KR102568642B1 - gas supply apparatus with internal-pressure adjustment by use of bellows drive - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 일반적으로 반도체 제조설비에서 공정가스를 챔버에 공급하는 가스 가압공급 장치에 관한 것이다. The present invention generally relates to a pressurized gas supply device for supplying a process gas to a chamber in a semiconductor manufacturing facility.
특히, 본 발명은 공정가스를 담는 대상 압력용기를 벨로우즈 형태로 구성하고 대상 압력용기를 내압이 유지되는 밀폐형의 기준 압력용기 내부에 설치하며 대상 압력용기의 내부 압력이 기준 값을 벗어나는지에 따라 구동모터에 의해 벨로우즈를 수축 또는 팽창시킴으로써 공정가스 공급을 위한 압력용기의 내부 압력이 일정하게 조절되도록 구성한 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치에 관한 것이다. In particular, the present invention configures a target pressure container containing process gas in the form of a bellows, installs the target pressure container inside a sealed standard pressure container in which internal pressure is maintained, and determines whether the internal pressure of the target pressure container deviates from the standard value. It relates to a bellows driving control-based internal pressure regulating gas pressure supply device configured to constantly adjust the internal pressure of a pressure container for supplying process gas by contracting or expanding the bellows by
일반적으로 반도체 제조공정은 사진공정, 확산공정, 증착공정, 식각공정 등으로 이루어진다. 이러한 각 공정이 수행되는 반도체 소자의 제조설비에는 웨이퍼 상에 특정한 박막을 형성하기 위해 공정가스를 공급해주어야 한다. 이때, 각 공정 별로 공정가스를 정확한 양만큼 공급해주는 것이 중요하다. 가스 가압공급 장치는 반도체 제조설비에서 챔버에 공정가스를 정확하게 공급해주는 설비이다. In general, a semiconductor manufacturing process consists of a photo process, a diffusion process, a deposition process, an etching process, and the like. In order to form a specific thin film on a wafer, a process gas must be supplied to a manufacturing facility of a semiconductor device where each of these processes is performed. At this time, it is important to supply an accurate amount of process gas for each process. A pressurized gas supply device is a facility that accurately supplies process gas to a chamber in a semiconductor manufacturing facility.
[도 1]은 종래기술에서 반도체 제조 설비(증착 장비)에 사용되는 가스 가압공급 구성도이다. [Figure 1] is a configuration diagram of pressurized gas supply used in semiconductor manufacturing equipment (deposition equipment) in the prior art.
[도 1]을 참조하면, 공정가스가 MFC(Mess Flow Controller, 질량 유량 제어기) 부재(11)를 통해 압력용기(13)에 공급된다. 압력용기(13)는 밀폐되어 있으며 용기 내부 압력을 측정하기 위한 압력 게이지(12)가 설치되어 있다. 가스공급 밸브(14)를 열면 압력용기(13)에서 챔버(15)로 공정가스가 공급된다. Referring to FIG. 1 , process gas is supplied to the
공정가스 공급로에 설치된 MFC 부재(11)는 공급로를 흐르는 공정가스의 유량을 제어하여 압력용기(13)의 내부 압력이 일정해지도록 공정가스를 정확하게 채워주는 역할을 수행한다. 그리고, 챔버(15)에는 고정 오리피스를 설치하여 압력 제어 방식으로 공정가스의 유량을 제어한다. The
종래기술의 가스 가압공급 장치에서는 챔버(15)로 공급되는 공정가스의 양을 제어하는 데에 한계가 있었다. 가스공급 밸브(14)를 열었을 때에 챔버(15)로 공급되는 공정가스의 양은 압력용기(13)의 내부 압력에 직접적으로 영향을 받는다. 원칙적으로는 MFC 부재(11)가 압력용기(13)의 내부 압력을 항상 일정하게 유지시켜야 한다. In the prior art pressurized gas supply device, there is a limit to controlling the amount of process gas supplied to the
하지만, 공정가스를 챔버(15)에 짧은 시간 반복적으로 공급하는 상황에서 압력 게이지(12)에 의해 측정되는 압력용기(13)의 내부 압력은 [도 2]와 같이 나타난다. 공정가스가 배출되고 다시 채워지는 과정에서 [도 2]와 같이 압력용기(13)의 내부 압력에 흔들림이 발생한다. 이는 챔버(15)에 대한 공정가스 공급에 오차가 발생함을 의미한다. However, in a situation where the process gas is repeatedly supplied to the
본 발명의 목적은 일반적으로 반도체 제조설비에서 공정가스를 챔버에 공급하는 가스 가압공급 장치를 제공하는 것이다. An object of the present invention is to provide a pressurized gas supply device for supplying a process gas to a chamber in a semiconductor manufacturing facility in general.
