KR102548859B1 - Beam projector module providing eye protection - Google Patents
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Abstract
일 실시예는, 광을 출력하는 광원; 상기 광원이 지지되는 기판; 상기 광원에서 출력된 광의 세기를 감소시키고, 상기 광원에서 출력된 광이 투과되는 광학장치; 상기 기판 상에 배치되고, 상기 광학장치를 지지하면서 상기 광학장치를 상기 광원으로부터 일정거리 이격시키는 프레임; 상기 광원에서 출력된 광이 직접 수신되도록 배치되고, 상기 광의 세기를 측정하는 감광장치; 및 상기 광원의 출력을 감시 또는 제어하고, 상기 감광장치에서 측정된 상기 광의 세기가 제1기준범위를 벗어나는 경우에 제1눈보호모드(eye-safety mode)를 작동하여 상기 광원의 출력을 제한하는 프로세서를 포함하는, 빔프로젝터모듈을 제공한다.One embodiment, a light source that outputs light; a substrate on which the light source is supported; an optical device that reduces the intensity of light output from the light source and transmits the light output from the light source; a frame disposed on the substrate and spaced apart the optical device by a predetermined distance from the light source while supporting the optical device; a photosensitive device arranged to directly receive the light output from the light source and measuring the intensity of the light; and monitoring or controlling the output of the light source, and limiting the output of the light source by activating a first eye-safety mode when the intensity of the light measured by the photosensitive device is out of a first reference range. It provides a beam projector module including a processor.
Description
본 실시예는 빔프로젝터모듈에 관한 것이다.This embodiment relates to a beam projector module.
레이저(LASER)는 "Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation"의 약자로서, 집중적이고 응축적으로 광을 출력할 수 있다. 또한, 레이저는 단색성 및 지향성을 가질 수 있는데, 이러한 특성으로 인해 레이저는 광학적 센서 기술분야에서 다양하게 활용되고 있다.LASER is an abbreviation of "Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation" and can emit light in a concentrated and condensed manner. In addition, the laser may have monochromaticity and directivity, and due to these characteristics, the laser is widely used in the field of optical sensor technology.
예를 들어, 레이저는 거리측정장치의 광원으로 활용될 수 있고, 3차원 뎁스 카메라(3D Depth Camera)의 광원으로 활용될 수 있다. ToF(Time of Flight) 방식의 거리측정장치는 광원에서 출력된 펄스(pulse) 형태의 광파가 물체에 반사되어 돌아오는 이동거리를 위상차이를 통해 측정하고 이러한 위상차이와 주파수의 정보를 통해 거리를 측정하며, 구조광(SL: Structure Light) 또는 하이브리드 스테레오 타입(hybrid stereo type)은 레이저 광원을 소스로 하여 디퓨저를 통하여 규칙 또는 비규칙적인 패턴을 형성함으로써 거리정보를 추출할 수 있다.For example, a laser can be used as a light source for a distance measuring device and a light source for a 3D depth camera. ToF (Time of Flight) type distance measuring device measures the moving distance that the pulse-shaped light wave output from the light source is reflected on the object and returns through the phase difference, and measures the distance through the phase difference and frequency information. Distance information can be extracted by forming a regular or irregular pattern through a diffuser using a laser light source as a source of Structure Light (SL) or hybrid stereo type.
레이저는 고출력 및 지향성의 특성으로 인해 거리측정 및 3차원 뎁스 카메라의 광원으로 활용되고 있다.Laser is used as a light source for distance measurement and 3D depth cameras due to its high power and directivity.
한편, 레이저의 고출력 특성은 광의 비행거리를 증가시키고, 되돌아온 광의 출력도 일정 이상을 유지시킬 수 있다는 측면에서 장점으로 인식될 수 있으나, 안전의 측면에서는 단점으로 인식될 수 있다. 고출력의 광이 사람의 안구로 직접 조사되는 경우, 안구에 손상을 주고, 극단적인 경우 실명을 초래할 수도 있다. 이에 따라, 레이저를 광원으로 사용하는 경우에는 항상 안전상의 문제가 고려되어야 한다.On the other hand, the high power characteristics of the laser can be recognized as an advantage in terms of increasing the flight distance of light and maintaining the output of the returned light above a certain level, but it can be recognized as a disadvantage in terms of safety. When high-output light is directly irradiated to a person's eyeball, it may damage the eyeball and, in extreme cases, cause blindness. Accordingly, when a laser is used as a light source, safety issues must always be considered.
일반적으로 각국에는 눈보호(eye-safety) 기준이 있어서, 장치에서 출력되는 광의 세기는 기준 값 이하로 조절된다.In general, each country has an eye-safety standard, and the intensity of light output from the device is adjusted below the standard value.
