KR102534951B1 - 반도체 디스플레이용 세정공정의 diw 재이용 장치 - Google Patents

반도체 디스플레이용 세정공정의 diw 재이용 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 테스트용 기판, 웨이퍼, 패널 등을 제조 및 검사하는 과정에서 기판, 웨이퍼, 패널의 표면을 세척하기 위한 세척액을 정화하여 재사용하기 위한 반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치에 관한 것으로, 이를 위해 본 발명은, 내부에 세척공간이 형성되며, 상기 세척공간에서 오염세정액을 배출하기 위한 배수공이 형성된 세척바디; 상기 세척공간에 배치되어 이송된 세정액을 분사하여 대상물을 세척하는 세척모듈; 상기 세척공간에 배치되어 대상물이 배치되는 거치플레이트; 상기 배수공으로부터 오염세정액을 전달 받아 정화하는 정화모듈;을 포함하며, 상기 정화모듈은, 내부에 정화공간이 형성되고, 오염세정액이 인입되는 입구와 정화된 세정액이 배출되는 출구를 포함한 리싸이클바디와, 상기 정화공간에 배치되며 인가된 전원에 의해 동작하는 정화수단을 포함한 것을 특징으로 한다.

Description

반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치{DIW reuse device in cleaning process for semiconductor display}
본 발명은 반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 테스트용 기판, 웨이퍼, 패널 등을 제조 및 검사하는 과정에서 기판, 웨이퍼, 패널의 표면을 세척하기 위한 세척액을 정화하여 재사용하기 위한 반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치에 관한 것이다.
인쇄회로기판은 집적회로, 저항기 등 전자 부품을 인쇄 배선판의 표면에 고정하고, 부품 사이를 배선으로 연결해 구성한 것으로, 디스플레이 패널, CPU, 스마트폰과 같은 다양한 전자제품에서 각 구성간의 동작, 통신, 전원공급 등을 제어하는 것이다.
이러한 인쇄회로기판은 전자제품의 동작을 제어하고 외부 환경 변화에 따른 내구성을 확인하기 위해서 설계단계에서부터 매우 다양한 테스트를 거치게 되는데, 설계단계에서 제조한 인쇄회로기판을 테스트 인쇄회로기판이라 한다.
종래 테스트 인쇄회로기판은 본 제품에 적용하기 이전에 반도체 소자를 실장하고 이들을 상호 연결하는 배선을 인쇄하는데, 배선 인쇄 과정에서 각종 화학약품에 기판을 노출시킨 후 이를 세척하여 제조한다.
이때 테스트 인쇄회로기판의 표면에 화학약품이 잔존하는 경우 실장된 반도체 소자의 동작 상태를 정확하게 확인할 수 없기 때문에 세척 공정이 매우 중요하고 이와 동시에 테스트 인쇄회로기판을 건조시키는 건조 공정도 매우 중요하다.
종래 테스트 인쇄회로기판을 제조하거나 테스트하는 공정은 테스트 인쇄회로기판을 성형하는 전체 공정을 하나의 제조 라인으로 설치하여 테스트 인쇄회로기판을 제조하는데, 여기서 상술한 테스트 인쇄회로기판에 잔존하는 화학약품을 세척하고 건조하는 공정은 다양한 이유로 자동화 공정을 통해 진행되는데, 자동화 공정 과정에서 테스트 인쇄회로기판의 표면 세척이 완벽하지 못하고 화학약품도 잔존하는 문제점이 있었다.
한편, 테스트 인쇄회로기판(이하, ‘테스트용 기판’이라 약칭함)을 세척하기 위해 사용되는 세정액은 탈이온수(DIW : DI Water)을 주로 사용하는데, 이러한 탈이온수는 한 번 사용한 이후 오염된 상태에서는 재사용이 힘들어 테스트용 기판을 세척한 후 발생한 오염세정액은 모두 분리하여 제거하고 있다.
따라서 세척 후 발생하는 오염세정액을 전체 제거하는 과정에서 발생하는 비용도 상승하며, 특히 테스트용 기판의 경우 일반적인 인쇄회로기판을 제조하는 공정과 같이 대량 생산에서 사용되는 다량의 오염세정액에 비해 상대적으로 매우 적은 양의 오염세정액이 생성되고 오염도도 낮기 때문에 이를 수집한 후 적절한 정화가 이루어지면 재사용이 가능하였다.
