KR102525523B1 - Electromagnetic wave shielding binder resin, electromagnetic wave shielding coating composition including the same, and electromagnetic wave shielding film formed therefrom - Google Patents

Electromagnetic wave shielding binder resin, electromagnetic wave shielding coating composition including the same, and electromagnetic wave shielding film formed therefrom Download PDF

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Abstract

본 발명은 초기 및 장기간 분산안정성이 우수하여, 균질한 전자파 차폐 특성을 구현할 수 있는 차폐막의 형성이 가능한 전자파 차폐용 바인더 수지, 이를 포함하는 전자파 차폐용 코팅 조성물에 관한 것이다. 보다 구체적으로, (a)메틸메타크릴레이트(MMA), (b)(C3-C7)알킬(메타)아크릴레이트, (c)포화이가산화합물과 히드록시(C2-C4)알킬(메타)아크릴레이트의 축합에 의해 제조된 단량체, (d)시클로(C3-C6)알킬(메타)아크릴레이트 및 (e)하기 화학식 1로 표시되는 (메타)아크릴레이트를 포함하여 중합된 전자파 차폐용 바인더 수지에 관한 것이다.
[화학식1]

Figure 112021004344563-pat00009

(상기 화학식 1에서, M은 금속칼코겐 화합물이고, R1은 C2~C6 치환 또는 비치환된 알킬렌기, R2는 수소 또는 메틸(CH3)이다)The present invention relates to a binder resin for electromagnetic wave shielding capable of forming a shielding film capable of realizing homogeneous electromagnetic wave shielding properties with excellent initial and long-term dispersion stability, and a coating composition for electromagnetic wave shielding including the same. More specifically, (a) methyl methacrylate (MMA), (b) (C3-C7) alkyl (meth) acrylate, (c) saturated diacid compound and hydroxy (C2-C4) alkyl (meth) acrylate Regarding a binder resin for electromagnetic wave shielding polymerized including a monomer prepared by condensation of (d) cyclo(C3-C6)alkyl(meth)acrylate and (e) (meth)acrylate represented by Formula 1 below will be.
[Formula 1]
Figure 112021004344563-pat00009

(In Formula 1, M is a metal chalcogen compound, R 1 is a C2~C6 substituted or unsubstituted alkylene group, R 2 is hydrogen or methyl (CH 3 ))

Description

전자파 차폐용 바인더 수지, 이를 포함하는 전자파 차폐용 코팅 조성물 및 이로부터 형성된 전자파 차폐막 {Electromagnetic wave shielding binder resin, electromagnetic wave shielding coating composition including the same, and electromagnetic wave shielding film formed therefrom}A binder resin for electromagnetic wave shielding, a coating composition for electromagnetic wave shielding comprising the same, and an electromagnetic wave shielding film formed therefrom

본 발명은 전자파 차폐용 바인더 수지, 이를 포함하는 전자파 차폐용 코팅 조성물 및 이로부터 형성된 전자파 차폐막에 관한 것이다.The present invention relates to a binder resin for electromagnetic wave shielding, a coating composition for electromagnetic wave shielding comprising the same, and an electromagnetic wave shielding film formed therefrom.

전자파는 전자 부품의 작동에 의해, 발생하는데, 이러한 전자파는 고주파화되어 있고, 전자파 간섭에 의해 전자기기의 오작동이 문제가 되고 있으며, 또한 사용자의 건강상의 문제도 대두되고 있는 실정이다.Electromagnetic waves are generated by the operation of electronic components, and these electromagnetic waves are high-frequency, and malfunctions of electronic devices are becoming a problem due to electromagnetic wave interference, and health problems of users are also emerging.

이러한 전자파 및 전자파 간섭(Electromagnetic Interference, EMI)을 차폐하기 위한 방법으로는, 종래에는 차폐용 도체캔(shielding conductor can)이 사용되었으나, 최근 반도체 부품 등의 전자기기 고집적화 등에 의해 도체캔을 대신하여, 도체막을 전자부품이나 PCB 등의 표면에 직접 씌우는 방법 등이 제안되고 있다. As a method for shielding these electromagnetic waves and electromagnetic interference (EMI), a shielding conductor can has been conventionally used, but in recent years, due to high integration of electronic devices such as semiconductor parts, conductor cans have been replaced. A method of directly covering a surface of an electronic component or PCB with a conductive film has been proposed.

도체막을 부품에 직접 씌워 주는 방식으로는 스퍼터링(sputtering)과 스프레잉(spraying), 두 방식이 대안으로 제시되고 있는데, 스퍼터링의 경우, 얇은 도체막이 목표물의 표면에 입혀져, 전기적 특성과 기계적 물성은 뛰어나지만, 3차원적 입체 구조일 경우에는 수평면에 증착되는 도체막에 비해 수직면에 증착되는 도체막이 현저하게 얇아 차폐효과를 크게 떨어뜨리는 문제점이 있었고, 또한, 공정비용이 대단히 비싸고 긴 시간이 소요되어 대량생산에 부적합하다는 단점이 있었다. Two methods, sputtering and spraying, are proposed as alternative methods for directly covering a conductive film on a part. In the case of sputtering, a thin conductive film is coated on the surface of a target, so its electrical properties and mechanical properties are not excellent. However, in the case of a three-dimensional three-dimensional structure, the conductive film deposited on the vertical surface is significantly thinner than the conductive film deposited on the horizontal surface, greatly reducing the shielding effect. In addition, the process cost is very expensive and takes a long time, resulting in a large amount of It had the disadvantage of being unsuitable for production.

이에 반해, 스프레잉(spraying)은 도체 분말 (conductive powders)을 액상의 수지(resin)에 섞은 이종 복합재료(heterogeneous compound)인 도전성 액체를 스프레이 방식으로 목표물의 표면에 뿌려 입힌 다음 경화시켜 EMI 차단막을 만드는 것이다. 일반적으로 도체로는 구리, 은, 니켈 또는 그래파이트 등이, 수지로는 에폭시, 아크릴, 우레탄, 러버(rubber) 등이 쓰인다. 스프레잉 방식은 공정에 소요되는 시간이 아주 짧아 대량 생산에 적합하며 공정 단가가 대단히 저렴한 장점이 있으나, 비중 차이가 현격한 이종복합재료를 단순한 레진처럼 스프레이하여 균질한 도체막을 형성하는 것은 어려운 문제점이 있다.On the other hand, in spraying, a conductive liquid, which is a heterogeneous compound in which conductive powders are mixed with liquid resin, is sprayed on the surface of a target by spraying and then hardened to form an EMI shielding film. is to make In general, copper, silver, nickel, or graphite is used as a conductor, and epoxy, acrylic, urethane, or rubber is used as a resin. The spraying method has the advantage of being suitable for mass production as the time required for the process is very short and the process unit cost is very low. there is.

따라서, 도체 분말의 균일한 분산 안정성을 구현할 수 있어, 스프레잉에 의해 균질한 도체막을 형성할 수 있는 새로운 전자파 차폐용 코팅 조성물이 요구되는 실정이다.Accordingly, there is a need for a new coating composition for electromagnetic wave shielding capable of achieving uniform dispersion stability of conductor powder and forming a homogeneous conductor film by spraying.

한국 등록특허공보 제10-0704243호(2007.03.30.)Korea Patent Registration No. 10-0704243 (2007.03.30.)

본 발명의 목적은 장시간 동안 우수한 분산안정성을 구현할 수 있는 전자파 차폐용 바인더 수지 및 이를 포함하는 전자파 차폐용 코팅 조성물을 제공하는 것이다. 보다 구체적으로, (a)메틸메타크릴레이트(MMA), (b)(C3-C7)알킬(메타)아크릴레이트, (c)포화이가산화합물과 히드록시(C2-C4)알킬(메타)아크릴레이트의 축합에 의해 제조된 단량체, (d)시클로(C3-C6)알킬(메타)아크릴레이트 및 (e)하기 화학식 1로 표시되는 (메타)아크릴레이트를 포함하여 중합된 바인더 수지를 포함함으로써, 금속 분말 등의 비중이 큰 도전성 필러를 혼합한 코팅 조성물을 형성하는 경우, 도전성 필러가 균일하게 분산된 균질한 혼합물을 구현할 수 있으며, 장기간 우수한 분산안정성을 구현할 수 있는 전자파 차폐용 코팅 조성물을 제공하는 것이다. 또한, 분사성(Ejectability)이 우수하여, 스프레이(spray)에 의한 전자파 차폐막 형성에 적합한 전자파 차폐용 코팅 조성물을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a binder resin for electromagnetic wave shielding capable of realizing excellent dispersion stability for a long time and a coating composition for electromagnetic wave shielding comprising the same. More specifically, (a) methyl methacrylate (MMA), (b) (C3-C7) alkyl (meth) acrylate, (c) saturated diacid compound and hydroxy (C2-C4) alkyl (meth) acrylate By including a polymerized binder resin including a monomer prepared by condensation of (d) cyclo (C3-C6) alkyl (meth) acrylate and (e) (meth) acrylate represented by Formula 1 below, When forming a coating composition in which a conductive filler having a high specific gravity such as powder is mixed, a homogeneous mixture in which the conductive filler is uniformly dispersed can be realized, and an electromagnetic wave shielding coating composition capable of implementing excellent dispersion stability for a long period of time is provided. . In addition, it is an object of the present invention to provide a coating composition for electromagnetic wave shielding that has excellent ejectability and is suitable for forming an electromagnetic wave shielding film by spraying.

