KR102545209B1 - 공정길이 축소를 위해 스네이크-턴 방식을 활용하는 연속도금 공정방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 공정길이 축소를 위해 스네이크-턴 방식을 활용하는 연속도금 공정방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 연속 도금공정에서 이루어지는 복수의 공정단계가 단일 셀에서 이루어지도록 하기 위하여, 공정 라인을 스네이크-턴 방식으로 변형함으로써 공정길이를 축소할 수 있는 스네이크-턴 방식을 활용하는 연속도금 공정방법에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법은, 금속스트립에 도금 공정을 수행하는 연속도금 공정방법에 있어서, 금속스트립을 일정한 속도로 이동시키되, 단일 셀(cell) 내에 설치되어 금속스트립을 이송시키는 공정라인이 직선방향이 아닌 S자형으로 이루어져, S자형 공정라인을 따라 회전 이송되면서, 표면의 기름을 제거하는 탈지공정(S100)과, 상기 탈지공정(S100)을 통과한 금속스트립을 수조에 침지하여 탈지액을 세척하고 묽은 황산으로 탈지액을 중화하며 산을 세척하는 중화 및 세척공정(S200)과, 상기 중화 및 세척공정(S200)을 통과한 금속스트립을, 단일 셀(cell) 내에 설치되어 금속 스트립을 이송시키는 공정라인이 직선방향이 아닌 S자형으로 이루어져, S자형 공정라인을 따라 회전 이송되면서, 표면에 니켈(Ni)을 도금하는 하지도금공정(S300)과, 상기 하지도금공정(S300)을 통과한 금속스트립의 표면에 금(Au)을 도금하는 본도금공정(S400) 및 본도금공정(S400)이 종료된 이후 박리 및 봉공처리가 이루어지는 후처리공정(S500)을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법은, 금속스트립에 도금 공정을 수행하는 연속도금 공정방법에 있어서, 금속스트립을 일정한 속도로 이동시키되, 단일 셀(cell) 내에 설치되어 금속스트립을 이송시키는 공정라인이 직선방향이 아닌 S자형으로 이루어져, S자형 공정라인을 따라 회전 이송되면서, 표면의 기름을 제거하는 탈지공정(S100)과, 상기 탈지공정(S100)을 통과한 금속스트립을 수조에 침지하여 탈지액을 세척하고 묽은 황산으로 탈지액을 중화하며 산을 세척하는 중화 및 세척공정(S200)과, 상기 중화 및 세척공정(S200)을 통과한 금속스트립을, 단일 셀(cell) 내에 설치되어 금속 스트립을 이송시키는 공정라인이 직선방향이 아닌 S자형으로 이루어져, S자형 공정라인을 따라 회전 이송되면서, 표면에 니켈(Ni)을 도금하는 하지도금공정(S300)과, 상기 하지도금공정(S300)을 통과한 금속스트립의 표면에 금(Au)을 도금하는 본도금공정(S400) 및 본도금공정(S400)이 종료된 이후 박리 및 봉공처리가 이루어지는 후처리공정(S500)을 포함한다.
Description
본 발명은 공정길이 축소를 위해 스네이크-턴 방식을 활용하는 연속도금 공정방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 연속 도금공정에서 이루어지는 복수의 공정단계가 단일 셀에서 이루어지도록 하기 위하여, 공정 라인을 스네이크-턴 방식으로 변형함으로써 공정길이를 축소할 수 있는 스네이크-턴 방식을 활용하는 연속도금 공정방법에 관한 것이다.
본 명세서에서 달리 표시되지 않는 한, 이 섹션에 설명되는 내용들은 이 출원의 청구항들에 대한 종래 기술이 아니며, 이 섹션에 포함된다고 하여 종래 기술이라고 인정되는 것은 아니다.
일반적으로 도금은 금속이나 비금속 표면에 이질의 금속을 사용하여 피막을 만들어 주는 기술로서, 처리방법에 따라 전기도금, 화학도금, 용융도금, 진공도금, 침투도금, 이온도금 등으로 나눌 수 있으며, 도금의 목적에 따라 장식도금, 방식도금, 장식/방식용 도금, 공업용도금 등으로 구분된다.
