KR102607190B1 - Optical film, manufacturing method thereof, polarizer, and liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

수지 A와 수지 B를 공압출함으로써, 수지 A로 이루어지는 코어층, 및 상기 코어층의 면 상에 형성된 수지 B로 이루어지는 표층을 구비하는 적층 필름을 얻는 공정과, 상기 적층 필름으로부터 상기 표층을 박리하는 공정을 거쳐 얻어지는 광학 필름의 제조 방법; 그리고, 특정한 블록 공중합체를 포함하는 광학 필름. 상기 광학 필름은, 면내 방향의 리타데이션의 절대값이 5 nm 이하이고, 두께 방향의 리타데이션의 절대값이 10 nm 이하이고, 또한, 수증기 투과율이 20 g/(m2·일) 이하이다.A process of coextruding resin A and resin B to obtain a laminated film having a core layer made of resin A and a surface layer made of resin B formed on the surface of the core layer, and peeling the surface layer from the laminated film. A method of manufacturing an optical film obtained through a process; And, optical films containing specific block copolymers. The optical film has an absolute value of retardation in the in-plane direction of 5 nm or less, an absolute value of retardation in the thickness direction of 10 nm or less, and a water vapor transmission rate of 20 g/(m 2 ·day) or less.

Description

광학 필름, 그 제조 방법, 편광판, 및 액정 표시 장치Optical film, manufacturing method thereof, polarizer, and liquid crystal display device

본 발명은, 광학 필름, 그 제조 방법, 편광판, 및 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film, a method of manufacturing the same, a polarizing plate, and a liquid crystal display device.

액정 표시 장치에 설치되는 편광판은, 통상, 편광자와, 편광자를 보호하기 위한 보호 필름을 구비한다. 편광판 보호 필름에 있어서는, 많은 경우, 리타데이션이 작고, 수증기 투과율이 낮은 것이 요구되고 있다. 이러한 관점에서, 리타데이션이 작은 편광자 보호 필름이 제안되어 있다(특허문헌 1을 참조). 또한 편광판은, 표시 장치의 제조시 및 사용시의 환경에 있어서 내구성을 발현하는 것이 요구된다. 예를 들어, 표시 장치의 제조시에 있어서의 리워크의 때, 및 표시 장치의 사용시에 편광자가 수축되었을 때 등, 편광판에 있어서의 보호 필름에는, 높은 박리 강도가 요구되는 경우가 있다.A polarizing plate installed in a liquid crystal display device usually includes a polarizer and a protective film to protect the polarizer. In many cases, polarizing plate protective films are required to have small retardation and low water vapor transmission rate. From this viewpoint, a polarizer protective film with small retardation has been proposed (see Patent Document 1). Additionally, the polarizing plate is required to exhibit durability in the environment during production and use of the display device. For example, when a polarizer is shrunk during rework during the manufacture of a display device or when the display device is used, the protective film in the polarizing plate may be required to have high peel strength.

일본 공개특허공보 2011-013378호Japanese Patent Publication No. 2011-013378

특허문헌 1에 제안되어 있는 편광자 보호 필름은, 방향족 비닐 화합물 수소화물의 블록과, 디엔 화합물 수소화물의 블록을 포함하는 블록 공중합체를 포함하는 수지를 사용하여 얻어지는 것이다. 이러한 편광자 보호 필름에 의하면, 면내 방향의 리타데이션을 작게 할 수 있다. 그러나, 이 편광자 보호 필름을 사용하면, 편광자 보호 필름에 포함되는 중합체 분자가 배향되어 분자간의 얽힘이 저하됨으로써 발생하는, 표층 부근에서의 응집 파괴가 원인이 되어, 편광판에 있어서의 보호 필름의 박리 강도의 부족이 일어날 수 있는 문제가 있었다.The polarizer protective film proposed in Patent Document 1 is obtained using a resin containing a block copolymer containing a block of an aromatic vinyl compound hydride and a block of a diene compound hydride. According to this polarizer protective film, retardation in the in-plane direction can be reduced. However, when this polarizer protective film is used, the polymer molecules contained in the polarizer protective film are oriented and entanglement between molecules decreases, which causes cohesive failure near the surface layer, reducing the peeling strength of the protective film in the polarizing plate. There was a problem that could arise due to a lack of .

따라서, 본 발명의 목적은, 편광자와의 밀착성이 높고, 리타데이션이 작고, 또한 수증기 투과율이 낮은 광학 필름, 그러한 광학 필름을 용이하게 얻을 수 있는 광학 필름의 제조 방법, 그리고, 당해 광학 필름을 구비하고, 상기 성능을 갖는 편광판 및 액정 표시 장치를 제공하는 것에 있다.Therefore, an object of the present invention is to provide an optical film with high adhesion to a polarizer, low retardation, and low water vapor transmission rate, a method for manufacturing an optical film that can easily obtain such an optical film, and the optical film. and to provide a polarizing plate and a liquid crystal display device having the above-mentioned performance.

상술한 종래의 편광자 보호 필름에 있어서의 문제에 대하여 검토한 결과, 당해 보호 필름을 용융 압출법에 의해 성형하는 공정에 있어서 강배향층이 당해 보호 필름의 표면에 형성되는 것에서 기인한다고 생각되었다.As a result of examining the problems with the conventional polarizer protective film mentioned above, it was thought that it was caused by a strong orientation layer being formed on the surface of the protective film during the process of molding the protective film by the melt extrusion method.

이에, 본 발명자는 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 행하였다. 그 결과, 본 발명자는, 코어층과 그 면 상에 형성한 표층을 구비하는 적층 필름을 수지 A와 수지 B의 공압출에 의해 제작하고, 그 적층 필름으로부터 표층을 박리 제거함으로써, 대상물과의 밀착성이 높고, 리타데이션이 작고, 또한, 수증기 투과율이 낮은 광학 필름이 얻어지는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.Accordingly, the present inventor conducted intensive studies to solve the above problems. As a result, the present inventor produced a laminated film having a core layer and a surface layer formed on the surface by coextrusion of resin A and resin B, and peeled and removed the surface layer from the laminated film to improve adhesion to the object. It was found that an optical film with high retardation and low water vapor transmission rate could be obtained, and the present invention was completed.

즉, 본 발명은, 하기와 같다.That is, the present invention is as follows.

〔1〕 고리식 탄화수소기 함유 화합물 단위를 갖는 블록[Da]과,[1] a block [Da] having a cyclic hydrocarbon group-containing compound unit,

사슬형 탄화수소 화합물 단위, 또는 사슬형 탄화수소 화합물 단위 및 고리식 탄화수소기 함유 화합물 단위를 갖는 블록[Ea]A block having a chain hydrocarbon compound unit, or a chain hydrocarbon compound unit and a cyclic hydrocarbon group-containing compound unit [Ea]

을 포함하는 블록 공중합체를 포함하고,Contains a block copolymer containing,

표면과 중앙부에서의, 상기 블록[Da]의 체적과, 상기 블록[Ea]의 체적의 조성 비율의 차가, 0~10%이고,The difference between the composition ratio of the volume of the block [Da] and the volume of the block [Ea] at the surface and the center is 0 to 10%,

면내 방향의 리타데이션의 절대값이 5 nm 이하이고,The absolute value of retardation in the in-plane direction is 5 nm or less,

두께 방향의 리타데이션의 절대값이 10 nm 이하이고, 또한,The absolute value of retardation in the thickness direction is 10 nm or less, and

수증기 투과율이 20 g/(m2·일) 이하인, 광학 필름.An optical film having a water vapor transmission rate of 20 g/(m 2 ·day) or less.

〔2〕 상기 블록 공중합체를 포함하는 수지가 압출 제막되어 이루어지는, 〔1〕에 기재된 광학 필름.[2] The optical film according to [1], which is formed by extrusion film formation of a resin containing the block copolymer.

〔3〕 상기 블록 공중합체가,[3] The block copolymer is:

상기 블록[Da]으로서, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위를 갖는, 1 분자당 2개 이상의 중합체 블록[Db]을 포함하고,As the block [Da], it contains two or more polymer blocks [Db] per molecule having a cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit,

상기 블록[Ea]으로서, 사슬형 탄화수소 화합물 수소화물 단위, 또는 사슬형 탄화수소 화합물 또는 그 수소화물 단위 및 고리식 탄화수소 함유 화합물 또는 그 수소화물 단위를 갖는, 1 분자당 1 이상의 중합체 블록[Eb]을 포함하는 공중합체인, 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 광학 필름.As the block [Ea], at least one polymer block [Eb] per molecule having a chain hydrocarbon compound hydride unit, or a chain hydrocarbon compound or its hydride unit, and a cyclic hydrocarbon-containing compound or its hydride unit. The optical film according to [1] or [2], which is a copolymer comprising:

〔4〕 〔1〕~〔3〕 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름과, 편광자를 구비하는, 편광판.[4] A polarizing plate comprising the optical film according to any one of [1] to [3] and a polarizer.

〔5〕 〔4〕에 기재된 편광판을 구비하는, 액정 표시 장치.[5] A liquid crystal display device comprising the polarizing plate described in [4].

〔6〕 수지 A와 수지 B를 공압출함으로써, 수지 A로 이루어지는 코어층, 및 상기 코어층의 면 상에 형성된 수지 B로 이루어지는 표층을 구비하는 적층 필름을 얻는 공정과,[6] A process of co-extruding resin A and resin B to obtain a laminated film having a core layer made of resin A and a surface layer made of resin B formed on the surface of the core layer;

상기 적층 필름으로부터 상기 표층을 박리하는 공정을 포함하는 광학 필름의 제조 방법으로서,A method of manufacturing an optical film comprising a step of peeling the surface layer from the laminated film,

상기 광학 필름은,The optical film is,

면내 방향의 리타데이션의 절대값이 5 nm 이하이고,The absolute value of retardation in the in-plane direction is 5 nm or less,

두께 방향의 리타데이션의 절대값이 10 nm 이하이고, 또한,The absolute value of retardation in the thickness direction is 10 nm or less, and

수증기 투과율이 20 g/(m2·일) 이하인, 광학 필름의 제조 방법.A method for producing an optical film having a water vapor transmission rate of 20 g/(m 2 ·day) or less.

〔7〕 상기 광학 필름의 상기 면내 방향의 리타데이션의 절대값이 2 nm 이하이고, 상기 광학 필름의 상기 두께 방향의 리타데이션의 절대값이 2 nm 이하인, 〔6〕에 기재된 광학 필름의 제조 방법.[7] The method for producing the optical film according to [6], wherein the absolute value of the retardation in the in-plane direction of the optical film is 2 nm or less, and the absolute value of the retardation in the thickness direction of the optical film is 2 nm or less. .

〔8〕 상기 수지 B가 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는, 〔6〕 또는 〔7〕에 기재된 광학 필름의 제조 방법.[8] The method for producing an optical film according to [6] or [7], wherein the resin B contains an alicyclic structure-containing polymer.

〔9〕 상기 수지 A가,[9] The above resin A,

고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위를 갖는, 1 분자당 2개 이상의 중합체 블록[D]과,Two or more polymer blocks [D] per molecule having a cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit,

사슬형 탄화수소 화합물 수소화물 단위, 또는 사슬형 탄화수소 화합물 단위 및 고리식 탄화수소 함유 화합물 수소화물 단위를 갖는, 1 분자당 1 이상의 중합체 블록[E]At least one polymer block per molecule having chain hydrocarbon compound hydride units, or chain hydrocarbon compound units and cyclic hydrocarbon-containing compound hydride units [E]

을 포함하는 수소화 블록 공중합체를 포함하는, 〔6〕~〔8〕 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름의 제조 방법.The method for producing an optical film according to any one of [6] to [8], comprising a hydrogenated block copolymer containing.

〔10〕 상기 수지 A가,[10] The above resin A,

고리식 탄화수소기 함유 화합물 단위를 갖는 블록과,A block having a compound unit containing a cyclic hydrocarbon group,

사슬형 탄화수소 화합물 단위, 또는 사슬형 탄화수소 화합물 단위 및 고리식 탄화수소기 함유 화합물 단위를 갖는 블록A block having a chain hydrocarbon compound unit, or a chain hydrocarbon compound unit and a cyclic hydrocarbon group-containing compound unit.

을 포함하는 블록 공중합체로 이루어지고,It is made of a block copolymer containing,

상기 광학 필름에 있어서, 그 표면과 중앙부에서의 조성 비율의 차가, 0~10%인,In the optical film, the difference in composition ratio between the surface and the central portion is 0 to 10%,

〔6〕~〔8〕 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름의 제조 방법.The method for producing an optical film according to any one of [6] to [8].

본 발명의 광학 필름은, 대상물과의 밀착성이 높고, 리타데이션이 작고, 또한 수증기 투과율이 낮은 광학 필름으로 할 수 있다. 본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 의하면, 대상물과의 밀착성이 높고, 리타데이션이 작고, 또한 수증기 투과율이 낮은 광학 필름을 용이하게 얻을 수 있다. 본 발명의 편광판에 의하면, 전술한 바와 같은 성능을 갖는 편광판을 제공할 수 있다. 본 발명의 액정 표시 장치에 의하면, 전술한 바와 같은 성능을 갖는 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.The optical film of the present invention can be made into an optical film with high adhesion to an object, low retardation, and low water vapor transmission rate. According to the method for manufacturing an optical film of the present invention, an optical film with high adhesion to an object, small retardation, and low water vapor transmission rate can be easily obtained. According to the polarizing plate of the present invention, it is possible to provide a polarizing plate having the performance described above. According to the liquid crystal display device of the present invention, a liquid crystal display device having the above-described performance can be provided.

도 1은 본 발명의 제조 방법에 있어서의 적층 필름 제작 공정의 일례를 모식적으로 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제조 방법에 있어서의 박리 공정의 일례를 모식적으로 나타낸 단면도이다.
도 3은 실시예에 있어서의 평가 시험에서 사용한 샘플을 모식적으로 나타낸 단면도이다.
1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a laminated film production process in the manufacturing method of the present invention.
Figure 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a peeling process in the manufacturing method of the present invention.
Figure 3 is a cross-sectional view schematically showing a sample used in the evaluation test in the Example.

이하, 본 발명에 대하여 실시형태 및 예시물을 나타내어 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시형태 및 예시물에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by showing embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the embodiments and examples shown below, and may be implemented with any modification without departing from the scope of the claims and equivalents of the present invention.

이하의 설명에 있어서, 고리식 탄화수소기란, 방향족 고리, 시클로알칸, 시클로알켄 등의, 고리형의 구조를 포함하는 탄화수소의 기이다. 또한, 사슬형 탄화수소 화합물이란, 이러한 고리식 탄화수소기를 포함하지 않는 탄화수소 화합물이다.In the following description, a cyclic hydrocarbon group is a hydrocarbon group containing a cyclic structure such as an aromatic ring, cycloalkane, or cycloalkene. Additionally, a chain hydrocarbon compound is a hydrocarbon compound that does not contain such a cyclic hydrocarbon group.

이하의 설명에 있어서, 광학 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re는, 별도로 언급하지 않는 한, Re = (nx - ny) × d로 나타내어지는 값이다. 또한, 광학 필름의 두께 방향의 리타데이션 Rth는, 별도로 언급하지 않는 한, Rth = {(nx + ny)/2 - nz} × d로 나타내어지는 값이다. 여기서, nx는, 광학 필름의 두께 방향과 수직한 방향(면내 방향)으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향의 굴절률을 나타낸다. ny는, 광학 필름의 상기 면내 방향으로서 nx의 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다. nz는 광학 필름의 두께 방향의 굴절률을 나타낸다. d는, 광학 필름의 두께를 나타낸다. 리타데이션의 측정 파장은, 별도로 언급하지 않는 한, 590 nm이다.In the following description, the retardation Re in the in-plane direction of the optical film is a value expressed as Re = (nx - ny) × d, unless otherwise specified. In addition, the retardation Rth in the thickness direction of the optical film is a value expressed as Rth = {(nx + ny)/2 - nz} × d, unless otherwise specified. Here, nx represents the refractive index in the direction that provides the maximum refractive index in the direction perpendicular to the thickness direction of the optical film (in-plane direction). ny represents the refractive index of the direction orthogonal to the direction of nx as the in-plane direction of the optical film. nz represents the refractive index in the thickness direction of the optical film. d represents the thickness of the optical film. The measurement wavelength for retardation is 590 nm, unless otherwise specified.

이하의 설명에 있어서, 「편광판」이란, 별도로 언급하지 않는 한, 강직한 부재뿐만 아니라, 예를 들어 수지제의 필름과 같이 가요성을 갖는 부재도 포함한다.In the following description, unless otherwise specified, the term “polarizing plate” includes not only rigid members but also flexible members such as, for example, resin films.

이하의 설명에 있어서, 「장척」의 필름이란, 폭에 대하여 5배 이상의 길이를 갖는 필름을 말하며, 바람직하게는 10배 혹은 그 이상의 길이를 갖고, 구체적으로는 롤상으로 권취되어 보관 또는 운반되는 정도의 길이를 갖는 필름을 말한다. 장척의 필름의 길이의 상한은, 특별히 제한은 없고, 예를 들어, 폭에 대하여 10만배 이하로 할 수 있다.In the following description, a “long” film refers to a film having a length of 5 times or more relative to the width, preferably 10 times or more, and specifically, the degree to which it is wound into a roll and stored or transported. refers to a film with a length of The upper limit of the length of the long film is not particularly limited, and can be, for example, 100,000 times or less relative to the width.

