과적으로 약액에 포함된 불순물 내지 파티클을 제거하여 반도체 제조 및 생산에 보다 효율적으로 제공하고, 이동이 가능한 EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템을 구현하는데 있다.The present invention was created to solve the problems of the prior art as described above, and the purpose of the present invention is to provide more efficient semiconductor manufacturing and production by effectively removing impurities or particles contained in the chemical solution through a simple structure, and moving The goal is to implement a possible EUV photoresist polymer filtering system.

마지막으로, 본 발명의 목적은 파티클이 여과장치 내에 흡착되어 디바이스의 고장을 미연에 방지할 수 있는 EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템을 제공하는데 있다.Lastly, the purpose of the present invention is to provide an EUV photoresist polymer filtering system that can prevent device failure by adsorbing particles into the filtering device.

본 발명의 일 실시예에 따른 EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템은, 반응기 탱크에서 공급되는 약액의 불순물을 제거하고 적어도 3개의 공급라인을 구비하는 필터유닛, 상기 필터유닛을 고정하고 복수개의 이동수단으로 구비된 작업대, 및 상기 필터유닛을 경유한 불순물이 제거된 슬러리를 추출하는 샘플링 라인을 포함하며, 상기 복수개의 이동수단을 통해 이동이 가능하다.The EUV photoresist polymer filtering system according to an embodiment of the present invention includes a filter unit that removes impurities in a chemical solution supplied from a reactor tank and has at least three supply lines, fixes the filter unit, and includes a plurality of moving means. It includes a workbench and a sampling line for extracting slurry from which impurities have been removed after passing through the filter unit, and can be moved through the plurality of moving means.

본 발명의 일 실시예에 따르면 상기 필터유닛은, 6개로 구비되고 3개씩 병렬로 배치되며, 압력계가 각각 구비된 필터 하우징, 상기 필터 하우징에 연결되어, 3개의 유로로 형성된 공급라인, 및 상기 유로를 선택적으로 개폐하는 밸브를 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the filter unit is comprised of six filter units, three of which are arranged in parallel, a filter housing each equipped with a pressure gauge, a supply line connected to the filter housing and formed into three flow paths, and the flow path. It may include a valve that selectively opens and closes.

본 발명의 일 실시예에 따르면 상기 필터유닛은, 반응기 탱크로부터 유동된 약액을 20nm 크기의 불순물을 여과하는 제 1 필터 하우징, 상기 제 1 필터 하우징을 경유한 약액을 5nm 크기의 불순물을 여과하는 제 3 필터 하우징, 및 상기 제 3 필터 하우징을 경유한 약액을 5nm 크기의 불순물을 여과하는 제 5 필터 하우징으로 구비되는 제 1 공급라인을 포함하고, 상기 반응기 탱크로부터 유동된 약액에서 금속이온을 여과하는 제 2 필터 하우징, 상기 제 2 필터 하우징을 경유한 약액을 5nm 크기의 불순물을 여과하는 제 4 필터 하우징, 및 상기 제 4 필터 하우징을 경유한 약액을 2nm 크기의 불순물을 여과하는 제 6 필터 하우징으로 구비되는 제 2 공급라인을 포함하고, 상기 제 2 필터 하우징을 경유하지 않고 제 4 필터하우징으로 경유하는 바이패스라인을 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the filter unit includes a first filter housing that filters impurities of 20 nm in size from the chemical liquid flowing from the reactor tank, and a first filter housing that filters impurities of 5 nm in size in the chemical liquid flowing through the first filter housing. 3 filter housings, and a first supply line provided with a 5th filter housing for filtering impurities of 5 nm in size from the chemical liquid passing through the third filter housing, and filtering metal ions from the chemical liquid flowing from the reactor tank. a second filter housing, a fourth filter housing for filtering impurities of 5 nm in size from the chemical solution passing through the second filter housing, and a sixth filter housing for filtering impurities in size of 2 nm from the chemical solution passing through the fourth filter housing. It may include a second supply line provided, and a bypass line that passes through the fourth filter housing without passing through the second filter housing.

본 발명의 일 실시예에 따르면 상기 제 1 공급라인은, 상기 반응기 탱크로부터 유동된 약액이 제 1 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 1 제어밸브, 상기 제 1 필터 하우징을 경유한 약액이 제 3 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 3 제어밸브, 제 3 필터 하우징을 경유한 약액이 제 5 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 5 제어밸브를 포함하고, 상기 제 2 공급라인은, 상기 반응기 탱크로부터 유동된 약액이 제 2 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 2 제어밸브, 상기 제 2 필터 하우징을 경유한 약액이 제 4 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 4 제어밸브, 및 상기 제 4 필터 하우징을 경유한 약액이 제 6 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 5 제어밸브를 포함하고, 상기 바이패스라인은, 상기 반응기 탱크에서 유동된 약액을 제 4 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 바이패스라인밸브를 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the first supply line includes a first control valve that regulates the opening and closing of the chemical liquid flowing from the reactor tank to pass through the first filter housing, and a first control valve that controls the opening and closing of the chemical liquid flowing from the reactor tank to the first filter housing. It includes a third control valve that controls opening and closing so that the chemical solution passes through the third filter housing, and a fifth control valve that controls opening and closing so that the chemical solution passes through the third filter housing to the fifth filter housing, and the second supply line is, A second control valve that regulates opening and closing so that the chemical liquid flowing from the reactor tank passes through the second filter housing, a fourth control valve that regulates opening and closing so that the chemical liquid flowing through the second filter housing passes through the fourth filter housing, and a fifth control valve that regulates opening and closing so that the chemical liquid passing through the fourth filter housing passes through the sixth filter housing, and the bypass line allows the chemical liquid flowing from the reactor tank to pass through the fourth filter housing. It may include a bypass line valve that regulates opening and closing.

