KR102593244B1 - 전극 위치 추적시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 전극 위치 추적시스템은, 노칭 가공되는 단위 전극의 폭인 피치(pitch)정보가 저장되고, 노칭 공정에서 롤투롤 상태로 이송되는 전극 라인의 전극 좌표 정보 및 상기 단위 전극의 셀 아이디를 취득하는 노칭 제어부; 상기 노칭 제어부로부터 취득된 피치 정보와 셀 아이디로부터 상기 노칭 공정에서 이동하는 특정 단위 전극의 위치인 셀 아이디 좌표를 연산하는 연산부; 전극 길이방향 치수가 좌표로 표시되어 노칭 공정 전의 전극 제조공정에서의 전극 길이변화를 파악할 수 있는 롤맵을 상기 노칭 제어부로부터 전달되는 전극 좌표 정보로부터 생성하는 롤맵 생성부; 및 상기 롤맵의 좌표와 상기 셀 아이디 좌표를 대조하여 특정 단위 전극이 유래한 전극 제조공정에서의 전극 위치를 도출하는 매핑부를 포함한다.

Description

전극 위치 추적시스템{ELECTRODE LOCATION TRACKING SYSTEM}
본 발명은 노칭 공정 이전 단계에서 제조되는 전극의 위치를 추적할 수 있는 전극 위치 추적시스템에 관한 것이다.
모바일 기기에 대한 기술 개발과 수요의 증가로, 이차전지의 수요 또한 급격히 증가하고 있다. 그 중에서도, 리튬 이차전지는 에너지 밀도와 작동전압이 높고 보존과 수명 특성이 우수하다는 점에서, 각종 모바일 기기는 물론 다양한 전자 제품들의 에너지원으로 널리 사용되고 있다.
리튬 이차전지의 전극을 제조하는 전극 제조공정은, 집전체인 금속 극판의 표면에 활물질 및 소정 절연물질을 도포하여 양극과 음극을 구성하는 코팅공정과, 코팅된 전극을 압연하는 롤프레스 공정 및 압연된 전극을 치수에 따라 절단하는 슬리팅공정의 복수개의 세부 공정으로 이루어진다.
전극 공정에서 제조된 전극은 노칭 공정에 의하여 전극 탭이 형성되고, 양극과 음극 사이에 분리막을 개재시켜 전극 조립체로 된 다음, 이 전극 조립체를 스태킹 또는 폴딩하여 파우치나 캔 등으로 포장하고 전해액을 주액하는 조립공정을 통해 이차전지의 형태가 만들어진다. 이후 조립된 이차전지는 충방전되어 전지 특성을 부여하는 활성화공정을 거쳐 최종적인 완제품의 이차전지가 된다.
전극 노칭 공정도 광의로는 전극 제조공정으로 볼 수 있지만, 통상 전극 탭을 타발하는 전극 노칭 공정 이후는 전극 조립공정으로 간주한다. 따라서, 본 명세서에서는 노칭 공정 전의 단계를 전극 제조공정(이른바, 전극 공정)으로 간주한다.
도 1은 이러한 전극 제조공정과 노칭 공정에서의 전극의 상태가 도시되어 있다.
코터에서 집전체에 활물질이 코팅되어 활물질이 코팅된 유지부(11)와 코팅되지 않은 무지부(12)가 형성된다. 이후, 롤프레스 공정에서 프레스롤에 의하여 전극은 가압되어 연신되며, 슬리팅 공정에서 슬리터에 의하여 전극의 길이방향을 따라 절단된다.
이후, 노칭 공정에서 프레스 등에 의하여 타발되어 전극 탭이 형성된다. 상기 노칭 공정에서는, 전지 셀로 제조되는 단위 전극별로 커팅되거나 혹은 후속 공정에서 커팅될 수 있도록 단위 전극별로 상기 전극 탭(13)이 형성된다. 따라서, 단위 전극의 폭은 프레스가 가공하는 피치(P)(pitch)에 해당된다.
한편, 상기 전극 제조공정 및 노칭 공정에서는 전극이 언와인더와 리와인더 사이에서 권취되어 롤투롤 상태로 이송된다.
도 2는 전극 제조공정에서의 롤맵을 도시한 것이다.
코팅공정, 롤프레스공정, 슬리팅공정 등에서 전극은 롤투롤 상태로 진행된다. 롤맵은 이러한 전극의 진행을 모사하여 바(BAR) 형태로 나타낸 것이고, 상기 롤맵 상에는 전극의 길이방향 치수가 좌표로 도시되어 있다. 이러한 롤맵은 전극 제조공정에서 발생하는 불량, 품질, 전극 파단 등에 관한 정보가 상기 좌표와 함께 도시되어 있어, 전극 제조공정에서의 품질이나 불량과 관련한 데이터들을 한눈에 시각적으로 용이하게 파악할 수 있다. 예컨대, 도 2와 같이, 제1 공정에서 전극(10)에 파단이 발생하여 작업자가 이를 이음매 연결부재(T)로 연결할 경우, 전극 길이가 파단된 길이만큼 감소된다. 롤맵은 이러한 상황도 모사하여 롤맵 상의 좌표를 수정할 수 있다. 도 2를 참조하면, 제1 공정의 롤맵(R)이 보정되어 제2 공정의 롤맵(R')에서는 실제 전극과 동일하게 전체 바의 길이 및 전극 상에 표시된 기준점(M1.M2,M3)의 위치가 수정되어 있다. 이와 같이, 롤맵은 전극 파단 등의 전극 로스(loss)에 관한 정보를 포함한다. 또한, 롤맵의 좌표를 각 공정별로 전극 길이 변화가 반영된 상대좌표(도 2의 R' 참조)와 전극 길이 변화가 반영되지 않는 절대좌표로 표시할 수 있다. 상기 상대좌표와 절대좌표는 하나의 롤맵 상에 병기하여 표시할 수 있다. 또한, 절대좌표로 표시된 롤맵은 전극 파단 등으로 손실된 로스의 길이를 롤맵 바 상에 시각적으로 표시할 수 있다.
그런데, 전극 제조공정과 노칭 공정을 포함하는 종래의 전지 제조과정에서는 반제품 또는 완제품인 전지에 불량 등이 발생한 경우 노칭 공정까지는 불량 원인의 분석이 가능하였다. 예컨대, 도 1의 전극 탭(13)에 셀 아이디를 인쇄하고, 반제품 또는 완제품 전지에 문제가 생기면 이 셀 아이디를 확인하여 반제품 또는 완제품 제조 이전의 어떤 단계에서의 원인에 유래하였는지를 분석할 수 있다. 따라서, 노칭 공정 이후의 전지 제조과정에서는 상기 셀 아이디를 추적하여 상기 셀 아이디를 포함하는 반제품 또는 완제품이 어느 단계, 어느 위치에서 제조되었는지를 확인할 수 있으므로, 전지 셀 단위로 품질 추적이 가능하였다.