〔1. 본 발명의 광학 필름의 제조 방법〕〔One. [Method for producing optical film of the present invention]

본 발명의 어느 양태에 있어서, 광학 필름의 제조 방법은, 코어층을 형성하는 수지 A와 표층을 형성하는 수지 B를 공압출함으로써, 수지 A로 이루어지는 코어층, 및 코어층의 면 상에 형성된 수지 B로 이루어지는 표층을 구비하는 적층 필름을 얻는 공정(적층 필름 제작 공정)과, 적층 필름으로부터 표층을 박리하는 공정(박리 공정)을 포함한다.In one aspect of the present invention, the method for producing an optical film includes a core layer made of resin A, and a resin formed on the surface of the core layer by coextruding resin A forming the core layer and resin B forming the surface layer. It includes a step of obtaining a laminated film having a surface layer made of B (laminated film production step) and a step of peeling the surface layer from the laminated film (peeling step).

〔1.1. 적층 필름 제작 공정의 개요〕〔1.1. Overview of the laminated film production process〕

적층 필름 제작 공정에 있어서는, 코어층을 형성하기 위한 수지 A와, 표층을 형성하기 위한 수지 B를 공압출함으로써 적층 필름을 얻는다. 공압출은, 다층 압출기를 사용하여 행할 수 있다.In the laminated film production process, a laminated film is obtained by coextruding resin A for forming the core layer and resin B for forming the surface layer. Coextrusion can be performed using a multilayer extruder.

도 1에 나타내는 실시형태에 있어서, 적층 필름(20)은, 코어층(10)의 2개의 면 상에 각각 표층(11, 12)을 구비하고 있다. 상세하게는, 적층 필름(20)은 표층(11)/코어층(10)/표층(12)의 층 구성을 갖는다. 도 1에 나타내는 M은, 압출 성형기이다. 적층 필름은 코어층의 일방의 면 상에만 표층을 구비하고 있어도 되며, 이 경우의 층 구성은 표층/코어층이다. 필름의 컬 억제의 관점에서 표층은 코어층의 양면에 있는 편이 바람직하다.In the embodiment shown in FIG. 1 , the laminated film 20 has surface layers 11 and 12 on two surfaces of the core layer 10, respectively. In detail, the laminated film 20 has a layer structure of surface layer 11/core layer 10/surface layer 12. M shown in FIG. 1 is an extrusion molding machine. The laminated film may have a surface layer only on one side of the core layer, and the layer structure in this case is surface layer/core layer. From the viewpoint of suppressing film curl, it is preferable that the surface layer is on both sides of the core layer.

〔1.1.1. 수지 A〕〔1.1.1. [Suzy A]

코어층을 형성하는 수지 A로는, 열가소성 수지를 사용할 수 있다.As the resin A forming the core layer, a thermoplastic resin can be used.

코어층을 형성하는 열가소성 수지(이하, 「열가소성 수지 A」라고도 한다)로는, 특별히 한정되지 않고, 광학 필름으로서의 원하는 물성을 부여할 수 있는, 각종 중합체를 포함하는 수지를 적당히 선택하여 채용할 수 있다. 열가소성 수지 A에 포함되는 중합체의 바람직한 예로는, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위를 갖는 2개 이상의 중합체 블록[D]과, 사슬형 탄화수소 화합물 수소화물 단위, 또는 사슬형 탄화수소 화합물 단위 및 고리식 탄화수소 함유 화합물 수소화물 단위를 갖는 1개 이상의 중합체 블록[E]을 포함하는 수소화 블록 공중합체[G]를 들 수 있다. 수지 A가, 수소화 블록 공중합체[G]를 포함하는 것임으로써, 위상차가 낮은 광학 필름을 얻을 수 있고, 따라서, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름을, 저위상차가 요구되는 부재로서 사용할 수 있다. 덧붙여, 내광성이 높아, 황변되기 어려운 광학 필름을 얻을 수 있다.The thermoplastic resin forming the core layer (hereinafter also referred to as “thermoplastic resin A”) is not particularly limited, and resins containing various polymers that can provide the desired physical properties as an optical film can be appropriately selected and employed. . Preferred examples of the polymer contained in the thermoplastic resin A include two or more polymer blocks [D] having a cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit, a chain hydrocarbon compound hydride unit, or a chain hydrocarbon compound unit and a cyclic hydrocarbon compound unit. and hydrogenated block copolymers [G] comprising one or more polymer blocks [E] having hydrocarbon-containing compound hydride units. Since the resin A contains a hydrogenated block copolymer [G], an optical film with a low retardation can be obtained, and therefore, the optical film obtained by the production method of the present invention can be used as a member requiring a low retardation. there is. In addition, an optical film with high light resistance and resistance to yellowing can be obtained.

블록[D] 및 블록[E]에 포함되는 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위는, 바람직하게는, 방향족 비닐 화합물 수소화물 단위이다. 방향족 비닐 화합물 수소화물 단위는, 방향족 비닐 화합물을 중합하여 얻어지는 단위를, 더 수소화하여 형성되는 구조를 갖는 구조 단위이다. 단, 방향족 비닐 화합물 수소화물 단위는, 그 제조 방법에 의해서는 한정되지 않는다.The cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit contained in block [D] and block [E] is preferably an aromatic vinyl compound hydride unit. An aromatic vinyl compound hydride unit is a structural unit having a structure formed by further hydrogenating a unit obtained by polymerizing an aromatic vinyl compound. However, the aromatic vinyl compound hydride unit is not limited by its production method.

방향족 비닐 화합물의 예로는, 스티렌; α-메틸스티렌, 2-메틸스티렌, 3-메틸스티렌, 4-메틸스티렌, 2,4-디메틸스티렌, 2,4-디이소프로필스티렌, 4-t-부틸스티렌, 5-t-부틸-2-메틸스티렌 등의, 치환기로서 탄소수 1~6의 알킬기를 갖는 스티렌류; 4-클로로스티렌, 디클로로스티렌, 4-모노플루오로스티렌 등의, 치환기로서 할로겐 원자를 갖는 스티렌류; 4-메톡시스티렌 등의, 치환기로서 탄소수 1~6의 알콕시기를 갖는 스티렌류; 4-페닐스티렌 등의, 치환기로서 아릴기를 갖는 스티렌류; 1-비닐나프탈렌, 2-비닐나프탈렌 등의 비닐나프탈렌류; 등을 들 수 있다. 이들은, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다. 이들 중에서도, 흡습성을 낮게 할 수 있는 점에서, 스티렌, 치환기로서 탄소수 1~6의 알킬기를 갖는 스티렌류 등의, 극성기를 함유하지 않는 방향족 비닐 화합물이 바람직하고, 공업적 입수 용이함에서, 스티렌이 특히 바람직하다.Examples of aromatic vinyl compounds include styrene; α-methylstyrene, 2-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,4-diisopropylstyrene, 4-t-butylstyrene, 5-t-butyl-2 -Styrenes having an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms as a substituent, such as methylstyrene; Styrenes having a halogen atom as a substituent, such as 4-chlorostyrene, dichlorostyrene, and 4-monofluorostyrene; Styrenes having an alkoxy group of 1 to 6 carbon atoms as a substituent, such as 4-methoxystyrene; Styrenes having an aryl group as a substituent, such as 4-phenylstyrene; Vinyl naphthalenes such as 1-vinylnaphthalene and 2-vinylnaphthalene; etc. can be mentioned. These may be used individually, or two or more types may be used in combination at any ratio. Among these, aromatic vinyl compounds that do not contain a polar group, such as styrene and styrenes having an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms as a substituent, are preferable because they can lower hygroscopicity, and styrene is especially preferred because of ease of industrial availability. desirable.

블록[E]에 포함되는 사슬형 탄화수소 화합물 수소화물 단위는, 바람직하게는, 사슬형 공액 디엔 화합물 수소화물 단위이다. 사슬형 공액 디엔 화합물 수소화물 단위는, 사슬형 공액 디엔 화합물을 중합하여 얻어지는 단위, 또는 그것이 이중 결합을 갖는 경우에는 이러한 이중 결합의 일부 또는 전부를 수소화하여 얻어지는 단위의 구조를 갖는 구조 단위이다. 단, 사슬형 공액 디엔 화합물 수소화물 단위는, 그 제조 방법에 의해서는 한정되지 않는다.The chain-shaped hydrocarbon compound hydride unit contained in block [E] is preferably a chain-shaped conjugated diene compound hydride unit. The chain-shaped conjugated diene compound hydride unit is a structural unit having the structure of a unit obtained by polymerizing a chain-shaped conjugated diene compound, or, when it has a double bond, by hydrogenating part or all of these double bonds. However, the chain-shaped conjugated diene compound hydride unit is not limited by its production method.

사슬형 공액 디엔 화합물의 예로는, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔 등을 들 수 있다. 이들은, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다. 그 중에서도, 흡습성을 낮게 할 수 있는 점에서, 극성기를 함유하지 않는 사슬형 공액 디엔 화합물이 바람직하고, 1,3-부타디엔, 및 이소프렌이 특히 바람직하다.Examples of chain conjugated diene compounds include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, and 1,3-pentadiene. These may be used individually, or two or more types may be used in combination at any ratio. Among them, chain-shaped conjugated diene compounds that do not contain a polar group are preferable because they can lower hygroscopicity, and 1,3-butadiene and isoprene are particularly preferable.

수소화 블록 공중합체[G]는, 1 분자당 1개의 블록[E]과, 그 양단에 연결된 1 분자당 2개의 블록[D]을 갖는 트리블록 분자 구조를 갖는 것이 바람직하다. 즉, 수소화 블록 공중합체[G]는, 1 분자당 1개의 블록[E]과; 블록[E]의 일단에 연결되고, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위[I]를 갖는, 1 분자당 1개의 블록[D1]과; 블록[E]의 타단에 연결되고, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위[I]를 갖는, 1 분자당 1개의 블록[D2];을 포함하는 트리블록 공중합체인 것이 바람직하다.The hydrogenated block copolymer [G] preferably has a triblock molecular structure with one block [E] per molecule and two blocks [D] per molecule connected to both ends thereof. That is, the hydrogenated block copolymer [G] contains one block [E] per molecule; One block [D1] per molecule, which is connected to one end of the block [E] and has a cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit [I]; It is preferably a triblock copolymer containing one block [D2] per molecule, which is connected to the other end of the block [E] and has a cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit [I].

상술한 트리블록 공중합체로서의 수소화 블록 공중합체[G]에 있어서는, 바람직한 특성을 갖는 적층 필름을 용이하게 얻는 관점에서, 블록[D1] 및 블록[D2]의 합계와, 블록[E]의 중량비 (D1+D2)/E가, 특정한 범위에 들어가는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 중량비 (D1+D2)/E는, 바람직하게는 70/30 이상, 보다 바람직하게는 75/25 이상이고, 바람직하게는 90/10 이하, 보다 바람직하게는 87/13 이하이다.In the hydrogenated block copolymer [G] as the above-mentioned triblock copolymer, from the viewpoint of easily obtaining a laminated film with desirable characteristics, the weight ratio of the sum of blocks [D1] and blocks [D2] and the block [E] ( It is desirable that D1+D2)/E falls within a specific range. Specifically, the weight ratio (D1+D2)/E is preferably 70/30 or more, more preferably 75/25 or more, preferably 90/10 or less, and more preferably 87/13 or less.

또한, 상술한 트리블록 공중합체로서의 수소화 블록 공중합체[G]에 있어서는, 상기 특성을 갖는 적층 필름을 용이하게 얻는 관점에서, 블록[D1]과 블록[D2]의 중량비 D1/D2가, 특정한 범위에 들어가는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 중량비 D1/D2는, 바람직하게는 5 이상, 보다 바람직하게는 5.2 이상, 특히 바람직하게는 5.5 이상이고, 바람직하게는 8 이하, 보다 바람직하게는 7.8 이하, 특히 바람직하게는 7.5 이하이다.In addition, in the hydrogenated block copolymer [G] as the above-mentioned triblock copolymer, from the viewpoint of easily obtaining a laminated film having the above characteristics, the weight ratio D1/D2 of the block [D1] and the block [D2] is within a specific range. It is desirable to enter . Specifically, the weight ratio D1/D2 is preferably 5 or more, more preferably 5.2 or more, particularly preferably 5.5 or more, and preferably 8 or less, more preferably 7.8 or less, especially preferably 7.5 or less. am.

수소화 블록 공중합체[G]의 중량 평균 분자량 Mw는, 바람직하게는 50000 이상, 보다 바람직하게는 55000 이상, 특히 바람직하게는 60000 이상이고, 바람직하게는 80000 이하, 보다 바람직하게는 75000 이하, 특히 바람직하게는 70000 이하이다. 중량 평균 분자량 Mw가 상기 범위에 있음으로써, 상기 특성을 갖는 적층 필름을 용이하게 얻을 수 있다. 특히, 중량 평균 분자량을 작게 함으로써, 리타데이션의 발현성을 효과적으로 작게 할 수 있다.The weight average molecular weight Mw of the hydrogenated block copolymer [G] is preferably 50,000 or more, more preferably 55,000 or more, particularly preferably 60,000 or more, preferably 80,000 or less, more preferably 75,000 or less. It is less than 70,000. When the weight average molecular weight Mw is within the above range, a laminated film having the above characteristics can be easily obtained. In particular, by reducing the weight average molecular weight, the occurrence of retardation can be effectively reduced.

수소화 블록 공중합체[G]의 분자량 분포(중량 평균 분자량(Mw)/수평균 분자량(Mn))는, 바람직하게는 2.0 이하, 보다 바람직하게는 1.7 이하, 특히 바람직하게는 1.5 이하이고, 바람직하게는 1.0 이상이다. 중량 평균 분자량 Mw가 상기 범위에 있음으로써, 중합체 점도를 낮추어 성형성을 높일 수 있다. 또한, 리타데이션의 발현성을 효과적으로 작게 할 수 있다.The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn)) of the hydrogenated block copolymer [G] is preferably 2.0 or less, more preferably 1.7 or less, particularly preferably 1.5 or less, and preferably is greater than or equal to 1.0. When the weight average molecular weight Mw is within the above range, the polymer viscosity can be lowered and the moldability can be improved. Additionally, the occurrence of retardation can be effectively reduced.

수소화 블록 공중합체[G]의 중량 평균 분자량 Mw 및 수평균 분자량 Mn은, 시클로헥산을 용매로 한 겔·퍼미에이션·크로마토그래피에 의해, 폴리스티렌 환산의 값으로서 측정할 수 있다. 상기 블록 공중합체 수소화물[G]은, 예를 들어, 주쇄 및 측쇄의 탄소-탄소 불포화 결합의 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 97% 이상, 더욱 바람직하게는 99% 이상이 수소화되어 있다. 또한, 상기 블록 공중합체 수소화물[G]은, 예를 들어, 방향고리의 탄소-탄소 불포화 결합의 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 97% 이상, 더욱 바람직하게는 99% 이상이 수소화되어 있다. 수소화의 정도를 나타내는 수소화율이 높을수록, 내열성, 내광성의 향상이 기대된다.The weight average molecular weight Mw and number average molecular weight Mn of the hydrogenated block copolymer [G] can be measured as polystyrene conversion values by gel permeation chromatography using cyclohexane as a solvent. In the block copolymer hydrogenated [G], for example, preferably 90% or more, more preferably 97% or more, and even more preferably 99% or more of the carbon-carbon unsaturated bonds of the main chain and side chain are hydrogenated. there is. In addition, in the block copolymer hydrogenated [G], for example, preferably 90% or more, more preferably 97% or more, and even more preferably 99% or more of the carbon-carbon unsaturated bonds of the aromatic ring are hydrogenated. It is done. The higher the hydrogenation rate, which indicates the degree of hydrogenation, the improvement in heat resistance and light resistance is expected.

블록[D1] 및 블록[D2]은, 각각 독립적으로, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위[I]만으로 이루어지는 것이 바람직하지만, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위[I] 이외에 임의의 단위를 포함할 수 있다. 임의의 구조 단위의 예로는, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위[I] 이외의 비닐 화합물에 기초하는 구조 단위를 들 수 있다. 블록[D]에 있어서의 임의의 구조 단위의 함유율은, 바람직하게는 10 중량% 이하, 보다 바람직하게는 5 중량% 이하, 특히 바람직하게는 1 중량% 이하이다.Block [D1] and block [D2] are each independently preferably composed of only the cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit [I], but may contain any unit other than the cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit [I]. It can be included. Examples of arbitrary structural units include structural units based on vinyl compounds other than the cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit [I]. The content of arbitrary structural units in block [D] is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, and particularly preferably 1% by weight or less.

블록[E]은, 사슬형 탄화수소 화합물 수소화물 단위[II]만으로 이루어지는 블록이거나, 또는 사슬형 탄화수소 화합물 단위[II] 및 고리식 탄화수소 함유 화합물 수소화물 단위[I]를 갖는 블록이다. 블록[E]은, 단위[I] 및 단위[II] 이외에 임의의 단위를 포함할 수 있다. 임의의 구조 단위의 예로는, 단위[I] 및 단위[II] 이외의 비닐 화합물에 기초하는 구조 단위를 들 수 있다. 블록[E]에 있어서의 임의의 구조 단위의 함유율은, 바람직하게는 10 중량% 이하, 보다 바람직하게는 5 중량% 이하, 특히 바람직하게는 1 중량% 이하이다.Block [E] is a block consisting only of chain hydrocarbon compound hydride units [II], or a block having chain hydrocarbon compound units [II] and cyclic hydrocarbon-containing compound hydride units [I]. Block [E] may include arbitrary units other than unit [I] and unit [II]. Examples of arbitrary structural units include structural units based on vinyl compounds other than unit [I] and unit [II]. The content of arbitrary structural units in block [E] is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, and particularly preferably 1% by weight or less.

상술한 트리블록 공중합체로서의 수소화 블록 공중합체[G]는, 리타데이션의 발현성이 작다. 따라서, 적층체로부터 표층을 박리하여 얻어지는 광학 필름은, 원하는 특성을 용이하게 얻을 수 있다.The hydrogenated block copolymer [G] as the above-mentioned triblock copolymer has a low incidence of retardation. Therefore, the optical film obtained by peeling the surface layer from the laminate can easily obtain desired characteristics.

