KR102582662B1 - Blue photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 산란입자, 청색 착색제, 카도계 바인더 수지, 광중합 개시제, 광중합성 화합물, UV 흡수제 및 용제를 포함하는 청색 감광성 수지 조성물로서, 상기 상기 UV흡수제는 벤조트리아졸계 및 트리아진계 중 하나 이상을 포함하는 것인 청색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치에 대한 것이다. The present invention is a blue photosensitive resin composition comprising scattering particles, a blue colorant, a cardo-based binder resin, a photopolymerization initiator, a photopolymerizable compound, a UV absorber, and a solvent, wherein the UV absorber is one or more of benzotriazole-based and triazine-based. It relates to a blue photosensitive resin composition comprising a blue photosensitive resin composition, a color filter manufactured using the same, and an image display device.

Description

청색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치{BLUE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER AND IMAGE DISPLAY DEVICE PRODUCED USING THE SAME}Blue photosensitive resin composition, color filter and image display device manufactured using the same {BLUE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER AND IMAGE DISPLAY DEVICE PRODUCED USING THE SAME}

본 발명은 청색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a blue photosensitive resin composition, a color filter manufactured using the same, and an image display device.

컬러필터는 백색광에서 적색, 녹색 및 청색의 3가지 색을 추출하여 미세한 화소단위로 가능하게 하는 박막 필름형 광학부품으로서, 한 화소의 크기가 수십에서 수백 마이크로미터 정도이다. 이러한 컬러필터는 각각의 화소 사이의 경계부분을 차광하기 위하여 투명 기판 상에 정해진 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스 층 및 각각의 화소를 형성하기 위해 복수의 색(통상적으로 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B))의 3원색을 정해진 순서로 배열한 화소부가 차례로 적층된 구조를 취하고 있다.A color filter is a thin film-type optical component that extracts three colors, red, green, and blue, from white light and enables them to be expressed in tiny pixel units. The size of one pixel is about tens to hundreds of micrometers. These color filters include a black matrix layer formed in a predetermined pattern on a transparent substrate to block light at the boundary between each pixel, and a plurality of colors (typically red (R), green (G) and It has a structure in which the pixel units in which the three primary colors (blue (B)) are arranged in a certain order are stacked one after another.

최근에는 컬러필터를 구현하는 방법 중의 하나로서, 안료 분산형의 감광성 수지를 이용한 안료 분산법이 적용되고 있으나, 광원에서 조사된 광이 컬러필터를 투과하는 과정에서 광의 일부가 컬러필터에 흡수되어 광 효율이 저하되고, 또한 색 필터에 포함되어 있는 안료의 특성으로 인하여 색재현이 저하되는 문제점이 발생하고 있다.Recently, as one of the methods of implementing a color filter, a pigment dispersion method using a pigment-dispersed photosensitive resin has been applied. However, as the light emitted from the light source passes through the color filter, part of the light is absorbed by the color filter and the light Efficiency is reduced, and color reproduction is reduced due to the characteristics of the pigment contained in the color filter.

이러한 문제점을 해결하기 위해 양자점을 포함하는 자발광 감광성 수지 조성물을 이용한 컬러필터 제조방법이 제안되었다.To solve this problem, a color filter manufacturing method using a self-luminous photosensitive resin composition containing quantum dots was proposed.

구체적으로 대한민국 공개특허 제2007-0094679호는 양자점(Quantum Dot)들로 형성된 컬러필터층을 가져 색 재현성을 높일 수 있다고 제시하고 있고, 대한민국 공개특허 제2009-0036373호는 기존의 컬러필터를 양자점 형광체로 이루어진 발광층으로 대치함으로써 발광 효율을 향상시켜 표시품질을 개선할 수 있다고 제시하고 있다.Specifically, Republic of Korea Patent Publication No. 2007-0094679 suggests that color reproducibility can be improved by having a color filter layer formed of quantum dots, and Republic of Korea Patent Publication No. 2009-0036373 suggests that existing color filters can be converted into quantum dot phosphors. It is suggested that display quality can be improved by improving luminous efficiency by replacing it with a light-emitting layer made up of a light-emitting layer.

또한, 현재까지 컬러필터를 제조하기 위해 개발된 감광성 수지조성물은 우수한 패턴특성, 내열성 등의 요건을 충분히 만족시키지 못하였다.In addition, photosensitive resin compositions developed to date to manufacture color filters have not sufficiently satisfied the requirements such as excellent pattern characteristics and heat resistance.

대한민국 공개특허 제2007-0094679호Republic of Korea Patent Publication No. 2007-0094679 대한민국 공개특허 제2009-0036373호Republic of Korea Patent Publication No. 2009-0036373

본 발명은, 현상속도가 우수하여 공정성이 우수하고, 경화막으로 형성시 내열성이 우수하여 고온에서 황변이 발생하지 않아 발광세기의 변화 없으며, 일정한 값의 미세패턴 형성이 가능하여 우수한 패턴 특성을 가져 미세화소의 구현 불량 문제를 개선한 컬러필터, 특히 자발광 컬러필터 구현이 가능한 청색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has excellent processability due to its excellent development speed, has excellent heat resistance when formed as a cured film, so yellowing does not occur at high temperatures, so there is no change in luminous intensity, and it has excellent pattern characteristics by enabling the formation of fine patterns of a certain value. The purpose of the present invention is to provide a color filter that improves the problem of poor implementation of fine pixels, particularly a blue photosensitive resin composition capable of implementing a self-luminous color filter, and a color filter and image display device manufactured using the same.

산란입자, 청색 착색제, 카도계 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, UV흡수제 및 용제를 포함하는 청색 감광성 수지 조성물로서, 상기 UV흡수제는 벤조트리아졸계 및 트리아진계 중 하나 이상을 포함하는 것인, 청색 감광성 수지 조성물을 제공한다. A blue photosensitive resin composition comprising scattering particles, a blue colorant, a cardo-based binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, a UV absorber, and a solvent, wherein the UV absorber includes at least one of benzotriazole-based and triazine-based, A blue photosensitive resin composition is provided.

또한 본 발명은 상술한 청색 감광성 수지 조성물로 이루어진 청색 패턴층을 포함하는 컬러필터를 제공한다.Additionally, the present invention provides a color filter including a blue pattern layer made of the above-described blue photosensitive resin composition.

또한 본 발명은 상기 컬러필터; 및 청색광을 방출하는 광원;을 포함하는 화상표시장치를 제공한다.Additionally, the present invention provides the color filter; and a light source that emits blue light.

본 발명은 상기 청색 감광성 수지 조성물에 벤조트리아졸계 및 트리아진계 중 하나 이상을 포함하는 UV흡수제를 포함함으로써, 내열성이 우수하여 고온에서 황변이 발생하지 않아 발광세기의 변화 없으며, 일정한 값의 미세패턴 형성이 가능하여 우수한 패턴 특성을 가져 미세화소의 구현 불량 문제를 개선한 컬러필터, 특히 자발광 컬러필터 구현이 가능 할 수 있다. 또한, 우수한 시야각을 갖는 고품질 화질의 자발광 컬러필터를 제공할 수 있다.The present invention includes a UV absorber containing at least one of benzotriazole and triazine in the blue photosensitive resin composition, so that it has excellent heat resistance and does not cause yellowing at high temperatures, so there is no change in luminous intensity, and a fine pattern of a constant value is formed. This makes it possible to implement a color filter that has excellent pattern characteristics and improves the problem of poor implementation of fine pixels, especially a self-luminous color filter. In addition, it is possible to provide a self-luminous color filter with high quality image quality and an excellent viewing angle.

본 발명의 청색 감광성 수지 조성물은 산란입자, 청색 착색제, 바인더 수지로써 카도계 바인더 수지, 광중합 개시제, 광중합성 화합물, 열경화제 및 용제를 포함할 수 있으며, 특히, 상기 UV흡수제는 벤조트리아졸계 및 트리아진계 중 하나 이상을 포함함으로, 본 발명의 청색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 청색 패턴층을 포함하는 컬러필터는 열적내성이 우수하여 고온에서 황변이 발생하지 않아 발광세기의 변화 없으며, 일정한 값의 미세패턴 형성이 가능하여 미세화소의 구현 불량 문제를 개선한 컬러필터, 특히 자발광 컬러필터를 제공 할 수 있다. 또한, 우수한 시야각을 갖는 고품질 화질의 컬러필터, 특히 자발광 컬러필터 및 이를 포함하는 화상표시 장치를 제공할 수 있다.The blue photosensitive resin composition of the present invention may include scattering particles, a blue colorant, a cardo-based binder resin as a binder resin, a photopolymerization initiator, a photopolymerizable compound, a heat curing agent, and a solvent. In particular, the UV absorber may include benzotriazole-based and triazine-based binder resins. By containing at least one of the true systems, the color filter including the blue pattern layer manufactured using the blue photosensitive resin composition of the present invention has excellent thermal resistance, does not cause yellowing at high temperatures, does not change the luminous intensity, and maintains a constant value. Since fine patterns can be formed, it is possible to provide color filters that improve the problem of poor implementation of fine pixels, especially self-luminous color filters. In addition, it is possible to provide a high-quality color filter with an excellent viewing angle, especially a self-luminous color filter, and an image display device including the same.

이하, 본 발명의 구성을 상세히 설명한다. Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail.

산란입자scattering particles

본 발명의 산란입자는 평균입경이 10 내지 1000 nm의 평균입경을 가지는 금속 산화물 일 수 있으며, 평균입경이 30 내지 300 nm범위 일 경우 보다 바람직 하다. 이때 평균 입경이 상기 범위 미만일 경우, 입사된 빛의 충분한 산란 효과를 기대할 수 없고, 평균 입경이 상기 범위 초과일 경우에는 조성물 내에 가라 앉거나 균일한 품질의 자발광층 표면을 얻을 수 없다. The scattering particles of the present invention may be metal oxides having an average particle diameter of 10 to 1000 nm, and more preferably, the average particle diameter is in the range of 30 to 300 nm. At this time, if the average particle diameter is less than the above range, a sufficient scattering effect of incident light cannot be expected, and if the average particle diameter is greater than the above range, the particle sinks in the composition or a self-luminous layer surface of uniform quality cannot be obtained.

상기 금속산화물은 Li, Be, B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Rb, Sr, Y, Mo, Cs, Ba, La, Hf, W, Tl, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Ti, Sb, Sn, Zr, Nb, Ce, Ta, In 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종의 금속을 포함하는 산화물일 수 있다. 보다 구체적으로 Al2O3, SiO2, ZnO, ZrO2, BaTiO3, TiO2, Ta2O5, Ti3O5, ZnO, Nb2O3, SnO 및 MgO및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상 일 수 있다. 필요한 경우 아크릴레이트 등의 불포화 결합을 갖는 화합물로 표면 처리된 재질도 사용 가능하다.The metal oxides include Li, Be, B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Rb, Sr, Y, Mo, Cs, Ba, La, Hf, W, Tl, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Ti, Sb, Sn, Zr, Nb, It may be an oxide containing one type of metal selected from the group consisting of Ce, Ta, In, and combinations thereof. More specifically, Al 2 O 3 , SiO 2 , ZnO, ZrO 2 , BaTiO 3 , TiO 2 , Ta 2 O 5 , Ti 3 O 5 , ZnO, Nb 2 O 3 , SnO and MgO, and the group consisting of combinations thereof. There may be one or more selected types. If necessary, materials surface treated with a compound having an unsaturated bond such as acrylate can also be used.

상기 산란입자는 컬러필터의 발광 세기를 충분히 향상시킬 수 있도록 평균입경 및 전체 조성물 내의 함량을 필요에 따라 적절히 조절 할 수 있다.The average particle diameter and content of the scattering particles in the total composition can be appropriately adjusted as needed to sufficiently improve the luminous intensity of the color filter.

또한, 상기 산란입자는 청색 감광성 수지 중의 고형분 총 중량에 대하여 0.1 내지 50중량%으로 포함 될 수 있으며, 바람직하기로 5 내지 30 중량%로 사용할 수 있다. 산란입자가 상기 바람직한 범위 내에 있으면, 발광세기의 증가 효과를 얻을 수 있고, 조성물의 안정성을 확보할 수 있다. Additionally, the scattering particles may be included in an amount of 0.1 to 50% by weight, preferably 5 to 30% by weight, based on the total weight of solids in the blue photosensitive resin. If the scattering particles are within the above preferred range, the effect of increasing the luminous intensity can be obtained and the stability of the composition can be ensured.

청색 착색제 blue colorant

본 발명의 청색 착색제에 있어서, 청색 안료로는 구체적으로 색지수(The society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 안료를 들 수 있지만, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니다. 청색 안료는 구체적으로 예를 들어, C.I. 피그먼트 블루 15:3, 15:4, 15:6, 16, 21, 28, 및 76 등을 들 수 있으며, C.I. 피그먼트 블루 15:3, 피그먼트 블루 15:6, 피그먼트 블루 16으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.In the blue colorant of the present invention, the blue pigment specifically includes compounds classified as pigments in the color index (published by The society of Dyers and Colourists), and more specifically, the color index (C.I.) as follows: The pigments of the numbers may be mentioned, but are not necessarily limited to these. The blue pigment is specifically, for example, C.I. Pigment Blue 15:3, 15:4, 15:6, 16, 21, 28, and 76, and C.I. It is preferable to include at least one selected from the group consisting of Pigment Blue 15:3, Pigment Blue 15:6, and Pigment Blue 16.

본 발명의 청색 착색제는 청색 염료를 더 포함할 수 있으며, 청색 염료로는 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)내에 염료로 분류되어 있는 화합물 또는 염색 노트(색염사)에 기재되어 있는 공지의 염료를 들 수 있다.The blue colorant of the present invention may further include a blue dye, and the blue dye includes compounds classified as dyes in the color index (published by The Society of Dyers and Colourists) or known compounds described in the dyeing notes (color dyeing yarn). Dyes can be mentioned.

상기 추가로 사용할 수 있는 염료를 구체적으로 예를 들면, For specific examples of dyes that can be additionally used,

C.I. 솔벤트 염료로서,C.I. As a solvent dye,

C.I. 솔벤트 블루 5, 35, 36, 37, 44, 45, 59, 67 및 70 등을 들 수 있으며, C.I. 솔벤트 블루 35, 36, 44, 45 및 70 중 1종 이상을 포함함이 보다 바람직하다. C.I. Examples include Solvent Blue 5, 35, 36, 37, 44, 45, 59, 67 and 70, and C.I. It is more preferable to include one or more of Solvent Blue 35, 36, 44, 45 and 70.

또한, C.I. 애시드 염료로서,Additionally, C.I. As an acid dye,

C.I.애시드 블루 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324:1, 335 및 340등을 들 수 있으며, 그 중에서도 C.I. 애시드 블루 80 및 90중 1종이상을 포함함이 보다 바람직하다. C.I. Acid Blue 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103 , 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324: 1 , 335 and 340, among others, C.I. It is more preferable to include at least one of Acid Blue 80 and 90.

또한, C.I. 다이렉트 염료로서,Additionally, C.I. As a direct dye,

C.I.다이렉트 블루 38, 44, 57, 70, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 200, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 228, 229, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 247, 248, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275 및 293등을 들 수 있다.C.I. Direct Blue 38, 44, 57, 70, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113 , 114, 115, 117, 119, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 172, 173, 188, 189 , 190, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 200, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 228, 229, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 247, 248 , 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275 and 293.

C.I.모단토 블루 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83 및 84등을 들 수 있다. C.I. Modanto Blue 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, and 84.

상기 청색 염료는 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The above blue dyes can be used alone or in combination of two or more types.

본 발명의 청색 착색제는 추가 착색제로서, 자색 착색제를 더 포함할 수 있다. 자색착색제는 자색 안료 및 자색 염료 중 하나이상을 포함할 수 있으며, 상기 자색 안료는 구체적으로, C.I. 피그먼트 바이올렛 1, 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38등을 들 수 있으며, 그 중에서도 C.I. 피그먼트 바이올렛 23을 포함함이 보다 바람직 하다. The blue colorant of the present invention may further include a purple colorant as an additional colorant. The purple colorant may include one or more of a purple pigment and a purple dye, and the purple pigment is specifically, C.I. Pigment Violet 1, 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 and 38, among others, C.I. It is more preferable to include Pigment Violet 23.

자색염료는 구체적으로, C.I. 솔벤트 바이올렛, C.I.애시드 바이올렛, C.I.애시드 바이올렛, C.I.모단토 바이올렛 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The purple dye is specifically C.I. Solvent violet, C.I. Acid Violet, C.I. Acid Violet, C.I. Modanto Violet, etc. are included, but are not limited thereto.

구체적으로 상기 C.I. 솔벤트 바이올렛은 C.I. 솔벤트 바이올렛 8, 9, 13, 14, 36, 37, 47 및 49 등을 들 수 있으며, C.I. 솔벤트 바이올렛 13을 포함함이 보다 바람직 하다. C.I.애시드 바이올렛으로는 C.I. 애시드 바이올렛 6B, 7, 9, 17, 19 및 66 등을 들 수 있으며, C.I. 애시드 바이올렛 66을 포함함이 보다 바람직하다. C.I.다이렉트 바이올렛으로는 C.I.다이렉트 바이올렛 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103 및 104 등을 들 수 있다.Specifically, the above C.I. Solvent Violet is C.I. Examples include Solvent Violet 8, 9, 13, 14, 36, 37, 47, and 49, and C.I. It is more preferable to include Solvent Violet 13. C.I. Acid Violet is C.I. Acid Violet 6B, 7, 9, 17, 19 and 66, etc., C.I. It is more preferred to include Acid Violet 66. C.I. Direct Violet includes C.I. Direct Violet 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103 and 104. .