그러나, 이러한 전지 셀 단위의 품질추적은 노칭 공정까지만 가능하고, 노칭 공정 전의 전극 제조공정에서는 이루어지지 않았다. 노칭 공정 전에는 해당 전지 셀이 만들어진 전극 롤의 로트번호만 확인할 수 있었다. 이로 인하여, 불량품 전지 셀이 발견된 경우, 해당 전지 셀이 생산된 전극 제조공정라인의 전극 롤 전체를 폐기해야 하는 상황이 발생하였다.
따라서, 노칭 공정 이전의 전극 제조과정에서도 전지 셀 단위로 품질 추적을 할 수 있는 기술의 개발이 요망된다.
한국 공개특허공보 제10-2020-0011228호
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 전극 제조공정에서의 롤맵 정보를 이용하여 노칭 공정에서 제조된 단위 전극이 유래된 전극의 위치를 추적할 수 있는 전극 위치 추적시스템을 제공하기 위한 것이다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 전극 위치 추적시스템은, 노칭 가공되는 단위 전극의 폭인 피치(pitch)정보가 저장되고, 노칭 공정에서 롤투롤 상태로 이송되는 전극 라인의 전극 좌표 정보 및 상기 단위 전극의 셀 아이디를 취득하는 노칭 제어부; 상기 노칭 제어부로부터 취득된 피치 정보와 셀 아이디로부터 상기 노칭 공정에서 이동하는 특정 단위 전극의 위치인 셀 아이디 좌표를 연산하는 연산부; 전극 길이방향 치수가 좌표로 표시되어 노칭 공정 전의 전극 제조공정에서의 전극 길이변화를 파악할 수 있는 롤맵을 상기 노칭 제어부로부터 전달되는 전극 좌표 정보로부터 생성하는 롤맵 생성부; 및 상기 롤맵의 좌표와 상기 셀 아이디 좌표를 대조하여 특정 단위 전극이 유래한 전극 제조공정에서의 전극 위치를 도출하는 매핑부를 포함한다.
하나의 예로서, 상기 노칭 공정에서 롤투롤 상태로 이송되는 전극 라인의 전극 좌표 정보는, 노칭 공정에서 언와인더와 리와인더 사이에서 전극이 롤투롤 이송될 때, 상기 언와인더와 리와인더의 회전량에 따른 전극 위치를 나타내는 엔코더값 정보일 수 있다.
하나의 예로서, 상기 단위 전극의 셀 아이디는 노칭 공정에서 타발 가공되는 전극 탭에 표시되는 식별표지이고, 상기 식별표지는 롤투롤 이송되는 전극의 상부에 배치되며 상기 노칭 제어부와 연결된 식별표지 스캐너에 의해 취득될 수 있다.
구체적으로, 상기 연산부는, 상기 식별표지로부터 상기 특정 단위 전극의 순번을 구하고, 상기 순번과 상기 피치를 곱하여 상기 셀 아이디 좌표를 구할 수 있다.
다른 예로서, 상기 단위 전극의 식별표지에 따른 순번이 저장되는 저장부를 더 포함하고, 상기 연산부는 상기 단위 전극의 식별표지와 상기 저장부에 저장된 순번을 대조하여 상기 특정 단위 전극의 순번을 구할 수 있다.
구체적으로 상기 노칭 공정 전의 전극 제조공정은 전극 활물질을 집전체에 코팅하여 코팅 전극을 형성하는 코팅공정, 코팅 전극을 프레스롤로 압연하는 롤프레스공정을 적어도 포함할 수 있다.
또한, 상기 노칭 공정 전의 전극 제조공정은 상기 롤프레스 공정 후에 압연된 전극을 길이방향을 따라 절단하는 슬리팅공정을 더 포함할 수 있다.
상기 롤맵 생성부는, 상기 롤맵 생성부에 저장된 전극 제조공정에서의 전극 길이 변화에 관한 데이터를 상기 노칭 제어부로부터 전달되는 전극 좌표 정보에 반영하여 전극 제조공정의 각 세부 공정에 있어서의 롤맵을 각 세부 공정별로 생성할 수 있다.
하나의 예로서, 상기 롤맵의 좌표는, 전극 길이 변화가 반영된 상대좌표와 반영되지 않은 절대좌표를 포함할 수 있다.
하나의 예로서, 상기 매핑부는, 상기 특정 단위 전극의 셀 아이디 좌표에 상기 전극 제조공정의 각 세부 공정에 있어서의 롤맵에 의해서 파악되는 전극 길이 감소값을 더하여 상기 특정 단위 전극이 유래한 전극 제조공정의 각 세부 공정에서의 전극 위치를 도출할 수 있다.
구체적으로, 상기 전극 길이 감소는, 각 세부 공정 중의 전극 제거 또는 세부 공정 후의 전극 제거 중 적어도 하나에 의한 것일 수 있다.
또한, 상기 매핑부는, 상기 노칭 공정 중에 전극이 제거된 경우 상기 제거된 전극의 길이와 상기 각 세부 공정의 롤맵에 의해서 파악되는 전극 길이 감소값을 상기 특정 단위 전극의 셀 아이디 좌표에 더하여 상기 특정 단위 전극이 유래한 각 세부 공정에서의 전극 위치를 도출할 수 있다.
다른 예로서, 상기 전극 제조공정의 각 세부 공정에 전극 코팅공정과 롤프레스 공정이 적어도 포함되어, 상기 전극 코팅공정 완공 후의 전극이 롤프레스 공정에서의 전극 압연에 의하여 소정 비율로 연신될 때, 상기 매핑부는 상기 전극 연신에 의하여 전극 길이가 증가되는 전극 증가분을 반영하여 상기 특정 단위 전극이 유래한 상기 전극 코팅공정에서의 전극 위치를 도출할 수 있다.
여기서, 상기 매핑부는, 상기 특정 단위 전극의 셀 아이디 좌표에 상기 롤프레스 공정의 롤맵으로 파악되는 전극 길이 감소값을 더하여 상기 특정 단위 전극이 유래한 롤프레스 전극 위치를 구하고, 상기 롤프레스 전극 위치를 상기 소정 비율로 나누어 상기 특정 단위 전극이 유래한 전극 코팅공정의 전극 위치를 구할 수 있다.