본 발명의 일 실시예에 따르면 상기 필터유닛은 제 3 공급라인을 더 포함하고, 상기 제 1 공급라인을 경유한 약액이 상기 제 3 공급라인으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 7 제어밸브를 더 포함하고, 상기 제 2 공급라인 또는 상기 바이패스라인을 경유한 약액이 상기 제 3 공급라인으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 8 제어밸브를 더 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the filter unit further includes a third supply line, and a seventh control valve that controls opening and closing so that the chemical liquid passing through the first supply line passes through the third supply line. It may further include an eighth control valve that regulates opening and closing so that the chemical liquid passing through the second supply line or the bypass line passes through the third supply line.

본 발명의 일 실시예에 따르면 상기 필터유닛은, 상기 제 3 공급라인을 경유한 약액이 반응기 탱크로 이동하도록 마련된 제 4 공급라인을 더 포함하고, 상기 제 3 공급라인을 경유한 약액에서 슬러리를 추출하여 검사하기 위한 제 5 공급라인을 더 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the filter unit further includes a fourth supply line provided to allow the chemical solution via the third supply line to move to the reactor tank, and to filter slurry from the chemical solution via the third supply line. It may further include a fifth supply line for extraction and inspection.

본 발명의 일 실시예에 따르면 상기 작업대는 복수 개의 프레임이 상호 연결로 내측에 설치 공간을 이루는 박스 형상으로 구성될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the workbench may be configured in a box shape where a plurality of frames are interconnected to form an installation space inside.

본 발명의 따른 EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템은 필터 유닛의 배치를 통해 선택적으로 여과가 가능함으로써, 약액에 포함된 불순물 내지 파티클을 효과적으로 제거하여 반도체 제조 및 생산에 보다 효율적으로 제공할 수 있게 된다.The EUV photoresist polymer filtering system according to the present invention enables selective filtration through the arrangement of filter units, thereby effectively removing impurities and particles contained in the chemical solution, making it possible to more efficiently provide semiconductor manufacturing and production.

또한, 본 발명의 이동수단을 통해 이동이 가능한 여과장치가 실현될 수 있게 된다. In addition, a movable filtering device can be realized through the moving means of the present invention.

마지막으로, 본 발명의 필터 하우징에는 압력계가 각각 구비되어, 파티클이 흡착되어 디바이스의 고장을 미연에 방지할 수 있는 여과장치를 제공할 수있게 된다.Lastly, each filter housing of the present invention is equipped with a pressure gauge, making it possible to provide a filtration device that can prevent device failure by adsorbing particles.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 여과장치의 전체적인 모습을 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 여과장치의 측면의 모습을 도시한 것이다
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 여과장치 시스템의 개념도이다.
도 4는 본 발명의 제 1 공급라인을 통해 이동되는 약액의 공급라인을 도시한 것이다.
도 5는 본 발명의 바이패스라인을 통해 이동되는 약액의 공급라인을 도시한 것이다.
도 6은 본 발명의 제 2 공급라인을 통해 이동되는 약액의 공급라인을 도시한 것이다.Figure 1 shows the overall appearance of a filtration device according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 shows a side view of a filtration device according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a conceptual diagram of a filtration system according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 shows a supply line of a chemical solution moving through the first supply line of the present invention.
Figure 5 shows a supply line of a chemical solution moving through a bypass line of the present invention.
Figure 6 shows a supply line of a chemical solution moving through the second supply line of the present invention.

본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.The objectives, specific advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description and preferred embodiments taken in conjunction with the accompanying drawings. In this specification, when adding reference numbers to components in each drawing, it should be noted that identical components are given the same number as much as possible even if they are shown in different drawings. Additionally, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of related known technologies may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 여과장치의 전체적인 모습을 도시한 것이며, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 여과장치의 측면의 도시한 것이다.Figure 1 shows the overall appearance of a filtration device according to an embodiment of the present invention, and Figure 2 shows a side view of the filtration device according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 2를 참조하면, 본 발명의 EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템의 약액여과장치(1)는 필터유닛(100), 작업대(200) 및 이동수단으로 구성되고 있다.Referring to Figures 1 and 2, the chemical filtration device 1 of the EUV photoresist polymer filtering system of the present invention is composed of a filter unit 100, a work table 200, and a moving means.

먼저, 본 발명의 일 실시예에 따른 약액여과장치(1)의 필터유닛(100)은 반응기 탱크(T)에서 공급되는 약액의 불순물을 제거하는 역할을 수행하며, 필터 하우징(110, 120, 130, 140, 150, 160), 공급라인(L1, L2, L3, L4, L5, BL1) 및 밸브(V1, V2, V3, V4, V5, V6, V7, V8, V9, BLV1)로 구성된다. 이와 같은 구성요소를 구비하여 필터유닛(100)은 3개의 공급라인으로 분기되는데, 제 1 필터 하우징(110)으로 경유하는 제 1 공급라인(L1)과 제 2 필터 하우징(120)으로 경유하는 제 2 공급라인(L2)과 제 2 필터 하우징(120)을 경유하지 않는 바이패스라인(BL1)으로 분기되어 마련될 수 있다. 또한. 각각의 공급라인에는 필터 하우징의 약액 공급을 단속하는 제어 밸브가 마련될 수 있다.First, the filter unit 100 of the chemical liquid filtration device 1 according to an embodiment of the present invention serves to remove impurities in the chemical liquid supplied from the reactor tank T, and filter housings 110, 120, and 130 , 140, 150, 160), supply lines (L1, L2, L3, L4, L5, BL1) and valves (V1, V2, V3, V4, V5, V6, V7, V8, V9, BLV1). Equipped with these components, the filter unit 100 is branched into three supply lines, the first supply line (L1) passing through the first filter housing 110 and the first supply line (L1) passing through the second filter housing 120. 2 It may be provided by branching into a supply line (L2) and a bypass line (BL1) that does not pass through the second filter housing 120. also. Each supply line may be provided with a control valve that regulates the supply of chemical solution to the filter housing.

