KR102625990B1 - 에틸렌계 플라스토머 및 엘라스토머를 생산하기 위한화학적으로-처리된 고체 산화물을 포함하는 메탈로센 촉매 시스템 - Google Patents
에틸렌계 플라스토머 및 엘라스토머를 생산하기 위한화학적으로-처리된 고체 산화물을 포함하는 메탈로센 촉매 시스템 Download PDFInfo
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Abstract
밀도가 0.91 g/cm3 미만인 에틸렌계 플라스토머 및 엘라스토머를 생산하기 위한 중합 공정은 화학적으로-처리된 고체 산화물을 포함하는 메탈로센계 촉매 시스템을 사용한다. 이들 중합 공정은 슬러리 반응기, 용액 반응기 및/또는 기상 반응기에서 수행될 수 있다. 중합 공정에서 제조된 에틸렌 중합체는 0.91 g/cm3 미만의 밀도, 0.2 미만의 CY-a 파라미터 및 30 이상의 HLMI/MI 비 또는 0.91 g/cm3 미만의 밀도, 0.25~0.75 CY-a 파라미터, 2~3 Mw/Mn 비를 특징으로 할 수 있다.
Description
본 발명은 에틸렌계 플라스토머 및 엘라스토머를 제조하기 위한 중합 공정에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 이러한 에틸렌계 플라스토머 및 엘라스토머를 제조하기 위해 화학적으로-처리된 고체 산화물을 포함하는 메탈로센 촉매 시스템을 사용하는 슬러리, 용액 및 기상 중합 공정에 관한 것이다.
에틸렌계 공중합체는 촉매 시스템과 중합 공정의 다양한 조합을 사용하여 생산할 수 있다. 일부 최종 용도 응용 분야에서는 공중합체가 0.91 g/cc 미만, 0.90 g/cc 미만, 0.89 g/cc 미만 등의 매우 낮은 밀도를 갖는 것이 바람직하며 이러한 공중합체는 플라스토머 및/또는 엘라스토머로 종종 언급된다. Ziegler-Natta 촉매 시스템은 플라스토머 및 엘라스토머를 생산할 수 있지만 메탈로센계 촉매 시스템은 이러한 저밀도 에틸렌 공중합체의 많은 중요한 물리적 특성에서 이점을 제공할 수 있다. 따라서, 본 발명은 일반적으로 에틸렌계 플라스토머 및 엘라스토머를 제조하기 위한 다양한 중합 공정에서의 메탈로센계 촉매 시스템의 용도에 관한 것이다.
발명의 요약
이 요약은 아래의 상세한 설명에서 추가로 설명되는 단순화된 형태로 개념의 선택을 소개하기 위해 제공된다. 이 요약은 청구된 주제의 요구되는 또는 필수덕 특징을 식별하기 위한 것이 아니다. 이 요약은 청구된 주제의 범위를 제한하기 위해 사용하려는 의도도 아니다.
에틸렌계 플라스토머 및 엘라스토머를 생산하기 위한 중합 공정이 본원에 개시 및 기재되어 있다. 일 측면에서, 예를 들어 밀도가 약 0.91 g/cm3 이하인 에틸렌 중합체를 제조하기 위한 슬러리 중합 공정이 개시되며, 이 측면에서 공정은 촉매 조성물을 약 50℃ 내지 약 78℃ 범위의 중합 온도에서 슬러리 반응기에서 희석제 중의 에틸렌 및 α-올레핀 공단량체와 접촉시켜 에틸렌 중합체를 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로-처리된 고체 산화물 및 임의로 조촉매를 포함할 수 있다. 메탈로센 화합물은 단일 원자 가교 또는 2원자 가교(2원자 사슬) 메탈로센 화합물일 수 있고, 메탈로센 화합물은 중합 온도에서 적어도 약 1%의 공단량체 혼입 효율을 특징으로 할 수 있다(α-올레핀 공단량체의 경우).
또 다른 측면에서, 밀도가 약 0.91 g/cm3 이하인 에틸렌 중합체를 제조하기 위한 용액 중합 공정이 제공되며, 이 측면에서 공정은 촉매 조성물을 에틸렌 및 α-올레핀공단량체와, 약 120℃ 내지 약 160℃ 범위의 중합 온도(종종, 약 5 내지 약 90분 범위의 평균 체류 시간 동안)에서 용액 반응기 내의 탄화수소 용매 중에서 접촉시켜 에틸렌 중합체를 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로-처리된 고체 산화물 및 선택적으로 조촉매를 포함할 수 있고, 메탈로센 화합물은 중합 온도에서 약 10% 이상의 공단량체 혼입 효율을 특징으로 할 수 있다.
또 다른 측면에서, 약 0.91 g/cm3 이하의 밀도를 갖는 에틸렌 중합체를 제조하기 위한 기상 중합 공정이 제공되며, 이러한 측면에서 공정은 촉매 조성물을, 약 48℃ 내지 약 82℃ 범위의 중합 온도에서 불활성 기체 및 C4-C8 알칸(축합제)을 함유하는 기상 반응기에서 에틸렌 및 α-올레핀 공단량체와 접촉시켜 에틸렌 중합체를 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로-처리된 고체 산화물 및 임의로 조촉매를 포함할 수 있다. 기상 반응기에서, 증기압에 대한 중질 탄화수소 분압의 비(P/P*의 비)은 약 0.95 이하일 수 있다.
본 발명은 또한 에틸렌계 플라스토머 및 엘라스토머를 포함한다. 일부 측면에서, 에틸렌 중합체는 약 0.91 g/cm3 이하의 밀도, 약 0.2 이하의 CY-a 파라미터, 및 적어도 약 30의 HLMI/MI를 특징으로 할 수 있고, 다른 측면에서 에틸렌 중합체는 약 0.91 g/cm3 이하의 밀도, 약 0.25 내지 약 0.75 범위의 CY-a 파라미터, 및 약 2에서 약 3 사이의 범위의 Mw/Mn의 비를 특징으로 할 수 있다.
전술한 요약 및 다음의 상세한 설명은 모두 예를 제공하며 설명을 위한 것일 뿐이다. 따라서, 전술한 요약 및 이하의 상세한 설명은 제한적인 것으로 간주되어서는 안 된다. 또한, 본 명세서에 기재된 것 외에 특징 또는 변형이 제공될 수 있다. 예를 들어, 특정 측면 및 실시양태는 상세한 설명에 기재된 다양한 특징 조합 및 하위 조합에 관한 것일 수 있다.
도 1은 상이한 촉매 시스템에 대한 1-헥센 혼입으로 인한 중합체 밀도 감소의 플롯을 나타낸다.
도 2는 메탈로센 촉매 시스템에 대한 1-헥센 혼입으로 인한 중합체 밀도 감소의 플롯을 나타낸다.
도 3은 총 탄소 원자 1000개당 단쇄 분지 대 중합체 밀도의 플롯을 나타낸다.
도 4는 상이한 공단량체 유형에 대한 중합체 밀도 대 몰 공단량체 함량의 감소 플롯을 나타낸다.
도 5는 상이한 촉매 시스템에 대한 중합체 밀도 대 몰 반응기 공단량체 농도의 플롯을 나타낸다.
도 6은 중합체 내의 1-헥센:에틸렌 몰비 대 반응기 내의 1-헥센:에틸렌 몰비의 플롯을 나타내며, 여기서 선의 기울기는 상이한 촉매 시스템에 대한 공단량체 혼입 효율을 결정한다.
도 7은 Ziegler 촉매 시스템에 대한 에틸렌 공중합체 밀도 대 공단량체 함량의 플롯을 나타낸다.
도 8은 중합체 내의 1-헥센:에틸렌 몰비 대 반응기 내의 1-헥센:에틸렌 몰비의 플롯을 나타내며, 여기서 선의 기울기는 상이한 촉매 시스템에 대한 공단량체 혼입 효율을 결정한다.
도 9는 상이한 촉매 시스템에 대한 1-헥센 혼입으로 인한 중합체 밀도 감소의 플롯을 나타내고 1 용융 지수로 보정된다.
도 10은 기상 반응기 온도 및 중합체 DSC 융점 대 중합체 밀도의 플롯을 나타낸다.
도 11은 상이한 촉매 시스템에 대한 에틸렌 공중합체 밀도 대 몰 공단량체 함량의 플롯을 나타낸다.
도 12는 상이한 촉매 시스템에 대한 에틸렌 공중합체 밀도 대 반응기 공단량체 함량의 플롯을 나타낸다.
도 13는 상이한 촉매 시스템에 대한 에틸렌 공중합체 밀도 대 몰 반응기 공단량체 함량의 플롯을 나타낸다.
도 14는 상이한 밀도 공중합체에 대한 P/P*의 비에 대한 탄화수소의 중합체 수착의 플롯을 제시한다.
도 15는 상이한 촉매 시스템에 대한 반응기 에틸렌 몰 농도 대 공중합체 밀도의 플롯을 나타낸다.
도 16은 상이한 촉매 시스템에 대한 중합체 생산율 대 공중합체 밀도의 플롯을 나타낸다.
도 2는 메탈로센 촉매 시스템에 대한 1-헥센 혼입으로 인한 중합체 밀도 감소의 플롯을 나타낸다.
도 3은 총 탄소 원자 1000개당 단쇄 분지 대 중합체 밀도의 플롯을 나타낸다.
도 4는 상이한 공단량체 유형에 대한 중합체 밀도 대 몰 공단량체 함량의 감소 플롯을 나타낸다.
도 5는 상이한 촉매 시스템에 대한 중합체 밀도 대 몰 반응기 공단량체 농도의 플롯을 나타낸다.
도 6은 중합체 내의 1-헥센:에틸렌 몰비 대 반응기 내의 1-헥센:에틸렌 몰비의 플롯을 나타내며, 여기서 선의 기울기는 상이한 촉매 시스템에 대한 공단량체 혼입 효율을 결정한다.
도 7은 Ziegler 촉매 시스템에 대한 에틸렌 공중합체 밀도 대 공단량체 함량의 플롯을 나타낸다.
도 8은 중합체 내의 1-헥센:에틸렌 몰비 대 반응기 내의 1-헥센:에틸렌 몰비의 플롯을 나타내며, 여기서 선의 기울기는 상이한 촉매 시스템에 대한 공단량체 혼입 효율을 결정한다.
도 9는 상이한 촉매 시스템에 대한 1-헥센 혼입으로 인한 중합체 밀도 감소의 플롯을 나타내고 1 용융 지수로 보정된다.
도 10은 기상 반응기 온도 및 중합체 DSC 융점 대 중합체 밀도의 플롯을 나타낸다.
도 11은 상이한 촉매 시스템에 대한 에틸렌 공중합체 밀도 대 몰 공단량체 함량의 플롯을 나타낸다.
도 12는 상이한 촉매 시스템에 대한 에틸렌 공중합체 밀도 대 반응기 공단량체 함량의 플롯을 나타낸다.
도 13는 상이한 촉매 시스템에 대한 에틸렌 공중합체 밀도 대 몰 반응기 공단량체 함량의 플롯을 나타낸다.
도 14는 상이한 밀도 공중합체에 대한 P/P*의 비에 대한 탄화수소의 중합체 수착의 플롯을 제시한다.
도 15는 상이한 촉매 시스템에 대한 반응기 에틸렌 몰 농도 대 공중합체 밀도의 플롯을 나타낸다.
도 16은 상이한 촉매 시스템에 대한 중합체 생산율 대 공중합체 밀도의 플롯을 나타낸다.
정의
본원에서 사용된 용어들을 보다 명확하게 정의하기 위하여, 하기 정의가 제공된다. 달리 나타내지 않는 한, 하기 정의는 본 개시내용에 적용 가능하다. 만일 용어가 본 개시내용에서 사용되었으나 본원에서 구체적으로 정의 되지 않은 경우, 그 정의가 본원에 적용된 임의의 다른 개시내용 또는 정의와 상충하지 않거나, 그 정의가 적용 된 임의의 청구항을 불명확하게 하거나 불가능하게 하지 않는 한, IUPAC Compendium of Chemical Terminology, 2nd Ed (1997)으로부터의 정의가 적용될 수 있다. 본원에 참고로 포함된 임의의 문헌에 의해 제공된 임의의 정의 또는 용법이 본원에 제공된 정의 또는 용법과 상충하는 경우, 본원에 제공된 정의 또는 용법이 우선한다.
본원에서, 대상의 특징은 특정 측면 내에서 상이한 특징들의 조합이 구상될 수 있도록 기술된다. 본원에 개시된 각각의 모든 측면 및/또는 특징에 대해, 본원에 기술된 설계, 조성물, 공정, 및/또는 방법에 불리한 영향을 미치지 않는 모든 조합이 특정 조합의 명시적 설명과 함께 또는 이러한 설명 없이 고려된다. 추가적으로, 달리 명시적으로 언급되지 않는 한, 본원에 개시된 임의의 측면 및/또는 특징은 본 개시 내용과 일치하는 독창적인 특징을 기술하기 위해 조합될 수 있다.
조성물 및 방법은 다양한 성분들 또는 단계들을 "포함하는" 측면에서 본원에 기술되어 있으나, 상기 조성물 및 방법은 달리 기재되지 않는 한, 다양한 성분들 또는 단계들로 "본질적으로 이루어질" 수 있거나 이로 "이루어질" 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 측면와 일치하는 촉매 조성물은 가교되지 않은 메탈로센 화합물, 활성화제, 및 조촉매를 포함할 수 있거나; 대안적으로, 이들로 본질적으로 이루어질 수 있거나; 또는 대안적으로, 이들로 이루어질 수 있다.
용어 "a", "an", "the" 등은 달리 구체화되지 않는 한, 복수의 대안들, 예를 들어, 적어도 하나를 포함하는 것이 의도된다. 예를 들어, "화학적으로-처리된 고체 산화물" 또는 "메탈로센 화합물" 또는 "공단량체"의 개시는 달리 구체화되지 않는 한, 화학적으로-처리된 고체 산화물 또는 메탈로센 화합물 또는 공단량체 중 하나, 또는 둘 이상의 혼합물 또는 조합 각각을 포함하는 것을 의미한다.
일반적으로, Chemical and Engineering News, 63(5), 27, 1985에 공개된 원소 주기율표의 판(version)에 나타낸 번호부여 방식을 사용하여 원소들의 족들을 나타낸다. 일부 경우들에 있어서, 원소들의 족은 족에 지정된 일반명; 예를 들어, 1족 원소에 대해 알칼리 금속, 2족 원소에 대해 알칼리 토금속, 3족 내지 12족 원소에 대해 전이 금속, 및 17족 원소에 대해 할로겐 또는 할로겐화물을 사용하여 나타낼 수 있다.
본원에 개시된 임의의 특정 화합물에 대해, 제시된 일반 구조 또는 명칭은 또한 달리 나타내지 않는 한, 특정 세트의 치환기들로부터 발생할 수 있는 모든 구조 이성질체, 형태 이성질체, 및 입체 이성질체를 포함하는 것으로 의도된다. 따라서, 화합물에 대한 일반적인 지칭은 달리 명시적으로 나타내지 않는 한 모든 구조 이성질체를 포함하며; 예를 들어, 펜탄에 대한 일반적인 지칭에는 n-펜탄, 2-메틸-부탄, 및 2,2-디메틸프로판이 포함되는 반면, 부틸기에 대한 일반적인 지칭에는 n-부틸기, sec-부틸기, 이소-부틸기, 및 tert-부틸기가 포함된다. 추가적으로, 일반적인 구조 또는 명칭에 대한 지칭은 문맥이 허용하거나 요구하는 바에 따라, 모든 거울상 이성질체, 부분입체 이성질체, 및 거울상 이성질체 형태 또는 라세미 형태의 기타 광학 이성질체뿐만 아니라 입 체 이성질체의 혼합물을 포함한다. 제시된 임의의 특정 식 또는 명칭의 경우, 제시된 임의의 일반식 또는 명칭은 또한 특정 세트의 치환기들로부터 발생할 수 있는 모든 형태 이성질체, 위치 이성질체, 및 입체 이성질체를 포함한다.
예를 들어, 특정 기의 치환된 유사체 지칭 시, 기를 기술하기 위해 사용되는 용어 "치환된"은 해당 기에서 수소를 공식적으로 대체하는 임의의 비-수소 모이어티를 기술하는 것으로 의도되며 비제한적인 것으로 의도된다. 기 또는 기들은 또한 본원에서 "치환되지 않은" 또는 "비치환된"과 같은 등가 용어로서 지칭될 수 있으며, 이는 비 -수소 모이어티가 해당 기 내의 수소를 대체하지 않는 본래의 기를 지칭한다. 달리 구체화되지 않는 한, "치환된"은 비제한적인 것으로 의도되며 통상의 기술자가 이해하는 바와 같은 무기 치환기 또는 유기 치환기를 포함한다.
용어 "탄화수소"는 본 명세서 및 청구범위에서 사용될 시 탄소 및 수소만을 함유하는 화합물을 지칭한다. 탄화 수소 내 특정 기의 존재를 나타내기 위해 다른 식별자를 사용할 수 있다(예를 들어, 할로겐화 탄화수소는 탄화 수소에서 당량수의 수소 원자를 대체하는 하나 이상의 할로겐 원자의 존재를 나타냄). 용어 "하이드로카빌기"는 IUPAC에 의해 구체화된 정의: 탄화수소로부터 수소 원자를 제거함으로써 형성된 1가 기(univalent group)(즉, 탄소 및 수소만을 함유하는 기)에 따라 본원에서 사용된다. 하이드로카빌기의 비제한적 예는 다른 기들 중 알킬 기, 알케닐기, 아릴기, 및 아르알킬기를 포함한다.
용어 "중합체"는 본원에서 올레핀 단독중합체, 공중합체, 삼원공중합체 등뿐만 아니라 이들의 합금 및 블렌드를 포함하는 것으로 포괄적으로 사용된다. 용어 "중합체"는 또한 충격(impact) 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체, 랜덤 공중합체, 및 교대 공중합체를 포함한다. 공중합체는 올레핀 단량체 및 한 개의 올레핀 공단량체로부터 유도되는 반면, 삼원공중합체는 올레핀 단량체 및 두 개의 올레핀 공단량체로부터 유도된다. 따라서, "중합체"는 에틸렌 및 본원에 개시된 임의의 공단량체(들)로부터 유도된 공중합체 및 삼원공중합체를 포함한다. 유사하게, 용어 "중합"의 범위는 공중합, 및 삼원공중합을 포함한다. 따라서, 에틸렌 중합체는 에틸렌 단독중합체, 에틸렌 공중합체(예를 들어, 에틸렌/α-올레핀 공중합체), 에틸렌 삼원공중합체 등뿐만 아니라 이들의 블렌드 또는 혼합물을 포함한다. 따라서, 에틸렌 중합체는 기술분야에서 종종 ULDPE(초저밀도 폴리에틸렌) 및 VLDPE(초저밀도 폴리에틸렌)로서 지칭되는 중합체를 포함한다. 예로서, 에틸렌 공중합체는 에틸렌 및 공단량체, 예컨대, 1-부텐, 1-헥센, 또는 1-옥텐으로부터 유도될 수 있다. 상기 단량체 및 공단량체가 각각 에틸렌 및 1-헥센인 경우, 생성되는 중합체는 에틸렌/1-헥센 공중합체로 분류될 수 있다. 용어 "중합체"는 또한 달리 기재되지 않는 한, 모든 가능한 기하학적 배열을 포함하며, 이러한 배열은 이소택틱, 신디오택틱, 및 랜덤 대칭을 포함할 수 있다. 더욱이, 달리 기재되지 않는 한, 용어 "중합체"는 또한 모든 분자량의 중합체를 포함하는 것을 의미하며, 저분자량 중합체를 포함한다.
용어 "조촉매"는 일반적으로 본원에서, 예를 들어, 화학적으로-처리된 고체 산화물에 더하여 사용될 때, 촉매 조성물의 한 성분을 구성할 수 있는 화합물, 예컨대, 알루미녹산 화합물, 유기붕소 또는 유기붕산염 화합물, 이온화 이온성 화합물(ionizing ionic compound), 유기알루미늄 화합물, 유기아연 화합물, 유기마그네슘 화합물, 유기리튬 화합물 등을 지칭하기 위해 사용된다. 용어 "조촉매"는 상기 화합물의 실제 기능 또는 상기 화합물이 작동할 수 있는 임의의 화학적 메커니즘에 관계없이 사용된다.
