KR102622091B1 - Test handler including nozzle assembly - Google Patents

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KR102622091B1
KR102622091B1 KR1020180131759A KR20180131759A KR102622091B1 KR 102622091 B1 KR102622091 B1 KR 102622091B1 KR 1020180131759 A KR1020180131759 A KR 1020180131759A KR 20180131759 A KR20180131759 A KR 20180131759A KR 102622091 B1 KR102622091 B1 KR 102622091B1
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Abstract

테스트 핸들러가 개시된다. 상기 테스트 핸들러는, 반도체 패키지들을 전기적으로 테스트하기 위한 테스트 챔버와, 상기 테스트 챔버와 연결되며 상기 반도체 패키지들의 온도를 미리 조절하기 위한 속 챔버와, 상기 반도체 패키지들의 테스트 후 상기 반도체 패키지들의 온도를 상온으로 회복시키기 위한 디속 챔버, 상기 속 챔버 내부의 공기를 순환시키기 위한 순환 배관과, 상기 순환 배관을 통해 상기 공기를 순환시키기 위한 팬과, 상기 속 챔버 내부의 온도를 조절하기 위한 냉각 가스를 분사하는 노즐 조립체를 포함한다. 상기 노즐 조립체는, 상기 팬에 의한 상기 공기의 흐름 방향과 동일한 방향으로 상기 냉각 가스를 분사하기 위한 제1 분사구와, 상기 공기의 흐름 방향과 반대 방향으로 상기 냉각 가스를 분사하는 제2 분사구를 구비한다.The test handler is initiated. The test handler includes a test chamber for electrically testing semiconductor packages, an inner chamber connected to the test chamber to pre-regulate the temperature of the semiconductor packages, and an inner chamber for pre-regulating the temperature of the semiconductor packages, and adjusting the temperature of the semiconductor packages to room temperature after testing the semiconductor packages. a de-sock chamber for recovering the inner chamber, a circulation pipe for circulating the air inside the inner chamber, a fan for circulating the air through the circulation pipe, and spraying cooling gas to control the temperature inside the inner chamber. Includes a nozzle assembly. The nozzle assembly includes a first injection port for spraying the cooling gas in the same direction as the air flow direction by the fan, and a second injection port for spraying the cooling gas in a direction opposite to the air flow direction. do.

Description

노즐 조립체를 포함하는 테스트 핸들러{Test handler including nozzle assembly}Test handler including nozzle assembly}

본 발명의 실시예들은 노즐 조립체를 포함하는 테스트 핸들러에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 반도체 패키지들의 온도를 미리 조절하기 위한 속 챔버의 내부 온도를 조절하기 위하여 냉각 가스를 분사하는 노즐 조립체를 포함하는 테스트 핸들러에 관한 것이다.Embodiments of the present invention relate to a test handler including a nozzle assembly. More specifically, it relates to a test handler including a nozzle assembly that sprays cooling gas to control the internal temperature of an inner chamber for pre-regulating the temperature of semiconductor packages.

일반적으로 반도체 소자들은 일련의 제조 공정들을 반복적으로 수행함으로써 반도체 기판으로서 사용되는 실리콘 웨이퍼 상에 형성될 수 있으며, 상기와 같이 형성된 반도체 소자들은 다이싱 공정과 본딩 공정 및 패키징 공정을 통하여 반도체 패키지들로 제조될 수 있다.In general, semiconductor devices can be formed on a silicon wafer used as a semiconductor substrate by repeatedly performing a series of manufacturing processes, and the semiconductor devices formed as above are packaged into semiconductor packages through a dicing process, bonding process, and packaging process. can be manufactured.

상기와 같이 제조된 반도체 패키지들은 전기적인 성능 테스트를 통하여 양품 또는 불량품으로 판정될 수 있다. 상기 테스트 공정은 상기 반도체 패키지들을 핸들링하는 테스트 핸들러와 상기 반도체 패키지들을 검사하기 위해 검사 신호를 제공하는 테스터를 이용하여 수행될 수 있다.Semiconductor packages manufactured as described above may be determined to be good or defective through electrical performance tests. The test process may be performed using a test handler that handles the semiconductor packages and a tester that provides inspection signals to inspect the semiconductor packages.

상기 테스트 공정은 테스트 트레이에 장착된 인서트 조립체들에 상기 반도체 패키지를 수납한 후 상기 인서트 조립체에 수납된 반도체 패키지들의 외부 접속용 단자들과 상기 테스터를 전기적으로 연결한 후 수행될 수 있다. 상기 테스트 공정을 수행하기 위한 테스트 챔버 내에는 상기 반도체 패키지들과 상기 테스터를 연결하기 위한 인터페이스 보드가 구비될 수 있으며, 상기 인터페이스 보드 상에는 상기 반도체 패키지들과의 접속을 위한 소켓 보드들이 배치될 수 있다.The test process may be performed after storing the semiconductor package in insert assemblies mounted on a test tray and electrically connecting the tester to external connection terminals of the semiconductor packages stored in the insert assembly. An interface board for connecting the semiconductor packages and the tester may be provided in the test chamber for performing the test process, and socket boards for connection with the semiconductor packages may be placed on the interface board. .

한편, 상기 반도체 패키지들이 수납된 테스트 트레이는 속 챔버(soak chamber)를 통해 상기 테스트 챔버로 이송되고, 상기 테스트 공정이 완료된 후 디속 챔버(de-soak chamber)를 통해 반출될 수 있다. 이어서, 상기 테스트 공정이 완료된 반도체 패키지들은 테스트 결과에 따라 상기 테스트 트레이로부터 커스터머 트레이들로 분류될 수 있다.Meanwhile, the test tray containing the semiconductor packages may be transferred to the test chamber through a soak chamber, and taken out through a de-soak chamber after the test process is completed. Subsequently, semiconductor packages for which the test process has been completed may be classified from the test trays to customer trays according to test results.