구체적으로 본 발명의 일 실시예에 따른 필터유닛(100)의 필터 하우징은 공급라인 상에 병렬로 배치되고 적어도 6개로 구비되며, 하우징의 부하를 체크할 수 있도록 압력계가 각각 설치되어 마련될 수 있다. 또한, 필터 하우징은 약액에 포함된 불순물을 제거하기 위해 마련된 것으로, 불순물이 포함된 파티클의 크기 또는 성분에 따라 선택적으로 카트리지를 변경할 수 있고, 사용 연한을 감안하여 사용자에 의해 수동으로 교체가 이루어질 수도 있다. 또한, 각각의 필터 하우징에는 압력계가 구비되어 필터 하우징 내의 게이지를 체크할 수 있는데, 파티클에 의해 필터가 막히게 되면 하우징 내의 압력이 올라갈 수 있게 되므로 작업자에게 가시적으로 압력 게이지를 확인할 수 있는 디스플레이가 마련된 디지털 압력계가 각각 구비될 수 있다. 이와 같이 본 발명의 필터 하우징에는 압력계가 각각 구비되어, 파티클이 흡착되어 디바이스의 고장을 미연에 방지할 수 있는 약액여과장치를 제공할 수있게 된다.Specifically, the filter housing of the filter unit 100 according to an embodiment of the present invention is arranged in parallel on the supply line and is provided in at least six pieces, and a pressure gauge may be installed on each to check the load on the housing. . In addition, the filter housing is provided to remove impurities contained in the chemical solution, and the cartridge can be selectively changed depending on the size or composition of the particles containing the impurities, and may be replaced manually by the user considering the age of use. there is. In addition, each filter housing is equipped with a pressure gauge to check the gauge within the filter housing. If the filter is clogged by particles, the pressure within the housing can rise, so a digital display is provided that allows the operator to visually check the pressure gauge. A pressure gauge may be provided for each. In this way, each filter housing of the present invention is equipped with a pressure gauge, making it possible to provide a chemical liquid filtration device that can prevent device failure by adsorbing particles.

또한, 필터 하우징에는 필터 하우징 내부 압력을 조절할 수 있는 제어밸브가 각각 마련되어, 변동하는 압력에 따라 제어 밸브의 개폐 여부가 결정될 수 있도록 구성될 수 있다.In addition, each filter housing may be provided with a control valve capable of controlling the internal pressure of the filter housing, and may be configured to determine whether to open or close the control valve according to the fluctuating pressure.

한편, 본 발명의 필터유닛(100)의 필터 하우징은 3개씩 병렬로 배치되어 구성될 수 있다. 구체적으로, 제 1 필터 하우징(110), 제 3 필터 하우징(130) 및 제 5 필터 하우징(150)은 제 1 공급라인(L1) 상에 마련될 수 있고, 제 2 필터 하우징(120), 제 4 필터 하우징(140) 및 제 6 필터 하우징(160)은 제 2 공급라인(L2) 상에 마련될 수 있다. 이와 같이 본 발명의 필터 하우징이 병렬로 배치됨으로써, 한 개의 필터 하우징이 막히거나 고장나게 되면, 고장이 안난 공급라인을 사용할 수 있게 되며, 고장을 미연에 대비할 수 있게 된다. 또한, 간단한 구조를 통해 작업자가 약액의 성분에 따라 선택적으로 공급라인을 이용할 수 있게 되는 효과를 가져올 수 있다.Meanwhile, the filter housing of the filter unit 100 of the present invention may be configured by arranging three filter housings in parallel. Specifically, the first filter housing 110, the third filter housing 130, and the fifth filter housing 150 may be provided on the first supply line (L1), and the second filter housing 120 and the fifth filter housing 150 may be provided on the first supply line (L1). The fourth filter housing 140 and the sixth filter housing 160 may be provided on the second supply line (L2). In this way, by arranging the filter housings of the present invention in parallel, if one filter housing becomes clogged or breaks down, it is possible to use a supply line that is not broken, and it is possible to prepare for a breakage in advance. In addition, the simple structure can have the effect of allowing workers to selectively use the supply line depending on the components of the chemical solution.

한편, 본 발명에서는 필터 하우징이 적어도 6개의 병렬 구조로 배치될 수 있는 것으로 한정하여 설명하였으나, 각각의 필터 하우징의 연결 구조는 변경 가능하며, 위치가 이에 한정되는 것은 아니다. 작업자가 추출하고자 하는 슬러리에 따라 또는 작업자가 임의로 필터유닛(100)의 공급라인과 필터 하우징의 위치와 구조는 선택적으로 변경 가능하다.Meanwhile, in the present invention, the description is limited to the fact that at least six filter housings can be arranged in a parallel structure, but the connection structure of each filter housing can be changed, and the position is not limited to this. The position and structure of the supply line and filter housing of the filter unit 100 can be selectively changed depending on the slurry the operator wants to extract or at the operator's discretion.