용어 "화학적으로-처리된 고체 산화물" 등은 본원에서 루이스 산성 또는 브뢴스 테드 산성 거동을 나타낼 수 있고, 전자-흡인성(electron-withdrawing) 성분, 전형적으로 음이온으로 처리되어 하소되는, 비교적 높은 다공성의 고체 무기 산화물을 나타내기 위해 사용된다. 상기 전자-흡인성 성분은 전형적으로 전자-흡인성 음이온 소스(source) 화합물이다. 따라서, 상기 화학적으로-처리된 고체 산화물은 적어도 하 나의 고체 산화물과 적어도 하나의 전자-흡인성 음이온 소스 화합물의 하소된 접촉 생성물을 포함할 수 있다. 전형적으로, 상기 화학적으로-처리된 고체 산화물은 적어도 하나의 산성 고체 산화물 화합물을 포함한다. 화학적으로-처리된 고체 산화물은 "활성화제"로 작용할 수 있고, 이는 일반적으로 메탈로센 성분을 올레핀을 중합 할 수 있는 촉매로 변환하거나, 메탈로센 화합물이 아직 활성화 가능한 리간드(예를 들어, 알킬, 하이드라이드)를 포함하지 않은 경우, 메탈로센 성분 및 상기 메탈로센에 이러한 리간드를 제공하는 성분의 접촉 생성물을 올레핀을 중합할 수 있는 촉매로 변환할 수 있는 물질을 지칭한다. 상기 용어는 실제 활성화 메커니즘과 관계없이 사용된다. 촉매 조성물이 화학적으로-처리된 고체 산화물(활성화제)을 함유하는 경우, 알루미녹산, 유기붕소 또는 유기붕산염, 및 이온화 이온성 물질은 존재시 전형적으로 조촉매로서 지칭된다.
본원에 사용된 용어 "메탈로센"은 적어도 하나의 η3 내지 η5-사이클로알카디에닐-유형 모이어티를 포함하는 화합물을 기술하며, 여기에서 η3 내지 η5-사이클로알카디에닐 모이어티는 사이클로펜타디에닐 리간드, 인데닐 리 간드, 플루오레닐 리간드 등을 포함하며, 이들은 이들 중 임의의 것의 부분 포화 또는 치환된 유도체 또는 유사체를 포함한다. 이들 리간드 상의 가능한 치환기는 H를 포함할 수 있으므로, 본 발명은 테트라하이드로인데닐, 테트라하이드로플루오레닐, 옥타하이드로플루오레닐, 부분 포화 인데닐, 부분 포화 플루오레닐, 치환된 부분 포 화 인데닐, 치환된 부분 포화 플루오레닐 등과 같은 리간드를 포함한다. 일부 문맥에서, 용어 "조촉매"가, 예를 들어, 유기알루미늄 화합물을 지칭하기 위해 본원에서 사용되는 것과 거의 동일한 방식으로, 상기 메탈로센은 단순히 "촉매"로서 지칭된다.
용어들 "촉매 조성물", "촉매 혼합물", "촉매 시스템" 등은 개시되거나 청구된 촉매 조성물/혼합물/시스템의 초기 성분들의 접촉 또는 반응으로 인한 실제 생성물 또는 조성물, 활성 촉매 부위의 특성, 또는 조촉매, 가교되지 않은 메탈로센 화합물, 또는 화학적으로-처리된 고체 산화물의, 이들 성분들의 조합 후의 운명에 의존하지 않는다. 따라서, 상기 용어들 "촉매 조성물", "촉매 혼합물", "촉매 시스템" 등은 상기 조성물의 초기 출발 성분들뿐만 아니라 이러한 초기 출발 성분들과의 접촉으로 인해 생성될 수 있는 모든 생성물(들)을 포함하며, 이는 불균일 촉매 시스템 및 균일 촉매 시스템 모두 또는 조성물을 포함한다. 상기 용어들 "촉매 조성물", "촉매 혼합물", "촉매 시스템" 등은 본 개시내용 전반에 걸쳐 상호교환가능하게 사용될 수 있다.
용어 "접촉 생성물"은 달리 구체화되지 않는 한, 성분들이 임의의 순서로, 임의의 방식으로, 및 임의의 기간의 시간으로 함께 접촉되는 조성물을 기술하기 위해 본원에서 사용된다. 예를 들어, 상기 성분들은 블렌딩 또는 혼합에 의해 접촉될 수 있다. 또한, 임의의 성분의 접촉은 본원에 기술된 조성물의 임의의 다른 성분의 존재 또는 부재하에 발생할 수 있다. 추가 물질들 또는 성분들을 조합하는 것은 임의의 적합한 방법에 의해 수행될 수 있다. 또한, 용어 "접촉 생성물"은 혼합물, 블렌드, 용액, 슬러리, 반응 생성물 등 또는 이들의 조합들을 포함한다. 비록 "접촉 생성물"은 반응 생성물을 포함할 수 있으나, 각각의 성분이 서로 반응할 필요는 없다. 유사하게, 용어 "접촉시키는"은 블렌딩되거나, 혼합되거나, 슬러리화되거나, 용해되거나, 반응되거나, 처리되거 나, 또는 일부 다른 방식으로 달리 조합될 수 있는 물질을 지칭하기 위해 본원에서 사용된다.
비록 본원에서 기술된 것과 유사하거나 그와 동일한 임의의 방법, 장치, 및 물질이 본 발명의 실시 또는 시험에 사용될 수 있으나, 전형적인 방법, 장치, 및 물질이 본원에 기술되었다.
본원에서 언급된 모든 공보 및 특허는, 예를 들어, 본원에 기술된 발명과 관련하여 사용될 수 있는, 공보에 기 술된 구성 및 방법을 기술하고 개시할 목적으로 본원에 참고로 포함된다.
본 발명에는 여러 유형의 범위들이 개시되어 있다. 임의의 유형의 범위가 공개되거나 청구되는 때에, 의도는 그러한 범위가 상기 범위의 종점뿐만 아니라 그 안에 포함되는 임의의 하위-범위 및 하위-범위의 조합들을 포함하여, 합리적으로 포함할 수 있는 각각의 가능한 수치를 개별적으로 개시하거나 청구하고자 하는 것이다. 예를 들어, 특정 수의 탄소 원자를 갖는 화학적 모이어티가 개시되거나 청구되는 때에, 의도는 본원의 개시 내용과 일치하는, 그러한 범위가 포함할 수 있는 모든 가능한 수치를 개별적으로 개시하거나 청구하고자 하는 것이다. 예를 들어, 본원에 사용된 바와 같이, 모이어티가 C1 내지 C18 하이드로카빌기, 또는 대안적인 언어로, 1 개 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 하이드로카빌기라는 개시내용은 1 개, 2 개, 3 개, 4 개, 5 개, 6 개, 7 개, 8 개, 9 개, 10 개, 11 개, 12 개, 13 개, 14 개, 15 개, 16 개, 17 개, 또는 18 개의 탄소 원자뿐만 아니라 이들 두 숫자 사이의 임의의 범위(예를 들어, C1 내지 C8 하이드로카빌기)를 가질 수 있는 모이어티를 지칭하며, 이는 또 한 이들 두 숫자 사이의 범위의 임의의 조합(예를 들어, C2 내지 C4 및 C12 내지 C16 하이드로카빌기)을 포함한다.
유사하게, 본 발명의 측면들과 일치하는 에틸렌 중합체의 CY-a 파라미터에 대한 또 다른 대표적인 예가 뒤따른다. CY-a 파라미터가 약 0.25 내지 약 0.65 범위일 수 있다는 개시에 의해, CY-a 파라미터가 범위 내의 임의의 값일 수 있고, 예를 들어 약 0.25, 약 0.3, 약 0.35, 약 0.4, 약 0.45, 약 0.5, 약 0.55, 약 0.6, 또는 약 0.65와 같을 수 있음을 언급하는 의도이다. 추가로, CY-a 파라미터는 약 0.25 내지 약 0.65(예를 들어, 약 0.3 내지 약 0.6)의 임의의 범위 내에 있을 수 있고, 이는 또한 약 0.25 내지 약 0.65 범위의 임의의 조합을 포함한다. 또한, "약" 특정 값이 공개되는 모든 경우에 해당 값 자체가 공개된다. 따라서, CY-a 파라미터가 약 0.25 내지 약 0.65일 수 있다는 개시는 또한 0.25 내지 0.65(예를 들어, 0.3 내지 0.6)의 CY-a 파라미터를 개시하고, 이는 또한 0.25 내지 0.65 범위의 임의의 조합을 포함한다. 마찬가지로, 본 명세서에 개시된 다른 모든 범위는 이들 예와 유사한 방식으로 해석되어야 한다.
용어 "약"은 양, 크기, 공식, 파라미터, 및 기타 수량 및 특징이 정확하지 않고 정확할 필요도 없으나, 이들이 허용 오차, 변환 계수, 반올림, 측정 오차 등 및 통상의 기술자에게 공지된 기타 요소를 반영하여, 목적하는 바에 따라, 근사적이거나 및/또는 크거나 작을 수 있음을 의미한다. 일반적으로, 양, 크기, 공식, 파라미터 또는 기타 수량 또는 특징은 명시적으로 기재되었는지 여부에 관계없이 "약" 또는 "대략적인" 것이다. 상기 용어 "약"은 또한 특정 초기 혼합물로부터 생성된 조성물에 대한 상이한 평형 조건으로 인해 상이한 양을 포함한다. 상기 용어 "약"에 의해 변경되었는지 여부에 관계없이, 청구범위는 수량과의 등가를 포함한다. 상기 용어 "약"은 보고된 수치의 10% 이내, 바람직하게 보고된 수치의 5% 이내를 의미할 수 있다.
발명의 상세한 설명
본 발명은 일반적으로 에틸렌계 플라스토머 및 엘라스토머를 제조하기 위해 화학적으로-처리된 고체 산화물을 포함하는 메탈로센 촉매 시스템을 사용하는 슬러리, 용액 및 기상 중합 공정에 관한 것이다.
중합 공정 및 촉매 시스템
본 발명에 따른 에틸렌계 플라스토머 및 엘라스토머의 제1 제조 공정은 슬러리 중합 공정이다. 밀도가 약 0.91 g/cm3 이하인 에틸렌 중합체를 제조하기 위한 슬러리 중합 공정은 약 50℃ 내지 약 78℃ 범위의 중합 온도에서 슬러리 반응기에서 희석제 중의 에틸렌 및 α-올레핀 공단량체와 촉매 조성물을 접촉시켜 에틸렌 중합체를 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로-처리된 고체 산화물 및 임의로 조촉매를 포함할 수 있다. 메탈로센 화합물은 단일 원자 가교 또는 2원자 가교(2원자 사슬) 메탈로센 화합물일 수 있고, 메탈로센 화합물은 중합 온도에서 적어도 약 1%의 공단량체 혼입 효율을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 제2 제조 공정은 용액 중합 공정이다. 밀도가 약 0.91 g/cm3 이하인 에틸렌 중합체를 제조하기 위한 용액 중합 공정은 촉매 조성물을 에틸렌 및 α-올레핀공단량체와, 120℃ 내지 약 160℃ 범위의 중합 온도(종종, 약 5 내지 약 90분 범위의 평균 체류 시간 동안)에서 용액 반응기 내의 탄화수소 용매 중에서 접촉시켜 에틸렌 중합체를 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로-처리된 고체 산화물 및 선택적으로 조촉매를 포함할 수 있고, 메탈로센 화합물은 중합 온도에서 약 10% 이상의 공단량체 혼입 효율을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 제3 제조 공정은 기상 중합 공정이다. 약 0.91 g/cm3 이하의 밀도를 갖는 에틸렌 중합체를 제조하기 위한 기상 중합 공정은 촉매 조성물을, 약 48℃ 내지 약 82℃ 범위의 중합 온도에서 불활성 기체 및 C4-C8 알칸(축합제)을 함유하는 기상 반응기에서 에틸렌 및 α-올레핀 공단량체와 접촉시켜 에틸렌 중합체를 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로-처리된 고체 산화물 및 임의로 조촉매를 포함할 수 있다. 기상 반응기에서, 증기압에 대한 중질 탄화수소 분압의 비(P/P*의 비)은 약 0.95 이하일 수 있다. 이는 중합 반응 온도가 임계 온도 미만인 탄화수소인 중질 탄화수소에 적용된다.
일반적으로, 이들 제1, 제2 및 제3 공정의 특징(예를 들어, 중합체 밀도, 공단량체, 중합 온도, 메탈로센 화합물, 화학적으로 처리된 고체 산화물 및 조촉매 등)은 본 명세서에서독립적으로 기술되고 이들 특징은 개시된 공정을 추가로 설명하기 위해 임의의 조합으로 조합될 수 있다. 또한, 달리 언급되지 않는 한, 개시된 공정에 열거된 임의의 단계 전, 동안 및/또는 후에 다른 공정 단계가 수행될 수 있다. 추가로, 임의의 개시된 공정에 따라 생성된 임의의 에틸렌 중합체(예를 들어, 에틸렌/α-올레핀 공중합체 플라스토머 또는 엘라스토머)는 본 개시의 범위 내에 있고 본원에 포함된다.
이제 제1 공정을 참조하면, 저밀도 에틸렌계 중합체를 제조하기 위한 슬러리 중합 공정은 약 50 ℃ 내지 약 78 ℃ 범위의 중합 온도에서 슬러리 반응기에서 희석제 중의 에틸렌 및 α-올레핀 공단량체와 촉매 조성물을 접촉시켜 에틸렌계 중합체를 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 일부 측면에서, 중합 온도는 약 55 내지 약 78℃ 또는 약 50℃ 내지 약 70℃ 범위일 수 있는 반면, 다른 측면에서 중합 온도는 약 55℃ 내지 약 72℃ 범위에 속할 수 있다. 중합체 밀도가 감소함에 따라 일반적으로 중합체가 희석제에 용해되는 것을 방지하기 위해 더 낮은 중합 온도가 사용된다. 임의의 적합한 희석제를 사용할 수 있으며, 이소부탄 및 프로판은 일반적으로 고밀도의 많은 슬러리 공정에 사용된다. 일반적으로, 희석제는 이소부탄, n-부탄, 프로판, n-펜탄, 이소펜탄, 헥산, 헵탄 등 및 이들의 조합을 포함할 수 있다. 플래싱과 같은 다운스트림 작업도 희석제 선택에 영향을 미칠 수 있다.
저밀도 중합체의 생산을 용이하게 하기 위해, 슬러리 반응기 내의 공단량체 농도는 비교적 높아야 하며, 종종 약 5 내지 약 30 mol%, 더 종종 약 7 내지 약 28 mol%, 약 8 내지 약 18 mol%, 또는 약 10 내지 약 16 mol%이어야 한다. 공단량체 농도는 전체 반응기 액체 함량을 기초로 하므로 희석제를 포함한다. 에틸렌 농도(또한 총 반응기 액체 함량을 기준으로 함)는 원하는 중합체 밀도에 따라 상당히 달라질 수 있지만, 전형적으로 한 측면에서 약 2 내지 약 25 mol%, 다른 측면에서 약 4 내지 약 18 mol%, 또 다른 측면에서 약 5 내지 약 15 mol%, 또 다른 측면에서 약 8 내지 약 13 mol% 범위에 속한다. 마찬가지로, 반응기에서 공단량체:에틸렌 몰비는 원하는 중합체 밀도에 따라 상당히 달라질 수 있지만, 전형적 범위는 약 0.1:1 내지 약 8:1, 약 0.5:1 내지 약 5:1, 약 0.7:1 내지 약 4:1, 약 0.75:1 내지 약 3.5:1, 또는 약 0.8:1 내지 약 3:1 등을 포함할 수 있다.
저밀도 중합체 생산의 열 전달 제한으로 인해 슬러리 반응기에서 상대적으로 낮은 고체 함량을 갖는 것이 유리할 수 있다. 슬러리 반응기 내 고체 함량은 약 10 내지 약 50 중량% 범위일 수 있지만, 약 15 내지 약 40 중량% 범위, 또는 약 10 내지 약 30 중량% 범위의 낮은 고체에서 작동시키는 것이 저밀도 중합체 생산에 유리할 수 있다.
반응기 온도 제어는 연화점과 녹는점이 더 낮기 때문에 저밀도 중합체의 경우 더 어려울 수 있다. 중합 온도가 100℃ 가깝거나 그 이상인 고밀도 중합체의 경우 반응기 냉각재 재킷 입구의 온도는 종종 80-90℃ 범위일 수 있다. 여기에서, 원자로 냉각재 재킷으로의 입구 온도는 훨씬 더 낮고, 예를 들어 일 측면에서 약 20 내지 약 45℃, 다른 측면에서 약 20℃ 내지 약 40℃, 및 역시 또다른 측면에서 약 25℃ 내지 약 40 ℃이다.
임의로, 보다 효율적인 냉각을 제공하기 위해 반응기 크기는 전형적으로 고밀도 중합체를 생산하는 기존의 상업용 슬러리 반응기보다 감소될 수 있다. 예를 들어, 24인치 OD 대신 루프 슬러리 반응기의 경우, 저밀도 플라스토머 및/또는 엘라스토머를 생산하는 데 사용되는 슬러리 반응기는 약 12 내지 약 22인치, 또는 약 16 내지 약 20인치 범위의 외부 직경을 가질 수 있다.
슬러리 중합 공정에서, 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로 처리된 고체 산화물 및 임의로 조촉매를 포함할 수 있다. 이에 제한되지 않지만, 총 반응기 액체 함량을 기준으로 슬러리 반응기 내의 메탈로센 화합물의 ppm(중량 기준)은 약 0.1 내지 약 10 ppm, 예컨대 약 0.2 내지 약 8 ppm; 대안적으로 약 0.3 내지 약 6 ppm; 대안적으로 약 0.4 내지 약 4 ppm; 대안적으로 약 0.5 내지 약 2.5 ppm; 또는 대안적으로 약 0.5 내지 약 1.5 ppm 범위일 수 있다. 마찬가지로, 조촉매를 사용하는 경우, 조촉매의 양은 특별히 제한되지 않지만, 통상적으로 약 1 내지 약 1000 ppm 또는 일부 측면에서 약 3 ppm 내지 약 650 ppm(총 반응기 액상 함량 기준), 그리고 다른 측면에서 약 4.5 내지 약 300 ppm, 약 5 내지 약 100 ppm, 또는 약 5 내지 약 50 ppm의 범위이다.
적합한 화학적으로 처리된 고체 산화물 및 조촉매는 하기에 추가로 개시된다. 슬러리 공정에 사용되는 메탈로센 화합물은 본 명세서에 개시된 임의의 적합한 단일 원자 가교 또는 2원자 가교(2원자 사슬) 메탈로센 화합물 또는 임의의 단일 원자 가교 또는 2원자 가교(2원자 사슬) 메탈로센 화합물일 수 있다. 한 측면에서, 메탈로센 화합물은 플루오레닐 기 및 사이클로펜타디에닐 기를 가질 수 있다. 본 명세서에 개시된 임의의 플루오레닐 기 또는 사이클로펜타디에닐 기(및 유사하게, 임의의 인데닐기)은 달리 언급되지 않는 한 치환되거나 비치환될 수 있다. 또다른 측면에서, 메탈로센 화합물은 2개의 인데닐 기를 가질 수 있다. 역시 또다른 측면에서, 메탈로센 화합물은 인데닐 기 및 플루오레닐 기를 가질 수 있다. 이들 및 다른 측면에서, 메탈로센 화합물은 알케닐 치환기를 함유할 수 있으며; 알케닐 치환기는 가교 원자 또는 가교 사슬에 존재할 수 있고 및/또는 알케닐 치환기는 시클로펜타디에닐, 인데닐 또는 플루오레닐 기 중 적어도 하나 상에 존재할 수 있다. 예를 들어, 시클로펜타디에닐기와 플루오레닐기를 갖는 메탈로센 화합물의 경우, 알케닐 치환기는 시클로펜타디에닐기 상에 존재할 수 있다. 알케닐 치환체는 C3 내지 C18 알케닐 기, 또는 C3 내지 C8 말단 알케닐 기와 같은 임의의 적합한 알케닐기일 수 있다.
또한, 일부 측면에서 제1 공정에서 사용되는 메탈로센 화합물은 종종 지르코늄 또는 하프늄; 대안적으로, 지르코늄; 또는 대안적으로, 하프늄을 포함한다. 가교는 단일 탄소 원자; 대안적으로, 단일 규소 원자; 대안적으로, 단일 붕소 원자; 대안적으로, 2개의 탄소 원자 가교; 또는 대안적으로, 2개의 규소 원자 가교일 수 있다. 독립적으로, 임의의 가교 원자 (또는 원소)은 H 또는 C1 내지 C18 하이드로카르빌 기, 또는 H 또는 C1 내지 C8 하이드로카르빌 기로부터 독립적으로 선택된 2개의 치환기; 대안적으로, H 또는 C1 내지 C6 알킬 기로부터 독립적으로 선택된 2개의 치환기 ; 또는 대안적으로, 메틸 기, 에틸 기, 프로필 기, 부틸 기, 펜틸 기, 헥실 기, 헵틸 기, 옥틸 기, 노닐기, 데실기, 에테닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기, 헵테닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기, 페닐 기, 사이클로헥실페닐 기, 나프틸기, 톨릴기, 또는 벤질 기로부터 독립적으로 선택된 2개의 치환기를 가질 수 있다. 예를 들어, 가교 원자 또는 가교 사슬은 적어도 하나의 페닐 치환기를 가질 수 있다.
메탈로센 화합물이 단일 원자 가교 메탈로센 화합물이면, 일부 측면에서 식 (II)를 가질 수 있다:
(II).