그러나 상술한 바와 같이 테스트용 기판을 세정하는 과정에서 발생하는 오염세정수의 양이 적기 때문에 이를 별도로 수집한 후 정화하는 작업을 하기에는 매우 번거롭고 불편한 문제점이 있었다.
대한민국 등록특허 제10-0772825호(2007.10.26., 등록)
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 테스트용 기판을 세척하여 오염도가 상승한 세정액을 정화하여 재사용할 수 있도록 함으로써 세정액을 공급하는데 소요되는 비용을 절감할 수 있는 반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치를 제공하는데 목적이 있다.
또한 본 발명은 테스트용 기판을 세척하는 장치에 배치될 수 있어 오염세정액을 실시간으로 정화하여 재공급함으로써 다수의 테스트용 기판의 세척이 가능하고, 정화 과정에서 오염세정액의 이동 속도 및 이동 방향을 조절하여 정화효율을 극대화한 반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치를 제공하는데 목적이 있다.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 내부에 세척공간이 형성되며, 상기 세척공간에서 오염세정액을 배출하기 위한 배수공이 형성된 세척바디;
상기 세척공간에 배치되어 이송된 세정액을 분사하여 대상물을 세척하는 세척모듈;
상기 세척공간에 배치되어 대상물이 배치되는 거치플레이트;
상기 배수공으로부터 오염세정액을 전달 받아 정화하는 정화모듈;을 포함하며,
상기 정화모듈은,
내부에 정화공간이 형성되고, 오염세정액이 인입되는 입구와 정화된 세정액이 배출되는 출구를 포함한 리싸이클바디와,
상기 정화공간에 배치되며 인가된 전원에 의해 동작하는 정화수단을 포함한 것을 특징으로 한다.
또한 상기 정화수단은, 인가된 전원에 의해 동작하는 UV LED와, 상기 UV LED를 감싸도록 내부가 빈 관체 형태로 이루어지고, 상기 UV LED에서 조사된 빛이 통과하도록 빛투과부가 형성된 고정관과, 상기 정화공간의 비저항(比抵抗, resistivity)을 감지하는 비저항센서와, 상기 고정관에 배치되어 상기 정화공간을 이동하는 오염세정액의 이동 속도 및 이동 방향을 조절하는 저항플레이트를 포함한 것을 특징으로 한다.
이때 상기 저항플레이트는, 편평한 플레이트 형태로 이루어져 상기 정화공간을 폐쇄하는 저항부와, 상기 저항부이 테두리로부터 중앙을 향해 절개 형성되어 상기 고정관의 외면이 인입되는 결합부와, 상기 저항부에 관통 형성되어 오염세정액이 이동하는 이동공과, 상기 결합부에 형성되되 상호 다른 방향으로 배치되도록 절곡 형성된 한 쌍의 저항판을 포함한 것을 특징으로 한다.
또한 상기 저항부는, 테두리로부터 외측을 향해 돌출되어 상기 리싸이클바디의 내주면에 결합되는 결합편이 더 구비되고, 상기 결합편은 다수 개가 방사상으로 배치되어 상기 리싸이클바디의 내주면을 따라 회전 가능하게 배치되는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 세척모듈은, 상기 세척바디의 내부에 배치된 고정프레임과, 상기 고정프레임에 결합되며 세정액이 이송되는 이송관과, 상기 이송관에 일정 간격을 두고 복수 개가 배치된 세척노즐을 포함한 것을 특징으로 한다.
상기와 같이 이루어진 본 발명은 테스트용 기판을 세척하는 과정에서 발생하는 오염세정액을 정화하여 세척에 재사용함으로써 세정액의 구매에 사용되는 비용을 절감할 수 있어 경제성을 향상시키고,
테스트용 기판을 세척하는 세척 장치에 배치되어 실시간으로 오염세정액을 전달 받아 이를 정화하여 재사용함으로써 활용도를 극대화한 효과가 있다.
또한 본 발명은 오염세정액의 이동 속도 및 이동 방향을 조절하여 오염세정액을 정화하는 구간을 이동하는 속도를 제어함으로써 정화 효율을 극대화하여 높은 품질의 세정액을 제공할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치의 일 실시예를 도시한 예시도.
도 2는 본 발명을 구성하는 세척바디의 내부를 도시한 예시도.
도 3은 본 발명을 구성하는 세척모듈을 도시한 예시도.
도 4는 본 발명을 구성하는 정화모듈을 도시한 예시도.
