KR102523645B1 - Substrate processing apparatus - Google Patents

Substrate processing apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR102523645B1
KR102523645B1 KR1020210052864A KR20210052864A KR102523645B1 KR 102523645 B1 KR102523645 B1 KR 102523645B1 KR 1020210052864 A KR1020210052864 A KR 1020210052864A KR 20210052864 A KR20210052864 A KR 20210052864A KR 102523645 B1 KR102523645 B1 KR 102523645B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
recovery cup
lifting
recovery
cup
shaft
Prior art date
Application number
KR1020210052864A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20220146051A (en
Inventor
김태우
이상수
황재훈
Original Assignee
에이펫(주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에이펫(주) filed Critical 에이펫(주)
Priority to KR1020210052864A priority Critical patent/KR102523645B1/en
Publication of KR20220146051A publication Critical patent/KR20220146051A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102523645B1 publication Critical patent/KR102523645B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67063Apparatus for fluid treatment for etching
    • H01L21/67075Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
    • H01L21/6708Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching using mainly spraying means, e.g. nozzles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

본 발명은 기판을 지지하며 회전하는 회전 테이블과 상기 기판에 분사되는 처리액을 회수하는 처리액 회수부가 배치되는 하우징을 구비하는 기판 처리 장치로서, 상기 처리액 회수부는, 상기 회전 테이블의 외측에 배치되며, 내부에 처리액을 회수하기 위한 공간을 제공하는 회수컵; 상기 회수컵에 연결되는 한 쌍의 승강축; 및 상기 승강축 각각에 연결되는 한 쌍의 기어박스를 포함하며, 상기 한 쌍의 기어박스는, 서로 동기화되어 상기 한 쌍의 승강축을 동시에 승하강시킴으로써 상기 회전 테이블에 대한 상기 회수컵의 상대적인 높이를 조절하는 것을 특징으로 한다.The present invention is a substrate processing apparatus comprising a housing in which a rotary table rotating while supporting a substrate and a treatment liquid recovery unit for recovering a treatment liquid sprayed on the substrate are disposed, wherein the treatment liquid recovery unit is disposed outside the rotation table. and a recovery cup providing a space for recovering the treatment liquid therein; a pair of lifting shafts connected to the recovery cup; and a pair of gearboxes connected to each of the ascending and descending shafts, wherein the pair of gearboxes synchronizes with each other to simultaneously raise and lower the pair of ascending and descending shafts, thereby determining a relative height of the recovery cup with respect to the rotary table. characterized by control.

Figure R1020210052864
Figure R1020210052864

Description

기판 처리 장치{Substrate processing apparatus}Substrate processing apparatus {Substrate processing apparatus}

본 발명은 반도체 기판을 처리하기 위한 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for processing semiconductor substrates.

반도체 제조 공정은 반도체 기판 상에 증착, 사진, 식각, 세정하기 위한 다양한 공정들을 포함할 수 있다. 기판 처리 공정은 기판에 다양한 종류의 처리액을 공급하는 것으로 바람직하게는 회전하고 있는 기판에 미리 정해진 순서와 유량으로 2종 이상의 처리액을 분사하는 과정을 포함할 수 있다. A semiconductor manufacturing process may include various processes for deposition, photography, etching, and cleaning on a semiconductor substrate. The substrate treatment process is to supply various types of treatment liquids to the substrate, and preferably may include a process of spraying two or more kinds of treatment liquids to the rotating substrate in a predetermined order and at a flow rate.

