KR102571547B1 - 복수의 스틸 화이버들을 포함하는 음이온 발생 장치 - Google Patents

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Abstract

일 실시예에 따른 음이온 발생 장치는, 복수의 개구들을 포함하는 하우징, 전력을 공급하도록 구성된 전력 공급부, 상기 전력 공급부와 전기적으로 연결되고, 적어도 부분적으로 탄산 칼슘으로 코팅되고, 상기 전력 공급부로부터 공급되는 전력에 기반하여, 음이온을 방출하도록 구성된 스틸 화이버(steel fiber), 상기 전력 공급부를 제어하도록 구성된 프로세서를 포함하고, 상기 스틸 화이버는, 상기 고압 발생부로부터, 상기 복수의 개구들 중, 제1 개구를 통해 상기 하우징의 외부로 노출되는 제1 스틸 화이버 및 상기 고압 발생부로부터, 상기 복수의 개구들 중, 상기 제1 개구로부터 이격된 제2 개구를 통해 상기 하우징의 외부로 노출되는 제2 스틸 화이버를 포함할 수 있다.

Description

복수의 스틸 화이버들을 포함하는 음이온 발생 장치{NEGATIVE ION GENERATOR INCLUDING A PLURALITY OF STEEL FIBERS}
본 개시의 다양한 실시예들은, 복수의 스틸 화이버들을 포함하는 음이온 발생 장치에 관한 것이다.
음이온은, 음전하를 띄는 이온으로서, 공기 중의 분진, 냄새 입자, 박테리아, 미세먼지와 흡착되어, 공기를 정화할 수 있다. 또한, 음이온은, 사람의 체내에 흡수되어, 세포의 이온 교환을 보완하여 사람의 면역력을 높이고, 체질 개선 작용을 수행할 수 있다.
종래의 음이온 발생 장치는, 동판과 알루미늄 판을 마주하게 배치하고, 음전류와 접지로써 전하의 이동을 유도하여 음이온을 발생시켰다. 이러한 음이온 발생 장치는, 음이온이 생성될 때 사람에게 유해한 질소 산화물(NOx), 오존이 부산물로 발생될 수 있다. 또한, 동판과 알루미늄판은 고전압에 따른 전하의 이동에 의해서 비철금속의 결정립까지 전하의 흐름에 동승하게 되는데, 미립자화된 결정립이 대기중으로 확산되면 습기와의 반응으로 동판은 청화작용으로 인한 독성 부식물질이 그리고 알루미늄은 백화 현상으로 인한 맹독성 물질이 문제이다. 또한, 램프용 PCB에는 3파장 회로와 승압회로를 경유하도록 배선되고 PCB의 회로설계상 벌브측에 연결되는 단자와 고압발생장치에 연결되는 단자 때문에 내부구조상 근접 배치가 불가피하다. 이처럼 양측 단자가 근접 배치되면 대전시 양측 단자간에 스파크 현상이 발생할 가능성이 높다. 스파크는 인체에 유해한 오존과 NOx의 주범이며, 트랜스가 과열되는 원인이기도 하여 유관 트랜지스터 등의 전기부품이 소실돼 램프의 기능이 저하되거나 심지어 마비되는 등의 부작용도 문제된다.
상술한 정보는 본 개시에 대한 이해를 돕기 위한 목적으로 하는 배경 기술(related art)로 제공될 수 있다. 상술한 내용 중 어느 것도 본 개시와 관련하여 종래 기술(prior art)로서 적용될 수 있는지에 관해서는 어떠한 주장이나 결정이 제기되지 않는다.
음이온 발생 장치가 사람에게 유익한 음이온을 생성할 때, 부산물로 질소 산화물 및/또는 오존을 부산물로 생성함으로써, 오히려 사람에게 유해한 작용을 일으킬 수 있다. 또한, 발광부(예: LED 또는 램프)를 위한 PCB와 고압 발생장치 사이이 전기적 상호작용에 의해, NOx 및/또는 오존이 발생될 수 있다. 본 개시는, 음이온을 발생하면서 부산물로 질소 산화물 및 오존을 생성하지 않는 음이온 발생 장치를 제공한다. 또한, 복수의 스틸 화이버들을 통해, 사각지대 없이 광범위한 공간을 효율적으로 정화할 수 있는 음이온 발생 장치를 제공한다.
본 문서에서 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
일 실시예에 따른 음이온 발생 장치는, 복수의 개구들을 포함하는 하우징, 전력을 공급하도록 구성된 전력 공급부, 상기 전력 공급부와 전기적으로 연결되고, 적어도 부분적으로 탄산 칼슘으로 코팅되고, 상기 전력 공급부로부터 공급되는 전력에 기반하여, 음이온을 방출하도록 구성된 스틸 화이버(steel fiber), 상기 전력 공급부를 제어하도록 구성된 프로세서를 포함하고, 상기 스틸 화이버는, 상기 고압 발생부로부터, 상기 복수의 개구들 중, 제1 개구를 통해 상기 하우징의 외부로 노출되는 제1 스틸 화이버 및 상기 고압 발생부로부터, 상기 복수의 개구들 중, 상기 제1 개구로부터 이격된 제2 개구를 통해 상기 하우징의 외부로 노출되는 제2 스틸 화이버를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 음이온 발생 장치는, 상기 음이온 발생 장치의 외부의 공기질을 측정하도록 구성된 센서를 더 포함하고, 상기 프로세서는, 상기 센서로부터 획득한 공기질 데이터에 기반하여, 상기 전력 공급부를 제어함으로써, 상기 제1 스틸 화이버 및 상기 제2 스틸 화이버를 통해 방출되는 음이온을 제어하도록 구성될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 센서는, 상기 제1 개구에 인접하도록 배치된 제1 센서 및 상기 제2 개구에 인접하도록 배치된 제2 센서를 포함하고, 상기 프로세서는, 상기 제1 센서로부터, 상기 제1 개구 주위의 공기질에 관련된 제1 데이터를 획득하고, 상기 제2 센서로부터, 상기 제2 개구 주위의 공기질에 관련된 제2 데이터를 획득하도록 구성될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 프로세서는, 상기 제1 데이터 및 상기 제2 데이터를 기준 데이터(reference data)와 비교하고, 상기 기준 데이터보다 낮은 공기질을 나타내는 상기 제1 데이터를 식별함에 응답하여, 상기 제1 스틸 화이버를 통해 음이온이 방출되도록, 상기 전력 공급부를 제어하고, 상기 기준 데이터보다 낮은 공기질을 나타내는 상기 제2 데이터를 식별함에 응답하여, 상기 제2 스틸 화이버를 통해 음이온이 방출되도록, 상기 전력 공급부를 제어하도록 구성될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 프로세서는, 상기 제1 데이터와 상기 제2 데이터를 비교하고, 상기 제1 데이터가 나타내는 공기질과 상기 제2 데이터가 나타내는 공기 질의 차이가 임계치를 초과함을 식별함에 응답하여, 제1 스틸 화이버 또는 제2 스틸 화이버로 공급되는 전력을 변경하도록 구성될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 전면(front surface)을 형성하는 제1 면, 후면(rear surface)을 형성하는 제2 면, 및 상기 제1 면과 상기 제2 면 사이를 둘러싸고, 측면을 형성하는 제3 면을 포함하고, 상기 제1 개구는, 상기 제1 면에 형성되고, 상기 제1 스틸 화이버는, 상기 제1 개구를 통해, 상기 하우징의 전면으로 음이온을 방출하도록 구성되고, 상기 제2 개구는, 상기 제2 면에 형성되고, 상기 제2 스틸 화이버는, 상기 제2 개구를 통해, 상기 하우징의 측면으로 음이온을 방출하도록 구성될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 스틸 화이버는, 표면적의 극대화를 위해 기모 처리될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 하우징은, 저온 촉매로 코팅될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 음이온 발생 장치는, 상기 하우징의 외부로 빛을 조사하도록 구성된 발광부를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 사용자 입력을 수신하도록 구성된 입력부를 더 포함하고, 상기 입력부는, 상기 제1 스틸 화이버로 공급되는 전력을 조절하기 위한 제1 시각적 객체 및 상기 제2 스틸 화이버로 공급되는 전력을 조절하기 위한 제2 시각적 객체를 표시하고, 상기 프로세서는, 상기 제1 시각적 객체에 대한 사용자 입력에 기반하여, 상기 제1 스틸 화이버를 통해 방출되는 음이온의 양을 조절하도록, 상기 전력 공급부를 제어하고, 상기 제2 시각적 객체에 대한 사용자 입력에 기반하여, 상기 제2 스틸 화이버를 통해 방출되는 음이온의 양을 조절하도록, 상기 전력 공급부를 제어하도록 구성될 수 있다.