상기 테스트 공정은 온도에 따라 고온 테스트 공정과 저온 테스트 공정으로 구분될 수 있으며, 이에 따라 상기 테스트 챔버의 내부는 고온 또는 저온으로 유지될 수 있다. 상기 속 챔버는 상기 반도체 패키지들의 예열 또는 예냉을 위해 구비될 수 있으며, 상기 디속 챔버는 상기 반도체 패키지들의 온도를 상온으로 회복시키기 위해 구비될 수 있다.The test process can be divided into a high temperature test process and a low temperature test process depending on the temperature, and accordingly, the interior of the test chamber can be maintained at a high or low temperature. The inner chamber may be provided for preheating or precooling the semiconductor packages, and the inner chamber may be provided to restore the temperature of the semiconductor packages to room temperature.

특히, 저온 테스트 공정의 경우 상기 속 챔버의 내부 온도는 냉각 가스에 의해 조절될 수 있다. 예를 들면, 상기 냉각 가스로서 액화 질소(LN2) 가스가 사용될 수 있으며, 상기 속 챔버의 내부에는 상기 냉각 가스를 분사하기 위한 노즐 조립체가 구비될 수 있다. 그러나, 상기 냉각 가스의 온도가 약 -190℃ 정도로 매우 낮기 때문에 상기 노즐 조립체 주위에 결로가 발생될 수 있으며, 더 나아가 상기 노즐 조립체 주위에서 결빙 현상이 발생될 수 있다.In particular, in the case of a low-temperature test process, the internal temperature of the inner chamber can be controlled by cooling gas. For example, liquefied nitrogen (LN2) gas may be used as the cooling gas, and a nozzle assembly for spraying the cooling gas may be provided inside the inner chamber. However, because the temperature of the cooling gas is very low, approximately -190°C, condensation may occur around the nozzle assembly, and further, freezing may occur around the nozzle assembly.

대한민국 등록특허공보 제10-0714106호 (등록일자: 2007년 04월 26일)Republic of Korea Patent Publication No. 10-0714106 (Registration date: April 26, 2007) 대한민국 등록특허공보 제10-1173391호 (등록일자: 2012년 08월06일)Republic of Korea Patent Publication No. 10-1173391 (Registration date: August 6, 2012)

본 발명의 실시예들은 냉각 가스의 분사에 의한 결로 현상을 방지할 수 있는 노즐 조립체를 포함하는 테스트 핸들러를 제공하는데 그 목적이 있다.The purpose of embodiments of the present invention is to provide a test handler including a nozzle assembly that can prevent condensation caused by injection of cooling gas.

본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 반도체 패키지들을 전기적으로 테스트하기 위한 테스트 챔버와, 상기 테스트 챔버와 연결되며 상기 반도체 패키지들의 온도를 미리 조절하기 위한 속 챔버와, 상기 반도체 패키지들의 테스트 후 상기 반도체 패키지들의 온도를 상온으로 회복시키기 위한 디속 챔버, 상기 속 챔버 내부의 공기를 순환시키기 위한 순환 배관과, 상기 순환 배관을 통해 상기 공기를 순환시키기 위한 팬과, 상기 속 챔버 내부의 온도를 조절하기 위한 냉각 가스를 분사하는 노즐 조립체를 포함하는 테스트 핸들러에 있어서, 상기 노즐 조립체는, 상기 팬에 의한 상기 공기의 흐름 방향과 동일한 방향으로 상기 냉각 가스를 분사하기 위한 제1 분사구와, 상기 공기의 흐름 방향과 반대 방향으로 상기 냉각 가스를 분사하는 제2 분사구를 구비할 수 있다.According to some embodiments of the present invention, there is provided a test chamber for electrically testing semiconductor packages, an inner chamber connected to the test chamber and configured to pre-regulate the temperature of the semiconductor packages, and, after testing the semiconductor packages, the semiconductor package. A de-sock chamber for restoring the temperature of the packages to room temperature, a circulation pipe for circulating the air inside the inside chamber, a fan for circulating the air through the circulation pipe, and a device for controlling the temperature inside the inside chamber. In the test handler including a nozzle assembly for spraying a cooling gas, the nozzle assembly includes a first injection port for spraying the cooling gas in the same direction as the air flow direction by the fan, and the air flow direction It may be provided with a second injection port that sprays the cooling gas in the opposite direction.

본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 상기 노즐 조립체는, 상기 제1 분사구의 주위에 배치되며 상기 냉각 가스에 의한 결로 현상을 방지하기 위한 제2 가스를 분사하는 복수의 제3 분사구들과, 상기 제2 분사구의 주위에 배치되며 상기 제2 가스를 분사하기 위한 복수의 제4 분사구들을 더 구비할 수 있다.According to some embodiments of the present invention, the nozzle assembly includes a plurality of third injection holes disposed around the first injection hole and spraying a second gas to prevent condensation caused by the cooling gas, It is disposed around the second injection hole and may further include a plurality of fourth injection holes for spraying the second gas.

본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 상기 냉각 가스로는 질소 가스가 사용되며, 상기 제2 가스로는 건조 공기가 사용될 수 있다.According to some embodiments of the present invention, nitrogen gas may be used as the cooling gas, and dry air may be used as the second gas.

본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 상기 노즐 조립체는, 상기 제1 분사구와 상기 제2 분사구에 연결되며 상기 냉각 가스를 공급하기 위한 내측 노즐과, 상기 내측 노즐이 배치되는 내부 공간과 상기 제1 및 제2 분사구들을 갖는 외측 노즐을 포함할 수 있다.According to some embodiments of the present invention, the nozzle assembly includes an inner nozzle connected to the first injection port and the second injection port and for supplying the cooling gas, an internal space in which the inner nozzle is disposed, and the first injection port. and an outer nozzle having second injection nozzles.

