KR102616797B1 - 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템 - Google Patents

선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명은 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템에 관한 것으로서, 기저에 층을 형성하여 외부로부터 인가되는 소정의 전자기파가 선택적으로 투과되는 베이스 레이어 유닛; 베이스 레이어 유닛의 하부에 배치되어, 소정의 전자기파를 흡수하거나 반사하는 제1디스선 레이어 유닛(discern layer unit); 및 베이스 레이어 유닛의 상부에 선택적으로 배치되어, 소정의 전자기파를 선택적으로 흡수하거나 반사하는 제2디스선 레이어 유닛을 포함하는 기술적 사상을 개시한다.

Description

선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템{Layering system for exposing selective wave length range based on position of user by using selective light reflection}
본 발명은 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템에 관한 것으로 보다 자세하게는, 내용물 보호를 위한 포장지의 다중 적층 구조에 광굴절 현상을 적용하는 레이어링 시스템에 관한 기술분야이다.
스페인의 한 자선단체에서는 학대 받는 어린이들을 위한 특수 광고 포스터를 공개한 적이 있다. 일반 성인이 광고 포스터를 보면 우울한 표정의 소년만이 보이지만 같은 광고 포스터를 어린이들이 볼 경우, 소년의 이미지와 함께 ‘만약 누군가에게 상처받았다면 우리에게 전화해 도움 받아라’ 는 메시지와 함께 전화번호가 보여 지게 된다.
이 특수 광고 포스터는 사람이 보는 각도에 따라서 입체감이나 움직임을 느끼게 해주는 렌티큘러 프린팅(lenticular printing)을 적용하여 키가 135cm 이하인 어린이들에게만 메세지를 제공하는 것이다.
렌티큘러 기술은 좌안과 우안으로 느껴지는 시차, 즉 좌안과 우안이 공간적으로 약간 다른 위치에 있어 동일 물체를 바라볼 때 발생하는 양안 시차를 이용한다. 보는 각도에 따라 사진을 달리 보거나 입체감과 움직임을 느끼게 하는 기술이다.
렌티큘러 기술을 이용하면 일부 이미지의 차단 효과 및 선택적 빛의 전진 효과를 이용하여 2D 이미지로부터 3D 입체 이미지 효과를 얻을 수 있게 된다. 또한, 렌티큘러 프린팅은 2D 이미지를 공간 이용, 배열 순서, 명암 처리 등을 통해 착시 효과를 일으키고 돌출과 함몰 등의 깊이감이 생겨 사물을 입체적으로 볼 수 있게 된다.
렌티큘러 관련 기술을 통해 2D 이미지를 3D 이미지로 재구성한 인쇄물과 영상물을 제작할 수 있으며 공간감, 사실감, 질감 등을 느낄 수 있는 3D 입체 영상효과를 낼 수 있다는 이유로 광고, 인쇄, 방송 등의 분야에서 주목받고 있다.
이와 관련된 선행 특허문헌의 예로서 “홀로그램 시트의 제조방법 (등록번호 제10-0923414호, 이하 특허문헌1이라 한다.)”이 존재한다.
특허문헌1에 따른 발명의 경우, 시트본체가 감겨진 권취롤러를 준비하는 단계; 베이스 필름층 및 베이스 필름 상에 형성된 홀로그램층을 포함하는 홀로그램 박막이 감겨진 권취롤러를 준비하는 단계; 시트본체를 언와인딩하면서, 시트본체 상에 접착제를 코팅하여 시트본체 및 접착제층을 포함하는 코팅체를 제조하는 단계; 홀로그램 박막이 감겨진 권취롤러를 언와인딩하면서, 홀로그램 박막을 코팅체에 가압 접착하되, 코팅체의 접착제층 상에 홀로그램층이 위치하도록 가압 접착하여 시트본체, 접착제층, 홀로그램층 및 베이스 필름층을 포함하는 적층체를 제조하는 단계; 및 적층체의 적어도 베이스 필름층을 제거하는 단계를 포함하는 홀로그램 시트의 제조방법을 제공한다.
또 다른 특허문헌의 예로서 “입체효과가 나타나는 카드 및 그 제조방법 (등록번호 제10-1991280호, 이하 특허문헌2이라 한다.)”이 존재한다.