또 다른 예로서, 상기 롤맵 생성부는 상기 코팅공정, 롤프레스공정 및 슬리팅 공정의 롤맵을 각각 생성하고, 상기 매핑부는, 상기 셀 아이디 좌표와, 상기 코팅공정, 롤프레스공정 및 슬리팅 공정의 롤맵의 좌표를 대조하여 상기 특정 단위 전극이 유래한 상기 슬리팅 공정, 롤프레스 공정 또는 전극 코팅공정에서의 전극 위치를 도출할 수 있다.
본 발명에 의하여 노칭 공정 이전의 전극 제조공정에서 노칭 공정의 단위 전극이 유래한 전극의 위치를 추적할 수 있다.
또한, 노칭 공정에서 제조된 단위 전극이 전극 제조공정의 어떤 전극에서 유래하였는지 파악할 수 있으므로, 후속공정의 반제품이나 완제품 전지 셀의 불량 원인 분석이나 품질 추적을 전극 제조공정까지 셀 단위로 행할 수 있다.
도 1은 전극 제조공정과 노칭 공정에서의 전극의 상태를 도시한 모식도이다.
도 2는 전극 제조공정에서의 롤맵을 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 전극 위치 추적시스템을 나타낸 블록도이다.
도 4는 본 발명에 전극 위치 추적시스템에 따른 노칭 제어부가 제어하는 노칭 공정을 설명하기 위한 개략도이다.
도 5는 노칭 공정 중에 전극이 제거된 경우 그 제거 길이를 도출하는 과정을 설명하는 개략도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 전극 위치 추적시스템의 전극 위치 추적과정을 나타낸 모식도이다.
도 7은 전극 코팅후 롤프레스 공정에서 전극이 연신되는 것을 나타낸 개략도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 전극 위치 추적시스템의 전극 위치 추적과정을 나타낸 모식도이다.
이하, 첨부한 도면과 여러 실시예에 의하여 본 발명의 세부 구성을 상세하게 설명한다. 이하에서 설명되는 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위하여 예시적으로 나타낸 것이며, 또한 첨부된 도면은 발명의 이해를 돕기 위하여 실제 축척대로 도시된 것이 아니며 일부 구성요소의 치수가 과장되게 도시될 수 있다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 3은 본 발명의 전극 위치 추적시스템(1000)을 나타낸 블록도이다.
본 발명의 전극 위치 추적시스템(1000)은, 노칭 가공되는 단위 전극의 폭인 피치(pitch)정보가 저장되고, 노칭 공정에서 롤투롤 상태로 이송되는 전극 라인의 전극 좌표 정보 및 상기 단위 전극의 셀 아이디를 취득하는 노칭 제어부; 상기 노칭 제어부로부터 취득된 피치 정보와 셀 아이디로부터 상기 노칭 공정에서 이동하는 특정 단위 전극의 위치인 셀 아이디 좌표를 연산하는 연산부(200); 전극 길이방향 치수가 좌표로 표시되어 노칭 공정 전의 전극 제조공정에서의 전극 길이변화를 파악할 수 있는 롤맵을 상기 노칭 제어부(100)로부터 전달되는 전극 좌표 정보로부터 생성하는 롤맵 생성부; 및 상기 롤맵의 좌표와 상기 셀 아이디 좌표를 대조하여 특정 단위 전극이 유래한 전극 제조공정에서의 전극 위치를 도출하는 매핑부(400)를 포함한다.
본 발명은 노칭 공정 이전의 전극 제조과정을 셀 단위로 추적하기 위한 것이다. 따라서, 전극 위치 추적을 위하여 먼저 노칭 공정에서의 추적대상 전극의 위치가 특정되어야 한다. 노칭 공정에서는 연속적인 전극 시트가 단위 전극 간격으로 가공되므로, 상기 단위 전극 중 특정 단위 전극을 추적대상 전극으로 하여 설명한다.
본 발명의 전극 위치 추적시스템(1000)은, 노칭 제어부(100), 연산부(200), 롤맵 생성부(300) 및 매핑부(400)를 포함한다.
상기 노칭 제어부(100)는 노칭 공정에서 롤투롤 상태로 이송되는 전극 라인의 이송을 제어하기 위한 제어부(100)이다. 예컨대, PCL 제어부이다. 상기 제어부(100)에는 단위 전극 간격으로 노칭하기 위하여 단위 전극의 폭인 피치 정보가 저장되어 있다. 또한, 상기 제어부(100)는 언와인더와 리와인더 사이에서 롤투롤 상태로 진행하는 전극 라인의 전극 좌표 정보를 취득할 수 있다. 상기 전극 좌표 정보는, 노칭 공정에서 언와인더와 리와인더 사이에서 전극이 롤투롤 이송될 때, 상기 언와인더와 리와인더의 회전량에 따른 전극 위치를 나타내는 엔코더값 정보로부터 취득할 수 있다. 노칭 제어부(100)의 기능을 설명하기 위하여 통상의 노칭 공정에 대하여 설명한다.
도 4는 본 발명의 전극 위치 추적시스템(1000)에 따른 노칭 제어부(100)가 제어하는 노칭 공정을 설명하기 위한 개략도이다.
롤프레스 공정 또는 슬리팅 공정을 거친 전극은 도 4와 같이 언와인더(UW)로 로딩되어 상기 언와인더(UW)로부터 풀려나와 리와인더(RW)를 향하여 전진하면서 노칭 가공된다. 상기 전극(10)은 언와인더(UW)로부터의 권출, 리와인더(RW)에서 권취되므로 그 전극의 이동량 내지 각 전극(10)의 위치는 상기 언와인더(UW) 및 리와인더(RW)의 회전량으로부터 계산될 수 있다. 상기 언와인더(UW) 및 리와인더(RW)에는 (로터리) 엔코더(30)가 설치되어 있다. 엔코더는 모터 회전량으로부터 전극의 변위나 위치값인 엔코더값을 추출할 수 있다. 즉, 상기 엔코더(30)는 언와인더(UW) 및 리와인더(RW)에 설치된 모터구동부에 연결되어 상기 언와인더(UW)와 리와인더(RW)의 회전량에 따른 전극 위치를 나타내는 엔코더값을 표출한다. 이 엔코더값 정보로부터 노칭 공정에서의 전극 라인의 전극 좌표 정보(즉, 전극 위치 정보)를 취득할 수 있다. 도 4와 같이, 언와인더 엔코더(30U) 및 리와인더 엔코더(30R)는 노칭 제어부(100)에 연결되어 전극 이동에 따른 엔코더값을 노칭 제어부(100)로 송출하고 있다. 이에 따라, 상기 노칭 제어부(100)는 상기 엔코더값으로부터 롤투롤 상태로 이송되는 전극 라인의 전극 좌표 정보를 얻을 수 있으며, 전극 길이 정보도 취득할 수 있다.
