KR102625259B1 - 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템 - Google Patents

마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템 Download PDF

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Abstract

음과 양의 전압을 교차할 수 있는 극성 변환 모듈을 구비하여, 제어신호에 의해, 마스크를 포함하는 피세정물의 전극에 음의 전압과 양의 전압을 자동으로 및/또는 주기적으로 교차 인가하는, 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 관한 것으로서, 전원부로부터 음극과 양극의 전압을 인가받아, 전해 세정을 위한 전해조의 제1 및 제2 전극으로 각각 공급하되, 공급하는 전원의 극성을 변환할 수 있는, 극성 변환부; 및, 제1 세정신호 또는 제2 세정신호를 상기 극성 변환부에 출력하는 제어부를 포함하고, 상기 극성 변환부는 제1 세정신호에 따라 제1 전극 및 제2 전극에 각각 음극과 양극의 전압을 공급하고, 제2 세정신호에 따라 제1 전극 및 제2 전극에 양극과 음극의 전압을 공급하고, 상기 제1 전극은 피세정물을 포함하는 전극인 구성을 마련한다.
상기와 같은 시스템에 의하여, 마스크를 포함하는 피세정물의 전극에 음의 전압과 양의 전압을 교차로 인가하여 세정함으로써, 음 전압의 지속적 인가에 의한 수소취성 및 스머트 발생을 저감할 수 있고, 양극 세정도 수행할 수 있다.

Description

마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템 { An electrolytic cleaning system of mask cleaning device }
본 발명은 유기전계 발광 표시장치의 제조공정에서 도전부재를 세정할 때, 전기 분해를 이용하여 파인 메탈 마스크(FMM, fine metal mask)를 세정하는, 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 관한 것이다.
특히, 본 발명은 음과 양의 전압을 교차할 수 있는 극성 변환 모듈을 구비하여, 마스크를 포함하는 피세정물의 전극에 음의 전압과 양의 전압을 주기적으로 교차 인가하는, 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 관한 것이다.
일반적으로, 유기전계 발광 표시 소자는 기판의 상부에 전극, 유기물층 전극이 차례로 적층된 구조를 가질수 있으며, 적층구조는 마스크를 이용하여 증착하는 방식으로 형성된다. 특히, 유기전계 발광 표시장치의 제조 공정은 유기물층을 형성하기 위해서 다수 개의 미세한 패턴 홀로 구성된 마스크를 이용하여 레이저를 조사하는 증착 공정을 수행한다. 마스크는 금속 재질의 프레임에 미세한 증착 패턴 홀로 이루어진 마스크 스틱이 붙어있는 형상이다.
증착 공정 진행할 때, 또는, 여러가지 요인으로 인해, 마스크에는 유기물 등 잔유물이 생성되어 존재한다. 이러한 잔유물은 파티클 등의 형태로 마스크 증착 공정시 불량의 요소로 작용한다. 즉, 잔유물은 유기물 패턴 적층 불량의 원인이 될 수 있다. 따라서 이러한 잔유물 등 불량 요소를 제거하기 위해, 증착공정 전 마스크를 세정하여 불순물을 제거하는 공정이 수반된다.
특히, 레이저 조사 공정을 사용하여 마스크 모재를 가공하는 경우, 레이저 조사 시 자연적으로 미세 패턴 주위에 형성되는 산화물 등은 종래의 세정액에 의해 세정되지 않아 마스크 모재에 산화물 등이 그대로 잔존하는 문제가 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위하여, 전해 세정을 이용하여 세정하는 기술이 제시되고 있다[특허문헌 1]. 상기 선행기술의 전해 세정은 전기 분해를 이용한 세정 방법이다. 특히, 상기 선행기술은 전도체인 피세정물(증착용 마스크가 포함됨)에 음의 전압을 인가하고 반대편 전극부에 양의 전압을 인가하여, 가공물과 전극부를 전해액 속에 유입하고 전극에 전기를 가해 피세정물(또는 증착용 마스크)을 세정한다.
구체적으로, OLED용 FM(FMM) 마스크 세정 장치에서 전해 세정을 하기 위한 방법은, 알카리 전해액 속에 금속 재질의 마스크를 담그고 마스크에는 음극(-)을 가하고 메쉬(MESH)망 형태의 전극에 양극(+)을 가하면 음극이 된 피세정물에 수소 가스를 발생시켜 수소 환원 및 물리적인 작용으로 오염물(산화물 등)을 제거한다.
그런데 마스크에 지속적으로 음극을 가하여 세정하면, 음극 전극에 수소취성(Hydrogen Embrittlement)의 우려가 있고, 장시간 사용시 음극 부근에 나트륨(Na+)이온이 석출되는 등 스머트(SMUT)가 형성된다. 이러한 현상은 음극 전극(또는 환원 전극)을 취약하게 하거나 오염시켜 세정 성능을 저하시키는 문제점이 있다.