일 실시예에 따른 음이온 발생 장치는, 음이온을 생성할 때 부산물로 질소 산화물 및/또는 오존이 생성되지 않음으로써, 순수한 음이온만을 생성하여 공기를 정화하고 사람들에게 쾌적함을 제공할 수 있다. 또한, 음이온 발생 장치는, 서로 다른 방향으로 음이온을 방출하도록 구성된 복수의 스틸 화이버들을 통해, 사각지대 없이 광범위한 공간으로 음이온을 방출할 수 있다. 음이온 발생 장치는, 일정 공간의 공기질에 기반하여 복수의 스틸 화이버들을 제어함으로써, 광범위한 공기 정화 효과 및 효율적인 전력관리가 가능할 수 있다.
본 개시에서 얻을 수 있는 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 개시가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은, 일 실시예에 따른(according to an embodiment) 음이온 발생 장치의 블록도이다.
도 2a는, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치의 정면도의 예시이다.
도 2b는, 도 2a에 도시된 음이온 발생 장치의 단면도이다.
도 2c는, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치의 정면도이다.
도 2d는, 도 2c에 도시된 음이온 발생 장치의 사시도이다.
도 3은, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치를 도 2d의 A-A'를 따라서 절단한 단면도이다.
도 4a는, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치의 스틸 화이버에 관한 개념도이다.
도 4b는, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치의 스틸 화이버를 나타낸다.
도 4c는, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치 내부 회로를 개략적으로 나타낸다.
도 5는, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치의 동작의 일 예를 나타내는 흐름도(flow chart)이다.
도 6은, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치의 동작의 일 예를 나타내는 흐름도이다.
도 7은, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치의 입력부를 나타낸다.
도 1은, 일 실시예에 따른(according to an embodiment) 음이온 발생 장치(10)의 블록도이다. 도 2a는, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)의 정면도의 예시이다. 도 2b는, 도 2a에 도시된 음이온 발생 장치(10)의 단면도이다. 도 2c는, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)의 정면도이다. 도 2d는, 도 2c에 도시된 음이온 발생 장치(10)의 사시도이다. 도 3은, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)를 도 2d의 A-A'를 따라서 절단한 단면도이다.
도 1, 도 2a, 도 2b, 도 2c, 도 2d, 및 도 3을 참조하면, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)는, 하우징(110), 전력 공급부(210), 스틸 화이버(220), 프로세서(201) 및 발광부(240)를 포함할 수 있다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 하우징(110)은, 음이온 발생 장치(10)의 외관을 형성할 수 있다. 예를 들어, 지면에 놓인 상태로 사용되도록 구성된 음이온 발생 장치(10)의 경우, 하우징(110)은, 대략적으로 육면체 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 하우징(110)은, 전면(front surface)을 형성하는 제1 면(111), 제1 면(111)에 반대(opposite to)이고, 후면(rear surface)을 형성하는 제2 면(미도시), 및 제1 면(111)과 제2 면 사이를 둘러싸고, 측면(side surface)을 형성하는 제3 면(112)을 포함할 수 있다. 제1 면(111), 제2 면, 및 제3 면(112)은, 서로 결합되어 음이온 발생 장치(10)의 외관을 형성하고, 내부에 실장되는 구성요소들을 위한 실장 공간을 제공할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 하우징(110)은, 저온 촉매로 코팅될 수 있다. 저온 촉매는, 고온에서만 반응하는 광촉매와 달리, 상온에서 오염원인 휘발성 유기 용제를 중화시켜 탈취할 수 있다. 하우징(110)이 저온 촉매로 코팅됨에 따라, 음이온 발생 장치(10)의 공기 정화 능력이 향상될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 하우징(110)은, 개구(120)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 하우징(110)은, 하우징(110)의 전면을 형성하는 제1 면(111)에 형성된 개구(120)를 포함할 수 있다. 개구(120)를 통해, 스틸 화이버(120)가 노출될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 하우징(110)은, 서로 이격된 복수의 개구들(120)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 하우징(110)은, 제1 면(111)에 형성된 제1 개구(121), 제2 면에 형성된 제2 개구(122)를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 도 2d를 참조하면, 제3 면(112)은, 서로 다른 방향을 향하는 제4 면(112a) 및 제5 면(112b)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제4 면(112a)은, 좌측 또는 우측을 향하는 측면일 수 있고, 제5 면(112b)은, 상부를 향하는 측면일 수 있다. 도 2d에 도시되지 않았으나, 제5(112b) 면에 반대인 면에도 개구가 형성될 수 있다. 제4 면(112a)과 제5 면(112b)은, 대략적으로 서로 90도 각도를 이루도록 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 복수의 개구들(120)은, 후술될 스틸 화이버(220)의 적어도 일부를 노출시킬 수 있다.
