KR102560704B1 - 디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조 방법 - Google Patents

디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 일 실시예는 기판, 상기 기판의 일 면에 배치되고 화상을 구현하도록 표시 소자를 구비하는 표시부 및 상기 기판의 면 중 상기 표시부가 배치되는 일 면의 반대면에 형성되고 사용자의 터치를 인식하도록 형성되고 도전성을 갖는 터치 패턴을 포함하는 디스플레이 장치를 개시한다.

Description

디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조 방법{Display apparatus and method for manufacturing display apparatus}
본 발명의 실시예들은 디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조 방법에 관한 것이다.
근래에 디스플레이 장치는 그 용도가 다양해지고 있다. 또한, 디스플레이 장치의 두께가 얇아지고 무게가 가벼워 그 사용의 범위가 광범위해지고 있는 추세이다.
특히, 근래에 디스플레이 장치는 휴대가 가능한 박형의 평판 형태의 디스플레이 장치로 대체되는 추세이다.
또한, 디스플레이 장치에 터치 패널 기능을 적용하는 기술이 사용되고 있다.
이러한 터치 패널은 복수의 도전성 패턴을 구비한다. 디스플레이 장치에 구현된 터치 패널 기능의 정밀도 향상을 위해서 도전성 패턴의 제조 특성 향상이 중요하다.
본 발명의 실시예들은 터치 패널 기능을 구비한 디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시예는 기판, 상기 기판의 일 면에 배치되고 화상을 구현하도록 표시 소자를 구비하는 표시부 및 상기 기판의 면 중 상기 표시부가 배치되는 일 면의 반대면에 형성되고 사용자의 터치를 인식하도록 형성되고 도전성을 갖는 터치 패턴을 포함하는 디스플레이 장치를 개시한다.
본 실시예에 있어서 상기 표시부의 일 면 또는 표시부의 내에 상기 터치 패턴과 대향하도록 배치되는 터치 상호 전극을 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 터치 패턴은 제1 방향으로 연장된 복수의 도전 패턴을 포함하고, 상기 터치 상호 전극은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장된 복수의 도전 패턴을 구비할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 터치 패턴은 투과형 도전 물질을 함유할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시부는 표시 소자에 전기적으로 연결된 하나 이상의 박막 트랜지스터를 구비하고, 상기 박막 트랜지스터는 활성층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 게이트 전극과 동일한 재질로 형성되고 상기 터치 패턴과 대향하도록 배치되는 터치 상호 전극을 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시부의 표시 소자로 스캔 신호를 인가하고 상기 게이트 전극과 전기적으로 연결된 스캔 라인을 더 포함하고, 상기 스캔 라인은 터치 패턴과 대향하도록 배치되어 상기 스캔 라인과 상기 터치 패턴 사이의 정전 용량의 변화를 감지하여 사용자의 터치를 인식할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 스캔 라인은 제1 방향으로 연장된 하나 이상의 도전 라인을 포함하고, 상기 터치 패턴은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장된 복수의 도전 패턴을 구비할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 소스 전극 또는 드레인 전극과 동일한 재질로 형성되고 상기 터치 패턴과 대향하도록 배치되는 터치 상호 전극을 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 활성층과 게이트 전극의 사이에 배치되고 상기 터치 패턴과 대향하도록 배치되는 터치 상호 전극을 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 터치 패턴은 광차단 물질을 함유할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 터치 패턴은 복수의 터치 개구부를 구비할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 터치 패턴을 덮는 보호층을 더 포함하는 디스플레이 장치.
본 실시예에 있어서 상기 기판은 광투과성 재질을 함유할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시부를 덮는 봉지부를 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시 소자는 유기 발광 소자를 구비하고, 상기 유기 발광 소자는 제1 전극, 제2 전극 및 중간층을 포함하고, 상기 중간층은 상기 제1 전극과 제2 전극의 사이에 배치되고 적어도 유기 발광층을 구비할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예는 기판상의 일 면에 화상을 구현하도록 표시 소자를 구비하는 표시부를 형성하는 단계 및 상기 기판의 면 중 상기 표시부가 배치되는 일 면의 반대면에 형성되고 사용자의 터치를 인식하도록 형성되고 도전성을 갖는 터치 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 디스플레이 장치 제조 방법을 개시한다.
본 실시예에 있어서 상기 표시부를 형성한 후에 상기 표시부를 덮는 봉지부를 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 터치 패턴을 형성하는 단계는 상기 봉지부를 형성하는 단계를 진행한 후에 진행할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 터치 패턴을 형성하는 단계는, 상기 봉지부를 형성하는 단계를 진행한 후에, 상기 표시부 및 상기 봉지부를 포함하는 구조물을 상기 기판 상에 형성한 후 뒤집어 상기 기판의 면 중 상기 표시부 및 상기 봉지부가 형성된 면의 반대 면이 위로 가도록 배치한 후에 진행할 수 있다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
본 발명의 실시예들은 터치 패널 기능을 구비한 디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조 방법을 제공한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 디스플레이 장치를 도시한 개략적인 단면도이다.
도 2는 도 1의 K의 확대도이다.
도 3은 도 1의 디스플레이 장치의 변형예를 도시한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 도시한 개략적인 단면도이다.
도 5는 도 4의 K의 확대도이다.
도 6은 도 4의 디스플레이 장치의 터치 패턴의 개략적 회로도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 도시한 개략적인 단면도이다.
도 8은 도 7의 K의 확대도이다.
도 9는 도 7의 디스플레이 장치의 터치 패턴의 개략적 회로도이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 도시한 개략적인 단면도이다.
도 11은 도 10의 K의 확대도이다.
도 12는 도 11의 A 방향에서 본 평면도의 예시이다.
도 13 및 도 14는 본 발명의 일 실시예에 관한 디스플레이 장치 제조 방법을 도시한 도면들이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다.