기판에 분사되어 사용된 처리액은 기판 처리 장치 외부로 배출하거나 저장해두었다가 다시 사용하기 위해 회수할 수 있다. 이를 위해, 종래 기판 처리 장치에는 처리액 회수를 위한 공간을 구비하는 회수컵 구조가 도입되었다. 기판에 분사된 처리액은 기판이 회전함에 따라 기판의 외측으로 이동할 수 있으며, 회수컵은 기판 외측에서 기판을 감싸도록 마련되어 처리액을 회수할 수 있도록 배치되었다. 회수컵은 서로 다른 처리액이 혼합되어 회수되지 않도록 복수 개로 마련되는 구조가 도입되었는데, 각각의 회수컵은 공압 실린더에 연결되어 승하강 이동하도록 마련되었다. 이때, 공압 실린더는 미리 정해진 처리액을 회수하기 위해 미리 정해진 회수컵의 높이를 처리액 이동방향에 맞게 조절하고, 나머지 회수컵의 높이는 다르게 조절하는 제어를 구현하는 수단이다.The treatment liquid sprayed onto the substrate and used may be discharged to the outside of the substrate treatment apparatus or stored and recovered for reuse. To this end, a recovery cup structure having a space for recovering a treatment liquid has been introduced in a conventional substrate processing apparatus. The treatment liquid sprayed onto the substrate may move to the outside of the substrate as the substrate rotates, and the recovery cup is provided to cover the substrate from the outside of the substrate and is arranged to recover the treatment liquid. A structure is introduced in which a plurality of recovery cups are provided so that different treatment liquids are not mixed and collected, and each recovery cup is connected to a pneumatic cylinder to move up and down. At this time, the pneumatic cylinder is a means for realizing a control of adjusting the height of the predetermined recovery cup according to the direction of movement of the treatment liquid and differently adjusting the heights of the remaining recovery cups in order to recover the predetermined treatment liquid.

그러나, 종래 사용된 공압 실린더 방식은 회수컵을 승하강하는 과정에서 발생하는 마찰과 같은 내부적인 요인에 의해 회수컵의 높이 조절에 오차가 발생하는 문제가 있었고, 회수컵에 처리액을 회수함에 따른 무게 변화 및 회수컵의 어느 한 쪽에 처리액이 쏠리는 경우 무게 불균형에 대응하지 못하는 등 외부적인 요인에 의해 회수컵의 높이 조절 및 균형 유지에 오차가 발생하는 문제가 있었으며, 이러한 오차는 기판 처리 공정을 수행할수록 심해져 보다 큰 유지보수 비용과 시간을 요구하게 된다는 한계가 있었다.However, the conventionally used pneumatic cylinder method has a problem in that an error occurs in adjusting the height of the recovery cup due to internal factors such as friction generated in the process of raising and lowering the recovery cup. There was a problem that an error occurred in adjusting the height and maintaining balance of the recovery cup due to external factors such as weight change and the inability to respond to weight imbalance when the treatment liquid was concentrated on either side of the recovery cup. There was a limitation that the more it was performed, the more severe it was, requiring greater maintenance costs and time.

본 발명의 목적은 회수컵에 한 쌍의 승강축과 기어박스를 연결하고, 그 구동을 서로 동기화하여 회수컵 승하강 이동의 제어가 정밀한 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus in which a pair of lifting shafts and a gearbox are connected to a recovery cup and the movement of the recovery cup is precisely controlled by synchronizing their driving with each other.

본 발명은 기판을 지지하며 회전하는 회전 테이블과 상기 기판에 분사되는 처리액을 회수하는 처리액 회수부가 배치되는 하우징을 구비하는 기판 처리 장치로서, 상기 처리액 회수부는, 상기 회전 테이블의 외측에 배치되며, 내부에 처리액을 회수하기 위한 공간을 제공하는 회수컵, 상기 회수컵에 연결되는 한 쌍의 승강축, 및 상기 승강축 각각에 연결되는 한 쌍의 기어박스를 포함하며, 상기 한 쌍의 기어박스는, 서로 동기화되어 상기 한 쌍의 승강축을 동시에 승하강시킴으로써 상기 회전 테이블에 대한 상기 회수컵의 상대적인 높이를 조절하는 것이다.The present invention is a substrate processing apparatus comprising a housing in which a rotary table rotating while supporting a substrate and a treatment liquid recovery unit for recovering a treatment liquid sprayed on the substrate are disposed, wherein the treatment liquid recovery unit is disposed outside the rotation table. and a recovery cup providing a space for recovering the treatment liquid therein, a pair of lift shafts connected to the recovery cups, and a pair of gearboxes connected to each of the lift shafts. The gear box adjusts the relative height of the recovery cup with respect to the rotary table by simultaneously lifting and lowering the pair of lifting shafts in synchronization with each other.