출력되는 광의 세기를 조절하는 방법 중 하나는 광의 출력경로 상에 광의 세기를 줄여줄 수 있는 디퓨저(diffuser)를 배치하는 것이다. 디퓨저는 집중되어 있는 광을 빛의 속성을 이용하여 굴절 및 회절 등의 효과로 시스템에서 요구되는 일정 FOV(field of view)로 분산시키기 때문에 디퓨저를 통과한 광은 단위 면적당의 세기가 줄어들게 된다.One of the methods for controlling the intensity of output light is to place a diffuser capable of reducing the intensity of light on the light output path. Since the diffuser uses the property of light to disperse the concentrated light into a certain field of view (FOV) required by the system with effects such as refraction and diffraction, the intensity of light passing through the diffuser per unit area is reduced.
그런데, 이렇게 디퓨저를 이용하여 광의 세기를 조절하는 장치에서, 디퓨저가 탈착되는 경우, 고출력의 광이 그대로 출력되기 때문에 안전상으로 문제가 될 수 있다.However, in the device for adjusting the intensity of light using the diffuser, when the diffuser is detached, high-powered light is output as it is, which may pose a safety problem.
이러한 배경에서, 본 실시예의 목적은, 눈보호(eye-safety) 기능을 제공하는 거리 측정 장치에 대한 기술을 제공하는 것이다.Against this background, an object of this embodiment is to provide a technique for a distance measuring device that provides an eye-safety function.
전술한 목적을 달성하기 위하여, 일 실시예는, 광을 출력하는 광원; 상기 광원이 지지되는 기판; 상기 광원에서 출력된 광의 세기를 감소시키고, 상기 광원에서 출력된 광이 투과되는 광학장치; 상기 기판 상에 배치되고, 상기 광학장치를 지지하면서 상기 광학장치를 상기 광원으로부터 일정거리 이격시키는 프레임; 상기 광원에서 출력된 광이 직접 수신되도록 배치되고, 상기 광의 세기를 측정하는 감광장치; 및 상기 광원의 출력을 감시 또는 제어하고, 상기 감광장치에서 측정된 상기 광의 세기가 제1기준범위를 벗어나는 경우에 제1눈보호모드(eye-safety mode)를 작동하여 상기 광원의 출력을 제한하는 프로세서를 포함하는, 빔프로젝터모듈을 제공한다.In order to achieve the above object, one embodiment, a light source for outputting light; a substrate on which the light source is supported; an optical device that reduces the intensity of light output from the light source and transmits the light output from the light source; a frame disposed on the substrate and spaced apart the optical device by a predetermined distance from the light source while supporting the optical device; a photosensitive device arranged to directly receive the light output from the light source and measuring the intensity of the light; and monitoring or controlling the output of the light source, and limiting the output of the light source by activating a first eye-safety mode when the intensity of the light measured by the photosensitive device is out of a first reference range. It provides a beam projector module including a processor.
상기 빔프로젝터모듈은, 상기 프레임은 상기 광학장치 측으로 일정 길이 연장된 지지부를 포함하고, 상기 감광장치는 상기 지지부의 하부에 배치될 수 있다.In the beam projector module, the frame may include a support portion extending a predetermined length toward the optical device, and the photosensitive device may be disposed below the support portion.
상기 빔프로젝터모듈은, 상기 프레임은 상기 광학장치 측으로 일정 길이 연장된 지지부를 포함하고, 상기 지지부는 상기 광학장치의 상측에 배치되는 제1지지부, 및 상기 광학장치의 하측에 배치되는 제2지지부를 포함하고, 상기 감광장치는 상기 제2지지부의 하부에 배치될 수 있다.In the beam projector module, the frame includes a support portion extending a predetermined length toward the optical device, and the support portion includes a first support portion disposed above the optical device and a second support portion disposed below the optical device. and the photosensitive device may be disposed below the second support.
상기 빔프로젝터모듈은, 상기 프레임 및 상기 광학장치와 접촉하면서 상기 프레임 및 상기 광학장치 사이에 배치되고, 상기 프레임으로부터 상기 광학장치가 이격되는 경우에 저항 값이 변화하는 전도성 트레이스를 더 포함하고, 상기 프로세서는 상기 전도성 트레이스에서 측정되는 저항 값이 제2기준범위를 벗어나는 경우 제2눈보호모드를 작동하여 상기 광원의 출력을 제한할 수 있다.The beam projector module further includes a conductive trace disposed between the frame and the optical device while contacting the frame and the optical device, and having a resistance value that changes when the optical device is separated from the frame; The processor may operate the second eye protection mode to limit the output of the light source when the resistance value measured in the conductive trace is out of the second reference range.
상기 빔프로젝터모듈은, 상기 감광장치는 상기 광학장치 상에 배치될 수 있다.The beam projector module and the photosensitive device may be disposed on the optical device.
상기 빔프로젝터모듈은, 상기 감광장치는, 상기 광학장치와 상기 프레임과 접촉하면서 상기 프레임 및 상기 광학장치 사이에 배치되고, 상기 프레임은 상기 광학장치 측으로 일정 길이 연장된 지지부를 포함하고, 상기 지지부는 상기 광이 투과되는 하나 이상의 공구(孔口)를 포함할 수 있다.In the beam projector module, the photosensitive device is disposed between the frame and the optical device while contacting the optical device and the frame, the frame including a support portion extending a certain length toward the optical device, the support portion It may include one or more tools through which the light is transmitted.