[화학식1][Formula 1]

Figure 112021004344563-pat00001
Figure 112021004344563-pat00001

(상기 화학식 1에서, M은 금속칼코겐 화합물이고, R1은 C2~C6 치환 또는 비치환된 알킬렌기, R2는 수소 또는 메틸(CH3)이다)(In Formula 1, M is a metal chalcogen compound, R 1 is a C2~C6 substituted or unsubstituted alkylene group, R 2 is hydrogen or methyl (CH 3 ))

본 발명의 다른 목적은 상술한 바인더 수지를 포함하는 전자파 차폐용 코팅 조성물을 제공함으로써, 우수한 내열성, 투명성, 높은 수접촉각(DW), 크로스컷 특성 및 3H 이상의 연필경도를 가지는 전자파 차폐막을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding film having excellent heat resistance, transparency, high water contact angle (DW), cross-cut characteristics, and pencil hardness of 3H or more by providing a coating composition for electromagnetic wave shielding containing the above-described binder resin. .

상술한 과제를 달성하기 위한 본 발명의 전자파 차폐용 바인더 수지는 (a)메틸메타크릴레이트(MMA), (b)(C3-C7)알킬(메타)아크릴레이트, (c)포화이가산화합물과 히드록시(C2-C4)알킬(메타)아크릴레이트의 축합에 의해 제조된 단량체, (d)시클로(C3-C6)알킬(메타)아크릴레이트 및 (e)하기 화학식 1로 표시되는 (메타)아크릴레이트를 포함하여 중합된 것을 특징으로 한다.The binder resin for electromagnetic wave shielding of the present invention for achieving the above object is (a) methyl methacrylate (MMA), (b) (C3-C7) alkyl (meth) acrylate, (c) saturated diacid compound and hydroxy Monomer prepared by condensation of hydroxy (C2-C4) alkyl (meth) acrylate, (d) cyclo (C3-C6) alkyl (meth) acrylate and (e) (meth) acrylate represented by the following formula (1) It is characterized by being polymerized, including.

[화학식1][Formula 1]

Figure 112021004344563-pat00002
Figure 112021004344563-pat00002

(상기 화학식 1에서, M은 금속칼코겐 화합물이고, R1은 C2~C6 치환 또는 비치환된 알킬렌기, R2는 수소 또는 메틸(CH3)이다)(In Formula 1, M is a metal chalcogen compound, R 1 is a C2~C6 substituted or unsubstituted alkylene group, R 2 is hydrogen or methyl (CH 3 ))

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐용 바인더 수지에 있어서, 상기 금속칼코겐 화합물의 금속은 Mo, W, Sn, Bi 및 Sb로 이로어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 금속이며, 금속 칼코겐 화합물의 칼코겐은 S, Se 및 Te로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 원소인 것일 수 있다.In the binder resin for electromagnetic wave shielding according to an embodiment of the present invention, the metal of the metal chalcogen compound is any one or two or more metals selected from the group consisting of Mo, W, Sn, Bi and Sb, and the metal chalcogen The chalcogen of the compound may be any one or two or more elements selected from the group consisting of S, Se and Te.

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐용 바인더 수지에 있어서, 상기 포화이가산화합물이 숙신산, 말산, 아디프산, 글루타르산에서 선택되는 어느 하나 이상의 것일 수 있다.In the binder resin for electromagnetic wave shielding according to an embodiment of the present invention, the saturated diacid compound may be at least one selected from succinic acid, malic acid, adipic acid, and glutaric acid.

본 발명은 상술한 전자파 차폐용 바인더 수지, 도전성 필러 및 희석제를 포함하는 전자파 차폐용 코팅 조성물을 포함한다. The present invention includes a coating composition for electromagnetic wave shielding including the above-described binder resin for electromagnetic wave shielding, a conductive filler, and a diluent.

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐용 코팅 조성물에 있어서, 상기 도전성 필러는 금속입자, 금속염, 전도성고분자, 탄소입자, 탄소튜브, 탄소나노튜브, 그라핀, 그라핀옥시드에서 선택되는 어느 하나 이상의 성분을 포함하는 것일 수 있다.In the coating composition for electromagnetic wave shielding according to an embodiment of the present invention, the conductive filler is at least one selected from metal particles, metal salts, conductive polymers, carbon particles, carbon tubes, carbon nanotubes, graphene, and graphene oxide. It may contain ingredients.

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐용 코팅 조성물에 있어서, 상기 조성물은 상기 도전성 필러 10 내지 70 중량%, 상기 전자파 차폐용 바인더수지 5 내지 50중량% 및 희석제 20 내지 80중량%를 포함하는 것일 수 있다.In the coating composition for shielding electromagnetic waves according to an embodiment of the present invention, the composition includes 10 to 70% by weight of the conductive filler, 5 to 50% by weight of the binder resin for shielding electromagnetic waves, and 20 to 80% by weight of a diluent. can

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐용 코팅 조성물에 있어서, 상기 전자파 차폐용 코팅 조성물은 45 시간 동안, 분산안정성 지수(TSI)가 3.5 미만인 것일 수 있다.In the coating composition for shielding electromagnetic waves according to an embodiment of the present invention, the coating composition for shielding electromagnetic waves may have a dispersion stability index (TSI) of less than 3.5 for 45 hours.

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐용 코팅 조성물에 있어서, 상기 전자파 차폐용 코팅 조성물은 초기 대비 3.5 시간 이후, 분산안정성 지수(TSI)의 변화율이 1.5 미만인 것일 수 있다.In the coating composition for shielding electromagnetic waves according to an embodiment of the present invention, the coating composition for shielding electromagnetic waves may have a change rate of less than 1.5 in a dispersion stability index (TSI) after 3.5 hours from the initial level.

본 발명은 상술한 전자파 차폐용 바인더 수지를 포함하는 전자파 차폐막을 포함한다. The present invention includes an electromagnetic wave shielding film including the above-described binder resin for electromagnetic wave shielding.

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐막은, 연필경도가 3H 이상인 것일 수 있다.The electromagnetic wave shielding film according to an embodiment of the present invention may have a pencil hardness of 3H or more.

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐막은 ISO 2409 규격에 따른 크로스컷 4B 이상인 것일 수 있다.The electromagnetic wave shielding film according to an embodiment of the present invention may have crosscut 4B or higher according to the ISO 2409 standard.

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐막은, 수접촉각이 50˚이상인 것일 수 있다.The electromagnetic wave shielding film according to an embodiment of the present invention may have a water contact angle of 50 degrees or more.

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐막은, 전기전도도가 60 mΩ/10㎛이하인 것일 수 있다.The electromagnetic wave shielding film according to an embodiment of the present invention may have electrical conductivity of 60 mΩ/10 μm or less.

본 발명에 따른 전자파 차폐용 코팅 조성물은 (a)메틸메타크릴레이트(MMA), (b)(C3-C7)알킬(메타)아크릴레이트, (c)포화이가산화합물과 히드록시(C2-C4)알킬(메타)아크릴레이트의 축합에 의해 제조된 단량체, (d)시클로(C3-C6)알킬(메타)아크릴레이트 및 (e)하기 화학식 1로 표시되는 (메타)아크릴레이트를 포함하여 중합되는 전자파 차폐용 바인더 수지를 포함함으로써, 도전성 필러의 장기간 분산안정성이 향상되며, 우수한 분사성(Ejectability)을 가지는 장점이 있다.The coating composition for shielding electromagnetic waves according to the present invention includes (a) methyl methacrylate (MMA), (b) (C3-C7) alkyl (meth) acrylate, (c) a saturated diacid compound and hydroxy (C2-C4) Monomers prepared by the condensation of alkyl (meth) acrylates, (d) cyclo (C3-C6) alkyl (meth) acrylates, and (e) electromagnetic waves polymerized including (meth) acrylates represented by Formula 1 below. By including a binder resin for shielding, long-term dispersion stability of the conductive filler is improved, and there is an advantage of having excellent ejectability.

[화학식1] [Formula 1]

Figure 112021004344563-pat00003
Figure 112021004344563-pat00003

(상기 화학식 1에서, M은 금속칼코겐 화합물이고, R1은 C2~C6 치환 또는 비치환된 알킬렌기, R2는 수소 또는 메틸(CH3)이다)(In Formula 1, M is a metal chalcogen compound, R 1 is a C2~C6 substituted or unsubstituted alkylene group, R 2 is hydrogen or methyl (CH 3 ))

더욱이, 상술한 전자파 차폐용 코팅 조성물은, 장기간 동안 우수한 분산안정성을 가지고, 우수한 분사성을 가져, 스프레잉에 의해 균일한 물성을 가지는 박막의 전자파 차폐막을 구현할 수 있으며, 제조된 전자파 차폐막은 내열성, 투명성 및 크로스컷 특성이 우수하고, 4H 이상의 연필경도를 가지는 장점을 가진다.Furthermore, the above-described coating composition for electromagnetic wave shielding has excellent dispersion stability for a long period of time and has excellent sprayability, so that a thin film electromagnetic wave shielding film having uniform physical properties can be realized by spraying, and the prepared electromagnetic wave shielding film has heat resistance, It has excellent transparency and cross-cut characteristics, and has the advantage of having a pencil hardness of 4H or more.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐용 코팅 조성물의 분산안정성 지수(TSI)를 나타낸 그래프이다. 1 is a graph showing the dispersion stability index (TSI) of a coating composition for electromagnetic wave shielding according to an embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면들을 포함한 구체예 또는 실시예를 통해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 구체예 또는 실시예는 본 발명을 상세히 설명하기 위한 하나의 참조일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 여러 형태로 구현될 수 있다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail through specific examples or examples including the accompanying drawings. However, the following specific examples or examples are only one reference for explaining the present invention in detail, but the present invention is not limited thereto, and may be implemented in various forms.