그 중에서 전기도금은 전기분해의 원리를 이용하여 표면에 금속이온을 환원 석출시켜 얇은 피막을 입히는 표면처리 방법으로 도금시키려는 금속의 염류를 주성분으로 하는 수용액인 전해용액인 도금용액속에 도금할 물체를 음극과 연결하고 다른 금속에 양극을 직류로 연결하여 통전시켜 용해액내의 용해된 금속이 제품 표면에 금속 피막으로 입혀지는 방식이다.
전자제품에 사용되는 단자 등은 원활한 신호전달을 위해 전술한 전기도금 방식을 통해 표면을 도금처리하게 되는데, 이때 각 단자를 개별적으로 도금하는 것이 아니라 연결판에 다수의 단자가 결합되어 있는 금속스트립의 상태로 도금 공정을 수행하게 된다.
상기 금속스트립의 도금공정을 설명하면 아래와 같다.
우선, 금속스트립을 일정한 속도로 이동시키면서, 표면의 기름을 제거하는 탈지공정, 수조에 침지하여 탈지액을 세척하고 묽은 황산으로 탈지액을 중화하는 공정, 산을 세척하는 공정(여기까지가 전처리단계), 금속스트립의 표면에 Ni을 도금하는 공정(하지도금 단계), 금을 도금하는 공정(본 도금단계) 및 박리와 봉공처리공정(최종 후처리 단계)을 거쳐 연속적인 도금공정이 이루어진다.
그리고 이러한 연속 공정을 위해 각 공정장치는 공정순서대로 인접하여 설치되며, 특히 전체 공정장치의 최선단에는 공정이 이루어지지 않은 금속스트립이 감겨있는 제1롤을 배치하고 최후단에는 도금이 완료된 금속스트립을 감는 제2롤을 배치하여 제1롤에서 풀린 금속스트립이 연속 도금장치를 통과한 후 제2롤에 감기도록 구성된다.
그러나 상기 연속적인 도금공정의 각 단계별로 필요로하는 설비가 많고, 복수개의 셀을 사용해야 하는 경우에 공정길이가 연장됨에 따라 추가적인 노동력을 필요로하다는 문제점이 있었다.
특히, 하나의 셀 안에서 하나의 공정이 이루어지게 되면, 연속 도금공정에 필요로하는 각 공정을 전부 수행하기 위해서 각 셀을 전부 설치해야 하는데, 실제 도금공정이 이루어지는 공장의 전체 면적을 고려하여 공정길이를 맞춤 설계해야 하고, 공정길이가 부족하면 그만큼 생산속도가 느려지고 이에 따라 공정시간이 늘어남으로써 생산성이 떨어진다는 문제점이 존재한다.
또한, 각 셀에 설치되는 부속품 점검 또는 사용되는 약품의 농도와 온도 등을 점검할 경우에, 셀이 많을수록 관리를 위해 추가적인 노력이 필요할 뿐만 아니라 부속품이 비례해서 많아짐에 따라 지속가능성이 하락한다는 단점 또한 존재한다.
본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위하여, 연속 도금공정에서 이루어지는 복수의 공정단계가 단일 셀에서 이루어지도록 하기 위하여, 공정 라인을 스네이크-턴 방식으로 변형함으로써 공정길이를 축소할 수 있는 스네이크-턴 방식을 활용하는 연속도금 공정방법을 제공하고자 한다.
또한, 상술한 바와 같은 기술적 과제들로 한정되지 않으며, 이하의 설명으로부터 또 다른 기술적 과제가 도출될 수도 있음은 자명하다.
본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법은, 금속스트립에 도금 공정을 수행하는 연속도금 공정방법에 있어서, 금속스트립을 일정한 속도로 이동시키되, 단일 셀(cell) 내에 설치되어 금속스트립을 이송시키는 공정라인이 직선방향이 아닌 S자형으로 이루어져, S자형 공정라인을 따라 회전 이송되면서, 표면의 기름을 제거하는 탈지공정(S100)과, 상기 탈지공정(S100)을 통과한 금속스트립을 수조에 침지하여 탈지액을 세척하고 묽은 황산으로 탈지액을 중화하며 산을 세척하는 중화 및 세척공정(S200)과, 상기 중화 및 세척공정(S200)을 통과한 금속스트립을, 단일 셀(cell) 내에 설치되어 금속 스트립을 이송시키는 공정라인이 직선방향이 아닌 S자형으로 이루어져, S자형 공정라인을 따라 회전 이송되면서, 표면에 니켈(Ni)을 도금하는 하지도금공정(S300)과, 상기 하지도금공정(S300)을 통과한 금속스트립의 표면에 금(Au)을 도금하는 본도금공정(S400) 및 본도금공정(S400)이 종료된 이후 박리 및 봉공처리가 이루어지는 후처리공정(S500)을 포함한다.