상기 빔프로젝터모듈은, 상기 감광장치는, 상기 광학장치와 상기 프레임과 접촉하면서 상기 프레임 및 상기 광학장치 사이에 배치되고, 상기 프레임으로부터 상기 광학장치가 이격되는 경우에 저항 값이 변화하는 전도성 트레이스를 포함할 수 있다.In the beam projector module, the photosensitive device includes a conductive trace disposed between the frame and the optical device while contacting the optical device and the frame, and whose resistance value changes when the optical device is separated from the frame. can include
상기 빔프로젝터모듈은, 상기 감광장치는 패턴으로 형성된 광전 장치를 포함할 수 있다.In the beam projector module, the photosensitive device may include a photoelectric device formed in a pattern.
상기 빔프로젝터모듈은, 상기 프레임은 기판상에 배치되는 제1프레임 및 상기 제1프레임과 연결되는 제2프레임을 포함할 수 있다.In the beam projector module, the frame may include a first frame disposed on a substrate and a second frame connected to the first frame.
이상에서 설명한 바와 같이 본 실시예에 의하면, 거리 측정 장치에 이상에 발생하여도 사용자의 눈을 안전하게 보호할 수 있게 된다.As described above, according to the present embodiment, the user's eyes can be safely protected even if an abnormality occurs in the distance measuring device.
도 1은 제1실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.
도 2는 제2실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.
도 3은 명세서의 실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.
도 4는 도 3의 빔프로젝터모듈에 이상이 생긴 경우의 단면도이다.
도 5는 제3실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.
도 6은 제4실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.
도 7은 제5실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.
도 8은 제6실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.
도 9는 명세서의 실시예에 따른 빔프로젝터모듈이 획득된 광도에 따라 작동모드를 변경하는 흐름도이다.
도 10은 명세서의 실시예에 따른 빔프로젝터모듈이 저항 값에 따라 작동모드를 변경하는 흐름도이다.1 is a cross-sectional view of a beam projector module according to a first embodiment.
2 is a cross-sectional view of a beam projector module according to a second embodiment.
3 is a cross-sectional view of a beam projector module according to an embodiment of the specification.
4 is a cross-sectional view of a case where an abnormality occurs in the beam projector module of FIG. 3 .
5 is a cross-sectional view of a beam projector module according to a third embodiment.
6 is a cross-sectional view of a beam projector module according to a fourth embodiment.
7 is a cross-sectional view of a beam projector module according to a fifth embodiment.
8 is a cross-sectional view of a beam projector module according to a sixth embodiment.
9 is a flowchart for changing an operation mode according to an acquired luminous intensity of a beam projector module according to an embodiment of the specification.
10 is a flowchart for changing an operation mode according to a resistance value of a beam projector module according to an embodiment of the specification.
이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail through exemplary drawings. In adding reference numerals to components of each drawing, it should be noted that the same components have the same numerals as much as possible even if they are displayed on different drawings. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted.
또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.Also, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used in describing the components of the present invention. These terms are only used to distinguish the component from other components, and the nature, order, or order of the corresponding component is not limited by the term. When an element is described as being “connected,” “coupled to,” or “connected” to another element, that element is directly connected or connectable to the other element, but there is another element between the elements. It will be understood that elements may be “connected”, “coupled” or “connected”.
도 1은 제1실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a beam projector module according to a first embodiment.