또한 달리 정의되지 않는 한, 모든 기술적 용어 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 당업자 중 하나에 의해 일반적으로 이해되는 의미와 동일한 의미를 갖는다. 본 발명에서 설명에 사용되는 용어는 단지 특정 구체예를 효과적으로 기술하기 위함이고 본 발명을 제한하는 것으로 의도되지 않는다. Also, unless defined otherwise, all technical and scientific terms have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms used in the description in the present invention are merely to effectively describe specific embodiments and are not intended to limit the present invention.

또한 명세서 및 첨부된 특허청구범위에서 사용되는 단수 형태는 문맥에서 특별한 지시가 없는 한 복수 형태도 포함하는 것으로 의도할 수 있다. Also, the singular forms used in the specification and appended claims may be intended to include the plural forms as well, unless the context dictates otherwise.

또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. In addition, when a certain component is said to "include", this means that it may further include other components without excluding other components unless otherwise stated.

본 발명에서 사용되는 용어 '(메타)아크릴레이트'는 '메타크릴레이트'와 '아크릴레이트'를 모두 포함하는 의미로 사용된 것이다.The term '(meth)acrylate' used in the present invention is used in the sense of including both 'methacrylate' and 'acrylate'.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 전자파 차폐용 바인더 수지, 이를 포함하는 전자파 차폐용 코팅조성물 및 이로부터 제조된 전자파 차폐막을 제공한다. The present invention for achieving the above object provides a binder resin for electromagnetic wave shielding, a coating composition for electromagnetic wave shielding comprising the same, and an electromagnetic wave shielding film prepared therefrom.

본 발명자는 종래 전자파 차폐용 코팅 조성물에서, 비중 차이에 의한 도전성 필러가 분산성이 떨어져, 균질한 전자파 차폐 특성을 구현할 수 있는 차폐막의 형성이 어려운 문제점을 인식하고, 이를 해결하기 위한 새로운 전자파 차폐용 바인더 수지에 대한 연구를 심화하였다.The present inventors have recognized the difficulty in forming a shielding film capable of realizing homogeneous electromagnetic wave shielding characteristics due to the poor dispersibility of the conductive filler due to the difference in specific gravity in the conventional coating composition for electromagnetic wave shielding, and a new electromagnetic wave shielding solution to solve this problem. Research on binder resin was intensified.

이에 따라, (a)메틸메타크릴레이트(MMA), (b)(C3-C7)알킬(메타)아크릴레이트, (c)포화이가산화합물과 히드록시(C2-C4)알킬(메타)아크릴레이트의 축합에 의해 제조된 단량체, (d)시클로(C3-C6)알킬(메타)아크릴레이트 및 (e)하기 화학식 1로 표시되는 (메타)아크릴레이트를 포함하여 중합된 바인더 수지를 전자파 차폐용 바인더 수지로 사용함에 따라, 도전성 필러의 균일한 분산성의 구현이 가능할 뿐만 아니라, 장시간이 지난 이후에도 우수한 분산안정성 및 분사성(Ejectability)를 가져, 스프레잉에 의해 간단하게 우수한 전자파 차폐 성능, 내열성, 투명성 및 크로스컷 특성이 우수하고, 4H 이상의 연필경도를 가지는 전자파 차폐막을 형성할 수 있음을 확인하고 본 발명을 완성하였다.Accordingly, (a) methyl methacrylate (MMA), (b) (C3-C7) alkyl (meth) acrylate, (c) saturated diacid compound and hydroxy (C2-C4) alkyl (meth) acrylate A binder resin for electromagnetic wave shielding comprising a polymerized binder resin including a monomer prepared by condensation, (d) cyclo(C3-C6)alkyl(meth)acrylate and (e) (meth)acrylate represented by Formula 1 below As it is used as a filler, it is possible to implement uniform dispersion of the conductive filler, and it has excellent dispersion stability and ejectability even after a long period of time, so it has excellent electromagnetic wave shielding performance, heat resistance, transparency, and cross The present invention was completed after confirming that an electromagnetic wave shielding film having excellent cut characteristics and a pencil hardness of 4H or more could be formed.

[화학식1][Formula 1]

Figure 112021004344563-pat00004
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(상기 화학식 1에서, M은 금속칼코겐 화합물이고, R1은 C2~C6 치환 또는 비치환된 알킬렌기, R2는 수소 또는 메틸(CH3)이다)(In Formula 1, M is a metal chalcogen compound, R 1 is a C2~C6 substituted or unsubstituted alkylene group, R 2 is hydrogen or methyl (CH 3 ))

이하, 본 발명에 따른 전자파 차폐용 바인더 수지, 이를 포함하는 전자파 차폐용 코팅 조성물 및 이로부터 제조된 전자파 차폐막에 대하여 상세히 설명한다. Hereinafter, a binder resin for electromagnetic wave shielding according to the present invention, a coating composition for electromagnetic wave shielding comprising the same, and an electromagnetic wave shielding film prepared therefrom will be described in detail.

본 발명의 전자파 차폐용 바인더 수지는 (a)메틸메타크릴레이트(Methyl methacrylate, MMA), (b)(C3-C7)알킬(메타)아크릴레이트, (c)포화이가산화합물과 히드록시(C2-C4)알킬(메타)아크릴레이트의 축합에 의해 제조된 단량체, (d)시클로(C3-C6)알킬(메타)아크릴레이트 및 (e)하기 화학식 1로 표시되는 (메타)아크릴레이트를 포함하여 중합된 것이다.The binder resin for electromagnetic wave shielding of the present invention is (a) methyl methacrylate (MMA), (b) (C3-C7) alkyl (meth) acrylate, (c) a saturated diacid compound and hydroxy (C2- Polymerization including a monomer prepared by condensation of C4) alkyl (meth) acrylate, (d) cyclo (C3-C6) alkyl (meth) acrylate and (e) (meth) acrylate represented by Formula 1 below It became.

[화학식1][Formula 1]

Figure 112021004344563-pat00005
Figure 112021004344563-pat00005

(상기 화학식 1에서, M은 금속칼코겐 화합물이고, R1은 C2~C6 치환 또는 비치환된 알킬렌기, R2는 수소 또는 메틸(CH3)이다)(In Formula 1, M is a metal chalcogen compound, R 1 is a C2~C6 substituted or unsubstituted alkylene group, R 2 is hydrogen or methyl (CH 3 ))

상기 (a)(C3-C7)알킬(메타)아크릴레이트(이하, 단량체(a)라 함)는, 프로필메타크릴레이트, 프로필아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트. 노말부틸아크릴레이트, 펜틸아크릴레이트, 노말헥실아크릴레이트 및 이들이 이성질체, 노말펩틸아크릴레이트 및 이들의 이성질체 등의 상기 범주에 드는 다양한 알킬(메타)아크릴레이트를 예시할 수 있다. 이들 중 코팅성, 접착성, 표면경도, 분산성 등의 본 발명이 원하는 다양한 특성을 만족하기 위하여는 노말부틸아크릴레이트를 더 선호하지만 이에 한정하는 것은 아니다.The (a) (C3-C7) alkyl (meth) acrylate (hereinafter referred to as monomer (a)) is propyl methacrylate, propyl acrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, normal butyl meth acrylate. Normal butyl acrylate, pentyl acrylate, normal hexyl acrylate and their isomers, normal peptyl acrylate and various alkyl (meth) acrylates falling into the above categories, such as isomers thereof, can be exemplified. Among them, normal butyl acrylate is more preferred in order to satisfy various properties desired by the present invention, such as coating property, adhesiveness, surface hardness, and dispersibility, but is not limited thereto.

상기 (b)(C3-C7)알킬(메타)아크릴레이트는 프로필메타크릴레이트, 프로필아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트. 노말부틸아크릴레이트, 펜틸아크릴레이트, 노말헥실아크릴레이트 및 이들이 이성질체, 노말펩틸아크릴레이트 및 이들의 이성질체 등의 상기 범주에 드는 다양한 알킬(메타)아크릴레이트를 예시할 수 있다. 이들 중 코팅성, 접착성, 표면경도, 분산성 등의 본 발명이 원하는 다양한 특성을 만족하기 위하여는 노말부틸아클릴레이트를 더 선호하지만 이에 한정하는 것은 아니다.The (b) (C3-C7) alkyl (meth) acrylate is propyl methacrylate, propyl acrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, normal butyl methacrylate. Normal butyl acrylate, pentyl acrylate, normal hexyl acrylate and their isomers, normal peptyl acrylate and various alkyl (meth) acrylates falling into the above categories, such as isomers thereof, can be exemplified. Among them, normal butyl acrylate is more preferred in order to satisfy various properties desired by the present invention, such as coating property, adhesiveness, surface hardness, and dispersibility, but is not limited thereto.