특히, 본 발명의 목적은 공정가스를 담는 대상 압력용기를 벨로우즈 형태로 구성하고 대상 압력용기를 내압이 유지되는 밀폐형의 기준 압력용기 내부에 설치하며 대상 압력용기의 내부 압력이 기준 값을 벗어나는지에 따라 구동모터에 의해 벨로우즈를 수축 또는 팽창시킴으로써 공정가스 공급을 위한 압력용기의 내부 압력이 일정하게 조절되도록 구성한 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치를 제공하는 것이다. In particular, an object of the present invention is to construct a target pressure container containing process gas in the form of a bellows, install the target pressure container inside a sealed standard pressure container in which internal pressure is maintained, and determine whether the internal pressure of the target pressure container deviates from the standard value. [PROBLEMS] To provide a bellows driving control-based internal pressure regulating gas pressure supply device configured to constantly adjust the internal pressure of a pressure container for supplying process gas by contracting or expanding the bellows by a driving motor.
본 발명의 해결 과제는 이 사항에 제한되지 않으며 본 명세서의 기재로부터 다른 해결 과제가 이해될 수 있다. The problem of the present invention is not limited to this, and other problems can be understood from the description of this specification.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 내압조절식 가스 가압공급 장치는, 밀폐형의 기준 압력용기(150); 기준 압력용기(150)의 내부 압력을 측정하는 제 1 압력 게이지(130); 기준 압력용기(150)의 내부 압력 유지를 위한 가스 공급을 수행하는 제 1 MFC 부재(110); 기준 압력용기(150)의 내부 압력 유지를 위한 가스 배출을 수행하는 제 1 밸브부재(180); 기준 압력용기(150)의 내부에 설치되고 벨로우즈 형태를 갖는 대상 압력용기(160); 대상 압력용기(160)의 내부 압력을 측정하는 제 2 압력 게이지(140); 대상 압력용기(160)의 내부 압력을 유지하면서 대상 압력용기(160)로 공정가스 공급을 수행하는 제 2 MFC 부재(120); 대상 압력용기(160)로부터 챔버(15)에 공정가스를 공급하기 위한 제 2 밸브부재(190); 대상 압력용기(160)와 체결되어 정회전 또는 역회전에 의해 대상 압력용기(160)의 벨로우즈를 수축 또는 팽창시키는 구동모터(200); 대상 압력용기(160)의 내부 압력과 미리 설정된 기준 값과의 비교 결과에 따라 구동모터(200)를 정회전 또는 역회전 제어하여 대상 압력용기(160)의 벨로우즈를 수축 또는 팽창함으로써 대상 압력용기(160)의 내부 압력을 기준 값으로 유지하는 장치 제어기;를 포함하여 구성될 수 있다.In order to achieve the above object, a pressure-controlled gas pressure supply device according to the present invention includes a sealed
본 발명에 따른 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치는, 대상 압력용기(160)의 운동 방향에 대응하도록 설치되어 대상 압력용기(160)의 수축 또는 팽창 운동을 보조하는 리니어 가이드 부재(170);를 더 포함하여 구성될 수 있다. The bellows drive control-based internal pressure regulating gas pressurization supply device according to the present invention is installed to correspond to the movement direction of the
본 발명에 따른 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치는, 기준 압력용기(150)의 내외부를 관통하여 대상 압력용기(160)의 벨로우즈와 구동모터(200)를 체결하고 구동모터(200)에 체결된 나사축(211)과 벨로우즈에 체결된 너트(212)에 의해 구동모터(200)의 정회전 또는 역회전에 대응하여 대상 압력용기(160)의 벨로우즈를 밀거나 잡아당겨 벨로우즈가 수축 또는 팽창되도록 하는 볼스크류 부재(210);를 더 포함하여 구성될 수 있다. In the bellows drive control-based internal pressure-controlled gas pressurization supply device according to the present invention, the bellows of the