도 1을 참조하면, 전력 공급부(210)는, 스틸 화이버(220)로 전력을 공급하도록 구성될 수 있다. 본 명세서에서, 스틸 화이버(220)로 전력을 공급함은, 스틸 화이버(220)로 직접 전력을 공급하거나, 또는 스틸 화이버(220)가 연결된 대전관(24)으로 전압을 인가하는 것을 의미할 수 있다. 예를 들어, 전력 공급부(210)는, 스틸 화이버(220)로 고전압의 전력을 공급하여, 음이온을 생성하기 위한 소스(source)를 제공할 수 있다. 전력 공급부(210)를 통해 공급되는 전력은, 고전압 승압부(211)를 통해 승압될 수 있다. 전력 공급부(210)는, 프로세서(201)에 의해 제어될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 스틸 화이버(220)는, 전력 공급부(210)와 전기적으로 연결될 수 있다(electrically connected). 스틸 화이버(220)는, 전력 공급부(210)로부터 공급되는 전력에 기반하여, 음이온을 방출하도록 구성될 수 있다. 스틸 화이버(220)는, 카본 필라멘터, 카본 섬유, 및 도전성 물질이 코팅된 연사를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 고전압 승압부(211)를 통해 고전압이 인가되면, 방전핀(23)과 대전관(24) 사이의 고전압 방전에 의해, 스틸 화이버(220)의 끝단에서 음이온이 방출될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 스틸 화이버(220)는, 적어도 부분적으로(at least partially) 탄산 칼슘으로 코팅될 수 있다. 예를 들어, 진공 증착 과정을 통해, 스틸 화이버(220)의 표면에 탄산 칼슘이 코팅될 수 있다. 탄산 칼슘은, 천연에서 유래된 산호 탄산칼슘일 수 있으며, 나노급으로 분말화한 후 스틸 화이버(220)의 표면에 코팅될 수 있다. 예를 들어, 탄산 칼슘에 의해 코팅된 스틸 화이버(220)는, 전력 공급부(210)와 연결된 대전관(24)의 단부에 위치될 수 있다. 스틸 화이버(220)는, 복수의 개구들(120)을 통해, 하우징(110)의 외부로 노출될 수 있다. 음이온은, 공기 중의 분진, 냄새 입자, 박테리아, 미세먼지와 흡착되어, 공기를 정화할 수 있다. 또한, 음이온은, 사람의 체내에 흡수되어, 세포의 이온 교환을 보완하여 사람의 면역력을 높이고, 체질 개선 작용을 수행할 수 있다.
일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)는, 복수의 스틸 화이버(220)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 음이온 발생 장치(10)는, 제1 스틸 화이버(221), 제2 스틸 화이버(222), 및/또는 제3 스틸 화이버(223)를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 음이온 발생 장치(10)가 사용될 목적, 설치된 장소에 따라, 스틸 화이버(220)의 개수가 조절될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 스틸 화이버(220)는, 하우징(110) 내부의 전력 공급부(210)와 전기적으로 연결되기 위해, 전력 공급부(210)와 연결된 대전관(24)에 연결될 수 있다. 전력 공급부(210)는, 대전관(24)을 통해, 스틸 화이버(220)로 전력을 공급할 수 있다. 전력 공급부(210)로부터 연장되는 복수의 대전관(24)들의 단부에 연결되는 스틸 화이버(220)는, 복수의 개구들(120)을 통해 하우징(110)의 외부로 노출될 수 있다.
예를 들어, 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 제1 스틸 화이버(221) 및 제2 스틸 화이버(222)는, 개구(120)를 통해 하우징(110)의 외부로 노출될 수 있다. 제1 스틸 화이버(221) 및 제2 스틸 화이버(222)의 일부는, 하우징(110)의 제1 면(111)을 향하여 음이온을 방출하도록 구성될 수 있다. 전력 공급부(210)로부터 전력이 제공되면, 제1 스틸 화이버(221) 및 제2 스틸 회이버(222)는, 음이온을 방출하도록 구성될 수 있다. 하우징(110)의 전면을 형성하는 제1 면(111)은, 사용자에게 가장 쉽게 노출될 수 있는 부분이므로, 제1 면(111)을 향하여 음이온이 방출될 때, 사용자에게 음이온이 용이하게 전달될 수 있다.
예를 들어, 도 2d를 참조하면, 제1 스틸 화이버(221)는, 제1 개구(121)를 통해, 하우징(110)의 외부로 노출될 수 있고, 제2 스틸 화이버(222)는, 제2 개구(122)를 통해, 하우징(110)의 외부로 노출될 수 있고, 제3 스틸 화이버(223)는, 제3 개구(123)를 통해, 하우징(110)의 외부로 노출될 수 있다. 제1 개구(121), 제2 개구(122), 및 제3 개구(123)는, 서로 다른 위치에 위치되므로, 제1 스틸 화이버(221), 제2 스틸 화이버(222), 및 제3 스틸 화이버(223)로부터 방출되는 음이온은, 서로 다른 방향으로 방출될 수 있다. 예를 들어, 제1 스틸 화이버(221)로부터 방출되는 음이온은, 하우징(110)의 전방을 향해 방출될 수 있다. 제2 스틸 화이버(222)로부터 방출되는 음이온은, 하우징(110)의 좌측 또는 우측을 향해 방출될 수 있다. 제3 스틸 화이버(223)로부터 방출되는 음이온은, 하우징(110)의 상부를 향해 방출될 수 있다. 서로 다른 방향으로 방출되는 음이온은, 서로 다른 공간의 공기를 정화함으로써, 음이온 발생 장치(10)가 배치된 공간을 효율적으로 정화할 수 있다. 도 2c 및 도 2d에 도시된 바와 같이, 스틸 화이버(220)는, 여러 방향으로 음이온을 방출할 수 있으나, 도 2a 및 도 2b에 도시된 실시예처럼, 일 방향을 향해 음이온을 방출하도록 구성될 수도 있다.
예를 들어, 음이온 발생 장치(10)로부터 방출되는 음이온이 특정 방향으로만 방출될 때, 특정 방향의 공기가 정화될 수 있다. 음이온은, 전기적으로 매우 불안정한 상태이기 때문에, 공기 중에 오랜 시간동안 머무르기 어려울 수 있다. 따라서, 특정 방향으로 음이온이 방출될 경우, 음이온 발생 장치(10)로부터 특정 방향의 공기만이 정화될 수 있으므로, 공기 정화의 사각지대가 발생할 수 있다.
일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)는, 서로 이격된 제1 개구(121), 제2 개구(122), 및 제3 개구(123)를 통해 노출된 제1 스틸 화이버(221), 제2 스틸 화이버(222), 및 제3 스틸 화이버(223)로부터 음이온이 방출될 수 있다. 음이온은, 서로 다른 방향으로 방출되어, 음이온 발생 장치(10)의 위치에 대하여 사각지대 없이 넓은 범위의 공기를 커버하여, 공기 정화 효과가 향상될 수 있다.