구체적으로, 상기 회수컵은, 상부면이 개방되며, 상기 승강축이 완전히 하강되면 상기 처리액을 회수하지 않는 것일 수 있다.Specifically, the recovery cup may not recover the treatment liquid when an upper surface is opened and the lifting shaft is completely lowered.

구체적으로, 상기 승강축은, 일단이 상기 회수컵의 하부면에 연결되며, 타단이 상기 기어박스의 상부면에 연결되는 것일 수 있다.Specifically, the lifting shaft may have one end connected to the lower surface of the recovery cup and the other end connected to the upper surface of the gear box.

구체적으로, 상기 회수컵은, 상기 공간에 회수된 처리액을 배출하기 위한 회수 홀을 포함하며, 상기 승강축과 상기 회수 홀은, 상기 회수컵의 하부면에서 서로 어긋난 위치에 배치되는 것일 수 있다.Specifically, the recovery cup may include a recovery hole for discharging the treatment liquid recovered in the space, and the lifting shaft and the recovery hole may be disposed at positions offset from each other on a lower surface of the recovery cup. .

구체적으로, 상기 한 쌍의 승강축은, 상기 회수컵의 일측에 연결되는 두 개의 승강축과, 상기 일측에 대향하는 타측에 연결되는 두 개의 승강축으로 이루어지며, 상기 한 쌍의 기어박스는, 상기 일측에 연결되는 두 개의 승강축을 동시에 승하강시키는 기어박스와, 상기 타측에 연결되는 두 개의 승강축을 동시에 승하강시키는 기어박스로 이루어지는 것일 수 있다.Specifically, the pair of lift shafts include two lift shafts connected to one side of the recovery cup and two lift shafts connected to the other side opposite to the one side, and the pair of gearboxes It may be composed of a gearbox for simultaneously lifting and lowering two lifting shafts connected to one side and a gearbox for simultaneously lifting and lowering two lifting shafts connected to the other side.

구체적으로, 상기 회수컵은, 상기 회전 테이블을 감싸도록 마련되는 제1 회수컵, 상기 제1 회수컵의 외측에 마련되어 상기 제1 회수컵을 감싸도록 마련되는 제2 회수컵, 및 상기 제2 회수컵의 외측에 마련되어 상기 제2 회수컵을 감싸도록 마련되는 제3 회수컵을 포함하며, 상기 승강축은, 일단이 상기 제1 회수컵에 연결되는 제1 승강축, 일단이 상기 제2 회수컵에 연결되는 제2 승강축, 및 일단이 상기 제3 회수컵에 연결되는 제3 승강축을 포함하는 것일 수 있다.Specifically, the recovery cup includes a first recovery cup provided to surround the rotation table, a second recovery cup provided outside the first recovery cup to surround the first recovery cup, and the second recovery cup. A third recovery cup is provided outside the cup to surround the second recovery cup, and the elevation shaft includes a first elevation shaft having one end connected to the first recovery cup and one end connected to the second recovery cup. It may include a second lifting shaft connected thereto, and a third lifting shaft having one end connected to the third recovery cup.