특허문헌2에 따른 발명의 경우, 카드의 상면을 형성하는 투명 재질의 오버레이 레이어; 오버레이 레이어 하측에 위치하는 투명필름; 투명필름과 오버레이 레이어의 사이에 소정의 패턴으로 양각 투명 인쇄되어 경화된 양각패턴부; 투명필름의 하측에 위치하는 홀로그램 시트; 홀로그램 시트의 하측에 위치하는 베이스 레이어;를 포함하고, 홀로그램 시트의 상면은 양각패턴부에 의해 하측으로 함몰되어 변형된 것을 특징으로 하는 입체효과가 나타나는 카드 및 이의 제조방법을 제공한다.
또 다른 특허문헌의 예로서 “홀로그램 복합시트 (공개번호 제10-2022-0065348호, 이하 특허문헌3이라 한다.)”이 존재한다.
특허문헌3에 따른 발명의 경우, 체적 홀로그램 시트; 그리고 기재 및 패턴층을 구비한 표면 홀로그램 시트;를 포함하며, 체적 홀로그램 시트를 기준으로 체적 홀로그램 시트로부터 홀로그램이 나오는 방향의 반대 방향에 표면 홀로그램 시트가 위치하는 홀로그램 복합시트 및 이의 제조방법에 대한 것이다.
등록번호 제10-0923414호 등록번호 제10-1991280호 공개번호 제10-2022-0065348호
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템은 상기한 바와 같은 종래 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 다음과 같은 해결하고자 하는 과제를 제시한다.
첫째, 보는 각도에 따라서 입체감이나 움직임이 연출되도록 하는 적층 구조를 제시하고자 한다.
둘째, 외부로부터 인가되는 전자기파의 굴절 정도를 선택적으로 조절하여 관찰자의 보는 각도에 따라서 상이한 시각적 현상이 발생될 수 있도록 한다.
본 발명의 해결 과제는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 해결과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템은 상기의 해결하고자 하는 과제를 위하여 다음과 같은 과제 해결 수단을 가진다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템은 기저에 층을 형성하여 외부로부터 인가되는 소정의 전자기파가 선택적으로 투과되는 베이스 레이어 유닛(base layer unit); 상기 베이스 레이어 유닛의 하부에 선택적으로 제공되어, 상기 소정의 전자기파를 흡수하거나 반사하는 제1디스선 레이어 유닛(discern layer unit); 및 상기 베이스 레이어 유닛의 상부에 선택적으로 제공되어, 상기 소정의 전자기파를 선택적으로 흡수하거나 반사하는 제2디스선 레이어 유닛을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 상기 베이스 레이어 유닛은, 하부에 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인이 선택적으로 배치되어, 상기 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인은 목적하는 바에 따라서 선택적으로 확장되거나 축소되는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 상기 베이스 레이어 유닛은, 상부에 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인이 선택적으로 배치되어, 상기 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인은 목적하는 바에 따라서 선택적으로 확장되거나 축소되는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 상기 제1디스선 레이어 유닛은, 상기 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인 내에 선택적으로 배치되며, 상기 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인 내에 복수 개의 파티클이 선택적으로 제공되며, 상기 복수 개의 파티클은 각각 상기 소정의 전자기파를 선택적으로 흡수 또는 반사하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 상기 제2디스선 레이어 유닛은, 상기 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인 내에 선택적으로 배치되며, 상기 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인 내에 복수 개의 파티클이 선택적으로 제공되며, 상기 복수 개의 파티클은 각각 상기 소정의 전자기파를 선택적으로 흡수 또는 반사하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 상기 제1디스선 레이어 유닛은, 상기 제1디스선 레이어 유닛과 상기 제2디스선 레이어 유닛의 적어도 어느 한 부분이 선택적으로 오버랩되면 인터피어런스(interference) 영역이 선택적으로 형성되어, 상기 제1디스선 레이어 유닛으로 입사되는 상기 소정의 전자기파의 굴절 각도가 선택적으로 조절되는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템은, 상기 제2디스선 레이어 유닛 하부에 피착면과의 마찰력을 선택적으로 제공하는 프릭션 콘트롤 유닛(friction control unit)을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템은, 상기 제1디스선 레이어 유닛과 상기 프릭션 콘트롤 유닛의 어느 한 일면 또는 상기 프릭션 콘트롤 유닛과 피착물의 어느 한 일면에서 상기 소정의 전자기파를 선택적으로 차폐하는 백업 레이어 유닛(backup layer unit)을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템은, 제1디스선 레이어 유닛 또는 제2디스선 레이어 유닛에 인접한 곳에 3차원적 소정의 형상을 선택적으로 구비하여, 상기 3차원적 소정의 형상으로부터 추가 광굴절 현상이 발생되도록 하는 오브젝트 유닛(object unit)을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 상기 오브젝트 유닛은, 상기 소정의 형상이 피착물에 선택적으로 제공되도록 하여, 상기 제1디스선 레이어 유닛과 상기 제2디스선 레이어 유닛에 입사되는 상기 소정의 전자기파의 입사각을 선택적으로 조절되도록 하는 것을 특징으로 할 수 있다.