식 (II)에서, M, Cp, RX, RY, E, 및 각각의 X는 가교 메탈로센 화합물의 독립적 요소이다. 따라서, 식 (II) 를 갖는 가교된 메탈로센 화합물은 본원에 개시된 M, Cp, RX, RY, E, 및 X의 임의의 조합을 사용하여 기술될 수 있다.
*본 발명의 측면에 따르면, 식 (II)의 금속 M은 Zr 또는 Hf일 수 있다. 식 (II) 에서 각각의 X는 독립적으로 단일음이온성 리간드일 수 있다. 일부 측면에서, 적합한 단일음이온성 리간드는, 비제한적으로, H (하이드라이드), BH4, 할라이드, C1 내지 C36 하이드로카르빌 기, C1 내지 C36 하이드로카르복시 기, C1 내지 C36 하이드로카르빌아미닐 기, C1 내지 C36 하이드로카르빌실릴 기, C1 내지 C36 하이드로카르빌아미닐실릴 기, -OBR1 2, 또는 -OSO2R1, 여기서 R1는 C1 내지 C36 하이드로카르빌 기를 포함할 수 있다. 각각의 X는 동일하거나 상이한 단일음이온성 리간드일 수 있음이 고려된다. 본원에 개시된 각각의 X에 대한 대표적인 선택 이외에, 추가의 적합한 하이드로카르빌 기, 하이드로카르복시 기, 하이드로카르빌아미닐 기, 하이드로카르빌실릴 기, 및 하이드로카르빌아미닐실릴 기가 예를 들어 미국 특허 제9,758,600호에 개시되어 있으며, 이는 그 전문이 본원에 참고로 포함된다.
한 측면에서, 각각의 X는 독립적으로 H, BH4, 할라이드 (예를 들어, F, Cl, Br, 등), C1 내지 C18 하이드로카르빌 기, C1 내지 C18 하이드로카르복시 기, C1 내지 C18 하이드로카르빌아미닐 기, C1 내지 C18 하이드로카르빌실릴 기, 또는 C1 내지 C18 하이드로카르빌아미닐실릴 기일 수 있다. 대안적으로, 각각의 X는 독립적으로 H, BH4, 할라이드, OBR1 2, 또는 OSO2R1일 수 있고, 여기서 R1는 C1 내지 C18 하이드로카르빌 기이다. 또다른 측면에서, 각각의 X는 독립적으로 H, BH4, 할라이드, C1 내지 C12 하이드로카르빌 기, C1 내지 C12 하이드로카르복시 기, C1 내지 C12 하이드로카르빌아미닐 기, C1 내지 C12 하이드로카르빌실릴 기, C1 내지 C12 하이드로카르빌아미닐실릴 기, OBR1 2, 또는 OSO2R1일 수 있고, 여기서 R1는 C1 내지 C12 하이드로카르빌 기이다. 또다른 측면에서, 각각의 X는 독립적으로 H, BH4, 할라이드, C1 내지 C10 하이드로카르빌 기, C1 내지 C10 하이드로카르복시 기, C1 내지 C10 하이드로카르빌아미닐 기, C1 내지 C10 하이드로카르빌실릴 기, C1 내지 C10 하이드로카르빌아미닐실릴 기, OBR1 2, 또는 OSO2R1일 수 있고, 여기서 R1는 C1 내지 C10 하이드로카르빌 기이다. 역시 또다른 측면에서, 각각의 X는 독립적으로 H, BH4, 할라이드, C1 내지 C8 하이드로카르빌 기, C1 내지 C8 하이드로카르복시 기, C1 내지 C8 하이드로카르빌아미닐 기, C1 내지 C8 하이드로카르빌실릴 기, C1 내지 C8 하이드로카르빌아미닐실릴 기, OBR1 2, 또는 OSO2R1일 수 있고, 여기서 R1는 C1 내지 C8 하이드로카르빌 기이다. 여전히 또다른 측면에서, 각각의 X는 독립적으로 할라이드 또는 C1 내지 C18 하이드로카르빌 기일 수 있다. 예를 들어, 각각의 X는 Cl일 수 있다.
한 측면에서, 각각의 X는 독립적으로 H, BH4, 할라이드, 또는 C1 내지 C36 하이드로카르빌 기, 하이드로카르복시 기, 하이드로카르빌아미닐 기, 하이드로카르빌실릴 기, 또는 하이드로카르빌아미닐실릴 기일 수 있고, 또다른 측면에서, 각각의 X는 독립적으로 H, BH4, 또는 C1 내지 C18 하이드로카르복시 기, 하이드로카르빌아미닐 기, 하이드로카르빌실릴 기, 또는 하이드로카르빌아미닐실릴 기일 수 있다. 역시 또다른 측면에서, 각각의 X는 독립적으로 할라이드; 대안적으로, C1 내지 C18 하이드로카르빌 기; 대안적으로, C1 내지 C18 하이드로카르복시 기; 대안적으로, C1 내지 C18 하이드로카르빌아미닐 기; 대안적으로, C1 내지 C18 하이드로카르빌실릴 기; 또는 대안적으로, C1 내지 C18 하이드로카르빌아미닐실릴 기일 수 있다. 여전히 또다른 측면에서, 각각의 X는 H; 대안적으로, F; 대안적으로, Cl; 대안적으로, Br; 대안적으로, I; 대안적으로, BH4; 대안적으로, C1 내지 C18 하이드로카르빌 기; 대안적으로, C1 내지 C18 하이드로카르복시 기; 대안적으로, C1 내지 C18 하이드로카르빌아미닐 기; 대안적으로, C1 내지 C18 하이드로카르빌실릴 기; 또는 대안적으로, C1 내지 C18 하이드로카르빌아미닐실릴 기일 수 있다.
각각의 X는 독립적으로, 일부 측면에서, H, 할라이드, 메틸, 페닐, 벤질, 알콕시, 아릴옥시, 아세틸아세토네이트, 포르메이트, 아세테이트, 스테아레이트, 올레이트, 벤조에이트, 알킬아미닐, 디알킬아미닐, 트리하이드로카르빌실릴, 또는 하이드로카르빌아미닐실릴; 대안적으로, H, 할라이드, 메틸, 페닐, 또는 벤질; 대안적으로, 알콕시, 아릴옥시, 또는 아세틸아세토네이트; 대안적으로, 알킬아미닐 또는 디알킬아미닐; 대안적으로, 트리하이드로카르빌실릴 또는 하이드로카르빌아미닐실릴; 대안적으로, H 또는 할라이드; 대안적으로, 메틸, 페닐, 벤질, 알콕시, 아릴옥시, 아세틸아세토네이트, 알킬아미닐, 또는 디알킬아미닐; 대안적으로, H; 대안적으로, 할라이드; 대안적으로, 메틸; 대안적으로, 페닐; 대안적으로, 벤질; 대안적으로, 알콕시; 대안적으로, 아릴옥시; 대안적으로, 아세틸아세토네이트; 대안적으로, 알킬아미닐; 대안적으로, 디알킬아미닐; 대안적으로, 트리하이드로카르빌실릴; 또는 대안적으로, 하이드로카르빌아미닐실릴일 수 있다. 이들 및 다른 측면에서, 알콕시, 아릴옥시, 알킬아미닐, 디알킬아미닐, 트리하이드로카르빌실릴, 및 하이드로카르빌아미닐실릴는 C1 내지 C36, C1 내지 C18, C1 내지 C12, 또는 C1 내지 C8 알콕시, 아릴옥시, 알킬아미닐, 디알킬아미닐, 트리하이드로카르빌실릴, 및 하이드로카르빌아미닐실릴일 수 있다.
또한, 각각의 X는 독립적으로, 특정 측면에서, 할라이드 또는 C1 내지 C18 하이드로카르빌 기; 대안적으로, 할라이드 또는 C1 내지 C8 하이드로카르빌 기; 대안적으로, F, Cl, Br, I, 메틸, 벤질, 또는 페닐; 대안적으로, Cl, 메틸, 벤질, 또는 페닐; 대안적으로, C1 내지 C18 알콕시, 아릴옥시, 알킬아미닐, 디알킬아미닐, 트리하이드로카르빌실릴, 또는 하이드로카르빌아미닐실릴 기; 대안적으로, C1 내지 C8 알콕시, 아릴옥시, 알킬아미닐, 디알킬아미닐, 트리하이드로카르빌실릴, 또는 하이드로카르빌아미닐실릴 기; 또는 대안적으로, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 에테닐, 프로페닐, 부테닐, 펜테닐, 헥세닐, 헵테닐, 옥테닐, 노네닐, 데세닐, 페닐, 톨릴, 벤질, 나프틸, 트리메틸실릴, 트리이소프로필실릴, 트리페닐실릴, 또는 알릴디메틸실릴일 수 있다.
식 (II)에서, Cp는 (치환 또는 비치환) 사이클로펜타디에닐 기, 인데닐 기, 또는 플루오레닐 기; 대안적으로, 사이클로펜타디에닐 기; 또는 대안적으로, 인데닐 기일 수 있다. 임의로, Cp는 알케닐 치환기를 가질 수 있다. 일부 측면에서, Cp는 알케닐 치환기 이외의 추가 치환기를 포함하지 않을 수 있다. 다른 측면에서, Cp는 1개의 치환기, 2개의 치환기 등으로 추가로 치환될 수 있다. 존재하는 경우, Cp 상의 각 치환기는 독립적으로 H, 할라이드, C1 내지 C36 하이드로카르빌 기, C1 내지 C36 할로겐화 하이드로카르빌 기, C1 내지 C36 하이드로카르복시 기, 또는 C1 내지 C36 하이드로카르빌실릴 기일 수 있다. 중요한 것은 Cp의 각 치환기는 동일하거나 다른 치환기 기일 수 있다는 것이다. 또한, 각각의 치환기는 화학적 원자가 규칙을 따르는 사이클로펜타디에닐/인데닐/플루오레닐 고리 구조의 임의의 위치에 있을 수 있다. 일반적으로, Cp 상의 임의의 치환기는 독립적으로 H 또는 본원에 개시된 임의의 할라이드, C1 내지 C36 하이드로카르빌 기, C1 내지 C36 할로겐화 하이드로카르빌 기, C1 내지 C36 하이드로카르복시 기, 또는 C1 내지 C36 하이드로카르빌실릴 기일 수 있다. 본원에 개시된 대표적인 치환기에 더하여, 추가의 적합한 하이드로카르빌 기, 할로겐화 하이드로카르빌 기, 하이드로카르복시 기, 및 하이드로카르빌실릴 기가 예를 들어 미국 특허 제9,758,600호에 개시되어 있으며, 이는 그 전문이 본원에 참고로 포함된다.
한 측면에서, 예를 들어, Cp 상 각각의 치환기는 독립적으로 C1 내지 C12 하이드로카르빌 기 또는 C1 내지 C12 하이드로카르빌실릴 기일 수 있다. 또다른 측면에서, Cp 상 각각의 치환기는 독립적으로 C1 내지 C8 알킬 기 또는 C3 내지 C8 알케닐 기일 수 있다. 역시 또다른 측면에서, Cp 상 각각의 치환기는 독립적으로 H, Cl, CF3, 메틸 기, 에틸 기, 프로필 기, 부틸 기, 펜틸 기, 헥실 기, 헵틸 기, 옥틸 기, 노닐기, 데실기, 에테닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기, 헵테닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기, 페닐기, 톨릴기, 벤질기, 나프틸기, 트리메틸실릴 기, 트리이소프로필실릴 기, 트리페닐실릴 기, 또는 알릴디메틸실릴 기일 수 있다.
유사하게, 식 (II) 내 RX 및 RY는 독립적으로 H 또는 본원에 개시된 임의의 할라이드, C1 내지 C36 하이드로카르빌 기, C1 내지 C36 할로겐화 하이드로카르빌 기, C1 내지 C36 하이드로카르복시 기, 또는 C1 내지 C36 하이드로카르빌실릴 기일 수 있다. 한 측면에서, 예를 들어, RX 및 RY는 독립적으로 H 또는 C1 내지 C12 하이드로카르빌 기일 수 있다. 또다른 측면에서, RX 및 RY는 독립적으로 C1 내지 C10 하이드로카르빌 기 또는, 대안적으로, C1 내지 C6 알킬 기일 수 있다. 역시 또다른 측면에서, RX 및 RY는 독립적으로 H, Cl, CF3, 메틸 기, 에틸 기, 프로필 기, 부틸 기 (예를 들어, t-Bu), 펜틸 기, 헥실 기, 헵틸 기, 옥틸 기, 노닐기, 데실기, 에테닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기, 헵테닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기, 페닐기, 톨릴기, 벤질기, 나프틸기, 트리메틸실릴 기, 트리이소프로필실릴 기, 트리페닐실릴 기, 또는 알릴디메틸실릴 기, 등일 수 있다. 여전히 또다른 측면에서, RX 및 RY는 독립적으로 메틸 기, 에틸 기, 프로필 기, 부틸 기, 펜틸 기, 헥실 기, 헵틸 기, 옥틸 기, 노닐기, 데실기, 에테닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기, 헵테닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기, 페닐기, 톨릴기, 또는 벤질기일 수 있다.
식 (II) 내 가교 기 E는 식 >EARARB를 갖는 가교 기일 수 있고, 여기서 EA는 C 또는 Si 또는 B일 수 있고, 및 RA 및 RB는 독립적으로 H 또는 C1 내지 C18 하이드로카르빌 기일 수 있다. 본발명의 일부 측면에서, RA 및 RB는 독립적으로 C1 내지 C12 하이드로카르빌 기일 수 있다; 대안적으로, RA 및 RB는 독립적으로 C1 내지 C8 하이드로카르빌 기일 수 있다; 대안적으로, RA 및 RB는 독립적으로 페닐 기, C1 내지 C8 알킬 기, 또는 C3 내지 C8 알케닐 기일 수 있다; 대안적으로, RA 및 RB는 독립적으로 메틸 기, 에틸 기, 프로필 기, 부틸 기, 펜틸 기, 헥실 기, 헵틸 기, 옥틸 기, 노닐기, 데실기, 에테닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기, 헵테닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기, 페닐 기, 사이클로헥실페닐 기, 나프틸기, 톨릴기, 또는 벤질 기일 수 있다; 또는 대안적으로, RA 및 RB는 독립적으로 메틸 기, 에틸 기, 프로필 기, 부틸 기, 펜틸 기, 헥실 기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기, 페닐 기, 또는 벤질 기일 수 있다. 이들 및 다른 측면에서, RA 및 RB는 같거나 다를 수 있다.
식 (II) 를 갖고 및/또는 제1 공정에 사용하기에 적합한 단일 원자 가교 메탈로센 화합물의 예시적이고 비제한적인 예는 하기 화합물(Me = 메틸, Ph = 페닐; t-Bu = tert-부틸; MET15 및 MET16은 실시예에서 사용된 대표적인 가교 메탈로센 화합물이다): 등, 및 이들의 조합을 포함할 수 있다.
메탈로센 화합물은 상술한 단일 원자 가교 메탈로센 화합물에만 제한되지 않는다. 다른 적합한 가교된 메탈로센 화합물은 미국 특허 번호 7,026,494, 7,041,617, 7,226,886, 7,312,283, 7,517,939, 및 7,619,047에 개시되어 있으며, 이들은 그 전문이 본원에 참고로 포함된다.
메탈로센 화합물이 2개의 탄소 원자 가교된 메탈로센 화합물인 경우, 가교기는 식 -CRCRD-CRERF-를 가질 수 있으며, 여기서 RC, RD, RE, 및 RF는 독립적으로 H 또는 본원에 개시된 임의의 C1 내지 C18 하이드로카르빌 기(및 2개의 실리콘 원자 브리지에 대해서도 유사)일 수 있다. 예를 들어, RC, RD, RE, 및 RF는 독립적으로 H 또는 C1 내지 C6 알킬기, 또는 대안적으로 H 또는 메틸기일 수 있다.
제1 공정에 사용하기에 적합한 다른 가교 메탈로센 화합물의 예시적이고 비제한적인 예는 다음 화합물을 포함할 수 있다:
, , 등, 및 이들의 조합.
메탈로센 화합물은 상술한 이들 가교 메탈로센 화합물에만 제한되지 않는다. 다른 적합한 메탈로센 화합물은 미국 특허 번호 8,288,487 및 8,426,538에 개시되어 있으며, 이들은 그 전문이 본원에 참고로 포함된다.
또한, 제1 공정(슬러리 중합 공정)에서 사용되는 메탈로센 화합물은 공단량체를 쉽고 효율적으로 혼입하는 메탈로센 화합물이어야 한다. 이는 밀도가 0.90 g/cm3 미만, 0.89 g/cm3 미만, 0.88 g/cm3 미만 등으로 감소함에 따라 더욱 중요해지는데, 더 많은 공단량체가 필요하기 때문이다. 이 메트릭은 중합 온도에서 적어도 약 1%의 (α-올레핀 공단량체에 대한) 공단량체 혼입 효율을 갖는 메탈로센 화합물에 의해 정량화될 수 있다. 공단량체 혼입 효율을 결정하기 위한 방법은 다음 실시예에서 논의된다.
더 많은 공단량체가 혼입될수록(그리고 더 낮은 밀도의 중합체가 생성됨), 더 높은 공단량체 혼입 효율을 갖는 것이 유리할 수 있다. 따라서, 일부 측면에서, 제1 공정(슬러리 중합 공정)에서 사용되는 촉매 조성물 내의 메탈로센 화합물은 약 적어도 1.25%, 약 적어도 1.5%, 약 적어도 1.75%, 적어도 약 2%, 또는 적어도 약 2.5%, 그리고 종종 최대 약 4%, 약 5%, 약 6%, 또는 약 8%의 공단량체 혼입 효율을 특징으로 할 수 있다. 상기와 같이 이는 중합 온도에서 결정된다.
이제 제2 공정을 참조하면, 저밀도 에틸렌계 중합체를 제조하기 위한 용액 중합 공정은 약 120 ℃ 내지 약 160 ℃ 범위의 중합 온도에서 용액 반응기에서 탄화수소 용매 중의 에틸렌 및 α-올레핀 공단량체와 촉매 조성물을 접촉시켜 에틸렌 중합체를 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 촉매 조성물은 중합 온도에서 "용액" 상태가 아닌 화학적으로 처리된 고체 산화물을 포함하지만, 생성된 중합체가 중합 온도에서 탄화수소 용매에 용해될 것으로 예상되기 때문에 이 공정을 용액 공정이라고 한다. 일부 측면에서, 중합 온도는 약 120 내지 약 160℃ 또는 약 125℃ 내지 약 155℃ 범위일 수 있는 반면, 다른 측면에서 중합 온도는 약 130℃ 내지 약 160℃또는 약 140 ℃ 내지 약 160 ℃ 범위에 속할 수 있다. 중합체 밀도가 감소함에 따라 중합체를 용액 상태로 유지하려면 일반적으로 더 낮은 중합 온도가 필요하다.
C5-C10 탄화수소(예를 들어, 알칸 또는 시클로알칸) 용매와 같은 임의의 적합한 탄화수소 용매가 사용될 수 있다. 전형적인 탄화수소 용매는 시클로헥산, n-펜탄, 이소펜탄, 네오펜탄, n-헥산 등 뿐만 아니라 이들의 조합을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 다른 적합한 탄화수소 용매는 예를 들어 Soltrol® 10, Soltrol® 100, Soltrol® 125, Soltrol® 130, Soltrol® 170, Soltrol® 220 등, 그리고 이들의 혼합물과 같은 Soltrol® 계열의 이소파라핀 용매를 포함할 수 있다. 이들 물질은 Chevron Phillips Chemical Company LP에서 입수할 수 있다.
용액 반응기에서의 평균 체류 시간은 일반적으로 약 5 내지 약 90분, 예컨대 약 5 내지 약 30분; 대안적으로 약 10 내지 약 75분; 또는 대안적으로 약 10 내지 약 45분 범위에 속한다. 용액 반응기 내 중합체 함량은 약 10 내지 약 50 중량% 범위일 수 있지만, 종종 중합체 함량은 약 20 내지 약 50 중량%, 또는 약 25 내지 약 45 중량% 범위일 수 있다.
특별히 제한되지는 않지만, 용액 반응기 내의 공단량체 농도는 약 0.1 내지 약 10 mol%, 더 자주는 약 0.35 내지 약 7 mol%, 약 0.6 내지 약 5 mol%, 또는 약 1 내지 약 3 mol% 범위일 수 있다. 공단량체 농도는 따라서 탄화수소 용매를 포함하는 전체 반응기 액체 함량을 기초로 한다. 에틸렌 농도(또한 총 반응기 액체 함량을 기준으로 함)는 원하는 중합체 밀도에 따라 상당히 달라질 수 있지만, 전형적으로 한 가지 측면에서 약 2 내지 약 35 mol%, 다른 측면에서 약 3 내지 약 30 mol%, 역시 또다른 측면에서, 약 4 내지 약 25 mol%, 여전히 또다른 측면에서 약 5 내지 약 20 mol% 범위에 속한다. 마찬가지로, 공단량체:에틸렌 몰비는 원하는 중합체 밀도에 따라 상당히 달라질 수 있지만, 전형적 범위는 약 0.01:1 내지 약 1:1, 약 0.05:1 내지 약 0.7:1, 약 0.08:1 내지 약 0.4:1, 또는 약 0.1:1 내지 약 0.3:1, 등을 포함할 수 있다.