상기 (c)포화이가산화합물과 히드록시(C2-C4)알킬(메타)아크릴레이트의 축합에 의해 제조된 단량체(이하, 단량체(c)라 함)는, 상기 포화이가산화합물과 상기 히드록시(C2-C4)알킬(메타)아크릴레이트의 산 또는 염기 반응 등의 다양한 방법으로 탈수반응에 의해 제조되는 것일 수 있다. 상기 포화이가산화합물은 예를 들면, 숙신산, 말산, 아디프산, 글루타르산 등에서 선택되는 어느 하나 이상의 포화 이가산을 사용할 수 있고, 좋게는 상기 숙신산, 말산, 아디프산 및 글루타르산 등에서 선택되는 어느 하나 이상을 사용할 수 있으며, 더욱 좋게는 본 발명의 물성을 잘 달성할 수 있는 숙신산이 더욱 선호한다. 상기 히드록시(C2-C4)알킬(메타)아크릴레이트는 구체적으로, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시메타아크릴레이트, 히드록시프로필아크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 히드록시부틸아크릴레이드 및 이들의 다양한 이성질체를 포함는 것일 수 있고, 바람직하게는, 히드록시에틸아크릴레이트를 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The monomer (hereinafter, referred to as monomer (c)) prepared by condensation of the (c) saturated diacid compound and hydroxy (C2-C4) alkyl (meth) acrylate is composed of the saturated diacid compound and the hydroxy (C2-C4) -C4) It may be prepared by dehydration in various ways such as acid or base reaction of alkyl (meth) acrylate. The saturated diacid compound may be, for example, one or more saturated diacids selected from succinic acid, malic acid, adipic acid, glutaric acid, and the like, preferably selected from succinic acid, malic acid, adipic acid, and glutaric acid. Any one or more can be used, and more preferably succinic acid that can achieve the physical properties of the present invention well. The hydroxy (C2-C4) alkyl (meth) acrylate is specifically, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxymethacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, hydroxybutyl It may include acrylate and various isomers thereof, preferably, hydroxyethyl acrylate may be used, but is not limited thereto.

상기 (c)포화이가산화합물과 히드록시(C2-C4)알킬(메타)아크릴레이트의 축합에 의해 제조된 단량체의 구체적인 바람직한 일 예로는 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]숙시네이트(Mono-2-(methacryloyloxyethyl)succinate), 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 프탈레이트(Mono-2-(methacryloyloxy)ethyl Phthalate) 등을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.A specific preferred example of the monomer prepared by condensation of the (c) saturated diacid compound and hydroxy (C2-C4) alkyl (meth) acrylate is mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] succinate ( Mono-2- (methacryloyloxyethyl) succinate), mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] phthalate (Mono-2- (methacryloyloxy) ethyl phthalate), and the like, but is not limited thereto.

상기 (d)시클로(C3-C6)알킬(메타)아크릴레이트(이하, 단량체(d)라 함)는 지환족 시클로기로서는 시클롭부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실등의 지환족 기능기를 가지는 것을 예로들 수 있지만 반드시 이에 한정하는 것은 아니며, 좋게는 시클로헥실 메타크릴레이트(Cyclohexyl methacrylate)를 더 선호하지만 이에 제한되는 것은 아니다.The (d) cyclo(C3-C6)alkyl(meth)acrylate (hereinafter, referred to as monomer (d)) is an alicyclic functional group such as cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cyclohexyl, etc. as an alicyclic cyclo group. It can be exemplified, but not necessarily limited thereto, and preferably cyclohexyl methacrylate (Cyclohexyl methacrylate) is preferred, but is not limited thereto.

상기 (e)하기 화학식 1로 표시되는 (메타)아크릴레이트(이하, 단량체(e)라 함)는 카르복실산기가 도입된 금속칼코겐 화합물에 알킬(메타)아크릴레이트를 반응시켜 제조되는 것일 수 있다. (E) The (meth)acrylate represented by Formula 1 (hereinafter, referred to as monomer (e)) may be prepared by reacting an alkyl (meth)acrylate with a metal chalcogen compound into which a carboxylic acid group is introduced. there is.

[화학식1][Formula 1]

Figure 112021004344563-pat00006
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상기 화학식 1에서, M은 금속칼코겐 화합물이고, R1은 C2~C6 치환 또는 비치환된 알킬렌기, R2는 수소 또는 메틸(CH3)이다. In Formula 1, M is a metal chalcogen compound, R 1 is a C2-C6 substituted or unsubstituted alkylene group, and R 2 is hydrogen or methyl (CH 3 ).

상기 금속칼코겐 화합물의 금속은 Mo, W, Sn, Bi 및 Sb로 이로어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 금속이며, 바람직하게 Mo, Sn, 및 Sb일 수 있으며, 금속 칼코겐 화합물의 칼코겐은 S, Se 및 Te, 바람직하게는 S 및 Se 로 이루어진 군에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 원소일 수 있다. The metal of the metal chalcogen compound is any one or two or more metals selected from the group consisting of Mo, W, Sn, Bi and Sb, preferably Mo, Sn, and Sb, and the chalcogen of the metal chalcogen compound may be one or two or more elements selected from the group consisting of S, Se and Te, preferably S and Se.

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐 바인더 수지의 전체에 대하여, 상기 단량체의 함량은 제한되는 것은 아니나, 상기 단량체(a) 20 내지 35 중량%, 단량체(b) 10 내지 20 중량%, 단량체(c) 20 내지 35 중량%, 단량체(d) 15 내지 25 중량%, 단량체(e) 1 내지 20 중량%으로 포함하는 것일 수 있고, 보다 더 바람직하게는 단량체(a) 22 내지 30 중량%, 단량체(b) 13 내지 20 중량%, 단량체(c) 22 내지 30 중량%, 단량체(d) 18 내지 25 중량%, 단량체(e) 10 내지 20 중량%로 포함하는 것일 수 있으나, 상기 범위 내에서 제조되는 바인더 수지가, 후술하하는 코팅 조성물에서 우수한 분산안정성을 구현할 수 있어 바람직하다.With respect to the entirety of the electromagnetic wave shielding binder resin according to an embodiment of the present invention, the content of the monomer is not limited, but 20 to 35% by weight of the monomer (a), 10 to 20% by weight of the monomer (b), monomer ( c) 20 to 35% by weight, 15 to 25% by weight of monomer (d), 1 to 20% by weight of monomer (e), more preferably 22 to 30% by weight of monomer (a), monomer (b) 13 to 20% by weight, monomer (c) 22 to 30% by weight, monomer (d) 18 to 25% by weight, monomer (e) 10 to 20% by weight, but may be included, but prepared within the above range The binder resin is preferred because it can implement excellent dispersion stability in the coating composition to be described later.

본 발명의 전자파 차폐용 코팅 조성물은, 상술한 전자파 차폐용 바인더수지, 도전성 필러 및 희석제를 포함하는 것일 수 있다.The coating composition for electromagnetic wave shielding of the present invention may include the above-described binder resin for electromagnetic wave shielding, a conductive filler, and a diluent.

상기 도전성 필러는 구체적으로 금속입자, 금속염, 전도성고분자, 탄소입자, 탄소튜브, 탄소나노튜브, 그라핀, 그라핀옥시드에서 선택되는 어느 하나 이상의 성분을 포함하는 것일 수 있다. 상기 금속은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 알루미늄(Al), 구리(Cu) 및 이들의 합금 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이 때, 도전성 필러의 형태는 구형 또는 비정형의 분말형태, 플레이크, 코어-쉘형의 입자 등일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니며, 평균 입자 크기는 나노스케일일 수 있고, 구체적으로는 1 ㎚ 내지 10 ㎛ 일 수 있고, 보다 구체적으로는 100 내지 800 ㎚ 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The conductive filler may specifically include one or more components selected from metal particles, metal salts, conductive polymers, carbon particles, carbon tubes, carbon nanotubes, graphene, and graphene oxide. The metal may be any one or two or more selected from gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), aluminum (Al), copper (Cu), and alloys thereof, but is not limited thereto. At this time, the shape of the conductive filler may be spherical or irregular powder form, flakes, core-shell particles, etc., but is not limited thereto, and the average particle size may be nanoscale, specifically 1 nm to 10 μm It may be, and more specifically, it may be 100 to 800 nm, but is not limited thereto.

상기 희석제는 상기 바인더 수지를 용해하고 상기 도전성 필러가 전도성고분자일 경우 전도성 고분자를 용해할 수 있는 것이라면 제한하지 않고 사용될 수 있으며, 또한 상기 금속입자나 탄소입자 등의 입자를 분산하는 것이라면 제한하지 않는다. 상기 희석제의 구체적인 일 예로는 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프로필알콜, 메틸에틸케톤, 테트라하이드로퓨란, 아세톤, 에틸아세테이트, N-메틸피롤리돈, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 벤질알콜, 시클로헥사논, 디클로로벤젠, 니트로벤젠, 디메틸설폭시드, 글리세롤, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르(Propylene glycol methyl ether), Cellusolve류, 및 glycol류 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상을 혼합하여 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The diluent may be used without limitation as long as it dissolves the binder resin and dissolves the conductive polymer when the conductive filler is a conductive polymer, and is not limited as long as it disperses particles such as the metal particles or carbon particles. Specific examples of the diluent include methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran, acetone, ethyl acetate, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, benzyl alcohol, and cyclohexane. Any one or a mixture of two or more selected from rice, dichlorobenzene, nitrobenzene, dimethyl sulfoxide, glycerol, propylene glycol methyl ether, Cellusolve, and glycols may be used, but is not limited thereto no.