도 5는 본 발명을 구성하는 정화수단을 도시한 예시도.
도 6은 본 발명을 구성하는 저항플레이트를 도시한 예시도.
이하, 상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부 도면을 참조한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백히 드러나게 될 것이다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가진 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치의 바람직한 구현예를 설명하도록 한다.
먼저 본 발명에 따른 반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치(1)는, 내부에 세척공간(11)이 형성되며, 상기 세척공간(11)에서 오염세정액을 배출하기 위한 배수공(12)이 형성된 세척바디(10)와, 상기 세척공간(11)에 배치되어 이송된 세정액을 분사하여 대상물을 세척하는 세척모듈(20)과, 상기 세척공간(11)에 배치되어 대상물이 배치되는 거치플레이트(30) 및 상기 배수공(12)으로부터 오염세정액을 전달 받아 정화하는 정화모듈(40)을 포함한다.
한편 본 발명은 도면 중 도시된 바와 같이, 테이블(60)과 상기 테이블에 배치되어 상기 세척모듈(20)과 정화모듈(40)의 동작을 제어하는 제어패널(70)을 포함할 수 있다.
상기 세척바디(10)는 내부에 세척공간(11)이 형성되며 상기 세척공간(11)에서 테스트용 기판을 세척하는데 사용되어 오염된 오염세정액이 배출되는 배수공(12)이 형성된다.
그리고 상기 세척바디(10)는 테스트용 기판을 인입하거나 배출하기 위한 뚜껑(13)이 구비되며, 이때 상기 세척바디(10)의 전체 크기 및 형태는 세척 대상물인 테스트용 기판의 크기에 따라 변경 가능한 것으로 도면 중 도시된 형태 및 비율에 한정되지 않음은 물론이다.
한편 상기 세척바디(10)는 상술한 테이블(60) 또는 제어패널(70)과의 결합이 가능한 상태에서 위치 변경이 가능한 것으로 도면 중 도시된 위치에 한정되지 않음은 물론이다.
또한 상기 세척바디(10)는 세척 과정을 외부에서 확인할 수 있도록 일측 또는 복수의 측면에서 내부를 확인할 수 있도록 투시창(도면 중 미도시됨)이 더 구비될 수 있다.
상기 세척모듈(20)은 상기 세척바디(10)의 세척공간(11)에 배치되어 이송된 세정액을 분사하여 테스트용 기판을 세척하는 것으로, 이를 위해 상기 세척모듈(20)은 상기 세척바디(10)의 내부에 배치된 고정프레임(21)과, 상기 고정프레임(21)에 결합되며 세정액이 이송되는 이송관(22)과, 상기 이송관(22)에 일정 간격을 두고 복수 개가 배치된 세척노즐(23)을 포함한다.
상기 고정프레임(21)은 길이 방향으로 연장된 복수 개의 막대를 상호 연결하여 격자 형태로 구성한 후 이를 상기 세척공간(11)의 내부에 고정한 것으로, 여기서 상기 고정프레임(21)의 형태 및 배치되는 위치, 그리고 복수 개의 막대간의 간격은 세척노즐(23)의 배치 개수, 위치 등을 고려하여 변경 가능한 것으로 도면 중 도시된 형태에 한정되지 않음은 물론이다.
상기 이송관(22)은 내부가 빈 관체 형태로 이루어져 세정액이 이송되는 것으로, 상기 고정프레임(21)에 결합되되 복수 개가 상호 간격을 두고 배치되는데, 이때 배치되는 개수 및 간격, 그리고 배치되는 형태는 변경 가능한 것으로 도면 중 도시된 개수, 간격, 그리고 배치되는 형태에 한정되지 않음은 물론이다.
상기 세척노즐(23)은 상기 이송관(22)에 배치되되 복수 개가 상호 간격을 두고 배치되며 세척공간(11)에 배치되는 테스트용 기판으로 세정액을 분사하도록 배치된다.
이때 복수 개의 세척노즐(23)은 상호 다른 각도로 세정액을 분사하도록 구성될 수 있고, 복수 개의 세척노즐(23) 중 어느 하나는 분무 형태로 분사되고 다른 세척노즐(23)은 고압으로 세정액을 분사하도록 구성되는 등 서로 다른 형태로 세정액을 분사하도록 구성되어 테스트용 기판의 세척 효율을 높일 수 있다.