본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 상기 외측 노즐은, 상기 제1 분사구의 주위에 배치되고 상기 내부 공간과 연결되며 상기 냉각 가스에 의한 결로 현상을 방지하기 위한 제2 가스를 분사하는 복수의 제3 분사구들과, 상기 제2 분사구의 주위에 배치되고 상기 내부 공간과 연결되며 상기 제2 가스를 분사하기 위한 복수의 제4 분사구들을 더 구비할 수 있으며, 상기 노즐 조립체는, 상기 내측 노즐과 연결되며 상기 냉각 가스를 공급하기 위한 제1 배관과, 상기 내부 공간과 연결되고 상기 제1 배관을 감싸도록 구성되며 상기 내부 공간에 상기 제2 가스를 공급하기 위한 제2 배관을 더 포함할 수 있다.According to some embodiments of the present invention, the outer nozzle is disposed around the first injection hole, is connected to the internal space, and includes a plurality of nozzles that spray a second gas to prevent condensation caused by the cooling gas. It may further include three injection holes and a plurality of fourth injection holes disposed around the second injection hole and connected to the internal space for spraying the second gas, and the nozzle assembly is connected to the inner nozzle. It may further include a first pipe for supplying the cooling gas, and a second pipe connected to the internal space and configured to surround the first pipe and for supplying the second gas to the internal space.

본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 상기 노즐 조립체는 상기 공기의 흐름 방향으로 배치되는 유선형의 외측면을 가질 수 있다.According to some embodiments of the present invention, the nozzle assembly may have a streamlined outer surface disposed in the air flow direction.

본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 상기 노즐 조립체는, 상기 제2 분사구의 주위를 감싸도록 배치되고 상기 공기의 흐름에 의해 회전 가능하게 구성되는 프로펠러를 구비할 수 있다.According to some embodiments of the present invention, the nozzle assembly may include a propeller arranged to surround the second nozzle and rotatable by the air flow.

상술한 바와 같은 본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 노즐 조립체는 상기 제1 분사구를 통해 상기 팬에 의한 공기의 흐름 방향으로 냉각 가스를 분사할 수 있으며, 또한 상기 제2 분사구를 통해 상기 공기의 흐름 방향에 반대 방향으로 상기 냉각 가스를 분사할 수 있다. 또한, 상기 노즐 조립체는 상기 제3 분사구들을 통해 상기 공기의 흐름 방향으로 결로 방지를 위한 제2 가스를 분사할 수 있으며, 또한 상기 제4 분사구들을 통해 상기 공기의 흐름 방향에 반대 방향으로 상기 제2 가스를 분사할 수 있다.According to the embodiments of the present invention as described above, the nozzle assembly can spray cooling gas in the direction of the air flow by the fan through the first injection hole, and can also spray the cooling gas in the direction of the air flow by the fan through the second injection hole. The cooling gas may be sprayed in a direction opposite to the flow direction. Additionally, the nozzle assembly may inject a second gas for preventing condensation in the direction of the air flow through the third injection openings, and may spray the second gas in a direction opposite to the direction of the air flow through the fourth injection openings. Gas can be sprayed.

결과적으로, 상기 제2 분사구 및 상기 제4 분사구들의 전방 부위에서 와류가 형성될 수 있으며, 상기 와류에 의해 상기 공기의 흐름에 마주하는 부위 즉 상기 제2 분사구와 제4 분사구들이 위치된 부위에서의 결로 및 결빙 현상이 충분히 감소될 수 있다. 또한, 상기 냉각 가스를 공급하기 위한 내측 노즐과 제1 배관이 상기 제2 가스의 공급 유로 내에 위치될 수 있으므로 상기 노즐 조립체의 외측 표면들에서의 결로 및 결빙 현상이 더욱 감소될 수 있다.As a result, a vortex may be formed in the area in front of the second injection port and the fourth injection port, and the vortex causes a Condensation and freezing phenomena can be sufficiently reduced. Additionally, since the inner nozzle and the first pipe for supplying the cooling gas can be located within the supply passage of the second gas, condensation and freezing phenomena on the outer surfaces of the nozzle assembly can be further reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트 핸들러를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시된 속 챔버를 설명하기 위한 개략도이다.
도 3은 도 1에 도시된 속 챔버 내부의 온도 조절을 위해 냉각 가스를 공급하는 노즐 조립체를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 4는 도 3에 도시된 노즐 조립체의 다른 예를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
1 is a schematic configuration diagram for explaining a test handler according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the inner chamber shown in FIG. 1.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a nozzle assembly that supplies cooling gas to control the temperature inside the inner chamber shown in FIG. 1.
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating another example of the nozzle assembly shown in FIG. 3.

이하, 본 발명의 실시예들은 첨부 도면들을 참조하여 상세하게 설명된다. 그러나, 본 발명은 하기에서 설명되는 실시예들에 한정된 바와 같이 구성되어야만 하는 것은 아니며 이와 다른 여러 가지 형태로 구체화될 수 있을 것이다. 하기의 실시예들은 본 발명이 온전히 완성될 수 있도록 하기 위하여 제공된다기보다는 본 발명의 기술 분야에서 숙련된 당업자들에게 본 발명의 범위를 충분히 전달하기 위하여 제공된다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention does not have to be configured as limited to the embodiments described below and may be embodied in various other forms. The following examples are not provided to fully complete the present invention, but rather are provided to fully convey the scope of the present invention to those skilled in the art.