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐용 코팅조성물은, 상기 전자파 차폐용 바인더 수지 5 내지 50 중량%, 도전성 필러 10 내지 70 중량% 및 희석제 20 내지 80 중량%를 포함하는 것일 수 있고, 바람직하게는 상기 전자파 차폐용 바인더 수지 10 내지 40 중량%, 도전성 필러 20 내지 65 중량% 및 희석제 25 내지 70 중량%를 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니며, 사용하는 용도에 따라 다양한 조성비로 조절하여 사용 가능하다. 또한, 물성의 저하가 없는 범위에서 추가적인 첨가제를 더 포함할 수도 있고, 상기 첨가제의 일 예로는, 가소제, 탈포제 등을 포함할 수 있으며, 상술한 코팅조성물 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부로 포함되는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The coating composition for electromagnetic wave shielding according to an embodiment of the present invention may include 5 to 50% by weight of the electromagnetic wave shielding binder resin, 10 to 70% by weight of the conductive filler, and 20 to 80% by weight of the diluent, preferably. may include 10 to 40% by weight of the electromagnetic wave shielding binder resin, 20 to 65% by weight of the conductive filler, and 25 to 70% by weight of the diluent, but is not limited thereto, and is adjusted to various composition ratios depending on the use Available. In addition, additional additives may be included within a range without deterioration of physical properties, and an example of the additives may include a plasticizer, a defoamer, and the like, and may be included in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the above-described coating composition. It may include, but is not limited to.

본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐용 코팅 조성물은, 상술한 전자파 차폐용 바인더 수지와 도전성 필러를 함께 포함함으로써, 장시간 동안 우수한 분산안정성을 구현할 수 있고, 제조 초기에 비하여, 도전성 필러의 분산성의 저감이 현저히 감소하여 더욱 바람직할 수 있다. 보다 구체적으로 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 전자파 차폐용 코팅 조성물은, 45 시간 동안, 분산안정성 지수(TSI)가 3.5 미만인 것일 수 있고, 좋게는 45 시간 동안 분산안정성 지수(TSI)가 2.5 미만, 더 좋게는 1.5 미만일 수 있다. 또한, 상기 전자파 차폐용 코팅 조성물은 초기 대비 3.5 시간 이후, 분산안정성 지수(TSI)의 변화율이 1.5 미만일 수 있고, 좋게는 1.0 미만, 더 좋게는 0.5 미만일 수 있다. 즉, 초기에 비하여, 분산안정성의 급격한 감소가 억제되고, 장시간 동안 균일한 분산안정성을 가져, 후술하는 전자파 차폐막의 물성이 우수한 효과를 구현할 수 있어 더욱 바람직할 수 있다.The coating composition for shielding electromagnetic waves according to an embodiment of the present invention includes the above-described binder resin for shielding electromagnetic waves and the conductive filler together, so that excellent dispersion stability can be realized for a long time, and compared to the initial stage of manufacture, the dispersibility of the conductive filler Reduction may be significantly reduced, which may be more desirable. More specifically, the coating composition for electromagnetic wave shielding according to a preferred embodiment of the present invention may have a dispersion stability index (TSI) of less than 3.5 for 45 hours, preferably a dispersion stability index (TSI) of less than 2.5 for 45 hours. , may be better less than 1.5. In addition, the coating composition for electromagnetic wave shielding may have a change rate of dispersion stability index (TSI) of less than 1.5, preferably less than 1.0, and more preferably less than 0.5 after 3.5 hours compared to the initial time. That is, compared to the initial stage, a rapid decrease in dispersion stability is suppressed, and uniform dispersion stability is obtained for a long time, so that an effect excellent in physical properties of the electromagnetic wave shielding film described later can be realized, which is more preferable.

본 발명의 바람직한 일 실시예로서, 상술한 전자파 차폐용 코팅 조성물로 형성된 전자파 차폐막을 포함하는 것일 수 있다. As a preferred embodiment of the present invention, it may include an electromagnetic wave shielding film formed of the above-described coating composition for electromagnetic wave shielding.

상기 전자파 차폐막은, 상술한 전자파 차폐용 코팅조성물을 공지의 방법으로, 도포 및 건조하여 형성하는 것일 수 있고, 본 발명에서는 바람직하게 스프레이(spray) 방법에 의해 도포되는 것일 수 있고, 160 ℃ 내지 230 ℃에서 건조하는 것일 수 있고, 바람직하게는 170 ℃ 내지 200 ℃에서 건조하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 건조는 공지된 방법이면 제한되지 않고 사용할 수 있으며, 구체적으로는 건조 오븐, 열풍 등을 사용할 수 있다.The electromagnetic wave shielding film may be formed by applying and drying the above-described coating composition for electromagnetic wave shielding by a known method, and in the present invention, it may be preferably applied by a spray method, 160 ℃ to 230 ℃ It may be drying at ° C, preferably drying at 170 ° C to 200 ° C, but is not limited thereto. Any known method for drying may be used without limitation, and specifically, a drying oven, hot air, or the like may be used.

상기 전자파 차폐막의 두께는 0.1 ㎛ 내지 50 ㎛ 인 것일 수 있고, 구체적으로는 5 ㎛ 내지 30 ㎛일 수 있으나, 이에 제한 되는 것은 아니다.The electromagnetic wave shielding film may have a thickness of 0.1 μm to 50 μm, specifically, 5 μm to 30 μm, but is not limited thereto.

상기 전자파 차폐막은, 연필경도가 3H 이상인 것일 수 있고, 좋게는 4H 이상인 것일 수 있다. 또한, 상기 전자파 차폐막은 ASTM D 3359 규격에 따른 크로스컷 4B 이상인 것일 수 있고, 좋게는 5B 이상인 것일 수 있다. 또한, 상기 전자파 차폐막은 수접촉각이 50˚이상, 전기전도도가 60 mΩ/10㎛ 이하인 것일 수 있다.The electromagnetic wave shielding film may have a pencil hardness of 3H or more, preferably 4H or more. In addition, the electromagnetic wave shielding film may have a cross cut of 4B or more according to ASTM D 3359 standard, and preferably may have a cross cut of 5B or more. In addition, the electromagnetic wave shielding film may have a water contact angle of 50 degrees or more and an electrical conductivity of 60 mΩ/10 μm or less.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐용 바인더 수지를 포함하는 코팅 조성물은, 초기 및 장기간 동안 분산안정성이 우수하여, 도전성 필러가 균질하게 분산된 코팅 조성물을 구현할 수 있고, 우수한 분사성을 가져 스프레이 코팅에 적합하며, 이를 이용하여 제조한 전자파 차폐막은 다양한 소재의 기재와의 부착성이 좋고, 투명성 및 표면경도가 우수하며 균일한 전자파 차폐능을 구현할 수 있는 장점을 가진다.As described above, the coating composition including the binder resin for shielding electromagnetic waves according to an embodiment of the present invention has excellent dispersion stability in the initial stage and for a long period of time, so that a coating composition in which a conductive filler is homogeneously dispersed can be implemented, and excellent It has sprayability and is suitable for spray coating, and the electromagnetic wave shielding film manufactured using this has advantages of good adhesion to substrates of various materials, excellent transparency and surface hardness, and realizing uniform electromagnetic wave shielding ability.

이하 실시예 및 비교예를 바탕으로 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 실시예 및 비교예는 본 발명을 더욱 상세히 설명하기 위한 하나의 예시일 뿐, 본 발명이 하기 실시예 및 비교예에 의해 제한되는 것은 아니다. The present invention will be described in more detail based on the following Examples and Comparative Examples. However, the following Examples and Comparative Examples are only one example for explaining the present invention in more detail, and the present invention is not limited by the following Examples and Comparative Examples.

[실험방법] [Test method]

1. 분산안정성 지수(turbiscan stability index, TSI) 측정1. Measurement of turbiscan stability index (TSI)

제조한 바인더 수지를 포함하는 코팅조성물을 이용하여 TRUBISCAN을 이용하여, 시간에 따른 분산안정성 지수를 측정하였다. The dispersion stability index over time was measured using TRUBISCAN using the coating composition containing the prepared binder resin.

2. 접촉각(contact angle) 측정2. Measurement of contact angle

제조한 바인더 수지를 유리 기재위에 도포하고 150 ℃에서 건조하여 필름을 형성한 후, ASTM D 5946 규격에 의하여 물방울을 떨어뜨려, 정지된 물방울과 필름 표면이 이루는 각도를 측정하였다.After coating the prepared binder resin on a glass substrate and drying at 150 ° C. to form a film, water droplets were dropped according to the ASTM D 5946 standard, and the angle formed between the still water droplets and the film surface was measured.

3. 내열성 측정3. Heat resistance measurement

제조한 전자파 차폐막을 지름 50 ㎜ 크기로 절단하고, 이를 아크릴계 점착제로 유리에 접합시킨 후, 온도 변화에 따라, 투명도의 변화를 관측하여, 아래 평가 기준으로 평가하였다.The prepared electromagnetic wave shielding film was cut into a size of 50 mm in diameter, bonded to glass with an acrylic pressure-sensitive adhesive, and changes in transparency were observed according to temperature changes, and evaluated according to the following evaluation criteria.

◎: 전체적으로 투명함 O: 부분적으로 미미한 노란끼, △: 부분적으로 노란끼, X: 전체적으로 노랗게 변함◎: Totally transparent O: Partially slightly yellowish, △: Partially yellowish, X: Overall yellowish

4. 방사성(Ejectability) 측정4. Ejectability measurement

제조한 바인더 수지를 포함하는 코팅조성물을 Si Wafer 상에 스프레이 도포 장비를 이용하여 도포 후 육안으로 도포 정도를 관측하여, 아래 평가 기준으로 평가하였다.After coating the coating composition containing the prepared binder resin on the Si Wafer using a spray coating equipment, the degree of application was visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria.