또한, C.I.모단토 바이올렛 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53 및 58 등을 들 수 있다.Also, C.I. Modanto Violet 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53 and 58. .

상기 청색 착색제는 청색 감광성 수지 중의 고형분 총 중량에 대하여 0.1 내지 50중량%를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 0.5 내지 30중량%고 사용할 수 있다. 청색 착색제의 함량이 상기 범위를 만족하는 경우, 외광 반사를 억제하고, 색의 발광 세기를 효과적으로 나타낼 수 있으며, 점도의 안정성을 확보할 수 있다. The blue colorant can be used in an amount of 0.1 to 50% by weight, preferably 0.5 to 30% by weight, based on the total weight of solids in the blue photosensitive resin. When the content of the blue colorant satisfies the above range, external light reflection can be suppressed, color emission intensity can be effectively displayed, and viscosity stability can be ensured.

양자점을 포함하는 자발광 감광성 수지의 경우, 양자 효율이 저하되어 그 성능이 떨어질 수 있고, 특히 청색 양자점의 경우 고가이기 때문에 비용상승의 문제가 있으며, 고온공정에 취약하여 공정의 제한이 있었으나, 본 발명에서는 청색 양자점을 포함하지 않음에도 청색 착색제 및 산란입자를 포함함으로써, 컬러필터, 특히 자발광 컬러필터의 청색 화소의 효율의 저하를 방지할 수 있다. In the case of self-luminous photosensitive resin containing quantum dots, quantum efficiency may decrease and its performance may deteriorate. In particular, blue quantum dots are expensive, so there is a problem of increased cost, and there are process limitations due to their vulnerability to high temperature processes. In the present invention, by including a blue colorant and scattering particles even though blue quantum dots are not included, it is possible to prevent a decrease in the efficiency of the blue pixel of a color filter, especially a self-luminous color filter.

바인더 수지binder resin

본 발명의 바인더 수지는, 카도계 바인더 수지를 포함한다. 상기 카도계 바인더 수지는 광이나 열의 작용에 의한 반응성 및 알칼리 용해성을 갖고, 착색재료의 분산매로서 작용한다. 본 발명의 청색 감광성 수지 조성물에 함유되는 카도계 바인더 수지는 산란입자에 대한 결합제수지로서 작용하고, 컬러필터의 제조를 위한 현상 단계에서 사용된 알칼리성 현상액에 용해 가능한 수지라면 제한되지 않는다.The binder resin of the present invention includes a cardo-based binder resin. The cardo-based binder resin has reactivity and alkali solubility under the action of light or heat, and acts as a dispersion medium for the coloring material. The cardo-based binder resin contained in the blue photosensitive resin composition of the present invention acts as a binder resin for scattering particles, and is not limited as long as it is a resin that is soluble in the alkaline developer used in the development step for manufacturing the color filter.

본 발명의 카도계 바인더 수지는 화학식 1-1 및 화학식 1-2로 표시되는 화합물 중 하나 이상을 포함하는 것일 수 있다.The cardo-based binder resin of the present invention may include one or more of the compounds represented by Formula 1-1 and Formula 1-2.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

[화학식 1-2][Formula 1-2]

상기 화학식 1-1 또는 화학식 1-2 에서,In Formula 1-1 or Formula 1-2,

R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 이며;R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently, and;

X는 수소 원자, 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 또는 수산기이고;X is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a hydroxyl group;

R5는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 5의 알킬기 이다.R 5 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

본 발명에서 상기 화학식 1-1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 2-1로 표시되는 화합물로 합성되고, 화학식 1-2로 표시되는 화합물은 화학식 2-2로 표시되는 화합물을 이용하여 합성될 수 있다.In the present invention, the compound represented by Formula 1-1 can be synthesized using the compound represented by Formula 2-1, and the compound represented by Formula 1-2 can be synthesized using the compound represented by Formula 2-2. .

본 발명에서 상기 화학식 1-1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 2-1로 표시되는 화합물로 합성되고, 화학식 1-2로 표시되는 화합물은 화학식 2-2로 표시되는 화합물을 이용하여 합성될 수 있다. In the present invention, the compound represented by Formula 1-1 can be synthesized using the compound represented by Formula 2-1, and the compound represented by Formula 1-2 can be synthesized using the compound represented by Formula 2-2. .

[화학식 2-1][Formula 2-1]

[화학식 2-2][Formula 2-2]

구체적으로, 상기 화학식 1-1로 표시되는 화합물은 화학식 1-1-1 및 화학식 1-1-2로 표시되는 화합물 중 하나 이상이고, 상기 화학식 1-2로 표시되는 화합물은 화학식 1-2-1 및 화학식 1-2-2로 표시되는 화합물 중 하나 이상일 수 있다. Specifically, the compound represented by Formula 1-1 is one or more of the compounds represented by Formula 1-1-1 and Formula 1-1-2, and the compound represented by Formula 1-2 is Formula 1-2- It may be one or more of the compounds represented by Formula 1 and Formula 1-2-2.

[화학식 1-1-1][Formula 1-1-1]

[화학식 1-1-2][Formula 1-1-2]

[화학식 1-2-1][Formula 1-2-1]

[화학식 1-2-2][Formula 1-2-2]

상기 카도계 바인더 수지는 9,9-비스(3-시나믹 디에스테르)플루오렌(9,9-bis(3-cinnamic diester)fluorene), 9,9-비스(3-시나모일, 4-하이드록시페닐)플루오렌(9,9-bis(3-cinnamoil, 4-hydroxyphenyl)fluorene), 9,9-비스(글리시딜 메타크릴레이트 에테르)플루오렌(9,9-bis(glycidyl methacrylate ether)fluorene), 9,9-비스(3,4-디하이드록시페닐)플루오렌 디시나믹 에스테르(9,9-bis(3,4-dihydroxyphenyl)fluorene dicinnamic ester), 3,6-디글리시딜 메타크릴레이트 에테르 스피로(플루오렌-9,9-잔텐)(3,6-diglycidyl methacrylate ether spiro(fluorene-9,9-xantene)), 9,9-비스(3-알릴, 4-하이드록시페닐플루오렌)(9,9-bis(3-allyl, 4-hydroxyphenylfluorene), 9,9-비스(4-알릴록시페닐)플루오렌(`9,9-bis(4-allyloxyphenyl)fluorene) 및 9,9-비스(3,4-메타크릴릭 디에스테르)플루오렌(9,9-bis(3,4-methacrylic diester)fluorene)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종과 산무수화합물로서 무수말레인산, 무수숙신산, 무수이타콘산, 무수프탈산, 무수테트라히드로프탈산, 무수헥사히드로프탈산, 무수메틸렌도 메틸렌테트라히드로프탈산, 무수클로로렌드산, 무수메틸테트라히드로프탈산으로 이루어진 군 또는 산2무수물로서 무수피로멜리트산, 벤조페논테트라카르복시산2무수물, 바이페닐테트라카르복시산2무수물, 바이테닐에테르테트라카르복시산2무수물 등의 방향족다가카르복시시산무수물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종과 반응을 시켜 제조할 수 있으나 이에 한정되지 않는다. The cardo-based binder resin is 9,9-bis (3-cinnamic diester) fluorene (9,9-bis (3-cinnamic diester) fluorene), 9,9-bis (3-cinnamoyl, 4-hyde Roxyphenyl) fluorene (9,9-bis (3-cinnamoil, 4-hydroxyphenyl) fluorene), 9,9-bis (glycidyl methacrylate ether) fluorene (9,9-bis (glycidyl methacrylate ether) fluorene), 9,9-bis (3,4-dihydroxyphenyl) fluorene dicinnamic ester (9,9-bis (3,4-dihydroxyphenyl) fluorene dicinnamic ester), 3,6-diglycidyl meta Crylate ether spiro (fluorene-9,9-xantene) (3,6-diglycidyl methacrylate ether spiro(fluorene-9,9-xantene)), 9,9-bis (3-allyl, 4-hydroxyphenyl fluoride) orene)(9,9-bis(3-allyl, 4-hydroxyphenylfluorene), 9,9-bis(4-allyloxyphenyl)fluorene(`9,9-bis(4-allyloxyphenyl)fluorene) and 9,9 -At least one selected from the group consisting of bis(3,4-methacrylic diester)fluorene (9,9-bis(3,4-methacrylic diester)fluorene) and an acid anhydride such as maleic anhydride, succinic anhydride, A group consisting of itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylenedomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlororendic anhydride, and methyltetrahydrophthalic anhydride, or acid dianhydrides such as pyromellitic anhydride and benzophenone. It can be prepared by reacting with at least one selected from the group consisting of aromatic polycarboxylic acid anhydrides such as tetracarboxylic dianhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, and bitenyl ether tetracarboxylic dianhydride, but is not limited to this.

본 발명은 바인더 수지로써 아크릴계 알칼리 가용성 수지가 더 포함될 수 있다. 상기 아크릴계 알칼리 가용성 수지는 예를 들면 카르복실기 함유 단량체, 및 이 단량체와 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체등을 들 수 있다. 카르복실기 함유 단량체로서는, 예를 들면 불포화 모노카르복실산이나, 불포화 디카르복실산, 불포화 트리카르복실산 등의 분자 중에 1개 이상의 카르복실기를 갖는 불포화 다가 카르복실산 등의 불포화 카르복실산 등을 들수 있다. 여기서, 불포화 모노카르복실산으로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등을 들 수 있다. 불포화 디카르복실산으로서는, 예를 들면 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 등을 들 수 있다. 불포화 다가 카르복실산은 산무수물일 수도 있으며, 구체적으로는 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. 또한, 불포화 다가 카르복실산은 그의 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르일 수도 있으며, 예를 들면 숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등을 들 수 있다. 불포화 다가 카르복실산은 그 양말단 디카르복시 중합체의 모노(메타)아크릴레이트일 수도 있으며, 예를 들면 ω-카르복시폴리카프로락톤 모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤 모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 카르복실기 함유 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 카르복실기 함유 단량체와 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예를 들면 스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, 인덴 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, i-프로필아크릴레이트, i-프로필메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, i-부틸메타크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프 로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이 트, 3-히드록시부틸아크릴레이트, 3-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜타디에닐아크릴레이트, 디시클로펜타디에틸메타크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 글리세롤모노아크릴레이트, 글리세롤모노메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 에스테르류; 2-아미노에틸아크릴레이트, 2-아미노에틸메타크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 2-아미노프로필아크릴레이트, 2-아미노프로필메타크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필메타크릴레이트, 3-아미노프로필아크릴레이트, 3-아미노프로필메타크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르류; 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 글리시딜에스테르류; 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 부티르산 비닐, 벤조산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르류; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 불포화 에테르류; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화 비닐리덴 등의 시안화 비닐 화합물; 아크릴아미드, 메타크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸아크릴아미드, N-2-히드록시에틸메타크릴아미드 등의 불포화 아미드류; 말레이미드, 벤질말레이미드, N-페닐말레이미드. N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드류; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공액 디엔류; 및 폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리-n-부틸아크릴레이트, 폴리-n-부틸메타크릴레이트, 폴리실록산의 중합체 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 거대 단량체류등을 들 수 있다. 이들 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 특히, 상기 카르복실기 함유 단량체와 공중합 가능한 다른 단량체로서 노르보닐 골격을 갖는 단량체, 아다만탄골격을 갖는 단량체, 로진 골격을 갖는 단량체 등의 벌키성 단량체가 비유전 상수값을 낮추는 경향이 있기 때문에 바람직하다.The present invention may further include an acrylic alkali-soluble resin as a binder resin. Examples of the acrylic alkali-soluble resin include a carboxyl group-containing monomer and a copolymer of this monomer with another copolymerizable monomer. Examples of the carboxyl group-containing monomer include unsaturated carboxylic acids such as unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids, and unsaturated tricarboxylic acids, etc., which have one or more carboxyl groups in the molecule. there is. Here, examples of unsaturated monocarboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid. Examples of unsaturated dicarboxylic acids include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, and mesaconic acid. The unsaturated polyhydric carboxylic acid may be an acid anhydride, and specific examples include maleic anhydride, itaconic anhydride, and citraconic anhydride. In addition, the unsaturated polyhydric carboxylic acid may be its mono(2-methacryloyloxyalkyl) ester, for example, mono(2-acryloyloxyethyl) succinic acid, mono(2-methacryloyloxyethyl succinic acid), ), mono(2-acryloyloxyethyl) phthalate, mono(2-methacryloyloxyethyl) phthalate, etc. The unsaturated polycarboxylic acid may be a mono(meth)acrylate of the dicarboxylic polymer at both ends, and examples include ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate, etc. . These carboxyl group-containing monomers can be used individually or in combination of two or more types. Other monomers copolymerizable with the carboxyl group-containing monomer include, for example, styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, and m-methoxystyrene. Toxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzyl methyl ether, m-vinylbenzyl methyl ether, p-vinylbenzyl methyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p- aromatic vinyl compounds such as vinylbenzyl glycidyl ether and indene; Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, n-butylacrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-hydroxy Ethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2- Hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, Allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxy Ethyl methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol Methacrylate, methoxypropylene glycol acrylate, methoxypropylene glycol methacrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, dicyclopenta Dienyl acrylate, dicyclopentadiethyl methacrylate, adamantyl (meth)acrylate, norbornyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy- Unsaturated carboxylic acid esters such as 3-phenoxypropyl methacrylate, glycerol monoacrylate, and glycerol monomethacrylate; 2-Aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethyl Unsaturated carboxyl such as aminopropyl acrylate, 2-dimethylaminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate, and 3-dimethylaminopropyl methacrylate. acid aminoalkyl esters; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate; unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, and allyl glycidyl ether; vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, and vinylidene cyanide; unsaturated amides such as acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl acrylamide, and N-2-hydroxyethyl methacrylamide; Maleimide, benzylmaleimide, N-phenylmaleimide. Unsaturated imides such as N-cyclohexylmaleimide; Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene, and chloroprene; and a monoacryloyl group or monomethacryloyl group at the end of the polymer molecule chain of polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly-n-butylacrylate, poly-n-butyl methacrylate, and polysiloxane. Examples include large monomers with These monomers can be used individually or in combination of two or more types. In particular, as other monomers copolymerizable with the carboxyl group-containing monomer, bulky monomers such as monomers having a norbornyl skeleton, monomers having an adamantane skeleton, and monomers having a rosin skeleton are preferred because they tend to lower the relative dielectric constant value. .

본 발명의 카도계 바인더 수지 및/또는 아크릴계 알칼리 가용성 수지로는 산가가 20 내지 200(KOH ㎎/g)의 범위가 바람직하다. 산가가 상기 범위에 있으면, 현상액 중의 용해성이 향상되어, 비-노출부가 쉽게 용해되고 감도가 증가하여, 결과적으로 노출부의 패턴이 현상시에 남아서 잔막율(film remaining ratio)을 개선하게 되어 바람직하다. 여기서 산가란, 아크릴계 중합체 1g을 중화하는 데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값이며, 통상적으로 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다. 또한, 겔 투과 크로마토그래피(GPC; 테트라히드로퓨란을 용출용제로 함)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량평균분자량(이하, 간단히 '중량평균분자량'이라고 한다)인 2,000 내지 200,000, 바람직하게는 3,000 내지 100,000인 카도계 바인더 수지 또는 아크릴계 알칼리 가용성 수지가 바람직하다. 분자량이 상기 범위에 있으면, 코팅 필름의 경도가 향상되어, 잔막율이 높고, 현상액 중의 비-노출부의 용해성이 탁월하고 해상도가 향상되는 경향이 있어 바람직하다.The cardo-based binder resin and/or acrylic alkali-soluble resin of the present invention preferably has an acid value in the range of 20 to 200 (KOH mg/g). If the acid value is in the above range, the solubility in the developer improves, the non-exposed portion is easily dissolved and the sensitivity increases, and as a result, the pattern of the exposed portion remains during development, thereby improving the film remaining ratio, which is desirable. Here, the acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of acrylic polymer, and can usually be obtained by titration using an aqueous potassium hydroxide solution. In addition, the weight average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter simply referred to as 'weight average molecular weight') measured by gel permeation chromatography (GPC; using tetrahydrofuran as an elution solvent) is 2,000 to 200,000, preferably 3,000 to 100,000. Cardo-based binder resin or acrylic-based alkali-soluble resin is preferred. When the molecular weight is within the above range, the hardness of the coating film is improved, the residual film rate is high, the solubility of non-exposed portions in the developer is excellent, and resolution tends to be improved, which is preferable.

카도계 바인더 수지 및/또는 아크릴계 알칼리 가용성 수지의 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]는 1.0 내지 6.0 인 것이 바람직하고, 1.5내지 6.0인 것이 보다 바람직하다. 분자량분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]가 1.5 내지 6.0이면 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다. The molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn)] of the cardo-based binder resin and/or acrylic alkali-soluble resin is preferably 1.0 to 6.0, and more preferably 1.5 to 6.0. It is preferable that the molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn)] is 1.5 to 6.0 because developability is excellent.