한국공개특허 제10-2019-0006628호 (2019.01.21.공개)
본 발명의 목적은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 유기전계 발광 표시장치의 제조공정에서 도전부재를 세정할 때, 전기 분해를 이용하여 파인 메탈 마스크(FMM, fine metal mask)를 세정하는, 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 목적은 음과 양의 전압을 교차할 수 있는 극성 변환 모듈을 구비하여, 제어신호에 의해, 마스크를 포함하는 피세정물의 전극에 음의 전압과 양의 전압을 자동으로 및/또는 주기적으로 교차 인가하는, 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 관한 것으로서, 전원부로부터 음극과 양극의 전압을 인가받아, 전해 세정을 위한 전해조의 제1 및 제2 전극으로 각각 공급하되, 공급하는 전원의 극성을 변환할 수 있는, 극성 변환부; 및, 제1 세정신호 또는 제2 세정신호를 상기 극성 변환부에 출력하는 제어부를 포함하고, 상기 극성 변환부는 제1 세정신호에 따라 제1 전극 및 제2 전극에 각각 음극과 양극의 전압을 공급하고, 제2 세정신호에 따라 제1 전극 및 제2 전극에 각각 양극과 음극의 전압을 공급하고, 상기 제1 전극은 피세정물을 포함하는 전극인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 있어서, 상기 제어부는 상기 제1 세정신호를 출력하여 음극세정 공정을 수행한 후, 상기 제2 세정신호를 출력하여 양극세정 공정을 수행하고, 한 번의 음극 세정 공정과 양극 세정 공정은 하나의 주기에 의한 세정 공정으로 설정하고, 한 회의 세정 공정을 주기에 따라 반복하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제2 세정신호에 의한 세정시간(이하 제2 세정시간)을 상기 제1 세정신호에 의한 세정시간(이하 제1 세정시간) 보다 작도록 설정하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제2 세정시간은 상기 제1 세정 시간의 10~20% 에서 설정하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 있어서, 상기 극성 변환부는, 전원부로부터 음극과 양극의 전압을 각각 인가받는 제1 및 제2 입력단자; 전해 세정을 위한 전해조의 제1 및 제2 전극에 각각 연결되는 제1 및 제2 출력단자; 제1 세정신호에 따라, 상기 제1 및 제2 입력단자를, 각각 상기 제1 및 제2 출력단자로 연결하거나 차단하는 제1 스위치부; 제2 세정신호에 따라, 상기 제1 및 제2 입력단자를, 각각 제2 및 제1 출력단자로 연결하는 제2 스위치부; 및, 상기 제1 세정신호 또는 상기 제2 세정신호를 출력하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 있어서, 상기 극성 변환부는, 상기 제1 스위치부를 구동하거나 차단시키는 제1 인터록부; 및, 상기 제2 스위치부를 구동하거나 차단시키는 제2 인터록부를 더 포함하고, 상기 제1 또는 제2 인터록부는 자신이 구동되면 자신과 다른 상기 제2 또는 제1 인터록부를 차단하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 있어서, 상기 제1 스위치부는 상기 제1 및 제2 입력단자와 상기 제1 및 제2 출력단자를 각각 연결하기 위한 2개의 스위치 회로로 구성되고, 각 스위치 회로는 각각 제1 및 제2 SCR(Silicon Controlled Rectifier)로 구동되고, 상기 제2 스위치부는 상기 제1 및 제2 입력단자와 상기 제2 및 제1 출력단자를 각각 연결하기 위한 2개의 스위치 회로로 구성되고, 각 스위치 회로는 각각 제3 및 제4 SCR(Silicon Controlled Rectifier)로 구동되는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 있어서, 상기 제1 인터록부는 제1 가역형 인터록 회로와, 상기 제1 및 제2 SCR을 구동하는 제1 릴레이를 포함하고, 상기 제2 인터록부는 제2 가역형 인터록 회로와, 상기 제3 및 제4 SCR을 구동하는 제2 릴레이를 포함하고, 상기 제1 가역형 인터록 회로는 상기 제2 릴레이와, 상기 제3 및 제4 SCR에 의해 차단되고, 상기 제2 가역형 인터록 회로는 상기 제1 릴레이와, 상기 제1 및 제2 SCR에 의해 차단되는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 있어서, 상기 제1 및 제2 인터록부는 자기 유지 회로를 구비하고, 상기 시스템은, 상기 제1 및 제2 인터록부의 신호 라인 상에, 제3 릴레이에 의해 온/오프 되는 구동 스위치부를 더 구비하고, 상기 구동 스위치부가 온 되는 경우에만, 상기 제1 또는 제2 인터록부가 구동되어 상기 제1 또는 제2 스위치부에 의해 극성이 변경되고, 상기 제3 릴레이에 의해 상기 구동 스위치부가 온 되는 경우, 상기 제3 릴레이에 의해, 제1 및 제2 입력단자로 인가되는 음극 및 양극의 전압이 차단되는 것을 특징으로 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 의하면, 마스크를 포함하는 피세정물의 전극에 음의 전압과 양의 전압을 교차로 인가하여 세정함으로써, 음 전압의 지속적 인가에 의한 수소취성 및 스머트 발생을 저감할 수 있고, 양극 세정도 수행할 수 있는 효과가 얻어진다. 특히, 이를 통해, 음극 전극(또는 환원 전극)의 내구성 및 세정 성능을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 의하면, 제어 신호에 의해 음과 양의 전압을 자동으로 변경함으로써, 전극 변환 시 오조작에 의한 사고를 방지할 수 있는 효과가 얻어진다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템의 구성에 대한 블록도.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 극성변환부의 구성에 대한 블록도.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 극성변환부에 대한 회로 구성도.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 제1 및 제2 스위치부에 대한 회로 구성도.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 제1 및 제2 인터록부에 대한 회로 구성도.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템의 구동 방법을 설명하는 흐름도.
이하, 본 발명의 실시를 위한 구체적인 내용을 도면에 따라서 설명한다.
또한, 본 발명을 설명하는데 있어서 동일 부분은 동일 부호를 붙이고, 그 반복 설명은 생략한다.
먼저, 본 발명의 일실시예에 따른 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템의 구성을 도 1 내지 도 5를 참조하여 설명한다.
도 1에서 보는 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템(100)은 전원을 공급하는 전원부(11), 공급된 전원을 정류하는 정류부(12), 출력 전원의 극성을 변환하는 극성변환부(30), 극성변환부(30)의 출력을 전해조(70)의 제1 및 제2 전극(71,72)에 연결하는 제1 및 제2 출력 단자(43,44)로 구성된다. 추가적으로, 극성변환부(30)의 극성 전환을 제어하는 제어부(50)를 더 포함하여 구성될 수 있다.
먼저, 전해조(70)는 제1 및 제2 전극(71,72), 및, 전해액(73)을 수용하는 일종의 컨테이너(container)로써, 전기가 통하지 않는 부도체(non-conductor)일 수 있다. 도 1은 전해조(70)를 상측으로 개방(open)된 형태로 묘사하고 있으며, 이는 제1 및 제2 전극(71,72) 중 환원전극에서 발생하는 기포를 환기하기 위한 구조이나, 본 발명의 실시예들은 이에 한정되지 않는다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위해 전해조(70) 상측이 개방된 경우를 중심으로 설명하기로 한다.