<평가기준><Evaluation Criteria>

좋음: 전체적으로 고르게 도포됨, Good: Applied evenly throughout;

보통: 부분적으로 뭉침 현상이 발생, Moderate: Partial agglomeration occurs;

나쁨: 전체적으로 뭉침 현상이 발생Bad: Clumping occurs overall

5. 부착성 측정(크로스컷, cross-cut)5. Adhesion measurement (cross-cut)

제조한 전자파 차폐막 표면에 Cross hatch cutter로 10x10(mm)의 선을 교차하여 스크래치를 만든 후 테이프를 붙이고, 균일한 힘으로 문질러 떼어내 어, 테이프상에 코팅 면으로부터 떼어져 나온 필름 조각을 세어 그 ASTM D3359 규격에 따라 측정하여, 밀착성 정도를 0B~5B 수치로 나타내었다. After making a scratch by crossing a 10x10 (mm) line on the surface of the manufactured electromagnetic shielding film with a cross hatch cutter, attach the tape, rub it off with a uniform force, and count the pieces of film that have come off the coated surface on the tape. Measured according to the ASTM D3359 standard, the degree of adhesion was expressed as 0B to 5B values.

6. 연필경도 측정6. Pencil Hardness Measurement

제조한 전자파 차폐막을 ASTM D3362에 의거하여, 500g 하중조건에서 연필경도를 측정하였다.Based on ASTM D3362, the prepared electromagnetic wave shielding film was measured for pencil hardness under a load condition of 500 g.

[제조예] [Production Example]

MoS2 분말 5g을 스틸볼과 함께 볼밀용 봄베 넣고, CO2 분위기에서 500 rpm, 48 시간 볼밀링한 MoS2 분말을 1M HCl 용액을 첨가하여, 48 시간 교반하여 건조하여, MoS2-COOH를 제조하였다. 5g of MoS 2 powder was put into a ball mill cylinder together with a steel ball, and MoS 2 powder ball milled at 500 rpm for 48 hours in a CO 2 atmosphere was added with 1M HCl solution, stirred for 48 hours, and dried to prepare MoS 2 -COOH. did

제조한 MoS2-COOH 0.5 g, HEMA 0.68 ml, DMF 200 ml를 혼합하고, 질소분위기에서 80 ℃까지 승온시킨 후, DCC 0.46 g, DMAP 6.8 mg을 DMF 10 ml에 녹인 용액을 적하하며, 상온에서 24시간 교반하였다. 이후 6000 rpm로 원심분리 한번 진행하여 상층액을 걷어낸 후, 벽면에 묻어있는 샘플을 멤브레인 필터하며 에탄올로 washing 하고, 50 ℃ 진공오븐에서 12시간 건조한 후, 화학식 1-1로 표시되는 MoS2-g-HEMA 를 제조하였다. After mixing 0.5 g of prepared MoS 2 -COOH, 0.68 ml of HEMA, and 200 ml of DMF, and raising the temperature to 80 ° C in a nitrogen atmosphere, a solution of 0.46 g of DCC and 6.8 mg of DMAP dissolved in 10 ml of DMF was added dropwise at room temperature. Stirred for 24 hours. Thereafter, centrifugation was performed once at 6000 rpm to remove the supernatant, and the sample on the wall was washed with ethanol through a membrane filter, dried in a vacuum oven at 50 ° C for 12 hours, and MoS 2 - represented by Formula 1-1 g-HEMA was prepared.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure 112021004344563-pat00007
Figure 112021004344563-pat00007

[실시예1][Example 1]

제조예에서 제조한 MoS2-g-HEMA 7 mg과 에틸아세테이트(Ethyl Acetate) 58 ml를 매커니컬 교반기를 사용하여 500 rpm 속도로 교반하면서 80 ℃까지 승온시켰다. 이후, 메틸메타아크릴레이트(Methyl methacrylate, MMA) 7.0 g, BA 4.5 g, 모노 2-아크릴로일에틸 석시네이트(Mono(2-acrylolyoxyethyl)Succinate, HEA_suc) 8.0 g, 사이클로헥실메타크릴레이트(Cyclohexyl methacrylate, Ca) 5.9g와 에틸아세테이트(Ethyl Acetate, EAc)에 녹인 AIBN 0.13 g을 잘 섞은 후 적하하였다. 추가적으로 미반응 단량체를 제거하기 위해 2시간 후 2,2'-아조-비스-이소부틸니트릴(2,2'-azo-bis-isobutyrylnitrile, AIBN) 0.013 g을 5 ml EAc에 녹여 적하한 후, 3시간 반응시켜, MMA에 대하여 0.1 중량%로 MoS2-g-HEMA를 포함하는 MoS2-g-HEMA(0.1 wt%)바인더 수지를 제조하였다. 제조된 중합체의 열적특성 및 분자량과 분자량 분포를 표 1에 수록하였다7 mg of MoS 2 -g-HEMA prepared in Preparation Example and 58 ml of ethyl acetate were heated to 80 °C while stirring at a speed of 500 rpm using a mechanical stirrer. Then, methyl methacrylate (MMA) 7.0 g, BA 4.5 g, mono (2-acrylolyoxyethyl) Succinate (HEA_suc) 8.0 g, cyclohexyl methacrylate (Cyclohexyl methacrylate , Ca) 5.9 g and AIBN 0.13 g dissolved in ethyl acetate (EAc) were mixed well and added dropwise. In order to additionally remove unreacted monomers, after 2 hours, 0.013 g of 2,2'-azo-bis-isobutyrylnitrile (AIBN) was dissolved in 5 ml EAc and added dropwise, followed by 3 By time reaction, a MoS 2 -g-HEMA (0.1 wt%) binder resin containing MoS 2 -g-HEMA at 0.1 wt% based on MMA was prepared. The thermal properties, molecular weight and molecular weight distribution of the prepared polymers are listed in Table 1.

[실시예2][Example 2]

제조예에서 제조한 MoS2-g-HEMA 14 mg과 에틸아세테이트(Ethyl Acetate, EAc) 58 ml를 매커니컬 교반기를 사용하여 500 rpm 속도로 교반하면서 80 ℃까지 승온시켰다. 이후, 메틸메타아크릴레이트(Methyl methacrylate, MMA) 7.0 g, 부틸아크릴레이트(Butyl acrylate, BA) 4.5 g, 모노 2-아크릴로일에틸 석시네이트(Mono(2-acrylolyoxyethyl)Succinate, HEA_suc) 8.0 g, 사이클로헥실메타크릴레이트(Cyclohexyl methacrylate, Ca) 5.9g(어떤 시클로알클아크리레이트인지 정확히 정의하세요)와 EAc에 녹인 2,2'-아조-비스-이소부틸니트릴(2,2'-azo-bis-isobutyrylnitrile, AIBN) 0.13 g을 잘 섞은 후 적하하였다. 추가적으로 미반응 단량체를 제거하기 위해 2시간 후 AIBN 0.013 g을 5 ml EAc에 녹여 적하한 후, 3시간 반응시켜, MMA에 대하여 0.1 중량%로 MoS2-g-HEMA를 포함하는 MoS2-g-HEMA(0.2 wt%)바인더 수지를 제조하였다. 제조된 중합체의 열적특성 및 분자량과 분자량 분포를 표 1에 수록하였다14 mg of MoS 2 -g-HEMA prepared in Preparation Example and 58 ml of ethyl acetate (Ethyl Acetate, EAc) were stirred at a speed of 500 rpm using a mechanical stirrer and the temperature was raised to 80 °C. Then, methyl methacrylate (MMA) 7.0 g, butyl acrylate (Butyl acrylate, BA) 4.5 g, mono 2-acryloylethyl succinate (Mono (2-acrylolyoxyethyl) Succinate, HEA_suc) 8.0 g, Cyclohexyl methacrylate (Ca) 5.9g (please define exactly which cycloalklyacrylate it is) and 2,2'-azo-bis-isobutylnitrile (2,2'-azo-bis -isobutyrylnitrile, AIBN) 0.13 g was added dropwise after mixing well. In order to additionally remove unreacted monomers, 0.013 g of AIBN was dissolved in 5 ml EAc dropwise after 2 hours and reacted for 3 hours to obtain MoS 2 -g- containing MoS 2 -g-HEMA at 0.1% by weight relative to MMA. A HEMA (0.2 wt%) binder resin was prepared. The thermal properties, molecular weight and molecular weight distribution of the prepared polymers are listed in Table 1.