본 발명의 바인더 수지는 청색 감광성 수지 중의 고형분 총 중량에 대하여 5 내지 85중량%, 바람직하게는 5 내지 60중량%를 사용할 수 있다. 바인더 수지의 함유량이 상기의 범위 내에 있으면 현상액에의 용해성이 충분하여 비화소 부분의 기판상에 현상 잔사가 발생하기 어렵고, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 생기기 어려워 비화소 부분의 누락성이 양호한 경향이 있으므로 바람직하다. The binder resin of the present invention can be used in an amount of 5 to 85% by weight, preferably 5 to 60% by weight, based on the total weight of solid content in the blue photosensitive resin. If the content of the binder resin is within the above range, it has sufficient solubility in the developing solution, so it is difficult for development residues to occur on the substrate in the non-pixel portion, and it is difficult for film reduction in the pixel portion of the exposed area to occur during development, resulting in omission of the non-pixel portion. This is desirable because it tends to be good.

광중합성 화합물photopolymerizable compound

본 발명의 청색 감광성 수지 조성물에 함유되는 광중합성 화합물은 광 및 후술하는 광중합 개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 단관능 단량체, 2관능 단량체, 그 밖의 다관능 단량체 등을 들 수 있다. 단관능 단량체의 구체예로는 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 2관능 단량체의 구체예로는 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 밖의 다관능 단량체의 구체예로서는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2관능 이상의 다관능 단량체가 바람직하게 사용된다. 상기 광중합성 화합물은 청색 감광성 수지 조성물 중의 고형분 총 중량에 대하여 5 내지 50중량%, 바람직 하게는 5 내지 45질량%로 포함될 수 있다. 광중합성 화합물이 상술한 범위 내로 포함될 경우, 광감도의 저감이 없어, 필름의 강도가 충분하고, 현상시 패턴의 소실이 없어, 미세패턴부에서도 패턴의 구축이 양호하며, 레지스트의 평활성이 양호하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다.The photopolymerizable compound contained in the blue photosensitive resin composition of the present invention is a compound that can be polymerized by the action of light and a photopolymerization initiator described later, and includes monofunctional monomers, difunctional monomers, and other polyfunctional monomers. Specific examples of monofunctional monomers include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and N-vinylpyrroli. Examples include money, etc. Specific examples of bifunctional monomers include 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, Bis(acryloyloxyethyl)ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol di(meth)acrylate, etc. are mentioned. Specific examples of other polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol penta(meth)acrylate, and dipenta. Erythritol hexa(meth)acrylate, etc. can be mentioned. Among these, polyfunctional monomers having two or more functions are preferably used. The photopolymerizable compound may be included in an amount of 5 to 50% by weight, preferably 5 to 45% by weight, based on the total weight of solids in the blue photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is contained within the above-mentioned range, there is no decrease in photosensitivity, the strength of the film is sufficient, there is no loss of the pattern during development, good pattern construction is achieved even in the fine pattern area, and the smoothness of the resist is good. It is desirable because there is a tendency.

광중합 개시제photopolymerization initiator

본 발명에서 사용되는 상기 광중합 개시제는 하기의 하기의 화학식3 내지 화학식 5으로 표시되는 화합물 중에서 선택되는 적어도 1종 이상을 포함할 수 있으며, 화학식 3 내지 화학식 5로 표시되는 화합물을 포함함으로써 감광성 수지 조성물의 라디칼 반응을 개시시켜, 경화를 일으키고, 감도를 향상시키는 효과를 갖는다. The photopolymerization initiator used in the present invention may include at least one selected from the compounds represented by Formulas 3 to 5 below, and includes the compounds represented by Formulas 3 to 5 to form a photosensitive resin composition. It has the effect of initiating a radical reaction, causing hardening, and improving sensitivity.

[화학식 3][Formula 3]

화학식 3에서 R8은 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 벤질기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 나프틸기 또는 -SRa일 수 있고, Ra는 수소, 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 벤질기등 일 수 있다.In Formula 3, R 8 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a phenyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a benzyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. It may be a substituted or unsubstituted naphthyl group or -SR a , and R a may be hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a benzyl group.

R9 내지 R12는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 벤질기, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 나프틸기이며, 상기 R11 과 R12는 고리를 형성할수 있다. R 9 to R 12 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a phenyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a benzyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a C 1 to 12 alkyl group. It is a naphthyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group of 12, and R11 and R12 may form a ring.

화학식 3으로 표시되는 화합물의 예로, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-프로필-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-부틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-메틸-2-메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디에틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온 등이 있다.Examples of compounds represented by Formula 3 include 2-methyl-2-amino(4-morpholinophenyl)ethan-1-one, 2-ethyl-2-amino(4-morpholinophenyl)ethan-1-one, , 2-propyl-2-amino(4-morpholinophenyl)ethan-1-one, 2-butyl-2-amino(4-morpholinophenyl)ethan-1-one, 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl)propan-1-one, 2-methyl-2-amino(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-ethyl-2-amino(4-morpholinophenyl) Propan-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-methyl-2-methylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, 2 -Methyl-2-dimethylamino(4-morpholinophenyl)propan-1-one, 2-methyl-2-diethylamino(4-morpholinophenyl)propan-1-one, etc.

[화학식 4][Formula 4]

상기 화학식4에 있어, In Formula 4 above,

R14는 구조는 예를 들면 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬, 탄소수 3 내지 8의 사이클로알킬, 또는 치환되지 않거나 치환된 페닐이거나, 이며, 그 중 n은 1~4인 정수이고, m은 1~6인 정수이며;The structure of R 14 is, for example, hydrogen, alkyl with 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl with 3 to 8 carbon atoms, or unsubstituted or substituted phenyl, , where n is an integer from 1 to 4, and m is an integer from 1 to 6;

R15는 1~8 개의 탄소를 가진 알킬기, 페닐기, 치환 페닐기, 벤질기 또는 치환 벤질기;R 15 is an alkyl group having 1 to 8 carbons, a phenyl group, a substituted phenyl group, a benzyl group, or a substituted benzyl group;

R13은 디페닐술파이드기, 치환 디페닐술파이드기, 카르바졸기, 치환 카르바졸기, 플루오렌기, 또는 치환 플루오렌기이다.R 13 is a diphenyl sulfide group, a substituted diphenyl sulfide group, a carbazole group, a substituted carbazole group, a fluorene group, or a substituted fluorene group.

[화학식 5][Formula 5]

상기 화학식 5에 있어, R16, R17 및 R18은 각각 독립적으로 R, OR, COR, SR, CONRR', ROR'또는 CN을 나타내며; In Formula 5, R 16 , R 17 and R 18 each independently represent R, OR, COR, SR, CONRR', ROR' or CN;

R 및 R'는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 7 내지 30의 아랄킬기 또는 탄소수 2 내지 20의 복소환기를 나타내고, 이들은 할로겐 원자 및/또는 탄소수 2 내지 20의 복소환기로 치환될 수 있으며, 이들 중 알킬기 및 아랄킬기의 알킬렌 부분은 불포화 결합, 에테르 결합, 티오에테르 결합, 에스테르 결합에 의해 중단되어 있을 수 있고, 또한 R 및 R'는 함께 고리를 형성할 수 있으며;R and R' represent an alkyl group with 1 to 20 carbon atoms, an aryl group with 6 to 30 carbon atoms, an aralkyl group with 7 to 30 carbon atoms, or a heterocyclic group with 2 to 20 carbon atoms, and they represent a halogen atom and/or a heterocyclic group with 2 to 20 carbon atoms. It may be substituted with a ring, and among these, the alkylene portion of the alkyl group and aralkyl group may be interrupted by an unsaturated bond, an ether bond, a thioether bond, and an ester bond, and R and R' may form a ring together. There is;

Y1은 산소원자, 유황원자 또는 셀렌원자를 나타내고, Y 1 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a selenium atom,

r은 0~5의 정수를 나타내고; r represents an integer from 0 to 5;

s는 0 또는 1을 나타내며;s represents 0 or 1;

R19, R20, R21 및 R22는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자 또는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고; R 19 , R 20 , R 21 and R 22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms;

X1 및 X2는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 7 내지 30의 아랄킬기 또는 탄소수 2 내지 20의 복소환기를 나타내고, 이들은 할로겐 원자 및/또는 탄소수 2 내지 20의 복소환기로 치환될 수 있으며, 이들 중 알킬기 및 아랄킬기의 알킬렌 부분은 불포화 결합, 에테르 결합, 티오에테르 결합, 에스테르 결합에 의해 중단되어 있을 수 있고;X 1 and may be substituted with a heterocyclic group, and among these, the alkylene portion of the alkyl group and aralkyl group may be interrupted by an unsaturated bond, an ether bond, a thioether bond, and an ester bond;

X2는 인접한 고리의 탄소원자와 함께 고리를 형성할 수 있으며, 보다 구체적으로 탄소수 6 내지 30의 방향족 고리를 형성 할 수 있으며;X 2 may form a ring with the carbon atom of an adjacent ring, and more specifically, may form an aromatic ring having 6 to 30 carbon atoms;

Y2 및 Y3는 각각 독립적으로 산소원자, 유황원자 또는 셀렌원자를 나타낸다.Y 2 and Y 3 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or a selenium atom.

바람직하게는 상기 R 및 R'로 나타내는 알킬기로서는 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, 아밀, 이소아밀, tert-아밀, 헥실, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 2-에틸헥실, tert-옥틸, 노닐, 이소노닐, 데실, 이소데실, 비닐, 아릴, 부테닐, 에티닐, 프로피닐, 메톡시에틸, 에톡시에틸, 프로피록시에틸, 메톡시에톡시에틸, 에톡시에톡시에틸, 프로피록시에톡시에틸, 메톡시프로필, 모노플루오로메틸, 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 트리플루오로에틸, 퍼플루오로에틸, 2-(벤조옥사졸-2'-일)에테닐 등을 들 수 있고, 그 중에서도 탄소 원자수 1 내지 8의 알킬기가 바람직하다.Preferably, the alkyl groups represented by R and R' include, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, amyl, isoamyl, tert-amyl, hexyl, and heptyl. , octyl, isooctyl, 2-ethylhexyl, tert-octyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, vinyl, aryl, butenyl, ethynyl, propynyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, propyoxyethyl, Methoxyethoxyethyl, ethoxyethoxyethyl, propyoxyethoxyethyl, methoxypropyl, monofluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, trifluoroethyl, perfluoroethyl, 2-( Examples include benzoxazol-2'-yl)ethenyl, and among these, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable.

또한 R 및 R'로 나타내는 아릴기로서는 예를 페닐, 트릴, 크실릴, 에틸페닐, 클로로페닐, 나프틸, 안트릴(anthryl), 페난트레닐(phenanthrenyl) 등을 들 수 있고, 그 중에서도 탄소 원자수 6~12의 아릴기가 바람직하다. 또한 R 및 R'로 표시되는 아랄킬기로서는 예를 들면 벤질, 클로로벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질, 페닐에틸, 페닐에테닐 등의 탄소원자수 7~13의 아랄킬기를 바람직하게 들 수 있다. R 및 R'로 나타내는 복소환기로서는 예를 들면, 피리딜, 피리미딜, 푸릴(furyl), 티오페닐 등의 탄소 원자수 5~7의 복소환기를 바람직하게 들 수 있다. 또한 R 및 R'가 함께 되어 형성할 수 있는 고리(環)로서는 예를 들면 피페리딘 고리, 모르폴린 고리 등의 탄소 원자수 5~7의 고리를 바람직하게 들 수 있다. 또한 R 및 R'은 불소, 염소, 브롬, 요오드도 등의 할로겐 원소로 치환되거나 피리딜, 피리미딜, 푸릴, 벤조옥사졸-2-일, 테트라히드로피라닐, 피롤리딜(pyrrolidyl), 이미다졸리딜, 피라졸리딜(pyrazolidyl), 티아졸리딜(thiazolidyl), 이소티아졸리딜(isothiazolidyl), 옥사졸리딜(oxazolidyl), 이소옥사졸리딜(isooxazolidyl), 피페리딜(piperidyl), 피페라딜(piperadyl), 모르폴리닐 등의 탄소 원자수 5~7의 복소환기로 치환될 수 있다.In addition, examples of the aryl group represented by R and R' include phenyl, toryl, xylyl, ethylphenyl, chlorophenyl, naphthyl, anthryl, phenanthrenyl, etc., and among them, a carbon atom Aryl groups with numbers 6 to 12 are preferable. In addition, the aralkyl group represented by R and R' is preferably an aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms, such as benzyl, chlorobenzyl, α-methylbenzyl, α,α-dimethylbenzyl, phenylethyl, and phenylethenyl. I can hear it. Examples of the heterocyclic group represented by R and R' include preferably heterocyclic groups having 5 to 7 carbon atoms, such as pyridyl, pyrimidyl, furyl, and thiophenyl. Also, examples of the ring that can be formed by combining R and R' include rings having 5 to 7 carbon atoms, such as a piperidine ring and a morpholine ring. In addition, R and R' may be substituted with halogen elements such as fluorine, chlorine, bromine, or iodine, or may be substituted with pyridyl, pyrimidyl, furyl, benzoxazol-2-yl, tetrahydropyranyl, pyrrolidyl, or pyrrolidyl. Dazolidyl, pyrazolidyl, thiazolidyl, isothiazolidyl, oxazolidyl, isoxazolidyl, piperidyl, pipera It may be substituted with a heterocyclic group having 5 to 7 carbon atoms, such as piperadyl or morpholinyl.

바람직하게는 상기 X1 및 X2로 나타내는 알킬기로서는 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, 아밀, 이소아밀, tert-아밀, 헥실, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 2-에틸헥실, tert-옥틸, 노닐, 이소노닐, 데실, 이소데실, 비닐, 아릴, 부테닐, 에티닐, 프로피닐, 메톡시에틸, 에톡시에틸, 프로피록시에틸, 메톡시에톡시에틸, 에톡시에톡시에틸, 프로피록시에톡시에틸, 메톡시프로필, 모노플루오로메틸, 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 트리플루오로에틸, 퍼플루오로에틸, 2-(벤조옥사졸-2'-일)에테닐 등을 들 수 있고, 그 중에서도 탄소 원자수 1 내지 8의 알킬기가 바람직하다.Preferably, the alkyl groups represented by X 1 and Heptyl, octyl, isooctyl, 2-ethylhexyl, tert-octyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, vinyl, aryl, butenyl, ethynyl, propynyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, propyoxyethyl. , methoxyethoxyethyl, ethoxyethoxyethyl, propyoxyethoxyethyl, methoxypropyl, monofluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, trifluoroethyl, perfluoroethyl, 2- (benzooxazol-2'-yl)ethenyl, etc. are mentioned, and among them, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable.

또한, 상기 X1 및 X2로 나타내는 아릴기로서는 예를 페닐, 트릴, 크실릴, 에틸페닐, 클로로페닐, 나프틸, 안트릴(anthryl), 페난트레닐(phenanthrenyl) 등을 들 수 있고, 그 중에서도 탄소 원자수 6 내지 12의 아릴기가 바람직하다. 또한 상기 X1 및 X2로 표시되는 아랄킬기로서는 예를 들면 벤질, 클로로벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질, 페닐에틸, 페닐에테닐 등의 탄소수 7 내지 13의 아랄킬기를 바람직하게 들 수 있다. 상기 X1 및 X2로 나타내는 복소환기로서는 예를 들면, 피리딜, 피리미딜, 푸릴, 벤조옥사졸-2-일, 테트라히드로피라닐, 피롤리딜(pyrrolidyl), 이미다졸리딜, 피라졸리딜(pyrazolidyl), 티아졸리딜(thiazolidyl), 이소티아졸리딜(isothiazolidyl), 옥사졸리딜(oxazolidyl), 이소옥사졸리딜(isooxazolidyl), 피페리딜(piperidyl), 피페라딜(piperadyl), 모르폴리닐, 티오페닐 등의 탄소 원자수 5 내지 7의 복소환기를 바람직하게 들 수 있다. In addition, examples of the aryl groups represented by X 1 and Among these, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms is preferable. In addition , as the aralkyl group represented by X 1 and It can be heard. Examples of the heterocyclic groups represented by X 1 and pyrazolidyl, thiazolidyl, isothiazolidyl, oxazolidyl, isoxazolidyl, piperidyl, piperadyl, mor Preferred examples include heterocyclic groups having 5 to 7 carbon atoms, such as polynyl and thiophenyl.

또한, X1 및 X2로로 나타내는 할로겐 원자로서는 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다. Additionally, halogen atoms represented by X 1 and X 2 include fluorine, chlorine, bromine, and iodine.

또한 X1 및 X2로 나타내는 알킬기는 할로겐 원자로 치환된 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, 아밀, 이소아밀, tert-아밀, 헥실, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 2-에틸헥실, tert-옥틸을 들 수 있다.In addition, the alkyl groups represented by X 1 and , isooctyl, 2-ethylhexyl, and tert-octyl.

X2는 인접한 고리의 탄소원자와 함께 고리를 형성할 수 있으며, 보다 구체적으로 탄소수 6 내지 30의 방향족 고리 또는 탄소수 5 내지 10의 사이클로 화합물을 형성 할 수 있다. X 2 can form a ring with the carbon atom of an adjacent ring, and more specifically, it can form an aromatic ring with 6 to 30 carbon atoms or a cyclo compound with 5 to 10 carbon atoms.

R19, R20, R21 및 R22로 나타내는 할로겐 원자로서는 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다.Halogen atoms represented by R 19 , R 20 , R 21 and R 22 include fluorine, chlorine, bromine and iodine.