본 발명의 실시예들에서 하나의 요소가 다른 하나의 요소 상에 배치되는 또는 연결되는 것으로 설명되는 경우 상기 요소는 상기 다른 하나의 요소 상에 직접 배치되거나 연결될 수도 있으며, 다른 요소들이 이들 사이에 개재될 수도 있다. 이와 다르게, 하나의 요소가 다른 하나의 요소 상에 직접 배치되거나 연결되는 것으로 설명되는 경우 그들 사이에는 또 다른 요소가 있을 수 없다. 다양한 요소들, 조성들, 영역들, 층들 및/또는 부분들과 같은 다양한 항목들을 설명하기 위하여 제1, 제2, 제3 등의 용어들이 사용될 수 있으나, 상기 항목들은 이들 용어들에 의하여 한정되지는 않을 것이다.In embodiments of the present invention, when one element is described as being disposed or connected to another element, the element may be directly disposed or connected to the other element, and other elements may be interposed between them. It could be. Alternatively, if one element is described as being placed directly on or connected to another element, there cannot be another element between them. The terms first, second, third, etc. may be used to describe various items such as various elements, compositions, regions, layers and/or parts, but the items are not limited by these terms. won't

본 발명의 실시예들에서 사용된 전문 용어는 단지 특정 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 사용되는 것이며, 본 발명을 한정하기 위한 것은 아니다. 또한, 달리 한정되지 않는 이상, 기술 및 과학 용어들을 포함하는 모든 용어들은 본 발명의 기술 분야에서 통상적인 지식을 갖는 당업자에게 이해될 수 있는 동일한 의미를 갖는다. 통상적인 사전들에서 한정되는 것들과 같은 상기 용어들은 관련 기술과 본 발명의 설명의 문맥에서 그들의 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석될 것이며, 명확히 한정되지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 외형적인 직감으로 해석되지는 않을 것이다.Technical terms used in the embodiments of the present invention are merely used for the purpose of describing specific embodiments and are not intended to limit the present invention. Additionally, unless otherwise limited, all terms, including technical and scientific terms, have the same meaning that can be understood by a person skilled in the art. The above terms, as defined in common dictionaries, will be construed to have meanings consistent with their meanings in the context of the relevant art and description of the invention, and unless explicitly defined, ideally or excessively by superficial intuition. It will not be interpreted.

본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들의 개략적인 도해들을 참조하여 설명된다. 이에 따라, 상기 도해들의 형상들로부터의 변화들, 예를 들면, 제조 방법들 및/또는 허용 오차들의 변화는 충분히 예상될 수 있는 것들이다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 도해로서 설명된 영역들의 특정 형상들에 한정된 바대로 설명되어지는 것은 아니라 형상들에서의 편차를 포함하는 것이며, 도면들에 설명된 요소들은 전적으로 개략적인 것이며 이들의 형상은 요소들의 정확한 형상을 설명하기 위한 것이 아니며 또한 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것도 아니다.Embodiments of the invention are described with reference to schematic illustrations of ideal embodiments of the invention. Accordingly, changes from the shapes of the illustrations, for example changes in manufacturing methods and/or tolerances, are fully to be expected. Accordingly, the embodiments of the present invention are not intended to be described as limited to the specific shapes of the regions illustrated but are intended to include deviations in the shapes, and the elements depicted in the drawings are entirely schematic and represent their shapes. is not intended to describe the exact shape of the elements nor is it intended to limit the scope of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트 핸들러를 설명하기 위한 개략적인 구성도이고, 도 2는 도 1에 도시된 속 챔버를 설명하기 위한 개략도이다.FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a test handler according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic diagram illustrating the inner chamber shown in FIG. 1 .

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트 핸들러(100)는 반도체 패키지들(10)의 전기적인 테스트 공정을 수행하기 위하여 사용될 수 있다. 상기 테스트 핸들러(100)는, 반도체 패키지들(10)을 전기적으로 테스트하기 위한 테스트 챔버(110)와, 상기 테스트 챔버(110)와 연결되며 상기 반도체 패키지들(10)의 온도를 미리 테스트 온도로 조절하기 위한 속 챔버(120)와, 상기 반도체 패키지들(10)의 테스트 후 상기 반도체 패키지들(10)의 온도를 상온으로 회복시키기 위한 디속 챔버(130)를 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 2 , a test handler 100 according to an embodiment of the present invention may be used to perform an electrical test process of semiconductor packages 10 . The test handler 100 is connected to a test chamber 110 for electrically testing the semiconductor packages 10, and is connected to the test chamber 110 to set the temperature of the semiconductor packages 10 to the test temperature in advance. It may include an inner chamber 120 for controlling the inner chamber 120 and a inner chamber 130 for restoring the temperature of the semiconductor packages 10 to room temperature after testing the semiconductor packages 10 .

상기 반도체 패키지들(10)은 커스터머 트레이(30)로부터 테스트 트레이(20)로 이송될 수 있으며, 상기 테스트 트레이(20)는 상기 속 챔버(120)를 경유하여 상기 테스트 챔버(110)로 이송될 수 있다. 특히, 상기 테스트 트레이(20)가 상기 속 챔버(120)를 통과하는 동안 상기 테스트 트레이(20)에 수납된 반도체 패키지들(10)의 온도가 미리 조절될 수 있다. 예를 들면, 저온 테스트 공정의 경우 상기 반도체 패키지들(10)의 온도를 미리 조절하기 위하여 상기 속 챔버(120)의 내부 온도는 약 -25℃ 정도로 유지될 수 있다. 특히, 상기 속 챔버(120) 내부의 공기는 순환 배관(122)을 통해 순환될 수 있으며, 상기 속 챔버(120)와 상기 순환 배관(122)의 연결 부위에는 상기 공기의 순환을 위한 팬(124; 도 3 참조)이 배치될 수 있다.The semiconductor packages 10 may be transferred from the customer tray 30 to the test tray 20, and the test tray 20 may be transferred to the test chamber 110 via the inner chamber 120. You can. In particular, while the test tray 20 passes through the inner chamber 120, the temperature of the semiconductor packages 10 stored in the test tray 20 may be adjusted in advance. For example, in the case of a low-temperature test process, the internal temperature of the inner chamber 120 may be maintained at about -25°C to pre-control the temperature of the semiconductor packages 10. In particular, the air inside the inner chamber 120 may be circulated through the circulation pipe 122, and a fan 124 for circulation of the air is provided at the connection portion between the inner chamber 120 and the circulation pipe 122. ; see FIG. 3) may be arranged.