이상과 같은 구성의 본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템은 다음과 같은 효과를 제공한다.
첫째, 선택적 다중 레이어링 구조를 통하여 보는 관찰자의 위치와 보는 각도에 따라서 상이한 모양이 연출될 수 있게 된다.
둘째, 가상의 버추얼 라인 내에 제공된 복수 개의 파티클의 적층 두께를 선택적으로 설정하여 전자기파의 굴절 정도를 선택적으로 조절하여 관찰자의 보는 각도에 따라서 상이한 시각적 현상이 발생될 수 있도록 한다.
셋째, 소정의 형상을 오브젝트 상에 다중 레이어 구조를 적용하며, 소정의 형상이 가지는 굴곡을 통해 전자기파의 굴절 각도를 선택적으로 조절할 수 있게 된다.
본 발명의 효과는 이상에서 언급한 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 측면도이다.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 또 다른 실시예에 따른 측면도이다.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 베이스 레이어 유닛 상에 미리 설정된 가상의 제1,2버추얼 라인이 마련되는 것을 도시한 평면도이다.
도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 미리 설정된 제1,2가상의 버추얼 라인이 선택적으로 확장되는 것을 도시한 평면도이다.
도5는 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 보는 각도에 따라서 상이한 이미지가 관찰되는 것을 도시한 평면도이다.
도6은 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 제1디스선 레이어 유닛의 측면도이다.
도7은 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 제2디스선 레이어 유닛의 측면도이다.
도8은 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 복수 개의 파티클의 적층 두께가 선택적으로 형성된 것을 도시한 측면도이다.
도9는 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 베이스 레이어 유닛의 하부에 백업 레이어 유닛과 프릭션 콘트롤 유닛이 마련된 것을 도시한 측면도이다.
도10은 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 오브젝트 유닛 상에 베이스 레이어 유닛과 디스선 레이어 유닛이 마련된 것을 도시한 정면도이다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 기술적 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 측면도이다. 도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 또 다른 실시예에 따른 측면도이다. 도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 베이스 레이어 유닛 상에 미리 설정된 가상의 제1,2버추얼 라인이 마련되는 것을 도시한 평면도이다. 도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 미리 설정된 제1,2가상의 버추얼 라인이 선택적으로 확장되는 것을 도시한 평면도이다. 도5는 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 보는 각도에 따라서 상이한 이미지가 관찰되는 것을 도시한 평면도이다. 도6은 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 제1디스선 레이어 유닛의 측면도이다. 도7은 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 제2디스선 레이어 유닛의 측면도이다. 도8은 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 복수 개의 파티클의 적층 두께가 선택적으로 형성된 것을 도시한 측면도이다. 도9는 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 베이스 레이어 유닛의 하부에 백업 레이어 유닛과 프릭션 콘트롤 유닛이 마련된 것을 도시한 측면도이다. 도10은 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 오브젝트 유닛 상에 베이스 레이어 유닛과 디스선 레이어 유닛이 마련된 것을 도시한 정면도이다.
본 발명에 따른 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템의 경우, 도1에 도시된 바와 같이, 베이스 레이어 유닛(base layer unit, 10), 제1디스선 레이어 유닛(100), 제2디스선 레이어 유닛(200)을 포함할 수 있고 나아가, 도2에 도시된 바와 같이, 백업 레이어 유닛(backup layer unit,300), 프릭션 콘트롤 유닛(friction control unit, 400), 및 오브젝트 유닛(object unit, 500)을 더 포함할 수 있다.
먼저, 베이스 레이어 유닛(10)의 경우, 도1 및 도2에 도시된 바와 같이, 기저에 층을 형성하여 외부로부터 인가되는 소정의 전자기파가 선택적으로 투과되는 구성이다.
베이스 레이어 유닛(10)은 메인 보디가 형성되며 후술하게 될 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인(101)과 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인(201)이 마련된다.