한편, 상기 제어부(100)는 노칭되는 각 단위 전극의 셀 아이디도 취득할 수 있다. 도 4를 참조하면, 노칭 공정에서 전극은 타발장치(50)로 타발되어 단위 전극 별로 전극 탭이 형성된다. 전극 탭의 형상은 도 1에 잘 도시되어 있다. 상기 타발 후에 단위 전극의 전극 탭에는 소정의 식별표지가 구비된다. 예컨대, 전극 탭에 바코드를 인쇄하거나, 레이저 마킹한다. 상기 바코드나 레이저 마킹 등의 식별표지에 의해서 당해 단위 전극 또는 그 단위 전극으로 제조된 반제품이나 완제품의 전지 셀을 다른 반제품 및 완제품과 구별할 수 있다. 이러한 의미에서 상기 식별표지는 전지 셀의 정체성을 나타내는 셀 아이디라고 칭한다. 상기 셀 아이디를 인쇄하는 장치는 도 4에는 도시하지 않았다. 다만, 타발장치(50)에서 타발 가공되고 식별표지가 인쇄된 단위 전극의 셀 아이디는 식별표지 스캐너(60)에 의해서 스캔되어 상기 노칭 제어부(100)로 전송된다. 노칭 제어부(100)는 이 셀 아이디와 피치 정보를 연산부(200)에 보내며, 연산부(200)에서는 상기 피치 정보와 셀 아이디로부터 노칭 공정에서 이동하는 특정 단위 전극의 위치인 셀 아이디 좌표를 연산할 수 있다.
구체적으로, 상기 연산부(200)는 상기 식별표지(셀 아이디)로부터 특정 단위 전극의 순번을 구하고, 상기 피치를 곱하여 셀 아이디 좌표를 구할 수 있다. 예컨대, 식별표지로서 바코드가 노칭 공정의 전극 라인에서 순서대로 인쇄된다면, 상기 바코드가 단위 전극의 순번을 나타낸다. 통상 서버와 같은 저장부(500)에는 상기 바코드(식별표지)와 단위 전극의 순번 관계가 저장되어 있어, 상기 바코드를 인식하면 단위 전극의 순서를 확인할 수 있다. 만약, 특정 바코드의 단위 전극이 누락되었다면, 이는 그 단위 전극이 노칭 라인에서 결손되었다는 것을 의미할 수 있다. 따라서, 연산부(200)는 상기 저장부(500)에 저장된 순번과 식별표지 스캐너에 의해 취득된 식별표지를 대조하여 특정 단위 전극의 순번을 구할 수 있다.
예컨대, 노칭 공정의 피치가 0.1 미터이고 해당 특정 단위 전극의 순번이 5000번이라면, 상기 특정 단위 전극의 셀 아이디 좌표는 상기 순번과 피치를 곱하여 500미터가 된다. 이 때, 언와인더(UW)와 리와인더(RW)의 엔코더값으로부터 취득되는 전극 좌표 정보로부터 노칭 라인의 전극 길이가 760미터로 판명된 경우, 상기 특정 단위 전극은 760 미터에서 500미터 지점에 위치한 단위 전극으로 특정할 수 있는 것이다.
상기 연산부(200)는 예컨대, ECS(Embedded Computer System)와 같은 실시간 시스템이 될 수 있으며, 마이크로컴퓨터를 상기 연산부(200)로 채용할 수 있다. 후술하는 바와 같이, 상기 연산부(200)는 셀 아이디 좌표를 연산하여 매핑부(400)로 전송한다.
또한, 본 발명은 상기 노칭 제어부(100)로부터 전달되는 전극 좌표 정보로부터 롤맵을 생성하는 롤맵 생성부(300)를 포함한다. 본 발명은 노칭 공정 전의 전극 제조공정에서의 전극 위치를 추적하기 위한 것이므로, 상기 롤맵도 전극 제조공정의 각 세부공정별로 생성한다. 구체적으로 상기 노칭 공정 전의 전극 제조공정은 전극 활물질을 집전체에 코팅하여 코팅 전극을 형성하는 코팅공정, 코팅 전극을 프레스롤로 압연하는 롤프레스공정을 적어도 포함할 수 있다. 또한, 상기 노칭 공정 전의 전극 제조공정은 상기 롤프레스 공정 후에 압연된 전극을 길이방향을 따라 절단하는 슬리팅공정을 더 포함할 수 있다.
상술한 바와 같이, 롤맵은 롤투롤 상태로 진행되는 전극을 모사한 것으로서, 전극의 길이방향 치수가 좌표로 표시되어 이로부터 전극의 길이 변화를 파악할 수 있다.
노칭 공정의 전극은 그 이전의 슬리팅 공정, 롤프레스 공정 및 전극 코팅공정에서 롤투롤 이송되는 전극으로부터 제조된 것이므로, 전극 위치 추적을 위해서 상기 공정들의 전극 길이 변화에 관한 정보를 포함하고 있는 롤맵이 필요하다. 상기 롤맵은 전극 코팅공정, 롤프레스 공정 및 슬리팅 공정에서 각각 작성될 수 있다. 상기 롤맵에는 해당 공정시 전극이 파단되어 제거되거나 불량이 발생하여 작업자가 제거하는 등에 의해서 전극이 제거되는 공정중 전극 제거부에 관한 정보가 표시된다. 롤맵은 전극의 길이방향 치수가 좌표로 표시되어 있으므로, 실제 전극이 파단 및 연결 등에 의해서 해당 공정 중에 길이에 변화가 발생할 경우, 이를 롤맵 상에 표시할 수 있다. 또한, 롤맵에는 소정 간격으로 복수개의 기준점이 표시되어 있어, 이 기준점으로부터 전극의 파단 길이를 산출할 수 있다. 상기 기준점은 전극에 인쇄된 기준점을 모사하여 나타낸 것이다.