본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 탈지공정(S100) 또는 하지도금공정(S300)이 이루어지는 단일 셀(cell)은 전체공정 진행경로에 수직한 방향으로 분획 구성되는 한 쌍의 분획셀로 이루어질 수 있다.
본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 한 쌍의 분획셀의 선단 양측부에 형성되고, 금속스트립이 이송되어 들어오는 이송유입부와, 상기 한 쌍의 분획셀의 후단 중앙에 형성되고, 금속스트립이 이송되어 나가는 이송배출부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 탈지공정(S100) 또는 하지도금공정(S300)은, 상기 분획셀의 이송유입부를 통해 이송되는 금속스트립은 상기 분획셀의 양측 내주면을 따라 이송되면서 탈지 또는 니켈도금이 이루어지는 제1직선공정(S610)과, 상기 제1직선공정(S610)을 통과한 금속스트립은 반대방향으로 회전하여 선단을 향하여 이송되면서 탈지 또는 니켈도금이 이루어지는 제2직선공정(S620)과, 상기 제2직선공정(S620)을 통과한 금속스트립은, 상기 제1직선공정(S610)과 동일한 방향으로 이송되면서 한 쌍의 분획셀의 후단 중앙에 형성된 이송배출부를 향해 이송되면서 탈지 또는 니켈도금이 이루어지는 제3직선공정(S630)으로 이루어질 수 있다.
본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제1직선공정(S610)과 제2직선공정(S620) 사이에 배치되고, 상기 제1직선공정(S610)에서 제2직선공정(S620)으로 금속스트립이 이송되는 구간을 제외한 나머지 영역에 형성되는 제1양극격벽과, 상기 제2직선공정(S620)과 제3직선공정(S630) 사이에 배치되고, 상기 제2직선공정(S620)에서 제3직선공정(S630)으로 금속스트립이 이송되는 구간을 제외한 나머지 영역에 형성되는 제2양극격벽을 포함하고, 상기 한 쌍의 분획셀을 분획하고, 상기 제3직선공정(S630)으로 금속스트립이 이송되는 나가는 복수의 금속스트립 사이에 배치되는 분획격벽을 통해, 라인방향과 수직한 방향으로 복수개의 분획셀이 확장 가능하도록 이루어질 수 있다.
본 발명에 따르면, 종래 복수개의 셀에서 각각 이루어지던 공정을 하나의 셀 안에서 수행됨에 따라, 전체 공정길이가 축소되어 이동시간이 단축되고 생산성이 향상될 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 복수의 셀 각각에 부속품을 설치하지 않고도 하나의 셀 안에 복수의 셀에 포함되는 부속품을 집약시켜 지속가능성이 향상될 수 있으며, 하나의 셀 안에서 약품 농도와 온도, 부속품 상태를 관리하는 것만으로도 여러 개의 셀을 관리하는 효과를 달성할 수 있어 관리성이 향상되고 그에 따른 제품 불량 가능성을 감소시킬 수 있다는 장점이 있다.
본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 종래 연속도금 공정방법을 통해 공정이 수행되는 설비의 개략도.
도 2는 종래 연속도금 공정방법의 공정순서를 도시하는 블럭도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법을 통해 공정이 수행되는 설비의 개략도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법의 공정순서를 도시하는 블럭도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법에 있어서, 탈지공정 또는 하지도금공정이 수행되는 스네이크-턴 구조를 갖는 분획셀의 상세도.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법에 있어서, 하지도금공정이 수행되는 분획셀이 연속으로 설치된 상태를 도시한 상세도.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법에 있어서, 금속스트립이 유입 및 배출되는 상태를 도시하는 전후상태도.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법에 있어서, 다수의 분획셀이 확장 형성되는 상태를 도시하는 도면.