상기 거치플레이트(30)는 상기 세척공간(11)에 배치되어 대상물, 즉 테스트용 기판이 배치되는 것으로, 일 예로 도면 중 도시된 바와 같이 편평한 플레이트 형태로 이루어지며 중앙에 세척 후 세정액이 이동할 수 있도록 관통된 구멍이 형성될 수 있고, 다른 실시예로 테스트용 기판을 파지하는 그립퍼의 형태로 구성될 수 있다.
이러한 거치플레이트(30)의 구조 및 배치되는 개수는 테스트용 기판의 배치 개수 및 위치에 상응하여 변경될 수 있고, 또한 상기 거치플레이트(30)를 상기 세척공간(11)에 분리 가능하게 결합하여 테스트용 기판에 따라 변경하여 세척공간(11)에 배치될 수 있다.
상기 정화모듈(40)은 상기 세척바디(10)에 형성된 배수공(12)과 연결되어 오염세정액을 전달 받고, 전달 받은 오염세정액을 정화시켜 상기 세척모듈(20)로 공급하여 테스트용 기판을 세척하는데 재사용할 수 있도록 한다.
이를 위해 상기 정화모듈(40)은 내부에 정화공간(411)이 형성되고, 오염세정액이 인입되는 입구(412)와 정화된 세정액이 배출되는 출구(413)를 포함한 리싸이클바디(41)와, 상기 정화공간(411)에 배치되며 인가된 전원에 의해 동작하는 정화수단(42)을 포함한다.
상기 리싸이클바디(41)는 내부가 빈 탱크(tank)형태로 이루어지며 일측에 오염세정액이 인입되는 입구(412)와 타측에 정화된 세정액이 배출되는 출구(413)를 포함한다.
여기서 상기 입구(412)측에는 오염세정액을 상기 배수공(12)으로부터 흡입하여 상기 입구(412)로 전달하기 위한 펌프(43)가 배치되고, 이때 상기 배수공(12)과 펌프(43), 펌프(43)와 입구(412)를 연결하는 연결관(44)이 더 구비된다.
상기 펌프(43)와 연결관(44)의 구조 및 동작관계는 다양한 기술분야에서 사용되는 공지의 것으로 상세한 도시 및 동작관계는 생략하도록 한다.
그리고 상기 리싸이클바디(41)의 형태는 도면 중 도시된 바와 같이 길이 방향으로 연장된 원형의 관체 형태로 이루어질 수 있으나, 이는 하나의 실시예이며 내부에 정화공간(411)이 형성되고 상기 정화공간(411)과 외부를 연결하는 입구(412)와 출구(413)가 구비된 것이면 다양한 형태의 변경이 가능함은 물론이다.
그리고 상기 입구(412)와 출구(413)측에는 이동하는 오염세정액의 이동을 제어하기 위한 밸브(도면 중 미도시됨)가 더 구비되고, 상기 밸브는 작업자의 수동으로 개폐되거나 자동으로 개폐되도록 구성될 수 있다.
상기 정화수단(42)은 상기 리싸이클바디(41)의 정화공간(411)에 배치되어 정화공간으로 인입된 오염세정액을 정화하는 것으로, 이를 위해 상기 정화수단(42)은, 인가된 전원에 의해 동작하는 UV LED(421)와, 상기 UV LED(421)를 감싸도록 내부가 빈 관체 형태로 이루어지고, 상기 UV LED(421)에서 조사된 빛이 통과하도록 빛투과부가 형성된 고정관(422)과, 상기 정화공간(411)의 비저항(比抵抗, resistivity)을 감지하는 비저항센서(423)와, 상기 고정관(422)에 배치되어 상기 정화공간(411)을 이동하는 오염세정액의 이동 속도 및 이동 방향을 조절하는 저항플레이트(45)를 포함한다.
상기 UV LED(421)는 인가된 전원에 의해 동작하면서 외부로 자외선(紫外線)을 방출하는 LED로서, 기존 노광용, 살균용 UV 램프를 대체하는 것이다.
이러한 UV LED(421)는 종래 노광용, 살균용 UV 램프에 비해 상대적으로 높은 안정성을 제공하는데, 이는 종래 UV 램프에는 수은이 함유되어 있는데 비해 UV LED(421)는 수은이 포함되어 있지 않기 때문에 제조과정은 물론 사용후 폐기품에서도 수은을 제거하는데 요구되는 별도의 공정 및 비용이 필요하지 않아 경제성이 높고 안전성도 향상된 것이다.