베이스 레이어 유닛(10)은 빛이 투과될 수 있도록 투명한 라벨이나 필름 등의 형태로 이루어질 수 있다.
베이스 레이어 유닛(10)의 두께는 일정하게 형성되는 것이 바람직하며, 일정한 두께로 형성됨에 따라서 빛을 일정하게 투과 시키게 된다.
베이스 레이어 유닛(10)은 하부에 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인(101)이 선택적으로 배치된다.
미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인(101)은 실제 베이스 레이어 유닛(10) 상에서는 육안으로 관찰되지 않는 가상의 라인에 해당하는 것이나, 도5에 도시된 바와 같이, 제1디스선 레이어 유닛(100)의 복수 개의 파티클(P)이 제공됨에 따라서 그 경계선이 결과적으로 육안으로 관찰 가능하게 되는 가상의 선으로 정의할 수 있다.
즉, 도3의 (a)에 도시된 바와 같이, 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인(101)은 제1디스선 레이어 유닛(100)의 복수 개의 파티클(P)이 제공되기 위한 영역으로 폐곡선(close loop)로 형성되는 개념적인 경계 라인에 해당되는 것이며, 베이스 레이어 유닛(10)의 하면에 선택적으로 배치가 이루어지도록 하는 것으로 물리적인 경계 라인은 아니다.
또한, 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인(101)은 도4(a)와 같이, 목적하는 바에 따라서 선택적으로 확장되거나 축소되도록 한다.
도1에 도시된 바와 같이, 베이스 레이어 유닛(10)의 상부에는 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인(201)이 선택적으로 배치된다.
미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인(201)은 실제 베이스 레이어 유닛(10) 상에서는 육안으로 관찰되지 않는 가상의 라인에 해당하는 것이나, 도5에 도시된 바와 같이, 제2디스선 레이어 유닛(200)의 복수 개의 파티클(P)이 제공됨에 따라서 그 경계선이 결과적으로 육안으로 관찰 가능하게 되는 가상의 선으로 정의할 수 있다.
즉, 도3의 (b)에 도시된 바와 같이, 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인(201)은 제2디스선 레이어 유닛(200)의 복수 개의 파티클(P)이 제공되기 위한 영역으로 폐곡선(close loop)로 형성되는 개념적인 경계 라인에 해당되는 것이며, 베이스 레이어 유닛(10)의 상면에 선택적으로 배치가 이루어지도록 하는 것으로 물리적인 경계 라인은 아니다.
또한, 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인(201)은 도4의 (b)와 같이, 목적하는 바에 따라서 선택적으로 확장되거나 축소되도록 한다.
아울러, 도3에 도시된 바와 같이, 베이스 레이어 유닛(10)을 기준으로 상부와 하부에 각각 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인(101) 및 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인(201)이 형성되며, 제1버추얼 라인(101)과 제2버추얼 라인(201)은 동일한 위치에 형성될 수도 있지만 각각 다른 위치에 선택적으로 형성될 수도 있는 것이 바람직하다.
제1디스선 레이어 유닛(100)의 경우, 도6에 도시된 바와 같이, 베이스 레이어 유닛(10)의 하부의 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인(101) 내에 선택적으로 배치되어 소정의 전자기파를 선택적으로 흡수하거나 반사하는 구성이다.
제1디스선 레이어 유닛(100)은 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인(101) 내에 복수 개의 파티클(P)이 선택적으로 제공되며, 복수 개의 파티클(P)은 각각 소정의 전자기파를 선택적으로 흡수 또는 반사하게 된다.
제1디스선 레이어 유닛(100)은 복수 개의 파티클(P)이 제공됨에 따라서 그 자체로 인쇄층을 이루는 형태가 되며, 기타 구조물 예컨대, 에폭시, 수지, 필름, 박막 등을 매개하거나 이들 기타 주고물을 기저로 필요로 하는 등의 불필요성을 배제하는 것이 바람직하다.
제2디스선 레이어 유닛(200)의 경우, 도7에 도시된 바와 같이, 베이스 레이어 유닛(10)의 상부에 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인(201) 내에 선택적으로 배치되어, 소정의 전자기파를 선택적으로 흡수하거나 반사하는 구성이다.
제2디스선 레이어 유닛(200)은 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인(201) 내에 복수 개의 파티클(P)이 선택적으로 제공되며, 복수 개의 파티클(P)은 각각 소정의 전자기파를 선택적으로 흡수 또는 반사하게 된다.