도 2는 종래 연속도금 공정방법의 공정순서를 도시하는 블럭도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법을 통해 공정이 수행되는 설비의 개략도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법의 공정순서를 도시하는 블럭도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법에 있어서, 탈지공정 또는 하지도금공정이 수행되는 스네이크-턴 구조를 갖는 분획셀의 상세도.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법에 있어서, 하지도금공정이 수행되는 분획셀이 연속으로 설치된 상태를 도시한 상세도.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법에 있어서, 금속스트립이 유입 및 배출되는 상태를 도시하는 전후상태도.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법에 있어서, 다수의 분획셀이 확장 형성되는 상태를 도시하는 도면.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예에 따른 스네이크-턴 도금장치의 구성, 동작 및 작용효과에 대하여 살펴본다. 참고로, 이하 도면에서, 각 구성요소는 편의 및 명확성을 위하여 생략되거나 개략적으로 도시되었으며, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 반영하는 것은 아니다. 또한, 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭하며 개별 도면에서 동일 구성에 대한 도면 부호는 생략하기로 한다.
도 1은 종래 연속도금 공정방법을 통해 공정이 수행되는 설비의 개략도를 도시하고, 도 2는 종래 연속도금 공정방법의 공정순서를 도시하는 블럭도를 나타낸다.
우선, 금속스트립을 일정한 속도로 이송시키면서 전술한 모든 공정을 통해 연속도금공정이 수행될 수 있도록 하기 위하여, 각 공정장치는 공정순서대로 인접 설치되고, 전체 공정장치의 중간에 설치되어 금속스트립을 회전력에 의해 다음 공정단계로 이송시키기 위한 복수개의 롤이 설치될 수 있다.
상기 복수개의 롤은 하나의 공정이 이루어지는 셀(cell)을 기준으로 선단에 설치되는 제1롤과 후단에 설치되는 제2롤로 이루어질 수 있으며, 상기 제1롤을 통해 이송된 금속스트립이 셀(cell) 내부로 유입되어 해당 공정이 이루어지고, 공정이 끝난 금속스트립은 제2롤을 통해 배출될 수 있다.
이렇게 각 공정이 이루어지는 셀(cell)과 그 전후로 설치되는 롤을 통해 금속스트립이 이송되면서 연속도금공정이 수행될 수 있으며, 본 발명에서는 하나의 공정이 수행되는 하나의 셀(cell)이 길이방향을 따라 나란히 배치되는 종래 공정설비상의 문제점을 해결하기 위하여, 특정 공정단계에서의 셀(cell)의 변경된 구조를 제안한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법을 통해 공정이 수행되는 설비의 개략도를 도시하고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법의 공정순서를 도시하는 블럭도를 나타낸다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법에 있어서, 탈지공정 또는 하지도금공정이 수행되는 스네이크-턴 구조를 갖는 분획셀의 상세도를 도시하고, 도 6은 하지도금공정이 수행되는 분획셀이 연속으로 설치된 상태를 도시한 상세도를, 도 7은 금속스트립이 유입 및 배출되는 상태를 도시하는 전후상태도를 도시한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 연속도금 공정방법은, 금속스트립에 도금 공정을 수행하는 연속도금 공정방법에 있어서, 금속스트립을 일정한 속도로 이동시키되, 단일 셀(cell) 내에 설치되어 금속스트립을 이송시키는 공정라인이 직선방향이 아닌 S자형으로 이루어져, S자형 공정라인을 따라 회전 이송되면서, 표면의 기름을 제거하는 탈지공정(S100)과, 상기 탈지공정(S100)을 통과한 금속스트립을 수조에 침지하여 탈지액을 세척하고 묽은 황산으로 탈지액을 중화하며 산을 세척하는 중화 및 세척공정(S200)과, 상기 중화 및 세척공정(S200)을 통과한 금속스트립을, 단일 셀(cell) 내에 설치되어 금속 스트립을 이송시키는 공정라인이 직선방향이 아닌 S자형으로 이루어져, S자형 공정라인을 따라 회전 이송되면서, 표면에 니켈(Ni)을 도금하는 하지도금공정(S300)과, 상기 하지도금공정(S300)을 통과한 금속스트립의 표면에 금(Au)을 도금하는 본도금공정(S400) 및 본도금공정(S400)이 종료된 이후 박리 및 봉공처리가 이루어지는 후처리공정(S500)을 포함한다.