일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)는, 발광부(240) 및/또는 입력부(250)를 더(further) 포함할 수 있다. 발광부(240)는, 전력 공급부(210)로부터 전력을 공급받음으로써, 하우징(110)의 외부로 빛을 조사하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 발광부(240)는, 삼파장 램프, LED((Lighting Emitting Diode)를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 발광부(240)는, 제1 개구(121)를 둘러싸는 제1 발광부(241), 제2 개구(122)를 둘러싸는 제2 발광부(242), 및/또는 제3 개구(123)를 둘러싸는 제3 발광부(243)를 포함할 수 있다. 음이온 발생 장치(10)는, 발광부(240)를 통해, 조명 기기로서 기능할 수 있다. 음이온 발생 장치(10)는, 조명 기기로 동작함과 동시에, 주위의 공기를 정화하고 사람에게 유익한 작용을 하는 음이온을 방출할 수 있는 음이온 조명 기기로 기능할 수 있다. 전력 공급부(210)로부터 발광부(240)로 제공되는 전력은, 인쇄 회로 기판(212)(printed circuit board)을 통해, 제공될 수 있다. 인쇄 회로 기판(212)과 고전압 승압부(211)는, 서로 분리될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 입력부(250)는, 사용자 입력을 수신하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 입력부(250)는, 터치 센서(230)를 포함하고, 스크린을 통해 UI를 제공할 수 있다. 스크린을 통해 제공되는 UI에 대한 사용자 입력은, 터치 센서(230)를 통해 식별될 수 있다. 입력부(250)는, 수신된 사용자 입력을 프로세서(201)에게 제공할 수 있다. 프로세서(201)는, 사용자 입력에 기반하여, 전력 공급부(210)를 제어하도록 구성될 수 있다.
도 4a는, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)의 스틸 화이버(220)에 관한 개념도이다. 도 4b는, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)의 스틸 화이버(220)를 나타낸다. 도 4c는, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10) 내부 회로를 개략적으로 나타낸다.
도 4a를 참조하면, 전력 공급부(210)는, 프로세서(201)에 의해 제어될 수 있다. 프로세서(201)는, 전력 공급부(210)를 제어하여, 전력 공급부(210)로부터, 고전압 승압부(211)로 전력을 제공할 수 있다. 고전압 승압부(211)는, 전력 공급부(210)로부터 제공되는 전력을 일정한 주파수로 발진시키고, 발진된 전압을 고전압으로 승압하도록 구성될 수 있다. 전력 공급부(210)로부터 제공되는 전력은, 고전압 승압부(211)를 통해, 음이온을 생성하기에 충분한 고전압으로 승압될 수 있다. 고전압 승압부(211)를 통해 승압된 전력은, 대전관(24)으로 제공될 수 있다. 고전압이 인가되면, 방전핀(23)과 대전관(24) 사이의 고압 방전에 의해, 스틸 화이버(220)의 끝단에서 음이온이 방출될 수 있다.
하기 [화학식 1]을 참조하면, 전력 공급부(210)로부터 스틸 화이버(220)로 고전압이 공급되면, 고전압 방전과 같은 전기적 자극에 의해 스틸 화이버(220)에 코팅된 탄산 칼슘은 칼슘이온과 탄산이온으로 해리될 수 있다. 대전관(24)은, 스틸 화이버(220)에 전기적 자극을 제공하기 위해서, 고전압 발생부로부터 개구를 향해 연장될 수 있다. 대전관(24)은, 관로 또는 전기 배선을 통해 구현될 수 있다. 예를 들어, 대전관(24)은, 고전압 승압부(211)로부터 개구를 향해 연장된 전기 배선을 제공하는 구성요소를 의미할 수 있다.
[화학식 1]
CaCO3 → Ca2+ + CO32-
하기 [화학식 2]를 참조하면, 해리된 탄산이온은, 대기 중의 물 분자와 반응함으로서, 중탄산염과 수산화이온이 생성될 수 있다.
[화학식 2]
CO3 2- + H2O → HCO3- + OH-
상기 [화학식 2]를 참조하면, 탄산 칼슘으로부터 발생된 수산화이온은, 음전하를 띄는 음이온으로 작용할 수 있다.
도 4b를 참조하면, 스틸 화이버(220)는, 기모 처리됨으로써, 표면적이 극대화될 수 있다. 기모 처리된 스틸 화이버(220)는, 증가된 표면적을 통해, 다량의 음이온을 공기 중으로 방출하도록 구성될 수 있다. 동일한 전력을 통해 방출되는 음이온의 양이 증가될 수 있기 때문에, 음이온 발생 장치(10)의 공기 정화 효과가 극대화될 수 있다.
도 4c를 참조하면, 인쇄 회로 기판(212)과 고전압 승압부(211)는, 서로 분리될 수 있다. 예를 들어, 하우징(110) 내부 공간에서, 고전압 승압부(211)와 인쇄 회로 기판(212)은, 서로 분리될 수 있다. 고전압 승압부(211)의 제1 전기 배선(21)은, 전력 공급부(210)에 연결하고, 고전압 승압부(211)의 제2 전기 배선(22)은, 대전관(24)과 방전핀(23)에 각각 연결할 수 있다. 전력 공급부(210)로부터 제공되는 전력이 발광부(240)로 제공될 때, 상기 전력은 인쇄 회로 기판(212)을 통해 발광부(240)로 제공될 수 있다. 전력 공급부(210)로부터 제공되는 전력이 음이온 방출을 위해 스틸 화이버(220)로 제공될 때, 상기 전력은 인쇄 회로 기판(212)을 통하지 않고, 대전관(24)으로 제공될 수 있다. 상기 전력이 인쇄 회로 기판(212)을 경유하지 않고 음이온 방출을 위해 대전관(24)으로 제공됨에 따라, 대전관(24)이 대전될 때 발광부(240)를 위한 트랜스가 과열되거나 스파크 현상의 발생이 방지될 수 있다. 이에 따라, 트랜스 과열 또는 스파크 현상으로 인해 인쇄 회로 기판(212)의 전기적 구성요소의 손실 및 오존, NOx 등의 유해 물질의 생성이 방지될 수 있다. 따라서, 순수한 음이온만 방출될 수 있기 때문에, 음이온 생성을 위한 유해한 부산물의 생성을 차단할 수 있다.
다시 도 1을 참조하면, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)는, 센서(230)(예: 도 1의 센서(230))를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 센서(230)는, 음이온 발생 장치(10)의 외부의 공기질을 측정하도록 구성될 수 있다. 센서(230)는, 외부 공기의 미세먼지 농도, 세균 농도 등을 측정하고, 측정된 결과에 기반하여 공기의 질에 관한 공기질 데이터를 생성하도록 구성될 수 있다.