제1디스선 레이어 유닛(100) 또는 제2디스선 레이어 유닛(200)에 제공되는 복수 개의 파티클(P)은 복수 개 또는 복수의 종류로 이루어진 미립자들의 집합체에 해당되며, 소정의 전자기파를 흡수하거나 반사하게 되며, 여기서 말하는 소정의 전자기파는 외부로부터 인가되는 가시광선 영역의 전자기파에 해당된다.
복수 개의 파티클(P)은 부분 용융된 입자 형태로 제공되어 목적하는 바에 따라서 적층 되도록 하며, 그 적층 구조를 3차원적으로 형성시킬 수 있다.
도7에 도시된 바와 같이, 복수 개의 파티클(P1, P2, P3, P4) 각각은 개별적으로 상이한 파장대의 전자기파를 선택적으로 흡수하거나 반사하며, 이에 따라서 육안으로 복수 개의 파티클(P)을 확인할 수 있게 된다.
도6 및 도7에 도시된 바와 같이, 복수 개의 파티클(P)이 존재하며, 각각의 파티클로부터 방출되는 소정의 전자기파의 파장대와 세기는 상이하게 설정되어, 관찰자가 보는 각도에 따라서 상이한 빛을 볼 수 있게 된다.
또한, 복수 개의 파티클(P)이 적층 두께 또는 밀도를 선택적으로 조절하여 소정의 단차를 형성할 수 있다.
복수 개의 파티클(P)에 소정의 단차가 형성됨에 따라서 소정의 전자기파의 입사 각도, 반사 각도, 굴절 각도가 달라지게 된다.
즉, 제1디스선 레이어 유닛(100)과 제2디스선 레이어 유닛(200)의 복수 개의 파티클(P)의 적층 정도와 깊이, 너비, 두께, 밀도 중 적어도 하나 이상을 선택적으로 설정하여 적층 되는 복수 개의 파티클(P)의 상호 관계에 따라서 관찰자의 보는 각도에 따라 노출 정보를 달리 설정하며, 관찰자의 보는 각도에 따라서 상이한 시각적 현상이 발생될 수 있도록 한다.
아울러, 소정의 전자기파는 베이스 레이어 유닛(10), 제1디스선 레이어 유닛(100), 제2디스선 레이어 유닛(200)에 투과되는데, 이때, 제1디스선 레이어 유닛(100)과 제2디스선 레이어 유닛(200)의 적어도 어느 한 부분이 선택적으로 오버랩되면, 제1디스선 레이어 유닛(100)으로 입사되는 소정의 전자기파의 굴절 각도가 선택적으로 조절된다.
제1디스선 레이어 유닛(100)과 제2디스선 레이어 유닛(200)이 오버랩되면 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인(101)과 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인(201)이 선택적을 오버랩되면서 인터피어런스(interference) 영역이 선택적으로 구현된다. 여기서 인터피어런스 영역은 제1디스선 레이어 유닛(100)과 제2디스선 레이어 유닛(200)이 중첩되어 조화를 이루는 영역으로 소정의 전자기파의 간섭이 발생되는 영역으로 정의하는 것이 바람직하다.
소정의 전자기파가 제2디스선 레이어 유닛(200)으로부터 입사된 후 인터피어런스 영역을 통과하여 제1디스선 레이어 유닛(100)에 도달될 경우, 소정의 전자기파의 굴절 각도가 선택적으로 조절되면서 선택적 광굴절 현상이 발생되면서 입체 효과를 구현할 수 있게 된다.
아울러, 베이스 레이어 유닛(10) 또는 제1디스선 레이어 유닛(100) 적층 두께가 선택적으로 형성됨에 따라서 제2디스선 레이어 유닛(200)으로 도달되는 소정의 전자기파의 입사 각도, 반사 각도, 또는 굴절 각도를 조절하는 기능을 수행할 수도 있다.
베이스 레이어 유닛(10)은 제1디스선 레이어 유닛(100)과 제2디스선 레이어 유닛(200) 사이에 존재하는 베이스 레이어 유닛(10)은 중간 기재로서, 베이스 레이어 유닛(100)의 두께에 따라서 광굴절 정도가 선택적으로 조절되면서 입체효과가 나타나게 된다.