수소화 블록 공중합체[G]의 구체예 및 제조 방법으로는, 예를 들어 국제 공개 제WO2016/152871호에 개시되는 구체예 및 제조 방법을 들 수 있다.Specific examples and production methods of the hydrogenated block copolymer [G] include, for example, specific examples and production methods disclosed in International Publication No. WO2016/152871.

열가소성 수지 A는, 상술한 수소화 블록 공중합체[G]만으로 이루어져 있어도 되지만, 수소화 블록 공중합체[G] 이외에 임의의 성분을 포함하고 있어도 된다.The thermoplastic resin A may consist only of the hydrogenated block copolymer [G] described above, or may contain any component other than the hydrogenated block copolymer [G].

임의의 성분으로는, 예를 들어, 무기 미립자; 산화 방지제, 열 안정제, 자외선 흡수제, 근적외선 흡수제 등의 안정제; 활제, 가소제 등의 수지 개질제; 염료나 안료 등의 착색제; 및 대전 방지제를 들 수 있다. 이들 임의의 성분으로는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다. 단, 본 발명의 효과를 현저하게 발휘시키는 관점에서는, 임의의 성분의 함유 비율은 적은 것이 바람직하다. 예를 들어, 임의의 성분의 합계의 비율은, 수소화 블록 공중합체[G] 100 중량부에 대하여, 10 중량부 이하가 바람직하고, 7 중량부 이하가 보다 바람직하며, 5 중량부 이하가 더욱 바람직하다.Optional components include, for example, inorganic fine particles; Stabilizers such as antioxidants, heat stabilizers, ultraviolet ray absorbers, and near-infrared absorbers; Resin modifiers such as lubricants and plasticizers; Colorants such as dyes and pigments; and antistatic agents. As these optional components, one type may be used individually, and two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio. However, from the viewpoint of significantly exhibiting the effects of the present invention, it is preferable that the content ratio of any component is small. For example, the ratio of the total of arbitrary components is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 7 parts by weight or less, and even more preferably 5 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of hydrogenated block copolymer [G]. do.

열가소성 수지 A는, 그 유리 전이 온도가, 바람직하게는 110℃ 이상, 보다 바람직하게는 120℃ 이상이고, 바람직하게는 180℃ 이하, 보다 바람직하게는 170℃ 이하이다. 유리 전이 온도가 이러한 범위에 있는 열가소성 수지 A는, 치수 안정성 및 성형 가공성이 우수하다.Thermoplastic resin A has a glass transition temperature of preferably 110°C or higher, more preferably 120°C or higher, preferably 180°C or lower, and more preferably 170°C or lower. Thermoplastic resin A, which has a glass transition temperature in this range, is excellent in dimensional stability and molding processability.

〔1.1.2. 수지 B〕〔1.1.2. [Suzy B]

표층을 형성하는 수지 B로는, 수지 A로 이루어지는 코어층으로부터 박리 가능한 표층을 형성할 수 있는 수지를 사용한다. 수지 B로는 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 이하의 설명에 있어서, 2개의 표층을 형성하기 위한 수지 B를 각각 구별하기 위하여, 수지 B1, 수지 B2라고 표현하는 경우가 있다. 수지 B1과 수지 B2는 동일한 것이어도 되고 상이한 것이어도 된다.As the resin B that forms the surface layer, a resin that can form a surface layer that can be peeled from the core layer made of resin A is used. A thermoplastic resin can be used as resin B. In the following description, in order to distinguish between the resins B for forming the two surface layers, they may be referred to as resin B1 and resin B2. Resin B1 and Resin B2 may be the same or different.

표층을 형성하는 열가소성 수지(이하, 「열가소성 수지 B」라고도 한다)로는, 코어층으로부터 박리 가능한 표층을 형성할 수 있는 수지이면 특별히 한정되지 않고, 각종 중합체를 포함하는 수지를 적당히 선택하여 채용할 수 있다.The thermoplastic resin forming the surface layer (hereinafter also referred to as “thermoplastic resin B”) is not particularly limited as long as it is a resin that can form a surface layer that can be peeled from the core layer, and resins containing various polymers can be appropriately selected and employed. there is.

열가소성 수지 B에 포함되는 중합체의 바람직한 예로는, 지환식 구조 함유 중합체를 들 수 있다. 지환식 구조 함유 중합체는, 반복 단위 중에 지환식 구조를 갖는 중합체로, 주쇄 중에 지환식 구조를 함유하는 중합체 및 측쇄에 지환식 구조를 함유하는 중합체를 어느 것이나 사용할 수 있다. 지환식 구조 함유 중합체는, 결정성의 수지 및 비정성의 수지를 포함하지만, 표면 평활성의 관점에서 비정성의 수지가 바람직하다.Preferred examples of the polymer contained in the thermoplastic resin B include alicyclic structure-containing polymers. The alicyclic structure-containing polymer is a polymer having an alicyclic structure in the repeating unit, and either a polymer containing an alicyclic structure in the main chain or a polymer containing an alicyclic structure in the side chain can be used. The alicyclic structure-containing polymer includes crystalline resin and amorphous resin, but amorphous resin is preferred from the viewpoint of surface smoothness.

지환식 구조로는, 예를 들어, 시클로알칸 구조, 시클로알켄 구조 등을 들 수 있으나, 열 안정성 등의 관점에서 시클로알칸 구조가 바람직하다.Examples of the alicyclic structure include a cycloalkane structure and a cycloalkene structure, but a cycloalkane structure is preferable from the viewpoint of thermal stability and the like.

1개의 지환식 구조의 반복 단위를 구성하는 탄소수에 특별히 제한은 없지만, 통상 4개~30개, 바람직하게는 5개~20개, 보다 바람직하게는 6개~15개이다.There is no particular limitation on the number of carbon atoms constituting the repeating unit of one alicyclic structure, but it is usually 4 to 30, preferably 5 to 20, and more preferably 6 to 15.

지환식 구조 함유 중합체 중의 지환식 구조를 갖는 반복 단위의 비율은 사용 목적에 따라 적당히 선택되지만, 통상 50 중량% 이상, 바람직하게는 70 중량% 이상, 보다 바람직하게는 90 중량% 이상이다. 지환식 구조를 갖는 반복 단위를 이와 같이 많게 함으로써, 표층의 내열성을 높일 수 있다.The proportion of repeating units having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer is appropriately selected depending on the purpose of use, but is usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, and more preferably 90% by weight or more. By increasing the number of repeating units having an alicyclic structure in this way, the heat resistance of the surface layer can be improved.

지환식 구조 함유 중합체는, 구체적으로는, (1) 노르보르넨계 중합체, (2) 단환의 고리형 올레핀 중합체, (3) 고리형 공액 디엔 중합체, (4) 비닐 지환식 탄화수소 중합체, 및 이들의 수소화물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 성형성의 관점에서, 노르보르넨계 중합체 및 이들의 수소화물이 보다 바람직하다.The alicyclic structure-containing polymer specifically includes (1) norbornene-based polymer, (2) monocyclic olefin polymer, (3) cyclic conjugated diene polymer, (4) vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, and these. Hydrogen, etc. can be mentioned. Among these, from the viewpoint of moldability, norbornene-based polymers and their hydrides are more preferable.

노르보르넨계 중합체로는, 예를 들어, 노르보르넨계 모노머의 개환 중합체, 노르보르넨계 모노머와 개환 공중합 가능한 그 밖의 모노머와의 개환 공중합체, 및 그들의 수소화물; 노르보르넨계 모노머의 부가 중합체, 노르보르넨계 모노머와 공중합 가능한 그 밖의 모노머와의 부가 공중합체 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 성형성의 관점에서, 노르보르넨계 모노머의 개환 중합체 수소화물이 특히 바람직하다.Examples of the norbornene-based polymer include ring-opened polymers of norbornene-based monomers, ring-opened copolymers of norbornene-based monomers with other monomers capable of ring-opening copolymerization, and hydrides thereof; Examples include addition polymers of norbornene-based monomers and addition copolymers of other monomers that can be copolymerized with norbornene-based monomers. Among these, from the viewpoint of moldability, ring-opened polymer hydrides of norbornene-based monomers are particularly preferable.

상기의 지환식 구조 함유 중합체는, 예를 들어 일본 공개특허공보 2002-321302호에 개시되어 있는 중합체에서 선택된다.The above-described alicyclic structure-containing polymer is selected, for example, from polymers disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-321302.

또한, 결정성의 지환식 구조 함유 중합체의 예로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 2016-26909호에 개시되는 중합체를 들 수 있다.In addition, examples of crystalline alicyclic structure-containing polymers include, for example, polymers disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 2016-26909.

지환식 구조 함유 중합체의 중량 평균 분자량은, 용매로서 시클로헥산(수지가 용해되지 않는 경우에는 톨루엔)을 사용한 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(이하, 「GPC」라고 약칭한다.)로 측정한 폴리이소프렌 환산(용매가 톨루엔일 때에는, 폴리스티렌 환산)의 중량 평균 분자량(Mw)으로, 통상 10,000~100,000, 바람직하게는 25,000~80,000, 보다 바람직하게는 25,000~50,000이다. 중량 평균 분자량이 이러한 범위에 있을 때에, 표층의 기계적 강도 및 성형 가공성이 고도로 밸런스된다.The weight average molecular weight of the alicyclic structure-containing polymer is polyisoprene, measured by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as “GPC”) using cyclohexane (toluene if the resin does not dissolve) as a solvent. The weight average molecular weight (Mw) in conversion (when the solvent is toluene, polystyrene conversion) is usually 10,000 to 100,000, preferably 25,000 to 80,000, more preferably 25,000 to 50,000. When the weight average molecular weight is in this range, the mechanical strength and molding processability of the surface layer are highly balanced.

지환식 구조 함유 중합체의 분자량 분포(중량 평균 분자량(Mw)/수평균 분자량(Mn))는, 통상 1~10, 바람직하게는 1~4, 보다 바람직하게는 1.2~3.5이다.The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn)) of the alicyclic structure-containing polymer is usually 1 to 10, preferably 1 to 4, and more preferably 1.2 to 3.5.

열가소성 수지 B는, 그 유리 전이 온도가, 바람직하게는 110℃ 이상, 보다 바람직하게는 120℃ 이상이고, 바람직하게는 180℃ 이하, 보다 바람직하게는 170℃ 이하이다. 유리 전이 온도가 이러한 범위에 있는 열가소성 수지 B는, 성형 가공성이 우수하다.Thermoplastic resin B has a glass transition temperature of preferably 110°C or higher, more preferably 120°C or higher, preferably 180°C or lower, and more preferably 170°C or lower. Thermoplastic resin B with a glass transition temperature in this range is excellent in molding processability.

열가소성 수지 B는, 지환식 구조 함유 중합체만으로 이루어져도 되지만, 본 발명의 효과를 현저하게 손상시키지 않는 한, 임의의 성분을 포함해도 된다. 임의의 성분으로는, 열가소성 수지 A의 임의의 성분과 동일한 것을 사용할 수 있다. 열가소성 수지 B 중의, 지환식 구조 함유 중합체의 비율은, 바람직하게는 70 중량% 이상, 보다 바람직하게는 80 중량% 이상이다.The thermoplastic resin B may consist only of an alicyclic structure-containing polymer, but may also contain arbitrary components as long as the effect of the present invention is not significantly impaired. As an optional component, the same thing as the arbitrary component of thermoplastic resin A can be used. The proportion of the alicyclic structure-containing polymer in the thermoplastic resin B is preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more.

지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지로는, 여러 가지 상품이 시판되고 있으므로, 그들 중, 원하는 특성을 갖는 것을 적당히 선택하여, 열가소성 수지 B로서 사용할 수 있다. 이러한 시판품의 예로는, 상품명 「ZEONOR」(닛폰 제온 주식회사 제조)의 제품군을 들 수 있다.As a resin containing an alicyclic structure-containing polymer, various products are commercially available. Among them, one having the desired properties can be appropriately selected and used as the thermoplastic resin B. Examples of such commercial products include the product line under the brand name "ZEONOR" (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.).

〔1.2. 적층 필름 제작 공정〕〔1.2. Laminated film production process]

적층 필름 제작 공정에 있어서는, 수지 A, 수지 B1 및 수지 B2를 각각 조제하고, 이들 수지를 공압출에 의한 용융 압출 성형을 행함으로써 적층 필름을 제작할 수 있다. 이러한 용융 압출 성형을 행함으로써, 원하는 각 층 두께를 갖는 적층 필름을 효율적으로 제조할 수 있다. 또한, 용융 압출 성형에 의하면, 장척의 적층 필름을 얻을 수 있다.In the laminated film production process, a laminated film can be produced by preparing Resin A, Resin B1, and Resin B2, respectively, and performing melt extrusion molding by co-extrusion of these resins. By performing such melt extrusion molding, a laminated film having each desired layer thickness can be efficiently manufactured. Moreover, according to melt extrusion molding, a long laminated film can be obtained.

공압출법에 있어서의 수지의 압출 방법으로는, 예를 들어, 공압출 T 다이법, 공압출 인플레이션법, 공압출 라미네이션법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 공압출 T 다이법이 바람직하다. 공압출 T 다이법에는, 피드블록 방식 및 멀티매니폴드 방식이 있고, 두께의 편차를 적게 할 수 있는 점에서, 멀티매니폴드 방식이 특히 바람직하다.Examples of the resin extrusion method in the coextrusion method include the coextrusion T-die method, the coextrusion inflation method, and the coextrusion lamination method. Among them, the coextrusion T-die method is preferable. There are a feedblock method and a multi-manifold method in the coextrusion T-die method, and the multi-manifold method is particularly preferable because it can reduce thickness variation.

공압출에 의한 용융 압출 성형을 행할 때의 수지의 온도(이하, 임의로 「압출 온도」라고 하는 경우가 있다.)는, 특별히 한정되지 않고, 각각의 수지를 용융시킬 수 있는 온도로서, 성형에 적합한 온도를 적당히 설정할 수 있다. 구체적으로는, 코어층을 형성하는 수지 A의 열 연화 온도 및 표층을 형성하는 수지 B의 열 연화 온도 중의 높은 쪽의 온도(Ts[H])를 기준으로 설정할 수 있다. 보다 구체적으로는, 바람직하게는 (Ts[H] + 70)℃ 이상, 보다 바람직하게는 (Ts[H] + 80)℃ 이상이고, 한편, 바람직하게는 (Ts[H] + 180)℃ 이하, 보다 바람직하게는 (Ts[H] + 150)℃ 이하이다.The temperature of the resin (hereinafter sometimes arbitrarily referred to as “extrusion temperature”) when performing melt extrusion molding by co-extrusion is not particularly limited, and is a temperature that can melt each resin, and is suitable for molding. The temperature can be set appropriately. Specifically, it can be set based on the higher temperature (Ts[H]) of the heat softening temperature of resin A forming the core layer and the heat softening temperature of resin B forming the surface layer. More specifically, it is preferably (Ts[H] + 70)°C or higher, more preferably (Ts[H] + 80)°C or higher, while preferably (Ts[H] + 180)°C or higher. , more preferably (Ts[H] + 150)°C or lower.

수지 A의 열 연화 온도는, 바람직하게는 110℃ 이상, 보다 바람직하게는 120℃ 이상이고, 바람직하게는 180℃ 이하, 보다 바람직하게는 170℃ 이하이다. 수지 B의 열 연화 온도는, 바람직하게는 110℃ 이상, 보다 바람직하게는 120℃ 이상이고, 바람직하게는 180℃ 이하, 보다 바람직하게는 170℃ 이하이다.The heat softening temperature of Resin A is preferably 110°C or higher, more preferably 120°C or higher, preferably 180°C or lower, and more preferably 170°C or lower. The heat softening temperature of Resin B is preferably 110°C or higher, more preferably 120°C or higher, preferably 180°C or lower, and more preferably 170°C or lower.

각 수지의 열 연화 온도 Ts는, TMA(열기계적 분석) 측정에 의해 측정할 수 있다. 예를 들어, 측정 대상의 층을 5 mm × 20 mm의 형상으로 잘라내어 시료로 하고, TMA/SS7100(에스아이아이·나노테크놀로지 주식회사 제조)을 사용하여, 시료의 길이 방향으로 50 mN의 장력을 가한 상태에서, 온도를 변화시켜, 선팽창이 3% 변화하였을 때의 온도(℃)를, 연화 온도로서 계측할 수 있다.The heat softening temperature Ts of each resin can be measured by TMA (thermomechanical analysis) measurement. For example, the layer to be measured was cut into a shape of 5 mm In this state, the temperature can be changed and the temperature (°C) when the linear expansion changes by 3% can be measured as the softening temperature.

또한, 다이의 다이스 립의 산술 평균 거칠기 Ra는, 바람직하게는 0 μm~1.0 μm, 보다 바람직하게는 0 μm~0.7 μm, 특히 바람직하게는 0 μm~0.5 μm이다. 여기서, 산술 평균 거칠기 Ra는, 표면 거칠기계를 사용하고, JIS B0601:1994에 기초하여 측정할 수 있다.Additionally, the arithmetic mean roughness Ra of the dice lip of the die is preferably 0 μm to 1.0 μm, more preferably 0 μm to 0.7 μm, and particularly preferably 0 μm to 0.5 μm. Here, the arithmetic mean roughness Ra can be measured based on JIS B0601:1994 using a surface roughness meter.

공압출법에서는, 통상, 다이스 립으로부터 압출된 필름상의 용융 수지를 냉각 롤에 밀착시켜 냉각하고, 경화시킨다. 이 때, 용융 수지를 냉각 롤에 밀착시키는 방법으로는, 예를 들어, 에어 나이프 방식, 버큠 박스 방식, 정전 밀착 방식 등을 들 수 있다.In the coextrusion method, the film-shaped molten resin extruded from the die lip is usually cooled and hardened by bringing it into close contact with a cooling roll. At this time, examples of methods for bringing the molten resin into close contact with the cooling roll include the air knife method, vacuum box method, and electrostatic adhesion method.