제1 공정(슬러리 중합)과 유사하게, 더 많은 공단량체가 혼입될수록(그리고 더 낮은 밀도의 중합체가 생성됨), 제2 공정(용액 중합)에서 더 높은 공단량체 혼입 효율을 갖는 것이 유리할 수 있다. 그러나, 제2 공정에서의 더 높은 중합 온도로 인해, 용액 중합 공정에서 사용되는 촉매 조성물 내의 메탈로센 화합물은 적어도 약 10%, 적어도 약 15%, 적어도 약 20%, 또는 적어도 약 25%, 및 종종 최대 40%, 최대 50%, 최대 60%, 또는 최대 70%의 (α-올레핀 공단량체에 대한) 공단량체 혼입 효율을 특징으로 할 수 있다. 이는 중합 온도에서 결정된다.
또한 더 높은 중합 온도로 인해, 메탈로센 화합물이 티타늄 또는 하프늄(지르코늄과 반대됨)을 함유하는 메탈로센 화합물과 같이 전형적으로 고분자량 중합체를 생성하는 메탈로센 화합물인 것이 유리할 수 있지만, 이에 제한되지는 않는다. 한 측면에서, 메탈로센 화합물은 플루오레닐 기 및 사이클로펜타디에닐 기를 가질 수 있고, 또다른 측면에서, 메탈로센 화합물은 2개의 인데닐 기 또는 2개의 플루오레닐 기를 가질 수 있고, 역시 또다른 측면에서, 메탈로센 화합물은 인데닐 기 및 플루오레닐 기를 가질 수 있다. 임의의 플루오레닐 기 또는 사이클로펜타디에닐 기 또는 인데닐 기는 치환되거나 비치환될 수 있다. 또한, 메탈로센 화합물은 가교되거나(예를 들어, 단일 원자 가교 또는 2원자 가교) 가교되지 않을 수 있다(예를 들어, 티타늄 하프-샌드위치 메탈로센 화합물).
이제 제3 공정을 참조하면, 저밀도 에틸렌계 중합체를 제조하기 위한 기상 중합 공정은 약 48 ℃ 내지 약 82 ℃ 범위의 중합 온도에서 불활성 가스 및 C4-C8 알칸을 포함하는 기상 반응기에서 희석제 중의 에틸렌 및 α-올레핀 공단량체와 촉매 조성물을 접촉시켜 에틸렌계 중합체를 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 일부 측면에서, 중합 온도는 약 48 내지 약 70℃ 또는 약 50℃ 내지 약 75℃ 범위일 수 있는 반면, 다른 측면에서 중합 온도는 약 58℃ 내지 약 82℃또는 약 58 ℃ 내지 약 70 ℃ 범위에 속할 수 있다. 중합 온도는 일반적으로 반응기에서 중합체 고착, 응집 등을 방지하기 위해 중합체 밀도가 감소함에 따라 감소한다.
불활성 기체는 전형적으로 반응기에서 기체 상에 머무르는 임의의 기체를 포함하고, 적합한 불활성 기체는 예를 들어 질소, 에탄, 프로판 등 뿐만 아니라 이들의 조합을 포함한다. C4-C8 알칸은 종종 축합제라고 불리며, 부탄(예를 들어, n-부탄 및/또는 이소부탄), 펜탄(예를 들어, n-펜탄 및/또는 이소펜탄), 헥산 등이 여기에 포함되며; 하나 이상의 알칸의 조합이 사용될 수 있다.
기상 반응기에서, 증기압에 대한 중질 탄화수소 분압의 비(P/P*의 비)은 약 0.95 이하일 수 있다. P/P* 비는 각 탄화수소 분압을 증기압으로 나눈 합산 비(합계)이다. 축합제가 n-부탄이고 공단량체가 1-헥센인 경우의 예로서, P/P*의 비는 {n-부탄 분압(반응기 압력 곱하기 n-부탄의 부피%) 나누기 중합 온도에서 n-부탄의 증기압 } + {1-헥센 분압(반응기 압력 곱하기 1-헥센의 부피%) 나누기 중합 온도에서 1-헥센의 증기압}과 같다. 다른 중질 탄화수소 및/또는 축합제가 존재하는 경우 이들도 포함된다. 탄화수소 여부에 관계없이 불활성 가스는 중합 반응 온도가 임계 온도를 초과하기 때문에 포함되지 않는다.
중합체 밀도가 감소함에 따라 기상 반응기에서 P/P*의 비 값을 낮추는 것이 유리할 수 있다. 한 측면에서, P/P*의 비는 약 0.9 이하일 수 있는 반면, 또 다른 측면에서, P/P*의 비는 약 0.85 이하일 수 있고, 또 다른 측면에서, P/P* 비는 약 0.8 이하일 수 있다. P/P*에 대한 전형적인 최소값은 약 0.75, 약 0.7 및 약 0.65를 포함한다.
본 발명의 측면에 따라, 기상 반응기 내의 C4-C8 알칸 농도는 반응기 함량을 기준으로 약 5 내지 약 30 부피% 범위일 수 있다. 예를 들어, C4-C8 알칸 농도는 약 10 내지 약 30 부피%, 또는 약 15 내지 약 25 부피% 범위에 속할 수 있다. 더 낮은 중합체 밀도 및 열 전달 제한으로 인해 반응기에서 더 높은 알칸(또는 축합제) 함량(및 더 적은 질소)을 갖는 것이 유리할 수 있다.
마찬가지로, 기상 반응기로의 촉매 조성물용 담체가 탄화수소(예를 들어, 질소가 아님)인 것이 또한 유리할 수 있다. 적합한 담체의 예시적이고 비제한적인 예는 에탄, 프로판, 부탄, 펜탄, 헥산 등 뿐만 아니라 이들의 조합을 포함한다.
유리하게는 유동화를 개선하기 위해서는 화학적으로 처리된 고체 산화물의 입자 크기를 제어해야 한다. 예를 들어, 유동층 기체상 반응기의 경우, 화학적으로 처리된 고체 산화물은 약 30 내지 약 250 μm, 및 더 종종 약 40 내지 약 150 μm, 또는 약 50 내지 약 100 μm 범위 내 평균 입자 크기를 가져야 한다. 임의로, 중합체 점착 및 응집에 대한 더 낮은 밀도 및 높은 경향으로 인해, 유동화 속도는 전형적인 속도보다 2.0 ft/sec 미만 (예를 들어, 1.7 ft/sec) 이상 증가될 수 있다. 특히, 유동화 속도는 한 측면에서 약 2.0 내지 약 3.0 ft/sec, 또 다른 측면에서 약 2.1 내지 약 2.4 ft/sec, 또 다른 측면에서 약 2.2 내지 약 2.6 ft/sec일 수 있다.
슬러리와 비교할 때 가스상에서 더 큰 입자-유체 열 전달 제한으로 인해 고체 산화물에 대한 전이 금속의 상대적인 양은 가스상 공정에서 더 낮아야 한다. 한 측면에서, 예를 들어, 화학적으로 처리된 고체 산화물의 중량을 기준으로 (메탈로센 화합물의) 전이 금속의 중량은 약 50 내지 약 5000 ppm (중량 기준), 또다른 측면에서 약 100 내지 약 2000 ppm, 및 역시 또다른 측면에서 약 150 내지 약 1000 ppm 범위 내일 수 있다.
기상 공정에 사용되는 메탈로센 화합물은 슬러리 중합 공정에 적합한 것으로 본원에 개시된 임의의 메탈로센 또는 용액 중합 공정에 적합한 것으로 본원에 개시된 임의의 메탈로센일 수 있다. 슬러리 및 용액 공정 모두와 마찬가지로 기상 공정에서 사용되는 촉매 시스템이 높은 공단량체 혼입 효율을 갖는 것이 유리하다.
제1공정, 제2공정 및 제3공정에 있어서 제조되는 에틸렌계 중합체의 밀도는 약 0.91 g/cm3 이하일 수 있다. 많은 경우에, 생산된 에틸렌 중합체는 밀도가 약 0.90 g/cm3 이하; 대안적으로 약 0.89 g/cm3 이하; 또는 대안적으로 약 0.88 g/cm3 이하일 수 있다. 에틸렌 중합체의 밀도에 대한 예시적이고 비제한적인 범위는 약 0.86 내지 약 0.91 g/cm3, 약 0.865 내지 약 0.905 g/cm3, 또는 약 0.87 내지 약 0.89 g/cm3, 등을 포함할 수 있다.
제1 공정, 제2 공정 및 제3 공정은 저밀도 에틸렌계 중합체(예를 들어, 에틸렌 공중합체 또는 에틸렌 삼원공중합체)를 생성하기 위해 임의의 적합한 α-올레핀 공단량체를 사용할 수 있다. 예를 들어, 공단량체는 프로필렌, 1-부텐, 1-펜텐, 4-메틸-1-펜텐, 1-헥센, 1-옥텐, 또는 이들의 혼합물; 대안적으로, 프로필렌; 대안적으로, 1-부텐; 대안적으로, 1-펜텐; 대안적으로, 4-메틸-1-펜텐; 대안적으로, 1-헥센; 또는 대안적으로, 1-옥텐을 포함할 수 있다. 특정 공단량체는 특정 중합 공정에서 보다 일반적으로 사용될 수 있으며, 예를 들어 1-부텐 및 1-헥센은 기상 공정에서 종종 사용된다.
개시된 밀도 및 공단량체에서, 에틸렌 중합체는 총 탄소 원자 1000개당 적어도 15개의 단쇄 분지(SCB)를 갖는 것이 전형적이다. 더 자주, 에틸렌 중합체는 약 20개 이상의 SCB 또는 약 25개 이상의 SCB를 함유하며, 이는 총 탄소 원자 1000개당 최대 약 50개의 SCB 또는 최대 약 60개의 SCB 범위일 수 있다.
이들 공정에서 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로 처리된 고체 산화물 및 임의로 조촉매를 포함할 수 있다. 촉매 조성물은 하나 이상의 메탈로센 화합물(예를 들어, 두 개의 메탈로센 화합물), 하나 이상의 화학적으로 처리된 고체 산화물 및 하나 이상의 조촉매를 함유할 수 있다.
화학적으로 처리된 고체 산화물은 전자-흡인성 음이온으로 처리된 고체 산화물을 포함할 수 있다. 이러한 물질의 예는 예를 들어 미국 특허 번호 7,294,599, 7,601,665, 7,884,163, 8,309,485, 8,623,973, 및 9,023,959에 개시되어 있으며, 이들은 그 전문이 본원에 참고로 포함된다. 예를 들어, 화학적으로-처리된 고체 산화물은 플루오르화 알루미나, 클로라이드화 알루미나, 브롬화 알루미나, 황산화 알루미나, 플루오르화 실리카-알루미나, 클로라이드화 실리카-알루미나, 브롬화 실리카-알루미나, 황산화 실리카-알루미나, 플루오르화 실리카-지르코니아, 클로라이드화 실리카-지르코니아, 브롬화 실리카-지르코니아, 황산화 실리카-지르코니아, 플루오르화 실리카-티타니아, 플루오르화-클로라이드화 실리카-코팅된 알루미나, 플루오르화 실리카-코팅된 알루미나, 황산화 실리카-코팅된 알루미나, 또는 인산화 실리카-코팅된 알루미나, 등, 그리고 임의의 이들의 조합을 포함할 수 있다. 일부 측면에서, 화학적으로-처리된 고체 산화물은 플루오르화 고체 산화물 (예를 들어, 플루오르화 실리카-코팅된 알루미나) 및/또는 황산화 고체 산화물 (예를 들어, 황산화 알루미나)을 포함할 수 있다.
본 발명에 유용한 화학적으로 처리된 고체 산화물을 형성하기 위해 다양한 공정이 사용될 수 있다. 고체 산화물을 전자-흡인성 성분과 접촉시키는 방법, 적합한 전자-흡인성 성분 및 첨가량, 금속 또는 금속 이온(예: 아연, 니켈, 바나듐, 티타늄, 은, 구리, 갈륨, 주석, 텅스텐, 몰리브덴, 지르코늄 등 또는 그 조합)과의 함침 및 다양한 소성 절차 및 조건은, 예를 들어 미국 특허 번호 6,107,230, 6,165,929, 6,294,494, 6,300,271, 6,316,553, 6,355,594, 6,376,415, 6,388,017, 6,391,816, 6,395,666, 6,524,987, 6,548,441, 6,548,442, 6,576,583, 6,613,712, 6,632,894, 6,667,274, 6,750,302, 7,294,599, 7,601,665, 7,884,163, 및 8,309,485에 개시되어 있으며, 이들은 그 전문이 본원에 참고로 포함된다. 화학적으로 처리된 고체 산화물(예를 들어, 플루오르화 고체 산화물, 황산화 고체 산화물 등)을 제조하기 위한 다른 적합한 공정 및 절차는 당업자에게 잘 알려져 있다.
존재하는 경우, 조촉매는 붕소, 알루미늄, 아연 등을 포괄하는 금속을 갖는 금속 알킬, 또는 유기금속, 조촉매를 포함할 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 임의로, 본원에 제공된 촉매 시스템은 조촉매 또는 조촉매의 조합을 포함할 수 있다. 예를 들어, 알킬 붕소, 알킬 알루미늄 및 알킬 아연 화합물은 종종 이러한 촉매 시스템에서 조촉매로 사용될 수 있다. 대표적인 붕소 화합물은 트리-n-부틸 보란, 트리프로필보란, 트리에틸보란 등을 포함할 수 있지만 이에 제한되지 않으며, 이는 이들 물질 중 둘 이상의 조합을 포함한다. 이에 제한되지 않으나, 대표적인 알루미늄 화합물(예를 들어, 유기알루미늄 화합물)은 트리메틸알루미늄 (TMA), 트리에틸알루미늄 (TEA), 트리-n-프로필알루미늄 (TNPA), 트리-n-부틸알루미늄 (TNBA), 트리이소부틸알루미늄 (TIBA), 트리-n-헥실알루미늄, 트리-n-옥틸알루미늄, 디이소부틸알루미늄 하이드라이드, 디에틸알루미늄 에톡사이드, 디에틸알루미늄 클로라이드, 등, 그리고 임의의 이들의 조합은을 포함할 수 있다. 조촉매로서 사용될 수 있는 예시적인 아연 화합물(예를 들어, 유기아연 화합물)은 비제한적으로 디메틸아연, 디에틸아연, 디프로필아연, 디부틸아연, 디네오펜틸아연, 디(트리메틸실릴)아연, 디(트리에틸실릴)아연, 디(트리에틸실릴)아연, 디(트리이소프로필실릴)아연, 디(트리페닐실릴)아연, 디(알릴디메틸실릴)아연, 디(트리메틸실릴메틸)아연 등 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 따라서, 본 발명의 한 측면에서, 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로 처리된 고체 산화물 및 유기알루미늄 조촉매를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 측면에서, 메탈로센 화합물, 화학적으로 처리된 고체 산화물 및 유기알루미늄 화합물을 포함하는 촉매 조성물이 제공되며, 이 촉매 조성물에는 알루미녹산, 유기붕소 또는 유기붕산염 화합물, 이온화 이온성 화합물 및/또는 기타 유사한 재료가 실질적으로 없고; 대안적으로 알루미녹산이 실질적으로 없으며; 대안적으로, 또는 유기붕소 또는 유기붕산염 화합물이 실질적으로 없고; 또는 대안적으로 이온화 이온 화합물이 실질적으로 없다. 이러한 측면에서, 촉매 조성물은 이러한 추가 물질이 없을 때 본원에서 논의되는 촉매 활성을 갖는다. 예를 들어, 본 발명의 촉매 조성물은 본질적으로 메탈로센 화합물, 화학적으로 처리된 고체 산화물 및 유기알루미늄 조촉매로 구성될 수 있으며, 여기서 다른 물질의 부재 하에 촉매 조성물의 촉매 활성으로부터 약 10% 초과로 촉매 조성물의 활성을 증가/감소시키는 다른 물질은 촉매 조성물 내에 존재하지 않는다.
본 발명의 촉매 조성물은 일반적으로 시간당 화학적으로 처리된 고체 산화물의 그램당(약칭 g/g/hr) 약 250그램 이상의 에틸렌 중합체(문맥상 요구되는 바와 같은 공중합체 또는 삼원중합체)보다 큰 촉매 활성을 갖는다. 또 다른 측면에서, 촉매 활성은 약 350 초과, 약 450 초과, 또는 약 550 g/g/hr 초과일 수 있다. 역시, 또다른 측면에서, 촉매 활성은 약 700 g/g/hr 초과, 약 1000 g/g/hr 초과, 또는 약 2000 g/g/hr 초과, 종종 3500-6000 g/g/ hr만큼 높을 수 있다. 촉매 활성에 대한 예시적이고 비제한적인 범위는 약 500 내지 약 5000, 약 750 내지 약 4000, 또는 약 1000 내지 약 3500 g/g/hr 등을 포함한다. 이러한 활성은 약 95ºC의 중합 온도 및 약 590 psig의 반응기 압력에서 이소부탄을 희석제로 사용하는 트리이소부틸알루미늄 조촉매를 사용하는 슬러리 중합 조건에서 측정된다. 또한, 일부 측면에서, 화학적으로 처리된 고체 산화물은 황산화 알루미나, 플루오르화 실리카-알루미나, 또는 플루오르화 실리카-코팅된 알루미나를 포함할 수 있지만, 이에 제한되지는 않는다.
본 발명은 예를 들어 각각의 촉매 성분을 임의의 순서 또는 순서로 접촉시킴으로써 이러한 촉매 조성물을 제조하는 방법을 추가로 포함한다. 한 측면에서, 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로 처리된 고체 산화물 및 조촉매를 임의의 순서로 접촉시키는 것을 포함하는 공정에 의해 제조될 수 있다.
본 명세서에 개시된 공정은 특정 반응기 유형(슬러리, 용액, 기체상)을 참조하여 설명되지만, 공정은 2개 이상의 반응기를 사용할 수 있다. 다중 반응기에서 중합체의 생성은 제1 중합 반응기로부터 생성된 중합체를 제2 반응기로 이송하는 것을 가능하게 하는 이송 장치에 의해 상호 연결된 적어도 2개의 개별 중합 반응기에서의 몇몇 단계를 포함할 수 있다. 반응기 중 하나에서 바람직한 중합 조건은 다른 반응기(들)의 작동 조건과 다를 수 있다. 대안적으로, 다중 반응기에서의 중합은 연속 중합을 위해 하나의 반응기에서 후속 반응기로 중합체를 수동으로 옮기는 것을 포함할 수 있다. 다중 반응기 시스템은 다중 루프 반응기, 다중 기체상 반응기, 루프 및 기체상 반응기의 조합, 또는 루프 및/또는 기체상 반응기와 용액의 조합을 포함하지만 이에 제한되지 않는 임의의 조합을 포함할 수 있다. 다중 반응기는 직렬, 병렬 또는 둘 다로 작동할 수 있다. 따라서, 본 발명은 단일 반응기를 포함하고, 2개의 반응기를 포함하고, 2개 초과의 반응기를 포함하는 중합 반응기 시스템을 포함한다. 따라서, 중합 반응기 시스템은 본 발명의 특정 측면에서 개별 슬러리 반응기, 기상 반응기 또는 용액 반응기 뿐만 아니라 이들의 다중 반응기 조합을 포함할 수 있다.
상기 중합 반응기 시스템은 적어도 하나의 원료 공급 시스템, 촉매 또는 촉매 성분을 위한 적어도 하나의 공급 시스템, 및/또는 적어도 하나의 중합체 회수 시스템의 임의의 조합을 추가 포함할 수 있다. 적합한 반응기 시스템은 공급원료 정제, 촉매 저장 및 제조, 압출, 반응기 냉각, 중합체 회수, 분별, 재순환, 저장, 로드아웃 (loadout), 실험 분석, 및 공정 제어를 위한 시스템을 추가 포함할 수 있다. 에틸렌 중합체의 목적하는 특성에 따라, 필요 시 상기 중합 반응기에 수소를 첨가할 수 있다(예를 들어, 연속적으로, 펄스(pulsed) 등).
효율 및 목적하는 중합체 특성을 제공하기 위해 제어될 수 있는 중합 조건은 온도, 압력, 및 다양한 반응물의 농도를 포함할 수 있다. 중합 온도는 촉매 생산성, 중합체 분자량, 및 분자량 분포에 영향을 미칠 수 있다. 다양한 중합 조건은, 예를 들어, 특정 등급의 에틸렌 중합체)를 제조하는 경우, 실질적으로 일정하게 유지될 수 있다.
적합한 압력은 또한 반응기 및 중합 유형에 따라 변화할 것이다. 루프 반응기 내 액상 중합을 위한 압력은 전형적으로 1000 psig(6.9 MPa) 미만이다. 기상 중합을 위한 압력은 일반적으로 약 200 psig 내지 500 psig(1.4 MPa 내지 3.4 MPa)이다.