이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
이하의 실시예에서, 막, 영역, 구성 요소 등의 부분이 다른 부분 위에 또는 상에 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다.
도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
이하의 실시예에서, x축, y축 및 z축은 직교 좌표계 상의 세 축으로 한정되지 않고, 이를 포함하는 넓은 의미로 해석될 수 있다. 예를 들어, x축, y축 및 z축은 서로 직교할 수도 있지만, 서로 직교하지 않는 서로 다른 방향을 지칭할 수도 있다.
어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 디스플레이 장치를 도시한 개략적인 단면도이고, 도 3은 도 1의 A의 확대도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면 본 실시예의 디스플레이 장치(100)는 기판(101), 표시부(DU), 터치 패턴(TP) 및 봉지부(EU)를 포함한다.
본 실시예의 디스플레이 장치(100)의 부재들에 대하여 구체적으로 설명하기로 한다.
기판(101)은 다양한 재질로 형성될 수 있다. 기판(101)은 유리 재질로 형성할 수 있다. 기판(101)은 광투과율이 우수한 재질로 형성할 수 있다. 이를 통하여 후술할 표시부(DU)에서 발생한 가시 광선이 기판(101)을 통과하여 사용자에게 도달할 수 있다. 즉, 본 디스플레이 장치(100)는 배면 표시 구조로서, 사용자는 도 1의 기판(101)의 아래에서 디스플레이 장치(100)에서 구현된 화상을 인식할 수 있다.
선택적 실시예로서, 기판(101)은 유연성이 있는 재질로 형성할 수 있고, 다른 예로서 기판(101)은 유기물 재질로 형성할 수 있다. 예를들면 기판(101)은 폴리이미드(polyiminde), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylene napthalate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate: PET), 폴리아릴레이트(Polyarylate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리에테르이미드(Polyether lmide: PEI), 또는 폴리에테르술폰(Polyethersulfone) 등과 같이 내열성 및 내구성이 우수한 유기물 재질을 함유할 수 있다.
도시하지 않았으나, 기판(101)과 표시부(DU)의 사이에 하나 이상의 배리어층(미도시) 및 하나 이상의 버퍼층(미도시)이 선택적으로 배치될 수 있고, 이를 통하여 기판(101)을 통하여 불순물, 수분 또는 외기가 유입되는 것을 차단 또는 감소할 수 있다.
표시부(DU)가 기판(101)상에 형성된다. 표시부(DU)는 사용자가 인식하는 화상을 구현하기 위한 가시 광선을 생성하는 표시 소자를 포함한다.
표시 소자는 가시 광선을 구현하는 다양한 형태일 수 있고, 예를들면 액정 표시 소자, 유기 발광 소자일 수 있다.
본 실시예에서는 설명의 편의를 위하여, 도 2에 도시한 것과 같이 표시 소자가 유기 발광 소자(130)인 경우만을 예로 들어 설명한다. 또한, 후술하는 실시예들에서도 설명의 편의를 위하여 표시 소자가 유기 발광 소자(130)인 경우만을 예로 들어 설명하기로 한다.
선택적 실시예로서, 디스플레이 장치(100)는 터치 상호 전극(TE: touch mutual electrode)을 더 포함할 수 있다.
터치 상호 전극(TE)과 터치 패턴(TP)은 사용자의 터치, 예를들면 사용자가 터치 패턴(TP)을 터치 시 이를 감지할 수 있다. 구체적으로 터치 상호 전극(TE)과 터치 패턴(TP)사이의 정전 용량의 변화를 감지하여 사용자의 터치를 인식할 수 있다.
선택적 실시예로서 터치 상호 전극(TE)의 위치는 변경될 수 있는데, 예를들면 유기 발광 소자(130)의 상부에 터치 상호 전극(TE)이 형성될 수도 있다.
또한, 다른 선택적 실시예로서 후술할 터치 패턴(TP)만을 구비하고, 터치 상호 전극(TE)는 생략될 수 있다. 즉 터치 패턴(TP)만으로 사용자의 터치를 인식할 수 있고, 예를들면 터치 패턴(TP)이 제1 방향으로의 터치 패턴 및 이와 전기적으로 절연되고 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로의 터치 패턴을 구비하여 제1 방향으로의 터치 패턴과 제2 방향으로의 터치 패턴 사이의 정전 용량 변화 감지를 통하여 사용자의 터치를 인식할 수도 있다.
유기 발광 소자(130)는 제1 전극(131), 제2 전극(132) 및 중간층(133)을 구비한다.
제1 전극(131)은 터치 상호 전극(TE)상에 형성될 수 있다. 제1 전극(131)은 다양한 도전성 재질로 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 제1 전극(131)은 ITO, IZO, ZnO, 또는 In2O3 등을 포함하여 구비될 수 있다. 또한 다른 선택적 실시예로서 제1 전극(131)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Yb 또는 Ca 등으로 형성된 반사막을 포함할 수도 있다.
중간층(133)이 제1 전극(131)상에 형성된다. 중간층(133)은 가시 광선을 구현하도록 유기 발광층을 구비한다. 중간층(133)은 저분자 또는 고분자 유기막으로 형성될 수 있다. 또한 중간층(133)은 유기 발광층을 구비하고, 추가적으로 정공 주입층(HIL: Hole Injection Layer), 정공 수송층(HTL: Hole Transport Layer), 전자 수송층(ETL: Electron Transport Layer), 전자 주입층(EIL: Electron Injection Layer) 중 하나 이상을 더 구비할 수도 있다.
제2 전극(132)은 중간층(133)상에 형성된다. 제2 전극(132)은 다양한 도전성 재질로 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 제2 전극(132)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, 또는 Ca의 금속으로 형성될 수 있다.