일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)는, 센서(230)를 통해 측정된 공기질 데이터에 따라, 스틸 화이버(220)를 통해 방출되는 음이온의 양을 제어하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 음이온 발생 장치(10)는, 여러 방향으로 음이온을 방출할 수 있기 때문에, 음이온 발생 장치(10)에 대하여 특정 방향의 공기질이 나쁠 경우, 해당 방향으로 음이온을 다량 방출시킬 수 있다. 음이온 발생 장치(10)가 배치된 공간에서, 공기질에 따라 음이온의 방출을 제어할 수 있으므로, 전력을 효율적으로 사용하여 공기를 정화시킬 수 있다. 예를 들어, 프로세서(201)는, 센서(230)로부터 획득한 공기질 데이터에 기반하여, 전력 공급부(210)를 제어함으로써, 제1 스틸 화이버(221) 및 제2 스틸 화이버(222)를 통해 방출되는 음이온을 제어할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 센서(230)는, 제1 센서(231), 제2 센서(232), 및/또는 제3 센서(233)를 포함할 수 있다. 센서(230)의 수는, 스틸 화이버(220)의 수에 대응할 수 있다. 예를 들어, 제1 스틸 화이버(221) 및 제2 스틸 화이버(222)가 구비된 경우, 센서(230)는, 제1 센서(231) 및 제2 센서(232)를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 제1 센서(231) 및 제2 센서(232)는, 서로 다른 위치에 위치될 수 있다. 예를 들어, 제1 센서(231)는, 제1 개구(121)에 인접하도록 배치될 수 있고, 제2 센서(232)는, 제1 개구(121)로부터 이격된(space apart from) 제2 개구(122)에 인접하도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 개구(121)의 가장자리에 제1 센서(231)가 배치될 수 있고, 제2 개구(122)의 가장자리에 제2 센서(232)가 배치될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 제1 센서(231)는, 제1 개구(121) 주위의 공기질을 측정하고, 제1 개구(121) 주위의 공기질에 관련된 제1 데이터를 획득할 수 있다. 제2 센서(232)는, 제2 개구(122) 주위의 공기질을 측정하고, 제2 개구(122) 주위의 공기질에 관련된 제2 데이터를 획득할 수 있다.
도 5는, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)의 동작의 일 예를 나타내는 흐름도(flow chart)이다.
도 5를 참조하면, 동작 501에서, 프로세서(201)는, 전력 공급부(210)로부터, 제1 스틸 화이버(221) 및 제2 스틸 화이버(222)로 전력을 제공하도록, 전력 공급부(210)를 제어할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(201)는, 입력부(250)로부터 음이온을 발생하라는 지시를 포함하는 사용자 입력을 수신함에 기반하여, 전력 공급부(210)를 제어할 수 있다. 전력 공급부(210)로부터 제공되는 전력은, 고전압 승압부(211)를 통해 승압된 후, 대전관(24)으로 제공될 수 있다. 대전관(24)으로 고전압이 제공되면, 방전핀(23)과 대전관(24) 사이의 고전압 방전에 의해, 스틸 화이버(220)로부터 음이온이 방출될 수 있다.
동작 502에서, 프로세서(201)는, 제1 센서(231)를 통해 제1 데이터를 획득하고, 제2 센서(232)를 통해 제2 데이터를 획득할 수 있다. 예를 들어, 제1 센서(231)는, 제1 개구(121) 주위의 공기질을 측정하고, 제1 개구(121) 주위의 공기질에 관한 제1 데이터를 생성하고, 생성된 제2 데이터를 프로세서(201)에게 제공할 수 있다. 예를 들어, 제2 센서(232)는, 제2 개구(122) 주위의 공기질을 측정하고, 제2 개구(122) 주위의 공기질에 관한 제2 데이터를 생성하고, 생성된 제2 데이터를 프로세서(201)에게 제공할 수 있다. 공기질이 좋을 경우, 데이터가 나타내는 공기질이 높을 수 있다. 공기질이 나쁠 경우, 데이터가 나타내는 공기질이 낮을 수 있다.
동작 503에서, 프로세서(201)는, 제1 데이터를 기준 데이터(reference data)와 비교할 수 있다. 기준 데이터는, 깨끗한 상태의 공기에서 획득할 수 있는 공기질 데이터로 참조될 수 있다. 기준 데이터는, 미리 지정될 수 있다. 예를 들어, 사람이 활동하는데 쾌적한 환경을 제공할 수 있는 공기질에 관한 공기질 데이터가 기준 데이터로 참조될 수 있다. 예를 들어, 프로세서(201)는, 제1 데이터가 기준 데이터보다 낮은지 여부를 식별할 수 있다.
동작 504에서, 프로세서(201)는, 기준 데이터보다 낮은 공기질을 나타내는 제1 데이터를 식별함에 응답하여, 제1 스틸 화이버(221)를 통해 음이온이 방출되도록 전력 공급부(210)를 제어할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(201)는, 전력 공급부(210)로부터 제1 스틸 화이버(221)로 전력이 제공되도록, 전력 공급부(210)를 제어할 수 있다. 제1 스틸 화이버(221)로 전력이 제공됨에 따라, 제1 스틸 화이버(221)로부터 음이온이 계속 방출될 수 있다. 제1 스틸 화이버(221)로부터 방출된 음이온은, 제1 개구(121) 주위의 공기를 정화할 수 있다.
동작 505에서, 프로세서(201)는, 기준 데이터 이상의 공기질을 나타내는 제1 데이터를 식별함에 응답하여, 비활성 상태에 기반하여 제1 스틸 화이버(221)로 공급되는 전력을 제어할 수 있다. 비활성 상태란, 제1 스틸 화이버(221)로 제공되는 전력을 최소화함으로써, 소량의 음이온이 방출되는 상태를 의미할 수 있다. 비활성 상태에서, 제1 스틸 화이버(221)로 제공되는 전력이 최소화되고, 제1 스틸 화이버(221)로부터 방출되는 음이온이 감소될 수 있다. 제1 개구(121) 주위의 공기질이 깨끗한 상태이므로, 제1 스틸 화이버(221)로 제공되는 전력을 감소시킴으로써, 전력 소모를 줄일 수 있다.
동작 506에서, 프로세서(201)는, 제2 데이터를 기준 데이터와 비교할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(201)는, 제2 데이터가 기준 데이터보다 낮은지 여부를 식별할 수 있다.
동작 507에서, 프로세서(201)는, 기준 데이터보다 낮은 공기질을 나타내는 제2 데이터를 식별함에 응답하여, 제2 스틸 화이버(222)를 통해 음이온이 방출되도록 전력 공급부(210)를 제어할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(201)는, 전력 공급부(210)로부터 제2 스틸 화이버(222)로 전력이 제공되도록, 전력 공급부(210)를 제어할 수 있다. 제2 스틸 화이버(222)로 전력이 제공됨에 따라, 제1 스틸 화이버(221)로부터 음이온이 계속 방출될 수 있다. 제2 스틸 화이버(222)로부터 방출된 음이온은, 제2 개구(122) 주위의 공기를 정화할 수 있다.