에틸렌 중합체
본원에 개시된 중합체는 에틸렌 및 적어도 하나의 올레핀 공단량체의 공중합체, 삼원공중합체 등을 포함하는 에틸렌계 중합체 또는 에틸렌 중합체이다. 한 측면에서, 본발명의 에틸렌 중합체는 에틸렌/α-올레핀 공중합체를 포함할 수 있다. 예를 들어, 에틸렌 중합체는 에틸렌/1-부텐 공중합체, 에틸렌/1-헥센 공중합체, 에틸렌/1-옥텐 공중합체, 또는 임의의 이들의 조합 ; 대안적으로, 에틸렌/1-부텐 공중합체; 대안적으로, 에틸렌/1-헥센 공중합체; 또는 대안적으로, 에틸렌/1-옥텐 공중합체를 포함할 수 있다.
본 발명의 에틸렌 중합체(예를 들어, 에틸렌 공중합체)의 예시적이고 비제한적인 예는 약 0.91 g/cm3 이하의 밀도, 약 0.2 이하의 CY-a 파라미터, 및 적어도 약 30의 HLMI/MI(고하중 용융 지수(HLMI) 대 용융 지수(MI)의 비)의 비를 가질 수 있다. 일부 측면에서, CY-a 파라미터는 약 0.02 내지 약 0.2, 약 0.03 내지 약 0.19, 약 0.04 내지 약 0.18, 이하 약 0.14, 또는 이하 약 0.1 범위 내일 수 있다. 일부 측면에서, HLMI/MI의 비는 적어도 약 40, 적어도 약 60, 적어도 약 80, 또는 적어도 약 100일 수 있고, 및 종종 최대 125, 최대 150, 또는 최대 200 범위 내일 수 있다. 이에 제한되지 않지만, 에틸렌 중합체는 약 0.01 내지 약 10 g/10 min, 약 0.1 내지 약 5 g/10 min, 또는 약 0.4 내지 약 4 g/10 min범위 내 용융 지수 (MI)를 가질 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 에틸렌 중합체는 약 5 내지 약 100 g/10min, 약 18 내지 70 g/10 min, 또는 약 30 내지 약 40 g/10 min 범위의 HLMI를 가질 수 있다.
본 발명의 에틸렌 중합체(예를 들어, 에틸렌 공중합체)의 또 다른 예시적이고 비제한적인 예는 약 0.91 g/cm3 이하의 밀도, 약 0.25 내지 약 0.75 범위 내 CY-a 파라미터, 및 약 2 내지 약 3 범위 내 Mw/Mn의 비를 가질 수 있다. 일부 측면에서, CY-a 파라미터는 약 0.28 내지 약 0.75, 약 0.3 내지 약 0.6, 또는 약 0.4 내지 약 0.65 범위 내일 수 있다. 일부 측면에서, Mw/Mn의 비는 약 2.1 내지 약 2.9, 약 2.1 내지 약 2.7, 약 2.2 내지 약 3, 또는 약 2.2 내지 약 2.7의 범위에 속할 수 있다. 이에 제한되지 않지만, 에틸렌 중합체는 약 27 이하, 약 25 이하, 약 22 이하 또는 약 20 이하, 종종 적어도 약 10, 12, 또는 15의 HLMI/MI 비를 가질 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 에틸렌 중합체는 종종 약 1.5 내지 약 3, 약 1.5 내지 약 2.5, 약 1.5 내지 약 2.2, 또는 약 1.5 내지 약 2 범위인 Mz/Mw의 비를 가질 수 있다.
이러한 에틸렌 중합체는 또한 달리 명시되지 않는 한 아래에 나열된 중합체 특성 중 하나를 가질 수 있으며, 임의의 조합으로도 가질 수 있다.
본원에 개시된 에틸렌계 중합체의 밀도는 약 0.91 g/cm3 이하이고 종종 약 0.90 g/cm3 이하일 수 있으며; 대안적으로 약 0.89 g/cm3 이하; 또는 대안적으로 약 0.88 g/cm3 이하이다. 에틸렌 중합체의 밀도에 대한 예시적이고 비제한적인 범위는 약 0.86 내지 약 0.91 g/cm3, 약 0.865 내지 약 0.905 g/cm3, 또는 약 0.87 내지 약 0.89 g/cm3, 등을 포함할 수 있다.
이들 에틸렌 중합체는 총 탄소 원자 1000개당 적어도 15개의 단쇄 분지(SCB), 및 종종 적어도 약 20개의 SCB 또는 적어도 약 25개의 SCB를 가질 수 있다. 전형적으로, SCB의 양은 총 탄소 원자 1000개당 최대 약 50 SCB 또는 최대 약 60 SCB의 범위일 수 있다. 따라서, 예시적이고 비제한적인 범위는 총 탄소 원자 1000개당 약 20 내지 약 60 SCB, 약 18 내지 약 55 SCB, 약 25 내지 약 50 SCB 등을 포함한다.
추가 측면에서, 이들 에틸렌 중합체는 증가하는 SCBD 또는 실질적으로 편평한 SCBD(단쇄 분지 분포)를 가질 수 있다. 전자에 관해서는 역 공단량체 분포라고도 하는 증가하는 SCBD에서, 일반적으로 중합체의 고분자량 성분은 저분자량 성분보다 더 높은 공단량체 혼입을 가지고: 일반적으로 분자량이 증가함에 따라 공단량체 혼입이 증가한다. 한 측면에서, 중합체의 총 탄소 원자 1000개당 단쇄 분지(SCB)의 수는 Mn에서보다 Mw에서 더 클 수 있다. 또 다른 측면에서, 중합체의 총 탄소 원자 1000개당 SCB의 수는 Mw에서보다 Mz에서 더 클 수 있다. 역시 또다른 측면에서, 중합체의 총 탄소 원자 1000개당 SCB의 수는 Mn에서보다 Mz에서 더 클 수 있다.
대안적으로, 이들 에틸렌 중합체는 편평한 SCBD(균일한 공단량체 분포)를 가질 수 있다. 편평한 SCBD는 총 탄소 원자 1000개당 단쇄 분지(SCB)의 수 대 약 -0.6 내지 약 0.6 범위인 에틸렌 중합체의 분자량 로그(D15 내지 D85 범위에서 선형 회귀를 통해 결정됨)의 플롯의 기울기, 및/또는 약 20% 이하인, 총 탄소 원자 1000개당 0.5 SCB 초과(D15 내지 D85 범위에 걸쳐 결정됨)만큼 평균 단쇄 분지 함량으로부터 벗어난 데이터 포인트의 백분율, 및/또는 약 10% 이하인, 1000개 총 탄소 원자당 1 SCB 초과(D15 내지 D85 범위에 걸쳐 결정됨)만큼 평균 단쇄 분지 함량으로부터 벗어난 데이터 포인트의 백분율을 특징으로 할 수 있다. 편평하거나 균일한 SCBD를 갖는 중합체는 예를 들어 미국 특허 제9,217,049호 및 제9,574,031호에 개시되어 있으며, 이들은 그 전문이 본원에 참고로 포함된다.
한 측면에서, 에틸렌 중합체는 예를 들어 상이한 분자량 특성을 갖는 2개의 중합체의 후-반응기 블렌드가 아닌 반응기 생성물(예를 들어, 단일 반응기 생성물)일 수 있다. 당업자가 쉽게 인식하는 바와 같이, 2개의 상이한 중합체 수지의 물리적 블렌드가 제조될 수 있지만, 이는 반응기 생성물에 요구되지 않는 추가 공정 및 복잡성을 필요로 한다. 추가로, 에틸렌 중합체는 임의의 적합한 첨가제를 추가로 함유할 수 있으며, 그의 비제한적 예는 항산화제, 산 스캐빈저, 블록 방지 첨가제, 슬립 첨가제, 착색제, 충전제, 중합체 가공 보조제, UV 첨가제 및 등, 뿐만 아니라 이들의 임의의 조합을 포함한다.
또한, 에틸렌 중합체는 본 명세서에서 논의된 바와 같이 메탈로센 촉매 시스템으로 생성될 수 있다. Ziegler-Natta 및 크롬 기반 촉매 시스템은 필요하지 않는다. 따라서, 일부 측면에서, 에틸렌 중합체는 측정 가능한 양, 즉 0.1중량 ppm 미만의 크롬, 마그네슘, 바나듐 또는 티타늄(촉매 잔류물)을 함유할 수 있다. 일부 측면에서, 에틸렌 중합체는 독립적으로 0.08 ppm 미만, 0.05 ppm 미만 또는 0.03 ppm 미만의 크롬; 추가적으로 또는 대안적으로, 마그네슘; 추가적으로 또는 대안적으로, 바나듐; 또는 추가적으로 또는 대안적으로, 티타늄을 함유할 수 있다.
물품 및 제품
제조 물품은 본 발명의 에틸렌 중합체로부터 형성될 수 있고, 및/또는 이를 포함할 수 있으며, 따라서, 이는 본원에 포함된다. 예를 들어, 본 발명의 중합체를 포함할 수 있는 물품은 농업용 필름, 자동차 부품, 병, 화학 물질용 용기, 드럼, 섬유 또는 직물, 식품 포장 필름 또는 용기, 식품 서비스 물품, 연료 탱크, 지오멤브 레인, 가정용 용기, 라이너, 성형 제품, 의료 기기 또는 재료, 야외 보관 제품(예: 야외 창고 벽용 패널), 야외 놀이 장비(예: 카약, 농구 골대 베이스), 파이프, 시트 또는 테이프, 장난감, 또는 교통 장벽(traffic barrier) 등을 포함하나, 이들로 제한되는 것은 아니다. 다양한 공정이 이들 물품들을 형성하는데 사용될 수 있다. 이들 공정의 비제한적인 예는 사출 성형, 블로우 성형, 회전 성형, 필름 압출, 시트 압출, 프로파일 압출, 열성형 등을 포함한다. 추가적으로, 유리한 중합체 가공 또는 최 종 사용 제품 속성을 제공하기 위하여 첨가제 및 개질제가 이들 중합체들에 종종 첨가된다. 이러한 공정 및 재료는 Modern Plastics Encyclopedia, Mid-November 1995 Issue, Vol. 72, No. 12; and Film Extrusion Manual - Process, Materials, Properties, TAPPI Press, 1992에 기술되어 있으며; 이들 문헌의 개시내용은 그 전문이 본원에 참고로 포함된다. 본 발명의 일부 측면들에 있어서, 제조 물품은 본원에 기술된 에틸렌 중합체 중 임의의 것을 포함할 수 있고, 상기 제조 물품은 필름 또는 성형 제품을 포함할 수 있다.
또한 본원에서는 본원에 개시된 임의의 에틸렌 중합체를 포함하는 제조 물품을 형성 또는 제조하는 방법이 고려된다. 예를 들면, 방법은 (i) 중합 반응기 시스템에서 중합 조건 하에 촉매 조성물을 에틸렌 및 올레핀 공단량체와 접촉시켜 에틸렌 중합체를 제조하는 단계, 여기서 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로-처리된 고체 산화물 및 선택적인 조촉매(예를 들어, 유기알루미늄 화합물)를 포함할 수 있음; 및 (ii) 상기 에틸렌 중합체를 포함하는 제조 물품을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 형성 단계는 블렌딩, 용융 가공, 압출, 성형(예: 사출 성형 또는 블로우 성형), 또는 열성형 등을 포함할 수 있으며, 이는 이들의 조합들을 포함한다. 항산화제, 산 제거제, 블로킹 방지 첨가제, 슬립 첨가제, 착색제, 충전제, 가공 보조제, UV 억제제 등뿐만 아니라 이들의 조합들과 같은 적합한 첨가제가 용융 가공 단계(압출 단계)에서 상기 중합체와 조합될 수 있다.
실시예
본 발명은 이하의 실시예들에 의해 추가 예시되며, 이러한 실시예들은 어떠한 방식으로도 본 발명의 범위에 제한을 가하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 통상의 기술자라면 본원의 설명을 읽은 후에, 본 발명의 사상 또는 첨부된 청구범위의 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 기타 측면들, 실시양태들, 변형들, 및 이들의 등가물을 떠올릴 수 있을 것이다.
용융 지수(MI, g/10분)는 190℃에서 2,160 그램 중량으로 ASTM D1238에 따라 측정되었고, 고하중 용융 지수 (HLMI, g/10분)는 190℃에서 21,600 그램 중량으로 ASTM D1238에 따라 측정되었다. 밀도는 ASTM D1505 및 ASTM D4703에 따라 분 당 15℃에서 냉각되고 실온에서 40 시간 동안 컨티셔닝된 압축 성형 샘플에 대해 입방 센티미터 당 그램 단위(g/cm3)로 측정되었다.
분자량 및 분자량 분포는 145℃에서 가동되는 IR4 검출기(Polymer Char, 스페인) 및 세 개의 Styragel HMW-6E GPC column(Waters, MA)이 장착된 PL-GPC 220(Polymer Labs, Agilent Company) 시스템을 이용하여 수득했다. 0.5 g/L의 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀(BHT)을 함유하는 이동 상 1,2,4-트리클로로벤젠(TCB)의 유량을 1 mL/분으로 설정하였고, 중합체 용액 농도는 분자량에 따라, 1.0 mg/mL 내지 1.5 mg/mL의 범위였다. 샘플 제조는 상기 용액을 주입용 샘플 바이알에 옮기기 전에, 가끔 부드럽게 교반하면서 명목상(nominally) 4시간 동안 150℃에서 수행되었다. 약 400 μL의 주입 용적이 사용되었다. 표준으로서, Chevron Phillips Chemical Company의 HDPE 폴리에틸렌 수지인 MARLEX ® BHB5003을 사용하는 적분 보정 방법을 사용하여 분자량 및 분자량 분포를 추론했다. 상기 광범위 표준의 적분표(integral table)는 SEC-MALS를 이용해서 별도의 실험에서 미리 결정했다. Mn은 수-평균 분자량, Mw는 중량-평균 분자량, Mz는 z-평균 분자량이고, Mp는 피크 분자량(분자량 분포 곡선의 가장 높은 지점의 위치, 분자량 단위)이다.
용융 유변학적 특성화를 다음과 같이 수행했다. 작은 변형률(10% 미만) 진동 전단 측정은 평행판 기하학을 사용하여 Anton Paar MCR 유량계에서 수행되었다. 모든 유변학적 테스트는 190℃에서 수행되었다. 복소 점도 |η*| 대 주파수 (ω) 데이터를 이후 세 개의 변형 파라미터 Carreau-Yasuda(CY) 실험 모델을 사용하여 곡선 피팅하여 제로 전단 점도 -η0, 특징적 점성 이완 시간 -τη, 및 폭 파라미터 - a (CY-a 파라미터)를 얻었다. 단순화된 Carreau-Yasuda(CY) 실험 모델은 다음과 같다.
,
여기서: |η*(ω) | = 복소 전단 점도 크기;
η0 = 제로 전단 점도;
τη = 점성 이완 시간 (타우(η));
a = "폭" 파라미터 (CY-a 파라미터);
n = 2/11로 고정된, 최종 멱법칙 기울기를 수정; 및
ω = 진동 전단 변형의 각주파수.
CY 모델 및 유도된 파라미터의 의미 및 해석에 대한 자세한 내용은 C. A. Hieber and H. H. Chiang, Rheol. Acta, 28, 321 (1989); C.A. Hieber and H.H. Chiang, Polym. Eng. Sci., 32, 931 (1992); and R. B. Bird, R. C. Armstrong and O. Hasseger, Dynamics of Polymeric Liquids, Volume 1, Fluid Mechanics, 2nd Edition, John Wiley & Sons (1987):에서 발견할 수 있고; 이들 각각은 그 전문이 본원에 참고로 포함된다.
에틸렌 중합체 또는 제조 물품(ppm 기준)의 촉매 잔류물의 양과 같은 금속 함량은 PerkinElmer Optima 8300 장비에서 ICP 분석으로 결정할 수 있다. 중합체 샘플은 밤새 황산으로 Thermolyne 용광로에서 재화한 다음 HCl 및 HNO3(3:1 v:v)로 HotBlock에서 산 분해할 수 있다.
아래에 표시된 예 중 일부는 실험실 배치 반응기에서 만들어졌고 나머지는 연속 루프 파일럿 플랜트 반응기에서 만들어졌다. 전자의 경우, 400 rpm으로 작동하는 해양 교반기가 장착된 2.2리터 강철 반응기에서 중합 작동을 수행했다. 반응기는 증기/물 열 교환기에 연결되어 물이 순환되는 강철 재킷으로 둘러싸여 있었다. 반응기 온도는 전자 제어 기기의 도움으로, 열 교환기에 공급되는 증기와 물의 양을 변화시켜 1℃이내로 제어되었다.
달리 명시되지 않는 한, 화학적으로-처리된 고체 산화물(CTSO)의 소량(일반적으로 0.01 내지 0.10g)을 먼저 질소 하에서 건조 반응기에 충전했다. 다음으로, 전형적으로, 원하는 메탈로센의 알려진 중량%를 함유하는 톨루엔 용액 2 mL를 첨가한 다음, 헵탄 중 0.6 mL의 1M TIBA 용액, 이어서 1.2L의 이소부탄 액체를 첨가했다. 그런 다음 반응기를 지정된 온도(달리 언급하지 않는 한 90℃로 가열하고 마지막으로 에틸렌을 반응기에 추가하여 고정된 압력(달리 언급하지 않는 한 450psig)과 동일하게 만들었다.
반응 혼합물을 일반적으로 약 1시간 동안 교반했다. 에틸렌이 소모됨에 따라 압력을 유지하기 위해 더 많은 에틸렌이 유입되었다. 설정 압력을 유지하기 위해 반응기로 들어가는 에틸렌의 흐름을 기록하여 중합 속도를 기록했다. 할당된 시간 후, 에틸렌 흐름을 멈추고 반응기를 천천히 감압하고 개방하여 과립형 중합체 분말을 회수했다. 대부분의 경우 반응기는 벽 스케일, 코팅 또는 기타 오염 형태의 징후 없이 깨끗했다. 이어서 중합체 분말을 제거하고 칭량했다. 활성은 시간당 CTSO의 그램당 생성된 중합체의 그램으로 특정되었다.
하기의 다른 실시예에서, 명시된 바와 같이, 반응기는 23갤런(87리터)의 부피를 갖는 액체로 가득 찬 15.2 cm 직경의 파이프 루프였다. 액체 이소부탄이 희석제로 사용되었으며, 중합체 생성물의 분자량을 조절하기 위해 때때로 약간의 수소가 첨가되었다. 반응기 압력은 약 4 MPa(달리 언급하지 않는 한 약 580 psig)였다. 반응기 온도는 아래 표시된 대로 65℃에서 110℃ 범위에 걸쳐 변화될 수 있다. 반응기는 1.25시간의 체류 시간을 갖도록 작동되었다. CTSO는 0.35cc 순환 볼-체크 피더를 통해 추가되었다. 정상 상태 조건에서, 이소부탄 공급 속도는 약 46 L/hr이었고, 에틸렌 공급 속도는 약 30 lb/hr였으며, 1-헥센 공급 속도는 중합체 생성물의 밀도를 조절하기 위해 변화되었다. 희석제 내의 에틸렌 농도는 일반적으로 8-12 몰%였다. 반응기 내의 촉매 농도는 촉매 시스템 함량이 반응기 함량의 중량 기준 0.001 내지 약 1 중량% 범위가 되도록 할 수 있다. 중합체를 약 25 lb/hr의 속도로 반응기로부터 제거하고 플래쉬 챔버에서 회수했다. Vulcan 건조기를 사용하여 중합체를 질소 하에 약 60-80℃에서 건조시켰다.
트리에틸알루미늄(TEA) 또는 트리이소부틸알루미늄(TIBA)과 같은 조촉매는 일반적으로 지시된 바와 같이 전형적으로 희석제의 중량을 기준으로 약 1 내지 100 ppm의 농도로 첨가되었다. 반응기의 정전기 축적을 방지하기 위해 일반적으로 Stadis 450으로 판매되는 소량(희석제 5 ppm 미만)의 상업용 정전기 방지제를 첨가했다.
실시예 1-69
도 1은 에틸렌/1-헥센 공중합체 밀도와 단쇄 분지(SCB) 함량 사이의 기본적인 관계를 예시한다. 플롯은 y축에 플롯된 각 중합체의 단독 중합체에 대한 상대적인 밀도 강하를 나타낸다. 밀도 강하는 분자량 분포에 따라 달라진다. 이러한 다양한 샘플은 분자량과 분자량 분포가 매우 다르지만 그럼에도 불구하고, 다분산성 또는 분자량에 관계없이, SCB 수(탄소 1000개당)를 Mw/Mn으로 나누고 0.32승한 값에 대해 밀도 강하를 플롯할 때, 단일 선으로 수렴한다. 이 관계(DesLauriers 법칙)는 EP 2 462 424 B1 및 Polymer 180 (2019) 121730(둘 다 그 전문이 본원에 참고로 포함됨)에 개시되어 있으며, 여기에서 이러한 데이터 포인트를 가져왔고, 그 기원이 설명되어 있다. 이것들은 법칙의 보편성을 입증하기 위해 다양한 촉매제에 의해 만들어졌다. 이 DesLauriers 원리는 촉매 시스템(예: 메탈로센, Ziegler, 크롬, 바이모달 이중 메탈로센)과 독립적이기 때문에 분지 함량 또는 밀도를 계산하는 데 사용할 수 있다. 그리고, 이 관계는 하기 실시예에 기재된 중합체의 SCB 함량을 계산하는 데 사용되었다.