또한, 전해액(73)은 전해조(70)에 수용되며, 양이온 형태의 원자 또는 분자를 포함할 수 있다. 여기서, 양이온 형태의 원자 또는 분자는 수소(H) 및 암모늄(NH4) 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 이러한 양이온 형태의 원자 또는 분자는 제1 및 제2 전극(71,72) 간에 전달되는 전자와 결합하게 되고, 이에 따라 환원전극으로 동작하는 제1 또는 제2 전극(71,72)에서는 기포가 발생할 수 있다.
또한, 전해액(73)은 전기 분해를 통한 세정 방식에 사용되는 통상의 전해액으로 구성된다[특허문헌 1]. 일례로서, 전해액은 양이온 형태의 원자 또는 분자가 녹아 들어가는 용매를 포함할 수 있는데, 이러한 용매는 탈이온수 및 에틸렌 글리콜 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 또한, 전해액은 전해액의 전류 흐름을 촉진시키는 이온제와, 후술할 환원전극의 표면 산화를 방지하기 위한 환원제를 더 포함할 수 있다.
다음으로, 제1 및 제2 전극(71,72)은 각각 제1 및 제2 출력 단자(43,44)에 각각 연결되어, 각각 음의 전압 또는 양의 전압을 인가받는다. 즉, 제1 전극(71)은 제1 출력단자(43)에 연결되고, 제2 전극(72)은 제2 출력단자(44)에 연결된다.
제1 및 제2 출력단자(43,44)는 각각 서로 다른 극(또는 서로 반대 극)의 전압이 출력된다. 즉, 제1 출력단자(43)에서 음의 전압이 출력되면, 제2 출력단자(44)에서 그 반대 전압, 즉, 양의 전압이 출력된다. 또한, 제1 출력단자(43)에서 양의 전압이 출력되면, 제2 출력단자(44)에서 음의 전압이 출력된다.
제1 출력단자(43)에서 음의 전압이 출력되어 제1 전극(71)에 음의 전압이 인가되면, 제1 전극(71)은 환원 전극으로 동작되고, 제2 전극(72)은 산화 전극으로 동작된다. 또한, 반대로, 제1 전극(71)에 양의 전압이 인가되면, 제1 및 제2 전극(71,72)은 각각 산화 전극과 환원 전극으로 동작된다.
한편, 제1 전극(71)에는 마스크 등 피세정물을 포함한다. 바람직하게는, 제1 전극(71)의 표면에 피세정물을 구비한다. 특히, 피세정물은 다양한 방식으로 제1 전극(71)에 장착될 수 있다. 예를 들면, 제1 전극(71)이 중공의 액자 형상으로 형성되어 마스크 등 피세정물의 가장자리를 감싸는 링 프레임으로 구성되거나, 제1 전극(71)이 비전도성 플레이트를 구비하여 증착용 마스크 등 피세정물을 안착시키도록 구성될 수 있다. 이때, 바람직하게는, 제1 전극(71)에서 마스크 등 피세정물에 출력 전압(제1 또는 제2 출력단자에서 출력되는 전압)이 직접 인가되도록 구성될 수 있다.
바람직하게는, 피세정물은 통상의 마스크 또는 증착용 마스크이며, 바람직하게는, 유기전계 발광 표시장치의 제조공정에서 사용되는 증착용 마스크이다. 또한, 바람직하게는, 증착용 마스크는 마스크 모재에 레이저 빔을 조사하여 패턴홀(PH)을 가공함으로써 제조될 수 있다.
한편, 최초에 장착된 피세정물(증착용 마스크 등) 또는 피세정물의 표면에는 산화물 등 잔유물이 형성될 수 있다. 특히, 증착용 마스크에 형성된 잔유물 중 산화물은 마스크 모재에 대한 레이저 조사시 자연적으로 형성된 것일 수 있다. 예를 들어, 산화물은 마스크 모재에 대한 레이저 빔 조사 시 마스크 모재로부터 유래되어 자연적으로 형성된, 철(Fe), 코발트(Co), 크롬(Cr), 망간(Mn), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 몰리브덴(Mo), SUS(Steel Use Stainless) 합금, Inconel 합금, Kovar 합금 및 Invar 합금 중에서 선택된 하나 이상의 금속이 산화된 산화물일 수 있다.
또한, 제2 전극(72)은 통상의 전극 형상으로 구성되며, 특히, 피세정물의 물질 보다 반응성이 작은 물질로 구성된다. 바람직하게는, 제2 전극(72)은 팔라듐(Pd) 및 백금(Pt) 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
또한, 제1 및 제2 전극(71,72)은 모두 전해액(73)에 담겨지도록 구성된다. 특히, 제1 및 제2 전극(71,72)은 서로 이격된 위치에 담겨진다.
또한, 바람직하게는, 제2 전극(72)은 제1 전극(71)을 사이에 두고, 2개의 제2 전극(72)이 제1 전극(71)의 양측에 이격되어 구비될 수 있다. 특히, 제1 전극(71)이 링 프레임 형태로 피세정물(마스크 등)을 장착하면, 피세정물의 양면에서 각각 산화 또는 환원 반응이 발생될 수 있다. 이때, 각 피세정물의 각 면에서, 각각에 대면하는 2개의 제2 전극(72) 각각과 대응하여 산화 환원 반응이 이루어질 수 있다.
다음으로, 전원부(11)은 전원을 공급하는 모듈이다.
바람직하게는, 전원부(11)은 상용 AC 전원, 특히, 3상 AC 전원을 공급한다.
전원부(11)는 배터리 등 직류 전원을 공급하는 모듈일 수 있다. 이 경우, 정류부(12)의 구성을 생략할 수 있다. 이하에서, 설명의 편의를 위하여, 전원부(11)는 AC 전원(교류 전원)을 공급하는 모듈로 설명한다.