동작 508에서, 프로세서(201)는, 기준 데이터 이상의 공기질을 나타내는 제2 데이터를 식별함에 응답하여, 비활성 상태에 기반하여 제2 스틸 화이버(222)로 공급되는 전력을 제어할 수 있다. 비활성 상태란, 제2 스틸 화이버(222)로 제공되는 전력을 최소화함으로써, 소량의 음이온이 방출되는 상태를 의미할 수 있다. 비활성 상태에서, 제2 스틸 화이버(222)로 제공되는 전력이 최소화되고, 제2 스틸 화이버(222)로부터 방출되는 음이온이 감소될 수 있다. 제2 개구(122) 주위의 공기질이 깨끗한 상태이므로, 제2 스틸 화이버(222)로 제공되는 전력을 감소시킴으로써, 전력 소모를 줄일 수 있다.
일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)는, 복수의 스틸 화이버(220)를 이용하여 공기를 정화할 때, 효율적인 전력 소모를 위해 공기질에 따라 전력 공급부(210)를 제어할 수 있다. 이에 따라, 음이온 발생 장치(10) 주위의 공기를 효율적으로 정화하고, 불필요한 전력 소모를 줄일 수 있다.
도 6은, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)의 동작의 일 예를 나타내는 흐름도이다.
일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)는, 절대적인 판단에 따른 도 5의 동작 외에, 상대적인 판단에 따른 동작을 수행할 수 있다.
도 6을 참조하면, 동작 601에서, 프로세서(201)는, 전력 공급부(210)로부터, 제1 스틸 화이버(221) 및 제2 스틸 화이버(222)로 전력을 제공하도록, 전력 공급부(210)를 제어할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(201)는, 입력부(250)로부터 음이온을 발생하라는 지시를 포함하는 사용자 입력을 수신함에 기반하여, 전력 공급부(210)를 제어할 수 있다. 전력 공급부(210)로부터 제공되는 전력은, 고전압 승압부(211)를 통해 승압된 후, 대전관(24)으로 제공될 수 있다. 대전관(24)으로 고전압이 제공되면, 방전핀(23)과 대전관(24) 사이의 고전압 방전에 의해, 스틸 화이버(220)로부터 음이온이 방출될 수 있다.
동작 602에서, 프로세서(201)는, 제1 센서(231)를 통해 제1 데이터를 획득하고, 제2 센서(232)를 통해 제2 데이터를 획득할 수 있다. 예를 들어, 제1 센서(231)는, 제1 개구(121) 주위의 공기질을 측정하고, 제1 개구(121) 주위의 공기질에 관한 제1 데이터를 생성하고, 생성된 제2 데이터를 프로세서(201)에게 제공할 수 있다. 예를 들어, 제2 센서(232)는, 제2 개구(122) 주위의 공기질을 측정하고, 제2 개구(122) 주위의 공기질에 관한 제2 데이터를 생성하고, 생성된 제2 데이터를 프로세서(201)에게 제공할 수 있다.
동작 603에서, 프로세서(201)는, 제1 데이터와 제2 데이터를 비교할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(201)는, 제1 데이터와 제2 데이터의 차이가 임계치를 초과하는지 여부를 식별할 수 있다.
동작 604에서, 프로세서(201)는, 제1 데이터와 제2 데이터의 차이가 임계치를 초과함에 기반하여, 제1 스틸 화이버(221) 또는 제2 스틸 화이버(222)로 공급되는 전력을 변경할 수 있다. 예를 들어, 제1 데이터가 나타내는 공기질이 제2 데이터가 나타내는 공기질보다 높고, 제1 데이터와 제2 데이터의 차이가 임계치를 초과하는 경우, 제2 개구(122) 주위의 공기질이 제1 개구(121) 주위의 공기질보다 나쁜 상황일 수 있다. 상술한 경우, 프로세서(201)는, 제2 스틸 화이버(222)로 제공되는 전력을 증가시켜, 제2 스틸 화이버(222)를 통해 방출되는 음이온의 양이 제1 스틸 화이버(221)를 통해 방출되는 음이온의 양보다 많도록 전력 공급부(210)를 제어할 수 있다. 이와 반대로, 제1 데이터가 나타내는 공기질이 제2 데이터가 나타내는 공기질보다 낮고, 제1 데이터와 제2 데이터의 차이가 임계치를 초과하는 경우, 제1 개구(121) 주위의 공기질이 제2 개구(122) 주위의 공기질보다 나쁜 상황일 수 있다. 상술한 경우, 프로세서(201)는, 제1 스틸 화이버(221)로 제공되는 전력을 증가시켜, 제1 스틸 화이버(221)를 통해 방출되는 음이온의 양이 제2 스틸 화이버(222)를 통해 방출되는 음이온의 양보다 많도록 전력 공급부(210)를 제어할 수 있다.
상술한 바와 같이, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)는, 주위의 공기를 비교하고, 공기질이 나쁜 공간으로 음이온이 더 많이 방출될 수 있도록 전력 공급부(210)를 제어할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 음이온 발생 장치(10) 주위의 공기가 효율적으로 정화될 수 있고, 불필요한 전력 소모가 줄어들 수 있다.
도 7은, 일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)의 입력부(250)를 나타낸다.
도 7을 참조하면, 입력부(250)는, 다양한 UI를 제공할 수 있다. 입력부(250)는, 사용자의 터치를 수신하도록 구성된 터치 스크린일 수 있다. 예를 들어, 입력부(250)는, 제1 스틸 화이버(221)로 제공되는 전력을 조절하기 위한 제1 시각적 객체(251), 제2 스틸 화이버(222)로 제공되는 전력을 조절하기 위한 제2 시각적 객체(252), 및/또는 제3 스틸 화이버(223)로 제공되는 전력을 조절하기 위한 제3 시각적 객체(253)를 포함할 수 있다. 시각적 객체의 수는, 스틸 화이버(220)의 수에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 스틸 화이버(220)가 2개인 경우, 입력부(250)는, 2개의 시각적 객체를 표시할 수 있다.
일 실시예에 따른 음이온 발생 장치(10)는, 복수의 스틸 화이버(220)로부터 방출되는 음이온을 조절할 수 있다. 예를 들어, 제1 시각적 객체(251)는, 제1 스틸 화이버(221)로 공급되는 전력의 온/오프(on/off)를 제어하기 위한 제1 부분(251a), 제1 스틸 화이버(221)로 공급되는 전력의 양을 변경하기 위한 제2 부분(251b), 제1 스틸 화이버(221)로 공급되는 전력의 양을 자동으로 조절하기 위한 제3 부분(251c)을 포함할 수 있다.