본 발명의 필터유닛(100)의 제 1 필터 하우징(110), 제 3 필터 하우징(130) 및 제 5 필터 하우징(150)은 제 1 공급라인(L1) 상에 마련될 수 있으며, 반응기 탱크(T)에서 이동된 약액이 제 1 필터 하우징(110), 제 3 필터 하우징(130) 및 제 5 필터 하우징(150)을 경유하여 제 3 공급라인(L3)과 연결되는 구성으로 이루어질 수 있다.The first filter housing 110, third filter housing 130, and fifth filter housing 150 of the filter unit 100 of the present invention may be provided on the first supply line (L1), and the reactor tank ( The chemical liquid moved from T) may be connected to the third supply line (L3) via the first filter housing 110, third filter housing 130, and fifth filter housing 150.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 제 1 공급라인(L1)에는 반응기 탱크(T)로부터 유동된 약액을 제 1 필터 하우징(110)으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 1 제어밸브(V1)가 설치되며, 제 1 필터 하우징(110)을 경유한 약액이 제 3 필터 하우징(130)을 경유하도록 계폐를 단속하는 제 3 제어밸브(V3)와 제 3 필터 하우징(130)을 경유한 약액이 제 5 필터 하우징(150)으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 5 제어밸브(V5)가 각각 설치되어 유동하는 유액의 유동량을 제어할 수 있게 된다.Meanwhile, the first supply line (L1) according to an embodiment of the present invention has a first control valve (V1) that regulates the opening and closing of the chemical liquid flowing from the reactor tank (T) to the first filter housing (110). It is installed, and a third control valve (V3) that regulates the system so that the chemical liquid passing through the first filter housing 110 passes through the third filter housing 130 and the chemical liquid passing through the third filter housing 130 are controlled by the third control valve (V3). 5 A fifth control valve (V5) is installed to control opening and closing to pass through the filter housing 150, making it possible to control the flow amount of the flowing emulsion.

본 발명의 일 실시예에 따른 제 1 필터 하우징(110)은 반응기 탱크(T)로부터 유동된 약액을 20nm 크기의 불순물을 여과하는 역할을 수행하며, 압력계가 장착되고 밸브가 구비되어 압력의 따른 게이지가 조절될 수 있다.The first filter housing 110 according to an embodiment of the present invention serves to filter impurities of 20 nm in size from the chemical liquid flowing from the reactor tank T, and is equipped with a pressure gauge and a valve to gauge the pressure. can be adjusted.

본 발명의 일 실시예에 따른 제 3 필터 하우징(130)은 제 1 필터 하우징(110)을 경유한 약액을 5nm 크기의 불순물을 여과하는 역할을 수행하며, 압력계가 장착되고 밸브가 구비되어 게이지가 조절될 수 있다. 또한, 본 발명의 제 1 공급라인(L1)에는 제 1 필터 하우징(110)과 제 3 필터 하우징(130) 사이의 제 3 제어 밸브가 장착되어, 제 1 공급라인(L1)으로 이동되는 약액의 개폐를 단속할 수 있는 구조로 마련된다.The third filter housing 130 according to an embodiment of the present invention serves to filter impurities of 5 nm in size from the chemical solution that has passed through the first filter housing 110, and is equipped with a pressure gauge and a valve to measure the gauge. It can be adjusted. In addition, the first supply line (L1) of the present invention is equipped with a third control valve between the first filter housing 110 and the third filter housing 130 to control the chemical liquid moving to the first supply line (L1). A structure is provided to control opening and closing.

본 발명의 일 실시예에 따른 제 5 필터 하우징(150)은 제 3 필터 하우징(130)을 경유한 약액을 5nm 크기의 불순물을 여과하는 역할을 수행하며, 제 1 필터 하우징(110) 및 제 2 필터 하우징(120)과 마찬가지로 압력계가 장착되고 밸브가 구비되어 게이지가 조절될 수 있다. 또한, 제 3 필터 하우징(130)과 제 5 필터 하우징(150) 사이에는 제 5 제어밸브(V5)가 설치되어 제 1 공급라인(L1)으로 이동되는 약액의 개폐를 단속할 수 있는 구조로 구성된다.The fifth filter housing 150 according to an embodiment of the present invention serves to filter impurities of 5 nm in size from the chemical solution that has passed through the third filter housing 130, and the first filter housing 110 and the second filter housing 110 Like the filter housing 120, a pressure gauge is mounted and a valve is provided so that the gauge can be adjusted. In addition, a fifth control valve (V5) is installed between the third filter housing 130 and the fifth filter housing 150 to control the opening and closing of the chemical liquid moving to the first supply line (L1). do.

본 발명의 일 실시예에 따른 제 2 공급라인(L2)은 앞서 설명한 바와 같이, 제 2 필터 하우징(120), 제 4 필터 하우징(140) 및 제 6 필터 하우징(160)이 연결되어 있고, 각각의 필터 하우징에는 압력계를 조절하는 밸브가 각각 마련될 수 있다.As described above, the second supply line (L2) according to an embodiment of the present invention is connected to the second filter housing 120, the fourth filter housing 140, and the sixth filter housing 160, respectively. Each filter housing may be provided with a valve that controls the pressure gauge.

구체적으로, 본 발명의 제 2 필터 하우징(120)은 반응기 탱크(T)로부터 이동된 약액을 여과하기 위한 것으로, 반응기 탱크(T)로부터 유동된 약액에서 금속이온을 여과하는 역할을 수행하며, 압력계가 장착되고 밸브가 구비되어 게이지가 조절될 수 있다. 또한, 펌프(P)와 제 2 필터 하우징(120) 사이에는 제 2 제어밸브(V2)가 장착되어, 후술할 바이패스라인(BL1) 또는 제 2 공급라인(L2)으로 유동되는 약액의 이동을 제어하도록 마련될 수 있다.Specifically, the second filter housing 120 of the present invention is for filtering the chemical liquid moved from the reactor tank (T), and serves to filter metal ions in the chemical liquid flowing from the reactor tank (T), and serves as a pressure gauge. is mounted and provided with a valve so that the gauge can be adjusted. In addition, a second control valve (V2) is installed between the pump (P) and the second filter housing (120) to prevent the movement of the chemical solution flowing to the bypass line (BL1) or the second supply line (L2), which will be described later. It can be arranged to control.