〔1.2.1. 적층 필름에 있어서의 각 층의 치수〕〔1.2.1. [Dimensions of each layer in laminated film]

적층 필름 제작 공정에 의해 얻어지는 적층 필름에 있어서는, 코어층의 두께는, 바람직하게는 20 μm 이상, 보다 바람직하게는 25 μm 이상이고, 바람직하게는 80 μm 이하, 보다 바람직하게는 70 μm 이하이다. 2개의 표층의 두께는, 각각, 바람직하게는 5 μm 이상, 보다 바람직하게는 10 μm 이상이고, 바람직하게는 30 μm 이하, 보다 바람직하게는 25 μm 이하이다.In the laminated film obtained by the laminated film production process, the thickness of the core layer is preferably 20 μm or more, more preferably 25 μm or more, preferably 80 μm or less, and more preferably 70 μm or less. The thickness of the two surface layers is each preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, preferably 30 μm or less, and more preferably 25 μm or less.

각 층의 두께는, 현미경 관찰에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, 적층 필름을, 마이크로톰을 사용하여 슬라이스하고, 절단면을 관찰함으로써 각 층의 두께를 측정할 수 있다. 절단면의 관찰은, 예를 들어 편광 현미경(예를 들어 올림푸스사 제조 「BX51」)에 의해 행할 수 있다.The thickness of each layer can be measured by microscopic observation. Specifically, the laminated film can be sliced using a microtome and the thickness of each layer can be measured by observing the cut surface. Observation of the cut surface can be performed, for example, using a polarizing microscope (for example, “BX51” manufactured by Olympus Corporation).

〔1.3. 박리 공정〕〔1.3. Peeling process]

본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 있어서의 박리 공정은, 적층 필름으로부터 표층을 박리하는 공정이다. 이러한 박리 공정을 거침으로써, 광학 필름을 얻을 수 있다. 2개의 표층은, 이하에 설명하는 실시형태에서는 동시에 박리하지만, 1층씩 박리해도 된다.The peeling step in the optical film manufacturing method of the present invention is a step of peeling the surface layer from the laminated film. By going through this peeling process, an optical film can be obtained. The two surface layers are peeled off simultaneously in the embodiment described below, but they may be peeled off one layer at a time.

도 2는, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 있어서의 박리 공정의 일례를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 압출 성형기(M)로부터 반송된 적층 필름(도 1에 있어서 설명한 적층 필름(20))은 도시 하방으로 반송되고, 그 후, 박리 공정에 제공된다.Figure 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a peeling process in the optical film manufacturing method of the present invention. The laminated film (laminated film 20 explained in FIG. 1) conveyed from the extrusion molding machine M is conveyed downward in the figure, and is then subjected to a peeling process.

박리 공정에 있어서의 박리의 처리는, 표층(11, 12)을, 반송되는 적층 필름(20)의 면내 방향과는 다른 방향으로 견인함으로써 행할 수 있다. 도 2의 예에서는, 2개의 표층(11, 12)을, 각각 광학 필름(100)의 2개의 면(100A, 100B)에 대한 각도가 θ1, θ2가 되는 방향(화살표(矢線)(Y) 및 화살표(Z)으로 나타내는 방향)으로 견인함으로써, 적층 필름(20)으로부터 표층(11, 12)이 박리된다. θ1 및 θ2는 동일해도 되고 상이해도 된다. 상기 θ1 및 θ2의 범위는, 바람직하게는 45° 이상, 보다 바람직하게는 55° 이상이고, 한편 바람직하게는 135° 이하, 보다 바람직하게는 125° 이하이다.The peeling process in the peeling process can be performed by pulling the surface layers 11 and 12 in a direction different from the in-plane direction of the conveyed laminated film 20. In the example of FIG. 2, the two surface layers 11 and 12 are oriented in directions (arrows Y) at angles of θ1 and θ2 with respect to the two surfaces 100A and 100B of the optical film 100, respectively. and the direction indicated by arrow Z), the surface layers 11 and 12 are peeled from the laminated film 20. θ1 and θ2 may be the same or different. The range of θ1 and θ2 is preferably 45° or more, more preferably 55° or more, and preferably 135° or less, and more preferably 125° or less.

박리 공정의 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 반송성의 관점에서, 바람직하게는 5℃ 이상, 보다 바람직하게는 15℃ 이상이고, 박리성의 관점에서, 바람직하게는 60℃ 이하, 보다 바람직하게는 50℃ 이하이다. 박리 온도는, 적층 필름의 박리 영역(P)을 적절한 가열 장치에 의해 가열하는 것 등에 의해 조정할 수 있다.The temperature of the peeling process is not particularly limited, but from the viewpoint of transportability, it is preferably 5°C or higher, more preferably 15°C or higher, and from the viewpoint of peelability, it is preferably 60°C or lower, and more preferably 50°C. It is as follows. The peeling temperature can be adjusted by heating the peeling area P of the laminated film with an appropriate heating device.

〔1.4. 다른 공정(연신 처리 공정)〕〔1.4. Other processes (stretching process)]

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 연신 처리 공정을 포함하고 있어도 된다. 연신 처리 공정은, 적층 필름 제작 공정에 있어서 행하여도 되고, 적층 필름 제작 공정을 거친 후에 박리 공정 전에 행하여도 되고, 박리 공정에 있어서 행하여도 되며, 박리 공정 후에 행하여도 된다.The method for producing an optical film of the present invention may include a stretching treatment step. The stretching treatment process may be performed in the laminated film production process, may be performed after the laminated film production process and before the peeling process, may be performed in the peeling process, or may be performed after the peeling process.

연신 처리 공정을 행하는 경우, 두께 방향의 연신이어도 되고, 면내 방향의 연신이어도 되며, 두께 방향의 연신에 더하여 면내 방향의 연신을 행하여도 된다. 본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 있어서, 두께 방향 연신에 더하여 면내 방향의 연신을 행하는 경우의 연신 배율은, 광학 필름에 부여하는 것이 요구되는 원하는 광학 성능에 맞추어, 적당히 조정할 수 있다. 구체적인 연신 배율은, 바람직하게는 1.0배 이상, 보다 바람직하게는 1.05배 이상이고, 한편 바람직하게는 1.5배 이하, 보다 바람직하게는 1.4배 이하이다. 면내 방향의 연신 배율이 이러한 범위인 경우, 원하는 광학 성능을 용이하게 얻을 수 있다.When performing the stretching treatment step, stretching may be performed in the thickness direction, stretching may be performed in the in-plane direction, or stretching in the in-plane direction may be performed in addition to stretching in the thickness direction. In the method for producing an optical film of the present invention, the stretch ratio when stretching in the in-plane direction in addition to stretching in the thickness direction is performed can be adjusted appropriately in accordance with the desired optical performance required to be provided to the optical film. The specific draw ratio is preferably 1.0 times or more, more preferably 1.05 times or more, while preferably 1.5 times or less, and more preferably 1.4 times or less. When the draw ratio in the in-plane direction is within this range, the desired optical performance can be easily obtained.

연신 처리 공정에 있어서 행하는 연신은, 1축 연신, 2축 연신, 또는 그 밖의 연신으로 할 수 있다. 연신 방향은, 임의의 방향으로 설정할 수 있다. 예를 들어, 연신 전 필름이 장척의 필름인 경우, 연신 방향은, 필름의 길이 방향, 폭 방향, 및 그 이외의 경사 방향의 어느 것이라도 좋다. 2축 연신을 행하는 경우의 2의 연신 방향이 이루는 각도는, 통상은 서로 직교하는 각도로 할 수 있으나, 그에 한하지 않고 임의의 각도로 할 수 있다. 2축 연신은, 축차 2축 연신이어도 되고, 동시 2축 연신이어도 된다.The stretching performed in the stretching treatment step can be uniaxial stretching, biaxial stretching, or other stretching. The stretching direction can be set to any direction. For example, when the film before stretching is a long film, the stretching direction may be any of the longitudinal direction of the film, the width direction, or any other oblique direction. When performing biaxial stretching, the angle formed by the two stretching directions can usually be an angle orthogonal to each other, but is not limited to that and can be any angle. Biaxial stretching may be sequential biaxial stretching or simultaneous biaxial stretching.

〔1.5. 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름의 치수 및 특성〕〔1.5. [Dimensions and characteristics of optical films obtained by the manufacturing method of the present invention]

본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름은, 면내 방향의 리타데이션 Re의 절대값이 5 nm 이하이고, 두께 방향의 리타데이션 Rth의 절대값이 10 nm 이하이고, 또한, 수증기 투과율이 20 g/(m2·일) 이하이다.The optical film obtained by the optical film manufacturing method of the present invention has an absolute value of retardation Re in the in-plane direction of 5 nm or less, an absolute value of retardation Rth in the thickness direction of 10 nm or less, and a water vapor transmission rate of It is less than 20 g/(m 2 ·day).

본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re의 절대값은, 바람직하게는 3 nm 이하, 보다 바람직하게는 2 nm 이하, 이상적으로는 0 nm이다.The absolute value of the retardation Re in the in-plane direction of the optical film obtained by the production method of the present invention is preferably 3 nm or less, more preferably 2 nm or less, and ideally 0 nm.

본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름의 두께 방향의 리타데이션 Rth의 절대값은, 바람직하게는 3 nm 이하, 보다 바람직하게는 2 nm 이하, 이상적으로는 0 nm이다.The absolute value of the retardation Rth in the thickness direction of the optical film obtained by the production method of the present invention is preferably 3 nm or less, more preferably 2 nm or less, and ideally 0 nm.

본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름의 수증기 투과율은, 바람직하게는 18 g/(m2·일) 이하, 보다 바람직하게는 15 g/(m2·일) 이하이다. 한편 하한은, 이상적으로는 0 g/(m2·일)인데, 예를 들어 1 g/(m2·일) 이상으로 할 수 있다.The water vapor transmission rate of the optical film obtained by the production method of the present invention is preferably 18 g/(m 2 ·day) or less, more preferably 15 g/(m 2 ·day) or less. On the other hand, the lower limit is ideally 0 g/(m 2 ·day), but can be set to 1 g/(m 2 ·day) or more, for example.

본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름의 두께는, 바람직하게는 20 μm 이상, 보다 바람직하게는 25 μm 이상이고, 바람직하게는 70 μm 이하, 보다 바람직하게는 80 μm 이하이다.The thickness of the optical film obtained by the production method of the present invention is preferably 20 μm or more, more preferably 25 μm or more, preferably 70 μm or less, and more preferably 80 μm or less.

본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름의 면내 방향의 리타데이션 및 두께 방향의 리타데이션은, 측정 장치로서 AXOMETRICS사 제조 「AxoScan」을 사용하여, 측정 파장 590 nm에서 측정할 수 있다. 상기의 측정 장치를 사용하는 경우, 광학 필름의 면내 방향 및 두께 방향의 리타데이션은, 당해 광학 필름의 평균 굴절률을 이용하여 산출한다. 여기서, 평균 굴절률이란, 광학 필름의 면내 방향으로서 서로 수직한 2 방향의 굴절률, 및 당해 광학 필름의 두께 방향의 굴절률의 평균값을 말한다.The retardation in the in-plane direction and the retardation in the thickness direction of the optical film obtained by the manufacturing method of the present invention can be measured at a measurement wavelength of 590 nm using “AxoScan” manufactured by AXOMETRICS as a measuring device. When using the above measuring device, the retardation in the in-plane direction and thickness direction of the optical film is calculated using the average refractive index of the optical film. Here, the average refractive index refers to the average value of the refractive index in two directions perpendicular to each other as the in-plane direction of the optical film and the refractive index in the thickness direction of the optical film.

본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름의 수증기 투과율은, 수증기 투과도 측정 장치(MOCON사 제조 「PERMATRAN-W」)를 사용하여, JIS K 7129 B법에 따라, 예를 들어 온도 40℃, 습도 90 %RH의 조건으로 측정할 수 있다.The water vapor transmission rate of the optical film obtained by the production method of the present invention is measured according to JIS K 7129 B method using a water vapor transmission rate measuring device (“PERMATRAN-W” manufactured by MOCON) at, for example, a temperature of 40°C and a humidity of 90%. It can be measured under the condition of %RH.

본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름의 두께는, 각 층의 두께와 마찬가지로 현미경 관찰에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, 광학 필름을, 마이크로톰을 사용하여 슬라이스하고, 절단면을, 예를 들어 편광 현미경(예를 들어 올림푸스사 제조 「BX51」)으로 관찰함으로써 행할 수 있다.The thickness of the optical film obtained by the manufacturing method of the present invention can be measured by microscopic observation similar to the thickness of each layer. Specifically, it can be performed by slicing the optical film using a microtome and observing the cut surface with, for example, a polarizing microscope (for example, "BX51" manufactured by Olympus Corporation).

본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름은, 수지 A로 이루어지는 코어층, 및 수지 B로 이루어지는 표층을 구비하는 적층 필름으로부터 표층을 박리함으로써 얻어지는 광학 필름에 있어서, 면내 방향의 리타데이션 Re의 절대값 및 두께 방향의 리타데이션 Rth의 절대값을 각각 2 nm 이하로 하고, 또한, 수증기 투과율을 20 g/(m2·일) 이하로 함으로써, 대상물과의 밀착성이 높고, 리타데이션이 작고, 또한 수증기 투과율이 낮은 광학 필름을 얻을 수 있다. 그 결과, 본 발명에 의하면, 편광자 보호 필름으로서 유용하게 사용할 수 있는 광학 필름을 얻을 수 있다.The optical film obtained by the method for producing an optical film of the present invention is an optical film obtained by peeling the surface layer from a laminated film having a core layer made of resin A and a surface layer made of resin B, and has a retardation Re in the in-plane direction. By setting the absolute value of and the absolute value of the retardation Rth in the thickness direction to 2 nm or less, and the water vapor permeability to 20 g/(m 2 ·day) or less, adhesion to the object is high and retardation is small. , it is also possible to obtain an optical film with low water vapor transmission rate. As a result, according to the present invention, an optical film that can be usefully used as a polarizer protective film can be obtained.

본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름은, 통상, 투명한 층이며 가시광선을 투과시킨다. 구체적인 광선 투과율은 광학 필름의 용도에 따라 적당히 선택할 수 있다. 예를 들어, 파장 420 nm~780 nm에 있어서의 광선 투과율은, 바람직하게는 85% 이상, 보다 바람직하게는 88% 이상이다. 이와 같이 높은 광선 투과율을 갖는 구성으로 함으로써, 광학 필름을 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 실장한 경우에, 특히 장기간 사용시의 휘도 저하를 억제할 수 있다.The optical film obtained by the optical film manufacturing method of the present invention is usually a transparent layer and transmits visible light. The specific light transmittance can be appropriately selected depending on the purpose of the optical film. For example, the light transmittance in the wavelength range of 420 nm to 780 nm is preferably 85% or more, and more preferably 88% or more. By constructing a structure having such a high light transmittance, when the optical film is mounted on a display device such as a liquid crystal display device, a decrease in luminance can be suppressed, especially during long-term use.

〔2. 본 발명의 광학 필름〕〔2. Optical film of the present invention]

본 발명의 다른 어느 양태에 있어서, 광학 필름은, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 단위를 갖는 블록[Da]과, 사슬형 탄화수소 화합물 단위, 또는 사슬형 탄화수소 화합물 단위 및 고리식 탄화수소기 함유 화합물 단위를 갖는 블록[Ea]을 포함하는 블록 공중합체를 포함한다. 고리식 탄화수소기 함유 화합물 단위 및 사슬형 탄화수소 화합물 단위는, 불포화 결합을 갖고 있어도 되고, 갖고 있지 않아도 되며, 또한 그 제조 방법에 의해서는 한정되지 않는다. 따라서 예를 들어, 불포화 결합을 갖는 단위를 수소화하여 이루어지는 단위여도 되고, 수소화되어 있지 않고 불포화 결합을 갖는 단위여도 된다. 광학 필름이, 이러한 블록 공중합체를 포함하는 것임으로써, 위상차가 낮은 광학 필름을 얻을 수 있고, 따라서, 본 발명의 광학 필름을, 저위상차가 요구되는 부재로서 사용할 수 있다. 덧붙여, 내광성이 높아, 황변되기 어려운 광학 필름을 얻을 수 있다.In any other aspect of the present invention, the optical film has a block [Da] having a cyclic hydrocarbon group-containing compound unit, a chain hydrocarbon compound unit, or a chain hydrocarbon compound unit and a cyclic hydrocarbon group-containing compound unit. Includes block copolymers containing block [Ea]. The cyclic hydrocarbon group-containing compound unit and the chain hydrocarbon compound unit may or may not have an unsaturated bond, and are not limited by the production method. Therefore, for example, it may be a unit formed by hydrogenating a unit having an unsaturated bond, or it may be a unit that is not hydrogenated and has an unsaturated bond. When the optical film contains such a block copolymer, an optical film with a low retardation can be obtained, and therefore, the optical film of the present invention can be used as a member requiring a low retardation. Additionally, an optical film with high light resistance and resistance to yellowing can be obtained.

당해 블록 공중합체의 바람직한 예로는, 블록[Da]으로서, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위를 갖는 중합체 블록[Db]을 1 분자당 2개 이상 포함하고, 블록[Ea]으로서, 사슬형 탄화수소 화합물 수소화물 단위, 또는 사슬형 탄화수소 화합물 또는 그 수소화물 단위 및 고리식 탄화수소 함유 화합물 또는 그 수소화물 단위를 갖는 중합체 블록[Eb]을 1 분자당 1 이상 포함하는 공중합체를 들 수 있다.Preferred examples of the block copolymer include, as a block [Da], two or more polymer blocks [Db] having cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride units per molecule, and as a block [Ea], a chain hydrocarbon Examples include copolymers containing at least one polymer block [Eb] per molecule having a compound hydride unit, a chain hydrocarbon compound or its hydride unit, and a cyclic hydrocarbon-containing compound or its hydride unit.