다음으로, 정류부(12)는 입력되는 전원(특히, AC 전원)을 입력받아, 이를 정류하고, 정류된 전원, 즉, DC 전원(직류 전원)을 출력한다.
바람직하게는, 정류부(12)는 IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor) 정류기로 구성된다. IGBT 방식의 고주파 정류기는 3상 AC 입력을 풀 브리지 다이오드(Full-bridge Diode) 전파 정류하여 DC 전원으로 변환하고, IGBT 풀 브리지 인버터 회로에서 PWM 방식으로 고주파 스위칭하여 트랜스포머 1차 권선에 입력하고, 트랜스포머에서 정류기 출력에 맞는 전압과 전류로 변환하여 다이오드 전파 정류하여 DC 전원으로 변환한다.
정류부(12)는 음극과 양극의 2개의 출력 단자로 DC 전원을 출력한다. 즉, IGBT 정류기는 외부로 출력되는 출력부의 극성이 양극과 음극이 정해져 있다. 각 양극과 음극의 각 출력은 극성변환부(30)의 제1 및 제2 입력 단자(41,42)로 각각 입력된다. 바람직하게는, 제1 입력 단자(41)에는 음극 전압이 인가되고, 제2 입력 단자(42)에는 양극 전압이 인가된다. 반대로, 제1 및 제2 입력 단자(41,42)에 각각 양극과 음극 전압이 인가될 수도 있다. 이하에서, 설명의 편의를 위해, 제1 및 제2 입력 단자(41,42)에 각각 음극과 양극 전압이 인가되는 것을 예로 설명한다.
앞서와 같이, 전원부(11)과 정류부(12)로 구성되어 전원공급 모듈을 형성하여, 직류 전원을 극성 변환부(30)로 공급한다. 또 다른 실시예로서, 전원공급 모듈이 직류 전원(예를 들어, 배터리 전원 등)을 인가받아 정류하지 않고 극성 변환부(30)로 직류 전원을 바로 공급할 수 있다. 이때, 전원공급 모듈은 직류 전원의 전압을 변환하는 DC-DC 컨버터 등을 구비할 수 있다.
다음으로, 극성변환부(30)는 정류부(12)로부터 입력되는 DC 전원(또는 직류 전원)을 음극과 양극의 2개의 극에 해당하는 제1 및 제2 출력 단자(43,44)로 출력시키되, 제어신호에 따라 제1 및 제2 출력 단자(43,44)로 각각 출력되는 극을 변환시킨다.
극성변환부(30)의 세부적인 구성은 도 2 및 도 3에 도시되고 있다. 도 2는 극성변환부(30)의 구성에 대한 블록도이고, 도 3은 극성변환부(30)에 대한 회로 구성도이다.
도 2 또는 도 3에서 보는 바와 같이, 극성변환부(30)는 DC 전원을 입력받는 제1 및 제2 입력 단자(41,42), DC 전원의 음극과 양극을 각각 제1 및 제2 출력 단자(43,44)로 출력시키는 제1 스위치부(31), DC 전원의 음극과 양극을 각각 제2 및 제1 출력 단자(44,43)로 출력시키는 제2 스위치부(32), 및, 제1 및 제2 스위치부(31,32) 중 어느 하나의 스위치부가 연결되면 다른 하나의 스위치부를 차단시키는 제1 및 제2 인터록부(33,34)로 구성된다. 추가적으로, 극성변환부(30)의 구동을 온(on)/오프(off)하는 구동 스위치부(35)를 더 포함하여 구성된다.
먼저, 제1 및 제2 입력 단자(41,42)는 전원부(11) 또는 정류부(12)로부터 음극과 양극의 전압이 인가되는 단자이다. 또한, 제1 및 제2 출력단자(43,44)는 각각 제1 및 제2 전극(71,72)과 연결되어, 음 또는 양의 출력 전압을 각 전극에 인가한다.
다음으로, 제1 스위치부(31)는 제1 및 제2 입력 단자(41,42)를 각각 제1 및 제2 출력단자(43,44)로 연결하거나 차단하는 스위치 회로이다. 즉, 스위치가 온(on) 되면, 제1 입력단자(41)는 제1 출력단자(43)에 연결되고, 제2 입력단자(42)는 제2 출력단자(44)에 연결된다. 따라서 제1 출력단자(43)에는 음극의 전압이 출력되고, 제2 출력단자(44)에는 양극의 전압이 출력된다.
또한, 제2 스위치부(32)는 제1 및 제2 입력 단자(41,42)를 각각 제2 및 제1 출력단자(44,43)로 연결하거나 차단하는 스위치 회로이다. 즉, 스위치가 온(on) 되면, 제1 입력단자(41)는 제2 출력단자(44)에 연결되고, 제2 입력단자(42)는 제1 출력단자(43)에 연결된다. 따라서 제1 출력단자(43)에는 양극의 전압이 출력되고, 제2 출력단자(44)에는 음극의 전압이 출력된다. 즉, 제2 스위치부(32)는 제1 스위치부(31)에 비해, 전원의 극성을 반대로 역전시켜 변환하여 출력시킨다.
제1 및 제2 스위치부(31,32)의 구체적인 회로 구성도가 도 3 또는 도 4에 도시되고 있다.
도 4(a)에서 보는 바와 같이, 제1 스위치부(31)는 음극과 양극을 각각 연결하기 위한 2개의 스위치 회로로 구성되고, 각 스위치 회로는 각각 SCR(Silicon Controlled Rectifier, 실리콘 제어 정류기) 또는 사이리스터(Thyristor)에 의해 구동된다. 즉, 제1 스위치부(31)는 제1 입력단자(41)와 제1 출력단자(43)를 연결/차단하기 위한 제1 SCR(SCR1)를 구비하고, 제2 입력단자(42)와 제2 출력단자(44)를 연결/차단하기 위한 제2 SCR(SCR2)를 구비한다.