표 I은 좁은 MW 분포를 가진 도 1의 중합체의 특성을 요약한 것이다. 인용된 참조문헌에 기재된 바와 같이, 이들은 자유 라디칼 유래인 최저 밀도 중합체를 제외하고는 메탈로센 촉매로 제조되었다. 표 I의 데이터는 또한 도 2에도 플롯되어, 도 1과 동일한 관계를 나타내지만, 중합체 세트가 좁은 분자량 분포로 제한된다. 곡선에 맞게 방정식을 도출할 수 있다. 도 2의 곡선의 형태는 도 1과 조금 다른데 이제 X축이 대수 척도에 비해 선형이기 때문이다.
도 3에서, 동일한 데이터가 다시 플롯되고 반전된다. 즉 Y축에는 SCB의 개수를, X축에는 용융 지수 1에서의 밀도 자체(밀도 감소가 아님)를 나타내었다. 이는 그래프에 표시된 방정식을 생성가능하게 하고, 이는 이후의 실시예에서, 측정된 중합체 밀도에서 SCB의 수를 계산하기 위해 사용되었다.
마지막으로, 도 4는 이번에는 크롬 촉매로부터 얻은 또 다른 데이터 세트를 나타낸다. 도 4는 단지 밀도에 대한 분기 길이의 영향을 나타낸다. 각 공단량체에 대해 공단량체의 양이 증가함에 따라 밀도가 전형적으로 감소하는 것을 볼 수 있다; 에틸렌 공중합체 밀도는 중합체에 혼입된 공단량체의 양에 대해 플롯된다. 이 경우 촉매는 600℃에서 하소된 Cr/실리카였으며, 슬러리 반응기 온도는 밀도가 떨어지면서 105℃에서 70℃까지 다양했다. 특히, 몰 기준으로 1-옥텐, 1-헥센 또는 1-펜텐에 필요한 것보다 더 많은 프로필렌 또는 1-부텐 혼입이 특정 밀도에 도달하는 데 필요하다. 이 관계는 사용된 촉매 유형에 관계없이 관찰된다. 가중치 기준으로 플롯하면 곡선이 서로 더 가깝게 이동하는 경향이 있다.
촉매는 공단량체 혼입 효율이 매우 다양하다. 즉, 반응기에 특정 양의 공단량체를 첨가하면 촉매의 선택에 따라 생성되는 중합체 밀도가 크게 변한다. 공단량체 혼입 효율은, 희석제-공단량체 혼합물이 반응기에서 배출될 때 플래시되는 슬러리 공정에서 특히 중요하다. 1-헥센 및 1-옥텐과 같은 일부 공단량체는 끓는점이 상대적으로 높으며 프로필렌 또는 1-부텐에 비해 플래시하기가 더 어렵다. 따라서, 일반적으로 반응기에서 상대적으로 낮은 농도의 공단량체를 갖는 것이 유리하며, 따라서 더 낮은 밀도를 달성하기 위해 촉매에 의한 높은 공단량체 혼입 효율이 요구된다.
도 5는 상이한 촉매가 상이한 공단량체 혼입 효율을 갖는다는 원리를 예시한다. 도 5의 데이터는 중합 동안 슬러리 반응기에 존재하는 에틸렌에 대한 1-헥센의 몰비의 함수로서 3가지 촉매에 대한 밀도 감소를 나타낸다. 이 두 도면에 표시된 중합체는 메탈로센 촉매 또는 Ziegler 촉매를 사용하여 실험실 반응기에서 위에서 설명한 대로 생산되었다. 2개의 메탈로센 촉매는 CTSO 1이 2개의 메탈로센 중 하나인 비스(인데닐)지르코늄 디클로라이드("인덴일") 또는 MET15와 결합된 전술한 바와 같이 구성되었다. 반응은 20 ppm에서 트리이소부틸알루미늄과 함께 2-3 ppm의 반응기에서 메탈로센 농도를 사용했다. 다른 조건은 위에서 설명한 것과 같다. Ziegler 촉매는 미국 특허 제4,325,837호에 기술된 바와 같이 제조되었고 50 ppm의 TEA 조촉매와 함께 사용되었다.
에틸렌에 비해 반응기에 첨가된 주어진 수준의 1-헥센에 대해, Ziegler 촉매는 메탈로센 촉매만큼 거의 밀도를 낮추지 않다. MET15 촉매는 공단량체의 특히 우수한 혼입제이다. 인데닐로 약칭되는 촉매는 중간 반응을 갖는다.
공단량체 혼입 효율은 다음과 같이 정량화할 수 있다. 에틸렌 및 공단량체 혼입은 모두 두 단량체의 농도를 기초로 하는 1차 반응이다. 따라서, 중합체의 1-헥센:에틸렌 몰 함량은 반응기에서 이들 반응물의 1-헥센:에틸렌 몰비에 직접적으로 의존한다(비례). 따라서 공단량체 혼입 효율은 반응기에서 공단량체:단량체(몰) 비에 대한 중합체 공단량체:단량체(몰) 비를 플롯하여 얻은 선의 기울기이다. 이것은 도 5의 데이터를 사용하는 도 6에서 설명된다. 데이터 포인트가 원점을 통과하는 직선을 형성하여 1차 종속성을 나타낸다. 이 선의 기울기는 중합체(이 경우 특정 공단량체, 1-헥센에 대해)를 생성하는 데 사용되는 중합 온도에서의 촉매의 공단량체 혼입 효율이다. 기울기가 높을수록 공단량체 혼입 효율이 높아진다.
표 II(실시예 17-26)는 도 5-6에 플롯된 실제 데이터 포인트의 일부를 나타낸다. 표 II는 다양한 슬러리 조건에서 1-헥센과 에틸렌을 공중합하는 다양한 촉매에 대해 단 몇 개의 데이터 포인트 또는 단일 데이터 포인트에서 공단량체 혼입 효율을 어떻게 계산할 수 있는지 나타낸다. 에틸렌에 대한 1-헥센의 반응기 내 몰 농도 비가 먼저 계산된다. 예를 들어, 실시예 17에서 반응기 헥센:에틸렌 몰비는 5.697로 계산되었다. 다음으로, 중합체에 혼입된 각 단량체의 양을 기준으로 상기 비를 계산했다. 이 실시예에서의 중합체 밀도 0.9242를 단일 중합체 밀도(0.958)에서 빼서 0.0338의 밀도 감소를 얻었다. 그런 다음 이 값을 도 2의 라인과 비교하여 탄소 1000개당 분지 11.4개의 분지 함량을 산출한다. 이것은 1.14 mol%의 헥센 농도와 98.86 mol%의 에틸렌 농도로 변환된다. 전자를 후자로 나누면 중합체에서 0.0115의 1-헥센 대 에틸렌 몰비가 얻어진다. 마지막으로, 중합체 헥센:에틸렌 몰비를 반응기 헥센:에틸렌 몰비로 나누면 특정 온도 조건 하에서 실행되는 이 특정 지글러 촉매에 대한 1-헥센 혼입 효율이 얻어지며, 이는 실시예 17에서 0.20%였다.
공단량체 혼입 효율은 촉매 선택과 중합 온도의 영향을 받는다. 더 높은 온도는 모든 촉매를 더 효율적으로 만드는 경향이 있다. 모든 메탈로센 실행(표 II의 실시예 20-26, 1% 내지 4% 효율)은 지글러 촉매보다 더 높은 효율을 가졌다. 실시예 21-25는 다음과 같이 수행되었다.
실시예 21에서, 메탈로센 화합물은 공급 보조제로서 15% Cabosil 실리카와 함께 플루오르화 실리카-코팅된 알루미나에 의해 활성화된 MET16이었다. 72% 알루미나를 함유하고 그램당 450제곱미터의 표면적 및 약 1.2 cc/g의 공극 부피를 갖는 실리카-알루미나를 Sasol Company로부터 입수했다. 이 물질은 약 70 미크론의 평균 입자 크기를 갖는 분말로 얻어졌다. 전형적인 제조에서, 650 g의 이 물질을 2000 mL의 물 및 암모늄 플루오르화수소를 함유하는 용액으로 함침시켜 지지체 상의 7% 플루오라이드와 동일하게 했다. 이는 젖은 모래의 농도를 갖는 습윤 분말을 형성했다. 그런 다음 이 제제를 평평한 팬에 놓고 약 16 시간 동안 110℃에서 진공 건조되도록 두었다. 이 물질을 바닥에 다공성 분배기 디스크가 장착된 6 인치 튜브에 넣어 소성했다. 분말이 디스크에 담지되는 동안 13X 분자체 컬럼을 통과하여 건조된 공기 또는 질소를 약 0.15 피트/초의 선형 속도로 디스크를 통해 송풍시켰다. 튜브 주변의 전기로를 켜고 100 ℃시간의 속도로 600 ℃까지 온도를 올린 다음 건조 공기에서 8 시간 동안 유동화했다. 냉각 후 플루오르화된 실리카 코팅된 알루미나(화학적으로-처리된 고체 산화물, CTSO 1)를 대기에 노출시키지 않고 건조 질소 하에 보관했다.
중합 실험은 74.7 lb/h의 이소부탄 희석제, 34.9 lb/hr의 에틸렌 및 4.91 lb/hr의 헥센의 공급 스트림과 함께 23갤런 부피, 6인치 직경의 파일럿 플랜트 루프 반응기에서 수행되었다. 이 이소부탄 공급물의 소량, 약 4%를 사전 접촉 용기를 통해 통과시켰다. MET16 메탈로센(총 iC4 흐름을 기준으로 0.28 ppm)을 18.8 ppm의 TIBA(총 iC4 흐름을 기준으로 함) 및 CTSO 1과 함께 사전 접촉기(체류 시간 30분)를 통해 추가했다. CTSO에 기초한 최종 활성은 CTSO 1의 lb당 제조된 4608 lb PE였다. 반응기 고형물 농도는 약 29 wt%였고, 반응온도는 77℃로 조절했다. 33.7 lb/hr의 중합 속도가 달성되어, 펠릿 용융 지수가 1.69이고 펠릿 HLMI가 31.4 g/10분인 중합체를 생성했다. 반응기에서 배출된 고분자 분말의 밀도는 0.9122 g/cc였으며, 펠릿화 후 밀도는 0.9129 g/cc로 측정되었다. 끈적거림이나 팽윤 없이 고체 중합체를 얻었다. 벌크 밀도는 24 lb/ft3였다.
실시예 22는 실시예 21과 유사하게 수행되었다. 표 2에 나타낸 바와 같이 일부 공급 스트림은 온도와 더불어 약간 상이했다. 온도는 76.7℃였고, MET16 메탈로센은 이소부탄 희석제의 중량을 기준으로 0.85 ppm으로 공급되었다. 생산성은 CTSO 1 lb당 제조된 6557 lb의 중합체였다. 반응기에서 배출된 중합체 분말의 밀도는 0.9113 g/cc이었다. 펠릿화 후, 중합체는 0.76 g/10분의 용융 지수, 14.12 g/10분의 HLMI 및 0.9120 g/cc의 밀도를 가졌다.
실시예 23은 실시예 21과 유사하게 수행되었으나, 상이한 CTSO를 사용했다. 330 ㎡/g의 표면적 및 1.2 mL/g의 공극 부피를 갖는 알루미나(보헤마이트)를 W.R. Grace로부터 입수했다. 알루미나를 회전로에서 5분 동안 600℃에서 소성했다. 그런 다음 황산 암모늄으로 알루미나의 중량을 기준으로 15 중량% 황산염까지 함침하고, 이후 전술한 바와 같이 건조 및 소성하여 CTSO 2를 얻었다.
중합 온도는 73.9 ℃였고, MET16은 이소부탄 희석제를 기준으로 1.68 ppm으로 공급되었다. TIBA는 이소부탄을 기준으로 19.5 ppm으로 공급되었다. 생산성은 CTSO 2 lb당 제조된 4322 lb의 중합체였다. 반응기에서 배출된 중합체 분말의 밀도는 0.9054 g/cc이었다. 펠릿화 후, 공중합체는 1.22 g/10분의 용융 지수, 17.05 g/10분의 HLMI 및 0.9054 g/cc의 밀도를 가졌다.
실시예 24는 실시예 21과 유사하게 수행되었으나, CTSO와 비스-인데닐 지르코늄 디클로라이드 메탈로센 화합물이 상이했다. 13% 알루미나를 함유하고 450 ㎡/g의 표면적 및 약 1.3 cc/g의 공극 부피 및 약 100 마이크론의 평균 입자 크기를 갖는 실리카-알루미나를 W.R. Grace로부터 입수했다. 전형적인 제조에서, 650 g의 이 물질을 2000 mL의 물 및 암모늄 플루오르화수소를 함유하는 용액으로 함침시켜 지지체 상의 7% 플루오라이드와 동일하게 했다. 이는 젖은 모래의 농도를 갖는 습윤 분말을 형성했고, 이후 위에서 설명한 바와 같이 건조 및 하소하여(450 ℃제외) CTSO 3을 생성했다.
중합 온도는 68.3℃였고, 메탈로센은 이소부탄을 기준으로 3.24 ppm으로 공급되었고, 조촉매로 사용된 TEA는 8 ppm이었다. 생산성은 CTSO 3 lb당 제조된 897 lb의 중합체였다. 반응기에서 배출된 중합체의 밀도는 0.9000이었다. 펠릿화 후, 중합체 MI는 0.71 g/10분, HLMI는 14.01 g/10분, 밀도는 0.9023 g/cc이었다.
실시예 25는 표 II에 나타낸 바와 같이 실시예 24와 유사했다. 온도는 68.3℃였고, 메탈로센은 이소부탄을 기준으로 3.79 ppm의 농도로 반응기에 공급되었고, TEA는 8 ppm이 사용되었다. 생산성은 CTSO 3 lb당 제조된 990 lb의 중합체였다. 반응기에서 배출된 중합체의 밀도는 0.8993이었다. 펠릿화 후, 중합체는 MI가 1.17 g/10분, HLMI가 30.98 g/10분, 밀도가 0.9039 g/cc였다.
실시예 20 및 26은 표 II에 요약된 바와 같이 실시예 21-25와 유사한 방식으로 수행되었다.
도 6의 정보를 사용하고 도 1-3의 관계와 결합되어, 구성 실시예 27-31은 하기 기술되고 표 III에 요약된 바와 같이 생성된 이론적 실행이다. 구성 실시예 27의 경우, CTSO 4는 20% 실리카 및 9% 플루오라이드를 함유하는 실리카 코팅된 알루미나로부터 제조될 수 있다. 테트라에틸 오르토실리케이트는 암모늄 플루오라이드가 용해된 메탄올에 희석될 수 있다. 그런 다음 이 용액을 알루미나에 함침시킬 수 있다(예: 표면적 330 m2/g, 공극 부피 1.2 mL/g, 600℃에서 8시간 동안 소성). 밤새 100℃에서 진공 건조시킨 후, 촉매를 전술한 바와 같이 650℃에서 8시간 동안 소성하여 CTSO 4를 생성할 수 있다.
중합은 74.2℃의 이소부탄에서 23 gal 파일럿 플랜트 루프 슬러리 반응기에서 수행할 수 있다. 이소부탄 공급 속도는 65.3 lb/h이고, 1-헥센 공급 속도는 12.5 lb/hr이며, 에틸렌 공급 속도는 28.3 lb/hr이다. 비스-인데닐 지르코노센 디클로라이드 메탈로센을 반응기에 공급하여 이소부탄 희석제 0.8 ppm과 동일하게 하고, TIBA 조촉매를 이소부탄 20 ppm과 동일하게 첨가한다. 고체 함량은 약 30 중량%이고 체류 시간은 1.25 시간이다. 생성된 중합체는 MI가 1.6 g/10분, HLMI가 27.2 g/10분, 밀도가 0.8950 g/cc일 것으로 예상된다. 생산성은 CTSO 4 1lb당 중합체 3450lb이고, 공단량체 혼입 효율은 표 III에 나타낸 바와 같이 1.28%이다.
구성 실시예 28은 실시예 27과 유사하게 수행되지만, 0.4 ppm의 이소부탄 공급물과 동일한 속도로 MET16 메탈로센 공급물을 사용한다. 공급물은 다음과 같다: 에틸렌 30.1 lb/hr, 이소부탄 68.3 lb/hr 및 헥센 8.4 lb/hr. 조촉매는 18.3 ppm의 이소부탄과 같도록 첨가된 TIBA이다. 이 실험은 MI가 0.77 g/10분, HLMI가 13.1 g/10분, 밀도가 0.8887 g/cc인 중합체를 생성할 것으로 예상된다. 생산성은 CTSO 4 lb당 중합체 5800 lb이고 공단량체 혼입 효율은 3.78%이다.
구성 실시예 29는 실시예 27과 유사하게 수행되나, 다른 CTSO(황산화 지르코니아-알루미나)를 사용한다. 600℃에서 하소한 다음 이소프로판올에 2 mmol/g의 지르코늄 테트라부톡사이드를 함침시킨 알루미나(330 m2/g, 1.2 mL/g, 평균 입자 크기 100 μm)로 제조할 수 있다. 건조 후(예를 들어, 100℃에서 진공 하에 16시간), 고체를 황산염 20중량%와 동일한 황산암모늄 수용액으로 함침시킬 수 있다. 100℃에서 밤새 진공 건조시킨 후, 촉매를 전술한 바와 같이 600℃에서 8시간 동안 소성하여 CTSO 5를 생성할 수 있다.
메탈로센은 0.5 ppm의 이소부탄 공급물, 에틸렌은 35.5 lb/hr, 이소부탄은 70.2 lb/hr, 1-헥센은 10.5 lb/hr, TIBA는 15.9 ppm의 이소부탄과 동일한 속도로 공급된다. 이 실험은 0.85 g/10min의 MI, 14.5 g/10min의 HLMI 및 0.8873 g/cc의 밀도를 생성할 것으로 예상된다. 생산성은 CTSO 5 lb당 중합체 6790 lb이고, 공단량체 혼입 효율은 3.52%로, 낮은 온도로 인해 위의 실시예와 약간 다르다.
구성 실시예 30은 실시예 27과 유사하게 수행되지만, 0.8 ppm의 이소부탄 공급물과 동일한 속도로 MET15 메탈로센 공급물을 사용한다. 공급물은 다음과 같다: 에틸렌 38.2 lb/hr, 이소부탄 71.4 lb/hr, 1-헥센 12.6 lb/h, 및 25.2 ppm의 이소부탄이 되도록 첨가된 TIBA. 이 실험은 MI가 0.45 g/10분, HLMI가 7.7 g/10분, 밀도가 0.8839 g/cc인 중합체를 생성할 것으로 예상된다. 생산성은 CTSO 4 lb당 중합체 4434 lb이고, 공단량체 혼입 효율은 표 III에 나타낸 바와 같이 2.02%이다.
구성 실시예 31은 CSTO 6(플루오르화-염화 아연-코팅된 알루미나)을 사용하여, 실시예 27과 유사하게 수행되고, CSTO 6(플루오르화-염화 아연-코팅된 알루미나)은 600℃에서 하소되고 물 내 2 mmol/g의 질산아연을 함침시킨 알루미나(330 m2/g, 1.2 mL/g, 100 ㎛ 평균 입자 크기)로부터 제조될 수 있다. 100℃에서 진공 하에 16시간 동안 건조시킨 후, 고체 산화물은 600℃에서 8시간 동안 건조한 공기의 유동층에서 소성될 수 있다. 질소에서 400℃ 냉각한 후 사염화탄소 지지체 그램당 0.2 mL를 유동화 스트림에 주입하고 여기서 고체 산화물을 통해 통과한다. 그런 다음 온도를 600℃로 다시 올리고 질소 유동화 하에서 600℃에서 5 mmol/g의 프레온 134A 증기에 노출한다. 질소에서 실온으로 냉각한 후 결과는 CTSO 6이다.
메탈로센은 비스-(n-부틸시클로펜타디에닐)지르코늄 디클로라이드("n부틸"로 약칭함)이며, 이는 이소부탄 공급물의 0.3 ppm과 동일한 속도로 공급된다. 공급물은 다음과 같다: 에틸렌 29.3 lb/hr, 이소부탄 64.8 lb/hr, 14.2 lb/hr의 1-헥센, 및 28.7 ppm의 이소부탄이 되도록 첨가된 TEA. 이 실험은 MI가 2.5 g/10분, HLMI가 40 g/10분, 밀도가 0.8877 g/cc인 중합체를 생성할 것으로 예상된다. 생산성은 CTSO 6 lb당 중합체 7856 lb이고 공단량체 혼입 효율은 1.03%이다.