본 발명에 따른 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치는, 구동모터(200)와 기준 압력용기(150) 사이에 배치되고 기준 압력용기(150)를 밀폐하는 오링 그루브를 구비하여 이를 통해 구동모터(200)와 볼스크류 부재(210)가 밀폐 상태에서 체결되도록 하는 밀폐 브라켓(220);를 더 포함하여 구성될 수 있다. The bellows drive control-based internal pressure-controlled gas pressurization supply device according to the present invention has an O-ring groove disposed between a
본 발명에 따른 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치는, 기준 압력용기(150)의 내부 압력이 지속적으로 상승하는 경우에 대상 압력용기(160)에서의 공정가스 누출을 검출하는 가스누출 감시부재;를 더 포함하여 구성될 수 있다. In the bellows drive control-based internal pressure-controlled gas pressurization supply device according to the present invention, when the internal pressure of the
본 발명에 따르면 반도체 제조설비에서 챔버에 공정가스를 공급하는 가압공급 장치의 내부 압력을 정확하게 조절할 수 있는 장점이 있다. According to the present invention, there is an advantage in that the internal pressure of the pressure supply device for supplying process gas to a chamber in a semiconductor manufacturing facility can be precisely controlled.
또한, 본 발명에 따르면 공정가스를 담고있는 대상 압력용기를 기준 압력용기 내부에 설치함으로써 공정가스의 누출 위험성을 낮출 수 있는 장점이 있다. 또한, 기준 압력용기의 압력 변화를 통해 공정가스 누출을 즉각적으로 검출할 수 있어 신속한 대처도 가능하다. In addition, according to the present invention, the risk of leakage of the process gas can be reduced by installing the target pressure vessel containing the process gas inside the reference pressure vessel. In addition, process gas leaks can be immediately detected through pressure changes in the standard pressure container, so prompt action is possible.
[도 1]은 종래기술에서 반도체 제조 설비에 사용되는 가스 가압공급 구성도.
[도 2]는 종래기술에서 압력용기 내부 압력의 예시도.
[도 3]은 본 발명에 따른 내압조절식 가스 가압공급 장치의 구성도. [Figure 1] is a configuration diagram of pressurized gas supply used in semiconductor manufacturing facilities in the prior art.
[Figure 2] is an exemplary view of the pressure vessel internal pressure in the prior art.
[Figure 3] is a block diagram of an internal pressure-controlled gas pressure supply device according to the present invention.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명을 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
본 발명을 설명함에 있어서 종래기술과 중복되는 부분에 대해서는 자세한 설명을 생략할 수 있다. In describing the present invention, detailed descriptions of portions overlapping with those of the prior art may be omitted.
[도 3]은 본 발명에 따른 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치의 구성도이다. [Fig. 3] is a configuration diagram of a bellows drive control-based pressure-controlled gas pressure supply device according to the present invention.