도 1을 참조하면, 빔프로젝터모듈(100)은 광원(110), 기판(120), 광학장치(130), 프레임(140), 감광장치(150), 프로세서(160)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1 , the
광원(110)은 기판 상에 배치될 수 있고 광을 출력할 수 있다. 광원(110)의 애노드전극은 기판의 애노드배선과 연결되고 캐소드전극은 기판의 캐소드배선과 연결될 수 있다.The
광원(110)은 기판(120)에 와이어 본딩 형태로 연결되어 배치될 수 있다. 또는, 광원(110)은 플립칩 본딩(flip chip bonding) 방식으로 기판(120)에 와이어 없이 배치될 수 있다. 광원(110)이 플립칩 본딩(flip chip bonding)을 통하여 기판(120)과 연결되는 경우에는, 와이어 선이 필요하지 않고, 그에 따라, 보다 소형화된 거리 측정 장치를 구성할 수 있다.The
그리고, 광원(110)은 레이저 등의 광을 출력할 수 있는 광원이면 이를 제한하지 않으나, 광원(110)은 수직 캐비티 표면 광방출 레이저(VCSEL: vertical-cavity surface-emitting laser)를 포함할 수 있다.In addition, the
기판(120)은 광원(110)을 지지할 수 있다. 기판(120)에는 배선이 패터닝될 수 있다. 그리고, 기판(120)은 외부로부터 전력을 공급받을 수 있고, 전력을 각 배선을 통해 광원(110) 등에 공급할 수 있다. The
광학장치(130)는 광원(110)에서 출력되는 광에 대하여 일정 공간으로 출력되는 광의 세기를 감소시키고, 출력된 광을 투과시킬 수 있다. 예를 들어, 광학장치(130)는 광을 확산시켜 광이 도달하는 영역을 넓게 만드는데, 이에 따라, 단위 면적에 공급되는 광의 세기가 감소될 수 있다. The
그리고, 광학장치(130)는 광을 확산시켜 광의 세기를 감소시키는 장치면 이를 제한하지 않으나, 디퓨저, 회절광학소자(Diffraction Optical Element: DOE) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The
프레임(140)은 기판(120)상에 배치될 수 있고, 광학장치(130)를 지지하면서 광학장치(130)를 광원(110)으로부터 일정거리 이격시킬 수 있다. The
감광장치(150)는 광원(110)에서 출력된 광이 직접 수신되도록 배치될 수 있고, 광원(110)에서 출력된 광의 세기(광도)를 측정할 수 있다. 또한, 도 1에는 감광장치(150)가 프레임(140)상에 배치된 것이 도시되었으나, 이에 제한되지는 않고, 광학장치(130), 기판(120) 등에 광원(110)에서 출력된 광이 직접 입사되도록 배치될 수 있다. 그리고, 감광장치(150)는 프레임(140)의 내부 또는 외부에 형성된 배선을 통해 기판(120)과 전기적으로 연결될 수 있다.The
그리고, 감광장치(150)는 광원(110)에서 출력된 광의 세기를 측정할 수 있는 장치면 이를 제한하지 않으나, 구체적으로 광 다이오드, 또는 패턴으로 형성된 광전 장치일 수 있다.In addition, the
감광장치가 패턴으로 형성된 광전 장치인 경우, 감광장치의 크기는 소형화 되어, 더욱 작은 크기의 빔프로젝터모듈을 구현할 수 있다. 그리고, 이때 감광장치의 크기가 소형화 되므로, 빔프로젝터모듈내에 감광장치를 배치하는데 있어서 유연성이 증가할 수 있다.When the photosensitive device is a photoelectric device formed in a pattern, the size of the photosensitive device is reduced, so that a smaller-sized beam projector module can be realized. And, since the size of the photosensitive device is reduced at this time, flexibility in arranging the photosensitive device in the beam projector module can be increased.
광원(110)에서 출력된 광은 감광장치(150)로 직접 입사될 수 있다(10). 이때 감광장치(150)는 입사된 광의 광도를 측정하고, 측정된 광도 값을 프로세서(160)로 송신할 수 있다. 프로세서(160)는 수신한 광도 값이 미리 정해진 범위를 벗어나는지 여부를 판단하고, 측정된 광도가 미리 정해진 범위를 벗어나는 경우, 눈보호모드를 작동해 광원(110)의 출력을 제한하여 사용자의 눈을 안전하게 보호할 수 있다. Light output from the
구체적으로, 광원(110)에 생긴 이상으로 인해 광원(110)에서 출력되는 광의 세기가 안전 범위 보다 높은 경우, 광원(110)에서 출력된 광의 광도는 미리 정해진 기준 범위보다 높을 수 있다. 이때, 감광 장치(390)는 반사된 광의 광도를 측정하여 광도 값을 프로세서(180)로 송신하고, 프로세서(180)는 측정된 광도가 미리 정해진 기준 범위를 벗어나는지 여부를 판단하여, 눈보호모드(eye-safety mode)를 작동하여 광원(110)의 출력을 제한할 수 있다. Specifically, when the intensity of light output from the
감광장치(150)가 도 1에 도시된 바와 같이 광원(110)에서 출력된 광이 직접 입사하도록 배치되면, 광원(110)에서 출력된 광의 세기를 더욱 정확하고 세밀하게 측정할 수 있다. 예를 들어, 광원(110)에서 출력된 광이 광학장치(130)에 의해서 반사되고, 감광장치(150)가 반사된 광을 수신하여 광도를 측정하게 되면, 반사과정에서 일부 광이 감광장치(150)를 향하여 반사되지 않거나, 또는 반사과정에서 원래의 세기보다 약해질 수 있다. 따라서, 감광장치(150)는 반사된 광을 통하여 광원(110)에서 출력된 광의 실제세기를 간접적으로 측정하게 되고 광도 측정시의 정확도가 낮아질 수 있다. If the
하지만, 이와 반대로 감광장치(150)가 광원(110)에서 출력된 광을 직접 수신하도록 배치되면, 광의 세기를 직접적으로 측정하여 측정 시의 정확도가 향상될 수 있으며, 이에 따라 더욱 정확하게 눈보호기능을 구동할 수 있다.However, on the contrary, if the
그리고, 광원(110)으로의 전력공급은 프로세서(160)에 의해 감시 또는 제어될 수 있으며, 프로세서(160)는 정상모드와 눈보호모드에서 광원(110)으로 공급하는 전력을 다르게 제어할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(160)는 정상모드에서만 광원(110)으로 전력을 공급하고 눈보호모드에서는 광원(110)으로 전력을 공급하지 않을 수 있다. 다른 예로, 프로세서(160)는 정상모드에서 보다 눈보호모드에서 상대적으로 적은 전력을 광원에 공급할 수 있다.In addition, power supply to the
그리고, 프로세서(160)는 광원(110)의 출력을 감시하여 광원(110)의 출력 값이 기준 범위를 벗어난 경우, 눈보호모드를 작동하여, 광원(110)의 출력을 제한하여, 사용자의 눈을 안전하게 보호할 수 있다.Further, the
도 2는 제2실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a beam projector module according to a second embodiment.