R19, R20, R21 및 R22로 나타내는 알킬기는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, 아밀, 이소아밀, tert-아밀, 헥실, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 2-에틸헥실, tert-옥틸을 들 수 있다.The alkyl group represented by R 19 , R 20 , R 21 and R 22 is methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, amyl, isoamyl, tert-amyl, hexyl, heptyl, Octyl, isooctyl, 2-ethylhexyl, and tert-octyl can be mentioned.

상기 화학식 5로 표시되는 화합물은 하기의 화합물일 수 있다.The compound represented by Formula 5 may be the following compound.

또한, 광중합 개시제로서 아세토페논계 화합물을 함유하는 것이 바람직하다. 아세토페논계 화합물로는, 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있고, 바람직하게는 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다. Additionally, it is preferable to contain an acetophenone-based compound as a photopolymerization initiator. Acetophenone-based compounds include, for example, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-1-[4-(2) -Hydroxyethoxy)phenyl]-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropane-1- one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl[4-(1-methylvinyl)phenyl]propane-1- oligomers, etc., and preferably 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one.

또한, 상기 화학식 3 내지 5로 표시되는 광중합 개시제는 하기 화학식 5-1 내지 5-8로 표시되는 구조를 포함할 수 있다.In addition, the photopolymerization initiator represented by the formulas 3 to 5 may include structures represented by the following formulas 5-1 to 5-8.

[화학식 5-1][Formula 5-1]

[화학식 5-2][Formula 5-2]

[화학식 5-3][Formula 5-3]

[화학식 5-4][Formula 5-4]

[화학식 5-5][Formula 5-5]

[화학식 5-6][Formula 5-6]

[화학식 5-7][Formula 5-7]

[화학식 5-8][Formula 5-8]

또한, 상기 아세토페논계 이외의 광중합 개시제를 조합하여 사용할 수 있다. Additionally, photopolymerization initiators other than the acetophenone series can be used in combination.

아세토페논계 이외의 광중합 개시제는 빛을 조사함으로써 활성 라디칼을 발생하는 활성 라디칼 발생제, 증감제, 산발생제 등을 들 수 있다. 활성라디칼 발생제로는, 예를 들면, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티옥산톤계 화합물, 트리아진계 화합물등을 들 수 있다. Photopolymerization initiators other than acetophenone series include active radical generators, sensitizers, and acid generators that generate active radicals by irradiating light. Examples of active radical generators include benzoin-based compounds, benzophenone-based compounds, thioxanthone-based compounds, and triazine-based compounds.

상기 벤조인계 화합물로는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조이소부틸에테르 등을 들 수 있다. 벤조페논계 화합물로는, 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다. Examples of the benzoin-based compounds include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoisobutyl ether. Examples of benzophenone-based compounds include benzophenone, o-benzoylmethyl benzoate, 4-phenylzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, and 3,3',4,4'-tetra ( t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, etc. are mentioned.

상기 티옥산톤계 화합물로는, 예를 들면, 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다. Examples of the thioxanthone-based compounds include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, and 1-chlorothioxanthone. -4-propoxythioxanthone, etc. can be mentioned.

상기 트리아진계 화합물로는, 예를 들면, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진,2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. Examples of the triazine-based compounds include 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl) )-6-(4-methoxynaphthyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-1,3,5- Triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloro Methyl)-6-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(4-diethylamino -2-methylphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine,2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(3,4dimethoxyphenyl)ethenyl]-1,3, 5-triazine, etc. can be mentioned.

상기 활성 라디칼 발생제로는, 예를 들면, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,2,-비스(o-클로르로페닐)-4,4', 5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포르퀴논, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등을 사용할 수 있다. 상기 산발생제로는 예를 들면, 4-히드록시페닐디메틸설포늄 p-톨루엔설포네이트, 4-히드록시페닐디메틸설포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸설포늄 p-톨루엔설포네이트, 4-아세톡시페닐메틸벤질설포늄헥사 플루오로안티모네이트, 트리페닐설포늄 p-톨루엔설포네이트, 트리페닐설포늄헥사플루오로안티모네이트, 디페닐요오도늄 p-톨루엔설포네이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등의 오늄염류나 니트로벤질토실레이트류, 벤조인토실레이트류 등을 들 수 있다. Examples of the active radical generator include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2,-bis(o-chlorophenyl)-4,4', 5,5'-tetra Phenyl-1,2'-biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene Compounds, etc. can be used. Examples of the acid generator include 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, and 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate. Nate, 4-acetoxyphenylmethylbenzylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium p-toluenesulfonate, Onium salts such as diphenyl iodonium hexafluoroantimonate, nitrobenzyl tosylate, and benzoin tosylate can be mentioned.

또한, 활성 라디칼 발생제로서 상기 화합물 중에는 활성 라디칼과 동시에 산을 발생하는 화합물도 있으며, 예를들면, 트리아진계 광중합 개시제는 산 발생제로서도 사용된다. In addition, among the above compounds as active radical generators, there are compounds that generate acids simultaneously with active radicals. For example, triazine-based photopolymerization initiators are also used as acid generators.

상기 광중합 개시제는 청색 감광성 수지 중의 고형분 총 중량에 대하여 0.1 내지 20중량%, 바람직하게는 0.3 내지 15중량% 포함될 수 있다. 상기의 범위에 있으면 청색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 이 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도나, 이 화소부의 표면에서의 평활성이 양호하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.1 to 20% by weight, preferably 0.3 to 15% by weight, based on the total weight of solids in the blue photosensitive resin. If it is within the above range, the blue photosensitive resin composition becomes highly sensitive and the intensity of the pixel portion formed using this composition and the smoothness on the surface of this pixel portion tend to be good, so it is preferable.

나아가, 본 발명에서는 광중합 개시 조제를 사용할 수 있다. 광중합 개시 조제는 광중합 개시제와 조합하여 사용되는 경우가 있으며, 광중합 개시제에 의해 중합이 개시된 광중합성 화합물의 중합을 촉진시키기 위해 사용되는 화합물이다. Furthermore, a photopolymerization initiation aid can be used in the present invention. A photopolymerization initiation aid may be used in combination with a photopolymerization initiator, and is a compound used to promote polymerization of a photopolymerizable compound whose polymerization has been initiated by the photopolymerization initiator.

광중합 개시 조제로서는, 아민계 화합물, 알콕시안트라센계 화합물, 티옥산톤계 화합물 등을 들수 있다.Examples of photopolymerization initiation aids include amine-based compounds, alkoxyanthracene-based compounds, and thioxanthone-based compounds.

아민계 화합물로는, 예를 들면, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 벤조산2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤즈페논(통칭, 미힐러즈케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있으며, 이 중에서도 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다. Amine-based compounds include, for example, triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 2-dimethylamino benzoate. Ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, N,N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis(dimethylamino)benzphenone (common name, Michler's ketone), 4,4'-bis(diethyl) Amino)benzophenone, 4,4'-bis(ethylmethylamino)benzophenone, etc. are mentioned, and among these, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone is preferable.

알콕시안트라센계 화합물로는, 예를 들면, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다. Alkoxyanthracene compounds include, for example, 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, and 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene. etc. can be mentioned.

티옥산톤계 화합물로는, 예를 들면, 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다. Thioxanthone-based compounds include, for example, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, and 1-chloro- 4-propoxythioxanthone, etc. can be mentioned.

광중합 개시제(D)는 단독으로 또는 복수를 조합하여 사용해도 지장이 없다. 또한, 광중합 개시 조제로서 시판되는 것을 사용할 수 있으며, 시판되는 광중합 개시 조제로는, 예를 들면, 상품명 「EAB-F」[제조원: 호도가야가가쿠고교가부시키가이샤] 등을 들 수 있다.There is no problem even if the photopolymerization initiator (D) is used individually or in combination of multiple photopolymerization initiators. Additionally, a commercially available photopolymerization initiation aid can be used. Examples of the commercially available photopolymerization initiation aid include the brand name "EAB-F" (manufacturer: Hodogaya Chemical Co., Ltd.).

이들 광중합 개시 조제를 사용하는 경우, 이의 사용량은 광중합 개시제 1몰당 통상적으로 10몰 이하, 바람직하게는 0.01~5몰이 바람직하다. 상기의 범위에 있으면 청색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 컬러필터의 생산성이 향상되는 경향이 있기 때문에 바람직하다.When using these photopolymerization initiation aids, the amount used is usually 10 mol or less, preferably 0.01 to 5 mol, per mole of photopolymerization initiator. If it is within the above range, the sensitivity of the blue photosensitive resin composition increases and the productivity of the color filter formed using this composition tends to improve, so it is preferable.

UV 흡수제UV absorber

본 발명에서는 UV흡수제가 패턴의 사이즈를 조절할 뿐만 아니라, 고온 공정 중 발생되는 황변을 방지하여 양자효율을 높게하는 효과가 있다는 것을 확인할 수 있었다.In the present invention, it was confirmed that the UV absorber not only controls the size of the pattern, but also has the effect of increasing quantum efficiency by preventing yellowing that occurs during the high-temperature process.

일반적으로 UV흡수제는 감광성 수지조성물의 시디 바이어스(CD bias)가 증가되어 미세 패턴을 구현할 수 없을 때 사용하는 것으로 알려져 있다. 이 때, 시디란 패턴의 양각부분을 의미하고, 시디 바이어스는 구현하려는 마스크 패턴보다 형성된 패턴 크기가 큰 정도를 의미한다. UV흡수제를 첨가하게 되면, UV를 일부 흡수함에 따라 회절에 의한 시디 바이어스를 저감할 수 있어, 원하는 패턴을 구현할 수 있게 된다. In general, UV absorbers are known to be used when the CD bias of the photosensitive resin composition increases and fine patterns cannot be realized. At this time, CD refers to the embossed portion of the pattern, and CD bias refers to the degree to which the size of the formed pattern is larger than the mask pattern to be implemented. When a UV absorber is added, the CD bias caused by diffraction can be reduced by absorbing some of the UV, making it possible to implement the desired pattern.

이와 더불어, 양자점은 취약한 내열성으로 인해, 컬러필터 제조 공정 중에서 발광 Intensity를 높게 유지하는 것이 어렵다. 이 때, UV흡수제를 첨가하게 되면, 여러 회에 걸친 Post-bake 후에도 높은 발광 Intensity를 유지할 수 있다. In addition, due to the weak heat resistance of quantum dots, it is difficult to maintain a high luminescence intensity during the color filter manufacturing process. At this time, if a UV absorber is added, high luminous intensity can be maintained even after several post-bakes.

본 발명에 따른 UV흡수제는 벤조트리아졸계 및 트리아진계 중 하나 이상을 포함한다.The UV absorber according to the present invention includes at least one of benzotriazole-based and triazine-based.

벤조트리아졸계 UV흡수제로서는 공지된 화합물을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 옥틸 3-[3-tert-부틸-4-히드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐]프로피오네이트, 2-에틸헥실 3-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐)프로피오네이트, [3-[3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-(1,1-메틸에틸)-4-히드록시페닐]-1-옥소프로필]-w-[3-[3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시페닐]-1-옥소프로폭시]폴리(옥시-1,2-에테인다이일), (3-(3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시페닐)-1-옥소프로필)-히드록시폴리(옥소-1,2-에테인다이일), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-디터트펜틸페놀, 3-(2H-벤조트리아졸일)-5-(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시-벤진프로피온산 옥틸 에스터, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(1-메틸-1-페닐에틸)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀 등이 바람직하다.As the benzotriazole-based UV absorber, known compounds can be used. Specifically, octyl 3-[3-tert-butyl-4-hydroxy-5-(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)phenyl]propionate, 2-ethylhexyl 3-(3 -tert-butyl-4-hydroxy-5-(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)phenyl)propionate, [3-[3-(2H-benzotriazol-2-yl) -5-(1,1-methylethyl)-4-hydroxyphenyl]-1-oxopropyl]-w-[3-[3-(2H-benzotriazol-2-yl)-5-(1, 1-dimethylethyl)-4-hydroxyphenyl]-1-oxopropoxy]poly(oxy-1,2-ethanediyl), (3-(3-(2H-benzotriazol-2-yl)- 5-(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxyphenyl)-1-oxopropyl)-hydroxypoly(oxo-1,2-ethanediyl), 2-(2H-benzotriazole-2- 1)-4,6-ditertpentylphenol, 3-(2H-benzotriazolyl)-5-(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxy-benzinepropionic acid octyl ester, 2-(2H-benzotria) Zol-2-yl)-4,6-bis(1-methyl-1-phenylethyl)phenol, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-6-(1-methyl-1-phenylethyl) -4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol, etc. are preferred.

트리아진계 UV흡수제로서는 공지된 화합물을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 2-(4,6-디메틸-1,3,5-트리아진-2-일)-5-((헥실)옥시)-페놀, 2-(4-(2-히드록시-3-트리데실옥시프로필)옥시)-2-히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(4-(2-히드록시-3-디데실옥시프로필)옥시)-2-히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-(3-(2-에틸헥실-1-옥시)-2-히드록시프로필옥시)페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,2'-[6-(2,4-다이부톡시페닐)-1,3,5-트리아진-2,4-다이일]비스(5-부톡시페놀), 6-메틸헵틸 2-{4-[4,6-디(4-비페닐일)-1,3,5-트리아진-2-일]-3-히드록시페녹시}프로파노에이트 등을 들 수 있다.As the triazine-based UV absorber, known compounds can be used. Specifically, 2-(4,6-dimethyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-((hexyl)oxy)-phenol, 2-(4-(2-hydroxy-3 -tridecyloxypropyl)oxy)-2-hydroxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine, 2-(4-(2-hydroxy- 3-Didecyloxypropyl)oxy)-2-hydroxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine, 2-(2-hydroxy-4- (3-(2-ethylhexyl-1-oxy)-2-hydroxypropyloxy)phenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine, 2,2 '-[6-(2,4-dibutoxyphenyl)-1,3,5-triazine-2,4-diyl]bis(5-butoxyphenol), 6-methylheptyl 2-{4- [4,6-di(4-biphenylyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-3-hydroxyphenoxy}propanoate, etc. are mentioned.

상기 UV 흡수제의 함량은 청색 감광성 수지 중의 고형분 총 중량에 대해 0.001 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.025 내지 7중량 %로 포함되는 것이 바람직하다. UV 흡수제의 함량이 상기 범위 이내일 경우에는 흡수제의 효과가 향상될 수 있으며, 광중합 개시제의 작용을 방해하지 않고 패턴을 잘 형성 할 수 있다.The content of the UV absorber is preferably 0.001 to 10% by weight, preferably 0.025 to 7% by weight, based on the total weight of solids in the blue photosensitive resin. When the content of the UV absorber is within the above range, the effect of the absorber can be improved, and a pattern can be well formed without interfering with the action of the photopolymerization initiator.

용제solvent

본 발명의 청색 감광성 수지 조성물에 함유되는 용제는 특별히 제한되지 않으며 청색 감광성 수지 조성물의 분야에서 사용되고 있는 각종 유기 용제를 사용할 수 있다. 그의 구체예로서는 에틸렌글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸 에테르, 에틸렌글리콜 모노프로필 에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸 에테르 등의 에틸렌글리콜 모노알킬 에테르류, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜 알킬에테르 아세테이트류, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸 아세테이트 및 메톡시펜틸 아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르 아세테이트류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논등의 케톤류, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류, γ-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들수 있다. 상기의 용제 중, 도포성, 건조성면에서 바람직하게는 상기 용제 중에서 비점이 100 내지 200인 유기 용제를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 3-에톡시프로피온산 에틸이나, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류를 들 수 있으며, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등을 들 수 있다. 이들 용제는 각각 단독으로 또는 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The solvent contained in the blue photosensitive resin composition of the present invention is not particularly limited, and various organic solvents used in the field of blue photosensitive resin compositions can be used. Specific examples thereof include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and diethylene. Diethylene glycol dialkyl ethers such as glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol Alkylene glycol alkyl ether acetates such as monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate, and methoxypentyl acetate, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and mesitylene, methyl ethyl ketone, and acetone. , Ketones such as methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, and glycerin, ethyl 3-ethoxypropionate, and 3-methoxy Ester, such as methyl propionate, and cyclic ester, such as γ-butyrolactone, are mentioned. Among the above solvents, organic solvents having a boiling point of 100 to 200 are preferred in terms of coating properties and drying properties, and more preferred are alkylene glycol alkyl ether acetates, ketones, and ethyl 3-ethoxypropionate. esters such as methyl 3-methoxypropionate, and more preferably esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl 3-ethoxypropionate, and 3-methoxy. Methyl propionate, etc. can be mentioned. These solvents can be used individually or in mixture of two or more types.

본 발명의 청색 감광성 수지 조성물 중의 용제의 함유량은 청색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 60 내지 90질량%, 바람직하게는 60 내지 85 질량% 포함될 수 있다. 용제의 함유량이 상기 범위이면 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 경향이 있기 때문에 바람직하다.The content of the solvent in the blue photosensitive resin composition of the present invention may be 60 to 90% by mass, preferably 60 to 85% by mass, based on the total weight of the blue photosensitive resin composition. If the solvent content is within the above range, it is preferable because the coating properties tend to be good when applied with a coating device such as a roll coater, spin coater, slit and spin coater, slit coater (sometimes called a die coater), or inkjet. .