한편 UV LED(421)는 외부로 방출되는 파장에 따라 100~280nm 범위를 갖는 UV-C와, 280~315nm 범위를 갖는 UV-B와, 315~405nm 범위를 갖는 UV-A로 구분될 수 있고, UV-C에서 UV-A로 갈수록 파장이 길고 에너지 즉, 살균력은 감소하는 것으로 알려져 있다. 따라서 살균력을 향상시키기 위해서는 UV-C를 활용하는 것이 바람직하나 UV-C의 경우 인체에 유해한 것으로 알려져 있어 인체의 피부에 노출되는 경우 피부암의 원인이 되기도 한다.
본 발명에서는 상기 리싸이클바디(41)가 자외선을 외부로 노출되는 것을 방지하도록 광선의 차폐가 가능한 소재로 구성되기 때문에 살균력이 강한 UV-C를 방출하는 UC-LED(421)를 활용하여 오염세정액에 자외선을 방출하여 살균을 진행한다.
이러한 UV LED(421)는 도면 중 도시된 바와 같이 길이 방향으로 연장된 기판에 복수 개가 상호 간격을 두고 배치되어 상기 리싸이클바디(41)의 정화공간(411) 전체에 자외선이 방출되도록 한다.
상기 고정관(422)은 내부에 상기 UV LED(421)가 배치되며 배치된 정화공간(411)을 통해 이동하는 오염세정액에 UV LED(421)에서 방출되는 자외선을 노출되도록 하여 오염세정액을 정화한다.
이때 상기 고정관(422)은 이동 및 정화되는 과정의 오염세정액이 UV LED(421)와 직접 접촉하는 것을 방지할 수 있도록 밀폐되어야 하며, 동시에 상기 UV LED(421)에서 방출되는 자외선이 오염세정액으로 노출되도록 자외선이 투과되는 소재로 형성되거나 또는 자외선이 투과되는 투광부(도면 중 미도시됨)가 구성된다.
여기서 상기 고정관(422)의 배치된 개수, 그리고 복수 개의 고정관(422)이 배치되는 경우 상호간의 간격은 정화공간(411)의 면적에 따라 변경 가능한 것으로 도면 중 도시된 개수에 한정되지 않음은 물론이다.
상기 비저항센서(423)는 알려진 바와 같이 물질이 전류를 잘 흐르게 하는지를 감지하는 것으로, 오염세정액의 오염도에 따라 오염세정액을 따라 이동하는 전류의 이동량 및 이동속도를 감지하여 해당 오염세정액의 오염도를 측정한다.
즉, 정화공간(411)을 이동하는 오염세정액은 상기 UV LED(421)에 노출되면서 동시에 정화되는데, 정화되는 과정에서의 오염도를 상기 비저항센서(423)를 통해 감지하여 지정된 기준값에 오염도가 도달하면 이를 상기 세척모듈(20)측으로 공급하거나 기준값에 미달하는 경우 상기 정화공간(411)에 머무르는 시간을 증가시키거나 상기 입구(412)측으로 재투입하여 정화가 다시 이루어지도록 한다. 이때 오염세정액을 상기 정화공간(411)으로 재투입하기 위해서는 순환관(도면 중 미도시됨)이 더 구비된다.
상기 저항플레이트(45)는 상기 정화공간(411)에 배치되어 이동하는 오염세정액의 이동 속도 및 이동 방향을 조절하는 것으로, 편평한 플레이트 형태로 이루어져 상기 정화공간(411)을 폐쇄하는 저항부(451)와, 상기 저항부(451)이 테두리로부터 중앙을 향해 절개 형성되어 상기 고정관(422)의 외면이 인입되는 결합부(452)와, 상기 저항부(451)에 관통 형성되어 오염세정액이 이동하는 이동공(453)과, 상기 결합부(452)에 형성되되 상호 다른 방향으로 배치되도록 절곡 형성된 한 쌍의 저항판(454)을 포함한다.
상기 저항부(451)는 상기 정화공간(411)에 배치되어 정화공간에서 이동하는 오염세정액이 맞닿는 것으로, 이동 중인 오염세정액의 이동 속도를 늦춤으로써 상기 UV LED(421)에 노출되는 시간을 증가시켜 정화율을 향상시킨다.
여기서 상기 저항부(451)는 상기 정화공간(411)의 내부 형상에 상응하는 형상을 가지도록 이루어지는데, 일 예로 도면 중 도시된 바와 같이 상기 정화공간(411)의 내부 형상이 원형으로 이루어질 때 상기 저항부(451)도 원형의 플레이트 형태로 이루어진다.