도 2를 참조하면, 일 실시예에 따른 빔프로젝터모듈(200)의 프레임(240)은 광학장치(130) 측으로 일정 길이 연장된 지지부(245)를 포함하고, 감광장치(150)는 지지부(245)의 하부에 배치될 수 있다.Referring to FIG. 2 , the
지지부(245)는 광학장치(130)를 안정적으로 지지할 수 있고, 광원(110)에서 출력된 광이 빔프로젝터모듈(200) 외부로 빠져나가는 각도를 제한하여, 빔프로젝터모듈(200)의 화각을 조절할 수 있다.The
그리고 감광장치(150)는 지지부(245)의 하부에 배치되어 광원(110)에서 출력된 광을 직접 수신하여, 감광장치(150)에서 광원(110)에서 출력된 광의 세기를 정확하게 측정할 수 있다.In addition, the
도 3은 명세서의 실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a beam projector module according to an embodiment of the specification.
도 4는 도 3의 빔프로젝터모듈에 이상이 생긴 경우의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a case where an abnormality occurs in the beam projector module of FIG. 3 .
도 3 내지 4를 참조하면, 프레임은 제1프레임(240a) 및 제2프레임(240b)을 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 3 and 4 , the frame may include a
제1프레임(240a)은 기판(120)상에 배치될 수 있고, 제2프레임(240b)은 제1프레임(240a)과 연결될 수 있다. 그리고, 제1프레임(240a) 및 제2프레임(240b)은 각각의 내부 또는 외부에 형성된 배선 또는 패턴을 통하여 전기적으로 연결될 수 있고, 따라서 제2프레임(240b)은 제1프레임(240a)을 통해 기판(120)의 배선과 전기적으로 연결될 수 있다.The
프레임이 제1프레임(240a) 및 제2프레임(240b)을 포함하도록 구성되면, 빔프로젝터모듈이 외부의 충격 등으로 인해 기계적인 파손이 발생한 경우에도, 광도의 변화를 측정하여 눈보호모드를 작동할 수 있다. 예를 들어, 도 4에 도시된 것과 같이 빔프로젝터모듈이 외부의 충격을 받아 제1프레임(240a) 및 제2프레임(240b)이 분리되면, 광원(110)에서 출력된 광이 정상적으로 광학장치(130)를 거치지 않게 되어, 광의 세기가 감소되지 않고 사용자의 눈에 도달할 수 있다. 그리고, 제1프레임(240a) 및 제2프레임(240b)이 분리되는 경우 감광장치(150)와 광원(110)의 거리가 상대적으로 멀어질 수 있고, 이에 따라 감광장치(150)에서 수신되는 광의 세기가 감소하고, 프로세서(160)는 수신된 광의 세기가 정상범위에서 벗어나는 것을 판단하여 눈보호모드를 작동할 수 있다.If the frame is configured to include the
도 5는 제3실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a beam projector module according to a third embodiment.
도 5를 참조하면, 일 실시예에 따른 빔프로젝터모듈(300)의 프레임(340)은 광학장치(130) 측으로 일정 길이 연장된 지지부(345a, 345b)를 포함하고, 지지부는 광학장치(130)의 상측에 배치되는 제1지지부(345a) 및 광학장치(130)의 하측에 배치되는 제2지지부(345b)를 포함할 수 있고, 감광장치(150)는 제2지지부(345b)의 하부에 배치될 수 있다.Referring to FIG. 5 , the
제1지지부(345a) 및 제2지지부(345b)는 광학장치(130)를 상, 하측에서 지지할 수 있고, 이에 따라 광학장치(130)를 더욱 안정적이고 견고하게 지지할 수 있다. The
그리고, 감광장치(150)는 제2지지부(345b) 하부에서 광원(110)에서 출력된 광을 직접 수신하여 광원(110)에서 출력되는 광의 세기를 정확하게 측정할 수 있다.In addition, the
도 6은 제4실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.6 is a cross-sectional view of a beam projector module according to a fourth embodiment.