도 4(b)에서 보는 바와 같이, 제2 스위치부(32)는 음극과 양극을 각각 연결하기 위한 2개의 스위치 회로로 구성되고, 각 스위치 회로는 각각 SCR로 구동된다. 즉, 제2 스위치부(32)는 제2 입력단자(42)와 제1 출력단자(43)를 연결/차단하기 위한 제3 SCR(SCR3)를 구비하고, 제1 입력단자(41)와 제2 출력단자(44)를 연결/차단하기 위한 제4 SCR(SCR4)를 구비한다.
다음으로, 제1 및 제2 인터록부(33,34)는 각각 제1 및 제2 스위치부(31,32)를 구동하거나 차단시키되, 자신이 구동되면 각각 다른 인터록부(34,33)를 차단한다.
바람직하게는, 제1 및 제2 인터록부(33,34)는 각각 자신의 제어신호 C1, C2를 수신하면 구동된다. 즉, 제1 인터록부(33)는 제어신호 C1을 수신하면 구동되고, 제2 인터록부(34)는 제어신호 C2를 수신하면 구동된다. 이때, 제어신호 C1, C2를 각각 제1 및 제2 세정 신호로 부르기로 한다.
또한, 제1 인터록부(33)는 자신이 구동되면, 제2 인터록부(34)의 구동을 차단시킨다. 또한, 제2 인터록부(34)는 자신이 구동되면, 제1 인터록부(33)의 구동을 차단시킨다. 따라서 제1 및 제2 인터록부(33,34) 중에서 어느 하나가 먼저 구동되면, 나머지 하나는 구동되지 않는다. 즉, 제1 및 제2 인터록부(33,34) 중 어느 하나만 구동된다.
또한, 제1 및 제2 인터록부(33,34)는 자신이 구동되면, 각각 제1 및 제2 스위치부(31,32)를 구동하여 온(on)시킨다. 즉, 제1 인터록부(33)가 구동되면 제1 스위치부(31)가 구동되어 온(on)되고, 제2 인터록부(34)가 구동되면 제2 스위치부(32)가 구동되어 온(on)된다.
또한, 제1 및 제2 인터록부(33,34)는 자기 유지 회로로 구성되어, 온 또는 오프의 상태가 설정되면, 그 상태를 유지한다.
제1 및 제2 인터록부(33,34)의 구체적인 회로 구성도가 도 3 또는 도 5에 도시되고 있다.
도 5(a)에서 보는 바와 같이, 제1 인터록부(33)는 제1 가역형 인터록 회로(37)와, 제1 릴레이(RY1)로 구성된다. 제1 릴레이(RY1)는 제1 및 제2 SCR(SCR1,SCR2)을 온(on)시키는 스위치를 구동시킨다. 즉, 제1 릴레이(RY1)을 구동시키면 제1 및 제2 SCR(SCR1,SCR2)이 구동되고, 제1 스위치부(31)가 온(on)된다.
또한, 제1 릴레이(RY1)는 자기 유지 회로로 구성되어, 구동이 되면 그 상태를 유지하여,제1 및 제2 SCR(SCR1,SCR2), 제1 스위치부(31) 등을 지속적으로 온(on)시킨다.
또한, 제1 가역형 인터록 회로(37)는 제2 릴레이(RY2), 제3 SCR(SCR3), 제4 SCR(SCR4)에 의해 차단(lock)된다. 즉, 제1 가역형 인터록 회로(37)는 제2 인터록부(34)의 제2 릴레이(RY2)가 구동되거나, 제2 스위치부(32)의 제3 또는 제4 SCR(SCR3,SCR4)이 구동되면, 인터록되어 차단된다.
또한, 도 5(b)에서 보는 바와 같이, 제2 인터록부(34)는 제2 가역형 인터록 회로(38)와, 제2 릴레이(RY2)로 구성된다. 제2 릴레이(RY2)는 제3 및 제4 SCR(SCR3,SCR4)을 온(on)시키는 스위치를 구동시킨다. 즉, 제2 릴레이(RY2)를 구동시키면 제3 및 제4 SCR(SCR3,SCR4)이 구동되고, 제2 스위치부(32)가 온(on)된다.
또한, 제2 릴레이(RY2)는 자기 유지 회로로 구성되어, 구동이 되면 그 상태를 유지하여, 제3 및 제4 SCR(SCR3,SCR4), 제2 스위치부(32) 등을 지속적으로 온(on)시킨다.
또한, 제2 가역형 인터록 회로(38)는 제1 릴레이(RY1), 제1 SCR(SCR1), 제2 SCR(SCR2)에 의해 차단(lock)된다. 즉, 제2 가역형 인터록 회로(38)는 제1 인터록부(33)의 제1 릴레이(RY1)가 구동되거나, 제1 스위치부(31)의 제1 및 제2 SCR(SCR1,SCR2)이 구동되면, 인터록되어 차단된다.
음극 세정을 위한 제1 릴레이(RY1)과 양극세정을 위한 제2 릴레이(RY2)는 동시에 온(ON) 되지 않도록, 상호 가역형 인터록(37,38)을 구비하여, 혹시 발생할 수 있는 조작 오류로 인한 단락 사고에 대한 보호될 수 있다.
다음으로, 구동 스위치부(35)는 제1 및 제2 인터록부(33,34)에 제어 신호를 전달하는 신호 라인 상에 스위치가 설치되어, 제어 신호의 전달을 온(on)/오프(off) 한다.
극성변환부(30)는 제어 신호가 입력되어야 구동되므로, 구동 스위치부(35)는 극성 변환부(30)의 전체 구동에 대해 온(on)/오프(off)를 제어하는 스위치로서 역할을 한다.
도 3에서 보는 바와 같이, 구동 스위치부(35)는 제3 릴레이(RY3)를 구비하여, 제3 릴레이(RY3)에 의해 신호 라인 상의 각 스위치가 구동된다. 즉, 제3 릴레이(RY3)가 구동되면, 구동 스위치가 각각 온(on)되어, 제1 및 제2 인터록부(33,34)가 제어 신호 C1, C2(또는 제1 및 제2 세정 신호)를 수신할 수 있다.