도시되지는 않았으나, 상기 테스트 챔버(110) 내에는 상기 반도체 패키지들(10)로 전기적인 테스트 신호를 전달하기 위한 인터페이스 보드가 배치될 수 있으며, 상기 인터페이스 보드 상에는 상기 반도체 패키지들(10)과의 직접 접속을 위한 소켓 보드들이 배치될 수 있다. 또한, 상기 테스트 챔버(110) 내에는 상기 테스트 트레이(20)에 수납된 반도체 패키지들(10)을 상기 소켓 보드들에 밀착시키기 위한 푸셔들이 구비된 매치 플레이트 및 상기 매치 플레이트를 구동시키기 위한 구동부가 배치될 수 있다.Although not shown, an interface board for transmitting electrical test signals to the semiconductor packages 10 may be disposed in the test chamber 110, and an interface board with the semiconductor packages 10 may be placed on the interface board. Socket boards for direct connection may be placed. In addition, within the test chamber 110, a match plate equipped with pushers for bringing the semiconductor packages 10 stored in the test tray 20 into close contact with the socket boards and a driver for driving the match plate are provided. can be placed.

상기 테스트 공정이 완료된 후 상기 테스트 트레이(20)가 상기 디속 챔버(130)를 경유하는 동안 상기 반도체 패키지들(10)의 온도가 상온으로 회복될 수 있으며, 상기 디속 챔버(130)로부터 상기 테스트 트레이(20)가 반출된 후 상기 테스트 공정의 결과에 따라 복수의 커스터머 트레이들(30)로 상기 반도체 패키지들(10)의 분류 단계가 수행될 수 있다.After the test process is completed, the temperature of the semiconductor packages 10 may be restored to room temperature while the test tray 20 passes through the disk chamber 130, and the test tray 20 is transferred from the disk chamber 130. After the 20 is shipped out, the semiconductor packages 10 may be classified into a plurality of customer trays 30 according to the results of the test process.

도 3은 도 1에 도시된 속 챔버 내부의 온도 조절을 위해 냉각 가스를 공급하는 노즐 조립체를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a nozzle assembly that supplies cooling gas to control the temperature inside the inner chamber shown in FIG. 1.

도 3을 참조하면, 상기 속 챔버(120) 내부에는 상기 팬(124)과 마주하도록 노즐 조립체(200)가 배치될 수 있으며, 상기 노즐 조립체(200)는 상기 팬(124)을 향하여 냉각 가스(C)를 분사할 수 있다. 예를 들면, 상기 노즐 조립체(100)는 상기 반도체 패키지들(10)을 미리 냉각시키기 위해 냉각 가스(C)로서 액화 질소 가스를 분사할 수 있으며, 상기 질소 가스는 상기 팬(124)에 의해 상기 순환 배관(122)을 통해 상기 속 챔버(120) 내부로 공급될 수 있다.Referring to FIG. 3, a nozzle assembly 200 may be disposed inside the inner chamber 120 to face the fan 124, and the nozzle assembly 200 may direct cooling gas (cooling gas) toward the fan 124. C) can be sprayed. For example, the nozzle assembly 100 may spray liquefied nitrogen gas as a cooling gas (C) to pre-cool the semiconductor packages 10, and the nitrogen gas may be sprayed by the fan 124. It may be supplied into the inner chamber 120 through the circulation pipe 122.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 노즐 조립체(200)는, 상기 팬(124)에 의한 상기 공기(A)의 흐름 방향과 동일한 방향으로 상기 냉각 가스(C)를 분사하기 위한 제1 분사구(202)와, 상기 공기(A)의 흐름 방향과 반대 방향으로 상기 냉각 가스(C)를 분사하는 제2 분사구(204)를 구비할 수 있다. 특히, 상기 제2 분사구(204)는 상기 공기(A)의 흐름과 반대 방향으로 상기 냉각 가스(C)를 분사할 수 있으므로, 상기 제2 분사구(204)의 전방 부위 즉 상기 제2 분사구(204)의 상류 측에서 상기 냉각 가스(C)와 상기 공기(A)의 충돌에 의한 와류가 형성될 수 있으며, 이에 따라 상기 노즐 조립체(200)의 표면들에서의 결로 및 결빙 현상이 방지될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the nozzle assembly 200 has a first injection hole for spraying the cooling gas (C) in the same direction as the flow direction of the air (A) by the fan 124. 202) and a second injection hole 204 for spraying the cooling gas (C) in a direction opposite to the flow direction of the air (A). In particular, the second injection hole 204 can spray the cooling gas (C) in a direction opposite to the flow of the air (A), so the front portion of the second injection hole 204, that is, the second injection hole 204 ) A vortex may be formed due to a collision between the cooling gas (C) and the air (A) on the upstream side, and thus condensation and freezing on the surfaces of the nozzle assembly 200 can be prevented. .