상기 탈지공정(S100)은 이송되는 금속스트립의 표면 기름을 제거하기 위한 공정으로, 단일 셀(cell) 안에서는 금속스트립이 직선이송되면서 충분히 탈지되지 못하여 복수개의 셀이 연속으로 배치되었던 기존 공정설비의 문제점과, 상기 하지도금공정(S300)에서 금속스트립의 표면에 니켈(Ni)을 도금하는 공정 또한 단일 셀(cell)에서 직선이송되는 금속스트립을 충분히 도금할 수 없어 복수개의 셀이 연속 배치되었던 기존 공정설비의 문제점을 해결하기 위하여, 상기 단일 셀(cell) 내에는 금속스트립을 이송시키는 공정라인이 직선방향이 아닌 S자형으로 이루어질 수 있다.
보다 상세하게는, 탈지공정(S100)이나 하지도금공정(S300)이 이루어지는 상기 단일 셀(cell)은 금속스트립이 이송되어 들어오는 입구와 공정이 완료되어 금속스트립이 이송되어 나가는 출구가 동일선상에 위치하지 않도록 이루어진다.
우선, 상기 단일 셀(cell)의 입구를 형성하고 금속스트립이 유입되는 선단의 일측에서부터 직선방향을 따라 이송되면서 1차공정이 이루어지고, 후단까지 이송된 금속스트립은 다시 반대방향을 향해 회전(turn)하여 이송되면서 2차공정이 이루어지고, 단일 셀의 선단까지 이송된 금속스트립은 다시 후단을 향해 방향을 바꿔 이송되면서 3차공정이 이루어지게 된다.
이렇게 나란히 배치된 복수개의 셀을 통해 직선이송되던 기존방식과 달리 스네이크-턴(snake-turn) 방식으로 S자형을 따라 이송되면서 단일 셀 내에서 공정이 이루어지는 경로와 시간을 최대화시킴으로써 공정효율이 증대된다는 장점이 있다.
본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 탈지공정(S100) 또는 하지도금공정(S300)이 이루어지는 단일 셀(cell)은 전체공정 진행경로에 수직한 방향으로 분획 구성되는 한 쌍의 분획셀(100)로 이루어지고, 상기 한 쌍의 분획셀(100)의 선단 양측부에 형성되고, 금속스트립이 이송되어 들어오는 이송유입부(110)와, 상기 한 쌍의 분획셀(100)의 후단 중앙에 형성되고, 금속스트립이 이송되어 나가는 이송배출부(120)를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 탈지공정(S100) 또는 하지도금공정(S300)은, 상기 분획셀의 이송유입부를 통해 이송되는 금속스트립은 상기 분획셀의 양측 내주면을 따라 이송되면서 탈지 또는 니켈도금이 이루어지는 제1직선공정(S610)과, 상기 제1직선공정(S610)을 통과한 금속스트립은 반대방향으로 회전하여 선단을 향하여 이송되면서 탈지 또는 니켈도금이 이루어지는 제2직선공정(S620)과, 상기 제2직선공정(S620)을 통과한 금속스트립은, 상기 제1직선공정(S610)과 동일한 방향으로 이송되면서 한 쌍의 분획셀의 후단 중앙에 형성된 이송배출부를 향해 이송되면서 탈지 또는 니켈도금이 이루어지는 제3직선공정(S630)으로 이루어질 수 있다.
상기 탈지공정(S100)이나 하지도금공정(S300)의 공정효율을 보다 높이기 위한 실시예로, 스네이크-턴 방식으로 금속스트립이 이송되는 단일 셀이 이송경로 수직방향을 따라 분획 구성되는 한 쌍의 분획셀(100)로 이루어질 수 있다.
상기 분획셀(100)은 하나의 셀이 상하 방향으로 구획될 수 있으며, 구획된 한 쌍의 분획셀(100) 각각에 공정을 위한 설비가 설치되어 복수의 금속스트립이 동시에 이송되면서 공정이 이루어질 수 있다.
도 5 또는 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 분획셀(100)의 선단 양측에서는 금속스트립이 유입되는 이송유입부(110)가 위치되고, 상기 이송유입부(110)를 통해 이송되는 금속스트립은 분획셀(100)의 양측 라인을 따라 직선방향으로 이송되면서 탈지 또는 니켈도금이 이루어지는 제1직선공정(S610)이 이루어진다.