표 IVa에 정리된 바와 같이, 실시예 32 내지 69는 메탈로센 화합물, 화학적으로-처리된 고체 산화물 및 유기알루미늄 조촉매를 포함하는 촉매 시스템을 사용한 슬러리 중합 실험으로서, 실시예 20 내지 26과 유사하게 수행되었다. 중합 온도는 68-80℃ 범위였으며 공단량체 혼입 효율은 1-2.2% 범위였다. 실시예 32 내지 69에 대한 중합체 특성 데이터는 표 IVb에 요약되어 있다: 밀도는 0.89 내지 0.915 g/cc 범위이고, 총 탄소 원자 1000개당 SCB는 12 내지 29 SCB/탄소 원자 1000개 범위이다.
실시예 32 내지 69에서 화학적으로-처리된 고체 산화물 A 내지 E를 다음과 같이 제조했다. CTSO A는 플루오르화 실리카-알루미나였다. 실리카-알루미나 지지체는 W.R. Grace로부터 등급 MS13-110으로 입수했다. 이는 13%의 알루미나를 함유하고 표면적은 450 m2/g, 공극 부피는 1.3 mL/g, 평균 입자 크기는 100 μm이다. 수중 암모늄 플루오라이드 용액을 고체 산화물과 혼합하여 불소를 지지체에 함침시켜 습윤 분말을 생성했다. 12시간 동안 진공 하에 100℃에서 건조시킨 후, 분말은 9 중량% 불소를 포함했다. 그런 다음 8시간 동안 건조한 공기의 유동층에서 450℃에서 소성했다. 그런 다음 냉각하고 건조 질소로 퍼징하고 질소 하에 저장했다.
CTSO B는 황산화 알루미나였다. 상기 기재된 알루미나(보헤마이트)를 수득하고 공기 중에서 600℃에서 소성에 의해 감마 알루미나로 전환시켰다. 그런 다음 20 중량% 황산염과 같은 황산 암모늄 수용액으로 함침시켰다. 100 ℃에서 진공 하에 12시간 동안 건조시킨 후, 유동층에서 건조 공기 중에서 630 ℃에서 8시간 동안 소성했다. 그런 다음 냉각하고 건조 질소로 퍼징하고 질소 하에 저장했다.
CTSO C는 티탄화되고, 플루오르화되고, 실리카 코팅된 알루미나였다. 먼저, 28 중량% 실리카(450 m2/g, 1.3 mL/g, 40 ㎛ 평균 입자 크기를 포함하는 Sasol로부터의 실리카-코팅된 알루미나를 9 중량% 불소와 동일한 암모늄 헥사플루오로티타네이트 수용액으로 지지체 상에 함침시켰다. 진공 하에 100℃에서 건조시킨 후, 450 ℃의 건조 공기 하에서 위에서 설명한 바와 같이 유동층에서 8시간 동안 하소시켰다. 이후 냉각시킨 다음 건조 질소로 퍼징하고 질소 하에 보관했다.
CTSO D는 플루오르화 실리카 코팅된 알루미나였다. 불소 공급원으로 암모늄 플루오라이드를 사용한 것을 제외하고는 CTSO C와 동일한 방식으로 제조했다. CTSO E는 85 중량% CTSO D 및 15 중량% 발연 실리카(Cabosil EH5)의 혼합물이었다.
실시예 70-77
이들 실시예는 용액 공정에서 플라스토머/엘라스토머를 생산하기 위해 CTSO를 포함하는 촉매 시스템의 사용에 관한 것이다 - 중합체 팽윤은 문제가 되지 않으며, 중합 온도는 훨씬 더 높고(공단량체 혼입 효율은 훨씬 더 높음) 중합체는 형성되면 용액 내로 들어간다.
실시예 70 내지 72는 표 V에 요약되어 있고, 액체를 아래로 밀어낸 다음 다시 벽 주위로 밀어내는 400rpm으로 회전하는 해양 프로펠러가 장착된 2.2-L 반배치 스테인리스 스틸 반응기에서 수행되었다. 화학적으로-처리된 고체 산화물은 CTSO A이고, 메탈로센 화합물은 라세미 디메틸 실리콘-가교된 비스-인데닐 지르코늄 디클로라이드였다. 조촉매는 TIBA의 1M 용액 0.4mL였다. 중합 온도는 표 V에 나타낸 바와 같이 ~150℃였으며, 제조된 중합체는 용매로 사용된 1리터의 시클로헥산에 즉시 용해되었다. 에틸렌은 필요에 따라 450 psig로 공급되었다. 표 V에 나타낸 바와 같이, 1-헥센의 양은 30 mL에서 50 mL로 다양했고 공중합체 밀도는 ~0.89-0.905로 다양했다. 이 메탈로센은 낮은 Carreau-Yasuda "a" 파라미터(CY-a 파라미터)에서 명백한 바와 같이, 낮은 밀도에서 용액 공정에서 상대적으로 높은 수준의 장쇄 분지를 생성했다.
일단 주어진 촉매 및 중합 온도에 대해 혼입 효율이 확립되면, 도 3 또는 도5과 같은 완전한 곡선을 만드는 것이 가능하다. 표 II에 나타난 바와 같이 혼입 효율을 계산하는 데 하나의 중합체 샘플만 필요하다. 그 기울기로부터 도 6과 같은 그래프를 생성할 수 있다. 그리고 그 선형 플롯으로부터 밀도는 모든 반응물 농도에서 도 1에 도시된 관계로부터 얻어진다. 따라서 다양한 메탈로센과 화학적으로-처리된 고체 산화물을 포함하는 촉매 시스템을 사용하여 플라스토머/엘라스토머 밀도를 달성하는 데 필요한 반응물 농도를 계산하고 예측할 수 있다.
표 VI은 464 psig 에틸렌 압력에서 Ziegler 촉매를 사용하고 용매로 사이클로헥산을 사용하는 용액 공정에서 155℃에서 21회 중합 실험의 결과를 나타낸다. 도 7에서, 밀도 변화는 용액 반응기에서 1-헥센:에틸렌 몰비에 대해 플롯된다. 이제 표 VI을 참조하면, 첫 번째 행은 이러한 Ziegler 실험에 대한 1-헥센 혼입 효율: 155℃에서 2.7%의 공단량체 혼입 효율을 나타낸다. 80 ℃에서 동일한 촉매는 0.25%의 1-헥센 혼입 효율을 가졌다. 80에서 155 ℃의 온도 변화는 10.8 배만큼 1-헥센의 혼입 효율을 증가시켰다. 이와 동일한 온도 보정 계수를 다른 촉매에 적용하면(표 III 참조) 155℃에서 메탈로센 촉매에 대한 추정 공단량체 혼입 효율 값이 표 VI에 표시된다.
155℃에서 이들 추정 혼입 효율은 1-헥센:에틸렌(몰) 중합체 대 1-헥센:에틸렌(몰) 반응기(155℃에서)의 플롯을 생성하기 위해 적용될 수 있고, 이는 도 8에 도시되어 있고, 이는 표 VI에 나열된 효율을 기초로 계산된다. 도 8에서의 플롯은 도 1 및 도 3에 기술된 관계를 사용하여 도 9에 도시된 또 다른 플롯으로 변환될 수 있다 - 이 플롯은 용액 반응기에서 최종 중합체 밀도와 1-헥센:에틸렌 몰비 사이의 예상되는 관계를 나타낸다.
표 V-VI의 정보와 도 6-9의 관계를 사용하여, 용액 공정을 사용하는 구성 실시예 73-77은 표 VII에 요약되어 있다. 표 VII에 나타낸 구성 실시예는 더 높은 중합 온도로 인해 수정된 혼입 효율 값의 사용을 제외하고는 표 III에서와 같이 얻어졌다. 또한, 도 5 및 도 9를 비교함으로써, 공단량체 혼입 효율에 대한 중합 반응 온도의 영향을 명확하게 식별할 수 있다. 즉, 고온 용액 공정에서 1-헥센이 중합체에 혼입되는 데 더 적은 1-헥센이 필요하다.
실시예 78-99
위의 많은 중합체는 낮은 수준의 장쇄 분지를 생성하도록 특별히 선택된 메탈로센으로 만들어졌다. 그러나, 이들 실시예는 장쇄 분지화를 갖는 플라스토머/엘라스토머를 생성하기 위한 슬러리 공정에서 CTSO를 함유하는 메탈로센 촉매 시스템의 사용에 관한 것이며, 이는 가공 동안 더 큰 용융 강도(예를 들어, 기포 안정성) 및 높은 저전단 점도를 제공한다. 이러한 중합체는 일반적으로 높은 이완 시간, 높은 HLMI/MI 값 및 높은 제로 전단 점도를 특징으로 한다. 또한 Carreau-Yasuda "a" 파라미터(CY-a 파라미터)는 전형적으로 더 많은 장쇄 분지가 존재함에 따라 감소한다.
표 VIII은 동일한 슬러리 루프 파일럿 플랜트에서 상술한 동일한 방법을 사용하여 생산된 실시예 78-99를 요약한 것이다. 반응물 농도는 비슷했지만 메탈로센 화합물은 달랐다. 혼입 효율은 위에서 사용된 메탈로센과 유사한 2-4% 범위였다. 표 VIII에 나타낸 바와 같이, 이들 중합체는 일반적으로 0.89-0.91 g/mL의 밀도, 1000개의 총 탄소 원자당 18-47 SCB, 0.03-0.18의 CY-a 값 및 30-120의 HLMI/MI 비를 가졌다. 이러한 중합체는 슬러리 공정으로 생산되었지만 용액 공정 및/또는 기상 공정을 사용하여 유사한 중합체를 생산할 수 있다.
실시예 100-109
슬러리 및 용액 공정과 마찬가지로 에틸렌계 플라스토머 및 엘라스토머는 전형적으로 Ziegler 또는 메탈로센계 촉매 시스템을 사용하여 기상 공정에서 생산할 수 있다. 이들 실시예에서, 기상 반응기는 응축된 액체를 재순환 루프로부터 반응기로 도입하기 위해 다중 분무 노즐을 사용하는 액체 주입 시스템을 갖는 5미터 ID 유동화 반응기로 가정했다. 이들 구성 실시예에서 사용된 메탈로센은 비스-인데닐 지르코늄 디클로라이드이고, mol% 공단량체 혼입은 (mol 공단량체)/(mol 공단량체 + mol 에틸렌)으로 계산된다. 1-헥센과 메탈로센의 몰 혼입율은 실제 Ziegler 데이터에서 외삽한 반면 기울기는 0.915 g/cc(메탈로센 혼입률 기준) 미만으로 변경된다는 점에 유념해야 한다. 1-부텐에 대한 평균 몰 혼입율은 1-헥센에 대한 것의 약 95%인 것으로 가정했다. Ziegler 시스템에 대한 1-헥센의 반응기 농도는 기존 데이터를 외삽한 것이다. 또한, 우수한 공단량체 혼입제인 메탈로센은 공단량체 혼입율과 거의 일치하는 기상 조성(공단량체 농도)을 갖는 경향이 있다.
마지막으로, 1-부텐의 반응기 농도는 수착된 1-헥센:에틸렌(여기서, "수착된" 및 "수착된" 및 수착"은 흡수 및 흡착을 포함하는 것을 의미한다)에 대해 관찰된 비와 유사하지만 약간 더 낮은 중합체 내 수착된 1-부텐:에틸렌 비를 달성하도록 설정된다.
유동층 기상 공정과 같은 기상 공정에서 중합체 용융 온도는 중합체 밀도의 함수이므로 허용 가능한 반응기 온도도 생성물 밀도의 함수이다. 플라스토머/엘라스토머의 밀도 범위에서, 도 10에 제공된 온도 곡선은 반응기 온도 목표를 설정하기 위한 지침이다. 기상 반응기가 작동할 수 있는 최대 중합 온도는 사용되는 촉매에 따라 다소 좌우될 것이다. 주어진 밀도에 대해, 불균일한 SCBD 및/또는 넓은 MWD(예를 들어, 더 끈적임)를 갖는 중합체를 생성하는 촉매는 전형적으로 더 균일한 SCBD 및 더 좁은 MWD를 생성하는 촉매보다 낮은 온도에서 사용해야 한다. 기상 공정에서 엘라스토머 및 플라스토머의 생산을 위해, 공단량체를 중합체 사슬에 효율적이고 균일하게 혼입시켜 허용 가능한 반응기 온도를 더 높이는 촉매 시스템 및 공단량체를 사용하는 것이 유리하다. 슬러리 및 용액 공정에 적합한 메탈로센 촉매는 기상 공정에도 좋은 경향이 있다.
이들 실시예에서, 3개의 상이한 촉매-공단량체 시스템이 고려된다: (1) Ziegler + 1-헥센 시스템, (2) Ziegler + 1-부텐 시스템, 및 (3) 메탈로센 + 1-헥센 시스템. 도 11은 이들 시스템에 대한 생성물 밀도에 대한 공단량체 혼입률의 예상 효과를 나타낸다. 단일 부위 메탈로센 촉매는 중합체 밀도를 낮추기 위해 공단량체를 가장 효율적으로 사용한다. 기상 공정에서 Ziegler 촉매의 경우 일반적으로 1-부텐이 1-헥센보다 더 효율적으로 혼입된다. 도 11에 도시되지 않았지만, 1-부텐은 메탈로센계 시스템에서 1-헥센(몰 기준)보다 밀도를 낮추는 데 약간 덜 효율적이다. 도 12는 도 11와 유사하지만 질량 기준(및 0.5% 손실 가정)이며 새로운 공단량체 대 새로운 에틸렌의 대량 공급 비의 함수로서 예상되는 중합체 밀도를 설명한다.
상이한 촉매-공단량체 시스템에 대해 상이한 중합체 밀도를 생성하기 위해 기상 반응기에서 요구되는 추정된 공단량체 대 에틸렌 비가 도 13에 도시되어 있다. 기상 공정에서 중합체는 가벼운 탄화수소보다 무거운 탄화수소를 더 많이 흡수하는 경향이 있다. 중합체의 밀도 또는 온도가 감소함에 따라, 도 14에 도시된 바와 같이 탄화수소를 흡수하는 친화도가 증가한다. 중합체가 탄화수소를 흡수함에 따라 팽윤되어 점착성(끈적거림)이 될 수 있다. 이는 반응기의 유동화 거동에 부정적인 영향을 미칠 수 있다. 따라서 밀도가 감소함에 따라 유동화 문제(예: 점착 또는 응집)를 방지하기 위해 반응기 내 전체 탄화수소 농도는 감소되어야만 한다.
Ziegler 촉매는 메탈로센 촉매만큼 공단량체를 혼입하는 데 효율적이지 않으며 중합체에서 주어진 밀도 감소를 달성하기 위해 반응기에서 더 높은 공단량체 농도를 필요로 한다. 이는 종종 밀도가 감소함에 따라 너무 많은 중합체 수착을 생성하는 공단량체 농도를 초과하지 않고 필요한 공단량체 대 에틸렌 비(및 중합체 밀도)을 달성하기 위해 반응기 내의 에틸렌 농도가 감소되어야 함을 의미한다(예: 도 14). 도 15는 세 가지 촉매-공단량체 시스템에 대한 이 효과를 추정한다. Ziegler-헥센 시스템은 허용 가능한 범위 내에서 수착 수준을 유지하기 위해 더 낮은 에틸렌 농도에서 작동해야 한다. 메탈로센-헥센 시스템(불활성 축합제로 부탄 사용)은 기상 공정에 가장 적합하며 0.88-0.89 g/cm3와 같은 더 낮은 밀도를 달성하기 위해 에틸렌 농도를 덜 심각하게 감소시켜야 한다.
이론에 얽매이는 것은 아니지만, 기상 공정에서 엘라스토머 및 플라스토머를 제조하기 위한 공단량체로서 1-부텐을 사용하는 것은 작동상의 이점이 있다. 주어진 수착 목표를 달성하기 위해서는 1-헥센에 비해 더 높은 농도의 저분자량 공단량체가 필요하다. 반응기에서 저분자량 종의 고농도는 반응 가스의 열용량을 증가시킵니다. 그 결과 원자로에 사용할 수 있는 질량 및 냉각 속도가 더 높아진다. 마찬가지로 같은 이유로 펜탄이나 헥산과 같은 무거운 탄화수소보다 부탄을 불활성 축합제로 사용하는 것이 유리하다. 따라서 (펜탄 또는 헥산이 아닌) 부탄과 같은 저분자량 축합제와 함께 높은 공단량체 혼입 효율을 나타내는 메탈로센 촉매를 사용하는 것은 저밀도 공중합체에 유리하다.
도 16은 엘라스토머/플라스토머를 생산할 때 상이한 시스템에 대한 예상 생산 속도를 나타낸다. 1-헥센 공단량체(및 부탄)를 사용하는 메탈로센 촉매는 가장 넓은 범위의 밀도에서 높은 반응기 처리량을 달성할 수 있다. 0.88 미만의 밀도를 달성하기 위해 속도의 상당한 감소가 필요한데, 부분적으로는 밀도가 0.88 g/cc 미만으로 감소함에 따라 반응기 온도가 중합체의 연화 온도(예: ~160°F 미만)보다 훨씬 낮게 유지되어야 하기 때문이다.
더 낮은 밀도와 더 낮은 연화점 및 녹는점에서 반응기 하류를 처리하는 고체는 종종 더 가파른 각도와 더 큰 배출 노즐, 일정한 움직임 및 점착 및/또는 응집을 줄이기 위한 냉각을 사용한다.
상기 개시된 정보 및 상관관계를 사용하여, 구성 실시예 100-109를 표 IX에 요약했다. 3개의 시스템에서 밀도가 감소함에 따라(0.90에서 0.865 g/cc 범위) 반응기 온도도 감소하고(80에서 48℃ 범위에서) 예상 생산 속도도 감소한다.
본 발명은 다양한 측면 및 특정 예를 참조하여 위에서 설명되었다. 많은 변형이 상기 상세한 설명에 비추어 당업자에게 제안될 것이다. 이러한 모든 명백한 변형은 첨부된 청구범위의 의도된 전체 범위 내에 있다. 본 발명의 다른 측면은 다음을 포함할 수 있지만 이에 제한되지 않는다(측면은 "포함하는" 것으로 기술되지만, 대안적으로 "본질적으로 구성되는" 또는 "구성되는"일 수 있음):
측면 1. 약 0.91 g/cm3 이하의 밀도를 갖는 에틸렌 중합체를 제조하기 위한 슬러리 중합 공정으로서, 상기 공정은 다음을 포함하는 공정:
약 50℃ 내지 약 78℃ 범위의 중합 온도에서 슬러리 반응기에서 희석제 중의 에틸렌 및 α-올레핀 공단량체와 촉매 조성물을 접촉시켜 에틸렌 중합체를 생성하는 단계;
여기서 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로-처리된 고체 산화물, 및 임의로 조촉매를 포함하고;
여기서 메탈로센 화합물은 1원자 가교 또는 2원자 가교 메탈로센 화합물이고; 그리고
여기서 메탈로센 화합물은 중합 온도에서 약 1% 이상의 공단량체 혼입 효율을 특징으로 함.
측면 2. 측면 1에 있어서, 희석제는 본원에 개시된 임의의 적합한 희석제 또는 임의의 희석제, 예를 들어, 이소부탄, 펜탄, 헥산, 헵탄, 등, 또는 이들의 조합을 포함하는 공정.
측면 3. 측면 1 또는 2에 있어서, 중합 온도는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 55 내지 약 78 ℃, 약 50 ℃ 내지 약 70 ℃, 약 55 ℃ 내지 약 72 ℃ 등인 공정.
측면 4. 측면 1-3 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 중합 온도에서 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 적어도 약 1.5%, 적어도 약 2%, 적어도 약 2.5%, 등인 공단량체 혼입 효율을 특징으로 하는 공정.
측면 5. 측면 1-4 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 플루오레닐 기 및 사이클로펜타디에닐 기를 가지는 공정.
측면 6. 측면 1-4 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 2개의 인데닐 기를 가지는 공정.
측면 7. 측면 1-4 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 인데닐 기 및 플루오레닐 기를 가지는 공정.
측면 8. 측면 1-7 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 단일 탄소 또는 규소 가교 원자를 가지는 공정.
측면 9. 측면 1-7 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 2개의 탄소 원자 가교를 가지는 공정.
측면 10. 측면 1-9 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 알케닐 치환기를 포함하는 공정.
측면 11. 측면 1-10 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 지르코늄 또는 하프늄을 포함하는 공정.
측면 12. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 슬러리 반응기 내 공단량체 농도는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 5 내지 약 30, 약 7 내지 약 28, 약 10 내지 약 16 mol %, 등인 공정.
측면 13. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 슬러리 반응기 내 고체 함량은 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 10 내지 약 50, 약 15 내지 약 40, 약 10 내지 약 30 중량%, 등인 공정.
측면 14. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 반응기 냉각제 재킷에 대한 입구 온도는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 20 내지 약 45 ℃, 약 20 ℃ 내지 약 40 ℃, 약 25 ℃ 내지 약 40 ℃ 등인 공정.
측면 15. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 슬러리 반응기는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 12 내지 약 22", 약 16 내지 약 20", 등인 외부 직경을 가지는 공정.