본 발명은 기준 압력용기(150)와 대상 압력용기(160)가 구비되고, 대상 압력용기(160)의 압력 변화에 대해 벨로우즈(bellows)의 수축 또는 팽창 제어를 통해 대상 압력용기(160)의 내부 압력을 조절하는 구조이다.In the present invention, a
[도 3]을 참조하면, 본 발명에 따른 내압조절식 가스 가압공급 장치는 제 1 및 제 2 MFC 부재(110, 120), 제 1 및 제 2 압력 게이지(130, 140), 기준 압력용기(150), 대상 압력용기(160), 리니어 가이드(linear guide) 부재(170), 제 1 및 제 2 밸브부재(180, 190), 구동모터(200), 볼스크류 부재(210), 밀폐 브라켓(220)을 포함하여 구성된다. Referring to [Figure 3], the pressure-controlled gas pressure supply device according to the present invention includes first and
먼저, 기준 압력용기(150)는 밀폐형 용기이다. 일 실시예로 기준 압력용기(150)는 압력 탱크로 구성될 수 있다. First, the
대상 압력용기(160)는 기준 압력용기(150)의 내부에 설치되고 벨로우즈 형태로 구성된다. 대상 압력용기(160)는 구동모터(200)에 체결되어 있는데, 구동모터(200)의 동작에 의해 벨로우즈가 수축 또는 팽창한다. The
리니어 가이드 부재(170)는 대상 압력용기(160)의 운동 방향에 대응하도록 설치되어 대상 압력용기(160)의 수축 또는 팽창 운동을 보조한다. The
제 1 MFC 부재(110)는 기준 압력용기(150)의 내부 압력 유지를 위한 가스 공급을 수행하고, 제 1 밸브부재(180)는 기준 압력용기(150)의 내부 압력 유지를 위한 가스 배출을 수행한다. 이때, 제 1 압력 게이지(130)는 기준 압력용기(150)의 내부 압력을 측정하여 피드백 제어가 구현되도록 한다. 제 1 MFC 부재(110)와 제 1 밸브부재(180)에 의해 기준 압력용기(150)의 내부 압력은 미리 설정된 기준 값으로 일정하게 유지된다. The
대상 압력용기(160)의 벨로우즈가 팽창하면 기준 압력용기(150)의 내부 압력은 증가한다. 이 경우, 장치 제어기(미도시)는 제 1 밸브부재(180)를 개방하여 기준 압력용기(150)의 내부 압력을 낮춰준다. 반대로, 대상 압력용기(160)의 벨로우즈가 수축하면 기준 압력용기(150)의 내부 압력은 저하된다. 이 경우, 제 1 MFC 부재(110)가 개방되어 기준 압력용기(150)의 내부 압력을 올려준다. When the bellows of the
제 2 MFC 부재(120)는 대상 압력용기(160)의 내부 압력을 유지하면서 대상 압력용기(160)로 공정가스 공급을 수행하고, 제 2 밸브부재(190)는 대상 압력용기(160)로부터 공정가스를 챔버(15)에 공급한다. 제 2 압력 게이지(140)는 대상 압력용기(160)의 내부 압력을 측정하여 피드백 제어가 구현되도록 한다. The
반도체 제조 공정의 요구에 의해 장치 제어기(미도시)가 제 2 밸브부재(190)를 개방하여 대상 압력용기(160)로부터 공정가스를 챔버(15)로 공급한다. 그에 따라 대상 압력용기(160)의 내부 압력이 저하되며, 이 사실은 제 2 압력 게이지(140)에 의해 검출된다. 대상 압력용기(160)의 내부 압력이 미리 설정된 기준 값보다 낮아지면, 이에 대응하여 장치 제어기(미도시)가 구동모터(200)를 제 1 방향(예: 정방향, 시계 방향)으로 회전시켜 대상 압력용기(160)의 벨로우즈를 수축시킨다. 이는 대상 압력용기(160)의 내부 압력을 기준 값을 향하여 복원시킨다. 이러한 벨로우즈 수축에 의해 대상 압력용기(160)의 내부 압력 저하는 일정 부분 상쇄된다. 이때, 대상 압력용기(160)의 벨로우즈 수축에 의해 기준 압력용기(150)의 내부 압력은 저하되고, 그에 대응하여 제 1 MFC 부재(110)는 기준 압력용기(150)의 내부 압력 유지를 위해 가스 공급을 수행한다. At the request of the semiconductor manufacturing process, the device controller (not shown) opens the