상기 제1직선공정(S610)을 통과한 금속스트립은 분획셀(100)의 후단까지 이송된 상태에서 반대 방향으로 회전하여 다시 선단을 향해 이송되면서 2차적으로 탈지 또는 니켈도금이 이루어지는 제2직선공정(S620)이 수행된다.
다음으로, 상기 제2직선공정(S620)을 통과한 금속스트립은, 상기 제1직선공정(S610)과 동일한 방향으로 이송되면서 한 쌍의 분획셀(100)의 후단 중앙에 형성된 이송배출부(120)를 향해 이송되면서 탈지 또는 니켈도금이 이루어지는 제3직선공정(S630)이 이루어지고, 이를 통해 분획셀(100) 내부에서 오랜 시간동안 공정이 이루어질 수 있을 뿐만 아니라, 상기 분획셀(100)에서 복수개의 이송라인을 통해 금속스트립이 이송되어 공정이 이루어지면서 생산성을 향상시킬 수 있게 된다.
여기서, 상기 분획셀(100)은 선단 양측에 위치하는 복수의 이송유입부(110)를 통해 두 개의 이송라인을 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고, 전체공정라인의 수직방향으로 스네이크-턴 방식의 상기 분획셀(100)을 배치하여 생산성을 더욱 향상시킬 수도 있다.
상기 제1직선공정(S610)과 제2직선공정(S620) 사이에 배치되고, 상기 제1직선공정(S610)에서 제2직선공정(S620)으로 금속스트립이 이송되는 구간을 제외한 나머지 영역에 제1양극격벽(210)이 형성되고, 상기 제2직선공정(S620)과 제3직선공정(S630) 사이에 배치되고, 상기 제2직선공정(S620)에서 제3직선공정(S630)으로 금속스트립이 이송되는 구간을 제외한 나머지 영역에 제2양극격벽(220)이 형성되어, 상기 금속스트립이 이송유입부(110) 및 이송배출부(120)에 설치된 턴롤러를 통해 방향을 전환하고 교차되어 이송되면서, 교차된 횟수만큼 복수의 탈지, 산세척, 하지도금, 본도금 및 후처리 공정이 이루어질 수 있도록 하는 구조이다.
또한, 상기 한 쌍의 분획셀(100)을 분획하고, 상기 제3직선공정(S630)으로 금속스트립이 이송되는 나가는 복수의 금속스트립 사이에 배치되는 분획격벽(200)이 설치될 수 있으며, 상기 분획격벽(200)을 통해 라인방향과 수직한 방향으로 복수개의 분획셀(100)이 확장 가능하도록 이루어질 수 있으며, 상기 분획셀(100) 각각에서 이송되는 금속스트립이 이송유입부(110) 및 이송배출부(120)에 설치된 턴롤러를 통해 방향을 전환하고 교차되어 이송될 때 각 분획셀(100)을 구분할 수 있어 혼입을 방지할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
S100 : 탈지공정
S200 : 중화 및 세척공정
S300 : 하지도금공정
S400 : 본도금공정
S500 : 후처리공정
S610 : 제1직선공정
S620 : 제2직선공정
S630 : 제3직선공정
100 : 분획셀
110 : 이송유입부
120 : 이송배출부
200 : 분획격벽
210 : 제1양극격벽
220 : 제2양극격벽
S200 : 중화 및 세척공정
S300 : 하지도금공정
S400 : 본도금공정
S500 : 후처리공정
S610 : 제1직선공정
S620 : 제2직선공정
S630 : 제3직선공정
100 : 분획셀
110 : 이송유입부
120 : 이송배출부
200 : 분획격벽
210 : 제1양극격벽
220 : 제2양극격벽
Claims (5)
- 금속스트립에 도금 공정을 수행하는 연속도금 공정방법에 있어서,
금속스트립을 일정한 속도로 이동시키되, 단일 셀(cell) 내에 설치되어 금속스트립을 이송시키는 공정라인이 직선방향이 아닌 S자형으로 이루어져, S자형 공정라인을 따라 회전 이송되면서, 표면의 기름을 제거하는 탈지공정(S100);
상기 탈지공정(S100)을 통과한 금속스트립을 수조에 침지하여 탈지액을 세척하고 묽은 황산으로 탈지액을 중화하며 산을 세척하는 중화 및 세척공정(S200);