[실시예3][Example 3]

제조예에서 제조한 MoS2-g-HEMA 21 mg과 에틸아세테이트(Ethyl Acetate, EAc) 58 ml를 매커니컬 교반기를 사용하여 500 rpm 속도로 교반하면서 80 ℃까지 승온시켰다. 이후, 메틸메타아크릴레이트(Methyl methacrylate, MMA) 7.0 g, 부틸아크릴레이트(Butyl acrylate, BA) 4.5 g, 모노 2-아크릴로일에틸 석시네이트(Mono(2-acrylolyoxyethyl)Succinate, HEA_suc) 8.0 g, 사이클로헥실메타크릴레이트(Cyclohexyl methacrylate, Ca) 5.9g와 EAc에 녹인 2,2'-아조-비스-이소부틸니트릴(2,2'-azo-bis-isobutyrylnitrile, AIBN) 0.13 g을 잘 섞은 후 적하하였다. 추가적으로 미반응 단량체를 제거하기 위해 2시간 후 AIBN 0.013 g을 5 ml EAc에 녹여 적하한 후, 3시간 반응시켜, MMA에 대하여 0.1 중량%로 MoS2-g-HEMA를 포함하는 MoS2-g-HEMA(0.3 wt%)바인더 수지를 제조하였다. 제조된 중합체의 열적특성 및 분자량과 분자량 분포를 표 1에 수록하였다21 mg of MoS 2 -g-HEMA prepared in Preparation Example and 58 ml of ethyl acetate (Ethyl Acetate, EAc) were stirred at a speed of 500 rpm using a mechanical stirrer and the temperature was raised to 80 °C. Then, methyl methacrylate (MMA) 7.0 g, butyl acrylate (Butyl acrylate, BA) 4.5 g, mono 2-acryloylethyl succinate (Mono (2-acrylolyoxyethyl) Succinate, HEA_suc) 8.0 g, 5.9 g of cyclohexyl methacrylate (Ca) and 0.13 g of 2,2'-azo-bis-isobutyrylnitrile (AIBN) dissolved in EAc were mixed well and added dropwise. did In order to additionally remove unreacted monomers, 0.013 g of AIBN was dissolved in 5 ml EAc dropwise after 2 hours and reacted for 3 hours to obtain MoS 2 -g- containing MoS 2 -g-HEMA at 0.1% by weight relative to MMA. A HEMA (0.3 wt%) binder resin was prepared. The thermal properties, molecular weight and molecular weight distribution of the prepared polymers are listed in Table 1.

[실시예4][Example 4]

제조예에서 제조한 MoS2-g-HEMA 28 mg과 에틸아세테이트(Ethyl Acetate, EAc) 58 ml를 매커니컬 교반기를 사용하여 500 rpm 속도로 교반하면서 80 ℃까지 승온시켰다. 이후, 메틸메타아크릴레이트(Methyl methacrylate, MMA) 7.0 g, 부틸아크릴레이트(Butyl acrylate, BA) 4.5 g, 모노 2-아크릴로일에틸 석시네이트(Mono(2-acrylolyoxyethyl)Succinate, HEA_suc) 8.0 g, 사이클로헥실메타크릴레이트(Cyclohexyl methacrylate, Ca) 5.9g와 EAc에 녹인 2,2'-아조-비스-이소부틸니트릴(2,2'-azo-bis-isobutyrylnitrile, AIBN) 0.13 g을 잘 섞은 후 적하하였다. 추가적으로 미반응 단량체를 제거하기 위해 2시간 후 AIBN 0.013 g을 5 ml EAc에 녹여 적하한 후, 3시간 반응시켜, MMA에 대하여 0.1 중량%로 MoS2-g-HEMA를 포함하는 MoS2-g-HEMA(0.4 wt%)바인더 수지를 제조하였다. 제조된 중합체의 열적특성 및 분자량과 분자량 분포를 표 1에 수록하였다28 mg of MoS2-g-HEMA prepared in Preparation Example and 58 ml of ethyl acetate (Ethyl Acetate, EAc) were heated to 80 °C while stirring at a speed of 500 rpm using a mechanical stirrer. Then, methyl methacrylate (MMA) 7.0 g, butyl acrylate (Butyl acrylate, BA) 4.5 g, mono 2-acryloylethyl succinate (Mono (2-acrylolyoxyethyl) Succinate, HEA_suc) 8.0 g, 5.9 g of cyclohexyl methacrylate (Ca) and 0.13 g of 2,2'-azo-bis-isobutyrylnitrile (AIBN) dissolved in EAc were mixed well and added dropwise. did In order to additionally remove unreacted monomers, 0.013 g of AIBN was dissolved in 5 ml EAc dropwise after 2 hours and reacted for 3 hours to obtain MoS 2 -g- containing MoS 2 -g-HEMA at 0.1% by weight relative to MMA. A HEMA (0.4 wt%) binder resin was prepared. The thermal properties, molecular weight and molecular weight distribution of the prepared polymers are listed in Table 1.

[실시예5][Example 5]

제조예에서 제조한 MoS2-g-HEMA 35 mg과 에틸아세테이트(Ethyl Acetate, EAc) 58 ml를 매커니컬 교반기를 사용하여 500 rpm 속도로 교반하면서 80 ℃까지 승온시켰다. 이후, 메틸메타아크릴레이트(Methyl methacrylate, MMA) 7.0 g, 부틸아크릴레이트(Butyl acrylate, BA) 4.5 g, 모노 2-아크릴로일에틸 석시네이트(Mono(2-acrylolyoxyethyl)Succinate, HEA_suc) 8.0 g, 사이클로헥실메타크릴레이트(Cyclohexyl methacrylate, Ca) 5.9g와 EAc에 녹인 2,2'-아조-비스-이소부틸니트릴(2,2'-azo-bis-isobutyrylnitrile, AIBN) 0.13 g을 잘 섞은 후 적하하였다. 추가적으로 미반응 단량체를 제거하기 위해 2시간 후 AIBN 0.013 g을 5 ml EAc에 녹여 적하한 후, 3시간 반응시켜, MMA에 대하여 0.1 중량%로 MoS2-g-HEMA를 포함하는 MoS2-g-HEMA(0.5 wt%)바인더 수지를 제조하였다. 제조된 중합체의 열적특성 및 분자량과 분자량 분포를 표 1에 수록하였다35 mg of MoS 2 -g-HEMA prepared in Preparation Example and 58 ml of ethyl acetate (Ethyl Acetate, EAc) were heated to 80 °C while stirring at a speed of 500 rpm using a mechanical stirrer. Then, methyl methacrylate (MMA) 7.0 g, butyl acrylate (Butyl acrylate, BA) 4.5 g, mono 2-acryloylethyl succinate (Mono (2-acrylolyoxyethyl) Succinate, HEA_suc) 8.0 g, 5.9 g of cyclohexyl methacrylate (Ca) and 0.13 g of 2,2'-azo-bis-isobutyrylnitrile (AIBN) dissolved in EAc were mixed well and added dropwise. did In order to additionally remove unreacted monomers, 0.013 g of AIBN was dissolved in 5 ml EAc dropwise after 2 hours and reacted for 3 hours to obtain MoS 2 -g- containing MoS 2 -g-HEMA at 0.1% by weight relative to MMA. A HEMA (0.5 wt%) binder resin was prepared. The thermal properties, molecular weight and molecular weight distribution of the prepared polymers are listed in Table 1.

[비교예1][Comparative Example 1]

상기 실시예 1에서 MoS2-g-HEMA를 사용하지 않고 제조하는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 실시하였다. 제조된 중합체의 열적특성 및 분자량과 분자량 분포를 표 1에 수록하였다.Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1, except for preparing without using MoS 2 -g-HEMA. The thermal properties, molecular weight and molecular weight distribution of the prepared polymers are listed in Table 1.

Td5 (단위: ℃)T d5 (Unit: ℃) Tg (단위: ℃)T g (Unit: ℃) Mn (단위: g/mol)Mn (unit: g/mol) Mw (단위: g/mol)Mw (unit: g/mol) PDIPDI 실시예1Example 1 260.17260.17 43.3543.35 72,60072,600 124,000124,000 1.711.71 실시예2Example 2 254.48254.48 23.4823.48 81,10081,100 144,000144,000 1.771.77 실시예3Example 3 240.81240.81 33.3733.37 74,70074,700 124,000124,000 1.661.66 실시예4Example 4 255.85255.85 39.4239.42 79,30079,300 123,000123,000 1.561.56 실시예5Example 5 264.00264.00 32.1332.13 47,90047,900 104,000104,000 2.172.17 비교예1Comparative Example 1 263.86263.86 41.2741.27 93,10093,100 171,000171,000 1.831.83

상기 실시예들 및 비교예1에서 제조한 바인더 수지를 이용하여, 아래 표 2와 같은 조성의 코팅 조성물을 제조하였다. Using the binder resin prepared in the above Examples and Comparative Example 1, a coating composition having the composition shown in Table 2 below was prepared.

상기 실시예들 및 비교예 1에서 제조한 바인더 12 중량%, 전도성 필러(LT메탈사의 HP-0708) 45 중량%, 희석제로 프로필렌 글리콜 메틸 에테르(Propylene glycol monomethyl ether) 38 중량%, 첨가제로 탈포제(BYK사의 BYK-054) 5 중량%로 혼합하여, 아래 표 2의 조성과 같은 코팅 조성물을 각각 제조하고, 분사성 및 분산안정성을 평가하였다. 12% by weight of the binder prepared in the above Examples and Comparative Example 1, 45% by weight of a conductive filler (HP-0708 from LT Metal), 38% by weight of propylene glycol monomethyl ether as a diluent, and a defoaming agent as an additive (BYK's BYK-054) was mixed at 5% by weight to prepare coating compositions as shown in Table 2 below, respectively, and sprayability and dispersion stability were evaluated.