본 발명의 일 실시예에 따른 제 4 필터 하우징(140)은 제 2 필터 하우징(120)을 경유하였거나, 바이패스라인(BL1)을 통과한 약액에서 5nm 크기의 불순물을 여과하는 역할을 수행하며, 압력계가 장착되고 밸브가 구비되어 게이지가 조절될 수 있다. 또한, 바이패스라인(BL1)으로 유동된 약액 또는 제 2 필터 하우징(120)으로부터 여과된 약액의 이동을 단속하는 제 4 제어밸브(V4)가 설치되어 마련될 수 있다.The fourth filter housing 140 according to an embodiment of the present invention serves to filter impurities of 5 nm in size from the chemical solution that has passed through the second filter housing 120 or the bypass line BL1, A pressure gauge is mounted and a valve is provided so that the gauge can be adjusted. Additionally, a fourth control valve (V4) may be installed to control the movement of the chemical solution flowing into the bypass line (BL1) or the chemical solution filtered from the second filter housing 120.

본 발명의 일 실시예에 따른 제 6 필터 하우징(160)은 제 4 필터 하우징(140)을 경유한 약액에서 2nm 크기의 불순물을 여과하는 역할을 수행하며, 압력계가 구비되어 게이지가 조절될 수 있다. 또한, 제 4 필터 하우징(140) 및 제 6 필터 하우징(160) 사이에는 제 6 제어밸브(V6)가 설치되어 제 4 필터 하우징(140)에서 이동되는 약액의 이동을 제어하도록 마련될 수 있다.The sixth filter housing 160 according to an embodiment of the present invention serves to filter impurities of 2 nm in size from the chemical solution passing through the fourth filter housing 140, and is equipped with a pressure gauge so that the gauge can be adjusted. . Additionally, a sixth control valve V6 may be installed between the fourth filter housing 140 and the sixth filter housing 160 to control the movement of the chemical solution moving in the fourth filter housing 140.

본 발명의 일 실시예에 따른 제 2 공급라인(L2)은 제 2 필터 하우징(120)으로 분기되며, 나머지 하나는 바이패스라인(BL1)으로 구성될 수 있다. 또한, 바이패스라인(BL1) 상에는 바이패스라인밸브(BLV1)가 구비되어, 약액의 이동경로가 결정될 수 있다.The second supply line (L2) according to an embodiment of the present invention branches off to the second filter housing 120, and the remaining one may be configured as a bypass line (BL1). Additionally, a bypass line valve (BLV1) is provided on the bypass line (BL1), so that the movement path of the chemical solution can be determined.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 1 공급라인(L1), 제 2 공급라인(L2) 및 바이패스라인(BL1) 중 어느 한 개의 라인은 제 3 공급라인(L3)으로 이동되며, 제 3 공급라인(L3)에서 제 4 공급라인(L4) 또는 제 5 공급라인(L5)으로 분기될 수 있다. 또한, 제 3 공급라인(L3)을 지난 제 4 공급라인(L4) 및 제 5 공급라인(L5) 상에는 각각의 제어밸브(V7, V8, V9, V10)가 마련될 수 있다.Meanwhile, according to one embodiment of the present invention, any one of the first supply line (L1), the second supply line (L2), and the bypass line (BL1) is moved to the third supply line (L3), It may be branched from the third supply line (L3) to the fourth supply line (L4) or the fifth supply line (L5). In addition, control valves (V7, V8, V9, V10) may be provided on the fourth supply line (L4) and the fifth supply line (L5) that pass through the third supply line (L3).

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 약액여과장치(1)는 여러 차례 정제를 수행하여, 약액에 첨가된 불순물을 제거하여 슬러리를 추출할 수 있으며, 사용자가 원하는 슬러리를 추출할 수 있도록 제어밸브의 개폐를 단속하여 공급라인을 선택할 수 있게 된다. 하기에서는 본 발명의 약액여과장치(1)의 작동을 설명하도록 한다.Meanwhile, the chemical liquid filtration device 1 according to an embodiment of the present invention is capable of extracting slurry by removing impurities added to the chemical liquid by performing purification several times, and is equipped with a control valve so that the user can extract the desired slurry. By controlling the opening and closing of the supply line, it is possible to select the supply line. In the following, the operation of the chemical liquid filtration device (1) of the present invention will be described.

도 4는 본 발명의 제 1 공급라인을 통해 이동되는 약액의 공급라인을 도시한 것이고, 도 5는 본 발명의 바이패스라인을 통해 이동되는 약액의 공급라인을 도시한 것이며, 도 6은 본 발명의 제 2 공급라인을 통해 이동되는 약액의 공급라인을 도시한 것이다.Figure 4 shows the supply line of the chemical solution moving through the first supply line of the present invention, Figure 5 shows the supply line of the chemical solution moving through the bypass line of the present invention, and Figure 6 shows the supply line of the chemical solution moving through the bypass line of the present invention. It shows the supply line of the chemical solution moving through the second supply line.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 본 발명의 1 차 여과 공정은 반응기 탱크(T)에서 이동된 약액이 펌프(P)를 통해 제 1 필터 하우징(110)으로 이동하게 되며, 제 1 필터 하우징(110)을 통해 약액에 포함된 20nm 크기의 불순물이 제거될 수 있게 된다. 반응기 탱크(T)에서 이동된 약액은 바이패스라인밸브(BLV1)와 제 2 제어밸브(V2)가 잠겨있게 되어, 제 1 필터 하우징(110)으로 바로 이동할 수 있게 되는 것이다. 이후, 약액은 제 3 필터 하우징(130)으로 이동되어 5nm의 불순물이 여과된 후, 제 5 필터 하우징(150)으로 이동되어 5nm 크기의 불순물이 제거된 다음 다시 반응기 탱크(T)로 공급될 수 있다.Referring to Figures 4 to 6, in the primary filtration process of the present invention, the chemical solution moved from the reactor tank (T) moves to the first filter housing 110 through the pump (P), and the first filter housing ( 110), impurities of 20 nm in size contained in the chemical solution can be removed. The bypass line valve (BLV1) and the second control valve (V2) are locked so that the chemical liquid moved from the reactor tank (T) can move directly to the first filter housing (110). Thereafter, the chemical solution is moved to the third filter housing 130 to filter out impurities of 5 nm, and then moved to the fifth filter housing 150 to remove impurities of 5 nm in size, and then supplied back to the reactor tank (T). there is.