일 예로서, 상기 노즐 조립체(200)는, 상기 제1 분사구(202)와 제2 분사구(204)에 연결되며 상기 냉각 가스(C)를 공급하기 위한 내측 노즐(210)과, 상기 내측 노즐(210)이 배치되는 내부 공간(222)과 상기 제1 및 제2 분사구들(202, 204)을 갖는 외측 노즐(220)을 포함할 수 있다. 특히, 상기 외측 노즐(220)은, 상기 제1 분사구(202)의 주위에 배치되고 상기 내부 공간(222)과 연결되며 상기 냉각 가스(C)에 의한 결로 현상을 방지하기 위한 제2 가스(D)를 분사하는 복수의 제3 분사구들(206)과, 상기 제2 분사구(204)의 주위에 배치되고 상기 내부 공간(222)과 연결되며 상기 제2 가스(D)를 분사하기 위한 제4 분사구들(208)을 구비할 수 있다.As an example, the nozzle assembly 200 is connected to the first injection hole 202 and the second injection hole 204 and includes an inner nozzle 210 for supplying the cooling gas (C), and the inner nozzle ( It may include an inner space 222 where 210 is disposed and an outer nozzle 220 having the first and second injection nozzles 202 and 204. In particular, the outer nozzle 220 is disposed around the first injection hole 202, is connected to the internal space 222, and contains a second gas (D) to prevent condensation caused by the cooling gas (C). ) and a fourth injection hole disposed around the second injection hole 204 and connected to the internal space 222 and for spraying the second gas (D). Fields 208 may be provided.

상기 제3 분사구들(206)은 상기 공기(A)의 흐름 방향과 동일한 방향으로 상기 제2 가스(D)를 분사할 수 있으며, 상기 제4 분사구들(208)은 상기 공기(A)의 흐름 방향에 반대 방향으로 상기 제2 가스(D)를 분사할 수 있다. 상기 노즐 조립체(200)는, 상기 내측 노즐(210)과 연결되며 상기 냉각 가스(C)를 공급하기 위한 제1 배관(230)과, 상기 내부 공간(222)과 연결되고 상기 제1 배관(230)을 감싸도록 구성되며 상기 내부 공간(222)에 상기 제2 가스(D)를 공급하기 위한 제2 배관(232)을 포함할 수 있다.The third injection holes 206 may spray the second gas D in the same direction as the flow direction of the air A, and the fourth injection holes 208 may spray the second gas D in the same direction as the flow direction of the air A. The second gas (D) may be injected in the opposite direction. The nozzle assembly 200 is connected to the inner nozzle 210 and has a first pipe 230 for supplying the cooling gas (C), and is connected to the internal space 222 and the first pipe 230. ) and may include a second pipe 232 for supplying the second gas D to the internal space 222.

일 예로서, 상기 제2 가스(D)로는 건조 공기가 사용될 수 있다. 특히, 상기 냉각 가스(C)는 상기 속 챔버(120)의 목표 온도, 일 예로서, 약 -25℃보다 낮은 온도를 가질 수 있으며, 상기 제2 가스(D)는 상기 냉각 가스(C)에 의한 결로를 방지하기 위하여 상온 이상의 온도를 가질 수 있다. 일 예로서, 상기 냉각 가스(C)로서 사용되는 액화 질소 가스의 온도는 약 -190℃ 정도이며, 상기 제2 가스(D)로서 사용되는 건조 공기의 온도는 약 30℃ 정도일 수 있다. 또한, 상기 건조 공기(D)는 속 챔버(120)의 내부 온도보다 낮은 이슬점을 갖는 것이 바람직하다. 일 예로서, 상기 건조 공기(D)는 약 -70℃ 정도의 이슬점을 가질 수 있다. 그러나, 상기의 냉각 가스(C) 및 상기 제2 가스(D)의 온도 그리고 상기 제2 가스(D)의 이슬점은 단지 일 예로서 기재된 것으로 다양한 변경이 가능하다. 따라서, 본 발명의 범위가 상기 냉각 가스(C) 및 상기 제2 가스(D)의 온도 그리고 상기 제2 가스(D)의 이슬점에 의해 제한되지는 않을 것이다.As an example, dry air may be used as the second gas (D). In particular, the cooling gas (C) may have a temperature lower than the target temperature of the inner chamber 120, for example, about -25°C, and the second gas (D) is applied to the cooling gas (C). The temperature may be above room temperature to prevent condensation. As an example, the temperature of the liquefied nitrogen gas used as the cooling gas (C) may be about -190°C, and the temperature of the dry air used as the second gas (D) may be about 30°C. In addition, the dry air D preferably has a dew point lower than the internal temperature of the inner chamber 120. As an example, the dry air (D) may have a dew point of about -70°C. However, the temperatures of the cooling gas (C) and the second gas (D) and the dew point of the second gas (D) are described as examples only, and various changes are possible. Accordingly, the scope of the present invention will not be limited by the temperature of the cooling gas (C) and the second gas (D) and the dew point of the second gas (D).