도 6을 참조하면, 일 실시예에 따른 빔프로젝터모듈(400)은 프레임(240) 및 광학장치(130)와 접촉하면서 프레임(240) 및 광학장치(130) 사이에 배치되는 전도성 트레이스(470)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 6, the
전도성 트레이스(470)는 프레임(240)으로부터 광학장치(130)가 이격되는 경우에 전도성 트레이스(470)의 내부 저항 값이 변화할 수 있고, 프로세서(160)는 전도성 트레이스(470)에서 측정되는 저항 값이 기준범위를 벗어나는 경우에 눈보호모드를 작동하여 광원(110)의 출력을 제한할 수 있다. When the
예를 들어, 광학장치(130)가 파손되어 지지부(245)로부터 탈착되는 경우, 광원(110)에서 출력된 광이 정상적으로 광학장치(130)를 거치지 않을 수 있고, 이에 따라 세기가 줄어들지 않은 채 사용자의 눈에 도달할 수 있다. 광학장치(130)가 이격되는 경우 전도성 트레이스(470)는 광학장치(130) 또는 지지부(245)와 접촉하지 않게 되고 이에 따라 전도성 트레이스(470)의 내부 저항 값이 상승할 수 있다. 프로세서(160)는 전도성 트레이스(470)의 상승된 저항 값이 기준범위를 벗어나는 것으로 판단하면, 눈보호모드를 작동하여 광원(110)의 출력을 제한할 수 있고, 이에 따라 사용자의 눈을 안전하게 보호할 수 있다.For example, when the
또한, 일 실시예에 따른 빔프로젝터모듈이 감광장치(150)와 전도성 트레이스(470)를 포함하면, 감광장치(150)가 광원(110)에서 출력된 광의 세기를 감시하여 눈보호모드를 작동할 수 있고, 전도성 트레이스(470)의 저항 값 변화를 통해 광학장치(130)의 탈착여부를 판단하고, 그에 따른 눈보호모드를 작동할 수 있다. 즉, 두 가지 경로를 통해 복수의 눈보호모드를 작동하는 것이 가능하여 사용자의 눈을 더욱 안전하게 보호할 수 있다.In addition, if the beam projector module according to an embodiment includes the
도 7은 제5실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.7 is a cross-sectional view of a beam projector module according to a fifth embodiment.
도 7을 참조하면, 감광장치(150)는 광학장치(130) 상에 배치될 수 있다. 감광장치(150)는 패턴으로 형성된 광전장치 일 수 있고, 따라서 광학장치(130) 상에 패턴으로 형성될 수 있다.Referring to FIG. 7 , a
도 8은 제6실시예에 따른 빔프로젝터모듈의 단면도이다.8 is a cross-sectional view of a beam projector module according to a sixth embodiment.
도 8을 참조하면, 감광장치(650)는 광학장치(130)와 프레임(640)과 접촉하면서 프레임(640) 및 광학장치(130) 사이에 배치되고, 지지부(645)는 광원(110)에서 출력된 광이 투과되는 하나 이상의 공구(孔口) (20)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 8 , the
감광장치(650)는 전도성 트레이스를 포함할 수 있고, 프로세서(160)는 광학장치(130)의 탈착시 감광장치(650)에 포함된 전도성 트레이스의 저항 값 변화를 통해 눈보호모드를 작동하여 사용자의 눈을 안전하게 보호할 수 있다.The
그리고, 감광장치(650)는 광원(110)에서 출력되고 지지부(645)에 형성된 공구(孔口) (20)를 통해 투과된, 광을 직접 수신할 수 있다.In addition, the
도 9는 명세서의 실시예에 따른 빔프로젝터모듈이 획득된 광도에 따라 작동모드를 변경하는 흐름도이다.9 is a flowchart for changing an operation mode according to an acquired luminous intensity of a beam projector module according to an embodiment of the specification.
도 9를 참조하면, 프로세서는 감광 장치로부터 광도를 획득할 수 있다(S902). 여기서 광도는 광원에서 출력되어 제1광학장치에 반사된 광도일 수 있다.Referring to FIG. 9 , the processor may acquire light intensity from the photosensitive device (S902). Here, the luminous intensity may be a luminous intensity output from the light source and reflected by the first optical device.
프로세서는 측정된 광도가 기준 범위를 초과하는지 여부에 대해 판단할 수 있다(S904).The processor may determine whether the measured light intensity exceeds a reference range (S904).
프로세서는 측정된 광도가 기준범위 내에 속하면 광원을 정상모드로 구동할 수 있다. (S906) 그리고, 프로세서는 광도가 기준 범위를 벗어나면 광원을 눈보호모드(eye-sasfety mode)로 구동할 수 있다(S908). 눈보호모드에서 프로세서는 광원을 턴오프시킬 수 있거나, 광원으로의 전력공급을 줄일 수 있다.The processor may drive the light source in a normal mode when the measured luminous intensity falls within a reference range. (S906) And, the processor may drive the light source in an eye-safety mode when the luminous intensity is out of the reference range (S908). In the eye protection mode, the processor may turn off the light source or reduce power supply to the light source.