한편, 전극 제조공정의 각 세부 공정 간에 있어서, 공정 완료 후에 전극의 일정부분을 잘라내는 경우가 있다. 통상, 롤투롤 진행 초기와 종기의 전극은 품질이 균일하지 않은 경우가 많으므로, 해당 공정의 시단부 또는 종단부의 전극을 잘라내는 경우가 많다. 이러한 전극 제거부를 완공후 전극 제거부라 한다. 도 2와 관련하여 설명한 바와 같이, 롤맵에 표시되는 좌표는 이러한 전극 길이 변화가 반영된 상대좌표와 반영되지 않은 절대좌표가 있다. 따라서, 절대좌표로 표시되는 롤맵 상에는 좌표 데이터와 함께 제거된 전극부도 표시할 수 있으므로, 불량이나 파단에 관한 정보를 롤맵 상에 시각적으로 표시할 수 있다. 다만, 본 발명에서는 설명의 편의를 위하여 전극의 길이 및 좌표 외에 다른 시각적 정보는 롤맵으로부터 생략하여 나타낸다. 복수개의 세부 공정으로 이루어진 전극 제조공정의 경우 선행하는 공정의 롤맵은 후행하는 공정의 롤맵 작성시 참조될 수 있다. 예컨대, 전극 코팅공정, 롤프레스공정 및 슬리팅공정에 의하여 전극이 제조되는 경우, 전극 코팅공정에서의 롤맵은 후행의 롤프레스공정에서 참조된다. 만약, 전극 코팅공정 중에 전극이 제거되거나 코팅공정 완공후 전극이 제거된 경우에는 롤프레스공정의 롤맵에는 이러한 사항이 반영(보정)되어야 한다. 즉, 롤프레스 공정의 롤맵은 전극 코팅공정의 절대좌표가 표시된 롤맵을 참조하여 기준점과 좌표를 표시하되, 전극 길이변화에 관한 사항을 반영하여 좌표를 보정하여야 한다. 이러한 의미에서 롤프레스 공정의 절대좌표를 가지는 롤맵은 선행공정의 전극 코팅공정에서 상대좌표를 가지는 롤맵이라 할 수 있다. 마찬가지로 롤프레스공정 중 또는 공정 후에 전극에 길이변화가 발생한 경우, 후행의 슬리팅공정 롤맵에서는 이러한 사항을 반영하여야 한다. 이를 반영한 슬리팅공정의 롤맵은 슬리팅공정 자체에서는 절대좌표의 롤맵일 수 있지만, 롤프레스 공정 기준으로는 상대좌표의 롤맵이라 할 수 있다.
이와 같이, 롤맵이 절대좌표 또는 상대좌표로 표시되는 것은 공정간의 관계와 관련하여 상대적인 것이다. 본 발명에서는 이러한 좌표의 종류를 적절하게 활용하여 전극의 위치를 추적할 수 있다.
상기 롤맵 생성부(300)는 그 롤맵 생성부(300)에 저장된 전극 제조공정에서의 전극 길이 변화에 관한 데이터를 상기 노칭 제어부(100)로부터 전달되는 전극 좌표 정보에 반영하여 전극 제조공정의 각 세부공정, 예컨대, 코팅공정, 롤프레스공정 및 슬리팅공정에 있어서의 롤맵을 생성할 수 있다. 예컨대, 상기 롤맵 생성부(300)는 전극 제조공정을 관리하는 생산관리시스템(MES: Manufacturing Execution System) 또는 상기 생산관리시스템의 하나의 구성요소일 수 있다. 상기 코팅공정, 롤프레스공정 및 슬리팅공정도, 도 4와 유사하게 언와인더와 리와인더(RW) 사이에서 전극이 롤투롤 상태로 진행하면서 각 공정을 거치므로, 전극 라인의 전극 좌표 정보를 엔코더값 등으로부터 구할 수 있다. 또한, 전극이 당해 공정 중에 제거되거나(공정중 제거), 공정 종료후에 제거되는 경우(완공후 제거), 그 제거 길이도 전극 상에 표시된 기준점의 간격 변동으로 파악할 수 있다. 도 4와 같이, 기준점 계측기가 전극 제조공정에서의 전극 라인에 배치되므로, 상기 기준점 계측기로 전극 제거길이를 측정할 수 있다. 이러한 정보들은 모두 전극 MES에 저장되어 있다. 따라서, 노칭 제어부(100)로부터 전달되는 전극 좌표 정보만 특정되면, 이 정보에 상기 전극 제조공정에서 MES에 저장되었던 전극 길이 변화에 관한 데이터를 가감하여 당해 노칭 전극의 유래가 된 슬리팅 공정의 롤맵, 롤프레스 공정의 롤맵 및 전극 코팅공정의 롤맵을 역산하여 생성할 수 있다. 상기 생산관리시스템(MES)는 데이터 처리시스템으로서 중앙처리부, 연산부(200), 판정부 등을 구비하고 있어 상기 정보로부터 롤맵을 용이하게 생성할 수 있다. 또한, 소정의 데이터 시각화장치도 구비하여 상기 롤맵을 화면상에 시각화하여 표출할 수 있다. 소스가 되는 데이터로부터 도표나 그래프로 시각화하는 과정은 당해 기술분야에서 알려진 것이므로, 이에 관한 구체적인 설명은 생략하기로 한다.
도 3을 다시 참조하면, 상기 노칭 제어부(100)는 노칭 공정의 전극 라인의 좌표 정보를 조립공정의 MES(110)로 보내고 상기 조립공정의 MES(110)가 롤맵 생성부(300)로 좌표 정보를 보낼 수 있다. 노칭 공정 이후부터는 전극 제조공정(이른바, 전극 공정)이 아니라 조립공정에 속하므로, 노칭 제어부(100)는 조립공정의 MES(110)와 연결될 수 있다. 또한, 노칭 공정에서는 롤맵을 작성하지 않아도, 상기 좌표정보와 셀 아이디로부터 전극 제조공정에서의 전극 위치 추적은 가능하다. 다만, 노칭 공정과 그 전의 공정(예컨대 슬리팅 공정이나 롤프레스 공정)과의 연속성 및 상관성을 파악하기 위해서 상기 조립공정의 MES(110)에서 노칭 공정의 롤맵을 작성할 수도 있다. 이 경우, 상술한 노칭 공정에서 노칭 제어부(100)가 취득한 엔코더값, 셀 아이디, 피치정보 등이 이용될 수 있다. 실질적으로 노칭 제어부(100)가 노칭 전극 라인의 전극 좌표 정보를 취득하므로, 이를 좌표화하여 나타내면 그 자체로 노칭 공정의 롤맵이 된다(후술하는 도 6 참조).
매핑부(400)는 상기 생성된 롤맵의 좌표와 셀 아이디 좌표를 대조하여 특정 단위 전극이 유래한 전극 제조공정에서의 전극 위치를 도출한다. 상기 매핑부(400)는 데이터베이스에 축적된 데이터를 공통의 형식으로 변환해서 관리하는 데이터 웨어하우스(DW)일 수 있다. 데이터 웨어하우스는 데이터에 기반한 의사결정이 가능하고, 여러 소스의 데이터를 통합해서 분석이 가능하므로, 상기 연산부(200)로부터 셀 아이디 좌표와 상기 롤맵 생성부(300)로부터의 롤맵의 좌표를 대조 및 정합시키는 매핑작업을 통해서 노칭 공정의 특정 단위 전극이 유래한 전극 제조공정에서의 전극 위치를 도출할 수 있다.
매핑부(400)에 의한 전극 위치 추정과정은 하기와 같이 실시예와 도면을 참조하여 구체적으로 설명한다.