한편, 제3 릴레이(RY3)은 구동 신호 C3에 의해 구동된다.
즉, 구동 신호 C3에 의해 구동 신호가 입력되는 경우에만, 극성변환부(30), 또는, 제1 또는 제2 인터록부(33,34)이 구동되어 전극을 변경한다. 전극이 변경되면, 앞서 설명한 바와 같이, 제1 및 제2 인터록부(33,34) 또는 제1 및 제2 릴레이(RY1,RY2)는 자기 유지 회로에 의하여, 변경된 상태를 유지한다.
따라서 양극 세정과 음극 세정을 교차하기 위하여 극성을 변경하는 동안에만 구동 신호 C3을 전달하고(구동 신호 C3를 온 시키고), 변경이 완료되면 구동 신호 C3을 차단한다(구동 신호 C3를 오프 시킨다).
또한, 구동 신호 C3가 전달될 때에는 제어부(50)에 의해 전원 공급이 차단된다. 바람직하게는, 구동 신호 C3에 의해 구동되는 제3 릴레이(RY3)에 의해 전원공급을 차단시키도록 구성된다. 즉, 양극세정과 음극세정을 교차로 사용하기 위한 동작(극성 변경)시에, 제3 릴레이(RY3)의 인터록으로 정류기의 전원공급이 멈춘 상태에서만 전극 극성을 변경할 수 있다.
다음으로, 제어부(50)는 제어신호를 극성변환부(30)로 전달하여, 음극 세정 또는 양극 세정을 제어한다.
즉, 제어부(50)는 제1 또는 제2 세정 신호(C1,C2)를 극성변환부(30)로 전달하여, 음극 세정 또는 양극 세정을 수행하도록 제어한다.
구체적으로, 제어부(50)가 제1 세정신호 C1을 제1 인터록부(33)에 전달하면, 제1 인터록부(33)가 구동되고, 이에 따라, 제1 스위치부(31)가 온(on)된다. 따라서 제1 및 제2 입력단자(41,42)의 음극 및 양극 전압은 각각 제1 및 제2 출력단자(43,44)로 출력된다. 따라서 제1 출력단자(43)에 연결된 제1 전극(71)에 음극 전압이 인가된다. 따라서 피세정물에 음극 전압이 인가되는 음극 세정이 수행된다. 따라서 제1 세정 신호를 음극 세정 신호로도 부르기로 한다.
마스크 등 피세정물을 포함하는 제1 전극(71)에 음의 전압을 인가하고, 제2 전극에 양의 전압을 인가하면 다음과 같은 방식에 의해서 전기 분해되어 기체가 발생한다.
제1 전극(환원 전극)에는 다음과 같은 반응식에 의해 수소기체 발생 한다.
[수학식 1]
H2O + 2e + 2H+ ⇒ H2+ 2OH-
제2 전극(산화 전극)에는 다음과 같은 반응식에 의해 산소기체가 발생한다.
[수학식 2]
4OH- ⇒ 4e + O2+ 2H2O
음극 세정은 양극 세정에 비해 수소발생량이 2배정도 많기 때문에 세정력이 우수하다.
또한, 제어부(50)가 제2 세정신호 C2를 제2 인터록부(34)에 전달하면, 제2 인터록부(34)가 구동되고, 이에 따라, 제2 스위치부(32)가 온(on)된다. 따라서 제1 및 제2 입력단자(41,42)의 음극 및 양극 전압은 각각 제2 및 제1 출력단자(44,43)로 각각 역전되어 출력된다. 따라서 제1 출력단자(43)에 연결된 제1 전극(71)에 양극 전압이 인가된다. 따라서 피세정물에 양극 전압이 인가되는 양극 세정이 수행된다. 따라서 제2 세정 신호를 양극 세정 신호로도 부르기로 한다.
주 세정시 세정효과가 좋은 음극세정을 사용하여 세정하다가 스머트(SMUT)의 석출과 수소취성(Hydrogen Embrittlement)이 없고 레벨링 효과가 좋은 양극세정으로 극성을 반전시켜 마스크를 세정하여 세정 효과를 높일수 있다.
따라서 제어부(50)는 제1 세정신호 C1와 제2 세정신호 C2를 주기적으로 교차하여 출력함으로써, 음극 세정 공정과 양극 세정 공정을 교차하여 반복한다. 즉, 주세정은 음극세정으로 일정시간 세정을 진행 하고 극성을 반전하여 양극 세정으로 일정시간 진행한다.
즉, 음극세정 공정을 제1 세정시간 동안 수행한 후 양극세정 공정을 제2 세정시간 동안 수행하도록 제어한다. 또한, 한 번의 음극 세정 공정과 양극 세정 공정은 하나의 주기에 의한 세정 공정으로 설정하고, 한 회의 세정 공정을 주기에 따라 반복한다.
바람직하게는, 양극 세정을 위한 제2 세정시간은 음극 세정을 위한 제1 세정 시간 보다 작도록 설정한다. 더욱 바람직하게는, 제2 세정시간은 제1 세정 시간의 10~20% 에서 설정한다. 일례로서, 1회 주기 당 5분 세정을 수행한다면, 음극세정 4분, 양극세정 1분을 수행한다.
또한, 바람직하게는, 제어부(50)는 음극 세정 또는 양극 세정으로 변환하기 위해서는, 구동 신호 C3를 극성변환부(30)로 전달하여(온 하여), 극성변환부(30)의 구동을 온(on)시킨다. 그리고 극성 변환이 완료되면, 제어부(50)는 구동 신호 C3를 차단(또는 오프) 시킨다.
다음으로, 본 발명의 일실시예에 따른 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템(100)의 구동 방법에 대하여 도 6을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.
도 6에서 보는 바와 같이, 먼저, 제어부(50)는 전체 세정 시간을 측정하기 위한 총 세정시간 △T를 0으로 초기화 한다.
다음으로, 제어부(50)는 제2 세정신호(또는 양극세정 신호)를 오프(off)로 출력하고, 제1 세정신호(또는 음극세정 신호)를 온(on)하여 출력한다(S20). 그리고 단위 세정 시간을 측정하기 위한 단위 세정시간 △t를 0으로 초기화 한다.