본 발명의 광학 필름을 구성하는 재료의 구체예로는, 상술한 수지 A를 들 수 있다. 또한, 그것에 포함되는 블록 공중합체의 예로는, 상술한 수소화 블록 공중합체[G]의 예와 동일한 예를 들 수 있다. 또한, 블록 공중합체를 구성하는 블록[Da] 및 [Ea]의 예 그리고 그 구체예인 블록[Db] 및 [Eb]의 예로는, 상술한 블록[D] 및 [E]의 예와 동일한 예를 들 수 있다. 블록[Da] 및 블록[Ea]을 구성하는 단위의 예로는, 블록[D] 및 [E]를 구성하는 단위의 예와 동일한 예; 그리고 방향족 비닐 화합물 단위, 및 사슬형 공액 디엔 화합물 단위를 들 수 있다. 방향족 비닐 화합물 단위는, 방향족 비닐 화합물을 중합하여 얻어지는 구조를 갖는 구조 단위이고, 사슬형 공액 디엔 화합물 단위는, 사슬형 공액 디엔 화합물을 중합하여 얻어지는 구조를 갖는 구조 단위이다. 단, 이들은, 그 제조 방법에 의해서는 한정되지 않는다. 여기서 말하는 방향족 비닐 화합물의 예 및 사슬형 공액 디엔 화합물의 예로는, 위에 거론한 것과 동일한 것을 들 수 있다.Specific examples of the material constituting the optical film of the present invention include the above-mentioned resin A. In addition, examples of the block copolymer contained therein include the same examples as those of the above-mentioned hydrogenated block copolymer [G]. In addition, examples of blocks [Da] and [Ea] constituting the block copolymer, and examples of blocks [Db] and [Eb], which are specific examples thereof, are the same as the examples of blocks [D] and [E] described above. I can hear it. Examples of units constituting blocks [Da] and blocks [Ea] include the same examples as examples of units constituting blocks [D] and [E]; and aromatic vinyl compound units and chain-type conjugated diene compound units. An aromatic vinyl compound unit is a structural unit having a structure obtained by polymerizing an aromatic vinyl compound, and a chain-shaped conjugated diene compound unit is a structural unit having a structure obtained by polymerizing a chain-shaped conjugated diene compound. However, these are not limited by the manufacturing method. Examples of aromatic vinyl compounds and chain-type conjugated diene compounds mentioned herein include the same ones as mentioned above.

블록 공중합체의 예로서, 수소화 블록 공중합체[G] 이외의 것의 예로는, 국제 공개 제WO2016/152871호에 기재되어 있는, 수소화물의 전구체로서의 방향족 비닐 화합물/공액 디엔 화합물 블록 공중합체를 들 수 있다.Examples of block copolymers other than hydrogenated block copolymer [G] include aromatic vinyl compound/conjugated diene compound block copolymers as precursors of hydrides, which are described in International Publication No. WO2016/152871. there is.

본 발명의 광학 필름을 구성하는 블록 공중합체에 있어서는, 표면과 중앙부에서의, 블록[Da]의 체적과, 블록[Ea]의 체적의 조성 비율의 차가, 0~10%이다. 조성 비율의 차는, 바람직하게는 8% 이하, 보다 바람직하게는 5% 이하이다.In the block copolymer constituting the optical film of the present invention, the difference in composition ratio between the volume of the block [Da] and the volume of the block [Ea] between the surface and the central portion is 0 to 10%. The difference in composition ratio is preferably 8% or less, more preferably 5% or less.

여기서 말하는 「중앙부」는, 필름의 두께 방향의 중앙부이다. 단, 위에 설명한, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 의해 제조된 필름의 경우, 두께 방향으로 5 μm 정도의 깊이에 있어서의 위치는, 통상 두께 방향의 중앙부와 동등한 조성 비율을 갖는다. 따라서, 광학 필름의 두께가 10 μm를 초과하는 경우, 두께 방향으로 5 μm 정도의 깊이에 있어서의 조성을 관찰하여 얻은 값을, 중앙부에서의 조성 비율의 값으로 바꿀 수 있다.The “center portion” referred to here is the central portion in the thickness direction of the film. However, in the case of a film manufactured by the optical film manufacturing method of the present invention described above, the position at a depth of about 5 μm in the thickness direction usually has a composition ratio equivalent to the central portion in the thickness direction. Therefore, when the thickness of the optical film exceeds 10 μm, the value obtained by observing the composition at a depth of about 5 μm in the thickness direction can be changed to the value of the composition ratio in the central portion.

블록[Da]의 체적과, 블록[Ea]의 체적의 조성 비율은, 광학 필름의 단면의 관찰에 의해 구할 수 있다. 즉, 단면의 면적비는, 통상 체적비에 비례하므로, 표면 및 단면의 면적비를 측정함으로써, 체적비를 구할 수 있다. 구체적으로는, 광학 필름의 표면 및 단면에 있어서, 각 블록에서 유래하는 상(相)의 면적을 구하고, 이러한 면적의 비를 구함으로써, 블록[Da]과, 블록[Ea]의 조성 비율을 구할 수 있다.The composition ratio of the volume of the block [Da] and the volume of the block [Ea] can be determined by observing the cross section of the optical film. That is, since the area ratio of the cross section is usually proportional to the volume ratio, the volume ratio can be obtained by measuring the area ratio of the surface and the cross section. Specifically, on the surface and cross section of the optical film, the area of the phase originating from each block is determined, and the ratio of these areas is determined to obtain the composition ratio of the block [Da] and the block [Ea]. You can.

각 상의 면적의 측정은, 원자간력 현미경(예를 들어 Bruker사 제조의 원자간력 현미경 Dimension Fast Scan Icon)에 의해 행할 수 있다. 원자간력 현미경에 의해, 광학 필름의 응착력 이미지를 얻어, 당해 이미지에 있어서의, 각 블록에서 유래하는 상의 면적비를 측정할 수 있다. 또한, 관찰된 상의 응착력에 관한 정보로부터, 관찰된 상을, 블록[Da]의 상, 및 블록[Ea]의 상에 귀속시킬 수 있다.The area of each phase can be measured using an atomic force microscope (for example, an atomic force microscope Dimension Fast Scan Icon manufactured by Bruker). Using an atomic force microscope, an image of the adhesion force of the optical film can be obtained, and the area ratio of the phase originating from each block in the image can be measured. Additionally, from information about the adhesive force of the observed phase, the observed phase can be attributed to the phase of the block [Da] and the phase of the block [Ea].

2종류의 상의 면적의 합계를 100%로 하고, 그 중의, 블록[Da]에 귀속되는 상의 면적의 백분율을 구함으로써, 표면 및 중앙물의 각각에 있어서의 블록[Da] 비율을 계산할 수 있다. 표면과 중앙부에서의 블록[D]의 체적과 블록[E]의 체적의 조성 비율의 차는, 하기의 식에 의해 산출할 수 있다.By setting the sum of the areas of the two types of phases to 100% and calculating the percentage of the area of the phase belonging to the block [Da], the block [Da] ratio in each of the surface and central products can be calculated. The difference in composition ratio between the volume of the block [D] and the volume of the block [E] at the surface and the center can be calculated using the following equation.

조성 비율의 차 = |(중앙부의 블록[D] 비율) - (표면의 블록[D] 비율)|Difference in composition ratio = |(Block[D] ratio in the center) - (Block[D] ratio on the surface)|

(중앙부의 블록[D] 비율) - (표면의 블록[D] 비율)의 값은, 플러스여도 되고 마이너스여도 된다.The value of (block [D] ratio of central part) - (block [D] ratio of surface) may be positive or negative.

본 발명의 광학 필름은, 블록 공중합체를 포함하는 수지의 압출 제막에 의해 제조할 수 있다. 압출 제막을 행함으로써, 효율적인 제조가 가능하게 된다. 단, 본 발명자가 알아낸 바에 의하면, 압출 제막을 행한 경우, 표면과 중앙부에서의 블록[D]의 체적과 블록[E]의 체적의 조성 비율의 차가 커진다. 여기서, 상기 〔1. 본 발명의 광학 필름의 제조 방법〕에 있어서 설명한 제조 방법을 채용함으로써, 이러한 조성 비율의 차가 작은 필름을 용이하게 얻을 수 있다.The optical film of the present invention can be manufactured by extrusion film forming of a resin containing a block copolymer. By performing extrusion film forming, efficient manufacturing becomes possible. However, according to what the present inventor found, when extrusion film forming is performed, the difference in composition ratio between the volume of the block [D] and the volume of the block [E] at the surface and the center increases. Here, the above [1. By employing the manufacturing method described in [Method for manufacturing an optical film of the present invention], a film with a small difference in such composition ratios can be easily obtained.

본 발명의 광학 필름의 치수 및 특성은, 〔1.5. 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름의 치수 및 특성〕에 있어서 설명한 것과 동일하다.The dimensions and characteristics of the optical film of the present invention are [1.5. Dimensions and characteristics of optical films obtained by the manufacturing method of the present invention].

〔3. 편광판 및 그 제조 방법〕〔3. Polarizer and its manufacturing method]

상기 〔1. 본 발명의 광학 필름의 제조 방법〕에서 설명한 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름, 및 상기 〔2. 본 발명의 광학 필름〕에서 설명한 본 발명의 광학 필름(이하에 있어서는, 이들을 간단히 「본 발명의 광학 필름」이라고 한다)은, 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 있어서, 다른 층을 보호하는 보호 필름으로서 호적하게 사용할 수 있다. 그 중에서도, 본 발명의 광학 필름은, 편광자 보호 필름으로서 호적하고, 표시 장치의 내측 편광자 보호 필름으로서 특히 호적하다.Above [1. An optical film obtained by the manufacturing method described in [Method for producing an optical film of the present invention], and the above [2. The optical film of the present invention (hereinafter simply referred to as “the optical film of the present invention”) described in “Optical film of the present invention” is used as a protective film that protects other layers in a display device such as a liquid crystal display device. It can be used conveniently. Among them, the optical film of the present invention is suitable as a polarizer protective film and is particularly suitable as an inner polarizer protective film of a display device.

본 발명의 편광판은, 상술한 본 발명의 광학 필름과 편광자를 구비한다. 본 발명에 있어서, 광학 필름은, 편광자 보호 필름으로서 기능할 수 있다. 본 발명의 편광판은, 또한, 광학 필름과 편광자 사이에, 이들을 접착하기 위한 접착제층을 구비해도 된다.The polarizing plate of the present invention includes the optical film and polarizer of the present invention described above. In the present invention, the optical film can function as a polarizer protective film. The polarizing plate of the present invention may further include an adhesive layer between the optical film and the polarizer for adhering them together.

본 발명의 편광판은, 광학 필름 및 편광자에 더하여, 임의의 층을 구비할 수 있다. 임의의 층으로는, 표면 경도를 높이는 하드 코트층, 필름의 미끄러짐성을 좋게 하는 매트층, 반사 방지층 등을 들 수 있다.The polarizing plate of the present invention may be provided with an arbitrary layer in addition to the optical film and polarizer. Optional layers include a hard coat layer that increases surface hardness, a mat layer that improves the slipperiness of the film, and an anti-reflection layer.

편광자는, 특별히 한정되지 않고, 임의의 편광자를 사용할 수 있다. 편광자의 예로는, 폴리비닐알코올 필름에, 요오드, 이색성 염료 등의 재료를 흡착시킨 후, 연신 가공한 것을 들 수 있다. 접착제층을 구성하는 접착제로는, 각종 중합체를 베이스 폴리머로 한 것을 들 수 있다. 이러한 베이스 폴리머의 예로는, 예를 들어, 아크릴 중합체, 실리콘 중합체, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리에테르, 및 합성 고무를 들 수 있다.The polarizer is not particularly limited, and any polarizer can be used. Examples of polarizers include those that adsorb materials such as iodine and dichroic dye to a polyvinyl alcohol film, and then carry out stretching processing. Adhesives constituting the adhesive layer include those using various polymers as base polymers. Examples of such base polymers include, for example, acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, polyethers, and synthetic rubbers.

편광판이 구비하는 편광자와 보호 필름의 수는 임의이지만, 본 발명에 있어서는, 통상은, 1층의 편광자와, 그 양면에 설치된 2층의 보호 필름을 구비할 수 있다. 이러한 2층의 보호 필름 중, 양방이 본 발명의 광학 필름이어도 되고, 어느 일방만이 본 발명의 광학 필름이어도 된다. 특히, 광원 및 액정 셀을 구비하고, 이러한 액정 셀의 광원측 및 표시면측의 양방에 편광판을 갖는 액정 표시 장치에 있어서, 표시면측의 편광자보다 광원측의 위치에 있어서 사용하는 보호 필름으로서, 본 발명의 광학 필름을 구비하는 것이 특히 바람직하다. 이러한 구성을 가짐으로써, 내구성이 우수하고 색 불균일이 작은 양호한 표시 품질을 갖는 액정 표시 장치를 용이하게 구성할 수 있다.Although the number of polarizers and protective films provided in the polarizing plate is arbitrary, in the present invention, it can usually be provided with one layer of polarizer and two layers of protective films provided on both sides. Among these two layers of protective films, both may be the optical films of the present invention, and only one may be the optical film of the present invention. In particular, in a liquid crystal display device comprising a light source and a liquid crystal cell and having a polarizing plate on both the light source side and the display surface side of the liquid crystal cell, the present invention is a protective film used at a position on the light source side rather than the polarizer on the display surface side, comprising: It is particularly desirable to provide an optical film. By having this configuration, it is possible to easily construct a liquid crystal display device with excellent durability and good display quality with little color unevenness.

본 발명의 편광판은, 임의의 제조 방법에 의해 제조할 수 있다. 예를 들어, 상기 제조 방법에 의해 얻어진 광학 필름과 편광자를 첩합함으로써, 본 발명의 편광판을 제조할 수 있다. 이러한 첩합은, 이들의 층을 직접 접촉시키는 첩합, 또는 접착제층을 개재한 첩합으로 할 수 있다.The polarizing plate of the present invention can be manufactured by any manufacturing method. For example, the polarizing plate of the present invention can be manufactured by bonding the optical film obtained by the above manufacturing method and the polarizer. This bonding can be done by bonding these layers in direct contact, or bonding through an adhesive layer.

〔4. 액정 표시 장치 및 그 제조 방법〕〔4. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof]

본 발명의 액정 표시 장치는, 상기 본 발명의 편광판을 구비한다.The liquid crystal display device of the present invention includes the polarizing plate of the present invention.

본 발명의 편광판을 설치하기에 적합한 액정 표시 장치로는, 예를 들어, 인플레인 스위칭(IPS) 모드, 버티컬 얼라인먼트(VA) 모드, 멀티 도메인 버티컬 얼라인먼트(MVA) 모드, 컨티뉴어스 핀휠 얼라인먼트(CPA) 모드, 하이브리드 얼라인먼트 네마틱(HAN) 모드, 트위스티드 네마틱(TN) 모드, 슈퍼 트위스티드 네마틱(STN) 모드, 옵티컬 컴펜세이티드 벤드(OCB) 모드 등의 구동 방식의 액정 셀을 구비하는 액정 표시 장치를 들 수 있다. 이들 중에서도, 본 발명의 광학 필름에 의한 내구성이 우수하고 색 불균일 억제의 효과가 현저한 점에서, IPS 모드의 액정 셀을 구비하는 액정 표시 장치가 특히 바람직하다.Liquid crystal display devices suitable for installing the polarizer of the present invention include, for example, in-plane switching (IPS) mode, vertical alignment (VA) mode, multi-domain vertical alignment (MVA) mode, and continuous pinwheel alignment (CPA). A liquid crystal display device having a liquid crystal cell in a driving mode such as hybrid alignment nematic (HAN) mode, twisted nematic (TN) mode, super twisted nematic (STN) mode, and optical compensated bend (OCB) mode. can be mentioned. Among these, a liquid crystal display device provided with an IPS mode liquid crystal cell is particularly preferable because the optical film of the present invention has excellent durability and a remarkable effect of suppressing color unevenness.

본 발명의 액정 표시 장치는, 임의의 제조 방법에 의해 제조할 수 있다. 예를 들어, 상기 제조 방법에 의해 얻어진 편광판을, 액정 셀 등의, 액정 표시 장치를 구성하는 다른 부재와 조합함으로써, 본 발명의 액정 표시 장치를 제조할 수 있다. 예를 들어, 액정 셀과 편광판을 직접, 또는 접착제층을 개재하여 첩합하고, 이것을 표시 장치 내에 설치함으로써, 액정 표시 장치를 제조할 수 있다. 또는, 액정 셀과 편광판을 단순히 겹쳐 표시 장치 내에 설치함으로써, 액정 표시 장치를 제조할 수 있다.The liquid crystal display device of the present invention can be manufactured by any manufacturing method. For example, the liquid crystal display device of the present invention can be manufactured by combining the polarizing plate obtained by the above manufacturing method with other members constituting the liquid crystal display device, such as a liquid crystal cell. For example, a liquid crystal display device can be manufactured by bonding a liquid crystal cell and a polarizing plate directly or through an adhesive layer, and installing this in a display device. Alternatively, a liquid crystal display device can be manufactured by simply overlapping the liquid crystal cell and the polarizing plate and installing them in the display device.

[실시예][Example]

이하, 실시예를 나타내어 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples shown below, and may be implemented with any modification without departing from the scope of the claims and equivalents of the present invention.

이하의 설명에 있어서, 양을 나타내는 「%」 및 「부」는, 별도로 언급하지 않는 한 중량 기준이다. 또한, 이하에 설명하는 조작은, 별도로 언급하지 않는 한, 상온 및 상압의 조건에 있어서 행하였다.In the following description, “%” and “part” indicating amounts are based on weight, unless otherwise specified. In addition, the operations described below were performed under conditions of room temperature and pressure, unless otherwise specified.