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제2 분사구(204)와 제4 분사구들(208)을 통해 분사되는 냉각 가스(C) 및 제2 가스(D)에 의해 상기 제2 및 제4 분사구들(204, 208)의 전방 부위 즉 상기 제2 및 제4 분사구들(204, 208)의 상류 측에서 와류가 형성될 수 있으며, 상기 냉각 가스(C)와 상기 제2 가스(D)가 혼합된 상태에서 상기 노즐 조립체(200)의 외측면을 따라 흐를 수 있다. 특히, 상기 노즐 조립체(200)는 외측면에서의 결로 현상을 감소시키기 위하여 상기 공기(A)의 흐름 방향으로 배치되는 유선형의 외측면을 가질 수 있다. 예를 들면, 도시된 바와 같이 상기 외측 노즐(220)은 타원형의 단면 형태를 가질 수 있으며, 상기 외측 노즐(220)의 장축 방향으로 상기 제1 및 제2 분사구들(202, 204)이 배치될 수 있다. 결과적으로, 상기 냉각 가스(C)가 상기 노즐 조립체(200)의 외측면에서 정체되지 않고 빠르게 흐를 수 있으므로 상기 노즐 조립체(200)의 외측 표면들에서의 결로 및 결빙 현상이 감소될 수 있다. 또한, 도시된 바와 같이 냉각 가스(C)가 공급되는 내측 노즐(210)과 제1 배관(230)이 상기 제2 가스가 공급되는 유로 내에 배치될 수 있으므로, 상기 냉각 가스(C)에 의한 결로 및 결빙 현상이 더욱 감소될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the second and fourth injection holes are sprayed by the cooling gas (C) and the second gas (D) injected through the second injection hole 204 and the fourth injection hole 208. A vortex may be formed in the front portion of (204, 208), that is, on the upstream side of the second and fourth injection holes (204, 208), and the cooling gas (C) and the second gas (D) are mixed. In this state, it may flow along the outer surface of the nozzle assembly 200. In particular, the nozzle assembly 200 may have a streamlined outer surface disposed in the flow direction of the air A to reduce condensation on the outer surface. For example, as shown, the outer nozzle 220 may have an oval cross-sectional shape, and the first and second injection holes 202 and 204 may be disposed in the long axis direction of the outer nozzle 220. You can. As a result, the cooling gas C can flow quickly without being stagnant on the outer surface of the nozzle assembly 200, so condensation and freezing phenomena on the outer surfaces of the nozzle assembly 200 can be reduced. In addition, as shown, the inner nozzle 210 and the first pipe 230 through which the cooling gas (C) is supplied may be disposed within the flow path through which the second gas is supplied, so that condensation by the cooling gas (C) occurs. And freezing phenomenon can be further reduced.

도 4는 도 3에 도시된 노즐 조립체의 다른 예를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating another example of the nozzle assembly shown in FIG. 3.

도 4를 참조하면, 상기 노즐 조립체(200)는 상기 제2 분사구(204)의 주위를 감싸도록 상기 외측 노즐(220)의 외주면 상에 배치되는 프로펠러(240)를 더 포함할 수 있다. 상기 프로펠러(240)는 베어링에 의해 회전 가능하도록 구성될 수 있으며 상기 공기(A)의 흐름에 의해 회전 가능하게 구성될 수 있다. 특히, 상기 프로펠러(240)는 상기 노즐 조립체(200)의 외측면에서 공기(A)의 흐름이 정체되는 것을 방지하기 위해 사용될 수 있으며, 상기 공기(A)의 흐름에 의해 회전될 수도 있고, 도시되지는 않았으나, 별도의 구동부에 의해 강제로 회전될 수도 있다.Referring to FIG. 4 , the nozzle assembly 200 may further include a propeller 240 disposed on the outer peripheral surface of the outer nozzle 220 to surround the second injection hole 204. The propeller 240 may be configured to be rotatable by a bearing and may be configured to be rotatable by the flow of the air (A). In particular, the propeller 240 may be used to prevent the flow of air (A) from stagnating on the outer surface of the nozzle assembly 200, and may be rotated by the flow of air (A), as shown. Although it is not possible, it can be forcibly rotated by a separate driving unit.

상술한 바와 같은 본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 노즐 조립체(200)는 상기 팬(124)에 의한 공기(A)의 흐름 방향으로 냉각 가스(C)를 분사할 수 있으며, 또한 상기 공기(A)의 흐름 방향에 반대 방향으로 상기 냉각 가스(C)를 분사할 수 있다. 또한, 상기 노즐 조립체(200)는 상기 공기(A)의 흐름 방향으로 결로 방지를 위한 제2 가스를(D) 분사할 수 있으며, 또한 상기 공기(A)의 흐름 방향에 반대 방향으로 상기 제2 가스(D)를 분사할 수 있다.According to the embodiments of the present invention as described above, the nozzle assembly 200 can spray the cooling gas (C) in the direction of the flow of the air (A) by the fan 124, and the air ( The cooling gas (C) may be sprayed in a direction opposite to the flow direction of A). In addition, the nozzle assembly 200 may spray a second gas (D) for preventing condensation in the flow direction of the air (A), and may also spray the second gas (D) in a direction opposite to the flow direction of the air (A). Gas (D) can be sprayed.

결과적으로, 상기 제2 및 제4 분사구들(204, 208)의 전방 부위 즉 상기 노즐 조립체(200)의 상류 측에서 와류가 형성될 수 있으며, 상기 와류에 의해 상기 공기(A)의 흐름에 마주하는 부위 즉 상기 제2 분사구(204)와 제4 분사구들(208)이 위치된 부위에서의 결로 및 결빙 현상이 충분히 감소될 수 있다. 또한, 상기 냉각 가스(C)를 공급하기 위한 내측 노즐(210)과 제1 배관(230)이 상기 제2 가스(D)의 공급 유로 내에 위치될 수 있으므로 상기 노즐 조립체(200)의 외측 표면들에서의 결로 및 결빙 현상이 더욱 감소될 수 있다.As a result, a vortex may be formed in the front portion of the second and fourth injection holes 204 and 208, that is, on the upstream side of the nozzle assembly 200, and the vortex may form a vortex facing the flow of air A. Condensation and freezing phenomenon can be sufficiently reduced in the area where the second injection hole 204 and the fourth injection hole 208 are located. In addition, the inner nozzle 210 and the first pipe 230 for supplying the cooling gas (C) may be located within the supply passage of the second gas (D), so that the outer surfaces of the nozzle assembly 200 Condensation and freezing can be further reduced.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the present invention has been described above with reference to preferred embodiments, those skilled in the art may make various modifications and changes to the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. You will be able to understand that it exists.