구체적으로, 상기 기어박스는, 구동력을 발생시키는 모터, 기어를 통해 상기 모터에 연결되며, 상기 모터의 회전축에 대해 수직인 회전축을 중심으로 회전하는 스크류, 상기 스크류에 나사 결합되며, 상기 승강축의 타단이 연결되는 승강판, 및 상기 승강판의 회전을 억제하는 너트를 포함하며, 상기 스크류에 대한 상기 승강판의 상대적 높이를 조절하여 상기 승강축을 승하강시키는 것일 수 있다.Specifically, the gearbox is connected to the motor through a motor generating a driving force, a gear, and a screw rotating about a rotational axis perpendicular to the rotational axis of the motor, screwed to the screw, and the other end of the lifting shaft. It may include a lifting plate connected to the lifting plate and a nut for suppressing rotation of the lifting plate, and the lifting shaft may be moved up and down by adjusting a height of the lifting plate relative to the screw.

구체적으로, 상기 스크류의 회전축과 상기 승강축은 서로 평행하게 배치되는 것일 수 있다.Specifically, the rotating shaft and the lifting shaft of the screw may be disposed parallel to each other.

본 발명에 따른 기판 처리 장치는 공급되는 처리액의 종류에 따라 미리 정해진 회수컵을 이용하여 회수할 수 있도록 동작하며, 모터를 이용하여 회수컵의 승하강을 조절하여 회수컵의 높이 및 균형을 정밀하게 제어할 수 있다.The substrate processing apparatus according to the present invention operates to recover using a predetermined recovery cup according to the type of treatment liquid supplied, and adjusts the elevation and descent of the recovery cup using a motor to precisely control the height and balance of the recovery cup. can be controlled

또한, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 회수컵의 아래에 승강축과 기어박스가 마련되어, 전체 장치의 규모를 절감할 수 있다.In addition, in the substrate processing apparatus according to the present invention, an elevation shaft and a gear box are provided below the recovery cup, so the size of the entire apparatus can be reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 일단면을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치 하우징의 일면을 나타낸 개념도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 기어박스를 나타낸 평면도이다.
도 4는 도 3에 나타낸 가상의 선 AA'에 따른 기어박스의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에서 제1 회수컵의 회수 동작을 나타낸 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에서 제2 회수컵의 회수 동작을 나타낸 단면도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에서 제3 회수컵의 회수 동작을 나타낸 단면도이다.
1 is a cross-sectional view showing one end of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a conceptual diagram showing one side of a substrate processing apparatus housing according to an embodiment of the present invention.
3 is a plan view illustrating a gearbox of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of the gearbox taken along the imaginary line AA' shown in FIG. 3;
5 is a cross-sectional view illustrating a recovery operation of a first recovery cup in the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating a recovery operation of a second recovery cup in the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view illustrating a recovery operation of a third recovery cup in the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예 및 도면으로부터 더욱 명백해질 것이다. 그러나 이들 실시예와 도면은 본 발명을 예시적으로 설명하기 위한 것으로 본 발명의 범위가 이들 실시예 및 도면에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.Objects, specific advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description and preferred embodiments and drawings. However, these embodiments and drawings are intended to illustrate the present invention by way of example, and the scope of the present invention is not limited to these embodiments and drawings. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of related known technologies may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted.

이하에서, 기판은 그 표면에 반도체 원료를 육성하여 반도체 기능층을 형성하기 위해 제공되는 것 및 이를 고정하기 위한 수단을 포괄하여 의미한다.Hereinafter, the substrate is meant to include a substrate provided to form a semiconductor functional layer by growing a semiconductor raw material on its surface and a means for fixing it.

이하에서, 기판이 처리된다는 것은, 처리액을 이용하여 기판 상에 목적하는 물질을 포함하는 기능층을 형성하거나, 목적하는 물질 이외의 불순물이나 오염 물질을 제거하기 위한 과정을 포괄하여 의미한다. Hereinafter, processing of a substrate includes a process of forming a functional layer containing a desired material on a substrate using a treatment liquid or removing impurities or contaminants other than the desired material.