(제1 실시형태)
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 전극 위치 추적시스템(1000)의 전극 위치 추적과정을 나타낸 모식도이다.
도 6에 도시된 예에서, 노칭 제어부(100)로부터 저장된 피치 정보는 0.1 미터이고, 노칭 공정에서 롤투롤 상태로 이송되는 전극 라인의 전극 좌표 정보로부터 노칭 전극 라인의 길이(좌표)는 760미터인 것을 확인하였다.
또한, ECS 연산부(200)에서는 저장부(500)에 입력된 바코드-순번 정보를 대조하여, 노칭 공정의 특정 단위 전극에 인쇄된 바코드(셀 아이디)로부터 상기 특정 단위 전극의 순번이 5000번인 것을 알아내었고, 상기 피치 정보(0.1미터)와 순번을 곱하여 셀 아이디 좌표를 500미터로 연산하였다.
또한, 노칭 제어부(100)에 저장된 엔코더값 등을 롤맵 생성부(300)인 전극 MES에 전송하여 상기 전극 MES에서 롤프레스 공정의 롤맵, 전극 코팅공정의 롤맵을 절대좌표, 상대좌표별로 각각 생성하였다. 상기 연산부(200)에서 연산된 셀 아이디 좌표와 상기 전극 MES에서 생성된 롤맵 정보는 매핑부로 전송되어, 상기 매핑부(400)에서 이하와 같은 대조 과정을 통하여, 노칭 공정의 셀 번호 5000번의 특정 단위 전극이 롤프레스 공정의 전극의 어떤 위치 혹은 전극 코팅공정의 전극의 어떤 위치에서 유래하였는 지를 추적하였다.
구체적으로, 상기 매핑부(400)는 특정 단위 전극의 셀 아이디 좌표(500미터)에 전극 제조공정의 각 세부공정에서의 롤맵(롤프레스 롤맵, 코팅 롤맵)에 의해서 파악되는 전극 길이 감소값을 더한다. 통상, 전극 공정에서의 전극 길이 감소는 각 세부 공정 중의 전극 제거(공정중 제거) 또는 세부 공정 후의 전극 제거(완공후 제거) 중 적어도 하나에 의한 것이다.
상술한 바와 같이, 노칭 전극 라인의 특정 단위 전극의 셀 아이디 좌표는 500미터이다. 따라서, 이 500미터 지점에서 생산된 단위 전극에 기초한 반제품 또는 완제품 전지 셀에서 불량 등의 문제가 발생하였을 경우, 해당 셀을 분해하여 상기 셀 아이디를 확인함으로써, 전극 제조공정에서의 전극 위치를 추적할 수 있고, 이에 따라 불량이 어떤 전극 위치에서 유래하였는지 등의 셀 단위의 불량 원인 분석이 가능하다.
상기와 같이, 노칭 라인의 특정 단위 전극의 셀 아이디 좌표가 특정이 되면, 전극 제조공정의 각 세부 공정의 롤맵으로 파악되는 전극 길이 감소값을 더하여 상기 특정 단위 전극이 유래한 전극 제조공정에서의 전극 좌표를 구한다.
본 실시예에서는 상기 세부 공정으로 전극 코팅공정과 롤프레스 공정이 행해지고, 코팅공정의 롤맵과 롤프레스 공정의 롤맵을 사용하는 경우를 상정하였다. 참고로, 롤프레스 공정 후에 슬리팅 공정이 행해지고, 슬리팅 공정에서도 롤맵이 작성될 수 있지만, 전극 위치 추적공정의 원리는 동일하므로, 본 실시예에서는 슬리팅 공정에서의 전극 길이변화는 제외하고 전극 위치 추적과정을 설명하기로 한다. 또한, 슬리팅은 롤프레스된 전극을 길이방향으로 단순히 절단하는 것으로서, 전극 코팅공정이나 롤프레스공정에서와 같은 심한 전극 길이변화는 잘 발생하지 않는다. 따라서, 본 명세서에서는 슬리팅 공정의 롤맵은 제외하고 전극 위치추적과정을 설명한다. 하지만, 슬리팅 공정에서 롤맵이 작성되면, 본 실시예와 동일한 원리로 그 롤맵의 좌표를 대조하여 전극 위치를 추적할 수 있음은 물론이다.
도 6에서는 롤프레스 공정과의 대비를 위하여 노칭 전극 라인의 전극 좌표 정보와 셀 아이디 좌표를 이용하여 조립 MES에서 노칭 라인의 롤맵을 작성한 것이 도시되어 있다. 그러나, 상술한 바와 같이, 도 6에 도시된 노칭 공정의 롤맵은 설명의 편의를 위하여 도시한 것으로서, 전극 위치 추적에 있어서 반드시 필수적인 것은 아니다. 즉, 노칭 공정의 셀 아이디 좌표만 있으면, 전극 제조공정의 롤맵을 활용하여 전극 위치를 추적할 수 있다. 다만, 후술하는 바와 같이, 노칭 공정 내에서 전극이 제거된 경우 등에 있어서, 전극 제조공정과 유사하게 상기 전극 제거를 반영하는 노칭 공정의 롤맵을 작성하여 두면, 선행하는 롤프레스 공정의 롤맵과 연계하여 전극 위치 특정을 보다 용이하게 할 수 있다는 장점이 있다.
상기 노칭 공정에서 상기 특정 단위 전극의 셀 아이디 좌표가 변화된 이력이 없으면, 그 좌표를 기초로 전극 위치를 추적한다.
그러나, 노칭 공정 내에서 예컨대 전극을 일정 길이 제거한 공정중 제거가 있었던 경우에는, 그 제거된 전극의 길이를 더해 주어야 정확한 전극 위치 추적이 가능하다. 본 실시형태에는 노칭 공정 중에 전극이 제거된 것을 상정한 것이다. 노칭 공정 중에 제거된 전극은, 전극 상에 마킹된 복수개의 기준점 간격이 전극 제거로 인하여 변동되었을 때, 설정된 기준점 간격과 대비하는 것에 의하여 구할 수 있다. 이에 대해서는 후술하기로 한다.
도 6을 참조하면, 노칭 라인의 5000번 셀의 좌표가 500미터이고, 노칭 라인에서 30미터 전극이 제거(노칭 공정중 제거)된 경우, 노칭 공정 전의 롤프레스 공정에서의 롤맵의 좌표에서는 상기 단위 전극의 좌표가 530미터가 된다. 롤프레스 공정에서 상대좌표로 도시된 롤맵은 상술한 바와 같이, 노칭 공정을 기준으로 하면 절대좌표의 롤맵이 될 수 있다. 또한, 30미터 전극이 노칭 공정중 제거된 것을 감안하여 상대좌표로 도시된 롤프레스 롤맵의 전극 길이(좌표)는 790미터가 된다.