도 10은 명세서의 실시예에 따른 빔프로젝터모듈이 저항 값에 따라 작동모드를 변경하는 흐름도이다. 10 is a flowchart for changing an operation mode according to a resistance value of a beam projector module according to an embodiment of the specification.
도 10을 참조하면, 프로세서는 저항 값를 획득할 수 있다(S902). 여기서 저항 값은 광원에서 출력되어 전도성 트레이스의 저항 값일 수 있다.Referring to FIG. 10 , the processor may obtain a resistance value (S902). Here, the resistance value may be the resistance value of the conductive trace output from the light source.
프로세서는 측정된 저항 값이 기준저항보다 높은지 여부에 대해 판단할 수 있다(S904).The processor may determine whether the measured resistance value is higher than the reference resistance (S904).
프로세서는 측정된 저항 값이 기준저항보다 낮으면 광원을 정상모드로 구동할 수 있다. (S906) 그리고, 프로세서는 광도가 기준저항보다 높으면 광원을 눈보호모드(eye-sasfety mode)로 구동할 수 있다(S908). 눈보호모드에서 프로세서는 광원을 턴오프시킬 수 있거나, 광원으로의 전력공급을 줄일 수 있다.The processor may drive the light source in a normal mode when the measured resistance value is lower than the reference resistance. (S906) And, if the luminous intensity is higher than the reference resistance, the processor may drive the light source in an eye-safety mode (S908). In the eye protection mode, the processor may turn off the light source or reduce power supply to the light source.
이상에서 설명한 바와 같이 본 실시예에 의하면, 거리 측정 장치에 이상에 발생하여도 사용자의 눈을 안전하게 보호할 수 있게 된다.As described above, according to the present embodiment, the user's eyes can be safely protected even if an abnormality occurs in the distance measuring device.
이상에서 기재된 "포함하다", "구성하다" 또는 "가지다" 등의 용어는, 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 해당 구성 요소가 내재될 수 있음을 의미하는 것이므로, 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다. 기술적이거나 과학적인 용어를 포함한 모든 용어들은, 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥 상의 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Terms such as "comprise", "comprise" or "having" described above mean that the corresponding component may be inherent unless otherwise stated, and therefore do not exclude other components. It should be construed that it may further include other components. All terms, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs, unless defined otherwise. Commonly used terms, such as terms defined in a dictionary, should be interpreted as consistent with the meaning in the context of the related art, and unless explicitly defined in the present invention, they are not interpreted in an ideal or excessively formal meaning.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely an example of the technical idea of the present invention, and various modifications and variations can be made to those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be construed according to the claims below, and all technical ideas within the equivalent range should be construed as being included in the scope of the present invention.
Claims (12)
상기 광원이 지지되는 기판;
상기 광원에서 출력된 광의 세기를 감소시키고, 상기 광원에서 출력된 광이 투과되는 광학장치;
상기 기판 상에 배치되고, 상기 광학장치를 지지하면서 상기 광학장치를 상기 광원으로부터 일정거리 이격시키는 프레임;
상기 광원에서 출력된 광이 직접 수신되도록 배치되고, 상기 광의 세기를 측정하는 감광장치; 및
상기 광원의 출력을 감시 또는 제어하고, 상기 광원의 출력을 조절하는 프로세서를 포함하고,
상기 프레임은 상기 광학장치 측으로 일정 길이 연장된 지지부를 포함하고,
상기 감광장치는 상기 지지부의 하부에 배치되어 상기 광원의 출력광을 직접 수신하고,
상기 프레임 및 상기 광학장치와 접촉하면서 상기 프레임 및 상기 광학장치 사이에 배치되고, 상기 프레임으로부터 상기 광학장치가 이격되는 경우에 저항 값이 변화하는 전도성 트레이스를 더 포함하고,
상기 프로세서는 상기 전도성 트레이스에서 측정되는 저항 값이 기준범위를 벗어나는 경우 상기 광원의 출력을 제한하는, 빔프로젝터모듈.a light source that outputs light;
a substrate on which the light source is supported;
an optical device that reduces the intensity of light output from the light source and transmits the light output from the light source;
a frame disposed on the substrate and spaced apart the optical device by a predetermined distance from the light source while supporting the optical device;
a photosensitive device arranged to directly receive the light output from the light source and measuring the intensity of the light; and
A processor for monitoring or controlling the output of the light source and adjusting the output of the light source;
The frame includes a support portion extending a certain length toward the optical device,
The photosensitive device is disposed under the support and directly receives the output light of the light source;
Further comprising a conductive trace disposed between the frame and the optical device while contacting the frame and the optical device, and having a resistance value that changes when the optical device is separated from the frame;
Wherein the processor limits the output of the light source when the resistance value measured in the conductive trace is out of a reference range.
상기 프로세서는 상기 감광장치에서 측정된 상기 광의 세기가 기준범위를 벗어나는 경우 상기 광원의 출력을 제한하는, 빔프로젝터모듈.According to claim 1,
Wherein the processor limits the output of the light source when the intensity of the light measured by the photosensitive device is out of a reference range.