첨가제additive

본 발명에 따른 청색 패턴층 청색 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 충진제, 다른 고분자 화합물, 안료 분산제. 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다.The blue pattern layer blue photosensitive resin composition according to the present invention may contain fillers, other polymer compounds, and pigment dispersants as needed. It may additionally contain additives such as adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, and anti-aggregation agents.

상기 다른 고분자 화합물로서는 구체적으로 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다. Specific examples of the other polymer compounds include curable resins such as epoxy resins and maleimide resins, and thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, and polyurethane. You can.

상기 안료 분산제로서는 시판되는 계면 활성제를 이용할 수 있고, 예를 들면 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성 등의 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. As the pigment dispersant, commercially available surfactants can be used, and examples include silicone-based, fluorine-based, ester-based, cationic, anionic, nonionic, and amphoteric surfactants. These may be used individually or in combination of two or more types.

상기의 계면 활성제로서, 예를 들면 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페에테르류, 폴리에틸렌글리콜 디에스테르류, 소르비탄 지방상 에스테르류, 지방산 변성 폴리에스테르류, 3급아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이 있으며 이외에, 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜ 제조), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜ 제조), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜ 제조), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜ 제조), 아사히가드(Asahi guard), 서플(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜ 제조), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(제네까㈜ 제조), EFKA(EFKA 케미칼스사 제조), PB 821(아지노모또㈜ 제조) 등을 들 수 있다. Examples of the above surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty esters, fatty acid-modified polyesters, and tertiary amine-modified polyurethanes. , polyethylene imines, etc. In addition, product names include KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), POLYFLOW (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), EFTOP (manufactured by Tochem Products Co., Ltd.), MEGAFAC (manufactured by Dainipbon Ink Chemicals Co., Ltd.), Flourad (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi guard, Surflon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), brush Examples include SOLSPERSE (manufactured by Zeneca Co., Ltd.), EFKA (manufactured by EFKA Chemicals Co., Ltd.), and PB 821 (manufactured by Ajinomoto Co., Ltd.).

상기 밀착 촉진제로서, 예를 들면 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 산화 방지제로서는 구체적으로 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-<81> t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다. As the adhesion promoter, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminoprotriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2 -(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyl Trimethoxysilane, etc. can be mentioned. Specific examples of antioxidants include 2,2'-thiobis(4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, and the like.

상기 자외선 흡수제로서는 구체적으로 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다. Specific examples of the ultraviolet absorber include 2-(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)-5-chlorobenzothyriazole, alkoxybenzophenone, and the like.

상기 응집 방지제로서는 구체적으로 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다.Specific examples of the anti-agglomeration agent include sodium polyacrylate.

상기 첨가제는 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 당업자가 적절히 추가하여 사용이 가능하다. 예컨대 상기 첨가제는 상기 청색 감광성 수지 조성물 전체 100 중량부에 대하여 0.05 내지 10 중량부, 바람직하게는 0.1 내지 10 중량부, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 중량부로 사용할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The above additives can be appropriately added and used by those skilled in the art as long as they do not impair the effect of the present invention. For example, the additive may be used in an amount of 0.05 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight, and more preferably 0.1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the blue photosensitive resin composition, but is not limited thereto.

본 발명에 따른 청색 감광성 수지 조성물은 예컨대 이하와 같은 방법에 의해 제조될 수 있다. 산란입자를 미리 용제와 혼합하여 평균입경이 30 내지 300nm가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 분산제를 추가로 사용할 수 있고, 결합제 수지의 일부 또는 전부가 배합될 수도 있다. 얻어진 분산액(이하, 밀 베이스라고 하는 경우도 있음)에 결합제 수지의 나머지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 필요에 따라 사용되는 그밖의 성분과 필요에 따라 추가의 용제를 소정의 농도가 되도록 더 첨가하여 목적하는 청색 감광성 수지 조성물을 얻을 수 있다.The blue photosensitive resin composition according to the present invention can be produced, for example, by the following method. Scattering particles are mixed in advance with a solvent and dispersed using a bead mill, etc., until the average particle diameter is 30 to 300 nm. At this time, a dispersant may be additionally used as needed, and part or all of the binder resin may be mixed. To the obtained dispersion (hereinafter sometimes referred to as mill base), the remainder of the binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, other components used as needed, and additional solvents as necessary are added to reach a predetermined concentration. The desired blue photosensitive resin composition can be obtained.

<컬러필터 및 화상표시장치><Color filter and image display device>

본 발명의 또 다른 양태는 전술한 청색 패턴층 형성용 청색 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 청색 패턴층을 포함하는 컬러필터에 관한 것이다.Another aspect of the present invention relates to a color filter including a blue pattern layer including a cured product of the above-described blue photosensitive resin composition for forming a blue pattern layer.

본 발명에 따른 컬러필터는 청색 양자점 대신 전술한 청색 패턴층 형성용 청색 감광성 수지 조성물로 제조되기 때문에 제조단가를 낮출 수 있고, 우수한 시야각을 확보할 수 있는 이점이 있다. Since the color filter according to the present invention is manufactured with the above-described blue photosensitive resin composition for forming a blue pattern layer instead of blue quantum dots, the manufacturing cost can be reduced and an excellent viewing angle can be secured.

또한, 본 발명의 청색 감광성 수지 조성물에 벤조트리아졸계, 트리아진계 및 벤조페논계 중 하나이상을 포함하는 UV 흡수제를 포함함으로써, 본 발명의 청색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 청색 패턴층을 포함하는 컬러필터는 열적내성이 우수하여 고온에서 황변이 발생하지 않아 발광세기의 변화 없으며, 일정한 값의 미세패턴 형성이 가능하여 미세화소의 구현 불량 문제를 개선한 컬러필터, 특히 자발광 컬러필터 구현이 가능 할 수 있다. In addition, the blue photosensitive resin composition of the present invention includes a UV absorber containing at least one of benzotriazole-based, triazine-based, and benzophenone-based, thereby comprising a blue pattern layer manufactured using the blue photosensitive resin composition of the present invention. The color filter has excellent thermal resistance, so yellowing does not occur at high temperatures, so there is no change in luminous intensity, and it is possible to form fine patterns of constant values, making it possible to implement color filters that improve the problem of poor implementation of fine pixels, especially self-luminous color filters. can do.

상기 컬러필터는 기판 및 상기 기판의 상부에 형성된 청색 패턴층을 포함한다.The color filter includes a substrate and a blue pattern layer formed on top of the substrate.

상기 기판은 상기 컬러필터 자체 기판일 수 있으며, 또는 디스플레이 장치 등에 컬러필터가 위치되는 부위일 수도 있는 것으로, 특별히 제한되지 않는다. 상기 기판은 유리, 실리콘(Si), 실리콘 산화물(SiOx) 또는 고분자 기판일 수 있으며, 상기 고분자 기판은 폴리에테르설폰(polyethersulfone, PES) 또는 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 등일 수 있다.The substrate may be the color filter itself, or may be a portion where the color filter is located in a display device, etc., but is not particularly limited. The substrate may be glass, silicon (Si), silicon oxide (SiOx), or a polymer substrate. The polymer substrate may be polyethersulfone (PES) or polycarbonate (PC).

상기 청색 패턴층은 본 발명의 청색 감광성 수지 조성물을 포함하는 층으로, 상기 청색 패턴층 형성용 청색 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광, 현상 및 열경화하여 형성된 층일 수 있으며, 상기 패턴층은 당업계에서 통상적으로 알려진 방법을 수행함으로써 형성할 수 있다. The blue pattern layer is a layer containing the blue photosensitive resin composition of the present invention, and may be a layer formed by applying the blue photosensitive resin composition for forming the blue pattern layer, exposing, developing, and heat curing in a predetermined pattern, and the pattern layer Can be formed by performing methods commonly known in the art.

본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 컬러필터는 적색 패턴층 및 녹색 패턴층으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 더 포함할 수 있다.In another embodiment of the present invention, the color filter may further include one or more selected from the group consisting of a red pattern layer and a green pattern layer.

본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 적색 패턴층 또는 녹색 패턴층은 양자점 및/또는 산란입자를 포함할 수 있다. 구체적으로, 본 발명에 따른 컬러필터는 적 양자점을 포함하는 적색 패턴층 또는 녹 양자점을 포함하는 녹색 패턴층을 포함할 수 있으며, 상기 적색 패턴층 또는 녹색 패턴층은 산란입자를 포함할 수 있다. 상기 적색 패턴층 또는 녹색 패턴층은 후술할 청색광을 방출하는 광원에 의하여 각각 적색광 또는 청색광을 방출할 수 있다.In another embodiment of the present invention, the red pattern layer or the green pattern layer may include quantum dots and/or scattering particles. Specifically, the color filter according to the present invention may include a red pattern layer including red quantum dots or a green pattern layer including green quantum dots, and the red pattern layer or the green pattern layer may include scattering particles. The red pattern layer or the green pattern layer may emit red light or blue light, respectively, by a light source that emits blue light, which will be described later.

본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 적색 패턴층 또는 녹색 패턴층에 포함되는 산란입자는 평균입경이 30 내지 500nm인 금속산화물을 포함할 수 있으며, 상기 산란입자 및 금속산화물에 관한 내용은 본 발명에 따른 청색 감광성 수지 조성물 내에 포함되는 산란입자 및 금속산화물에 관한 내용을 적용할 수 있다.In another embodiment of the present invention, the scattering particles included in the red pattern layer or the green pattern layer may include metal oxides with an average particle diameter of 30 to 500 nm, and information regarding the scattering particles and metal oxides is provided in this document. The information regarding scattering particles and metal oxides contained in the blue photosensitive resin composition according to the invention can be applied.

본 발명에 있어서, 상기 적색 패턴층 또는 녹색 패턴층에 포함되는 양자점의 형태, 구성 및 그 함량은 한정되지 않으며, 당업계에서 통상적으로 사용되는 양자점을 적용할 수 있다.In the present invention, the shape, composition, and content of the quantum dots included in the red pattern layer or the green pattern layer are not limited, and quantum dots commonly used in the art can be applied.

상기와 같은 기판 및 패턴층을 포함하는 컬러필터는 각 패턴 사이에 형성된 격벽을 더 포함할 수 있으며, 블랙 매트릭스를 더 포함할 수 있으나 이에 한정되지는 않는다.The color filter including the substrate and pattern layer described above may further include partitions formed between each pattern, and may further include a black matrix, but is not limited thereto.

본 발명에 있어서, 상기 컬러필터는 자발광 컬러필터일 수 있다.In the present invention, the color filter may be a self-luminous color filter.

본 발명의 또 다른 양태는, 전술한 컬러필터; 및 청색광을 방출하는 광원;을 포함하는 화상표시장치에 관한 것이다. 요컨대, 본 발명에 따른 화상표시장치는 전술한 청색 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 청색 패턴층을 포함하는 컬러필터와 청색광을 방출하는 광원을 포함한다.Another aspect of the present invention is the color filter described above; and a light source that emits blue light. It relates to an image display device including a light source. In short, the image display device according to the present invention includes a color filter including a blue pattern layer including a cured product of the above-described blue photosensitive resin composition and a light source that emits blue light.

본 발명의 컬러필터는 통상의 액정 표시 장치뿐만 아니라, 전계 발광 표시장치, 플라스마 표시 장치, 전계 방출 표시 장치 등 각종 화상 표시 장치에 적용이 가능하다.The color filter of the present invention can be applied to various image display devices such as electroluminescence display devices, plasma display devices, and field emission display devices, as well as ordinary liquid crystal display devices.

상기 화상표시장치가 본 발명에 따른 청색 패턴층을 포함하는 컬러필터와 상기 광원을 포함하는 경우 우수한 발광강도 또는 시야각을 가지는 이점이 있다. 또한, 본 발명에 따른 컬러필터에 포함되는 청색 패턴층은 청 양자점을 포함하지 않기 때문에 제조단가가 낮은 화상표시장치를 제조할 수 있는 이점이 있다.When the image display device includes the light source and a color filter including a blue pattern layer according to the present invention, there is an advantage of having excellent luminous intensity or viewing angle. Additionally, since the blue pattern layer included in the color filter according to the present invention does not include blue quantum dots, there is an advantage in that an image display device can be manufactured with a low manufacturing cost.

이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세히 설명한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 명세서의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지는 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 또한, 이하에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 중량 기준이다.Hereinafter, examples will be given in detail to explain the present specification in detail. However, the embodiments according to the present specification may be modified into various other forms, and the scope of the present specification is not to be construed as being limited to the embodiments described in detail below. The embodiments of this specification are provided to more completely explain the present specification to those with average knowledge in the art. In addition, "%" and "part" indicating content below are based on weight, unless otherwise specified.

합성예: 결합제 수지의 합성Synthesis example: Synthesis of binder resin

제조예 1: 아크릴계 알칼리 가용성 수지Preparation Example 1: Acrylic alkali-soluble resin

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, 모노머 적하 로 트로서, 벤질말레이미드 74.8g(0.20몰), 아크릴산 43.2g(0.30몰), 비닐톨루엔 118.0g(0.50몰), t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4g, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40g를 투입 후 교반 혼합하여 준비하고, 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6g, PGMEA 24g를 넣고 교반 혼합한 것을 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 395g를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2h 동안 진행하고 1h 후에 110℃ 승온하여 3h 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 28.4g[(0.10몰), (본 반응에 사용한 아크릴산의 카르복실기에 대하여 33몰%)], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4g, 트리에틸아민 0.8g를 플라스크내에 투입하여 110℃에서 8시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 70㎎KOH/g인 수지 A를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 16,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다. A flask equipped with a stirrer, thermometer reflux cooling tube, dropping funnel, and nitrogen introduction tube was prepared, and as a monomer dropping funnel, 74.8 g (0.20 mol) of benzylmaleimide, 43.2 g (0.30 mol) of acrylic acid, and 118.0 mol of vinyl toluene were added. g (0.50 mol), 4 g of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, and 40 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were added and stirred to prepare, and as a chain transfer agent dropping tank, n-dodecanethiol was added. 6g and 24g of PGMEA were added and mixed with stirring. Afterwards, 395 g of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere inside the flask was changed from air to nitrogen, and the temperature of the flask was raised to 90°C while stirring. Next, dropping of the monomer and chain transfer agent was started from the dropping lot. Dropping was carried out for 2 h while maintaining 90°C, and after 1 h, the temperature was raised to 110°C and maintained for 3 h, and then a gas introduction tube was introduced to perform bubbling of the oxygen/nitrogen = 5/95 (v/v) mixed gas. started. Next, 28.4 g of glycidyl methacrylate [(0.10 mol), (33 mol% based on the carboxyl group of acrylic acid used in this reaction)], 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol) ) 0.4 g and 0.8 g of triethylamine were added into the flask, reaction was continued at 110°C for 8 hours, and Resin A with a solid acid value of 70 mgKOH/g was obtained. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 16,000, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 2.3.

제조예 2: 화학식 1-1-1의 화합물의 합성 Preparation Example 2: Synthesis of a compound of Formula 1-1-1

3000ml 삼구 라운드 플라스크에 3',6'-디하이드록시스피로(플루오렌-9,9-잔텐)(3',6′'-dihydroxyspiro(fluorene-9,9-xantene) 364.4g과 t-부틸암모늄 브로마이드 0.4159g을 혼합하고, 에피클로로히드린 2359g을 넣고 90℃로 가열하여 반응시켰다. 액체크로마토그래피로 분석하여 3,6-디하이드록시스피로(플루오렌-9,9-잔텐)이 완전히 소진되면 30℃로 냉각하여 50% NaOH 수용액(3당량)을 천천히 첨가하였다. 액체 크로마토그래피로 분석하여 에피클로로히드린이 완전히 소진되었으면, 디클로로메탄으로 추출한 후 3회 수세한 후 유기층을 황산마그네슘으로 건조시킨 후 디클로로메탄을 감압 증류하고 디클로로메탄과 메탄올 혼합비 50:50을 사용하여 재결정하였다.364.4 g of 3',6''-dihydroxyspiro(fluorene-9,9-xantene) and t-butylammonium in a 3000ml three-necked round flask. 0.4159 g of bromide was mixed, 2359 g of epichlorohydrin was added, and the mixture was reacted by heating to 90° C. When 3,6-dihydroxyspiro(fluorene-9,9-xanthene) was completely consumed by analysis by liquid chromatography. Cooled to 30°C, 50% NaOH aqueous solution (3 equivalents) was slowly added. When epichlorohydrin was completely consumed by analysis by liquid chromatography, extraction was performed with dichloromethane, washed with water three times, and the organic layer was dried with magnesium sulfate. Afterwards, dichloromethane was distilled under reduced pressure and recrystallized using a mixture ratio of dichloromethane and methanol of 50:50.

이렇게 합성된 에폭시 화합물 1당량과 t-부틸암모늄 브로마이드 0.004당량, 2,6-디이소부틸페놀 0.001당량, 아크릴산 2.2당량을 혼합한 후 용매 프로피렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 24.89g을 넣어 혼합하였다. 이 반응 용액에 공기를 25ml/min으로 불어넣으면서 온도를 90~100℃로 가열 용해하였다. 반응 용액이 백탁한 상태에서 온도를 120℃까지 가열하여 완전히 용해시켰다. 용액이 투명해지고 점도가 높아지면 산가를 측정하여 산가가 1.0mgKOH/g미만이 될 때까지 교반하였다. 산가가 목표(0.8)에 이를 때까지 11시간이 필요했다. 반응 종결 후 반응기의 온도를 실온으로 내려 무색 투명한 화학식 1-1-1의 화합물을 얻었다.1 equivalent of the epoxy compound synthesized in this way was mixed with 0.004 equivalents of t-butylammonium bromide, 0.001 equivalents of 2,6-diisobutylphenol, and 2.2 equivalents of acrylic acid, and then 24.89 g of the solvent propylene glycol monomethyl ether acetate was added and mixed. The reaction solution was dissolved by heating to a temperature of 90 to 100°C while blowing air at 25 ml/min. While the reaction solution was cloudy, it was heated to 120°C and completely dissolved. When the solution became transparent and the viscosity increased, the acid value was measured and stirred until the acid value was less than 1.0 mgKOH/g. It took 11 hours for the acid value to reach the target (0.8). After completion of the reaction, the temperature of the reactor was lowered to room temperature to obtain a colorless and transparent compound of formula 1-1-1.