본 발명의 2 차 여과 공정은 1차 여과 처리된 약액은 반응기 탱크(T)에서 제 2 필터 하우징(120)으로 이동하게 되며, 금속이온이 여과된 후, 제 4 필터 하우징(140)으로 이동되어 5nm 크기의 분순물이 여과되고, 제 6 필터 하우징(160)으로 이동되어 2nm 크기의 불순물이 제거된 이후 반응기 탱크(T)로 공급될 수 있다. 2차 여과 공정을 수행하기 위해, 제 1 제어밸브(V1)와 바이패스라인밸브(BLV1)가 닫혀있게 되어, 약액이 바로 제 2 필터 하우징(120)으로 이동될 수 있게 되는 것이다.In the secondary filtration process of the present invention, the chemical solution that has undergone primary filtration is moved from the reactor tank (T) to the second filter housing 120, and after the metal ions are filtered, it is moved to the fourth filter housing 140. Impurities with a size of 5 nm are filtered, moved to the sixth filter housing 160, and impurities with a size of 2 nm are removed and then supplied to the reactor tank (T). In order to perform the secondary filtration process, the first control valve (V1) and the bypass line valve (BLV1) are closed, so that the chemical solution can be moved directly to the second filter housing (120).

본 발명의 3차 여과 공정은 2 차 여과 처리된 약액은 펌프(P)를 통해 제 4 필터 하우징(140)으로 이동되는데, 제 1 제어밸브(V1)와 제 2 제어밸브(V2)가 닫혀있어 제 2 필터 하우징(120)을 경유하지 않고 곧장 제 4 필터 하우징(140)으로 이동될 수 있다. 2차 여과 공정과 마찬가지로 제 4 필터 하우징(140)에서는 5nm 크기의 불순물이 제거된 다음, 6 필터 하우징으로 이동되어 2nm 크기의 불순물이 제거될 수 있게 된다.In the third filtration process of the present invention, the secondary filtration treated chemical solution is moved to the fourth filter housing 140 through the pump (P), and the first control valve (V1) and the second control valve (V2) are closed. It can be moved directly to the fourth filter housing 140 without passing through the second filter housing 120. Like the secondary filtration process, impurities of 5 nm in size are removed from the fourth filter housing 140 and then moved to the sixth filter housing, where impurities of 2 nm in size can be removed.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면 샘플링 라인은 필터유닛(100)을 경유하여, 불순물이 제거된 슬러리를 추출하는 것이다. 구체적으로, 3차 여과 처리된 약액은 제 5 공급라인(L5)으로 이동되고 슬러리 추출포트(Port)를 이용하여, 불순물이 잔여되어 있는지, 반도체로 사용할 수 있는 적합한 슬러리인지 추출하여 확인할 수 있게 된다. 또한, 제 3 공급라인(L3)으로 이동된 약액은 제 4 공급라인(L4)을 이용하여 반응기 탱크(T)로 순환하여 재순환될 수 있게 된다.Additionally, according to one embodiment of the present invention, the sampling line extracts the slurry from which impurities have been removed via the filter unit 100. Specifically, the chemical solution that has undergone third filtration is moved to the fifth supply line (L5), and using the slurry extraction port, it can be extracted and checked to see whether any impurities remain and whether the slurry is suitable for use as a semiconductor. . In addition, the chemical solution moved to the third supply line (L3) can be recycled by circulating to the reactor tank (T) using the fourth supply line (L4).

이와 같이, 본 발명의 약액여과장치(1)를 통해 반응기 탱크(T)로부터 이동된 약액이 3번의 여과의 공정을 설명하였으나, 실시하기에 따라 작업자가 수차례 여과를 진행할 수도 있으며, 적합한 슬러리를 추출하기 위해 공급라인을 선택적으로 이용할 수도 있게 된다. 또한, 3번의 여과 과정을 통해 상대적으로 불순물이 많이 포함되지 않은 슬러리를 제공할 수 있게 된다. 나아가, 슬러리의 용액 도포 공정의 신뢰성을 높이는 효과와 더블어 웨이퍼 표면의 패턴 불량의 확률이 낮아지게 되어, 제품의 완성도와 신뢰성을 향상시킬 수 있게 된다.In this way, the process of filtering the chemical liquid moved from the reactor tank (T) through the chemical liquid filtration device (1) of the present invention has been described three times, but depending on the implementation, the operator may proceed with filtration several times, and a suitable slurry can be prepared. It is also possible to selectively use the supply line for extraction. In addition, through three filtration processes, it is possible to provide a slurry that does not contain relatively many impurities. Furthermore, it has the effect of increasing the reliability of the slurry solution application process and lowers the probability of pattern defects on the wafer surface, thereby improving the completeness and reliability of the product.