위의 설명에 있어서의 블록[D]의 구체예로도, 위의 설명에 있어서의 블록[Da]의 구체예로도 할 수 있는 구체예는, 이하의 설명에 있어서 단순히 「블록[D]」이라고 한다. 또한, 위의 설명에 있어서의 블록[E]의 구체예로도, 위의 설명에 있어서의 블록[Ea]의 구체예로도 할 수 있는 구체예는, 이하의 설명에 있어서 단순히 「블록[E]」이라고 한다.A specific example that can be used as a specific example of the block [D] in the above description or a specific example of the block [Da] in the above description is simply referred to as “block [D]” in the following description. It is said that In addition, specific examples that can be used as specific examples of the block [E] in the above description or as specific examples of the block [Ea] in the above description are simply referred to as “block [E]” in the following description. ]”.

〔평가 방법〕〔Assessment Methods〕

〔중량 평균 분자량 및 수평균 분자량의 측정 방법〕[Method for measuring weight average molecular weight and number average molecular weight]

중합체의 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량은, 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC) 시스템(토소사 제조 「HLC-8320」)을 사용하여, 폴리스티렌 환산값으로서 측정하였다. 측정시, 칼럼으로는 H 타입 칼럼(토소사 제조)을 사용하고, 용매로는 시클로헥산을 사용하였다. 또한, 측정시의 온도는, 40℃였다.The weight average molecular weight and number average molecular weight of the polymer were measured as polystyrene conversion values using a gel permeation chromatography (GPC) system (“HLC-8320” manufactured by Tosoh Corporation). During the measurement, an H type column (manufactured by Tosoh Corporation) was used as the column, and cyclohexane was used as the solvent. Additionally, the temperature at the time of measurement was 40°C.

〔수소화 블록 공중합체[G]의 수소화율의 측정 방법〕[Method for measuring hydrogenation rate of hydrogenated block copolymer [G]]

중합체의 수소화율은, 오르토디클로로벤젠-d4를 용매로 하여, 145℃에서, 1H-NMR 측정에 의해 산출하였다.The hydrogenation rate of the polymer was calculated by 1 H-NMR measurement at 145°C using orthodichlorobenzene-d 4 as a solvent.

〔수지 A의 유리 전이 온도〕[Glass transition temperature of resin A]

수지 A(수소화 블록 공중합체를 포함하는 수지[G1] 등)를 프레스 성형하여, 길이 50 mm, 폭 10 mm, 두께 1 mm의 시험편을 제작하였다. 이 시험편을 사용하고, JIS-K7244-4법에 기초해, 점탄성 측정 장치(제품명 「ARES」, 티·에이·인스트루먼트·저팬사 제조)를 사용하여, -100℃~+150℃의 범위에서, 승온 속도 5℃/분으로 동적 점탄성 특성을 측정하였다. 손실 정접 tanδ의 피크 탑 온도(복수의 피크가 관측되는 경우에는 고온측의 피크 온도)로부터, 유리 전이 온도 Tg2를 산출하였다.Resin A (resin [G1] containing a hydrogenated block copolymer, etc.) was press-molded to produce a test piece with a length of 50 mm, a width of 10 mm, and a thickness of 1 mm. Using this test piece, and based on the JIS-K7244-4 method, using a viscoelasticity measuring device (product name "ARES", manufactured by TA Instrument Japan), in the range of -100°C to +150°C, Dynamic viscoelastic properties were measured at a temperature increase rate of 5°C/min. The glass transition temperature Tg 2 was calculated from the peak top temperature of the loss tangent tan δ (the peak temperature on the high temperature side when multiple peaks are observed).

〔수지 B의 열 연화 온도〕[Thermal softening temperature of resin B]

JIS K 7121에 기초하여, 시차 주사 열량 분석계(나노테크놀로지사 제조, 제품명 「DSC6220S11」)를 사용하여, 수지 B를 유리 전이 온도보다 30℃ 이상 높은 온도로 가열한 후, 냉각 속도 -10℃/분으로 실온까지 냉각하고, 그 후, 승온 속도 10℃/분으로 승온하여, 그에 의해 열 연화 온도를 측정하였다.Based on JIS K 7121, using a differential scanning calorimeter (manufactured by Nanotechnology, product name "DSC6220S11"), resin B was heated to a temperature at least 30°C higher than the glass transition temperature, and then cooled at a cooling rate of -10°C/min. It was cooled to room temperature, and then the temperature was raised at a temperature increase rate of 10°C/min, and the heat softening temperature was measured thereby.

〔각 층 두께 및 광학 필름의 두께의 측정 방법〕[Method for measuring the thickness of each layer and the thickness of the optical film]

각 층의 두께 및 광학 필름의 두께는, 다음과 같이 하여 측정하였다.The thickness of each layer and the thickness of the optical film were measured as follows.

측정 대상의 필름을, 마이크로톰(야마토 코키사 제조 「RV-240」)을 사용하여 슬라이스하였다. 슬라이스한 필름의 절단면을, 편광 현미경(올림푸스사 제조 「BX51」)으로 관찰하고, 그 두께를 측정하였다.The film to be measured was sliced using a microtome (“RV-240” manufactured by Yamato Koki Co., Ltd.). The cut surface of the sliced film was observed with a polarizing microscope (“BX51” manufactured by Olympus Corporation), and its thickness was measured.

〔열 연화 온도 Ts의 측정 방법〕[Method for measuring heat softening temperature Ts]

측정 대상의 필름을 5 mm × 20 mm의 형상으로 잘라내어 시료로 하였다. 측정 장치로서, TMA/SS7100(에스아이아이·나노테크놀로지 주식회사 제조)을 사용하였다. TMA(열기계적 분석) 측정에 있어서, 시료의 길이 방향으로 50 mN의 장력을 가한 상태에서, 온도를 변화시켰다. 선팽창이 3% 변화하였을 때의 온도(℃)를, 연화 온도로 하였다.The film to be measured was cut into a shape of 5 mm x 20 mm and used as a sample. As a measuring device, TMA/SS7100 (manufactured by SI Nano Technology Co., Ltd.) was used. In the thermomechanical analysis (TMA) measurement, the temperature was changed while a tension of 50 mN was applied in the longitudinal direction of the sample. The temperature (°C) when the linear expansion changed by 3% was taken as the softening temperature.

〔면내 방향의 리타데이션 및 두께 방향의 리타데이션의 측정 방법〕[Method of measuring retardation in the in-plane direction and retardation in the thickness direction]

각 예(실시예 및 비교예)의 필름을, 파장 590 nm에서 위상차 측정 장치(Axometric사 제조 제품명 「Axoscan」)를 사용하여 측정함으로써, 각 예의 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re의 절대값 및 두께 방향의 리타데이션 Rth의 절대값을 구하였다.The absolute value and thickness of the retardation Re in the in-plane direction of the film of each example (Examples and Comparative Examples) were measured using a phase difference measuring device (product name "Axoscan" manufactured by Axometric) at a wavelength of 590 nm. The absolute value of the direction retardation Rth was obtained.

〔박리 강도의 측정 방법〕[Method for measuring peel strength]

편광판 대신의 필름으로서, 노르보르넨계 중합체를 포함하는 수지로 이루어지는 시험용 필름(유리 전이 온도 160℃, 두께 100 μm, 닛폰 제온사 제조, 연신 처리를 실시하지 않은 것)을 준비하였다. 각 예에서 얻어진 필름 및 상기 시험용 필름의 편면에, 코로나 처리를 실시하였다. 각 예의 필름의 코로나 처리를 실시한 면, 및 시험용 필름의 코로나 처리한 면에 접착제를 부착시키고, 접착제를 부착시킨 면끼리를 첩합하였다. 이 때, 접착제로는 UV 접착제(CRB 시리즈(토요켐사 제조)를 사용하였다. 이에 의해 각 예의 필름(100) 및 시험용 필름(60)을 구비하는 샘플 필름(S)을 얻었다(도 3을 참조).As a film instead of a polarizing plate, a test film (glass transition temperature 160°C, thickness 100 μm, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., unstretched) made of a resin containing a norbornene-based polymer was prepared. Corona treatment was performed on one side of the film obtained in each example and the test film. An adhesive was attached to the corona-treated side of the film of each example and the corona-treated side of the test film, and the sides to which the adhesive had been attached were bonded together. At this time, UV adhesive (CRB series (manufactured by Toyochem) was used as the adhesive. As a result, a sample film (S) including the film 100 and the test film 60 for each example was obtained (see Figure 3). .

그 후, 도 3에 나타내는 바와 같이, 상기 샘플 필름(S)을 15 mm의 폭으로 재단하고, 각 예의 필름(100)측을 슬라이드 유리(80)의 표면에 점착제(70)로 첩합하여 평가 샘플을 얻었다. 이 때, 점착제(70)로는, 양면 점착 테이프(닛토덴코사 제조, 품번 「CS9621」)를 사용하였다. 도 3 중, 50은 접착제이다.Thereafter, as shown in FIG. 3, the sample film S was cut to a width of 15 mm, and the film 100 side of each example was bonded to the surface of the slide glass 80 with an adhesive 70 to form an evaluation sample. got it At this time, as the adhesive 70, a double-sided adhesive tape (manufactured by Nitto Denko, product number “CS9621”) was used. In Figure 3, 50 is an adhesive.

포스게이지의 선단 사이에 상기 시험용 필름(60)을 두고, 슬라이드 유리(80)의 표면의 법선 방향(도 3의 화살표(X)에 나타내는 방향)으로 잡아당김으로써, 90도 박리 시험을 실시하였다. 이 때, 시험용 필름(60)이 벗겨질 때에 측정된 힘은, 각 예(실시예 및 비교예)의 필름(100)과 시험용 필름(60)을 박리시키기 위하여 필요로 하는 힘이므로, 이 힘의 크기를 박리 강도로서 측정하였다. 박리에 필요로 하는 힘이 매우 커 시험용 필름이 벗겨지기 전에 재료가 파괴된 경우에는, 「재료 파괴 때문에 측정 불가」라고 기재하였다.A 90-degree peeling test was performed by placing the test film 60 between the ends of the force gauge and pulling it in the direction normal to the surface of the slide glass 80 (the direction indicated by the arrow (X) in FIG. 3). At this time, the force measured when the test film 60 is peeled off is the force required to peel the film 100 and the test film 60 of each example (Example and Comparative Example), so the force of this force is Size was measured as peel strength. In cases where the force required for peeling was so large that the material was destroyed before the test film was peeled off, it was described as “Measurement not possible due to destruction of the material.”

(박리 강도의 측정 방법에 대한 보충)(Supplement to the measurement method of peel strength)

상기의 박리 강도의 측정 방법에서는, 편광판 대신에 특정한 시험용 필름을 사용하고 있다. 이와 같이, 편광판 대신에 시험용 필름을 사용하여 박리 강도의 측정을 행하는 것의 타당성을 검증하기 위하여, 실시예 1에서 얻어진 필름에 대해, 발명자는 이하의 실험을 행하였다.In the above-mentioned peel strength measuring method, a specific test film is used instead of a polarizing plate. In this way, in order to verify the validity of measuring peel strength using a test film instead of a polarizing plate, the inventor performed the following experiment on the film obtained in Example 1.

시험용 필름 대신에, 일본 공개특허공보 2005-70140호의 실시예 1에 따라, 편광 필름의 편방의 표면에 위상차 필름 적층체를 첩합하고, 편광 필름의 다른 편방의 표면에는 트리아세틸셀룰로오스 필름을 첩합하여, 90도 박리 시험을 실시하였다. 즉, 먼저, 일본 공개특허공보 2005-70140호의 실시예 1에 기재된 편광 필름 및 접착제를 준비하였다. 준비한 편광 필름의 편방의 표면에, 위상차 필름 적층체의 코로나 처리를 실시한 면을, 상기의 접착제를 개재하여 첩합하였다. 또한, 편광 필름의 다른 편방의 표면에는, 상기의 접착제를 개재하여 트리아세틸셀룰로오스 필름을 첩합하였다. 그 후, 80℃에서 7분간 건조시켜 접착제를 경화시켜, 샘플 필름을 얻었다. 얻어진 샘플 필름에 대하여 90도 박리 시험을 행하였다.Instead of the test film, according to Example 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-70140, a retardation film laminate is bonded to the surface of one side of the polarizing film, and a triacetylcellulose film is bonded to the surface of the other side of the polarizing film, A 90 degree peel test was performed. That is, first, the polarizing film and adhesive described in Example 1 of Japanese Patent Application Publication No. 2005-70140 were prepared. The corona-treated side of the retardation film laminate was bonded to the surface of one side of the prepared polarizing film through the adhesive described above. Additionally, a triacetylcellulose film was bonded to the surface of the other side of the polarizing film through the adhesive described above. Afterwards, the adhesive was cured by drying at 80°C for 7 minutes to obtain a sample film. A 90 degree peeling test was performed on the obtained sample film.

상기의 실험의 결과, 편광판 대신에 시험용 필름을 사용한 경우와 동일한 결과가 얻어졌다. 따라서, 편광판 대신에 시험용 필름을 사용한 하기의 실시예 및 비교예의 결과는, 타당한 것이다.As a result of the above experiment, the same results were obtained as when a test film was used instead of a polarizing plate. Therefore, the results of the following examples and comparative examples using a test film instead of a polarizing plate are valid.

(수증기 투과율의 측정)(Measurement of water vapor transmission rate)

광학 필름의 수증기 투과율은, 수증기 투과도 측정 장치(MOCON사 제조 「PERMATRAN-W」)를 사용하여, JIS K 7129 B법에 따라, 온도 40℃, 습도 90 %RH의 조건으로 측정하였다.The water vapor transmission rate of the optical film was measured using a water vapor transmission rate measurement device (“PERMATRAN-W” manufactured by MOCON) under the conditions of a temperature of 40°C and a humidity of 90%RH according to the JIS K 7129 B method.

(전체 광선 투과율의 측정)(Measurement of total light transmittance)

광학 필름의 전체 광선 투과율은, 헤이즈미터 NDH-2000(닛폰 덴쇼쿠 공업사 제조)을 사용하고, JIS K 7136에 준거하여 측정하였다.The total light transmittance of the optical film was measured in accordance with JIS K 7136 using a haze meter NDH-2000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries).

(블록 조성비의 측정)(Measurement of block composition ratio)

광학 필름에 있어서의, 블록 조성비의 측정은 Bruker사 제조의 원자간력 현미경 Dimension Fast Scan Icon을 사용하여, 광학 필름의 응착력 이미지를 얻어, 당해 이미지에 있어서의, 각 블록에서 유래하는 상의 면적비를 측정함으로써 행하였다.To measure the block composition ratio in an optical film, use an atomic force microscope Dimension Fast Scan Icon manufactured by Bruker, obtain an image of the adhesion force of the optical film, and measure the area ratio of the phase originating from each block in the image. This was done by measuring.

응착력 이미지의 촬상을 위한 캔틸레버로는, AC240TS(올림푸스사 제조, 스프링 정수: 1.5 N/m, TIP 곡률 반경 15 nm)를 사용하였다. 촬상을 위한 측정 모드는 ScanAsyst mode, 스캔 레이트는 2 Hz의 조건으로 하고, 500 nm × 500 nm의 면적에서 응착력 이미지를 측정하였다.As a cantilever for capturing adhesive force images, AC240TS (manufactured by Olympus, spring constant: 1.5 N/m, TIP curvature radius 15 nm) was used. The measurement mode for imaging was ScanAsyst mode, the scan rate was 2 Hz, and adhesion images were measured in an area of 500 nm × 500 nm.

응착력 이미지의 측정은, 필름 표면 및 중앙부에 있어서 행하였다. 필름 중앙부의 측정은, 필름의 단면 형성을 행한 뒤에, 단면에 있어서의, 필름 표면으로부터의 깊이 5 μm의 위치에 있어서 행하였다.Measurements of the adhesion force images were performed on the film surface and central portion. The measurement of the central portion of the film was performed after forming a cross section of the film, at a position of 5 μm in depth from the film surface in the cross section.

응착력 이미지의 측정 결과의 화상을 해석하여, 히스토그램을 그렸다. 히스토그램에 있어서는, 개개의 측정점에 있어서 측정된 응착력을 가로축에 취하고, 당해 응착력이 측정된 측정점의 개수를 세로축에 취하였다. 2종류의 블록에서 기인한다고 생각되는, 2종류의 상의 면적 비율을 가우스 함수로 피팅하여 산출하였다.The image of the measurement result of the adhesive force image was analyzed, and a histogram was drawn. In the histogram, the adhesive force measured at each measurement point is taken on the horizontal axis, and the number of measurement points at which the adhesive force was measured is taken on the vertical axis. The area ratio of the two types of phases, which are believed to originate from the two types of blocks, was calculated by fitting a Gaussian function.

일반적으로, 응착력은 Tg에 의존하며, 저Tg의 시료 표면으로부터 캔틸레버를 떼어놓는 편이, 응착력이 높아지는 것이 알려져 있다. 이 때문에, 응착력이 높은 상이 블록[E], 응착력이 낮은 상이 블록[D]이라고 귀속을 결정할 수 있다.In general, adhesion depends on Tg, and it is known that separating the cantilever from the sample surface with a low Tg increases the adhesion. For this reason, it can be determined that the attribute with high adhesion is block [E], and the attribute with low adhesion is block [D].

면적 비율은, 2종류의 상의 면적의 합계를 100%로 하고, 그 중의, 블록[D]에 귀속되는 상의 면적의 백분율을, 블록[D] 비율로서 계산하였다.The area ratio was calculated by taking the sum of the areas of the two types of phases as 100%, and calculating the percentage of the area of the phase belonging to the block [D] as the block [D] ratio.