터치 패턴(TP)은 기판(101)의 하면, 즉 기판(101)의 면 중 표시부(DU)를 향하는 면의 반대면에 형성된다. 이를 통하여 터치 패턴(TP)은 표시부(DU)의 형성에 최소한의 영향을 줄 수 있다. 터치 패턴(TP)은 다양한 형태로 형성될 수 있다. 예를들면, 터치 패턴(TP)은 일 방향으로 연장된 복수 개의 도전 패턴을 구비할 수 있고, 이 경우 터치 상호 전극(TE)은 터치 패턴(TP)의 연장 방향과 교차하는 일 방향으로 연장된 복수개의 도전 패턴을 구비할 수 있다.
또한, 전술한 것과 같이 터치 상호 전극(TE)이 없는 경우 터치 패턴(TP)만으로 사용자의 터치를 인식할 수 있고, 이 경우 터치 패턴(TP)은 제1 방향 및 이와 교차하는 제2 방향으로 배열되고 서로 절연된 도전 패턴을 구비할 수 있다.
터치 패턴(TP)은 다양한 재질로 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 터치 패턴(TP)은 투과형 도전 물질을 함유할 수 있고, 예를들면 ITO, IZO, ZnO, AZO 또는 In2O3를 함유할 수 있다.
이를 통하여 표시부(DU)에서 발생한 가시 광선이 기판(101)을 통과하여 사용자에게 도달하는 과정에서 터치 패턴(TP)으로 인한 광차단을 최소화할 수 있다. 이를 통하여, 본 디스플레이 장치(100)를 배면 표시 구조로 용이하게 구현할 수 있다.
봉지부(EU)는 표시부(DU)상에 형성되고, 표시부(DU)를 덮을 수도 있다. 봉지부(EU)는 다양한 형태 및 재료로 형성되고 표시부(DU)로 수분, 이물 또는 외기가 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다. 봉지부(EU)는 유기막 또는 무기막을 포함할 수 있다. 또한, 봉지부(EU)는 하나 이상의 유기막 및 하나 이상의 무기막을 적층하여 형성할 수 있다.
또한, 봉지부(EU)의 형태는 도 1에 도시한 것과 같은 막(layer)형태가 아닌, 도 2에 도시한 도 1의 디스플레이 장치(100)의 변형예의 디스플레이 장치(100')에 도시한 커버 형태의 봉지부(EU)일 수도 있다.
또한, 다른 선택적 실시예로서 도시하지 않았으나, 봉지부(EU)는 기판(101)과 대향하는 봉지 기판의 형태를 갖고, 봉지 기판(미도시)과 기판(101)은 씰링재(미도시)로 접착될 수도 있다.
도시하지 않았으나 터치 패턴(TP)상에 절연물을 이용하여 보호층(미도시)을 더 형성할 수 있다.
본 실시예의 디스플레이 장치(100)는 기판(101)의 일 면에 표시부(DU)를 형성하고, 이와 반대면에 터치 패턴(TP)을 형성한다. 이를 통하여 표시부(DU)의 제조 공정 진행 시 표시부(DU)의 특성에 영향을 주지 않으면서 터치 패턴(TP)을 용이하게 형성할 수 있다.
특히, 기판(101)의 하면, 즉 표시부(DU)가 형성되지 않는 면에 터치 패턴(TP)을 구현하므로 터치 패턴(TP)을 형성 시 터치 패턴(TP)의 형성 공정의 자유도가 향상된다.
또한, 기판(101)의 하면에 터치 패턴(TP)을 형성하고, 터치 패턴(TP)이 투과형 도전 물질을 함유하도록 하여 기판(101)의 하부로 화상이 구현되는 배면 표시 구조의 디스플레이 장치(100)를 용이하게 구현할 수 있다.
또한, 터치 인식 기능을 구현하기 위한 별도의 패널 또는 기판을 필요로 하지 않으므로 터치 기능을 갖는 디스플레이 장치(100)의 두께 감소 및 제조 공정 특성이 향상된다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 도시한 개략적인 단면도이고, 도 5는 도 4의 K의 확대도이고, 도 6은 도 4의 디스플레이 장치의 터치 패턴의 개략적 회로도이다.
도 4 내지 도 6을 참조하면 본 실시예의 디스플레이 장치(200)는 기판(201), 표시부(DU), 터치 패턴(TP) 및 봉지부(EU)를 포함한다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.
기판(201)상에는 표시부(DU)가 형성되고, 표시부(DU)는 표시 소자 및 박막 트랜지스터(thin film transistor:TFT)가 형성된다. 표시 소자는 유기 발광 소자(230)를 구비하고, 박막 트랜지스터는 크게 활성층(203), 게이트 전극(205), 소스 전극(207) 및 드레인 전극(209)을 포함한다.
기판(201)의 재질은 전술한 실시예와 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
버퍼층(202)이 기판(201)상에 형성된다. 버퍼층(202)은 기판(201)의 상부에 평탄한 면을 제공하고 기판(201)방향으로 수분, 외기 또는 이물이 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다.
활성층(203)은 버퍼층(202)의 상면에 소정 패턴으로 형성된 배치된다. 활성층(203)은 실리콘과 같은 무기 반도체 물질, 유기 반도체 물질 또는 산화물 반도체 물질을 함유할 수 있고, 선택적으로 p형 또는 n형의 도펀트를 주입하여 형성될 수도 있다.
활성층(203)상부에는 게이트 절연막(204)이 형성된다. 게이트 절연막(204)의 상부에는 활성층(203)과 중첩된 영역을 갖도록 게이트 전극(205)이 형성된다.