다음으로, 롤프레스 롤맵의 절대좌표로 도시된 롤맵을 참조한다. 롤프레스 공정후 20미터의 전극이 제거(완공후 제거)되었으므로, 이 제거된 길이를 더하면, 노칭 라인의 5000번 셀의 롤프레스 공정에서의 전극 좌표는 550미터가 되고, 전극 길이(좌표)는 810미터가 된다. 따라서, 노칭 라인 좌표가 500미터인 특정 단위 전극(셀 아이디 5000번)은 롤프레스 롤맵에서 550미터의 좌표를 가지는 전극에서 유래하였다는 것을 알 수 있다. 이로부터 적어도 롤프레스 공정에서의 전극 위치를 셀 단위로 추적할 수 있다.
나아가 전극 코팅공정에서의 전극 위치 추적과정을 설명한다. 롤프레스 롤맵의 절대좌표 기준으로 550미터의 전극 위치가 추적된 후, 롤프레스 공정중에 40미터의 전극이 제거된 것을 코팅공정의 상대좌표로 도시된 롤맵으로부터 확인할 수 있다. 따라서, 노칭 라인 좌표가 500미터인 특정 단위 전극(셀 아이디 5000번)의 전극 좌표는 550미터에서 590미터로 변경되고 전극 길이(좌표)는 850미터가 된다. 마지막으로 전극 코팅공정의 절대좌표로 도시된 롤맵과 상대좌표로 도시된 롤맵을 대조하여 전극 코팅공정후에 50미터 전극이 제거된 것을 확인하여, 전극 좌표를 수정한다. 이로부터 노칭 라인 좌표가 500미터인 특정 단위 전극(셀 아이디 5000번)의 전극 좌표는 590미터에서 640미터로 변경되고 전극 길이(좌표)는 900미터가 된다. 즉, 760미터의 노칭 라인의 전극은 원래 900미터의 길이를 가졌다는 것을 알 수 있으며, 셀 아이디 5000번의 단위 전극은 전극 코팅공정시 640미터 지점의 전극으로부터 제조되었다는 것을 파악할 수 있다.
이상과 같이, 특정 단위 전극의 노칭 라인의 좌표와, 상기 롤맵의 좌표를 대조하여 상기 특정 단위 전극이 유래한 롤프레스 공정의 전극 위치 또는 전극 코팅공정의 전극 위치를 추적할 수 있다.
도 5는 노칭 공정 중에 전극이 제거된 경우 그 제거 길이를 도출하는 과정을 설명하는 개략도이다.
노칭 공정의 전극에는 복수개의 기준점이 소정 간격으로 인쇄되어 있다. 도 4에는 이러한 기준점을 인식하는 기준점 인식기(40)가 도시되어 있다. 제1 기준점(M1)과 제2 기준점(M2) 사이에서 예컨대 전극 파단에 의하여 100미터의 전극 로스가 발생하였을 때, 제1 기준점(M1)의 위치값은 변하지 않지만, 제2, 제3 기준점(M2,M3)과 전극 종단부의 위치가 변동된다. 이러한 기준점 변동에 따라 상기 기준점 감지기(40) 및 이와 연동된 엔코더(30)가 변화된 기준점 위치값을 도출하면, 상기 노칭 제어부(100)가 설정된 기준점 위치값과 대비하여 파단된 전극 로스량이 제1기준점과 제2 기준점 사이에서 100미터가 된다는 것을 산출할 수 있다.
따라서, 노칭 공정 중에 전극이 파단 등으로 제거되어 기준점 사이 간격이 변동되었을 때, 도출된 기준점 위치값과 설정된 기준점 위치값을 대비하여 전극의 로스량(제거된 전극의 길이)을 산출할 수 있다.
(제2 실시형태)
도 7은 전극 코팅후 롤프레스 공정에서 전극이 연신되는 것을 나타낸 개략도이고, 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 전극 위치 추적방법을 나타낸 개략도이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 전극 코팅공정에서 코팅된 전극은, 롤프레스 공정에서 프레스롤(도시하지 않음)에 의하여 압연되어 소정 비율로 연신된다. 따라서, 노칭 공정의 단위 전극의 셀 아이디 좌표에 기초하여 전공정의 전극 위치를 추적할 경우에는, 이러한 전극 연신에 의한 좌표 변화도 반영할 필요가 있다. 즉, 상기 매핑부(400)는 전극 연신에 의하여 전극 길이가 증가되는 전극 증가분을 반영하여여 상기 특정 단위 전극이 유래한 전극 코팅공정에서의 전극 위치를 정확하게 도출할 수 있다.
도 8에는 롤프레스에 의한 전극 연신을 고려하여 전극 위치를 추적하는 실시예가 도시되어 있다. 도 8(c)는 상기 도 6에서 롤프레스 공정중 전극 제거를 반영하여 5000번의 단위 전극이 롤프레스 공정에서 590미터에서 유래하였고, 이 때의 전극 길이가 850미터로 된 것을 나타낸 것이다. 도 6에서는, 롤프레스에 의한 전극 연신을 고려하지 않았지만, 도 8에서는 이를 고려하여 전극 코팅공정의 전극 위치를 추적한 것이다.
도 8(a)는 전극 코팅공정이 완공된 후에 900미터의 전극 중 60미터가 제거된 것을 나타내는 절대좌표의 코팅공정 롤맵이다. 상기 완공후 제거부 60미터를 반영한 상대좌표의 코팅공정 롤맵이 도 8(b)이다. 도 8(b)의 롤맵은 전극 길이(좌표)가 840미터가 된다. 롤프레스에 의한 전극 연신이 생기면, 롤프레스 롤맵과 전극 코팅공정의 롤맵이 불일치하게 된다. 따라서, 전극이 연신된 만큼 롤맵을 보정하거나, 혹은 상기 연신에 따른 전극 길이 증가를 고려하여 전극 좌표를 구하여야 한다.
다시 도 8(c)를 참조하면, 롤프레스 공정에서 850미터의 길이를 가지는 전극에서 590미터의 좌표가 노칭 공정의 특정 단위 전극이 유래한 롤프레스 전극 위치이다.
이 롤프레스 전극 좌표 590미터를 전극이 연신된 소정 비율(850/840)로 나누면 583미터가 된다. 즉, 583미터가 노칭 공정의 단위 전극이 유래한 전극 코팅공정의 전극 위치가 된다. 다만, 이 경우에는 코팅공정 후에 60미터 전극이 제거되었으므로, 이 완공후 제거부의 전극 길이를 더하여야 진정한 코팅공정의 전극 좌표가 된다. 완공후 제거부 60미터를 더하면, 코팅공정의 전극 길이는 900미터이고, 상기 단위 전극이 유래한 전극 코팅공정의 전극 좌표는 643미터가 되어 전극 위치 추적이 완료된다.