[화학식 1-1-1][Formula 1-1-1]

제조예 3 : 화학식 1-1-2의 화합물의 합성Preparation Example 3: Synthesis of a compound of formula 1-1-2

3000ml 삼구 라운드 플라스크에 화학식 2-1의 3',6'-디하이드록시스피로(플루오렌-9,9-잔텐)(3',6′'-dihydroxyspiro(fluorene-9,9-xantene) 364.4g과 t-부틸암모늄 브로마이드 0.4159g을 혼합하고, 에피클로로히드린 2359g을 넣고 90℃로 가열하여 반응시켰다. 액체크로마토그래피로 분석하여 3,6-디하이드록시스피로(플루오렌-9,9-잔텐)이 완전히 소진되면 30℃로 냉각하여 50% NaOH 수용액(3당량)을 천천히 첨가하였다. 액체 크로마토그래피로 분석하여 에피클로로히드린이 완전히 소진되었으면, 디클로로메탄으로 추출한 후 3회 수세한 후 유기층을 황산마그네슘으로 건조시킨 후 디클로로메탄을 감압 증류하고 디클로로메탄과 메탄올 혼합비 50:50을 사용하여 재결정하였다.3',6'-dihydroxyspiro(fluorene-9,9-xantene) of Chemical Formula 2-1 (3',6''-dihydroxyspiro(fluorene-9,9-xantene)) 364.4g in a 3000ml three-necked round flask. and 0.4159 g of t-butylammonium bromide were mixed, 2359 g of epichlorohydrin was added, and heated to 90° C. for reaction. Analysis was performed by liquid chromatography to determine 3,6-dihydroxyspiro(fluorene-9,9-xanthene). ) was completely consumed, it was cooled to 30°C and 50% NaOH aqueous solution (3 equivalents) was slowly added. When epichlorohydrin was completely consumed as analyzed by liquid chromatography, it was extracted with dichloromethane, washed with water three times, and the organic layer was After drying with magnesium sulfate, dichloromethane was distilled under reduced pressure and recrystallized using a mixture ratio of dichloromethane and methanol of 50:50.

이렇게 합성된 에폭시 화합물 1당량과 t-부틸암모늄 브로마이드 0.004당량, 2,6-디이소부틸페놀 0.001당량, 메타아크릴산 2.2당량을 혼합한 후 용매 프로피렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 24.89g을 넣어 혼합하였다. 이 반응 용액에 공기를 25ml/min으로 불어넣으면서 온도를 90~100℃로 가열 용해하였다. 반응 용액이 백탁한 상태에서 온도를 120까지 가열하여 완전히 용해시켰다. 용액이 투명해지고 점도가 높아지면 산가를 측정하여 산가가 1.0mgKOH/g미만이 될 때까지 교반하였다. 산가가 목표(0.8)에 이를 때까지 11시간이 필요했다. 반응 종결 후 반응기의 온도를 실온으로 내려 무색 투명한 화학식 1-1-2의 화합물을 얻었다.1 equivalent of the epoxy compound synthesized in this way was mixed with 0.004 equivalents of t-butylammonium bromide, 0.001 equivalents of 2,6-diisobutylphenol, and 2.2 equivalents of methacrylic acid, and then 24.89 g of the solvent propylene glycol monomethyl ether acetate was added and mixed. The reaction solution was dissolved by heating to a temperature of 90 to 100°C while blowing air at 25 ml/min. While the reaction solution was cloudy, it was heated to 120°C and completely dissolved. When the solution became transparent and the viscosity increased, the acid value was measured and stirred until the acid value was less than 1.0 mgKOH/g. It took 11 hours for the acid value to reach the target (0.8). After completion of the reaction, the temperature of the reactor was lowered to room temperature to obtain a colorless and transparent compound of the formula 1-1-2.

[화학식 1-1-2][Formula 1-1-2]

제조예 4 : 화학식 1-2-1의 화합물의 합성Preparation Example 4: Synthesis of compound of formula 1-2-1

3000ml 삼구 라운드 플라스크에 4,4'-(9H-잔텐-9,9-디일)디페놀(4,4'-(9H-xanthene-9,9-diyl)diphenol)364.4g과 t-부틸암모늄 브로마이드 0.4159g을 혼합하고, 에피클로로히드린 2359g을 넣고 90로 가열하여 반응시켰다. 액체크로마토그래피로 분석하여 4,4'-(9H-잔텐-9,9-디일)디페놀 (4,4'-(9Hxanthene-9,9-diyl)diphenol)이 완전히 소진되면 30℃로 냉각하여 50% NaOH 수용액 (3당량)을 천천히 첨가하였다. 액체 크로마토그래피로 분석하여 에피클로로히드린이 완전히 소진되었으면, 디클로로메탄으로 추출한 후 3회 수세한 후 유기층을 황산마그네슘으로 건조시킨 후 디클로로메탄을 감압 증류하고 디클로로메탄과 메탄올 혼합비 50:50을 사용하여 재결정하였다. 이렇게 합성된 에폭시 화합물 1당량과 t-부틸암모늄 브로마이드 0.004당량, 2,6-디이소부틸페놀 0.001당량, 아크릴산 2.2당량을 혼합한 후 용매 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 24.89g을 넣어 혼합하였다. 이 반응 용액에 공기를 25ml/min으로 불어넣으면서 온도를 90~100℃로 가열 용해하였다. 반응 용액이 백탁한 상태에서 온도를 120℃까지 가열하여 완전히 용해시켰다. 용액이 투명해지고 점도가 높아지면 산가를 측정하여 산가가 1.0mgKOH/g미만이 될 때까지 교반하였다. 산가가 목표(0.8)에 이를 때까지 11시간이 필요했다. 반응 종결 후 반응기의 온도를 실온으로 내려 무색 투명한 화학식 1-2-1의 화합물을 얻었다.364.4g of 4,4'-(9H-xanthene-9,9-diyl)diphenol) and t-butylammonium bromide in a 3000ml three-necked round flask. 0.4159g was mixed, 2359g of epichlorohydrin was added, and heated to 90°C for reaction. When 4,4'-(9H-xanthene-9,9-diyl)diphenol (4,4'-(9Hxanthene-9,9-diyl)diphenol) is completely consumed by analysis by liquid chromatography, cool to 30℃. 50% NaOH aqueous solution (3 equivalents) was added slowly. When epichlorohydrin is completely consumed by analysis by liquid chromatography, extraction is performed with dichloromethane, washed with water three times, the organic layer is dried with magnesium sulfate, dichloromethane is distilled under reduced pressure, and dichloromethane and methanol are mixed in a mixing ratio of 50:50. It was decided again. 1 equivalent of the epoxy compound synthesized in this way was mixed with 0.004 equivalents of t-butylammonium bromide, 0.001 equivalents of 2,6-diisobutylphenol, and 2.2 equivalents of acrylic acid, and then 24.89 g of the solvent propylene glycol monomethyl ether acetate was added and mixed. The reaction solution was dissolved by heating to a temperature of 90 to 100°C while blowing air at 25 ml/min. While the reaction solution was cloudy, it was heated to 120°C and completely dissolved. When the solution became transparent and the viscosity increased, the acid value was measured and stirred until the acid value was less than 1.0 mgKOH/g. It took 11 hours for the acid value to reach the target (0.8). After completion of the reaction, the temperature of the reactor was lowered to room temperature to obtain a colorless and transparent compound of Chemical Formula 1-2-1.

[화학식 1-2-1][Formula 1-2-1]

제조예 5: 화학식 1-2-2의 화합물의 합성Preparation Example 5: Synthesis of compound of formula 1-2-2

3000ml 삼구 라운드 플라스크에 4,4'-(9H-잔텐-9,9-디일)디페놀(4,4'-(9H-xanthene-9,9-diyl)diphenol)364.4g과 t-부틸암모늄 브로마이드 0.4159g을 혼합하고, 에피클로로히드린 2359g을 넣고 90℃로 가열하여 반응시켰다. 액체크로마토그래피로 분석하여 4,4'-(9H-잔텐-9,9-디일)디페놀 (4,4'-(9Hxanthene-9,9-diyl)diphenol)이 완전히 소진되면 30로 냉각하여 50% NaOH 수용액 (3당량)을 천천히 첨가하였다. 액체 크로마토그래피로 분석하여 에피클로로히드린이 완전히 소진되었으면, 디클로로메탄으로 추출한 후 3회 수세한 후 유기층을 황산마그네슘으로 건조시킨 후 디클로로메탄을 감압 증류하고 디클로로메탄과 메탄올 혼합비 50:50을 사용하여 재결정하였다. 이렇게 합성된 에폭시 화합물 1당량과 t-부틸암모늄 브로마이드 0.004당량, 2,6-디이소부틸페놀 0.001당량, 메타아크릴산 2.2당량을 혼합한 후 용매 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 24.89g을 넣어 혼합하였다. 이 반응 용액에 공기를 25ml/min으로 불어넣으면서 온도를 90~100℃로 가열 용해하였다. 반응 용액이 백탁한 상태에서 온도를 120℃까지 가열하여 완전히 용해시켰다. 용액이 투명해지고 점도가 높아지면 산가를 측정하여 산가가 1.0mgKOH/g미만이 될 때까지 교반하였다. 산가가 목표(0.8)에 이를 때까지 11시간이 필요했다. 반응 종결 후 반응기의 온도를 실온으로 내려 무색 투명한 화학식 1-2-2의 화합물을 얻었다.364.4g of 4,4'-(9H-xanthene-9,9-diyl)diphenol) and t-butylammonium bromide in a 3000ml three-necked round flask. 0.4159 g was mixed, 2359 g of epichlorohydrin was added, and heated to 90°C for reaction. When 4,4'-(9Hxanthene-9,9-diyl)diphenol (4,4'-(9Hxanthene-9,9-diyl)diphenol) is completely consumed by analyzing by liquid chromatography, cool to 30℃ and cool to 50℃. % NaOH aqueous solution (3 equiv) was added slowly. When epichlorohydrin is completely consumed by analysis by liquid chromatography, extraction is performed with dichloromethane, washed with water three times, the organic layer is dried with magnesium sulfate, dichloromethane is distilled under reduced pressure, and dichloromethane and methanol are mixed in a mixing ratio of 50:50. It was decided again. 1 equivalent of the epoxy compound synthesized in this way was mixed with 0.004 equivalents of t-butylammonium bromide, 0.001 equivalents of 2,6-diisobutylphenol, and 2.2 equivalents of methacrylic acid, and then 24.89 g of the solvent propylene glycol monomethyl ether acetate was added and mixed. The reaction solution was dissolved by heating to a temperature of 90 to 100°C while blowing air at 25 ml/min. While the reaction solution was cloudy, it was heated to 120°C and completely dissolved. When the solution became transparent and the viscosity increased, the acid value was measured and stirred until the acid value was less than 1.0 mgKOH/g. It took 11 hours for the acid value to reach the target (0.8). After completion of the reaction, the temperature of the reactor was lowered to room temperature to obtain a colorless and transparent compound of the formula 1-2-2.

[화학식 1-2-2][Formula 1-2-2]

제조예 6 : 카도계 바인더 수지의 합성(A-1)Preparation Example 6: Synthesis of cardo-based binder resin (A-1)

제조예 2의 화학식 1-1-1의 화합물 307.0g에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 600g을 첨가하여 용해한 후, 비페닐테트라카르복실산 2무수물 78g 및 브롬화테트라에틸암모늄 1g을 혼합하고 서서히 승온시켜 110~115℃ 에서 4시간 동안 반응시켰다. 산 무수물기의 소실을 확인한 후, 1,2,3,6-테트라히드로무수프탈산 38.0g을 혼합하여 90℃ 에서 6시간 동안 반응시켜 카도계 바인더 수지로 중합하였다. 무수물의 소실은 IR 스펙트럼에 의해 확인하였다.중량평균분자량: 3500307.0 g of the compound of Formula 1-1-1 in Preparation Example 2 was dissolved by adding 600 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, then mixed with 78 g of biphenyltetracarboxylic dianhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide, and slowly raised to 110 g. Reaction was performed at ~115°C for 4 hours. After confirming the disappearance of the acid anhydride group, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed and reacted at 90°C for 6 hours to polymerize it with a cardo-based binder resin. The disappearance of anhydride was confirmed by IR spectrum. Weight average molecular weight: 3500

제조예 7: 카도계 바인더 수지의 합성(A-2)Preparation Example 7: Synthesis of cardo-based binder resin (A-2)

제조예 3의 화학식 1-1-2의 화합물 307.0g에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 600g을 첨가하여 용해한 후, 비페닐테트라카르복실산 2무수물 78g 및 브롬화테트라에틸암모늄 1g을 혼합하고 서서히 승온시켜 110~115℃ 에서 4시간 동안 반응시켰다. 산 무수물기의 소실을 확인한 후, 1,2,3,6-테트라히드로무수프탈산 38.0g을 혼합하여 90℃ 에서 6시간 동안 반응시켜 카도계 바인더 수지로 중합하였다. 무수물의 소실은 IR 스펙트럼에 의해 확인하였다.중량평균분자량: 3800307.0 g of the compound of Formula 1-1-2 in Preparation Example 3 was dissolved by adding 600 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, then mixed with 78 g of biphenyltetracarboxylic dianhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide, and slowly raised to 110 g. Reaction was performed at ~115°C for 4 hours. After confirming the disappearance of the acid anhydride group, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed and reacted at 90°C for 6 hours to polymerize it with a cardo-based binder resin. The disappearance of anhydride was confirmed by IR spectrum. Weight average molecular weight: 3800

제조예 8 : 카도계 바인더 수지의 합성(A-3)Preparation Example 8: Synthesis of cardo-based binder resin (A-3)

제조예 4의 화학식 1-2-1의 화합물 307.0g에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 600g을 첨가하여 용해한 후, 페닐테트라카르복실산 2무수물 78g 및 브롬화테트라에틸암모늄 1g을 혼합하고 서서히 승온시켜 110~115℃ 에서 4시간 동안 반응시켰다. 산 무수물기의 소실을 확인한 후, 1,2,3,6-테트라히드로무수프탈산 38.0g을 혼합하여 90℃ 에서 6시간 동안 반응시켜 카도계 바인더 수지로 중합하였다. 무수물의 소실은 IR 스펙트럼에 의해 확인하였다.중량평균분자량: 4500307.0 g of the compound of Formula 1-2-1 in Preparation Example 4 was dissolved by adding 600 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, then mixed with 78 g of phenyltetracarboxylic dianhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide, and the temperature was gradually raised to 110~. Reaction was performed at 115°C for 4 hours. After confirming the disappearance of the acid anhydride group, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed and reacted at 90°C for 6 hours to polymerize it with a cardo-based binder resin. The disappearance of anhydride was confirmed by IR spectrum. Weight average molecular weight: 4500

제조예 9 : 카도계 바인더 수지의 합성(A-4)Preparation Example 9: Synthesis of cardo-based binder resin (A-4)

제조예 5의 화학식 1-2-2의 화합물 307.0g에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 600g을 첨가하여 용해한 후, 페닐테트라카르복실산 2무수물 78g 및 브롬화테트라에틸암모늄 1g을 혼합하고 서서히 승온시켜 110~115℃ 에서 4시간 동안 반응시켰다. 산 무수물기의 소실을 확인한 후, 1,2,3,6-테트라히드로무수프탈산 38.0g을 혼합하여 90℃ 에서 6시간 동안 반응시켜 카도계 바인더 수지로 중합하였다. 무수물의 소실은 IR 스펙트럼에 의해 확인하였다.중량평균분자량: 4900307.0 g of the compound of Formula 1-2-2 in Preparation Example 5 was dissolved by adding 600 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, then mixed with 78 g of phenyltetracarboxylic dianhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide, and the temperature was slowly raised to 110~. Reaction was performed at 115°C for 4 hours. After confirming the disappearance of the acid anhydride group, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed and reacted at 90°C for 6 hours to polymerize it with a cardo-based binder resin. The disappearance of anhydride was confirmed by IR spectrum. Weight average molecular weight: 4900

장치: HLC-8120GPC(도소㈜ 제조)Device: HLC-8120GPC (manufactured by Tosoh Corporation)

칼럼: TSK-GELG4000HXL + TSK-GELG2000HXL(직렬 접속)Column: TSK-GELG4000HXL + TSK-GELG2000HXL (serial connection)

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40℃

이동상 용제: 테트라히드로퓨란Mobile phase solvent: tetrahydrofuran

유속: 1.0 ㎖/분Flow rate: 1.0 mL/min

주입량: 50 ㎕Injection volume: 50 μl

검출기: RIDetector: RI

측정 시료 농도: 0.6 중량%(용제 = 테트라히드로퓨란)Measured sample concentration: 0.6% by weight (solvent = tetrahydrofuran)

교정용 표준 물질: TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500(도소㈜ 제조)Standard materials for calibration: TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (manufactured by Tosoh Co., Ltd.)