이때, 바람직하게는, 세정 신호를 출력하기 전에, 구동 신호 C3을 온(on)하고, 음극 세정의 설정이 완료되면, 구동 신호 C3를 오프(off)시킨다. 또한, 구동 신호 C3(또는 제3 릴레이 RY3)에 의해, 온(on) 상태에서 전원 공급이 차단된다. 따라서 음극세정으로 설정되는 동안에는 전원 공급이 차단되어, 전해 동작이 중단된다.
제1 세정 신호 C1이 온(on)되므로, 제1 릴레이(RY1)가 온(on)되어 구동된다. 이때, 제2 세정신호 C2가 오프(off) 상태이므로, 제2 릴레이(RY2), 제3 및 제4 SCR(SCR3,SCR4)이 모두 오프(off) 상태이다. 따라서 제1 가역형 인터록 회로(37)는 차단되지 않는다. 또한, 제1 릴레이(RY1)가 온(on)되므로, 제1 및 제2 SCR(SCR1,SCR2)가 온(on)되어 제1 스위치부(31)가 온(on)된다. 따라서 음극 세정이 동작된다.
다음으로, 제어부(50)는 단위 세정시간 △t가 제1 세정시간 t1 동안 해당 세정 공정을 수행하도록 제어 신호의 출력을 유지한다(S30). 이 세정 공정은 음극 세정 공정에 해당된다.
다음으로, 제어부(50)는 단위 세정시간 △t가 제1 세정시간 t1을 경과하면, 제1 세정신호(또는 음극세정 신호)를 오프(off)로 출력하고, 제2 세정신호(또는 양극세정 신호)를 온(on)하여 출력한다(S40). 그리고 단위 세정 시간을 측정하기 위한 단위 세정시간 △t를 0으로 초기화 한다.
이때, 바람직하게는, 세정 신호를 출력하기 전에, 구동 신호 C3을 온(on)하고, 양극 세정의 설정이 완료되면, 구동 신호 C3를 오프(off)시킨다. 또한, 구동 신호 C3(또는 제3 릴레이 RY3)에 의해, 온(on) 상태에서 전원 공급이 차단되어, 양극세정으로 설정되는 동안에는 전원 공급이 차단되어, 전해 동작이 중단된다.
제2 세정 신호 C2가 온(on)되므로, 제2 릴레이(RY2)가 온(on)되어 구동된다. 이때, 제1 세정신호 C1이 오프(off) 상태이므로, 제1 릴레이(RY2), 제1 및 제2 SCR(SCR1,SCR2)이 모두 오프(off) 상태이다. 따라서 제2 가역형 인터록 회로(38)는 차단되지 않는다. 또한, 제2 릴레이(RY2)가 온(on)되므로, 제3 및 제4 SCR(SCR3,SCR4)가 온(on)되어 제2 스위치부(32)가 온(on)된다. 따라서 양극 세정이 동작된다.
다음으로, 제어부(50)는 단위 세정시간 △t가 제2 세정시간 t2 동안 해당 세정 공정을 수행하도록 제어 신호의 출력을 유지한다(S50). 이 세정 공정은 양극 세정 공정에 해당된다.
다음으로, 제어부(50)는 단위 세정시간 △t가 제2 세정시간 t2를 경과하면, 총 세정시간 △T가 제3 세정시간을 초과하는지 여부를 판단한다(S60). 만약, 초과하지 않으면, 다시 S20 단계 내지 S50 단계를 반복한다. 즉, 음극 세정 공정과 양극 세정 공정이 1회 완성되고, 이를 반복한다.
다음으로, 총 세정시간 △T가 제3 세정시간을 초과하면, 제어부(50)는 종료한다.
다음으로, 본 발명의 효과에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.
앞서 설명한 바와 같이, 본 발명은 피세정물에 양극과 음극의 전류 방향을 주기적으로 변화시켜 세정한다. 즉, 음극 세정과, 극성을 반대로 하는 양극세정을 교차하여 주기적으로 반복한다. 따라서 양극, 음극 세정의 장점을 고루 가지고 있으며, 세정 속도가 빠르고 탈 스머트에 효과가 있다. 또한, 수소취성은 일부 발생되나 음극 세정에 비해 적다.
구체적으로, 음극 세정은 레이저에 의한 생성되는 산화물 등에 대해 세정 효과가 우수하다. 그러나 수소취성(Hydrogen Embrittlement)의 우려가 있고 장시간 사용시 음극 부근에 나트륨(Na+) 이온이 석출되는 등 스머트가 형성된다.
또한, 양극 세정은 피세정물을 양극으로 하고 메쉬(MESH)망 형태의 전극에 음극(-)을 가해 산소 가스를 발생시키면서 세정한다. 양극 세정 방법은 스머트(SMUT)의 석출 및 계면 활성제 흡착과 수소취성(Hydrogen Embrittlement)이 없고 레벨링 효과가 좋다.
특히, 음극 세정 후, 양극 세정을 수행함으로써, 음극 세정 시 발생되는 스머트를 줄일 수 있고, 또한, 수소취성도 약화시킬 수 있다. 따라서 피세정물을 포함하는 전극에서 전극 오염을 줄일 수 있기 때문에, 세정 성능의 저하를 방지할 수 있다.
한편, 전해액은 알카리염, 수용성 유기산염 등을 포함하는 수용액이다. 수회 사용하게 되면 마스크에서 떨어져 나온 불순물에 의해 오염되며 이러한 오염물이 섞인 전해액 속에서 세정시 불순물이 마스크에 달라 붙어 마스크를 재 오염시키기도 한다. 음극 세정 후 양극 세정을 수행함으로써 이러한 재 오염도 줄일 수 있다. 즉, 전해액 오염으로 인한 흑점 현상 등 오염물 재부착을 줄일 수 있다.