제1디스선 레이어 유닛(100)도 마찬가지로 적층 두께를 따라서 선택적으로 상이하게 조절하여 제2디스선 레이어 유닛(200)에 도달되는 소정의 전자기파의 경로를 선택적으로 변경시킬 수 있는 것이 바람직하다.
위에서 상술한 바와 같이 인터피어런스 영역을 구현하거나 적층 두께를 선택적을 조절하여 관찰자의 보는 각도에 따라서 상이한 시각적 현상이 발생될 수 있도록 한다.
프릭션 콘트롤 유닛(400)은 도9에 도시된 바와 같이, 제2디스선 레이어 유닛(200) 하부에 피착면과의 마찰력을 선택적으로 제공하는 구성이다.
프릭션 콘트롤 유닛(400)은 제2디스선 레이어 유닛(200) 또는 백업 레이어 유닛(300)의 하부에 제공되어, 피착면과의 마찰력을 선택적으로 제공하게 된다.
프릭션 콘트롤 유닛(400)은 마찰계수를 조절하여 피착면과의 마찰력을 선택적으로 조절할 수 있다. 예컨대, 포장하고자 하는 대상물에 잘 커버되도록 하기 위하여 슬립 코팅을 하거나, 점착력을 선택적으로 제공하여 마찰계수가 조절될 수 있도록 한다.
백업 레이어 유닛(300)의 경우, 도9에 도시된 바와 같이, 제1디스선 레이어 유닛(100)과 프릭션 콘트롤 유닛(400)의 어느 한 일면 또는 프릭션 콘트롤 유닛(400)과 피착물의 어느 한 일면에서 소정의 전자기파를 선택적으로 차폐하는 구성이다.
백업 레이어 유닛(300)은 베이스 레이어 유닛(10) 또는 제2디스선 레이어 유닛(200)의 하부에 배치되어 제2디스선 레이어 유닛(200)을 통과한 소정의 전자기파를 선택적으로 차폐하는 기능을 수행한다.
백업 레이어 유닛(300)은 소정의 전자기파의 경로를 차단하기 위한 것으로 백색의 필름, 수지, 라벨, 원단 등의 형태로 이루어지거나, 백색 잉크의 프린팅을 통해서 형성될 수 있다.
또한 백업 레이어 유닛(300)은 포장하기 위한 용기가 될 수도 있다.
백업 레이어 유닛(300)는 백색층을 형성하여 소정의 전자기파를 차폐 시키는 역할을 수행하게 된다.
오브젝트 유닛(500)의 경우, 도10에 도시된 바와 같이, 제1디스선 레이어 유닛(100)의 하면 또는 제2디스선 레이어 유닛(200)의 상면에 인접한 곳에 3차원적 소정의 형상을 선택적으로 구비하여, 3차원적 소정의 형상으로부터 추가 광굴절 현상이 발생되도록 하는 구성이다.
오브젝트 유닛(500)은 3차원적 소정의 형상을 구비하여, 베이스 레이어 유닛(10), 제1디스선 레이어 유닛(100), 제2디스선 레이어 유닛(200)이 소정의 형상을 가지는 표면에 밀착 마련되도록 하는 구성이다.
이때, 제1디스선 레이어 유닛(100)의 하부에 백업 레이어 유닛(300) 또는 프릭션 콘트롤 유닛(400)이 존재할 경우, 오브젝트 유닛(500)은 백업 레이어 유닛(300) 또는 프릭션 콘트롤 유닛(400)의 하부에도 제공될 수 있다.
오브젝트 유닛(500)은 포장하고자 하는 대상물, 또는 부착하고자 하는 대상물이 될 수 있으며, 내용물을 수용하는 용기가 되는 것이 바람직하다.
오브젝트 유닛(500)은 소정의 형상물이 피착물에 선택적으로 제공되도록 하여 제1디스선 레이어 유닛(100)과 제2디스선 레이어 유닛(200)에 입사되는 소정의 전자기파의 입사각을 선택적으로 조절되도록 한다.
도10에 도시된 바와 같이, 오브젝트 유닛(500)이 가지는 소정의 형상의 굴곡 정도가 선택적으로 조절되면, 소정의 형상이 가지는 입체감에 따라서 추가 광굴절이 발생하게 된다.
본 발명의 권리 범위는 특허청구범위에 기재된 사항에 의해 결정되며, 특허 청구범위에 사용된 괄호는 선택적 한정을 위해 기재된 것이 아니라, 명확한 구성요소를 위해 사용되었으며, 괄호 내의 기재도 필수적 구성요소로 해석되어야 한다.