이상, 도면과 실시예 등을 통해 본 발명을 보다 상세히 설명하였다. 그러나, 본 명세서에 기재된 도면 또는 실시예 등에 기재된 구성은 본 발명의 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
10: 전극
11: 유지부
12: 무지부
13: 전극 탭
P: 피치
T: 이음매 연결부재
M1,M2,M3: 제1~제3 기준점
UW: 언와인더
RW: 리와인더
100: 노칭 제어부
110: 조립 MES
200: 연산부
300: 롤맵 생성부
400: 매핑부
500: 저장부
20: 이음매 감지센서
30, 30U,30R: 엔코더
40: 기준점 감지기
50: 타발 장치
60: 식별표지 스캐너

Claims (15)

  1. 노칭 가공되는 단위 전극의 폭인 피치(pitch)정보가 저장되고, 노칭 공정에서 롤투롤 상태로 이송되는 전극 라인의 전극 좌표 정보 및 상기 단위 전극의 셀 아이디를 취득하는 노칭 제어부;
    상기 노칭 제어부로부터 취득된 피치 정보와 셀 아이디로부터 상기 노칭 공정에서 이동하는 특정 단위 전극의 위치인 셀 아이디 좌표를 연산하는 연산부;
    전극 길이방향 치수가 좌표로 표시되어 노칭 공정 전의 전극 제조공정에서의 전극 길이변화를 파악할 수 있는 롤맵을 상기 노칭 제어부로부터 전달되는 전극 좌표 정보로부터 생성하는 롤맵 생성부; 및
    상기 롤맵의 좌표와 상기 셀 아이디 좌표를 대조하여 특정 단위 전극이 유래한 전극 제조공정에서의 전극 위치를 도출하는 매핑부를 포함하는 전극 위치 추적시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 노칭 공정에서 롤투롤 상태로 이송되는 전극 라인의 전극 좌표 정보는, 노칭 공정에서 언와인더와 리와인더 사이에서 전극이 롤투롤 이송될 때, 상기 언와인더와 리와인더의 회전량에 따른 전극 위치를 나타내는 엔코더값 정보인 전극 위치 추적시스템.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 단위 전극의 셀 아이디는 노칭 공정에서 타발 가공되는 전극 탭에 표시되는 식별표지이고, 상기 식별표지는 롤투롤 이송되는 전극의 상부에 배치되며 상기 노칭 제어부와 연결된 식별표지 스캐너에 의해 취득되는 전극 위치 추적 시스템.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 연산부는, 상기 식별표지로부터 상기 특정 단위 전극의 순번을 구하고, 상기 순번과 상기 피치를 곱하여 상기 셀 아이디 좌표를 구하는 전극 위치 추적 시스템.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 단위 전극의 식별표지에 따른 순번이 저장되는 저장부를 더 포함하고,
    상기 연산부는 상기 단위 전극의 식별표지와 상기 저장부에 저장된 순번을 대조하여 상기 특정 단위 전극의 순번을 구하는 전극 위치 추적시스템.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 노칭 공정 전의 전극 제조공정은 전극 활물질을 집전체에 코팅하여 코팅 전극을 형성하는 코팅공정 및 코팅 전극을 프레스롤로 압연하는 롤프레스공정을 적어도 포함하는 전극 위치 추적시스템.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 노칭 공정 전의 전극 제조공정은 상기 롤프레스 공정 후에 압연된 전극을 길이방향을 따라 절단하는 슬리팅공정을 더 포함하는 전극 위치 추적시스템.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 롤맵 생성부는, 상기 롤맵 생성부에 저장된 전극 제조공정에서의 전극 길이 변화에 관한 데이터를 상기 노칭 제어부로부터 전달되는 전극 좌표 정보에 반영하여 전극 제조공정의 각 세부 공정에 있어서의 롤맵을 각 세부 공정별로 생성하는 전극 위치 추적시스템.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 롤맵의 좌표는, 전극 길이 변화가 반영된 상대좌표와 반영되지 않은 절대좌표를 포함하는 전극 위치 추적시스템.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 매핑부는,
    상기 특정 단위 전극의 셀 아이디 좌표에 상기 전극 제조공정의 각 세부 공정에 있어서의 롤맵에 의해서 파악되는 전극 길이 감소값을 더하여 상기 특정 단위 전극이 유래한 전극 제조공정의 각 세부 공정에서의 전극 위치를 도출하는 전극 위치 추적시스템.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 전극 길이 감소는, 각 세부 공정 중의 전극 제거 또는 세부 공정 후의 전극 제거 중 적어도 하나에 의한 것인 전극 위치 추적시스템.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 매핑부는, 상기 노칭 공정 중에 전극이 제거된 경우 상기 제거된 전극의 길이와 상기 각 세부 공정의 롤맵에 의해서 파악되는 전극 길이 감소값을 상기 특정 단위 전극의 셀 아이디 좌표에 더하여 상기 특정 단위 전극이 유래한 각 세부 공정에서의 전극 위치를 도출하는 전극 위치 추적시스템.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 전극 제조공정의 각 세부 공정에 전극 코팅공정과 롤프레스 공정이 적어도 포함되어, 상기 전극 코팅공정 완공 후의 전극이 롤프레스 공정에서의 전극 압연에 의하여 소정 비율로 연신될 때,
    상기 매핑부는 상기 전극 연신에 의하여 전극 길이가 증가되는 전극 증가분을 반영하여 상기 특정 단위 전극이 유래한 상기 전극 코팅공정에서의 전극 위치를 도출하는 전극 위치 추적시스템.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 매핑부는, 상기 특정 단위 전극의 셀 아이디 좌표에 상기 롤프레스 공정의 롤맵으로 파악되는 전극 길이 감소값을 더하여 상기 특정 단위 전극이 유래한 롤프레스 전극 위치를 구하고,
    상기 롤프레스 전극 위치를 상기 소정 비율로 나누어 상기 특정 단위 전극이 유래한 전극 코팅공정의 전극 위치를 구하는 전극 위치 추적시스템.
  15. 제7항에 있어서,
    상기 롤맵 생성부는 상기 코팅공정, 롤프레스공정 및 슬리팅 공정의 롤맵을 각각 생성하고,
    상기 매핑부는, 상기 셀 아이디 좌표와, 상기 코팅공정, 롤프레스공정 및 슬리팅 공정의 롤맵의 좌표를 대조하여 상기 특정 단위 전극이 유래한 상기 슬리팅 공정, 롤프레스 공정 또는 전극 코팅공정에서의 전극 위치를 도출하는 전극 위치 추적시스템.
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