예를 들어, 사용자는, 제1 부분(251a)을 터치하여, 제1 스틸 화이버(221)로 공급되는 전력을 턴-온(turn-on)시키거나, 턴-오프(turn-off)시킬 수 있다. 상기 전력이 턴-온되면, 제1 스틸 화이버(221)로 고전압이 인가되어, 제1 스틸 화이버(221)로부터 음이온이 방출될 수 있다.
예를 들어, 사용자는, 제2 부분(251b)을 터치하여, 제1 스틸 화이버(221)로 공급되는 전력을 수동으로 조절할 수 있다. 사용자가 제1 스틸 화이버(221)로 공급되는 전력을 증가시키면, 제1 스틸 화이버(221)로부터 방출되는 음이온의 양이 증가될 수 있다. 전력 공급양을 직관적으로 나타내기 위해, 제2 부분(251b)은, 현재 제공되는 전력의 세기의 상대적 세기를 나타내도록 구성될 수 있다.
예를 들어, 사용자는, 제3 부분(251c)을 터치하여, 제1 스틸 화이버(221)로 공급되는 전력을 자동으로 변경할 수 있다. 상술한 경우, 프로세서(201)는, 제1 센서(231)를 통해 수신한 제1 데이터에 기반하여, 제1 스틸 화이버(221)로 공급되는 전력을 제어할 수 있다. 예를 들어, 제1 데이터가 기준 데이터보다 높을 경우, 프로세서(201)는, 제1 스틸 화이버(221)로 공급되는 전력을 감소시키고, 제1 데이터가 기준 데이터보다 낮을 경우, 프로세서(201)는, 제1 스틸 화이버(221)로 공급되는 전력을 증가시킬 수 있다.
제1 시각적 객체(251)에 대한 설명은, 제2 시각적 객체(252) 및/또는 제3 시각적 객체(253)에도 실질적으로 동일하게 적용될 수 있다. 예를 들어, 제2 시각적 객체(252)는, 제2 스틸 화이버(222)로 공급되는 전력의 온/오프(on/off)를 제어하기 위한 제1 부분(252a), 제2 스틸 화이버(222)로 공급되는 전력의 양을 변경하기 위한 제2 부분(252b), 제2 스틸 화이버(222)로 공급되는 전력의 양을 자동으로 조절하기 위한 제3 부분(252c)을 포함할 수 있다. 제3 시각적 객체(253)는, 제3 스틸 화이버(223)로 공급되는 전력의 온/오프(on/off)를 제어하기 위한 제1 부분(253a), 제3 스틸 화이버(223)로 공급되는 전력의 양을 변경하기 위한 제2 부분(253b), 제3 스틸 화이버(223)로 공급되는 전력의 양을 자동으로 조절하기 위한 제3 부분(253c)을 포함할 수 있다. 중복되는 설명은 생략된다.
입력부(250)는, 사용자 입력을 수신하는 것 외에도 공기질에 관한 정보를 표시하기 위한 시각적 객체를 표시할 수 있다. 예를 들어, 입력부(250)는, 제1 센서(231)로부터 획득한 제1 데이터에 기반하여, 제1 개구(121) 주위의 공기질을 직관적으로 나타내는 제4 시각적 객체(254)를 표시할 수 있다. 예를 들어, 입력부(250)는, 제2 센서(232)로부터 획득한 제2 데이터에 기반하여, 제2 개구(122) 주위의 공기질을 직관적으로 나타내는 제5 시각적 객체(255)를 표시할 수 있다. 예를 들어, 입력부(250)는, 제3 센서(233)로부터 획득한 제3 데이터에 기반하여, 제3 개구(123) 주위의 공기질을 직관적으로 나타내는 제6 시각적 객체(256)를 표시할 수 있다. 사용자는, 제4 시각적 객체(254), 제5 시각적 객체(255), 및 제6 시각적 객체(256)를 통해, 음이온 발생 장치(10) 주위의 구별되는 공간에 대한 공기질을 직관적으로 인식하고, 이에 따라 스틸 화이버(220)로 제공되는 전력을 조절할 수 있다. 예를 들어, 도 7에 도시된 바와 같이, 제4 시각적 객체(254)가 좋은 공기질을 나타낼 경우, 사용자는, 제1 시각적 객체(251)를 통해 제1 스틸 화이버(221)로 공급되는 전력을 감소하라는 지시를 포함하는 사용자 입력을 제공할 수 있다. 제5 시각적 객체(255)가 보통 공기질을 나타낼 경우, 사용자는, 제2 시각적 객체(252)를 통해 제2 스틸 화이버(222)로 공급되는 전력을 보다 증가하라는 지시를 포함하는 사용자 입력을 제공할 수 있다. 제6 시각적 객체(256)가 나쁜 공기질을 나타낼 경우, 사용자는, 제3 시각적 객체(253)를 통해 제3 스틸 화이버(223)로 공급되는 전력을 최대로 증가하라는 지시를 포함하는 사용자 입력을 제공할 수 있다.
상술한 바와 같이, 음이온 발생 장치(10)는, 복수의 스틸 화이버(220) 각각으로 공급되는 전력을 조절함으로써, 스틸 화이버(220) 각각으로부터 방출되는 음이온을 조절할 수 있다. 스틸 화이버(220) 각각은, 하우징(110)의 서로 다른 개구(120)를 통해 노출되어, 서로 다른 방향으로 음이온을 방출할 수 있다. 따라서, 사용자는, 특정 공간으로 음이온을 방출하고자 할 때, 해당 방향에 위치된 스틸 화이버(220)로 전력을 공급하도록 사용자 입력을 입력하고, 음이온 발생 장치(10)는, 사용자 입력에 기반하여, 특정 공간으로 음이온을 방출할 수 있다.
본 명세서에서, 스틸 화이버(220)는 2개 또는 3개인 것으로 작성되었으나, 이는 예시적인 것일 뿐, 이에 제한되지 않는다. 스틸 화이버(220)의 수는 필요에 따라 변경될 수 있고, 스틸 화이버(220)의 수에 기반하여 스틸 화이버(220) 각각에 관련된 구성요소의 수도 변경될 수 있다.
본 문서의 다양한 실시예들 및 이에 사용된 용어들은 본 문서에 기재된 기술적 특징들을 특정한 실시예들로 한정하려는 것이 아니며, 해당 실시예의 다양한 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 도면의 설명과 관련하여, 유사한 또는 관련된 구성요소에 대해서는 유사한 참조 부호가 사용될 수 있다. 아이템에 대응하는 명사의 단수 형은 관련된 문맥상 명백하게 다르게 지시하지 않는 한, 상기 아이템 한 개 또는 복수 개를 포함할 수 있다. 본 문서에서, "A 또는 B", "A 및 B 중 적어도 하나", "A 또는 B 중 적어도 하나", "A, B 또는 C", "A, B 및 C 중 적어도 하나", 및 "A, B, 또는 C 중 적어도 하나"와 같은 문구들 각각은 그 문구들 중 해당하는 문구에 함께 나열된 항목들 중 어느 하나, 또는 그들의 모든 가능한 조합을 포함할 수 있다. "제1", "제2", 또는 "첫째" 또는 "둘째"와 같은 용어들은 단순히 해당 구성요소를 다른 해당 구성요소와 구분하기 위해 사용될 수 있으며, 해당 구성요소들을 다른 측면(예: 중요성 또는 순서)에서 한정하지 않는다. 어떤(예: 제1) 구성요소가 다른(예: 제2) 구성요소에, "기능적으로" 또는 "통신적으로"라는 용어와 함께 또는 이런 용어 없이, "커플드" 또는 "커넥티드"라고 언급된 경우, 그것은 상기 어떤 구성요소가 상기 다른 구성요소에 직접적으로(예: 유선으로), 무선으로, 또는 제3 구성요소를 통하여 연결될 수 있다는 것을 의미한다.