디스플레이 장치(200)는 스캔 신호를 표시부(DU)에 인가하는 스캔 라인(SL)을 포함할 수 있다. 스캔 라인(SL)은 게이트 전극(205)과 동일한 재질로 형성될 수 있고, 게이트 전극(205)과 연결될 수 있다. 또한, 선택적 실시예로서 디스플레이 장치(200)는 도 4 및 도 5에 도시하지 않은 박막 트랜지스터를 구비할 수 있고, 이러한 도시하지 않은 박막 트랜지스터의 게이트 전극과 동일한 재질 또는 연결되도록 스캔 라인(SL)을 형성할 수 있다.
게이트 전극(205)을 덮도록 층간 절연막(206)이 형성되고, 층간 절연막(206) 상에 소스 전극(207) 및 드레인 전극(209)이 형성된다.
소스 전극(207) 및 드레인 전극(209)은 활성층(203)의 소정의 영역과 접촉되도록 형성된다.
소스 전극(207) 및 드레인 전극(209)을 덮도록 패시베이션층(208)이 형성되고, 패시베이션층(208)상부에는 별도의 평탄화막(미도시)을 더 형성할 수도 있다.
패시베이션층(208)상에 유기 발광 소자(230)를 형성한다. 유기 발광 소자(230)는 제1 전극(231), 중간층(233) 및 제2 전극(232)을 포함한다.
제1 전극(231)은 소스 전극(207) 또는 드레인 전극(209)중 어느 하나와 전기적으로 연결되도록 형성한다.
제1 전극(231)상에 화소 정의막(215)이 형성된다. 이 화소 정의막(215)은 적어도 제1 전극(231)의 상면의 소정의 영역을 덮지 않도록 한다. 이러한 제1 전극(231)의 상면상에 유기 발광층을 구비하는 중간층(233)이 형성된다. 중간층(233)상에 제2 전극(232)을 형성한다.
터치 패턴(TP)은 기판(201)의 하면, 즉 기판(201)의 면 중 표시부(DU)를 향하는 면의 반대면에 형성된다. 이를 통하여 터치 패턴(TP)은 표시부(DU)의 형성에 최소한의 영향을 줄 수 있다. 터치 패턴(TP)은 다양한 형태로 형성될 수 있다. 예를들면, 터치 패턴(TP)은 일 방향으로 연장된 복수 개의 도전 패턴을 구비할 수 있다.
도 6에 도시한 것과 같이 터치 패턴(TP)은 스캔 라인(SL)의 연장 방향과 교차하는 일 방향으로 연장된 복수개의 도전 패턴을 구비할 수 있다. 즉, 터치 패턴(TP)과 스캔 라인(SL)사이의 정전 용량을 이용하여 사용자의 터치 시 상기 정전 용량의 변화를 감지하여 터치 인식 기능을 구현할 수 있다.
또한, 다른 예로서 터치 패턴(TP)만으로 사용자의 터치를 인식할 수 있고, 이 경우 터치 패턴(TP)은 제1 방향 및 이와 교차하는 제2 방향으로 배열되고 서로 절연된 도전 패턴을 구비할 수 있다.
터치 패턴(TP)은 다양한 재질로 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 터치 패턴(TP)은 투과형 도전 물질을 함유할 수 있고, 예를들면 ITO, IZO, ZnO, AZO 또는 In2O3를 함유할 수 있다.
이를 통하여 표시부(DU)에서 발생한 가시 광선이 기판(201)을 통과하여 사용자에게 도달하는 과정에서 터치 패턴(TP)으로 인한 광차단을 최소화할 수 있다. 이를 통하여, 본 디스플레이 장치(200)를 배면 표시 구조로 용이하게 구현할 수 있다.
봉지부(EU)는 표시부(DU)상에 형성되고, 표시부(DU)를 덮을 수도 있다. 봉지부(EU)는 다양한 형태 및 재료로 형성되고 표시부(DU)로 수분, 이물 또는 외기가 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다. 봉지부(EU)는 유기막 또는 무기막을 포함할 수 있다. 또한, 봉지부(EU)는 하나 이상의 유기막 및 하나 이상의 무기막을 적층하여 형성할 수 있다.
또한, 봉지부(EU)의 형태는 도 2에 도시한 커버 형태의 봉지부(EU)일 수도 있다.
또한, 다른 선택적 실시예로서 도시하지 않았으나, 봉지부(EU)는 기판(201)과 대향하는 봉지 기판의 형태를 갖고, 봉지 기판(미도시)과 기판(201)은 씰링재(미도시)로 접착될 수도 있다.
도시하지 않았으나 터치 패턴(TP)상에 절연물을 이용하여 보호층(미도시)을 더 형성할 수 있다.
본 실시예의 디스플레이 장치(200)는 기판(201)의 일 면에 표시부(DU)를 형성하고, 이와 반대면에 터치 패턴(TP)을 형성한다. 이를 통하여 표시부(DU)의 제조 공정 진행 시 표시부(DU)의 특성에 영향을 주지 않으면서 터치 패턴(TP)을 용이하게 형성할 수 있다.
특히, 기판(201)의 하면, 즉 표시부(DU)가 형성되지 않는 면에 터치 패턴(TP)을 구현하므로 터치 패턴(TP)을 형성 시 터치 패턴(TP)의 형성 공정의 자유도가 향상된다.
또한, 기판(201)의 하면에 터치 패턴(TP)을 형성하고, 터치 패턴(TP)이 투과형 도전 물질을 함유하도록 하여 기판(201)의 하부로 화상이 구현되는 배면 표시 구조의 디스플레이 장치(200)를 용이하게 구현할 수 있다.
또한, 표시부(DU)에 구비된 박막 트랜지스터의 게이트 전극에 연결된 스캔 라인(SL)과 교차하도록 터치 패턴(TP)을 형성하여 별도의 터치 상호 전극을 형성하지 않고 스캔 라인(SL)을 일종의 터치 상호 전극으로 이용하여 터치 기능을 용이하게 구현할 수 있다.