이와 동시에, 대상 압력용기(160)의 내부 압력 저하에 대응하여 제 2 MFC 부재(120)가 개방되어 공정가스가 대상 압력용기(160)로 공급된다. 이는 공정가스가 챔버(15)로 공급된 분량만큼 도로 채워가는 과정이다. 이를 위해, 제 2 MFC 부재(120)는 대상 압력용기(160)의 내부 압력이 미리 설정된 기준 값이 될 때까지 공정가스의 공급을 지속한다. 제 2 MFC 부재(120)를 통해 대상 압력용기(160)로 공정가스가 공급됨에 따라 대상 압력용기(160)의 내부 압력은 증가하며, 이 사실은 제 2 압력 게이지(140)에 의해 검출된다. 대상 압력용기(160)의 내부 압력이 증가함에 대응하여 장치 제어기(미도시)는 구동모터(200)를 제 2 방향(예: 역방향, 반시계 방향)으로 회전시켜 대상 압력용기(160)의 벨로우즈를 팽창시킨다. 이는 앞서 벨로우즈가 수축된 것을 원래대로 복원하는 과정에 대응한다. 이때, 대상 압력용기(160)의 벨로우즈 팽창에 의해 기준 압력용기(150)의 내부 압력은 증가하게 되고, 그에 대응하여 제 1 밸브부재(180)가 기준 압력용기(150)의 내부 압력 유지를 위해 가스 배출을 수행한다. At the same time, the
한편, 대상 압력용기(160)로 공정가스가 과다 공급되어 대상 압력용기(160)의 내부 압력이 기준 값을 넘어서는 경우가 발생할 수 있다. 이 경우에도 장치 제어기(미도시)가 구동모터(200)를 제 2 방향(예: 역방향, 반시계 방향)으로 회전시켜 대상 압력용기(160)의 벨로우즈를 팽창시킨다. 이러한 벨로우즈의 팽창 운동에 의해 대상 압력용기(160)의 내부 압력 상승은 일정 부분 상쇄된다. 이때, 대상 압력용기(160)의 벨로우즈 팽창에 의해 기준 압력용기(150)의 내부 압력은 증가하게 되고, 그에 대응하여 제 1 밸브부재(180)가 기준 압력용기(150)의 내부 압력 유지를 위해 가스 배출을 수행한다. Meanwhile, a process gas may be excessively supplied to the
가스 가압공급 장치에서는 공정가스가 챔버(15)로 공급되어 대상 압력용기(160)의 내부 압력이 저하되면 제 2 MFC 부재(120)가 공정가스 공급을 수행하여 대상 압력용기(160)의 내부 압력을 기준 값으로 복구하며, 공정가스 과다 공급으로 내부 압력이 상승하더라도 다음 공정에서 공정가스가 챔버(15)로 공급되어 내부 압력은 낮추어진다. 그런데, MFC(질량 유량 제어기)의 작동에는 유효 유량에 도달할 때까지 걸리는 시간, 즉 램핑 타임(ramping time)을 발생하기 때문에 반응이 느리다. 반면, 본 발명에서는 장치 제어기(미도시)가 구동모터(200)를 정회전 또는 역회전시켜 벨로우즈를 팽창 또는 수축시키고 그에 따라 대상 압력용기(160)의 내부 압력을 즉각적으로 제어할 수 있다. In the pressurized gas supply device, when the process gas is supplied to the
한편, 구동모터(200)가 정회전 또는 역회전됨에 따라 대상 압력용기(160)의 벨로우즈가 수축 또는 팽창하도록 하기 위한 구성에 대해 기술한다. Meanwhile, a configuration for contracting or expanding the bellows of the
[도 3]을 참조하면, 대상 압력용기(160)의 벨로우즈는 기준 압력용기(150)의 내외부를 관통하는 볼스크류 부재(210)에 의해 구동모터(200)에 체결될 수 있다. 볼스크류 부재(210)는 나사축(211)과 너트(212)로 구성되는데, 나사축(211)은 구동모터(200)에 체결되어 구동모터(200)와 함께 회전하고, 너트(212)는 벨로우즈의 일단에 체결되어 있다. 볼스크류(ball screw)의 속성상 나사축(211)이 회전하면 너트(212)는 직선으로 이송된다. 구동모터(200)가 정회전 또는 역회전하면 구동모터(200)에 체결되어 있는 나사축(211)이 정회전 또는 역회전하게 되고, 그에 따라 너트(212)는 좌측 또는 우측으로 이송된다. 벨로우즈의 일단에 너트(212)가 체결되어 있으므로 너트(212)는 벨로우즈를 밀거나 잡아당기는 역할을 하게 되고, 그 결과로 대상 압력용기(160)의 벨로우즈가 수축 또는 팽창하게 되는 것이다. 이때, 벨로우즈의 타단은 고정되어 있다고 가정한다. Referring to FIG. 3 , the bellows of the