또한, 본 발명의 각 스위치 소자를 제어하기 위해 릴레이 소자를 이용한다. 특히, DC 컨텍터 릴레이 소자는 돌입전류에 강하고 저항부하 특성 및 강한 내서지 특성이 우수하다. 따라서 본 발명의 시스템은 전극 변환 시 저전압 대전류의 안정적인 변환을 수행할 수 있다.
이상, 본 발명자에 의해서 이루어진 발명을 실시 예에 따라 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 실시 예에 한정되는 것은 아니고, 그 요지를 이탈하지 않는 범위에서 여러 가지로 변경 가능한 것은 물론이다.
11 : 전원부 12 : 정류부
30 : 극성변환부 31 : 제1 스위치부
32 : 제2 스위치부 33 : 제1 인터록부
34 : 제2 인터록부 35 : 구동 스위치부
41 : 제1 입력단자 42 : 제2 입력단자
43 : 제1 출력단자 44 : 제2 출력단자
50 : 제어부
70 : 전해조 71 : 제1 전극
72 : 제2 전극 73 : 전해액
100 : 전해세정 시스템

Claims (9)

  1. 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템에 있어서,
    전원부로부터 음극과 양극의 전압을 인가받아, 전해 세정을 위한 전해조의 제1 및 제2 전극으로 각각 공급하되, 공급하는 전원의 극성을 변환할 수 있는, 극성 변환부; 및,
    제1 세정신호 또는 제2 세정신호를 상기 극성 변환부에 출력하는 제어부를 포함하고,
    상기 극성 변환부는 제1 세정신호에 따라 제1 전극 및 제2 전극에 각각 음극과 양극의 전압을 공급하고, 제2 세정신호에 따라 제1 전극 및 제2 전극에 각각 양극과 음극의 전압을 공급하고,
    상기 제1 전극은 피세정물을 포함하는 전극이고,
    상기 극성 변환부는,
    전원부로부터 음극과 양극의 전압을 각각 인가받는 제1 및 제2 입력단자;
    전해 세정을 위한 전해조의 제1 및 제2 전극에 각각 연결되는 제1 및 제2 출력단자;
    제1 세정신호에 따라, 상기 제1 및 제2 입력단자를, 각각 상기 제1 및 제2 출력단자로 연결하거나 차단하는 제1 스위치부;
    제2 세정신호에 따라, 상기 제1 및 제2 입력단자를, 각각 제2 및 제1 출력단자로 연결하는 제2 스위치부; 및,
    상기 제1 세정신호 또는 상기 제2 세정신호를 출력하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제어부는 상기 제1 세정신호를 출력하여 음극세정 공정을 수행한 후, 상기 제2 세정신호를 출력하여 양극세정 공정을 수행하고, 한 번의 음극 세정 공정과 양극 세정 공정은 하나의 주기에 의한 세정 공정으로 설정하고, 한 회의 세정 공정을 주기에 따라 반복하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 제2 세정신호에 의한 세정시간(이하 제2 세정시간)을 상기 제1 세정신호에 의한 세정시간(이하 제1 세정시간) 보다 작도록 설정하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 제2 세정시간은 상기 제1 세정 시간의 10~20% 에서 설정하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서, 상기 극성 변환부는,
    상기 제1 스위치부를 구동하거나 차단시키는 제1 인터록부; 및,
    상기 제2 스위치부를 구동하거나 차단시키는 제2 인터록부를 더 포함하고,
    상기 제1 또는 제2 인터록부는 자신이 구동되면 자신과 다른 상기 제2 또는 제1 인터록부를 차단하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제1 스위치부는 상기 제1 및 제2 입력단자와 상기 제1 및 제2 출력단자를 각각 연결하기 위한 2개의 스위치 회로로 구성되고, 각 스위치 회로는 각각 제1 및 제2 SCR(Silicon Controlled Rectifier)로 구동되고,
    상기 제2 스위치부는 상기 제1 및 제2 입력단자와 상기 제2 및 제1 출력단자를 각각 연결하기 위한 2개의 스위치 회로로 구성되고, 각 스위치 회로는 각각 제3 및 제4 SCR(Silicon Controlled Rectifier)로 구동되는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1 인터록부는 제1 가역형 인터록 회로와, 상기 제1 및 제2 SCR을 구동하는 제1 릴레이를 포함하고,
    상기 제2 인터록부는 제2 가역형 인터록 회로와, 상기 제3 및 제4 SCR을 구동하는 제2 릴레이를 포함하고,
    상기 제1 가역형 인터록 회로는 상기 제2 릴레이와, 상기 제3 및 제4 SCR에 의해 차단되고,
    상기 제2 가역형 인터록 회로는 상기 제1 릴레이와, 상기 제1 및 제2 SCR에 의해 차단되는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 인터록부는 자기 유지 회로를 구비하고,
    상기 시스템은, 상기 제1 및 제2 인터록부의 신호 라인 상에, 제3 릴레이에 의해 온/오프 되는 구동 스위치부를 더 구비하고,
    상기 구동 스위치부가 온 되는 경우에만, 상기 제1 또는 제2 인터록부가 구동되어 상기 제1 또는 제2 스위치부에 의해 극성이 변경되고,
    상기 제3 릴레이에 의해 상기 구동 스위치부가 온 되는 경우, 상기 제3 릴레이에 의해, 제1 및 제2 입력단자로 인가되는 음극 및 양극의 전압이 차단되는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치의 전해 세정 시스템.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003034890A (ja) * 2001-07-24 2003-02-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理装置および処理方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101182267B1 (ko) * 2010-07-12 2012-09-12 삼성디스플레이 주식회사 세정 장치
KR102344878B1 (ko) 2017-07-10 2021-12-30 삼성디스플레이 주식회사 산화물 제거용 세정 장치 및 이를 이용한 세정 방법
KR102224705B1 (ko) * 2019-03-26 2021-03-08 풍원화학(주) 유기전계발광표시장치용 금속마스크 세정방법 및 이를 이용한 금속마스크

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003034890A (ja) * 2001-07-24 2003-02-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理装置および処理方法

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