또한, 터치 인식 기능을 구현하기 위한 별도의 패널 또는 기판을 필요로 하지 않으므로 터치 기능을 갖는 디스플레이 장치(200)의 두께 감소 및 제조 공정 특성이 향상된다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 도시한 개략적인 단면도이고, 도 8은 도 7의 K의 확대도이고, 도 9는 도 7의 디스플레이 장치의 터치 패턴의 개략적 회로도이다.
도 7 내지 도 9를 참조하면 본 실시예의 디스플레이 장치(300)는 기판(301), 표시부(DU), 터치 패턴(TP) 및 봉지부(EU)를 포함한다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.
기판(301)상에는 표시부(DU)가 형성되고, 표시부(DU)는 표시 소자 및 박막 트랜지스터(thin film transistor:TFT)가 형성된다. 표시 소자는 유기 발광 소자(330)를 구비하고, 박막 트랜지스터는 크게 활성층(303), 게이트 전극(305), 소스 전극(307) 및 드레인 전극(309)을 포함한다.
기판(301)의 재질은 전술한 실시예와 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
버퍼층(302)이 기판(301)상에 형성된다. 버퍼층(302)은 기판(301)의 상부에 평탄한 면을 제공하고 기판(301)방향으로 수분, 외기 또는 이물이 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다.
활성층(303)은 버퍼층(302)의 상면에 소정 패턴으로 형성된 배치된다. 활성층(303)은 실리콘과 같은 무기 반도체 물질, 유기 반도체 물질 또는 산화물 반도체 물질을 함유할 수 있고, 선택적으로 p형 또는 n형의 도펀트를 주입하여 형성될 수도 있다.
활성층(303)상부에는 게이트 절연막(304)이 형성된다. 게이트 절연막(304)의 상부에는 활성층(303)과 중첩된 영역을 갖도록 게이트 전극(305)이 형성된다.
디스플레이 장치(300)는 스캔 신호를 표시부(DU)에 인가하는 스캔 라인(SL)을 포함할 수 있다. 스캔 라인(SL)은 게이트 전극(305)과 동일한 재질로 형성될 수 있고, 게이트 전극(305)과 연결될 수 있다. 또한, 선택적 실시예로서 디스플레이 장치(300)는 도 7 및 도 8에 도시하지 않은 박막 트랜지스터를 구비할 수 있고, 이러한 도시하지 않은 박막 트랜지스터의 게이트 전극과 동일한 재질 또는 연결되도록 스캔 라인(SL)을 형성할 수 있다.
터치 상호 전극(TE: touch mutual electrode)이 게이트 절연막(304)에 형성된다.
터치 상호 전극(TE)과 터치 패턴(TP)은 사용자의 터치, 예를들면 사용자가 터치 패턴(TP)을 터치 시 이를 감지할 수 있다. 구체적으로 터치 상호 전극(TE)과 터치 패턴(TP)사이의 정전 용량의 변화를 감지하여 사용자의 터치를 인식할 수 있다. 터치 상호 전극(TE)은 게이트 전극(305)과 동일한 재질로 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 터치 상호 전극(TE)의 위치는 변경될 수 있는데, 예를들면 버퍼층(302)상에 형성될 수 있다. 또 다른 실시예로서 게이트 절연막(304)와 게이트 전극(305)의 사이에 또 다른 절연막(미도시)을 더 형성하고, 이 절연막(미도시)과 게이트 절연막(304)의 사이에 터치 상호 전극(TE)을 형성할 수 있다.
또한, 선택적 실시예로서 층간 절연막(306상에 소스 전극(307) 또는 드레인 전극(309)과 동일한 재질로 터치 상호 전극(TE)을 형성할 수도 있다.
도 8을 참조하면 게이트 전극(305) 및 터치 상호 전극(TE)을 덮도록 층간 절연막(306)이 형성되고, 층간 절연막(306) 상에 소스 전극(307) 및 드레인 전극(309)이 형성된다.
소스 전극(307) 및 드레인 전극(309)은 활성층(303)의 소정의 영역과 접촉되도록 형성된다.
소스 전극(307) 및 드레인 전극(309)을 덮도록 패시베이션층(308)이 형성되고, 패시베이션층(308)상부에는 별도의 평탄화막(미도시)을 더 형성할 수도 있다.
패시베이션층(308)상에 유기 발광 소자(330)를 형성한다. 유기 발광 소자(330)는 제1 전극(331), 중간층(333) 및 제2 전극(332)을 포함한다.
제1 전극(331)은 소스 전극(307) 또는 드레인 전극(309)중 어느 하나와 전기적으로 연결되도록 형성한다.
제1 전극(331)상에 화소 정의막(315)이 형성된다. 이 화소 정의막(315)은 적어도 제1 전극(331)의 상면의 소정의 영역을 덮지 않도록 한다. 이러한 제1 전극(331)의 상면상에 유기 발광층을 구비하는 중간층(333)이 형성된다. 중간층(333)상에 제2 전극(332)을 형성한다.
터치 패턴(TP)은 기판(301)의 하면, 즉 기판(301)의 면 중 표시부(DU)를 향하는 면의 반대면에 형성된다. 이를 통하여 터치 패턴(TP)은 표시부(DU)의 형성에 최소한의 영향을 줄 수 있다. 터치 패턴(TP)은 다양한 형태로 형성될 수 있다. 예를들면, 터치 패턴(TP)은 일 방향으로 연장된 복수 개의 도전 패턴을 구비할 수 있다.
도 9에 도시한 것과 같이 터치 패턴(TP)은 터치 상호 전극(TE)의 연장 방향과 교차하는 일 방향으로 연장된 복수개의 도전 패턴을 구비할 수 있다. 즉, 터치 패턴(TP)과 터치 상호 전극(TE)사이의 정전 용량을 이용하여 사용자의 터치 시 상기 정전 용량의 변화를 감지하여 터치 인식 기능을 구현할 수 있다.