이때, 구동모터(200)와 볼스크류 부재(210)가 기준 압력용기(150)가 밀폐된 상태에서 체결될 수 있도록 구동모터(200)와 기준 압력용기(150) 사이에 밀폐 브라켓(220)이 구비될 수 있다. 밀폐 브라켓(220)은 기준 압력용기(150)를 밀폐하는 오링 그루브(O-ring groove)를 구비하여 이를 통해 기준 압력용기(150)의 밀폐도를 유지한다. At this time, a sealing
본 발명에서는 내부 압력을 미리 설정한 기준 값으로 일정하게 유지되는 기준 압력용기(150)의 내부에 대상 압력용기(160)를 설치하였다. 이러한 구성을 통해 대상 압력용기(160)의 내부 압력과 외부 압력이 명목상으로는(nominally) 미리 설정된 기준 값으로 평형을 이루게 된다. 그에 따라, 대상 압력용기(160)의 벨로우즈 팽창 또는 수축을 방해하는 외부 요인을 차단할 수 있다. In the present invention, the
한편, 본 발명에 따르면 공정가스를 담고있는 대상 압력용기(160)를 밀폐형의 기준 압력용기(150) 내에 설치함에 따라 공정가스의 누출 위험을 낮출 수 있는 장점이 있다. 대상 압력용기(160)로부터 공정가스가 일부 누출되더라도 기준 압력용기(150)에 머물렀다가 제 1 밸브부재(180)에 의해 외부로 배출된다. On the other hand, according to the present invention, the risk of leakage of the process gas can be reduced by installing the
또한, 본 발명에 따르면 대상 압력용기(160)로부터 공정가스가 누출되는 경우에 그 사실을 즉각적으로 검출할 수 있다. 정상 작동하는 경우에 기준 압력용기(150)의 내부 압력은 주기적으로 약간씩 상승 또는 하강하는 패턴을 보이게 된다. 반면, 대상 압력용기(160)로부터 공정가스가 누출되는 경우에는 기준 압력용기(150)의 내부 압력이 지속적으로 상승하는 양상을 보이게 된다. 따라서, 가스누출 감시부재(미도시)는 제 1 압력 게이지(130)가 측정하는 기준 압력용기(150)의 내부 압력이 지속적으로 상승하는 경우에 대상 압력용기(160)에서의 공정가스 누출이 발생하였다고 판단한다. In addition, according to the present invention, when the process gas leaks from the
110, 120 : MFC 부재
130, 140 : 압력 게이지
150 : 기준 압력용기
160 : 대상 압력용기
170 : 리니어 가이드 부재
180, 190 : 밸브부재
200 : 구동모터
210 : 볼스크류 부재
211 : 나사축
212 : 너트
220 : 밀폐 브라켓110, 120: MFC member
130, 140: pressure gauge
150: standard pressure vessel
160: target pressure vessel
170: linear guide member
180, 190: valve member
200: drive motor
210: ball screw member
211: screw shaft
212: nut
220: sealing bracket
Claims (5)
상기 기준 압력용기(150)의 내부 압력을 측정하는 제 1 압력 게이지(130);
상기 기준 압력용기(150)의 내부 압력 유지를 위한 가스 공급을 수행하는 제 1 MFC 부재(110);
상기 기준 압력용기(150)의 내부 압력 유지를 위한 가스 배출을 수행하는 제 1 밸브부재(180);
상기 기준 압력용기(150)의 내부에 설치되고 벨로우즈 형태를 갖는 대상 압력용기(160);
상기 대상 압력용기(160)의 내부 압력을 측정하는 제 2 압력 게이지(140);
상기 대상 압력용기(160)의 내부 압력을 유지하면서 상기 대상 압력용기(160)로 공정가스 공급을 수행하는 제 2 MFC 부재(120);
상기 대상 압력용기(160)로부터 챔버(15)에 공정가스를 공급하기 위한 제 2 밸브부재(190);
상기 대상 압력용기(160)와 체결되어 정회전 또는 역회전에 의해 상기 대상 압력용기(160)의 벨로우즈를 수축 또는 팽창시키는 구동모터(200);
상기 대상 압력용기(160)의 내부 압력과 미리 설정된 기준 값과의 비교 결과에 따라 상기 구동모터(200)를 정회전 또는 역회전 제어하여 상기 대상 압력용기(160)의 벨로우즈를 수축 또는 팽창함으로써 상기 대상 압력용기(160)의 내부 압력을 기준 값으로 유지하는 장치 제어기;
를 포함하여 구성되는 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치.