상기 결합부(452)는 상기 저항부(451)의 테두리에서 중앙을 향해 절개 형성되어 상기 정화공간(411)에 배치되는 고정관(422)이 삽입되는 것으로, 상기 결합부(452)를 통해 저항플레이트(45)를 고정관(422)에 고정 배치한다.
상기 이동공(453)은 상기 저항부(451)에 관통 형성되되 정화공간(411)에서 이동하는 오염세정액이 이동 방향을 따라 관통 형성되어 저항부(451)에 맞닿은 오염세정액 중 일부가 이동공(453)을 통해 이동함으로써 저항부(451)로 전달되는 압력 중 일부를 해소하며 동시에 오염세정액이 이동이 정체되지 않도록 한다.
이러한 이동공(453)의 형태, 직경 및 개수, 그리고 상호 간의 간격은 저항부(451)의 전체 면적과 오염세정액의 이동량에 의해 변경될 수 있는 것으로 도면 중 도시된 개수 및 상호 간의 간격에 한정되지 않음은 물론이다.
상기 한 쌍의 저항판(454)은 상기 결합부(452)의 단부에 형성되어 이동하는 오염세정액이 맞닿으면서 이동 방향이 변화되도록 하는 것으로, 상기 한 쌍의 저항판(454)은 결합부(452)의 단부에서 상호 반대 방향으로 배치되도록 절곡 형성된다.
이러한 한 쌍의 저항판(454)에 이동하는 오염세정액이 맞닿으면서 이동 방향이 변환됨으로써 오염세정액이 정화공간(411)에 머무르는 시간을 증가시켜 UV LED(421)에 노출되는 시간을 증가시킨다.
상기와 같이 이루어진 저항플레이트(45)는 상기 정화공간(411)에 배치되어 오염세정액의 이동 속도 및 이동 방향을 조절하여 오염세정액이 정화공간에서 머무르는 체류시간을 증가시켜 정화도를 향상시키는 것으로, 이때 상기 저항플레이트(45)는 상기 정화공간(411)에서 복수 개가 상호 간격을 두고 배치될 수 있고, 배치된 위치의 조절이 가능하도록 구성될 수 있다.
또한 상기 저항부(451)는, 테두리로부터 외측을 향해 돌출되어 상기 리싸이클바디(41)의 내주면에 결합되는 결합편(455)이 더 구비되고, 상기 결합편(455)은 다수 개가 방사상으로 배치되어 상기 리싸이클바디(41)의 내주면을 따라 회전 가능하게 배치된다.
상기 저항부(451)의 테두리에서 외측으로 돌출 형성된 결합편(455)을 통해 리싸이클바디(41)의 내주면에서 회전 가능하게 배치되어 상기 이동공(453)과 상기 저항판(454)의 위치를 변경함으로써 오염세정액의 이동 속도 및 이동 방향을 변화시킨다.
또한 복수 개의 저항플레이트(45)가 상호 간격을 두고 배치되는 경우 각각의 저항플레이트(45)의 배치 각도를 다르게 함으로써 이동하는 오염세정액의 체류시간을 증가시켜 오염도가 정화되는 정화도를 향상시킬 수 있다.
여기서 상기 결합편(455)은 상기 리싸이클바디(41)의 내주면을 따라 회전 가능하게 배치되되, 바람직하게는 상기 리싸이클바디(41)의 내주면에 상기 결합편(455)이 회전 가능하게 삽입되는 요입형 회전홈(도면 중 미도시됨)이 더 형성된다.
이상과 같이 본 발명에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.