터치 패턴(TP)은 다양한 재질로 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 터치 패턴(TP)은 투과형 도전 물질을 함유할 수 있고, 예를들면 ITO, IZO, ZnO, AZO 또는 In2O3를 함유할 수 있다.
이를 통하여 표시부(DU)에서 발생한 가시 광선이 기판(301)을 통과하여 사용자에게 도달하는 과정에서 터치 패턴(TP)으로 인한 광차단을 최소화할 수 있다. 이를 통하여, 본 디스플레이 장치(300)를 배면 표시 구조로 용이하게 구현할 수 있다.
봉지부(EU)는 표시부(DU)상에 형성되고, 표시부(DU)를 덮을 수도 있다. 봉지부(EU)는 다양한 형태 및 재료로 형성되고 표시부(DU)로 수분, 이물 또는 외기가 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다. 봉지부(EU)는 유기막 또는 무기막을 포함할 수 있다. 또한, 봉지부(EU)는 하나 이상의 유기막 및 하나 이상의 무기막을 적층하여 형성할 수 있다.
또한, 봉지부(EU)의 형태는 도 2에 도시한 커버 형태의 봉지부(EU)일 수도 있다.
또한, 다른 선택적 실시예로서 도시하지 않았으나, 봉지부(EU)는 기판(301)과 대향하는 봉지 기판의 형태를 갖고, 봉지 기판(미도시)과 기판(301)은 씰링재(미도시)로 접착될 수도 있다.
도시하지 않았으나 터치 패턴(TP)상에 절연물을 이용하여 보호층(미도시)을 더 형성할 수 있다.
본 실시예의 디스플레이 장치(300)는 기판(301)의 일 면에 표시부(DU)를 형성하고, 이와 반대면에 터치 패턴(TP)을 형성한다. 이를 통하여 표시부(DU)의 제조 공정 진행 시 표시부(DU)의 특성에 영향을 주지 않으면서 터치 패턴(TP)을 용이하게 형성할 수 있다.
특히, 기판(301)의 하면, 즉 표시부(DU)가 형성되지 않는 면에 터치 패턴(TP)을 구현하므로 터치 패턴(TP)을 형성 시 터치 패턴(TP)의 형성 공정의 자유도가 향상된다.
또한, 기판(301)의 하면에 터치 패턴(TP)을 형성하고, 터치 패턴(TP)이 투과형 도전 물질을 함유하도록 하여 기판(301)의 하부로 화상이 구현되는 배면 표시 구조의 디스플레이 장치(300)를 용이하게 구현할 수 있다.
또한, 표시부(DU)에 구비된 게이트 전극(305)과 동일한 재질로 터치 상호 전극(TE)을 형성할 경우 공정 효율성을 향상할 수 있다. 또한, 터치 상호 전극(TE)을 표시부(DU)의 박막 트랜지스터에 구비된 층들 중 일층 상에 형성하여 공정 효율성을 향상할 수 있다.
또한, 터치 인식 기능을 구현하기 위한 별도의 패널 또는 기판을 필요로 하지 않으므로 터치 기능을 갖는 디스플레이 장치(300)의 두께 감소 및 제조 공정 특성이 향상된다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 도시한 개략적인 단면도이고, 도 11은 도 10의 K의 확대도이고, 도 12는 도 11의 A 방향에서 본 평면도의 예시이다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.
도 10 내지 도 12를 참조하면 본 실시예의 디스플레이 장치(400)는 기판(401), 표시부(DU), 터치 패턴(TP) 및 봉지부(EU)를 포함한다.
기판(401)상에 표시부(DU)가 형성되고, 터치 패턴(TP)은 기판(401)의 면 중 하면, 즉 표시부(DU)가 형성된 면의 반대면에 형성된다.
기판(401)의 재질은 전술한 실시예와 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
도시하지 않았으나, 기판(401)과 표시부(DU)의 사이에 하나 이상의 배리어층(미도시) 및 하나 이상의 버퍼층(미도시)이 선택적으로 배치될 수 있고, 이를 통하여 기판(401)을 통하여 불순물, 수분 또는 외기가 유입되는 것을 차단 또는 감소할 수 있다.
표시부(DU)가 기판(401)상에 형성된다. 표시부(DU)는 표시 소자인 유기 발광 소자(430)를 포함한다.
선택적 실시예로서, 디스플레이 장치(400)는 터치 상호 전극(TE: touch mutual electrode)을 더 포함할 수 있다.
터치 상호 전극(TE)과 터치 패턴(TP)은 사용자의 터치, 예를들면 사용자가 터치 패턴(TP)을 터치 시 이를 감지할 수 있다. 구체적으로 터치 상호 전극(TE)과 터치 패턴(TP)사이의 정전 용량의 변화를 감지하여 사용자의 터치를 인식할 수 있다.
선택적 실시예로서 터치 상호 전극(TE)의 위치는 변경될 수 있는데, 예를들면 유기 발광 소자(430)의 상부에 터치 상호 전극(TE)이 형성될 수도 있다.
또한, 다른 선택적 실시예로서 후술할 터치 패턴(TP)만을 구비하고, 터치 상호 전극(TE)는 생략될 수 있다. 즉 터치 패턴(TP)만으로 사용자의 터치를 인식할 수 있고, 예를들면 터치 패턴(TP)이 제1 방향으로의 터치 패턴 및 이와 전기적으로 절연되고 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로의 터치 패턴을 구비하여 제1 방향으로의 터치 패턴과 제2 방향으로의 터치 패턴 사이의 정전 용량 변화 감지를 통하여 사용자의 터치를 인식할 수도 있다.
유기 발광 소자(430)는 제1 전극(431), 제2 전극(432) 및 중간층(433)을 구비한다.
제1 전극(431)은 터치 상호 전극(TE)상에 형성될 수 있다.