이하에서, 처리액은 당업계에서 통상적으로 사용되는 것을 의미할 수 있으며, 제1 내지 제3과 같이 지칭하는 것은 특정한 회수컵을 통해 회수되도록 하여 다른 처리액과 혼합되지 않게됨을 의미하는 것이지, 각각이 반드시 단일 종류의 처리액을 의미하는 것은 아니다.Hereinafter, the treatment liquid may mean what is commonly used in the art, and the names 1 to 3 mean that they are not mixed with other treatment liquids by being recovered through a specific recovery cup, respectively. This does not necessarily mean a single type of treatment liquid.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 및 2를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명한다.A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2 .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 측면을 나타낸 단면도로, 아직 기판이 장착되지 않고 후술할 회수컵들이 모두 하강한 상태를 나타낸 개념도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치 하우징의 일면을 나타낸 개념도이다. 구체적으로, 도 2는 하우징(140)의 중심부에 회전 구동부(130)가 연결되고, 회전 구동부(130)의 외측에 승강축(220)이 통과하는 개구가 마련된 일면을 나타낸 개념도이다.1 is a cross-sectional view showing a side of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and is a conceptual view showing a state in which a substrate is not yet mounted and recovery cups to be described below are all lowered. 2 is a conceptual diagram showing one side of a substrate processing apparatus housing according to an embodiment of the present invention. Specifically, FIG. 2 is a conceptual diagram showing one surface in which the rotary driving unit 130 is connected to the center of the housing 140 and an opening through which the lifting shaft 220 passes is provided outside the rotation driving unit 130.

도 1을 참조하면, 기판 처리 장치는 회전 테이블(100), 척핀(110), 회전축(120), 회전 구동부(130), 하우징(140) 및 처리액 회수부(200) 등을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1 , the substrate processing apparatus may include a rotation table 100, a chuck pin 110, a rotation shaft 120, a rotation drive unit 130, a housing 140, a treatment liquid recovery unit 200, and the like. .

회전 테이블(100)은 일면에 기판이 장착되기 위한 장소를 제공한다. 회전 테이블(100)은 회전축(120)을 중심으로 방사상으로 배치되는 복수 개의 척핀(110)을 구비할 수 있다. 척핀(110)은 회전 테이블(100)의 상기 일면으로부터 돌출되어 연장되는 형태로 배치될 수 있으며, 복수 개의 척핀(110) 사이에 기판이 장착될 수 있다. 기판은 척핀(110)에 의해 회전 테이블(100)의 상기 일면으로부터 미리 정해진 거리만큼 이격되어 탈부착될 수 있으며, 기판은 척핀(110)에 고정된 상태로 회전 테이블(100)이 회전됨에 따라 함께 회전할 수 있다.The rotary table 100 provides a place for mounting a substrate on one surface. The rotary table 100 may include a plurality of chuck pins 110 radially disposed around the rotary shaft 120 . The chuck pins 110 may be disposed in a form protruding and extending from the one surface of the rotation table 100, and a substrate may be mounted between the plurality of chuck pins 110. The substrate may be attached or detached by being spaced apart from the one surface of the rotation table 100 by a predetermined distance by the chuck pin 110, and the substrate rotates together as the rotation table 100 rotates while being fixed to the chuck pin 110. can do.

회전 테이블(100)은 원판 형태일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 회전 테이블(100)은 중심에 마련되는 회전축(120)을 통해 회전 구동부(130)에 연결될 수 있으며, 회전 구동부(130)는 모터 등을 포함하여 회전 테이블(100)을 회전시킬 수 있다. 회전축(120)은 기판 처리 장치의 높이 방향과 평행한 것이 바람직하다.The rotary table 100 may have a disk shape, but is not limited thereto. The rotation table 100 may be connected to the rotation drive unit 130 through a rotation shaft 120 provided at the center, and the rotation drive unit 130 may include a motor and the like to rotate the rotation table 100. The rotating shaft 120 is preferably parallel to the height direction of the substrate processing apparatus.