10: 베이스 레이어 유닛
100: 제1디스선 레이어 유닛
101: 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인
200: 제2디스선 레이어 유닛
201: 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인
300: 백업 레이어 유닛
400: 프릭션 콘트롤 유닛
500: 오브젝트 유닛
P: 복수 개의 파티클

Claims (10)

  1. 기저에 층을 형성하여 외부로부터 인가되는 소정의 전자기파가 선택적으로 투과되는 베이스 레이어 유닛(base layer unit);
    상기 베이스 레이어 유닛의 하부에 선택적으로 제공되어, 상기 소정의 전자기파를 흡수하거나 반사하는 제1디스선 레이어 유닛(discern layer unit); 및
    상기 베이스 레이어 유닛의 상부에 선택적으로 제공되어, 상기 소정의 전자기파를 선택적으로 흡수하거나 반사하는 제2디스선 레이어 유닛을 포함하되,
    상기 베이스 레이어 유닛은,
    하부에 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인이 선택적으로 배치되어, 상기 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인은 목적하는 바에 따라서 선택적으로 확장되거나 축소되며,
    상부에 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인이 선택적으로 배치되어, 상기 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인은 목적하는 바에 따라서 선택적으로 확장되거나 축소되고,
    상기 제1디스선 레이어 유닛은,
    상기 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인 내에 선택적으로 배치되며,
    상기 미리 설정된 가상의 제1버추얼 라인 내에 복수 개의 파티클이 선택적으로 제공되며, 상기 복수 개의 파티클은 각각 상기 소정의 전자기파를 선택적으로 흡수 또는 반사하며,
    상기 제2디스선 레이어 유닛은,
    상기 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인 내에 선택적으로 배치되며,
    상기 미리 설정된 가상의 제2버추얼 라인 내에 복수 개의 파티클이 선택적으로 제공되며, 상기 복수 개의 파티클은 각각 상기 소정의 전자기파를 선택적으로 흡수 또는 반사하고,
    상기 제1디스선 레이어 유닛은,
    상기 제1디스선 레이어 유닛과 상기 제2디스선 레이어 유닛의 적어도 어느 한 부분이 선택적으로 오버랩되면 인터피어런스(interference) 영역이 선택적으로 형성되어, 상기 제1디스선 레이어 유닛으로 입사되는 상기 소정의 전자기파의 굴절 각도가 선택적으로 조절되며,
    상기 인터피어런스 영역은,
    상기 제1디스선 레이어 유닛과 상기 제2디스선 레이어 유닛이 중첩되어 조화를 이루는 영역이며,
    상기 제1디스선 레이어 유닛과 상기 제2디스선 레이어 유닛의 상기 복수 개의 파티클의 상호 관계에 따라 관찰자의 보는 각도에 따른 노출 정보를 달리 설정하고, 상이한 시각적 현상을 발생시키는 것을 특징으로 하는, 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서, 상기 시스템은,
    상기 제2디스선 레이어 유닛 하부에 피착면과의 마찰력을 선택적으로 제공하는 프릭션 콘트롤 유닛(friction control unit)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템.
  8. 제7항에 있어서, 상기 시스템은,
    상기 제1디스선 레이어 유닛과 상기 프릭션 콘트롤 유닛의 어느 한 일면 또는 상기 프릭션 콘트롤 유닛과 피착물의 어느 한 일면에서 상기 소정의 전자기파를 선택적으로 차폐하는 백업 레이어 유닛(backup layer unit)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 상기 시스템은,
    제1디스선 레이어 유닛 또는 제2디스선 레이어 유닛에 인접한 곳에 3차원적 소정의 형상을 선택적으로 구비하여, 상기 3차원적 소정의 형상으로부터 추가 광굴절 현상이 발생되도록 하는 오브젝트 유닛(object unit)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템.
  10. 제9항에 있어서, 상기 오브젝트 유닛은,
    상기 소정의 형상이 피착물에 선택적으로 제공되도록 하여,
    상기 제1디스선 레이어 유닛과 상기 제2디스선 레이어 유닛에 입사되는 상기 소정의 전자기파의 입사각을 선택적으로 조절되도록 하는 것을 특징으로 하는, 선택적 광굴절 현상을 이용한 관찰자 위치 기반의 선택적 전자기파 파장대 노출 레이어링 시스템.
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