중간층(433)이 제1 전극(431)상에 형성된다. 중간층(433)은 가시 광선을 구현하도록 유기 발광층을 구비한다.
제2 전극(432)은 중간층(433)상에 형성된다. 제2 전극(432)은 다양한 도전성 재질로 형성될 수 있다.
터치 패턴(TP)은 기판(401)의 하면, 즉 기판(401)의 면 중 표시부(DU)를 향하는 면의 반대면에 형성된다. 이를 통하여 터치 패턴(TP)은 표시부(DU)의 형성에 최소한의 영향을 줄 수 있다. 터치 패턴(TP)은 다양한 형태로 형성될 수 있다. 예를들면, 터치 패턴(TP)은 일 방향으로 연장된 복수 개의 도전 패턴을 구비할 수 있고, 이 경우 터치 상호 전극(TE)은 터치 패턴(TP)의 연장 방향과 교차하는 일 방향으로 연장된 복수개의 도전 패턴을 구비할 수 있다.
또한, 전술한 것과 같이 터치 상호 전극(TE)이 없는 경우 터치 패턴(TP)만으로 사용자의 터치를 인식할 수 있고, 이 경우 터치 패턴(TP)은 제1 방향 및 이와 교차하는 제2 방향으로 배열되고 서로 절연된 도전 패턴을 구비할 수 있다.
터치 패턴(TP)은 다양한 재질로 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 터치 패턴(TP)은 도전 물질을 포함하고 광차단성 물질을 함유할 수 있다. 예를들면 터치 패턴(TP)은 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리브덴(Mo) 또는 철(Fe)을 함유할 수 있다.
이를 통하여 표시부(DU)에서 발생한 가시 광선이 기판(401)을 통과하여 사용자에게 도달하는 과정에서 터치 패턴(TP)을 통하여 외광 반사를 감소하여 콘트라스트를 향상할 수 있다.
유기 발광 소자(430)에서 발생한 가시 광선이 터치 패턴(TP)으로 차단되는 것을 최소화하기 위하여 도 12에 도시한 것과 같이 터치 패턴(TP)은 복수의 개구부(TPW)을 포함할 수 있다. 개구부(TPW)을 통하여 터치 패턴(TP)으로 인한 광차단을 최소화할 수 있다. 이를 통하여, 본 디스플레이 장치(400)를 배면 표시 구조로 용이하게 구현할 수 있다. 이러한 개구부(TPW)는 전술한 모든 실시예에서도 선택적으로 적용할 수 있다.
봉지부(EU)는 표시부(DU)상에 형성되고, 표시부(DU)를 덮을 수도 있다. 봉지부(EU)는 다양한 형태 및 재료로 형성되고 표시부(DU)로 수분, 이물 또는 외기가 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다. 봉지부(EU)는 유기막 또는 무기막을 포함할 수 있다. 또한, 봉지부(EU)는 하나 이상의 유기막 및 하나 이상의 무기막을 적층하여 형성할 수 있다.
또한, 봉지부(EU)의 형태는 도 10에 도시한 것과 같은 막(layer)형태가 아닌, 도 2에 도시한 커버 형태의 봉지부(EU)일 수도 있다.
또한, 다른 선택적 실시예로서 도시하지 않았으나, 봉지부(EU)는 기판(401)과 대향하는 봉지 기판의 형태를 갖고, 봉지 기판(미도시)과 기판(401)은 씰링재(미도시)로 접착될 수도 있다.
도시하지 않았으나 터치 패턴(TP)상에 절연물을 이용하여 보호층(미도시)을 더 형성할 수 있다.
본 실시예의 디스플레이 장치(400)는 기판(401)의 일 면에 표시부(DU)를 형성하고, 이와 반대면에 터치 패턴(TP)을 형성한다. 이를 통하여 표시부(DU)의 제조 공정 진행 시 표시부(DU)의 특성에 영향을 주지 않으면서 터치 패턴(TP)을 용이하게 형성할 수 있다.
특히, 기판(401)의 하면, 즉 표시부(DU)가 형성되지 않는 면에 터치 패턴(TP)을 구현하므로 터치 패턴(TP)을 형성 시 터치 패턴(TP)의 형성 공정의 자유도가 향상된다.
또한, 기판(401)의 하면에 터치 패턴(TP)을 형성하고, 터치 패턴(TP)이 투과형 도전 물질을 함유하도록 하여 기판(401)의 하부로 화상이 구현되는 배면 표시 구조의 디스플레이 장치(400)를 용이하게 구현할 수 있다.
특히 터치 패턴(TP)을 형성 시 광차단 물질을 함유하도록 하여 블랙 매트릭스 기능을 갖게 할 경우 디스플레이 장치(400)의 콘트라스트를 향상할 수 있고, 이 때 터치 패턴(TP)이 개구부(TPW)을 갖도록 하여 광효율 감소를 최소화한다.
또한, 터치 인식 기능을 구현하기 위한 별도의 패널 또는 기판을 필요로 하지 않으므로 터치 기능을 갖는 디스플레이 장치(400)의 두께 감소 및 제조 공정 특성이 향상된다.
도 13 및 도 14는 본 발명의 일 실시예에 관한 디스플레이 장치 제조 방법을 도시한 도면들이다.
설명의 편의를 위하여 본 실시예에서는 도 2의 디스플레이 장치(200)를 예로들어서 설명하기로 한다. 도시하지 않았으나 도 2를 제외한 다른 실시예의 디스플레이 장치들도 본 실시예의 제조 방법에 적용할 수 있다.
도 13을 참조하면, 터치 패턴(TP)을 제외한 구조물이 형성되어 있다. 즉, 기판(201), 표시부(DU) 및 봉지부(EU)를 형성하여 기판(201), 표시부(DU) 및 봉지부(EU)를 포함하는 구조물이 준비되어 있다.