측면 16. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 슬러리 반응기는 루프 슬러리 반응기인 공정.
측면 17. 약 0.91 g/cm3 이하의 밀도를 갖는 에틸렌 중합체를 제조하기 위한 용액 중합 공정으로서, 상기 공정은 다음을 포함하는 공정:
약 120 ℃ 내지 약 160 ℃ 범위의 중합 온도에서 용액 반응기에서 탄화수소 용매 중의 에틸렌 및 α-올레핀 공단량체와 촉매 조성물을 접촉시켜 에틸렌 중합체를 생성하는 단계;
여기서 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로-처리된 고체 산화물, 및 임의로 조촉매를 포함함; 그리고
여기서 메탈로센 화합물은 중합 온도에서 약 10% 이상의 공단량체 혼입 효율을 특징으로 함.
측면 18. 측면 17에 있어서, 탄화수소 용매는 본원에 개시된 임의의 적합한 용매 또는 임의의 용매, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, Soltrol® 이소파라핀 용매, 등, 또는 이들의 조합을 포함하는 공정.
측면 19. 측면 17 또는 18에 있어서, 중합 온도는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 125 내지 약 155 ℃, 약 130 ℃ 내지 약 160 ℃, 약 140 ℃ 내지 약 160 ℃ 등인 공정.
측면 20. 측면 17-19 중 어느 하나에 있어서, 평균 체류 시간은 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 5 내지 약 90 min, 약 5 내지 약 30 min, 약 10 내지 약 75 min, 약 10 내지 약 45 min, 등인 공정.
측면 21. 측면 17-20 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 중합 온도에서 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 적어도 약 15%, 적어도 약 20%, 적어도 약 25%, 등인 공단량체 혼입 효율을 특징으로 하는 공정.
측면 22. 측면 17-21 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 티타늄 또는 하프늄을 포함하는 공정.
측면 23. 측면 17-22 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 플루오레닐 기 및 사이클로펜타디에닐 기를 가지는 공정.
측면 24. 측면 17-22 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 2개의 인데닐 기 또는 2개의 플루오레닐 기를 가지는 공정.
측면 25. 측면 17-22 중 어느 하나에 있어서, 메탈로센 화합물은 인데닐 기 및 플루오레닐 기를 가지는 공정.
측면 26. 약 0.91 g/cm3 이하의 밀도를 갖는 에틸렌 중합체를 제조하기 위한 기상 중합 공정으로서, 상기 공정은 다음을 포함하는 공정:
약 48 ℃ 내지 약 82 ℃ 범위의 중합 온도에서 불활성 가스 및 C4-C8 알칸을 포함하는 기상 반응기에서 희석제 중의 에틸렌 및 α-올레핀 공단량체와 촉매 조성물을 접촉시켜 에틸렌 중합체를 생성하는 단계;
여기서 촉매 조성물은 메탈로센 화합물, 화학적으로-처리된 고체 산화물, 및 임의로 조촉매를 포함함; 그리고
여기서 기상 반응기 내 증기압에 대한 중질 탄화수소 분압의 비(P/P*의 비)은 약 0.95 이하임.
측면 27. 측면 26에 있어서, 불활성 가스은 본원에 개시된 임의의 적합한 가스 또는 임의의 가스, 예를 들어, 질소, 에탄, 프로판, 등, 또는 이들의 조합을 포함하는 공정.
측면 28. 측면 26 또는 27에 있어서, C4-C8 알칸은 본원에 개시된 임의의 적합한 알칸 또는 임의의 알칸, 예를 들어, 부탄, 펜탄, 헥산, 등, 또는 이들의 조합을 포함하는 공정.
측면 29. 측면 26-28 중 어느 하나에 있어서, 중합 온도는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 48 내지 약 70 ℃, 약 58 ℃ 내지 약 82 ℃, 약 58 ℃ 내지 약 70 ℃ 등인 공정.
측면 30. 측면 26-29 중 어느 하나에 있어서, P/P*의 비는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 이하 약 0.9, 이하 약 0.85, 이하 약 0.8, 등인 공정.
측면 31. 측면 26-30 중 어느 하나에 있어서, 화학적으로-처리된 고체 산화물은 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 30 내지 약 250 μm, 약 40 내지 약 150 μm, 약 50 내지 약 100 μm, 등인 임의의 적합한 입자 크기 또는 평균 입자 크기를 가지는 공정.
측면 32. 측면 26-31 중 어느 하나에 있어서, 기상 반응기 내 C4-C8 알칸 농도는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 5 내지 약 30, 약 10 내지 약 30, 약 15 내지 약 25 vol %, 등인 공정.
측면 33. 측면 26-32 중 어느 하나에 있어서, 기상 반응기로의 촉매 조성물을 위한 담체는 본원에 개시된 임의의 적합한 탄화수소 또는 임의의 탄화수소, 예를 들어, 에탄, 프로판, 부탄, 펜탄, 헥산, 등, 또는 이들의 조합인 공정.
측면 34. 측면 26-33 중 어느 하나에 있어서, 화학적으로-처리된 고체 산화물의 중량 기준 전이 금속 (메탈로센 화합물의)의 중량은 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 50 내지 약 5000 ppm, 약 100 내지 약 2000 ppm, 약 150 내지 약 1000 ppm, 등인 공정.
측면 35. 측면 26-34 중 어느 하나에 있어서, 기상 반응기는 유동층 가스-상 반응기인 공정.
측면 36. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 에틸렌 중합체는 임의의 적합한 밀도 또는 본원에 개시된 임의의 범위 내 밀도, 예를 들어, 약 0.86 내지 약 0.91, 약 0.865 내지 약 0.905, 약 0.87 내지 약 0.89 g/cm3, 등을 가지는 공정.
측면 37. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, α-올레핀 공단량체는 임의의 적합한 공단량체 또는 본원에 개시된 임의의 공단량체, 예를 들어, 프로필렌, 1-부텐, 1-펜텐, 4-메틸-1-펜텐, 1-헥센, 1-옥텐, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 공정.
측면 38. 측면 1-37 중 어느 하나에 있어서, 화학적으로-처리된 고체 산화물은 임의의 적합한 화학적으로-처리된 고체 산화물 또는 본원에 개시된 임의의 화학적으로-처리된 고체 산화물, 예를 들어, 플루오르화 알루미나, 클로라이드화 알루미나, 브롬화 알루미나, 황산화 알루미나, 플루오르화 실리카-알루미나, 클로라이드화 실리카-알루미나, 브롬화 실리카-알루미나, 황산화 실리카-알루미나, 플루오르화 실리카-지르코니아, 클로라이드화 실리카-지르코니아, 브롬화 실리카-지르코니아, 황산화 실리카-지르코니아, 플루오르화 실리카-티타니아, 플루오르화 실리카-코팅된 알루미나, 플루오르화-클로라이드화 실리카-코팅된 알루미나, 황산화 실리카-코팅된 알루미나, 인산화 실리카-코팅된 알루미나, 등, 또는 임의의 이들의 조합을 포함하는 공정.
측면 39. 측면 1-37 중 어느 하나에 있어서, 화학적으로-처리된 고체 산화물은 플루오르화 알루미나, 황산화 알루미나, 플루오르화 실리카-알루미나, 황산화 실리카-알루미나, 플루오르화 실리카-코팅된 알루미나, 플루오르화-클로라이드화 실리카-코팅된 알루미나, 황산화 실리카-코팅된 알루미나, 또는 임의의 이들의 조합을 포함하는 공정.
측면 40. 측면 1-37 중 어느 하나에 있어서, 화학적으로-처리된 고체 산화물은 플루오르화 고체 산화물 및/또는 황산화 고체 산화물을 포함하는 공정.
측면 41. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 촉매 조성물은 조촉매를 포함하는 공정.
측면 42. 측면 1-41 중 어느 하나에 있어서, 조촉매는 유기알루미늄 화합물을 포함하는 공정.
측면 43. 측면 1-41 중 어느 하나에 있어서, 조촉매는 임의의 적합한 조촉매 또는 본원에 개시된 임의의 조촉매, 예를 들어, 트리메틸알루미늄 (TMA), 트리에틸알루미늄 (TEA), 트리-n-프로필알루미늄 (TNPA), 트리-n-부틸알루미늄 (TNBA), 트리이소부틸알루미늄 (TIBA), 트리-n-헥실알루미늄, 트리-n-옥틸알루미늄, 디이소부틸알루미늄 하이드라이드, 디에틸알루미늄 에톡사이드, 디에틸알루미늄 클로라이드, 등, 또는 이들의 조합을 포함하는 공정.
측면 44. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 촉매 조성물은 알루미녹산 화합물, 유기붕소 또는 유기붕산염 화합물, 이온화 이온성 화합물, 또는 이들의 조합이 실질적으로 없는 공정.
측면 45. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 수소는 반응기에 첨가되는 공정.
측면 46. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 에틸렌 중합체는 SCBs의 임의의 적합한 양 또는 본원에 개시된 임의의 범위 내 양, 예를 들어, 총 탄소 원자 1000개당 적어도 약 15 SCBs, 약 20 내지 약 60 SCBs, 약 18 내지 약 55 SCBs, 약 25 내지 약 50 SCBs, 등을 가지는 공정.
측면 47. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 에틸렌 중합체는 에틸렌/1-부텐 공중합체, 에틸렌/1-헥센 공중합체, 및/또는 에틸렌/1-옥텐 공중합체를 포함하는 공정.
측면 48. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 에틸렌 중합체는 에틸렌/1-헥센 공중합체를 포함하는 공정.
측면 49. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 촉매 조성물은 2개의 메탈로센 화합물을 포함하는 공정.
측면 50. 선행하는 측면 중 어느 하나에 있어서, 공정은 2개의 이상의 반응기를 포함하는 공정.
측면 51. 다음을 갖는 에틸렌 중합체:
약 0.91 g/cm3 이하의 밀도;
약 0.2 이하의 CY-a 파라미터; 및
적어도 약 30의 HLMI/MI의 비.
측면 52. 측면 51에 있어서, CY-a 파라미터는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 0.02 내지 약 0.2, 약 0.03 내지 약 0.19, 약 0.04 내지 약 0.18, 이하 약 0.14, 등인 중합체.
측면 53. 측면 51 또는 52에 있어서, HLMI/MI의 비는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 적어도 약 40, 적어도 약 60, 적어도 약 80, 적어도 약 100, 등인 중합체.
측면 54. 측면 51-53 중 어느 하나에 있어서, 에틸렌 중합체는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위 내 용융 지수 (MI), 예를 들어, 약 0.01 내지 약 10, 약 0.1 내지 약 5, 약 0.4 내지 약 4 g/10 min, 등을 가지는 중합체.
측면 55. 다음을 갖는 에틸렌 중합체:
약 0.91 g/cm3 이하의 밀도;
CY-a 파라미터 범위 내 약 0.25 내지 약 0.75; 및
약 2 내지 약 3 범위 내 Mw/Mn의 비.
측면 56. 측면 55에 있어서, CY-a 파라미터는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 0.28 내지 약 0.75, 약 0.3 내지 약 0.6, 약 0.4 내지 약 0.65, 등인 중합체.
측면 57. 측면 55 또는 56에 있어서, Mw/Mn의 비는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위, 예를 들어, 약 2.1 내지 약 2.9, 약 2.1 내지 약 2.7, 약 2.2 내지 약 3, 약 2.2 내지 약 2.7, 등인 중합체.
측면 58. 측면 55-57 중 어느 하나에 있어서, 에틸렌 중합체는 임의의 적합한 범위 또는 본원에 개시된 임의의 범위 내 HLMI/MI의 비, 예를 들어, 이하 약 27, 이하 약 25, 이하 약 22, 이하 약 20, 등을 가지는 중합체.
측면 59. 측면 51-58 중 어느 하나에 있어서, 에틸렌 중합체는 임의의 적합한 밀도 또는 본원에 개시된 임의의 범위 내 밀도, 예를 들어, 약 0.86 내지 약 0.91, 약 0.865 내지 약 0.905, 약 0.87 내지 약 0.905, 약 0.87 내지 약 0.89 g/cm3, 등을 가지는 중합체.
측면 60. 측면 51-59 중 어느 하나에 있어서, 에틸렌 중합체는 SCBs의 임의의 적합한 양 또는 본원에 개시된 임의의 범위 내 양, 예를 들어, 총 탄소 원자 1000개당 적어도 약 15 SCBs, 약 20 내지 약 60 SCBs, 약 18 내지 약 55 SCBs, 약 25 내지 약 50 SCBs, 등을 가지는 중합체.
측면 61. 측면 51-60 중 어느 하나에 있어서, 에틸렌 중합체는 증가하는 SCBD 또는 실질적으로 편평한 SCBD를 가지는 중합체.
측면 62. 측면 51-61 중 어느 하나에 있어서, 에틸렌 중합체는, 독립적으로, 0.1 ppm 미만(중량 기준), 0.08 ppm 미만, 0.05 ppm 미만, 0.03 ppm 미만, 등의 크롬, 마그네슘, 바나듐, 및 티타늄을 포함하는 중합체.
측면 63. 측면 51-62 중 어느 하나에 있어서, 에틸렌 중합체는 에틸렌/1-부텐 공중합체, 에틸렌/1-헥센 공중합체, 및/또는 에틸렌/1-옥텐 공중합체를 포함하는 중합체.
측면 64. 측면 51-63 중 어느 하나에 정의된 에틸렌 중합체를 포함하는 물품.
측면 65. 측면 1-50 중 어느 하나에 있어서, 제조된 에틸렌 중합체는 측면 51-63 중 어느 하나에 정의된 것인 공정.
측면 66. 측면 1-50 중 어느 하나에 정의된 공정에 의해 제조된 에틸렌 중합체.
측면 67. 측면 51-63 중 어느 하나에 있어서, 측면 1-50 중 어느 하나에 정의된 공정에 의해 제조된 것인 에틸렌 중합체.
Claims (16)
- 다음을 가지는 에틸렌 중합체:
0.91 g/cm3 이하의 밀도;
0.02 내지 370 sec 범위 내 점성 이완 시간 (tau);
0.25 내지 0.75 범위 내 CY-a 파라미터;
2 내지 3 범위 내 Mw/Mn의 비; 및
10 내지 27 범위 내 HLMI/MI의 비. - 제1항에 있어서, 밀도는 0.87 내지 0.905 g/cm3 범위 내인 에틸렌 중합체.
- 제1항에 있어서, 에틸렌 중합체는 0.1 내지 5 g/10 min 범위 내 용융 지수 (MI)을 추가의 특징으로 하는 에틸렌 중합체.
- 제1항에 있어서, HLMI/MI의 비는 12 내지 22인 에틸렌 중합체.
- 제1항에 있어서, CY-a 파라미터는 0.3 내지 0.6 범위 내인 에틸렌 중합체.
- 제1항에 있어서, Mw/Mn의 비는 2.2 내지 2.7 범위 내인 에틸렌 중합체.
- 제1항의 에틸렌 중합체를 포함하는 물품.
- 제1항에 있어서, 에틸렌 중합체는 에틸렌/1-부텐 공중합체, 에틸렌/1-헥센 공중합체, 및/또는 에틸렌/1-옥텐 공중합체를 포함하는 에틸렌 중합체.
- 제8항에 있어서, 에틸렌 중합체는 0.1 중량 ppm 미만의 Mg, V, Ti, 및 Cr를 독립적으로 포함하는 에틸렌 중합체.
- 제8항에 있어서, 밀도는 0.86 내지 0.91 g/cm3 범위 내인 에틸렌 중합체.
- 제8항에 있어서, 에틸렌 중합체는 0.1 내지 5 g/10 min 범위 내 용융 지수 (MI)을 추가의 특징으로 하는 에틸렌 중합체.
- 제8항에 있어서, CY-a 파라미터는 0.4 내지 0.65 범위 내인 에틸렌 중합체.
- 제8항에 있어서, 점성 이완 시간 (tau)는 14 내지 140 sec 범위 내인 에틸렌 중합체.
- 제8항에 있어서, Mw/Mn의 비는 2.2 내지 2.7 범위 내인 에틸렌 중합체.
- 제8항에 있어서, 에틸렌 중합체는 1.5 내지 2.5 범위 내 Mz/Mw의 비를 추가의 특징으로 하는 에틸렌 중합체.
- 제8항의 에틸렌 중합체를 포함하는 제조 물품.
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Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4325837A (en) | 1980-08-12 | 1982-04-20 | Phillips Petroleum Company | Catalyst, method of producing the catalyst, and polymerization process employing the catalyst |
| US5969061A (en) * | 1995-10-16 | 1999-10-19 | Eastman Chemical Company | Suppression of fines in a fluid bed polyethylene process |
| US6291609B1 (en) * | 1998-03-04 | 2001-09-18 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | High temperature olefin polymerization process |
| US6165929A (en) | 1998-05-18 | 2000-12-26 | Phillips Petroleum Company | Compositions that can produce polymers |
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| US6391816B1 (en) | 1999-10-27 | 2002-05-21 | Phillips Petroleum | Organometal compound catalyst |
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| US6613712B1 (en) | 1999-11-24 | 2003-09-02 | Phillips Petroleum Company | Organometal catalyst compositions with solid oxide supports treated with fluorine and boron |
| US6548442B1 (en) | 1999-12-03 | 2003-04-15 | Phillips Petroleum Company | Organometal compound catalyst |
| US6750302B1 (en) | 1999-12-16 | 2004-06-15 | Phillips Petroleum Company | Organometal catalyst compositions |
| US6524987B1 (en) | 1999-12-22 | 2003-02-25 | Phillips Petroleum Company | Organometal catalyst compositions |
| US6632894B1 (en) | 1999-12-30 | 2003-10-14 | Phillips Petroleum Company | Organometal catalyst compositions |
| US7041617B2 (en) | 2004-01-09 | 2006-05-09 | Chevron Phillips Chemical Company, L.P. | Catalyst compositions and polyolefins for extrusion coating applications |
| US6667274B1 (en) | 1999-12-30 | 2003-12-23 | Phillips Petroleum Company | Polymerization catalysts |
| US6576583B1 (en) | 2000-02-11 | 2003-06-10 | Phillips Petroleum Company | Organometal catalyst composition |
| US6388017B1 (en) | 2000-05-24 | 2002-05-14 | Phillips Petroleum Company | Process for producing a polymer composition |
| US7294599B2 (en) | 2004-06-25 | 2007-11-13 | Chevron Phillips Chemical Co. | Acidic activator-supports and catalysts for olefin polymerization |
| US7026494B1 (en) | 2005-01-10 | 2006-04-11 | Chevron Phillips Chemical Company, Lp | Polymerization catalysts for producing high melt index polymers without the use of hydrogen |
| US7312283B2 (en) | 2005-08-22 | 2007-12-25 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Polymerization catalysts and process for producing bimodal polymers in a single reactor |
| US7226886B2 (en) | 2005-09-15 | 2007-06-05 | Chevron Phillips Chemical Company, L.P. | Polymerization catalysts and process for producing bimodal polymers in a single reactor |
| US7517939B2 (en) | 2006-02-02 | 2009-04-14 | Chevron Phillips Chemical Company, Lp | Polymerization catalysts for producing high molecular weight polymers with low levels of long chain branching |
| US7619047B2 (en) | 2006-02-22 | 2009-11-17 | Chevron Phillips Chemical Company, Lp | Dual metallocene catalysts for polymerization of bimodal polymers |
| EP1935909A1 (en) * | 2006-12-21 | 2008-06-25 | Ineos Europe Limited | Copolymers and films thereof |
| US7884163B2 (en) | 2008-03-20 | 2011-02-08 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Silica-coated alumina activator-supports for metallocene catalyst compositions |
| US8309485B2 (en) | 2009-03-09 | 2012-11-13 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Methods for producing metal-containing sulfated activator-supports |
| US20110035193A1 (en) | 2009-08-07 | 2011-02-10 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | System and method for estimating density of a polymer |
| US8288487B2 (en) | 2010-07-06 | 2012-10-16 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Catalysts for producing broad molecular weight distribution polyolefins in the absence of added hydrogen |
| ES2606684T3 (es) * | 2012-11-07 | 2017-03-27 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Resinas de poliolefina de baja densidad y películas preparadas a partir de éstas |
| US8912285B2 (en) * | 2012-12-06 | 2014-12-16 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Catalyst system with three metallocenes for producing broad molecular weight distribution polymers |
| US8623973B1 (en) | 2013-03-08 | 2014-01-07 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Activator supports impregnated with group VIII transition metals for polymer property control |
| US9023959B2 (en) | 2013-07-15 | 2015-05-05 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Methods for producing fluorided-chlorided silica-coated alumina activator-supports and catalyst systems containing the same |
| US9217049B2 (en) * | 2013-11-19 | 2015-12-22 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Dual catalyst systems for producing polymers with a broad molecular weight distribution and a uniform short chain branch distribution |
| US9758600B1 (en) | 2016-05-25 | 2017-09-12 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Bicyclic bridged metallocene compounds and polymers produced therefrom |
| US11186662B1 (en) | 2020-07-14 | 2021-11-30 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Metallocene catalyst systems with chemically-treated solid oxides for producing ethylene-based plastomers and elastomers |
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