상기에서 얻어진 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량의 비를 분자량 분포(Mw/Mn)로 하였다.The ratio of the weight average molecular weight and the number average molecular weight obtained above was defined as molecular weight distribution (Mw/Mn).

실시예 1 내지 9 비교예 1 내지 4: 청색 감광성 수지 조성물의 제조Examples 1 to 9 Comparative Examples 1 to 4: Preparation of blue photosensitive resin composition

하기 표 1 내지 3의 조성에 따라, 실시예 1 내지 9 비교예 1 내지 4의 청색 감광성 수지 조성물을 제조하였다. (표 1은 산란입자를 나타내고, 표 2는 실시예의 조성물, 표 3은 비교예의 조성물의 구성 및 함량을 나타낸다.)According to the compositions in Tables 1 to 3 below, the blue photosensitive resin compositions of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4 were prepared. (Table 1 shows the scattering particles, Table 2 shows the composition of the example, and Table 3 shows the composition and content of the composition of the comparative example.)

0)청색 착색제 : C.I 피그먼트 블루 15:6 0) Blue colorant: CI Pigment Blue 15:6

1)결합제 수지 : 1) Binder resin:

A-1 : 제조예 A-1, A-1: Production Example A-1,

A-2 : 제조예 A-2, A-2: Production Example A-2,

A-3 : 제조예 A-3, A-3: Production Example A-3,

A-4 : 제조예 A-4, A-4: Production Example A-4,

A-5 : 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르A-5: Mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester

2) 광중합성 화합물: 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA; 닛본 카야꾸 ㈜ 제조) 2) Photopolymerizable compound: Dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

3) 광중합 개시제 3) Photopolymerization initiator

D-1: Irgaqure-907 (BASF사 제)D-1: Irgaqure-907 (manufactured by BASF)

D-2: OXE-01(BASF사 제)D-2: OXE-01 (manufactured by BASF)

D-3: OXE-02(BASF사 제)D-3: OXE-02 (manufactured by BASF)

D-4: PBG-327(트론니 제, 화학식 5-3)D-4: PBG-327 (made by Tronny, formula 5-3)

5) ) F-1: TINUVIN 109 (BASF 제조) - 벤조트리아졸계 5) ) F-1: TINUVIN 109 (manufactured by BASF) - Benzotriazole type

F-2: TINUVIN 328 (BASF 제조) - 벤조트리아졸계F-2: TINUVIN 328 (manufactured by BASF) - Benzotriazole series

F-3: TINUVIN 1577 (BASF 제조) - 트리아진계F-3: TINUVIN 1577 (manufactured by BASF) - triazine series

F-4: TINUVIN 400 (BASF 제조) - 트리아진계F-4: TINUVIN 400 (manufactured by BASF) - triazine series

F-5: Chimassorb 81 (BASF 제조) - 벤조페논계F-5: Chimassorb 81 (manufactured by BASF) - benzophenone series

6) 용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 6) Solvent (E): propylene glycol monomethyl ether acetate

0)청색 착색제 : C.I 피그먼트 블루 15:6 0) Blue colorant: CI Pigment Blue 15:6

1)결합제 수지 : 1) Binder resin:

A-1 : 제조예 A-1, A-1: Production Example A-1,

A-2 : 제조예 A-2, A-2: Production Example A-2,

A-3 : 제조예 A-3, A-3: Production Example A-3,

A-4 : 제조예 A-4, A-4: Production Example A-4,

A-5 : 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르A-5: Mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester

2) 광중합성 화합물: 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA; 닛본 카야꾸 ㈜ 제조) 2) Photopolymerizable compound: Dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

3) 광중합 개시제 3) Photopolymerization initiator

D-1: Irgaqure-907 (BASF사 제)D-1: Irgaqure-907 (manufactured by BASF)

D-2: OXE-01(BASF사 제)D-2: OXE-01 (manufactured by BASF)

D-3: OXE-02(BASF사 제)D-3: OXE-02 (manufactured by BASF)

D-4: PBG-327(트론니 제, 화학식 5-3)D-4: PBG-327 (made by Tronny, formula 5-3)

5) ) F-1: TINUVIN 109 (BASF 제조) - 벤조트리아졸계 5) ) F-1: TINUVIN 109 (manufactured by BASF) - Benzotriazole type

F-2: TINUVIN 328 (BASF 제조) - 벤조트리아졸계F-2: TINUVIN 328 (manufactured by BASF) - Benzotriazole series

F-3: TINUVIN 1577 (BASF 제조) - 트리아진계F-3: TINUVIN 1577 (manufactured by BASF) - triazine series

F-4: TINUVIN 400 (BASF 제조) - 트리아진계F-4: TINUVIN 400 (manufactured by BASF) - triazine series

F-5: Chimassorb 81 (BASF 제조) - 벤조페논계F-5: Chimassorb 81 (manufactured by BASF) - benzophenone series

6) 용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 6) Solvent (E): propylene glycol monomethyl ether acetate

컬러필터의 제조Manufacturing of color filters

상기 실시예 1 내지 9 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 금속산화물 감광성 수지조성물을 이용하여 컬러필터를 제조하였다. 즉, 상기 각각의 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅법으로 유리 기판 위에 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 100 ℃의 온도에서 3 분간 유지하여 박막을 형성시켰다. A color filter was manufactured using the metal oxide photosensitive resin composition prepared in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4. That is, each of the above photosensitive resin compositions was applied on a glass substrate by spin coating, then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100° C. for 3 minutes to form a thin film.

이어서 상기 박막 위에 가로x세로 20mm x 20mm 정사각형의 투과 패턴과 1 내지 100 ㎛의 라인/스페이스 패턴을 갖는 시험 포토마스크를 올려놓고 시험 포토마스크와의 간격을 100 ㎛로 하여 자외선을 조사하였다. Next, a test photomask having a 20mm x 20mm square transmission pattern and a line/space pattern of 1 to 100 ㎛ was placed on the thin film and irradiated with ultraviolet rays at a distance of 100 ㎛ from the test photomask.

이때, 자외선광원은 우시오 덴끼㈜제의 초고압 수은 램프(상품명 USH-250D)를 이용하여 대기 분위기하에 200mJ/㎠의 노광량(365 ㎚)으로 광조사하였으며, 특별한 광학 필터는 사용하지 않았다. At this time, the ultraviolet light source was irradiated with an exposure dose of 200 mJ/cm2 (365 nm) under an atmospheric atmosphere using an ultra-high pressure mercury lamp (product name: USH-250D) manufactured by Ushio Denki Co., Ltd., and no special optical filter was used.

상기에서 자외선이 조사된 박막을 pH10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 80 초 동안 담궈 현상하였다. 이 박막이 입혀진 유리판을 증류수를 사용하여 세척한 다음, 질소 가스를 불어서 건조하고, 150℃의 가열 오븐에서 10 분 동안 가열하여 컬러필터 패턴을 제조하였다. 상기에서 제조된 컬러 패턴의 필름 두께는 5.0 ㎛이었다.The thin film irradiated with ultraviolet light above was developed by immersing it in a KOH aqueous developing solution of pH 10.5 for 80 seconds. The glass plate coated with this thin film was washed with distilled water, dried by blowing nitrogen gas, and heated in a heating oven at 150°C for 10 minutes to prepare a color filter pattern. The film thickness of the color pattern prepared above was 5.0 ㎛.

실험예 1: 컬러필터의 현상속도, 감도, 패턴안정성, 내열성 실험Experimental Example 1: Experiment on color filter development speed, sensitivity, pattern stability, and heat resistance

상기 실시예 1 내지 9 및 비교예 1 내지 4의 청색 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터를 대상으로 하기 표 4와 같이 평가하였다. 각 실험에 대한 평가기준은 하기와 같다. 현상속도(sec): 현상<Spray Developer HPMJ 방식>시 비노광부가 현상액에 최초로 용해되는데 걸리는 시간Color filters manufactured from the blue photosensitive resin compositions of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4 were evaluated as shown in Table 4 below. The evaluation criteria for each experiment are as follows. Development speed (sec): Time taken for the non-exposed area to first dissolve in the developer during development <Spray Developer HPMJ method>

감도: 감도 마스크 미세 패턴(1~60)의 뜯김이 없는 박막을 형성한 정도(수치가 낮을수록 감도가 우수)Sensitivity: The degree to which a tear-free thin film of the sensitivity mask fine pattern (1 to 60) is formed (the lower the number, the better the sensitivity)

패턴 안정성: 저노광량(20~100mJ)에서의 패턴 마스크의 노광후의 패턴의 오류 정도.Pattern stability: The degree of error in the pattern after exposure of the pattern mask at a low exposure dose (20 to 100 mJ).

매우 우수: 패턴상 오류 없음Very good: no pattern errors

우수: 패턴상 오류 1~2개Excellent: 1-2 pattern errors

보통: 패턴상 오류 3개Normal: 3 errors in pattern

불량: 패턴상 오류 4개 이상Defective: 4 or more errors in the pattern

판단 기준은 3차원 표면 형상기의 광학현미경을 통한 확인 결과.The criterion for judgment is the result of confirmation through an optical microscope of a 3D surface shaper.

내열성 평가 및 휘도변화: 상기의 방법으로 제조된 컬러필터를 230℃의 가열 오븐에서 2시 동안 가열 후 가열Heat resistance evaluation and brightness change: Heat the color filter manufactured by the above method in a heating oven at 230°C for 2 hours and then heat.

전후의 색변화를 측정하기 위해 수학식 (1)에 의해 계산하였으며, 또한 내열성 평가 전후의 휘도(ΔY) 변화를 확인하여, 열적황변으로 인한 휘도저하 여부를 확인하였다. To measure the color change before and after, it was calculated using Equation (1), and the change in luminance (ΔY) before and after the heat resistance evaluation was checked to determine whether there was a decrease in luminance due to thermal yellowing.

ΔY (휘도변화) 정도ΔY (luminance change) degree

○: -0.04 이상 0.00 이하○: -0.04 or more and 0.00 or less

X: -0.04 미만X: less than -0.04

이에 표 4를 보면 실시예 1 내지 9는 현상속도가 15이하로 공정상 우수한 효과를 가지며, 감도가 50 이하로 우수하였으며, 패턴 마스크의 노광후의 패턴오류가 없어 패턴안정성이 매우우수 하였으며, 내열성 또한 우수함을 확인 하였다.Accordingly, looking at Table 4, Examples 1 to 9 had excellent processing effects with a development speed of 15 or less, and excellent sensitivity with 50 or less. There was no pattern error after exposure of the pattern mask, so pattern stability was excellent, and heat resistance was also excellent. Excellence was confirmed.

반면, 비교예 2의 경우, 카도계 바인더 수지를 포함하지 않고, 아크릴계 알칼리 가용성 수지만 사용하여 경우 경화가 용이하지 않아 쉽게 박리되어 값을 측정 할 수 없었다. , 비교예 3의 경우, 광중합성 화합물의 적정범위를 벗어나, 경화가 어려우며, 모두 패턴이 박리되었다. 또한 비교예 4의 경우, UV 흡수제가 없어, 라디칼을 조절하기 어려워 내열성을 견뎌내는 것이 어려운 것을 확인하였다. On the other hand, in the case of Comparative Example 2, the cardo-based binder resin was not included and only acrylic alkali-soluble resin was used, so curing was not easy and peeled off easily, making it impossible to measure the value. , in the case of Comparative Example 3, the photopolymerizable compound was outside the appropriate range, hardening was difficult, and the patterns were peeled in all cases. Additionally, in the case of Comparative Example 4, it was confirmed that there was no UV absorber, making it difficult to control radicals, making it difficult to withstand heat resistance.

실험예 2: 미세패턴 형성 실험Experimental Example 2: Micropattern Formation Experiment

상기 실시예 1 내지 9 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 금속산화물 감광성 수지를 사용하여 제조된 컬러필터 중 100 ㎛로 설계된 라인/스페이스 패턴 마스크를 통해 얻어진, 패턴의 크기를 OM장비(ECLIPSE LV100POL 니콘사)를 통해 패턴 크기를 측정하였다. Among the color filters manufactured using the metal oxide photosensitive resins prepared in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4, the size of the pattern obtained through a line/space pattern mask designed to be 100 ㎛ was measured using OM equipment (ECLIPSE LV100POL Nikon The pattern size was measured through (g).

라인/스페이스 패턴 마스크의 설계값과 얻어진 미세 패턴의 측정값과의 차이가 20 μm 이상이면, 미세화소의 구현이 어려워지고, 패턴의 직진성 및 평탄화에도 문제가 발생할 수 있으며, 원하는 테이퍼의 구현이 어려울 수 있다. If the difference between the design value of the line/space pattern mask and the measured value of the obtained fine pattern is more than 20 μm, it becomes difficult to implement fine pixels, problems may occur with straightness and flattening of the pattern, and it is difficult to implement the desired taper. You can.

이에 표 5를 보면 실시예 1내지 9의 경우 패턴 마스크의 설계값과 얻어진 미세 패턴의 측정값과의 차이가 20 μm 이하로 미세화소 구현이 가능하였고, 패턴특성이 우수함을 확인 하였다.Accordingly, looking at Table 5, it was confirmed that in the case of Examples 1 to 9, the difference between the design value of the pattern mask and the measured value of the obtained fine pattern was less than 20 μm, making it possible to implement fine pixels, and the pattern characteristics were excellent.

반면, 비교예 2의 경우, 아크릴 수지만을 포함하여 경화가 용이하지 않아 막뜯김 현상이 나타났으며, 비교예 3의 경우, 광중합성 화합물의 적정범위를 벗어나, 경화가 어려우며, 모두 막 뜯김이 일어났다. 또한 비교예 4의 경우, UV 흡수제가 없어, 미세 패턴의 구현이 어려움을 확인 하였다. On the other hand, in the case of Comparative Example 2, because it contained only acrylic resin, curing was not easy, a tearing phenomenon occurred, and in the case of Comparative Example 3, it was outside the appropriate range of the photopolymerizable compound, making hardening difficult, and all of the film tearing occurred. woke up. Additionally, in the case of Comparative Example 4, there was no UV absorber, making it difficult to implement fine patterns.

실험예 3: 발광 강도 측정 Experimental Example 3: Measurement of luminescence intensity

상기 실시예 1 내지 9 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 금속산화물 감광성 수지를 사용하여 제조된 컬러필터 중 20 x 20 mm 정사각형의 패턴으로 형성된 부분에 365 nm Tube형 4 W UV조사기(VL-4LC, VILBER LOURMAT)를 통하여 광 변환된 영역을 측정하였으며, 실시예 1 내지 9 및 비교예 1 내지 4는 450 nm영역에서의 발광 강도를 Spectrum meter(Ocean Optics사)를 이용하여 측정하였다. A 365 nm tube type 4 W UV irradiator (VL-4LC) was applied to the part formed in a 20 x 20 mm square pattern among the color filters manufactured using the metal oxide photosensitive resins prepared in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4 , VILBER LOURMAT), the light-converted area was measured, and in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4, the luminescence intensity in the 450 nm area was measured using a Spectrum meter (Ocean Optics).

측정된 발광 강도가 높을수록 광효율이 높음을 의미하며 한다. The higher the measured luminous intensity, the higher the luminous efficiency.

실시예 1 내지 9의 경우 발광광도가 2이상으로 높아 광효율이 우수함을 확인 하였다. 반면, 비교예 2의 경우, 아크릴 수지만을 포함하여 경화가 용이하지 않아 막뜯김 현상이 나타났으며, 또한 비교예 4 의 경우 UV흡수제가 없어, 광효율이 저하되었음을 확인할 수 있었다.In Examples 1 to 9, it was confirmed that the luminous intensity was higher than 2 and thus the luminous efficiency was excellent. On the other hand, in the case of Comparative Example 2, it was not easy to cure because it contained only acrylic resin, and a tearing phenomenon occurred. In addition, in the case of Comparative Example 4, there was no UV absorber, so it was confirmed that the light efficiency was reduced.

실험예 4: 시야각 측정Experimental Example 4: Viewing angle measurement

상기 실시예 1 내지 9 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 금속산화물 감광성 수지를 사용하여 제조된 컬러필터 중 20 x 20 mm 정사각형의 패턴으로 형성된 부분에 투광조건에서의 시야각에 따른 광 Intensity를 변각광도계(GC-5000L, Nippon Denshoku)를 사용하여 측정하였고, 하기 식 1을 이용하여 확산율을 산출하였다.The light intensity according to the viewing angle under light transmission conditions was measured on the part formed in a 20 x 20 mm square pattern among the color filters manufactured using the metal oxide photosensitive resin prepared in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4 using a variable angle photometer. It was measured using (GC-5000L, Nippon Denshoku), and the diffusion rate was calculated using Equation 1 below.

[식 1][Equation 1]

확산율 = (B70 + B20) / 2 x B5 x 100Diffusion rate = (B 70 + B 20 ) / 2 x B 5 x 100

(Bθ=Iθ/cosθ)(B θ =I θ /cosθ)

I는 각 각도에서 측정된 광 Intensity를 의미하고, B70, B20, B5 70도, 20도, 5도에서 측정한 것을 의미한다.I means light intensity measured at each angle, B 70, B 20, B 5 means measured at 70 degrees, 20 degrees, and 5 degrees.