그리고 나서, 도 14를 참조하면 기판(201)의 면 중 표시부(DU)가 형성된 면의 반대면에 터치 패턴(TP)을 형성하여 디스플레이 장치(200)를 최종적으로 완성한다.
도 13 및 도 14는 기판(201), 표시부(DU) 및 봉지부(EU)를 포함하는 구조물을 형성한 후 뒤집어서, 즉 기판(201)의 면 중 표시부(DU)가 형성된 면의 반대면이 위로 가도록 배치한 후 터치 패턴(TP)을 형성하는 공정을 진행하는 것으로 도시되어 있다.
이는 하나의 예로서 기판(201), 표시부(DU) 및 봉지부(EU)를 포함하는 구조물을 형성한 후 그대로, 즉 기판(201)의 면 중 표시부(DU)가 형성된 면의 반대면이 아래로 가도록 배치한 후 터치 패턴(TP)을 형성하는 공정을 진행할 수도 있다.
본 실시예의 디스플레이 장치 제조 방법은 기판(201)상에 표시부(DU) 및 봉지부(EU)를 형성한 후에, 기판(201)의 면 중 표시부(DU) 및 봉지부(EU)를 향하는 면의 반대면에 터치 패턴(TP)을 형성한다. 이를 통하여 표시부(DU) 및 봉지부(EU)를 형성 시 터치 패턴(TP)제조 공정으로 인한 불량 발생이 원천적으로 차단되고, 터치 패턴(TP) 형성 시 표시부(DU) 및 봉지부(EU)와 상관없이 기판(201)의 면에 공정을 진행할 수 있으므로 터치 패턴(TP)제조 공정의 효율성이 증대될 수 있다.
이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
100, 200, 300, 400: 디스플레이 장치
101, 201, 301, 401: 기판
DU: 표시부
TP: 터치 패턴
EU: 봉지부

Claims (19)

  1. 기판;
    상기 기판의 제1 면에 배치되고 화상을 구현하도록 표시 소자를 구비하는 표시부;
    상기 기판의 제1 면과 상기 표시부 사이에 배치되며, 상기 표시 소자에 전기적으로 연결된 하나 이상의 박막 트랜지스터;
    상기 표시부의 표시 소자로 스캔 신호를 인가하고, 상기 박막 트랜지스터의 게이트 전극과 전기적으로 연결된 스캔 라인;
    상기 표시부를 덮는 봉지부; 및
    상기 기판의 제1 면의 반대면인 제2 면에 배치되며 도전성을 갖는 터치 패턴을 포함하고,
    상기 표시 소자는, 상기 박막 트랜지스터에 연결된 제1 전극과, 상기 제1 전극 상에 배치된 제2 전극과, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치되며 유기 발광층을 포함하는 중간층을 포함하고,
    상기 제1 전극 상에 배치되며, 제1 전극의 상면의 소정 영역을 노출하는 화소 정의막을 더 포함하며, 상기 박막 트랜지스터는 상기 화소 정의막과 중첩하고,
    상기 스캔 라인은 상기 게이트 전극과 동일한 재료를 포함하며 제1 방향으로 연장된 복수 개의 도전 라인을 포함하며, 상기 터치 패턴은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장된 복수 개의 도전 패턴을 포함하는, 디스플레이 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 표시부의 일 면 또는 표시부의 내에 상기 터치 패턴과 대향하도록 배치되는 터치 상호 전극을 더 포함하는 디스플레이 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 터치 패턴은 제1 방향으로 연장된 복수의 도전 패턴을 포함하고,
    상기 터치 상호 전극은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장된 복수의 도전 패턴을 구비하는 디스플레이 장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 터치 패턴은 투과형 도전 물질을 함유하는 디스플레이 장치.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 박막 트랜지스터는 활성층, 소스 전극 및 드레인 전극을 더 포함하는 디스플레이 장치.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 터치 패턴은 광차단 물질을 함유하는 디스플레이 장치.
  12. 제1 항에 있어서,
    상기 터치 패턴은 복수의 터치 개구부를 구비하는 디스플레이 장치.
  13. 제1 항에 있어서,
    상기 터치 패턴을 덮는 보호층을 더 포함하는 디스플레이 장치.
  14. 제1 항에 있어서,
    상기 기판은 광투과성 재질을 함유하는 디스플레이 장치.
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 기판의 제1 면 상에 하나 이상의 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;
    상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되며 화상을 구현하는 표시 소자를 구비하는 표시부를 형성하는 단계;
    상기 표시부의 표시 소자로 스캔 신호를 인가하고, 상기 박막 트랜지스터의 게이트 전극과 전기적으로 연결된 스캔 라인을 형성하는 단계;
    상기 표시부를 덮는 봉지부를 형성하는 단계; 및
    상기 표시부 및 상기 봉지부를 포함하는 구조물을 뒤집어, 상기 기판의 제1 면의 반대면인 제2 면에 도전성을 갖는 터치 패턴을 형성하는 단계;를 포함하며,
    상기 표시 소자는, 상기 박막 트랜지스터에 연결된 제1 전극과, 상기 제1 전극 상에 배치된 제2 전극과, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치되며 유기 발광층을 포함하는 중간층을 포함하도록 형성하고,
    상기 제1 전극 상에 배치되며, 제1 전극의 상면의 소정 영역을 노출하는 화소 정의막을 더 형성하며, 상기 박막 트랜지스터는 상기 화소 정의막과 중첩하도록 형성하며,
    상기 스캔 라인은 상기 게이트 전극과 동일한 재료를 포함하며 제1 방향으로 연장된 복수의 도전 라인을 포함하며, 상기 터치 패턴은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장된 복수 개의 도전 패턴을 포함하도록 형성하는, 디스플레이 장치 제조 방법.
  18. 삭제
  19. 삭제
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