상기 지지부는 상기 광학장치의 상측에 배치되는 제1지지부, 및 상기 광학장치의 하측에 배치되는 제2지지부를 포함하고,
상기 감광장치는 상기 제2지지부의 하부에 배치되는, 빔프로젝터모듈.According to claim 1,
The support portion includes a first support portion disposed above the optical device and a second support portion disposed below the optical device,
The beam projector module, wherein the photosensitive device is disposed below the second support part.
상기 광원이 지지되는 기판;
상기 광원에서 출력된 광의 세기를 감소시키고, 상기 광원에서 출력된 광이 투과되는 광학장치;
상기 기판 상에 배치되고, 상기 광학장치를 지지하면서 상기 광학장치를 상기 광원으로부터 일정거리 이격시키는 프레임;
상기 광원에서 출력된 광이 직접 수신되도록 배치되고, 상기 광의 세기를 측정하는 감광장치; 및
상기 광원의 출력을 감시 또는 제어하고, 상기 광원의 출력을 조절하는 프로세서를 포함하고,
상기 프레임은 상기 광학장치 측으로 일정 길이 연장된 지지부를 포함하고,
상기 감광장치는 상기 지지부의 하부에 배치되어 상기 광원의 출력광을 직접 수신하고,
상기 감광장치는, 상기 광학장치와 상기 프레임과 접촉하면서 상기 프레임 및 상기 광학장치 사이에 배치되고,
상기 프레임은 상기 광학장치 측으로 일정 길이 연장된 지지부를 포함하고,
상기 지지부는 상기 광이 투과되는 하나 이상의 공구(孔口)를 포함하는, 빔프로젝터모듈.a light source that outputs light;
a substrate on which the light source is supported;
an optical device that reduces the intensity of light output from the light source and transmits the light output from the light source;
a frame disposed on the substrate and spaced apart the optical device by a predetermined distance from the light source while supporting the optical device;
a photosensitive device arranged to directly receive the light output from the light source and measuring the intensity of the light; and
A processor for monitoring or controlling the output of the light source and adjusting the output of the light source;
The frame includes a support portion extending a certain length toward the optical device,
The photosensitive device is disposed under the support and directly receives the output light of the light source;
the photosensitive device is disposed between the frame and the optical device while contacting the optical device and the frame;
The frame includes a support portion extending a certain length toward the optical device,
The beam projector module, wherein the support part includes one or more tools through which the light is transmitted.
상기 광원이 지지되는 기판;
상기 광원에서 출력된 광의 세기를 감소시키고, 상기 광원에서 출력된 광이 투과되는 광학장치;
상기 기판 상에 배치되고, 상기 광학장치를 지지하면서 상기 광학장치를 상기 광원으로부터 일정거리 이격시키는 프레임;
상기 광원에서 출력된 광이 직접 수신되도록 배치되고, 상기 광의 세기를 측정하는 감광장치; 및
상기 광원의 출력을 감시 또는 제어하고, 상기 광원의 출력을 조절하는 프로세서를 포함하고,
상기 프레임은 상기 광학장치 측으로 일정 길이 연장된 지지부를 포함하고,
상기 감광장치는 상기 지지부의 하부에 배치되어 상기 광원의 출력광을 직접 수신하고,
상기 감광장치는,
상기 광학장치와 상기 프레임과 접촉하면서 상기 프레임 및 상기 광학장치 사이에 배치되고,
상기 프레임으로부터 상기 광학장치가 이격되는 경우에 저항 값이 변화하는 전도성 트레이스를 포함하는, 빔프로젝터모듈.a light source that outputs light;
a substrate on which the light source is supported;
an optical device that reduces the intensity of light output from the light source and transmits the light output from the light source;
a frame disposed on the substrate and spaced apart the optical device by a predetermined distance from the light source while supporting the optical device;
a photosensitive device arranged to directly receive the light output from the light source and measuring the intensity of the light; and
A processor for monitoring or controlling the output of the light source and adjusting the output of the light source;
The frame includes a support portion extending a certain length toward the optical device,
The photosensitive device is disposed under the support and directly receives the output light of the light source;
The photosensitive device is
Disposed between the frame and the optical device while contacting the optical device and the frame;
A beam projector module comprising a conductive trace whose resistance value changes when the optical device is spaced apart from the frame.
상기 감광장치는 패턴으로 형성된 광전 장치를 포함하는, 빔프로젝터모듈.The method of any one of claims 1, 2, 3, 6 and 7,
The beam projector module of claim 1 , wherein the photosensitive device includes a photoelectric device formed in a pattern.
상기 프레임은 기판상에 배치되는 제1프레임 및 상기 제1프레임과 연결되는 제2프레임을 포함하는, 빔프로젝터모듈.The method of any one of claims 1, 2, 3, 6 and 7,
The beam projector module, wherein the frame includes a first frame disposed on a substrate and a second frame connected to the first frame.
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