측정된 확산율이 높을수록 시야각이 좋아짐을 의미한다. 이에 표 7을 보면, 실시예 1 내지 9의 경우 시야각이 향상되었음을 확인할 수 있었다. 또한 비교예 4 의 경우 UV 흡수제가 없는 경우, 확산율이 저하되었음을 확인할 수 있었다.The higher the measured diffusion rate, the better the viewing angle. Accordingly, looking at Table 7, it was confirmed that the viewing angle was improved in Examples 1 to 9. Additionally, in Comparative Example 4, it was confirmed that in the absence of a UV absorber, the diffusion rate was reduced.

Claims (14)

산란입자, 청색 착색제, 카도계 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, UV흡수제 및 용제를 포함하는 청색 감광성 수지 조성물로서,
상기 UV흡수제는 옥틸 3-[3-tert-부틸-4-히드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐]프로피오네이트, 2-에틸헥실 3-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐)프로피오네이트, [3-[3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-(1,1-메틸에틸)-4-히드록시페닐]-1-옥소프로필]-w-[3-[3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시페닐]-1-옥소프로폭시]폴리(옥시-1,2-에테인다이일), (3-(3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시페닐)-1-옥소프로필)-히드록시폴리(옥소-1,2-에테인다이일), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-디터트펜틸페놀, 3-(2H-벤조트리아졸일)-5-(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시-벤진프로피온산 옥틸 에스터, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(1-메틸-1-페닐에틸)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀, 2-(4,6-디메틸-1,3,5-트리아진-2-일)-5-((헥실)옥시)-페놀, 2-(4-(2-히드록시-3-트리데실옥시프로필)옥시)-2-히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(4-(2-히드록시-3-디데실옥시프로필)옥시)-2-히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-(3-(2-에틸헥실-1-옥시)-2-히드록시프로필옥시)페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,2'-[6-(2,4-다이부톡시페닐)-1,3,5-트리아진-2,4-다이일]비스(5-부톡시페놀) 및 6-메틸헵틸 2-{4-[4,6-디(4-비페닐일)-1,3,5-트리아진-2-일]-3-히드록시페녹시}프로파노에이트 중 하나 이상을 포함하되,
상기 UV흡수제는 조성물 중의 고형분 총 중량에 대하여 0.025 내지 7중량%를 포함하고,
상기 카도계 바인더 수지는 하기 화학식 1-1 및 화학식 1-2로 표시되는 화합물 중 하나 이상을 포함하며,
상기 산란입자는 평균입경이 30 내지 300 ㎚인 금속산화물을 포함하고,
상기 청색 감광성 수지 조성물을 사용하여 제조된 컬러필터에 대하여 하기 식 1을 이용하여 산출된 확산율이 70.4 내지 85.9인 것인, 청색 감광성 수지 조성물:
[식 1]
확산율 = (B70 + B20) / 2 x B5 x 100
(Bθ=Iθ/cosθ)
상기 식 1에서,
I는, 각 각도에서 변각광도계(GC-5000L, Nippon Denshoku)로 측정된 광 강도(Intensity)를 의미하고,
B70, B20 B5는, 각각 70도, 20도 및 5도에서 측정한 것을 의미한다.
[화학식 1-1]

[화학식 1-2]

(상기 화학식 1-1 또는 화학식 1-2에서,
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 이며;
X는 수소 원자, 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 또는 수산기이고;
R5는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이다.)
A blue photosensitive resin composition comprising scattering particles, a blue colorant, a cardo-based binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, a UV absorber, and a solvent,
The UV absorber is octyl 3-[3-tert-butyl-4-hydroxy-5-(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)phenyl]propionate, 2-ethylhexyl 3-(3 -tert-butyl-4-hydroxy-5-(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)phenyl)propionate, [3-[3-(2H-benzotriazol-2-yl) -5-(1,1-methylethyl)-4-hydroxyphenyl]-1-oxopropyl]-w-[3-[3-(2H-benzotriazol-2-yl)-5-(1, 1-dimethylethyl)-4-hydroxyphenyl]-1-oxopropoxy]poly(oxy-1,2-ethanediyl), (3-(3-(2H-benzotriazol-2-yl)- 5-(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxyphenyl)-1-oxopropyl)-hydroxypoly(oxo-1,2-ethanediyl), 2-(2H-benzotriazole-2- 1)-4,6-ditertpentylphenol, 3-(2H-benzotriazolyl)-5-(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxy-benzinepropionic acid octyl ester, 2-(2H-benzotria) Zol-2-yl)-4,6-bis(1-methyl-1-phenylethyl)phenol, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-6-(1-methyl-1-phenylethyl) -4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol, 2-(4,6-dimethyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-((hexyl)oxy)- Phenol, 2-(4-(2-hydroxy-3-tridecyloxypropyl)oxy)-2-hydroxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5- Triazine, 2-(4-(2-hydroxy-3-didecyloxypropyl)oxy)-2-hydroxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5 -Triazine, 2-(2-hydroxy-4-(3-(2-ethylhexyl-1-oxy)-2-hydroxypropyloxy)phenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl )-1,3,5-triazine, 2,2'-[6-(2,4-dibutoxyphenyl)-1,3,5-triazine-2,4-diyl]bis(5- butoxyphenol) and 6-methylheptyl 2-{4-[4,6-di(4-biphenylyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-3-hydroxyphenoxy}prop Contains one or more of the panoates,
The UV absorber contains 0.025 to 7% by weight based on the total weight of solids in the composition,
The cardo-based binder resin includes one or more of the compounds represented by the following formulas 1-1 and 1-2,
The scattering particles include metal oxides with an average particle diameter of 30 to 300 nm,
A blue photosensitive resin composition, wherein the diffusion rate calculated using the following formula 1 for the color filter manufactured using the blue photosensitive resin composition is 70.4 to 85.9:
[Equation 1]
Diffusion rate = (B 70 + B 20 ) / 2 x B 5 x 100
(B θ =I θ /cosθ)
In equation 1 above,
I means the light intensity measured with a variable angle photometer (GC-5000L, Nippon Denshoku) at each angle,
B 70, B 20 and B 5 means measurements at 70 degrees, 20 degrees and 5 degrees, respectively.
[Formula 1-1]

[Formula 1-2]

(In Formula 1-1 or Formula 1-2,
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently, and;
X is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a hydroxyl group;
R 5 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
청구항 1에 있어서, 상기 산란입자는 Al2O3, SiO2, ZnO, ZrO2, BaTiO3, TiO2, Ta2O5, Ti3O5, ZnO, Nb2O3, SnO 및 MgO으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인, 청색 감광성 수지 조성물.The method of claim 1, wherein the scattering particles are Al 2 O 3 , SiO 2 , ZnO, ZrO 2 , BaTiO 3 , TiO 2 , Ta 2 O 5 , Ti 3 O 5 , ZnO, Nb 2 O 3 , SnO and MgO. A blue photosensitive resin composition comprising at least one member selected from the group. 청구항 1에 있어서, 상기 청색 감광성 수지 조성물은 자색 착색제를 더 포함하는 것인, 청색 감광성 수지 조성물.The blue photosensitive resin composition of claim 1, wherein the blue photosensitive resin composition further includes a purple colorant. 청구항 1에 있어서, 상기 청색 착색제는 청색 안료 및 청색 염료 중 하나 이상을 포함하는, 청색 감광성 수지 조성물.The blue photosensitive resin composition of claim 1, wherein the blue colorant includes at least one of a blue pigment and a blue dye. 청구항 1에 있어서, 상기 카도계 바인더 수지는 9,9-비스(3-시나믹 디에스테르)플루오렌(9,9-bis(3-cinnamic diester)fluorene), 9,9-비스(3-시나모일, 4-하이드록시페닐)플루오렌(9,9-bis(3-cinnamoil, 4-hydroxyphenyl)fluorene), 9,9-비스(글리시딜 메타크릴레이트 에테르)플루오렌(9,9-bis(glycidyl methacrylate ether)fluorene), 9,9-비스(3,4-디하이드록시페닐)플루오렌 디시나믹 에스테르(9,9-bis(3,4-dihydroxyphenyl)fluorene dicinnamic ester), 3,6-디글리시딜 메타크릴레이트 에테르 스피로(플루오렌-9,9-잔텐)(3,6-diglycidyl methacrylate ether spiro(fluorene-9,9-xantene)), 9,9-비스(3-알릴, 4-하이드록시페닐플루오렌)(9,9-bis(3-allyl, 4-hydroxyphenylfluorene), 9,9-비스(4-알릴록시페닐)플루오렌(9,9-bis(4-allyloxyphenyl)fluorene) 및 9,9-비스(3,4-메타크릴릭 디에스테르)플루오렌(9,9-bis(3,4-methacrylic diester)fluorene)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것인, 청색 감광성 수지 조성물.The method of claim 1, wherein the cardo-based binder resin is 9,9-bis(3-cinnamic diester)fluorene (9,9-bis(3-cinnamic diester)fluorene), 9,9-bis(3-cinnamic diester)fluorene Moyl, 4-hydroxyphenyl) fluorene (9,9-bis (3-cinnamoil, 4-hydroxyphenyl) fluorene), 9,9-bis (glycidyl methacrylate ether) fluorene (9,9-bis (glycidyl methacrylate ether)fluorene), 9,9-bis(3,4-dihydroxyphenyl)fluorene dicinnamic ester, 3,6- Diglycidyl methacrylate ether spiro (fluorene-9,9-xantene) (3,6-diglycidyl methacrylate ether spiro(fluorene-9,9-xantene)), 9,9-bis (3-allyl, 4 -Hydroxyphenylfluorene)(9,9-bis(3-allyl, 4-hydroxyphenylfluorene), 9,9-bis(4-allyloxyphenyl)fluorene) and 9,9-bis(3,4-methacrylic diester)fluorene, a blue color containing at least one selected from the group consisting of Photosensitive resin composition. 청구항 1에 있어서, 상기 청색 감광성 수지 조성물은 바인더 수지로써 아크릴계 알칼리 가용성 수지를 더 포함하는 것인, 청색 감광성 수지 조성물. The blue photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the blue photosensitive resin composition further includes an acrylic alkali-soluble resin as a binder resin. 청구항 1에 있어서, 상기 광중합 개시제는 하기의 화학시 3 내지 5로 표시되는 화합물 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인, 청색 감광성 수지 조성물.
[화학식 3]

(상기 화학식 3에서,
R8은 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 벤질기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 나프틸기, 또는 -SRa일 수 있고, Ra는 수소, 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 벤질기 일 수 있으며;
R9 내지 R12는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 벤질기, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환 또는 비치환된 나프틸기이며;
상기 R11 과 R12는 함께 고리를 형성할 수 있다.)
[화학식 4]

(상기 화학식 4에서, R13은 디페닐술파이드기, 치환 디페닐술파이드기, 카르바졸기, 치환 카르바졸기, 플루오렌기, 또는 치환 플루오렌기이며;
R14는 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 8의 사이클로알킬기, 치환되지 않거나 치환된 페닐기 또는 이고, n은 1~4인 정수이고, m은 1~6인 정수이며;
R15는 1~8 개의 탄소를 가진 알킬기, 페닐기, 치환 페닐기, 벤질기 또는 치환 벤질기 이다.)
[화학식 5]

(화학식 5에 있어서,
R16, R17 및 R18은 각각 독립적으로 R, OR, COR, SR, CONRR', ROR'또는 CN을 나타내며;R 및 R'는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 7 내지 30의 아랄킬기 또는 탄소수 2 내지 20의 복소환기를 나타내고, 이들은 할로겐 원자 또는 탄소수 2 내지 20의 복소환기로 치환될 수 있으며, 이들 중 알킬기 및 아랄킬기의 알킬렌 부분은 불포화 결합, 에테르 결합, 티오에테르 결합 또는 에스테르 결합에 의해 중단되어 있을 수 있고, 또한 R 및 R'는 함께 고리를 형성할 수 있으며;
Y1은 산소원자, 유황원자 또는 셀렌원자를 나타내고,
r은 0~5의 정수를 나타내고;
s는 0 또는 1을 나타내며;
R19, R20, R21 및 R22는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자 또는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고;
X1 및 X2는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 7 내지 30의 아랄킬기 또는 탄소수 2 내지 20의 복소환기를 나타내고, 이들은 할로겐 원자 또는 탄소수 2 내지 20의 복소환기로 치환될 수 있으며, 이들 중 알킬기 및 아랄킬기의 알킬렌 부분은 불포화 결합, 에테르 결합, 티오에테르 결합 또는 에스테르 결합에 의해 중단되어 있을 수 있고;
X2는 인접한 고리의 탄소원자와 함께 고리를 형성 할 수 있으며;
Y2 및 Y3는 각각 독립적으로 산소원자, 유황원자 또는 셀렌원자를 나타낸다.)
The method according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator is a blue photosensitive resin composition comprising at least one selected from the compounds represented by 3 to 5 in the following chemistry.
[Formula 3]

(In Formula 3 above,
R 8 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a phenyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a benzyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkyl group with 1 to 12 carbon atoms. It may be a cyclic naphthyl group, or -SR a , and R a may be hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a benzyl group;
R 9 to R 12 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a phenyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a benzyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a C 1 to 12 alkyl group. It is a naphthyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group of 12;
R 11 and R 12 may form a ring together.)
[Formula 4]

(In Formula 4, R 13 is a diphenyl sulfide group, a substituted diphenyl sulfide group, a carbazole group, a substituted carbazole group, a fluorene group, or a substituted fluorene group;
R 14 is hydrogen, an alkyl group with 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group with 3 to 8 carbon atoms, an unsubstituted or substituted phenyl group, or , n is an integer from 1 to 4, and m is an integer from 1 to 6;
R 15 is an alkyl group having 1 to 8 carbons, a phenyl group, a substituted phenyl group, a benzyl group, or a substituted benzyl group.)
[Formula 5]

(In Formula 5,
R 16 , R 17 and R 18 each independently represent R, OR, COR, SR, CONRR', ROR' or CN; R and R' are an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, It represents an aralkyl group with 7 to 30 carbon atoms or a heterocyclic group with 2 to 20 carbon atoms, and these may be substituted with a halogen atom or a heterocyclic group with 2 to 20 carbon atoms, and among these, the alkylene portion of the alkyl group and aralkyl group is an unsaturated bond, ether. may be interrupted by a bond, a thioether bond, or an ester bond, and R and R' may be taken together to form a ring;
Y 1 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a selenium atom,
r represents an integer from 0 to 5;
s represents 0 or 1;
R 19 , R 20 , R 21 and R 22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms;
X 1 and may be substituted, and among these, the alkylene portion of the alkyl group and aralkyl group may be interrupted by an unsaturated bond, an ether bond, a thioether bond, or an ester bond;
X 2 can form a ring with the carbon atom of an adjacent ring;
Y 2 and Y 3 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or a selenium atom.)
청구항 1에 있어서,
상기 광중합 개시제는 하기 화학식으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인, 청색 감광성 수지 조성물.
[화학식 5-1]

[화학식 5-2]

[화학식 5-3]

[화학식 5-4]

[화학식 5-5]

[화학식 5-6]

[화학식 5-7]

[화학식 5-8]
In claim 1,
The photopolymerization initiator is a blue photosensitive resin composition comprising at least one selected from the group consisting of the following formula.
[Formula 5-1]

[Formula 5-2]

[Formula 5-3]

[Formula 5-4]

[Formula 5-5]

[Formula 5-6]

[Formula 5-7]

[Formula 5-8]
청구항 1에 있어서, 상기 청색 감광성 수지 중의 고형분 총 중량에 대하여 상기 산란입자 0.1 내지 50중량%; 상기 청색 착색제 0.1 내지 50중량%; 상기 바인더 수지 5 내지 85중량%; 광중합성 화합물 5 내지 50중량%; 및 상기 광중합 개시제 0.1 내지 20중량%를 포함하고, 상기 청색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 용제 60 내지 90중량% 포함하는 것인, 청색 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1, wherein the scattering particles are 0.1 to 50% by weight based on the total weight of solids in the blue photosensitive resin; 0.1 to 50% by weight of the blue colorant; 5 to 85% by weight of the binder resin; 5 to 50% by weight of a photopolymerizable compound; and 0.1 to 20% by weight of the photopolymerization initiator, and 60 to 90% by weight of a solvent based on the total weight of the blue photosensitive resin composition. 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항의 청색 감광성 수지 조성물로 이루어진 청색 패턴층을 포함하는 컬러필터.A color filter comprising a blue pattern layer made of the blue photosensitive resin composition of any one of claims 1 to 9. 청구항 10에 있어서,
상기 컬러필터는 적색 패턴층 및 녹색 패턴층으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 더 포함하는 것인 컬러필터.
In claim 10,
The color filter further includes one or more selected from the group consisting of a red pattern layer and a green pattern layer.
청구항 11에 있어서,
상기 적색 패턴층 또는 녹색 패턴층은 양자점을 포함하는 것인 컬러필터.
In claim 11,
A color filter wherein the red pattern layer or the green pattern layer includes quantum dots.
청구항 12에 있어서,
상기 컬러필터는 자발광 컬러필터인 것을 특징으로 하는 컬러필터.
In claim 12,
A color filter, characterized in that the color filter is a self-luminous color filter.
청구항 10에 따른 컬러필터; 및
청색광을 방출하는 광원;을 포함하는 화상표시장치.
Color filter according to claim 10; and
An image display device comprising a light source that emits blue light.
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