표면과 중앙부에서의, 블록[D]과 블록[E]의 조성 비율의 차는, 하기의 식에 의해 산출하였다.The difference in composition ratio between block [D] and block [E] at the surface and central portion was calculated using the following equation.

조성 비율의 차 = |(중앙부의 블록[D] 비율) - (표면의 블록[D] 비율)|Difference in composition ratio = |(Block[D] ratio in the center) - (Block[D] ratio on the surface)|

〔제조예 1〕[Production Example 1]

(P1-1) 블록 공중합체[F1]의 제조(P1-1) Preparation of block copolymer [F1]

교반 장치를 구비하고, 내부가 충분히 질소 치환된 반응기에, 탈수 시클로헥산 270 부, 탈수 스티렌 75 부 및 디부틸에테르 7.0 부를 넣었다. 전체를 60℃에서 교반하면서, n-부틸리튬(15% 시클로헥산 용액) 5.6 부를 첨가하여 중합을 개시시켰다. 계속해서 전체를 60℃에서 60분간 교반하였다. 반응 온도는, 반응 정지까지 60℃를 유지하였다. 이 시점(중합 제1 단계)에서 반응액을 가스 크로마토그래피(이하, 「GC」라고 기재하는 경우가 있다.) 및 GPC에 의해 분석한 결과, 중합 전화율은 99.4%였다.270 parts of dehydrated cyclohexane, 75 parts of dehydrated styrene, and 7.0 parts of dibutyl ether were placed in a reactor equipped with a stirring device and the interior of which was sufficiently purged with nitrogen. While stirring the whole at 60°C, 5.6 parts of n-butyllithium (15% cyclohexane solution) was added to initiate polymerization. The whole was then stirred at 60°C for 60 minutes. The reaction temperature was maintained at 60°C until the reaction was stopped. At this point (first stage of polymerization), the reaction solution was analyzed by gas chromatography (hereinafter sometimes referred to as “GC”) and GPC, and the polymerization conversion rate was 99.4%.

다음으로, 반응액에, 탈수 이소프렌 15 부를 40분간에 걸쳐 연속적으로 첨가하고, 첨가 종료 후 그대로 30분간 교반을 계속하였다. 이 시점(중합 제2 단계)에서, 반응액을 GC 및 GPC에 의해 분석한 결과, 중합 전화율은 99.8%였다.Next, 15 parts of dehydrated isoprene was continuously added to the reaction solution over 40 minutes, and stirring was continued for 30 minutes after the addition was completed. At this point (second stage of polymerization), the reaction solution was analyzed by GC and GPC, and the polymerization conversion rate was 99.8%.

그 후, 반응액에 탈수 스티렌 10 부를, 30분간에 걸쳐 연속적으로 더 첨가하고, 첨가 종료 후 그대로 30분 교반하였다. 이 시점(중합 제3 단계)에서, 반응액을 GC 및 GPC에 의해 분석한 결과, 중합 전화율은 대략 100%였다.After that, 10 parts of dehydrated styrene was continuously added to the reaction solution over 30 minutes, and the mixture was stirred for 30 minutes after the addition was completed. At this point (third stage of polymerization), the reaction solution was analyzed by GC and GPC, and the polymerization conversion rate was approximately 100%.

여기서, 이소프로필알코올 1.0 부를 첨가하여 반응을 정지시킴으로써, [D1]-[E]-[D2]형의 블록 공중합체[F1]를 포함하는 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 블록 공중합체[F1]에 있어서는, Mw[F1] = 82,400, Mw/Mn은 1.32였다.Here, 1.0 parts of isopropyl alcohol was added to stop the reaction, thereby obtaining a polymer solution containing the [D1]-[E]-[D2] type block copolymer [F1]. In the obtained block copolymer [F1], Mw[F1] = 82,400 and Mw/Mn was 1.32.

(P1-2) 수소화 블록 공중합체[G1]의 제조(P1-2) Preparation of hydrogenated block copolymer [G1]

(P1-1)에서 얻은 중합체 용액을, 교반 장치를 구비한 내압 반응기에 이송하고, 수소화 촉매로서, 규조토 담지형 니켈 촉매(제품명 「E22U」, 니켈 담지량 60%, 닛키 촉매 화성사 제조) 4.0 부, 및 탈수 시클로헥산 30 부를 첨가하여 혼합하였다. 반응기 내부를 수소 가스로 치환하고, 또한 용액을 교반하면서 수소를 공급하여, 온도 190℃, 압력 4.5 MPa로 6시간 수소화 반응을 행하였다.The polymer solution obtained in (P1-1) was transferred to a pressure-resistant reactor equipped with a stirring device, and as a hydrogenation catalyst, 4.0 parts of a diatomaceous earth-supported nickel catalyst (product name "E22U", nickel supported amount 60%, manufactured by Nikki Catalyst Chemical Company) was used as a hydrogenation catalyst. , and 30 parts of dehydrated cyclohexane were added and mixed. The inside of the reactor was replaced with hydrogen gas, hydrogen was supplied while stirring the solution, and a hydrogenation reaction was performed at a temperature of 190°C and a pressure of 4.5 MPa for 6 hours.

수소화 반응에 의해 얻어진 반응 용액에는, 수소화 블록 공중합체[G1]가 포함되어 있었다. 수소화 블록 공중합체의 Mw[G1]는 71,800, 분자량 분포 Mw/Mn은 1.30, 수소화율은 대략 100%였다.The reaction solution obtained by the hydrogenation reaction contained hydrogenated block copolymer [G1]. The Mw[G1] of the hydrogenated block copolymer was 71,800, the molecular weight distribution Mw/Mn was 1.30, and the hydrogenation rate was approximately 100%.

수소화 반응 종료 후, 반응 용액을 여과하여 수소화 촉매를 제거한 후, 페놀계 산화 방지제인 펜타에리트리틸·테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트](제품명 「AO60」, ADEKA사 제조) 0.3 부를 용해한 크실렌 용액 2.0 부를 첨가해 용해하여, 용액으로 하였다.After completion of the hydrogenation reaction, the reaction solution was filtered to remove the hydrogenation catalyst, and then the phenolic antioxidant pentaerythrityl tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propio Nate] (product name “AO60”, manufactured by ADEKA) was dissolved by adding 2.0 parts of xylene solution in which 0.3 parts were dissolved to obtain a solution.

이어서, 상기 용액을, 원통형 농축 건조기(제품명 「콘트로」, 히타치 제작소사 제조)를 사용하여, 온도 260℃, 압력 0.001 MPa 이하로 처리하고, 용액으로부터 시클로헥산, 크실렌 및 그 밖의 휘발 성분을 제거하여, 용융된 수지를 얻었다. 이것을 다이로부터 스트랜드상으로 압출하고, 냉각하여, 펠리타이저에 의해 펠릿으로 성형하였다. 이에 의해, 수소화 블록 공중합체[G1]를 포함하는, 수지[G1]의 펠릿 95 부를 제조하였다.Next, the solution was treated at a temperature of 260°C and a pressure of 0.001 MPa or less using a cylindrical concentration dryer (product name “Contro”, manufactured by Hitachi Ltd.) to remove cyclohexane, xylene, and other volatile components from the solution. Thus, molten resin was obtained. This was extruded from a die into a strand shape, cooled, and formed into pellets using a pelletizer. In this way, 95 parts of pellets of resin [G1] containing hydrogenated block copolymer [G1] were produced.

얻어진 수지[G1]에 있어서의 수소화 블록 공중합체[G1]는, Mw[G1] = 68,500, Mw/Mn = 1.30, Tg2 = 140℃, Ts = 139℃, (D1 + D2)/E = 85/15, D1/D2 = 7.5였다.The hydrogenated block copolymer [G1] in the obtained resin [G1] was Mw[G1] = 68,500, Mw/Mn = 1.30, Tg 2 = 140°C, Ts = 139°C, (D1 + D2)/E = 85. /15, D1/D2 = 7.5.

〔제조예 2〕[Production Example 2]

(P2-1) 블록 공중합체[F2]의 제조(P2-1) Preparation of block copolymer [F2]

교반 장치를 구비하고, 내부가 충분히 질소 치환된 반응기에, 탈수 시클로헥산 270 부, 탈수 스티렌 70 부 및 디부틸에테르 7.0 부를 넣었다. 전체를 60℃에서 교반하면서, n-부틸리튬(15% 시클로헥산 용액) 5.6 부를 첨가하여 중합을 개시시켰다. 계속해서 전체를 60℃에서 60분간 교반하였다. 반응 온도는, 반응 정지까지 60℃를 유지하였다. 이 시점(중합 제1 단계)에서 반응액을 GC 및 GPC에 의해 분석한 결과, 중합 전화율은 99.4%였다.270 parts of dehydrated cyclohexane, 70 parts of dehydrated styrene, and 7.0 parts of dibutyl ether were placed in a reactor equipped with a stirring device and the interior of which was sufficiently purged with nitrogen. While stirring the whole at 60°C, 5.6 parts of n-butyllithium (15% cyclohexane solution) was added to initiate polymerization. The whole was then stirred at 60°C for 60 minutes. The reaction temperature was maintained at 60°C until the reaction was stopped. At this point (first stage of polymerization), the reaction solution was analyzed by GC and GPC, and the polymerization conversion rate was 99.4%.

다음으로, 반응액에, 탈수 이소프렌 20 부를 40분간에 걸쳐 연속적으로 첨가하고, 첨가 종료 후 그대로 30분간 교반을 계속하였다. 이 시점(중합 제2 단계)에서, 반응액을 GC 및 GPC에 의해 분석한 결과, 중합 전화율은 99.8%였다.Next, 20 parts of dehydrated isoprene was continuously added to the reaction solution over 40 minutes, and stirring was continued for 30 minutes after the addition was completed. At this point (second stage of polymerization), the reaction solution was analyzed by GC and GPC, and the polymerization conversion rate was 99.8%.

그 후, 반응액에 탈수 스티렌 10 부를, 30분간에 걸쳐 연속적으로 더 첨가하고, 첨가 종료 후 그대로 30분 교반하였다. 이 시점(중합 제3 단계)에서, 반응액을 GC 및 GPC에 의해 분석한 결과, 중합 전화율은 대략 100%였다.After that, 10 parts of dehydrated styrene was continuously added to the reaction solution over 30 minutes, and the mixture was stirred for 30 minutes after the addition was completed. At this point (third stage of polymerization), the reaction solution was analyzed by GC and GPC, and the polymerization conversion rate was approximately 100%.

여기서, 이소프로필알코올 1.0 부를 첨가하여 반응을 정지시킴으로써, [D1]-[E]-[D2]형의 블록 공중합체[F2]를 포함하는 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 블록 공중합체[F2]에 있어서는, Mw[F2] = 83,400, Mw/Mn은 1.32였다.Here, 1.0 parts of isopropyl alcohol was added to stop the reaction, thereby obtaining a polymer solution containing the [D1]-[E]-[D2] type block copolymer [F2]. In the obtained block copolymer [F2], Mw[F2] = 83,400 and Mw/Mn was 1.32.

(P2-2) 수소화 블록 공중합체[G2]의 제조(P2-2) Preparation of hydrogenated block copolymer [G2]

(P2-1)에서 얻은 중합체 용액을, 교반 장치를 구비한 내압 반응기에 이송하고, 수소화 촉매로서, 규조토 담지형 니켈 촉매(제품명 「E22U」, 니켈 담지량 60%, 닛키 촉매 화성사 제조) 4.0 부, 및 탈수 시클로헥산 30 부를 첨가하여 혼합하였다. 반응기 내부를 수소 가스로 치환하고, 또한 용액을 교반하면서 수소를 공급하여, 온도 190℃, 압력 4.5 MPa로 6시간 수소화 반응을 행하였다.The polymer solution obtained in (P2-1) was transferred to a pressure-resistant reactor equipped with a stirring device, and as a hydrogenation catalyst, 4.0 parts of a diatomaceous earth-supported nickel catalyst (product name "E22U", nickel supported amount 60%, manufactured by Nikki Catalyst Chemical Company) was used as a hydrogenation catalyst. , and 30 parts of dehydrated cyclohexane were added and mixed. The inside of the reactor was replaced with hydrogen gas, hydrogen was supplied while stirring the solution, and a hydrogenation reaction was performed at a temperature of 190°C and a pressure of 4.5 MPa for 6 hours.

수소화 반응에 의해 얻어진 반응 용액에는, 수소화 블록 공중합체[G2]가 포함되어 있었다. 수소화 블록 공중합체[G2]의 Mw[G2]는 72,800, 분자량 분포 Mw/Mn은 1.30, 수소화율은 대략 100%였다.The reaction solution obtained by the hydrogenation reaction contained hydrogenated block copolymer [G2]. The Mw[G2] of the hydrogenated block copolymer [G2] was 72,800, the molecular weight distribution Mw/Mn was 1.30, and the hydrogenation rate was approximately 100%.

수소화 반응 종료 후, 반응 용액을 여과하여 수소화 촉매를 제거한 후, 페놀계 산화 방지제인 펜타에리트리틸·테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트](제품명 「AO60」, ADEKA사 제조) 0.3 부를 용해한 크실렌 용액 2.0 부를 첨가해 용해하여, 용액으로 하였다.After completion of the hydrogenation reaction, the reaction solution was filtered to remove the hydrogenation catalyst, and then the phenolic antioxidant pentaerythrityl tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propio Nate] (product name “AO60”, manufactured by ADEKA) was dissolved by adding 2.0 parts of xylene solution in which 0.3 parts were dissolved to obtain a solution.

이어서, 상기 용액을, 원통형 농축 건조기(제품명 「콘트로」, 히타치 제작소사 제조)를 사용하여, 온도 260℃, 압력 0.001 MPa 이하로 처리하고, 용액으로부터 시클로헥산, 크실렌 및 그 밖의 휘발 성분을 제거하여, 용융된 수지를 얻었다. 이것을 다이로부터 스트랜드상으로 압출하고, 냉각하여, 펠리타이저에 의해 펠릿으로 성형하였다. 이에 의해, 수소화 블록 공중합체[G2]를 포함하는, 수지[G2]의 펠릿 95 부를 제조하였다.Next, the solution was treated at a temperature of 260°C and a pressure of 0.001 MPa or less using a cylindrical concentration dryer (product name “Contro”, manufactured by Hitachi Ltd.) to remove cyclohexane, xylene, and other volatile components from the solution. Thus, molten resin was obtained. This was extruded from a die into a strand shape, cooled, and formed into pellets using a pelletizer. In this way, 95 parts of pellets of resin [G2] containing hydrogenated block copolymer [G2] were produced.

얻어진 수지 [G2]에 있어서의 수소화 블록 공중합체[G2]는, Mw[G2] = 69,500, Mw/Mn = 1.30, Tg2 = 140℃, Ts = 138℃, (D1 + D2)/E = 80/20, D1/D2 = 7.0이었다.The hydrogenated block copolymer [G2] in the obtained resin [G2] was Mw[G2] = 69,500, Mw/Mn = 1.30, Tg 2 = 140°C, Ts = 138°C, (D1 + D2)/E = 80. /20, D1/D2 = 7.0.

〔실시예 1〕[Example 1]

(1-1. 광학 필름의 제조)(1-1. Manufacturing of optical film)

체눈 3 μm의 리프 디스크 형상의 폴리머 필터를 구비하는, 더블 플라이트형 단축 압출기(스크루의 직경 D = 50 mm, 스크루의 길이 L과 스크루의 직경 D의 비 L/D = 28)를 준비하였다. 이 단축 압출기에, 열가소성 수지 A로서, 제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1]를 도입하고, 용융시켜, 피드블록을 통하여 단층 다이에 공급하였다. 단축 압출기로의 수지 A의 도입은, 단축 압출기에 장전된 호퍼를 통하여 행하였다. 또한, 상기의 단층 다이의 다이스 립의 표면 거칠기(산술 평균 거칠기 Ra)는, 0.1 μm였다. 또한, 수지 A의 압출기 출구 온도는, 260℃였다.A double-flight type single-screw extruder (screw diameter D = 50 mm, ratio L/D of the screw length L and screw diameter D = 28) equipped with a leaf disk-shaped polymer filter with a sieve diameter of 3 μm was prepared. The pellet-shaped resin [G1] obtained in Production Example 1 as thermoplastic resin A was introduced into this single-screw extruder, melted, and supplied to a single-layer die through a feed block. Resin A was introduced into the single-screw extruder through a hopper loaded in the single-screw extruder. Additionally, the surface roughness (arithmetic average roughness Ra) of the die lip of the above-described single-layer die was 0.1 μm. Additionally, the extruder outlet temperature of Resin A was 260°C.

한편, 체눈 3 μm의 리프 디스크 형상의 폴리머 필터를 구비하는 단축 압출기(스크루의 직경 D = 50 mm, 스크루의 길이 L과 스크루의 직경 D의 비 L/D = 30) 1대를 준비하였다. 이 단축 압출기에, 열가소성 수지 B로서, 비정성의 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지 B(수지 「B-1」로 한다, 닛폰 제온사 제조, 열 연화 온도 160℃)를 도입해 용해시켜, 피드블록을 통하여 상기의 단층 다이에 공급하였다. 수지 B의 압출기 출구 온도는, 260℃였다.Meanwhile, one single-screw extruder (screw diameter D = 50 mm, ratio L/D of the screw length L and screw diameter D = 30) equipped with a leaf disk-shaped polymer filter with a sieve size of 3 μm was prepared. Into this single-screw extruder, resin B (referred to as resin "B-1", manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., heat softening temperature 160°C) containing an amorphous alicyclic structure-containing polymer as thermoplastic resin B is introduced and dissolved. The above single-layer die was fed through a feed block. The extruder outlet temperature of Resin B was 260°C.