다양한 실시예들에 따르면, 상기 기술한 구성요소들의 각각의 구성요소는 단수 또는 복수의 개체를 포함할 수 있으며, 복수의 개체 중 일부는 다른 구성요소에 분리 배치될 수도 있다. 다양한 실시예들에 따르면, 전술한 해당 구성요소들 중 하나 이상의 구성요소들 또는 동작들이 생략되거나, 또는 하나 이상의 다른 구성요소들 또는 동작들이 추가될 수 있다. 대체적으로 또는 추가적으로, 복수의 구성요소들은 하나의 구성요소로 통합될 수 있다. 이런 경우, 통합된 구성요소는 상기 복수의 구성요소들 각각의 구성요소의 하나 이상의 기능들을 상기 통합 이전에 상기 복수의 구성요소들 중 해당 구성요소에 의해 수행되는 것과 동일 또는 유사하게 수행할 수 있다. 다양한 실시예들에 따르면, 모듈, 프로그램 또는 다른 구성요소에 의해 수행되는 동작들은 순차적으로, 병렬적으로, 반복적으로, 또는 휴리스틱하게 실행되거나, 상기 동작들 중 하나 이상이 다른 순서로 실행되거나, 생략되거나, 또는 하나 이상의 다른 동작들이 추가될 수 있다.

Claims (10)

  1. 음이온 발생 장치에 있어서,
    복수의 개구들을 포함하는 하우징;
    전력을 공급하도록 구성된 전력 공급부;
    상기 전력 공급부와 전기적으로 연결되고, 적어도 부분적으로 탄산 칼슘으로 코팅되고, 상기 전력 공급부로부터 공급되는 전력에 기반하여, 음이온을 방출하도록 구성된 스틸 화이버(steel fiber);
    상기 전력 공급부를 제어하도록 구성된 프로세서; 및
    상기 음이온 발생 장치의 외부의 공기질을 측정하도록 구성된 센서
    를 포함하고,
    상기 스틸 화이버는,
    상기 전력 공급부로부터, 상기 복수의 개구들 중, 제1 개구를 통해 상기 하우징의 외부로 노출되는 제1 스틸 화이버; 및
    상기 전력 공급부로부터, 상기 복수의 개구들 중, 상기 제1 개구로부터 이격된 제2 개구를 통해 상기 하우징의 외부로 노출되는 제2 스틸 화이버를 포함하며,
    상기 프로세서는,
    상기 센서로부터 획득한 공기질 데이터에 기반하여, 상기 전력 공급부를 제어함으로써, 상기 제1 스틸 화이버 및 상기 제2 스틸 화이버를 통해 방출되는 음이온을 제어하도록 구성되고,
    상기 센서는,
    상기 제1 개구에 인접하도록 배치된 제1 센서; 및
    상기 제2 개구에 인접하도록 배치된 제2 센서를 포함하며,
    상기 프로세서는,
    상기 제1 센서로부터, 상기 제1 개구 주위의 공기질에 관련된 제1 데이터를 획득하고, 상기 제2 센서로부터, 상기 제2 개구 주위의 공기질에 관련된 제2 데이터를 획득하도록 구성되어,
    상기 제1 데이터와 상기 제2 데이터를 비교하고,
    상기 제1 데이터가 나타내는 공기질과 상기 제2 데이터가 나타내는 공기 질의 차이가 임계치를 초과함을 식별함에 응답하여, 제1 스틸 화이버 또는 제2 스틸 화이버로 공급되는 전력을 변경하도록 구성되는,
    음이온 발생 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    상기 제1 데이터 및 상기 제2 데이터를 기준 데이터(reference data)와 비교하고,
    상기 기준 데이터보다 낮은 공기질을 나타내는 상기 제1 데이터를 식별함에 응답하여, 상기 제1 스틸 화이버를 통해 음이온이 방출되도록, 상기 전력 공급부를 제어하고,
    상기 기준 데이터보다 낮은 공기질을 나타내는 상기 제2 데이터를 식별함에 응답하여, 상기 제2 스틸 화이버를 통해 음이온이 방출되도록, 상기 전력 공급부를 제어하도록, 구성되는,
    음이온 발생 장치.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    전면(front surface)을 형성하는 제1 면;
    후면(rear surface)을 형성하는 제2 면; 및
    상기 제1 면과 상기 제2 면 사이를 둘러싸고, 측면을 형성하는 제3 면을 포함하고,
    상기 제1 개구는,
    상기 제1 면에 형성되고,
    상기 제1 스틸 화이버는, 상기 제1 개구를 통해, 상기 하우징의 전면으로 음이온을 방출하도록 구성되고,
    상기 제2 개구는,
    상기 제2 면에 형성되고,
    상기 제2 스틸 화이버는, 상기 제2 개구를 통해, 상기 하우징의 측면으로 음이온을 방출하도록 구성된,
    음이온 발생 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 스틸 화이버는,
    표면적의 극대화를 위해 기모 처리된,
    음이온 발생 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 하우징은,
    저온 촉매로 코팅되는,
    음이온 발생 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 하우징의 외부로 빛을 조사하도록 구성된 발광부를 더 포함하는,
    음이온 발생 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    사용자 입력을 수신하도록 구성된 입력부를 더 포함하고,
    상기 입력부는,
    상기 제1 스틸 화이버로 공급되는 전력을 조절하기 위한 제1 시각적 객체 및 상기 제2 스틸 화이버로 공급되는 전력을 조절하기 위한 제2 시각적 객체를 표시하고,
    상기 프로세서는,
    상기 제1 시각적 객체에 대한 사용자 입력에 기반하여, 상기 제1 스틸 화이버를 통해 방출되는 음이온의 양을 조절하도록, 상기 전력 공급부를 제어하고,
    상기 제2 시각적 객체에 대한 사용자 입력에 기반하여, 상기 제2 스틸 화이버를 통해 방출되는 음이온의 양을 조절하도록, 상기 전력 공급부를 제어하도록, 구성되는,
    음이온 발생 장치.
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