따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
1 : 반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치
10 : 세척바디
20 : 세척모듈
30 : 거치플레이트
40 : 정화모듈
41 : 리싸이클바디 42 : 정화수단
43 : 펌프 44 : 연결관
45 : 저항플레이트
411 : 정화공간 412 : 입구
413 : 출구
421 : UV LED 422 : 고정관
423 : 비저항센서
451 : 저항부 452 : 결합부
453 : 이동공 454 : 저항판
455 : 결합편

Claims (5)

  1. 내부에 세척공간(11)이 형성되며, 상기 세척공간(11)에서 오염세정액을 배출하기 위한 배수공(12)이 형성된 세척바디(10);
    상기 세척공간(11)에 배치되어 이송된 세정액을 분사하여 대상물을 세척하는 세척모듈(20);
    상기 세척공간(11)에 배치되어 대상물이 배치되는 거치플레이트(30);
    상기 배수공(12)으로부터 오염세정액을 전달 받아 정화하는 정화모듈(40);을 포함하며,
    상기 정화모듈(40)은,
    내부에 정화공간(411)이 형성되고, 오염세정액이 인입되는 입구(412)와 정화된 세정액이 배출되는 출구(413)를 포함한 리싸이클바디(41)와,
    상기 정화공간(411)에 배치되며 인가된 전원에 의해 동작하는 정화수단(42)을 포함하되,
    상기 정화수단(42)은,
    인가된 전원에 의해 동작하는 UV LED(421)와,
    상기 UV LED(421)를 감싸도록 내부가 빈 관체 형태로 이루어지고, 상기 UV LED(421)에서 조사된 빛이 통과하도록 빛투과부가 형성된 고정관(422)과,
    상기 정화공간(411)의 비저항(比抵抗, resistivity)을 감지하는 비저항센서(423)와,
    상기 고정관(422)에 배치되어 상기 정화공간(411)을 이동하는 오염세정액의 이동 속도 및 이동 방향을 조절하는 저항플레이트(45)를 포함하고,
    상기 저항플레이트(45)는,
    편평한 플레이트 형태로 이루어져 상기 정화공간(411)을 폐쇄하는 저항부(451)와,
    상기 저항부(451)의 테두리로부터 중앙을 향해 절개 형성되어 상기 고정관(422)의 외면이 인입되는 결합부(452)와,
    상기 저항부(451)에 관통 형성되어 오염세정액이 이동하는 이동공(453)과,
    상기 결합부(452)의 단부에 형성되되 상호 다른 방향으로 배치되도록 절곡 형성되어 이동하는 오염세정액이 맞닿으면서 이동 방향이 변화되도록 하는 한 쌍의 저항판(454)을 포함하고,
    상기 저항부(451)는,
    테두리로부터 외측을 향해 돌출되어 상기 리싸이클바디(41)의 내주면에 결합되는 결합편(455)이 더 구비되고,
    상기 결합편(455)은 다수 개가 방사상으로 배치되어 상기 리싸이클바디(41)의 내주면을 따라 회전 가능하게 배치되고,
    상기 리싸이클바디(41)의 내주면에는 상기 결합편(455)이 회전 가능하게 삽입되는 요입형 회전홈이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 세척모듈(20)은,
    상기 세척바디(10)의 내부에 배치된 고정프레임(21)과,
    상기 고정프레임(21)에 결합되며 세정액이 이송되는 이송관(22)과,
    상기 이송관(22)에 일정 간격을 두고 복수 개가 배치된 세척노즐(23)을 포함한 것을 특징으로 하는 반도체 디스플레이용 세정공정의 DIW 재이용 장치.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200299827Y1 (ko) * 2002-10-14 2003-01-06 주식회사제4기한국 와류를 이용한 고효율 자외선 살균장치
KR200339409Y1 (ko) * 2003-10-20 2004-01-24 옥승호 광촉매를 이용한 냉각수 살균장치
KR100772825B1 (ko) 2006-12-12 2007-11-01 동부일렉트로닉스 주식회사 세정액 재활용 시스템 및 세정액 재활용 방법
KR101219029B1 (ko) * 2006-03-02 2013-01-18 주식회사 케이씨텍 기판세정장치 및 세정수 공급방법
KR20180083780A (ko) * 2017-08-18 2018-07-23 주식회사 에코원테크놀로지 와류발생을 이용한 관로형 자외선 소독장치

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200299827Y1 (ko) * 2002-10-14 2003-01-06 주식회사제4기한국 와류를 이용한 고효율 자외선 살균장치
KR200339409Y1 (ko) * 2003-10-20 2004-01-24 옥승호 광촉매를 이용한 냉각수 살균장치
KR101219029B1 (ko) * 2006-03-02 2013-01-18 주식회사 케이씨텍 기판세정장치 및 세정수 공급방법
KR100772825B1 (ko) 2006-12-12 2007-11-01 동부일렉트로닉스 주식회사 세정액 재활용 시스템 및 세정액 재활용 방법
KR20180083780A (ko) * 2017-08-18 2018-07-23 주식회사 에코원테크놀로지 와류발생을 이용한 관로형 자외선 소독장치

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