상기 중화 및 세척공정(S200)을 통과한 금속스트립을, 단일 셀(cell) 내에 설치되어 금속 스트립을 이송시키는 공정라인이 직선방향이 아닌 S자형으로 이루어져, S자형 공정라인을 따라 회전 이송되면서, 표면에 니켈(Ni)을 도금하는 하지도금공정(S300);
상기 하지도금공정(S300)을 통과한 금속스트립의 표면에 금(Au)을 도금하는 본도금공정(S400); 및
본도금공정(S400)이 종료된 이후 박리 및 봉공처리가 이루어지는 후처리공정(S500);을 포함하며,
상기 탈지공정(S100) 또는 하지도금공정(S300)이 이루어지는 상기 단일 셀(cell)을 형성하며 전체공정 진행경로에 수직한 방향으로 분획 구성되는 분획셀;
상기 분획셀의 선단 측부에 형성되고, 금속스트립이 이송되어 들어오는 이송유입부; 및
상기 분획셀의 후단 측부에 형성되고, 금속스트립이 이송되어 나가는 이송배출부;를 포함하고,
상기 이송유입부와 이송배출부는 상기 분획셀 내부의 S자형 공정라인을 형성하기 위해 동일선상이 아닌 상기 분획셀의 대각선 방향에 위치하며,
상기 탈지공정(S100) 또는 하지도금공정(S300)은,
상기 이송유입부를 통해 이송되는 금속스트립은 상기 분획셀의 내주면을 따라 이송되면서 탈지 또는 니켈도금이 이루어지는 제1직선공정(S610);
상기 제1직선공정(S610)을 통과한 금속스트립은 반대방향으로 회전하여 선단을 향하여 이송되면서 탈지 또는 니켈도금이 이루어지는 제2직선공정(S620); 및
상기 제2직선공정(S620)을 통과한 금속스트립은, 상기 제1직선공정(S610)과 동일한 방향으로 이송되면서 상기 이송배출부를 향해 이송되면서 탈지 또는 니켈도금이 이루어지는 제3직선공정(S630);을 포함하고,
상기 제1직선공정(S610)과 제2직선공정(S620) 사이에 배치되고, 상기 제1직선공정(S610)에서 제2직선공정(S620)으로 금속스트립이 이송되는 구간을 제외한 나머지 영역에 형성되는 제1양극격벽;
상기 제2직선공정(S620)과 제3직선공정(S630) 사이에 배치되고, 상기 제2직선공정(S620)에서 제3직선공정(S630)으로 금속스트립이 이송되는 구간을 제외한 나머지 영역에 형성되는 제2양극격벽; 및
이송되는 금속스트립 사이에 배치되어 복수 개의 상기 분획셀을 분획하여 상기 분획셀의 테두리를 형성하는 분획격벽;을 포함하며,
상기 제1양극격벽은 상기 제1직선공정(S610)과 제2직선공정(S620)을 분리격리하여 각 공정이 혼입되지 않고 별개로 진행되도록 하고,
상기 제2양극격벽은 상기 제2직선공정(S620)과 제3직선공정(S630)을 분리격리하여 각 공정이 혼입되지 않고 별개로 진행되도록 하며,
상기 분획격벽은 라인방향과 수직한 방향으로 복수 개의 상기 분획셀이 확장 가능하도록 하고, 상기 분획셀 각각에서 금속스트립이 이송될 때 각각의 상기 분획셀을 구분하여 혼입을 방지하는 것을 특징으로 하는 공정길이 축소를 위해 스네이크-턴 방식을 활용하는 연속도금 공정방법. - 삭제
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| KR102673802B1 (ko) * | 2023-07-12 | 2024-06-10 | (주)디엠텍코리아 | 릴 타입 도금장치 |
Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| KR100670116B1 (ko) | 2005-03-10 | 2007-01-16 | 대성하이피(주) | 선택 도금장치 |
| KR20100038734A (ko) * | 2008-10-06 | 2010-04-15 | 주식회사 서남 | 금속 테이프의 전해 연마를 위한 장치 및 방법 |
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2022
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