한편 도 1 내지 도 3를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 본 발명의 약액여과장치(1)를 이용할 수 있는 작업대(200)와 작업대(200)를 이동시킬 수 있는 바퀴를 포함하여 이루어질 수 있다.Meanwhile, referring to Figures 1 to 3, according to an embodiment of the present invention, it includes a work table 200 that can use the chemical liquid filtration device 1 of the present invention and wheels that can move the work table 200. It can be done.

본 발명의 작업대(200)는 복수개의 프레임이 상호 연결되어 박스 형상을 이루도록 구성되며, 내측으로 설치공간이 형성되어 구성될 수 있으며, 작업대(200)의 하단으로 복수개의 바퀴가 구비되어, 이동하고자 하는 장소로 필터유닛(100)을 편리하게 이동가능하도록 마련될 수 있다. 또한, 약액여과장치(1)의 전면에는 내측의 설치공간을 개폐할 수 있는 문이 구비될 수 있다.The workbench 200 of the present invention is configured to form a box shape by interconnecting a plurality of frames, and can be configured with an installation space formed on the inside. A plurality of wheels are provided at the bottom of the workbench 200 to enable movement. It can be provided so that the filter unit 100 can be conveniently moved to a location. Additionally, a door that can open and close the inner installation space may be provided on the front of the chemical liquid filtration device (1).

이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템의 여과장치(1)는 이동수단을 통해 사용하고자 하는 장소로 편리하게 이동할 수 있게 되고, 문이 구비되어 작업자가 손쉽게 필터 하우징을 교체할 수 있는 효과를 구현할 수 있게 된다.In this way, the filtration device 1 of the EUV photoresist polymer filtering system according to an embodiment of the present invention can be conveniently moved to the desired location through a moving means, and is provided with a door so that the operator can easily open the filter housing. It becomes possible to implement interchangeable effects.

본 발명은 앞서 설명된 실시예 외에도, 상기 실시예와 공지기술의 조합에 의해 발생하는 실시예들을 모두 포괄한다.In addition to the embodiments described above, the present invention encompasses all embodiments resulting from a combination of the above embodiments and known technologies.

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다.Although the present invention has been described in detail through specific examples, this is for the purpose of specifically explaining the present invention, and the present invention is not limited thereto, and can be understood by those skilled in the art within the technical spirit of the present invention. It would be clear that modifications and improvements are possible.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.All simple modifications or changes of the present invention fall within the scope of the present invention, and the specific scope of protection of the present invention will be made clear by the appended claims.

1: 약액여과장치 100: 필터유닛
110: 제 1 필터 하우징 120: 제 2 필터 하우징
130: 제 3 필터 하우징 140: 제 4 필터 하우징
150: 제 5 필터 하우징 160: 제 6 필터 하우징
200: 작업대 300: 이동수단
L1: 제 1 공급라인 L2: 제 2 공급라인
L3: 제 3 공급라인 L4: 제 4 공급라인
L5: 제 5 공급라인 V1: 제 1 제어밸브
V2: 제 2 제어밸브 V3: 제 3 제어밸브
V4: 제 4 제어밸브 V5: 제 5 제어밸브
V6: 제 6 제어밸브 V7: 제 7 제어밸브
V8: 제 8 제어밸브 V9: 제 9 제어밸브
V10: 제 10 제어밸브 BL1: 바이패스라인
BLV1: 바이패스라인밸브 T: 반응기 탱크
P: 펌프 Port: 슬러리 추출포트1: Chemical filtration device 100: Filter unit
110: first filter housing 120: second filter housing
130: third filter housing 140: fourth filter housing
150: Fifth filter housing 160: Sixth filter housing
200: workbench 300: means of transportation
L1: 1st supply line L2: 2nd supply line
L3: Third supply line L4: Fourth supply line
L5: 5th supply line V1: 1st control valve
V2: Second control valve V3: Third control valve
V4: 4th control valve V5: 5th control valve
V6: 6th control valve V7: 7th control valve
V8: 8th control valve V9: 9th control valve
V10: 10th control valve BL1: bypass line
BLV1: Bypass line valve T: Reactor tank
P: Pump Port: Slurry extraction port

Claims (7)