종류type 실시예6Example 6 실시예7Example 7 실시예8Example 8 실시예9Example 9 비교예2Comparative Example 2 바인더 수지/함량(단위: 중량부)Binder resin/content (unit: parts by weight) 실시예2 /
12
Example 2 /
12
실시예3 /
12
Example 3 /
12
실시예4 /
12
Example 4 /
12
실시예5 /
12
Example 5 /
12
비교예1 /
12
Comparative Example 1 /
12
전도성 필러(LT메탈사의 HP-0708.)
(단위: 중량부)
Conductive filler (LT Metal's HP-0708.)
(unit: parts by weight)
4545 4545 4545 4545 4545
희석용제(Propylene glycol monomethyl ether)
(단위: 중량부)
Diluent (Propylene glycol monomethyl ether)
(unit: parts by weight)
3838 3838 3838 3838 3838
첨가제(BYK-054)
(단위: 중량부)
Additive (BYK-054)
(unit: parts by weight)
55 55 55 55 55
분사성(Ejectability)Ejectability 좋음good 좋음good 좋음good 좋음good 좋음good 분산안정성
(TSI)
Dispersion stability
(TSI)
3.5h3.5h 1.251.25 0.8250.825 0.1260.126 0.1250.125 1.51.5
42h42h 2.252.25 1.751.75 1.1251.125 1.01.0 3.253.25

상기 표 2 및 도 1에서와 같이, 본 발명에 따른 코팅 조성물인 실시예 6 내지 9의 경우, 제조 초기에서 3.5 시간이 지나는 동안 분산안정성이 비교예2에 비하여 현저히 우수할 뿐만 아니라, 특히 실시예9 및 10의 경우, 비교예 2에 비하여, 전체적인 분산안정성이 월등히 우수하고, 42시간 동안 분산안정성의 큰 변화가 없이, 분산안정성 지수(TSI)가 낮은 값으로 균일하게 유지되는 것일 알 수 있다.As shown in Table 2 and FIG. 1, in the case of Examples 6 to 9, which are coating compositions according to the present invention, dispersion stability during 3.5 hours from the beginning of preparation is not only significantly better than that of Comparative Example 2, but in particular, Examples In the case of 9 and 10, compared to Comparative Example 2, the overall dispersion stability is far superior, and it can be seen that the dispersion stability index (TSI) is maintained uniformly at a low value without a significant change in dispersion stability for 42 hours.

전자파 차폐막의 물리적 특성 측정Measurement of physical properties of electromagnetic wave shielding film

상기 표 2의 조성을 가지는 실시예들 및 비교예 2의 코팅 조성물을 실리콘 기판 상에 스프레이 코팅하여, 코팅 건조하여 전자파 차폐막을 제조하였다. 제조한 전자파 차폐막의 내열성, 접착성 및 연필강도를 측정하여 아래 표 3에 나타내었다.The coating compositions of Examples and Comparative Example 2 having the compositions of Table 2 were spray-coated on a silicon substrate, and the coating was dried to prepare an electromagnetic wave shielding film. Heat resistance, adhesiveness, and pencil strength of the prepared electromagnetic wave shielding film were measured and shown in Table 3 below.

코팅조성물
종류
coating composition
type
내열성heat resistance Cross-cutCross-cut 접촉각
(단위:˚)
contact angle
(unit)
연필
경도
pencil
Hardness
120℃, 30min120℃, 30min 150℃, 30min150℃, 30min 180℃, 30min180℃, 30min 260℃,
1h
260℃,
1h
실시예6Example 6 OO XX 5B5B 53.6953.69 4H4H 실시예7Example 7 OO XX 5B5B 56.8556.85 4H4H 실시예8Example 8 OO XX 4B4B 58.6558.65 4H4H 실시예9Example 9 XX 5B5B 64.9764.97 4H4H 비교예2Comparative Example 2 OO OO 4B4B 41.3741.37 2H2H

상기 표 3에서와 같이, 본 발명에 따른 코팅 조성물을 사용한 실시예 6 내지 9의 전자파 차폐막은 내열성이 우수하고, 부착성 4B 이상 및 4H 이상의 우수한 연필경도를 가지는 것을 알 수 있다.As shown in Table 3, it can be seen that the electromagnetic wave shielding films of Examples 6 to 9 using the coating composition according to the present invention have excellent heat resistance and excellent adhesion of 4B or more and excellent pencil hardness of 4H or more.

이상과 같이 본 발명에서는 특정된 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. As described above, the present invention has been described by specific details and limited embodiments and drawings, but this is only provided to help a more general understanding of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments, and the present invention Those skilled in the art can make various modifications and variations from these descriptions.

따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.Therefore, the spirit of the present invention should not be limited to the described embodiments, and it will be said that not only the claims to be described later, but also all modifications equivalent or equivalent to these claims belong to the scope of the present invention. .

Claims (13)

(a)메틸메타크릴레이트(MMA), (b)(C3-C7)알킬(메타)아크릴레이트, (c)포화이가산화합물과 히드록시(C2-C4)알킬(메타)아크릴레이트의 축합에 의해 제조된 단량체, (d)시클로(C3-C6)알킬(메타)아크릴레이트 및 (e)하기 화학식 1로 표시되는 (메타)아크릴레이트를 포함하여 중합된 것인, 전자파 차폐용 바인더 수지.
[화학식1]
Figure 112021004344563-pat00008

(상기 화학식 1에서, M은 금속칼코겐 화합물이고, R1은 C2~C6 치환 또는 비치환된 알킬렌기, R2는 수소 또는 메틸(CH3)이다)
(a) methyl methacrylate (MMA), (b) (C3-C7) alkyl (meth) acrylate, (c) by condensation of a saturated divalent acid compound and hydroxy (C2-C4) alkyl (meth) acrylate The prepared monomer, (d) cyclo (C3-C6) alkyl (meth) acrylate and (e) (meth) acrylate represented by the following formula (1) polymerized by including a binder resin for electromagnetic wave shielding.
[Formula 1]
Figure 112021004344563-pat00008

(In Formula 1, M is a metal chalcogen compound, R 1 is a C2~C6 substituted or unsubstituted alkylene group, R 2 is hydrogen or methyl (CH 3 ))
제1항에 있어서,
상기 금속칼코겐 화합물의 금속은 Mo, W, Sn, Bi 및 Sb로 이로어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 금속이며, 금속 칼코겐 화합물의 칼코겐은 S, Se 및 Te로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 원소인, 바인더 수지.
According to claim 1,
The metal of the metal chalcogen compound is any one or two or more metals selected from the group consisting of Mo, W, Sn, Bi and Sb, and the chalcogen of the metal chalcogen compound is any one selected from the group consisting of S, Se and Te. Binder resin, which is one or two or more elements.
제1항에 있어서,
상기 포화이가산화합물이 숙신산, 말산, 아디프산, 글루타르산에서 선택되는 어느 하나 이상의 것인 전자파차폐용 바인더 수지.
According to claim 1,
The saturated diacid compound is any one or more selected from succinic acid, malic acid, adipic acid, and glutaric acid.
제1항 내지 제3항에서 선택되는 어느 한 항의 전자파 차폐용 바인더수지, 도전성 필러 및 희석제를 포함하는 전자파 차폐용 코팅 조성물.A coating composition for shielding electromagnetic waves comprising the binder resin for shielding electromagnetic waves according to any one of claims 1 to 3, a conductive filler, and a diluent. 제 4항에 있어서,
상기 도전성 필러는 금속입자, 금속염, 전도성고분자, 탄소입자, 탄소튜브, 탄소나노튜브, 그라핀, 그라핀옥시드에서 선택되는 어느 하나 이상의 성분을 포함하는 것인 전자파 차폐용 코팅 조성물.
According to claim 4,
The conductive filler is a coating composition for electromagnetic wave shielding comprising at least one component selected from metal particles, metal salts, conductive polymers, carbon particles, carbon tubes, carbon nanotubes, graphene, and graphene oxide.
제 4항에 있어서,
상기 조성물은 상기 도전성 필러 10 내지 70 중량%, 상기 전자파 차폐용 바인더수지 5 내지 50중량% 및 희석제 20 내지 80중량%를 포함하는 전자파 차폐용 코팅 조성물.
According to claim 4,
The composition is a coating composition for electromagnetic wave shielding comprising 10 to 70% by weight of the conductive filler, 5 to 50% by weight of the binder resin for electromagnetic wave shielding, and 20 to 80% by weight of a diluent.
제4항에 있어서,
상기 전자파 차폐용 코팅 조성물은 45 시간 동안, 분산안정성 지수(TSI)가 3.5 미만인 전자파 차폐용 코팅 조성물.
According to claim 4,
The coating composition for electromagnetic wave shielding has a dispersion stability index (TSI) of less than 3.5 for 45 hours.
제4항에 있어서,
상기 전자파 차폐용 코팅 조성물은 초기 대비 3.5 시간 이후, 분산안정성 지수(TSI)의 변화율이 1.5 미만인, 전자파 차폐용 코팅 조성물.
According to claim 4,
The coating composition for shielding electromagnetic waves has a change rate of dispersion stability index (TSI) of less than 1.5 after 3.5 hours compared to the initial period.
제1항 내지 제3항에서 선택되는 어느 한 항의 전자파 차폐용 바인더 수지를 포함하는 전자파 차폐막.An electromagnetic wave shielding film comprising the binder resin for electromagnetic wave shielding of any one of claims 1 to 3. 제9항에 있어서,
상기 전자파 차폐막은, 연필경도가 3H 이상인 전자파 차폐막.
According to claim 9,
The electromagnetic wave shielding film has a pencil hardness of 3H or more.
제9항에 있어서,
상기 전자파 차폐막은, ISO 2409 규격에 따른 크로스컷 4B 이상인 전자파 차폐막.
According to claim 9,
The electromagnetic wave shielding film has a crosscut of 4B or higher according to the ISO 2409 standard.
제9항에 있어서,
상기 전자파 차폐막은, 수접촉각이 50˚이상인 전자파 차폐막.
According to claim 9,
The electromagnetic wave shielding film has a water contact angle of 50 degrees or more.
제9항에 있어서,
상기 전자파 차폐막은, 전기전도도가 60 mΩ/10㎛이하인 전자파 차폐막.
According to claim 9,
The electromagnetic wave shielding film has an electrical conductivity of 60 mΩ/10 μm or less.
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