A sealed standard pressure vessel (150);
a first pressure gauge 130 for measuring the internal pressure of the reference pressure vessel 150;
a first MFC member 110 supplying gas for maintaining the internal pressure of the reference pressure container 150;
a first valve member 180 for discharging gas to maintain the internal pressure of the reference pressure vessel 150;
a target pressure vessel 160 installed inside the reference pressure vessel 150 and having a bellows shape;
a second pressure gauge 140 for measuring the internal pressure of the target pressure vessel 160;
a second MFC member 120 supplying process gas to the target pressure vessel 160 while maintaining the internal pressure of the target pressure vessel 160;
a second valve member 190 for supplying process gas from the target pressure container 160 to the chamber 15;
a drive motor 200 that is engaged with the target pressure container 160 and contracts or expands the bellows of the target pressure container 160 by forward or reverse rotation;
According to the comparison result between the internal pressure of the target pressure vessel 160 and a preset reference value, the drive motor 200 is controlled to rotate forward or backward to contract or expand the bellows of the target pressure vessel 160, thereby a device controller for maintaining the internal pressure of the target pressure container 160 as a reference value;
Bellows driving control-based pressure-controlled gas pressurized supply device comprising a.
상기 대상 압력용기(160)의 운동 방향에 대응하도록 설치되어 상기 대상 압력용기(160)의 수축 또는 팽창 운동을 보조하는 리니어 가이드 부재(170);
를 더 포함하여 구성되는 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치.
The method of claim 1,
a linear guide member 170 installed to correspond to the movement direction of the target pressure vessel 160 and assisting contraction or expansion of the target pressure vessel 160;
Bellows driving control-based pressure-controlled gas pressurized supply device further comprising a.
상기 기준 압력용기(150)의 내외부를 관통하여 상기 대상 압력용기(160)의 벨로우즈와 상기 구동모터(200)를 체결하고 상기 구동모터(200)에 체결된 나사축(211)과 상기 벨로우즈에 체결된 너트(212)에 의해 상기 구동모터(200)의 정회전 또는 역회전에 대응하여 상기 대상 압력용기(160)의 벨로우즈를 밀거나 잡아당겨 벨로우즈가 수축 또는 팽창되도록 하는 볼스크류 부재(210);
를 더 포함하여 구성되는 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치.
The method of claim 1,
The bellows of the target pressure vessel 160 and the drive motor 200 are fastened to each other through the inside and outside of the reference pressure vessel 150, and the screw shaft 211 connected to the drive motor 200 is fastened to the bellows. A ball screw member 210 that pushes or pulls the bellows of the target pressure container 160 so that the bellows contract or expand in response to the forward or reverse rotation of the drive motor 200 by the nut 212;
Bellows driving control-based pressure-controlled gas pressurized supply device further comprising a.
상기 구동모터(200)와 상기 기준 압력용기(150) 사이에 배치되고 상기 기준 압력용기(150)를 밀폐하는 오링 그루브(O-ring groove)를 구비하여 이를 통해 상기 구동모터(200)와 상기 볼스크류 부재(210)가 밀폐 상태에서 체결되도록 하는 밀폐 브라켓(220);
를 더 포함하여 구성되는 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치.
The method of claim 3,
An O-ring groove is disposed between the drive motor 200 and the reference pressure container 150 and seals the reference pressure container 150, through which the drive motor 200 and the ball A sealing bracket 220 that allows the screw member 210 to be fastened in a sealed state;
Bellows driving control-based pressure-controlled gas pressurized supply device further comprising a.
상기 기준 압력용기(150)의 내부 압력이 지속적으로 상승하는 경우에 상기 대상 압력용기(160)에서의 공정가스 누출을 검출하는 가스누출 감시부재;
를 더 포함하여 구성되는 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치. The method of claim 1,
a gas leak monitoring member that detects a process gas leak in the target pressure container 160 when the internal pressure of the reference pressure container 150 continuously rises;
Bellows driving control-based pressure-controlled gas pressurized supply device further comprising a.
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KR1020230043304A KR102568642B1 (en) | 2023-04-03 | 2023-04-03 | gas supply apparatus with internal-pressure adjustment by use of bellows drive |
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2023
- 2023-04-03 KR KR1020230043304A patent/KR102568642B1/en active IP Right Grant
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