10 : 반도체 패키지 20 : 테스트 트레이
30 : 커스터머 트레이 100 : 테스트 핸들러
110 : 테스트 챔버 120 : 속 챔버
122 : 순환 배관 124 : 팬
130 : 디속 챔버 200 : 노즐 조립체
202 : 제1 분사구 204 : 제2 분사구
206 : 제3 분사구 208 : 제4 분사구
210 : 내측 노즐 220 : 외측 노즐
222 : 내부 공간 230 : 제1 배관
232 : 제2 배관 240 : 프로펠러
10: semiconductor package 20: test tray
30: Customer Tray 100: Test Handler
110: test chamber 120: inner chamber
122: circulation pipe 124: fan
130: Disock chamber 200: Nozzle assembly
202: first nozzle 204: second nozzle
206: third nozzle 208: fourth nozzle
210: inner nozzle 220: outer nozzle
222: Internal space 230: First pipe
232: second pipe 240: propeller

Claims (8)

반도체 패키지들을 전기적으로 테스트하기 위한 테스트 챔버와, 상기 테스트 챔버와 연결되며 상기 반도체 패키지들의 온도를 미리 조절하기 위한 속 챔버와, 상기 반도체 패키지들의 테스트 후 상기 반도체 패키지들의 온도를 상온으로 회복시키기 위한 디속 챔버, 상기 속 챔버 내부의 공기를 순환시키기 위한 순환 배관과, 상기 순환 배관을 통해 상기 공기를 순환시키기 위한 팬과, 상기 속 챔버 내부의 온도를 조절하기 위한 냉각 가스를 분사하는 노즐 조립체를 포함하는 테스트 핸들러에 있어서,
상기 노즐 조립체는, 상기 냉각 가스를 공급하기 위한 내측 노즐과, 상기 내측 노즐이 배치되는 내부 공간 및 상기 팬에 의한 상기 공기의 흐름 방향으로 배치되는 유선형의 외측면을 갖는 외측 노즐을 포함하고,
상기 외측 노즐은, 상기 공기의 흐름 방향과 동일한 방향으로 상기 냉각 가스를 분사하기 위한 제1 분사구와, 상기 공기의 흐름 방향과 반대 방향으로 상기 냉각 가스를 분사하는 제2 분사구와, 상기 제1 분사구의 주위에 배치되며 상기 냉각 가스에 의한 결로 현상을 방지하기 위한 제2 가스를 분사하는 복수의 제3 분사구들과, 상기 제2 분사구의 주위에 배치되며 상기 제2 가스를 분사하기 위한 복수의 제4 분사구들을 구비하며,
상기 내측 노즐은 상기 냉각 가스의 공급을 위해 상기 제1 분사구 및 제2 분사구와 연결되고, 상기 내부 공간은 상기 제3 분사구들 및 제4 분사구들과 연결되며, 상기 제2 가스는 상기 내부 공간을 통해 상기 제3 분사구들 및 제4 분사구들로 공급되는 것을 특징으로 하는 테스트 핸들러.
A test chamber for electrically testing semiconductor packages, an inner chamber connected to the test chamber and for pre-regulating the temperature of the semiconductor packages, and a inner chamber for restoring the temperature of the semiconductor packages to room temperature after testing the semiconductor packages. A chamber, a circulation pipe for circulating the air inside the inner chamber, a fan for circulating the air through the circulation pipe, and a nozzle assembly for spraying cooling gas to control the temperature inside the inner chamber. In the test handler,
The nozzle assembly includes an inner nozzle for supplying the cooling gas, an inner space in which the inner nozzle is disposed, and an outer nozzle having a streamlined outer surface disposed in the direction of the air flow by the fan,
The outer nozzle includes a first injection port for spraying the cooling gas in the same direction as the air flow direction, a second injection port for spraying the cooling gas in a direction opposite to the air flow direction, and the first injection port. a plurality of third injection nozzles arranged around the second gas to prevent condensation caused by the cooling gas, and a plurality of third nozzles disposed around the second nozzle for injecting the second gas. Equipped with 4 nozzles,
The inner nozzle is connected to the first injection port and the second injection port to supply the cooling gas, the inner space is connected to the third injection port and the fourth injection port, and the second gas is connected to the inner space. A test handler, characterized in that the supply is supplied to the third injection port and the fourth injection port through the test handler.
삭제delete 제1항에 있어서, 상기 냉각 가스로는 질소 가스가 사용되며, 상기 제2 가스로는 건조 공기가 사용되는 것을 특징으로 하는 테스트 핸들러.The test handler according to claim 1, wherein nitrogen gas is used as the cooling gas, and dry air is used as the second gas. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 노즐 조립체는,
상기 내측 노즐과 연결되며 상기 냉각 가스를 공급하기 위한 제1 배관과,
상기 내부 공간과 연결되고 상기 제1 배관을 감싸도록 구성되며 상기 내부 공간에 상기 제2 가스를 공급하기 위한 제2 배관을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 테스트 핸들러.
The method of claim 1, wherein the nozzle assembly:
A first pipe connected to the inner nozzle and supplying the cooling gas,
A test handler connected to the internal space and configured to surround the first pipe, and further comprising a second pipe for supplying the second gas to the internal space.
삭제delete 제1항에 있어서, 상기 노즐 조립체는, 상기 제2 분사구의 주위를 감싸도록 배치되고 상기 공기의 흐름에 의해 회전 가능하게 구성되는 프로펠러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 테스트 핸들러.The test handler according to claim 1, wherein the nozzle assembly further includes a propeller disposed to surround the second nozzle and rotatable by the air flow. 제1항에 있어서, 상기 노즐 조립체는, 상기 제2 분사구의 주위를 감싸면서 회전 가능하도록 구성되는 프로펠러와, 상기 노즐 조립체의 외측면에서 상기 공기의 흐름이 정체되는 것을 방지하기 위하여 상기 프로펠러를 회전시키는 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 테스트 핸들러.The method of claim 1, wherein the nozzle assembly includes a propeller configured to rotate while surrounding the second nozzle, and the propeller rotates to prevent the air flow from stagnating on the outer surface of the nozzle assembly. A test handler further comprising a driving unit that commands.
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