반응기탱크에서 공급되는 약액의 불순물을 제거하고 적어도 3개의 공급라인을 구비하는 필터유닛,
상기 필터유닛을 고정하고 복수개의 이동수단으로 구비된 작업대, 및
상기 필터유닛을 경유한 불순물이 제거된 슬러리를 추출하는 샘플링 라인을 포함하며,
상기 복수개의 이동수단을 통해 이동이 가능하고,
상기 필터유닛은,
6개로 구비되고 3개씩 병렬로 배치되며, 압력계가 각각 구비된 필터 하우징,
상기 필터 하우징에 연결되어, 3개의 유로로 형성된 공급라인, 및
상기 유로를 선택적으로 개폐하는 밸브를 포함하고,
상기 필터유닛은,
반응기 탱크로부터 유동된 약액을 20nm 크기의 불순물을 여과하는 제 1 필터 하우징,
상기 제 1 필터 하우징을 경유한 약액을 5nm 크기의 불순물을 여과하는 제 3 필터 하우징, 및
상기 제 3 필터 하우징을 경유한 약액을 5nm 크기의 불순물을 여과하는 제 5 필터 하우징으로 구비되는 제 1 공급라인을 포함하고,
상기 반응기 탱크로부터 유동된 약액에서 금속이온을 여과하는 제 2 필터 하우징,
상기 제 2 필터 하우징을 경유한 약액을 5nm 크기의 불순물을 여과하는 제 4 필터 하우징, 및
상기 제 4 필터 하우징을 경유한 약액을 2nm 크기의 불순물을 여과하는 제 6 필터 하우징으로 구비되는 제 2 공급라인을 포함하고,
상기 제 2 필터 하우징을 경유하지 않고 제 4 필터하우징으로 경유하는 바이패스라인을 포함하고,
상기 반응기탱크에서 공급되는 약액은 상기 제 1 공급라인을 통해 1차 여과 처리되어 상기 반응기탱크로 공급되고, 1차 여과 처리된 약액은 상기 제 2 공급라인을 통해 2차 여과 처리되어 상기 반응기탱크로 공급되고, 2차 여과 처리된 약액은 상기 바이패스라인을 통해 3차 여과 처리되는 EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템.A filter unit that removes impurities from the chemical solution supplied from the reactor tank and has at least three supply lines,
A workbench that fixes the filter unit and is equipped with a plurality of moving means, and
It includes a sampling line for extracting the slurry from which impurities have been removed after passing through the filter unit,
Movement is possible through the plurality of means of movement,
The filter unit is,
There are six filter housings, three arranged in parallel, each equipped with a pressure gauge;
A supply line connected to the filter housing and formed into three channels, and
Includes a valve that selectively opens and closes the flow path,
The filter unit is,
A first filter housing that filters impurities of 20 nm in size from the chemical solution flowing from the reactor tank,
a third filter housing that filters impurities of 5 nm in size from the chemical solution that has passed through the first filter housing, and
It includes a first supply line provided to a fifth filter housing that filters impurities of 5 nm in size from the chemical solution that has passed through the third filter housing,
a second filter housing that filters metal ions from the chemical solution flowing from the reactor tank;
a fourth filter housing that filters impurities of 5 nm in size from the chemical solution that has passed through the second filter housing, and
It includes a second supply line provided to a sixth filter housing that filters impurities of 2 nm in size from the chemical solution that has passed through the fourth filter housing,
It includes a bypass line that passes through the fourth filter housing without passing through the second filter housing,
The chemical solution supplied from the reactor tank is first filtered through the first supply line and supplied to the reactor tank, and the primary filtered chemical solution is secondarily filtered through the second supply line and supplied to the reactor tank. An EUV photoresist polymer filtering system in which the supplied chemical solution that has undergone secondary filtration is subjected to tertiary filtration through the bypass line. 삭제delete 삭제delete 제1항에있어서,
상기 제 1 공급라인은,
상기 반응기 탱크로부터 유동된 약액이 제 1 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 1 제어밸브,
상기 제 1 필터 하우징을 경유한 약액이 제 3 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 3 제어밸브,
제 3 필터 하우징을 경유한 약액이 제 5 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 5 제어밸브를 포함하고,
상기 제 2 공급라인은,
상기 반응기 탱크로부터 유동된 약액이 제 2 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 2 제어밸브,
상기 제 2 필터 하우징을 경유한 약액이 제 4 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 4 제어밸브, 및
상기 제 4 필터 하우징을 경유한 약액이 제 6 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 5 제어밸브를 포함하고,
상기 바이패스라인은,
상기 반응기 탱크에서 유동된 약액을 제 4 필터 하우징으로 경유하도록 개폐를 단속하는 바이패스라인밸브를 포함하는 EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템.According to paragraph 1,
The first supply line is,
A first control valve that controls opening and closing so that the chemical liquid flowing from the reactor tank passes through the first filter housing,
A third control valve that controls opening and closing so that the chemical liquid passing through the first filter housing passes through the third filter housing,
It includes a fifth control valve that controls opening and closing so that the chemical liquid passing through the third filter housing passes through the fifth filter housing,
The second supply line is,
A second control valve that controls opening and closing so that the chemical liquid flowing from the reactor tank passes through the second filter housing,
A fourth control valve that regulates opening and closing so that the chemical liquid passing through the second filter housing passes through the fourth filter housing, and
It includes a fifth control valve that controls opening and closing so that the chemical liquid passing through the fourth filter housing passes through the sixth filter housing,
The bypass line is,
An EUV photoresist polymer filtering system including a bypass line valve that controls opening and closing so that the chemical solution flowing from the reactor tank passes through the fourth filter housing. 제1항에 있어서,
상기 필터유닛은 제 3 공급라인을 더 포함하고,
상기 제 1 공급라인을 경유한 약액이 상기 제 3 공급라인으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 7 제어밸브를 더 포함하고,
상기 제 2 공급라인 또는 상기 바이패스라인을 경유한 약액이 상기 제 3 공급라인으로 경유하도록 개폐를 단속하는 제 8 제어밸브를 더 포함하는 EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템.According to paragraph 1,
The filter unit further includes a third supply line,
It further includes a seventh control valve that controls opening and closing so that the chemical liquid passing through the first supply line passes through the third supply line,
The EUV photoresist polymer filtering system further includes an eighth control valve that regulates opening and closing so that the chemical solution passing through the second supply line or the bypass line passes through the third supply line. 제5항에 있어서,
상기 필터유닛은,
상기 제 3 공급라인을 경유한 약액이 반응기 탱크로 이동하도록 마련된 제 4 공급라인을 더 포함하고,
상기 제 3 공급라인을 경유한 약액에서 슬러리를 추출하여 검사하기 위한 제 5 공급라인을 더 포함하는, EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템.According to clause 5,
The filter unit is,
It further includes a fourth supply line provided to move the chemical solution via the third supply line to the reactor tank,
The EUV photoresist polymer filtering system further includes a fifth supply line for extracting and inspecting slurry from the chemical solution via the third supply line. 제 1항에 있어서,
상기 작업대는 복수 개의 프레임이 상호 연결로 내측에 설치 공간을 이루는 박스 형상으로 구성되는, EUV 포토 레지스트 폴리머 필터링시스템.According to clause 1,
The workbench is a box-shaped EUV photoresist polymer filtering system in which a plurality of frames are interconnected to form an installation space on the inside.
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