수지 A 및 수지 B를, 260℃의 용융 상태에서 압출 성형기의 단층 다이로부터 토출시켰다. 그에 의해 수지 B로 이루어지는 표층, 수지 A로 이루어지는 코어층, 및 수지 B로 이루어지는 표층의 3층을 이 순서로 구비하는 필름상의 수지를 연속적으로 형성하였다(공압출 성형 공정). 토출된 필름상의 수지를, 냉각 롤에 캐스트하였다. 캐스트시에는, 필름상의 수지의 폭 방향 단부를 냉각 롤에 고정하는 에지 피닝을 행하고, 에어갭량은 50 mm로 설정하였다. 이에 의해, 필름상의 수지를 냉각하여, 3층 구조의 적층 필름을 얻었다. 얻어진 적층 필름은, 수지 B로 이루어지는 표층, 수지 A로 이루어지는 코어층, 및 수지 B로 이루어지는 표층을 이 순서로 구비하는, 2종의 수지로 이루어지는 3층의 적층 필름이었다.Resin A and Resin B were discharged from a single-layer die of an extrusion molding machine in a molten state at 260°C. As a result, a film-like resin was continuously formed including three layers in this order: a surface layer made of resin B, a core layer made of resin A, and a surface layer made of resin B (co-extrusion molding process). The discharged film-like resin was cast on a cooling roll. At the time of casting, edge peening was performed to fix the width direction end portion of the film-like resin to a cooling roll, and the air gap amount was set to 50 mm. In this way, the film-like resin was cooled, and a laminated film with a three-layer structure was obtained. The obtained laminated film was a three-layer laminated film made of two types of resins, including a surface layer made of resin B, a core layer made of resin A, and a surface layer made of resin B in this order.

(1-2. 광학 필름의 제조 및 평가)(1-2. Manufacturing and evaluation of optical films)

(1-1)에서 얻은 3층 구조의 적층 필름으로부터 표층을 박리하는 박리 공정을 행하였다. 박리 공정은, 적층 필름의 양측의 표층을 견인하여, 코어층으로부터 표층을 연속적으로 박리함으로써 행하였다. 2층의 표층을 견인하는 방향은, 코어층의 면에 대한 각도가 60°인 방향이고, 박리 속도는, 5 m/min이었다. 그 결과, 표층이 박리된 두께가 40 μm인 단층의 필름 1을 얻었다.A peeling process was performed to peel the surface layer from the 3-layer structure laminated film obtained in (1-1). The peeling process was performed by pulling the surface layers on both sides of the laminated film and continuously peeling the surface layers from the core layer. The direction in which the surface layer of the second layer was pulled was at an angle of 60° with respect to the surface of the core layer, and the peeling speed was 5 m/min. As a result, a single-layer film 1 with a peeled surface layer and a thickness of 40 μm was obtained.

얻어진 필름 1에 대하여, 평가를 행하고, 결과를 표 1에 나타냈다. 박리 강도의 평가에 있어서는, 시험용 필름의 박리 전에, 재료 파괴가 일어났기 때문에 박리 강도는 측정 불가였다. 이것은 박리 강도가 높다는 것을 의미한다.The obtained film 1 was evaluated, and the results are shown in Table 1. In evaluating the peel strength, the peel strength could not be measured because material destruction occurred before peeling of the test film. This means that the peel strength is high.

〔실시예 2〕[Example 2]

제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1] 대신에, 제조예 2에서 얻은 펠릿상의 수지[G2]를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 적층 필름을 제작한 후에 표층을 박리하여, 두께가 40 μm인 단층의 필름 2를 얻었다. 얻어진 필름 2에 대하여 실시예 1과 동일하게 평가를 행하고, 결과를 표 1에 나타냈다. 박리 강도의 평가에 있어서는, 시험용 필름의 박리 전에, 재료 파괴가 일어났기 때문에 박리 강도는 측정 불가였다. 이것은 박리 강도가 높다는 것을 의미한다.A laminated film was produced in the same manner as in Example 1, except that the pellet-shaped resin [G2] obtained in Production Example 2 was used instead of the pellet-shaped resin [G1] obtained in Production Example 1, and then the surface layer was peeled to obtain a thickness. A monolayer film 2 with a thickness of 40 μm was obtained. The obtained film 2 was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1. In evaluating the peel strength, the peel strength could not be measured because material destruction occurred before peeling of the test film. This means that the peel strength is high.

〔비교예 1〕[Comparative Example 1]

체눈 3 μm의 리프 디스크 형상의 폴리머 필터를 구비하는, 더블 플라이트형 단축 압출기(스크루의 직경 D = 50 mm, 스크루의 길이 L과 스크루의 직경 D의 비 L/D = 28)를 준비하였다. 이 단축 압출기에, 제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1]를 도입하고, 용융시켜, 단층 다이에 공급하였다. 단축 압출기로의 수지[G1]의 도입은, 단축 압출기에 장전된 호퍼를 통하여 행하였다. 또한, 상기의 단층 다이의 다이스 립의 표면 거칠기(산술 평균 거칠기 Ra)는, 0.1 μm였다. 또한, 수지[G1]의 압출기 출구 온도는, 260℃였다.A double-flight type single-screw extruder (screw diameter D = 50 mm, ratio L/D of the screw length L and screw diameter D = 28) equipped with a leaf disk-shaped polymer filter with a sieve diameter of 3 μm was prepared. The pellet-shaped resin [G1] obtained in Production Example 1 was introduced into this single-screw extruder, melted, and supplied to a single-layer die. Resin [G1] was introduced into the single-screw extruder through a hopper loaded in the single-screw extruder. Additionally, the surface roughness (arithmetic average roughness Ra) of the die lip of the above-described single-layer die was 0.1 μm. Additionally, the extruder outlet temperature of resin [G1] was 260°C.

수지[G1]를, 260℃의 용융 상태에서 단층 다이로부터 토출시켰다. 그에 의해 수지[G1]로 이루어지는 층만으로 이루어지는 필름상의 수지를 연속적으로 형성하였다. 토출된 필름상의 수지를, 냉각 롤에 캐스트하였다. 캐스트시에는, 필름상의 수지의 폭 방향 단부를 냉각 롤에 고정하는 에지 피닝을 행하고, 에어갭량은 50 mm로 설정하였다. 이에 의해, 필름상의 수지를 냉각하여, 수지[G1]로 이루어지는 단층 구조의, 두께가 40 μm인 필름 C1을 얻었다. 얻어진 수지 필름 C1에 대하여 실시예 1의 필름과 동일하게 평가하고, 결과를 표 1에 나타냈다.Resin [G1] was discharged from a single-layer die in a molten state at 260°C. As a result, a film-like resin consisting only of a layer made of resin [G1] was continuously formed. The discharged film-like resin was cast on a cooling roll. At the time of casting, edge peening was performed to fix the width direction end portion of the film-like resin to a cooling roll, and the air gap amount was set to 50 mm. In this way, the film-like resin was cooled, and film C1 with a single-layer structure made of resin [G1] and having a thickness of 40 μm was obtained. The obtained resin film C1 was evaluated in the same manner as the film in Example 1, and the results are shown in Table 1.

〔비교예 2〕[Comparative Example 2]

제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1] 대신에, 제조예 2에서 얻은 펠릿상의 수지[G2]를 사용한 것 이외에는, 비교예 1과 동일한 조작에 의해, 수지[G2]로 이루어지는 단층 구조의, 두께가 40 μm인 필름 C2를 제조하였다. 이 필름 C2에 대하여 실시예 1의 필름과 동일하게 평가하고, 결과를 표 1에 나타냈다.Thickness of a single-layer structure made of resin [G2] by the same operation as Comparative Example 1, except that instead of the pellet-shaped resin [G1] obtained in Production Example 1, the pellet-shaped resin [G2] obtained in Production Example 2 was used. Film C2 with a thickness of 40 μm was prepared. This film C2 was evaluated in the same manner as the film in Example 1, and the results are shown in Table 1.

〔비교예 3〕[Comparative Example 3]

광학 필름 E(후지 필름(주) 제조, 「후지택」, 두께 40 μm)를 실시예 1의 필름과 동일하게 평가하고, 결과를 표 1에 나타냈다. 박리 강도의 측정에는, 비누화 처리를 실시한 필름을 사용하였다.Optical film E (Fuji Film Co., Ltd., "Fujitac", thickness 40 μm) was evaluated in the same manner as the film in Example 1, and the results are shown in Table 1. For the measurement of peel strength, a film subjected to saponification treatment was used.

실시예 및 비교예의 결과를, 표 1에 정리하여 나타낸다.The results of the examples and comparative examples are summarized in Table 1.

표 중에 있어서의 약호의 의미는, 하기와 같다.The meanings of the symbols in the table are as follows.

G1: 제조예 1에서 제조한 수소화 블록 공중합체[G1].G1: Hydrogenated block copolymer [G1] prepared in Preparation Example 1.

G2: 제조예 2에서 제조한 수소화 블록 공중합체[G2].G2: Hydrogenated block copolymer [G2] prepared in Preparation Example 2.

B-1: 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지, 열 연화 온도 160℃, 닛폰 제온사 제조 「ZEONOR」의 제품군의 하나.B-1: Resin containing an alicyclic structure-containing polymer, heat softening temperature of 160°C, one of the “ZEONOR” product lines manufactured by Nippon Zeon Corporation.

E: 광학 필름, 후지 필름(주) 제조 「후지택」E: Optical film, “Fujitag” manufactured by Fuji Film Co., Ltd.

|Re|: 면내 방향의 리타데이션의 절대값|Re|: Absolute value of retardation in in-plane direction

|Rth|: 두께 방향의 리타데이션의 절대값|Rth|: Absolute value of retardation in the thickness direction

실시예 및 비교예의 결과로부터 분명한 바와 같이, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 의해 얻어진 필름은, 대상물과의 밀착성이 높고, 리타데이션이 작고, 또한 수증기 투과율이 낮은 광학 필름으로 할 수 있다.As is clear from the results of the examples and comparative examples, the film obtained by the method for producing an optical film of the present invention can be an optical film with high adhesion to an object, small retardation, and low water vapor transmission rate.

10···코어층
11, 12···표층
12···표층
20···적층 필름
50···UV 접착제
60···시험용 필름
70···점착제
80···슬라이드 유리
100···광학 필름
100A, 100B···광학 필름의 면
M···압출 성형기
P···박리 영역
S···샘플 필름
10···Core layer
11, 12···Surface layer
12···Surface layer
20···Laminated film
50···UV adhesive
60···Test film
70···Adhesive
80···slide glass
100···Optical film
100A, 100B...side of optical film
M···Extrusion Molding Machine
P···Peeling area
S···Sample film

Claims (10)

고리식 탄화수소기 함유 화합물 단위를 갖는 블록[Da]과,
사슬형 탄화수소 화합물 단위, 또는 사슬형 탄화수소 화합물 단위 및 고리식 탄화수소기 함유 화합물 단위를 갖는 블록[Ea]
을 포함하는 블록 공중합체를 포함하고,
상기 블록 공중합체가 트리블록 공중합체를 포함하고,
상기 트리블록 공중합체가 사슬형 탄화수소 화합물 수소화물 단위, 또는 사슬형 탄화수소 화합물 수소화물 단위 및 고리식 탄화수소 함유 화합물 수소화물 단위를 갖는, 1 분자당 1개의 블록[E]과; 상기 블록[E]의 일단에 연결되고, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위를 갖는, 1 분자당 1개의 블록[D1]과; 상기 블록[E]의 타단에 연결되고, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위를 갖는, 1 분자당 1개의 블록[D2];을 포함하고,
상기 블록[D1]과 상기 블록[D2]의 중량비 D1/D2가 5 이상 8 이하이고,
상기 블록[D1] 및 상기 블록[D2]의 합계와 상기 블록[E]의 중량비 (D1+D2)/E가 70/30 이상 80/20 이하이고,
표면과 중앙부에서의, 상기 블록[Da]의 체적과, 상기 블록[Ea]의 체적의 조성 비율의 차가, 0~10%이고,
면내 방향의 리타데이션의 절대값이 2 nm 이하이고,
두께 방향의 리타데이션의 절대값이 10 nm 이하이고, 또한,
수증기 투과율이 20 g/(m2·일) 이하인, 광학 필름.
A block [Da] having a cyclic hydrocarbon group-containing compound unit,
A block having a chain hydrocarbon compound unit, or a chain hydrocarbon compound unit and a cyclic hydrocarbon group-containing compound unit [Ea]
Contains a block copolymer containing,
The block copolymer includes a triblock copolymer,
wherein the triblock copolymer has a chain hydrocarbon compound hydride unit, or a chain hydrocarbon compound hydride unit and a cyclic hydrocarbon-containing compound hydride unit, one block [E] per molecule; One block [D1] per molecule, which is connected to one end of the block [E] and has a cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit; It is connected to the other end of the block [E] and has a cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit, one block [D2] per molecule,
The weight ratio D1/D2 of the block [D1] and the block [D2] is 5 or more and 8 or less,
The weight ratio (D1+D2)/E of the sum of the block [D1] and the block [D2] and the block [E] is 70/30 or more and 80/20 or less,
The difference between the composition ratio of the volume of the block [Da] and the volume of the block [Ea] at the surface and the center is 0 to 10%,
The absolute value of retardation in the in-plane direction is 2 nm or less,
The absolute value of retardation in the thickness direction is 10 nm or less, and
An optical film having a water vapor transmission rate of 20 g/(m 2 ·day) or less.
제1항에 있어서,
상기 블록 공중합체를 포함하는 수지가 압출 제막되어 이루어지는, 광학 필름.
According to paragraph 1,
An optical film formed by extrusion film formation of a resin containing the block copolymer.
제1항 또는 제2항에 기재된 광학 필름과, 편광자를 구비하는, 편광판.A polarizing plate comprising the optical film according to claim 1 or 2 and a polarizer. 제3항에 기재된 편광판을 구비하는, 액정 표시 장치.A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to claim 3. 제1항에 기재된 광학 필름의 제조 방법으로서,
수지 A와 수지 B를 공압출함으로써, 수지 A로 이루어지는 코어층, 및 상기 코어층의 면 상에 형성된 수지 B로 이루어지는 표층을 구비하는 적층 필름을 얻는 공정과,
상기 적층 필름으로부터 상기 표층을 박리하는 공정을 포함하고,
상기 수지 A의 열 연화 온도 및 상기 수지 B의 열 연화 온도 중 높은 쪽의 온도를 (Ts[H])로 했을 때, 공압출의 압출 온도가 (Ts[H] + 70)℃ 이상, (Ts[H] + 180)℃ 이하이고,
상기 광학 필름은,
면내 방향의 리타데이션의 절대값이 2 nm 이하이고,
두께 방향의 리타데이션의 절대값이 10 nm 이하이고, 또한,
수증기 투과율이 20 g/(m2·일) 이하인, 광학 필름의 제조 방법.
A method for producing the optical film according to claim 1, comprising:
A step of co-extruding resin A and resin B to obtain a laminated film having a core layer made of resin A and a surface layer made of resin B formed on the surface of the core layer;
Comprising a step of peeling the surface layer from the laminated film,
When the higher temperature of the heat softening temperature of resin A and the heat softening temperature of resin B is (Ts[H]), the extrusion temperature of coextrusion is (Ts[H] + 70)°C or higher, (Ts [H] + 180) ℃ or less,
The optical film is,
The absolute value of retardation in the in-plane direction is 2 nm or less,
The absolute value of retardation in the thickness direction is 10 nm or less, and
A method for producing an optical film having a water vapor transmission rate of 20 g/(m 2 ·day) or less.
제5항에 있어서,
상기 광학 필름의 상기 면내 방향의 리타데이션의 절대값이 2 nm 이하이고, 상기 광학 필름의 상기 두께 방향의 리타데이션의 절대값이 2 nm 이하인, 광학 필름의 제조 방법.
According to clause 5,
A method for producing an optical film, wherein the absolute value of the retardation in the in-plane direction of the optical film is 2 nm or less, and the absolute value of the retardation in the thickness direction of the optical film is 2 nm or less.
제5항 또는 제6항에 있어서,
상기 수지 B가 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는, 광학 필름의 제조 방법.
According to claim 5 or 6,
A method for producing an optical film, wherein the resin B contains an alicyclic structure-containing polymer.
제5항 또는 제6항에 있어서,
상기 수지 A가,
고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위를 갖는, 1 분자당 2개 이상의 중합체 블록[D]과,
사슬형 탄화수소 화합물 수소화물 단위, 또는 사슬형 탄화수소 화합물 단위 및 고리식 탄화수소 함유 화합물 수소화물 단위를 갖는, 1 분자당 1 이상의 중합체 블록[E]
을 포함하는 수소화 블록 공중합체를 포함하는, 광학 필름의 제조 방법.
According to claim 5 or 6,
The resin A is,
Two or more polymer blocks [D] per molecule having a cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit,
At least one polymer block per molecule having chain hydrocarbon compound hydride units, or chain hydrocarbon compound units and cyclic hydrocarbon-containing compound hydride units [E]
A method for producing an optical film comprising a hydrogenated block copolymer comprising a.
제5항 또는 제6항에 있어서,
상기 수지 A가,
고리식 탄화수소기 함유 화합물 단위를 갖는 블록과,
사슬형 탄화수소 화합물 단위, 또는 사슬형 탄화수소 화합물 단위 및 고리식 탄화수소기 함유 화합물 단위를 갖는 블록
을 포함하는 블록 공중합체로 이루어지고,
상기 광학 필름에 있어서, 그 표면과 중앙부에서의 조성 비율의 차가, 0~10%인,
광학 필름의 제조 방법.
According to claim 5 or 6,
The resin A is,
A block having a compound unit containing a cyclic hydrocarbon group,
A block having a chain hydrocarbon compound unit, or a chain hydrocarbon compound unit and a cyclic hydrocarbon group-containing compound unit.
It is made of a block copolymer containing,
In the optical film, the difference in composition ratio between the surface and the central portion is 0 to 10%,
Method for manufacturing optical films.
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