도시하지 않았으나, 기판 처리 장치의 하우징(140)은 내부에 회전 테이블(100)과 회전 구동부(130) 및 처리액 회수부(200)를 배치하기 위한 공간을 제공할 수 있다. 하우징(140)에는 회전 구동부(130)와 처리액 회수부(200)가 각각 결합되고, 회전 테이블(100)은 외부로 노출되도록 마련될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Although not shown, the housing 140 of the substrate processing apparatus may provide a space for arranging the rotation table 100, the rotation drive unit 130, and the treatment liquid recovery unit 200 therein. The rotation drive unit 130 and the treatment liquid recovery unit 200 may be coupled to the housing 140, and the rotation table 100 may be provided to be exposed to the outside, but is not limited thereto.

처리액 회수부(200)는 회수컵(210), 승강축(220), 이탈방지부재(230) 및 기어박스(240) 등을 포함하여, 회수컵(210)이 승하강하도록 하여 처리액을 회수할 수 있게 제어한다.The treatment liquid recovery unit 200 includes a recovery cup 210, an elevating shaft 220, a separation prevention member 230, and a gear box 240, so that the recovery cup 210 moves up and down to collect the treatment liquid. control for recovery.

회수컵(210)은 회전 테이블(100)의 외측에 배치되며, 내부에 처리액을 회수하기 위한 공간을 제공할 수 있다. 바람직하게는, 회수컵(210)은 회전 테이블(100)의 가장자리를 따라 회전 테이블(100)을 감싸도록 연장될 수 있으며, 승하강함에 따라 회전 테이블(100)을 노출시킬 수 있도록 상부면이 개방된 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 회전 테이블(100)이 원판 형태인 경우, 회수컵(210)은 상부에서 보았을 때 링 형상으로 마련되어 원판 형태의 회전 테이블(100)을 감싸도록 마련될 수 있다.The recovery cup 210 is disposed outside the rotary table 100 and may provide a space for recovering the treatment liquid therein. Preferably, the recovery cup 210 may extend along the edge of the rotary table 100 to surround the rotary table 100, and has an open top surface to expose the rotary table 100 as it moves up and down. may have a shape. For example, when the rotation table 100 has a disk shape, the recovery cup 210 may be provided in a ring shape when viewed from above to surround the disk shape rotation table 100 .

회수컵(210)이 완전히 상승하면 회전 테이블(100)의 회전축(120)을 중심으로 바깥 방향으로 이동하는 처리액을 받아내어 회수할 수 있으며, 완전히 하강하면 회전 테이블(100)과 기판을 외부로 노출시키며 처리액을 회수하지 않을 수 있게 된다. 회수컵(210)은 완전히 하강하였을 때, 기판을 완전히 노출시키며 기판에 공급되는 처리액의 흐름을 방해하지 않되, 완전히 상승하였을 때에는 기판에 공급되어 튀는 처리액까지 회수할 수 있도록 상부면이 개방된 지붕을 포함하는 돔 형상을 가질 수 있다.When the collection cup 210 completely rises, it can receive and collect the processing liquid moving outward around the rotation shaft 120 of the rotation table 100, and when it completely descends, the rotation table 100 and the substrate are removed to the outside. exposure, and the treatment liquid may not be recovered. When the recovery cup 210 is completely lowered, the substrate is completely exposed and the flow of the treatment liquid supplied to the substrate is not disturbed, but when it is completely raised, the upper surface is open to recover even the treatment liquid that is supplied to the substrate and splashes. It may have a dome shape including a roof.

회수컵(210)은 복수 개로 마련되어, 다양한 종류의 처리액을 회수할 수 있다. 예를 들어, 회수컵(210)은 회전 테이블(100)을 감싸도록 마련되는 제1 회수컵(211), 제1 회수컵(211)의 외측에 마련되어 제1 회수컵(211)을 감싸도록 마련되는 제2 회수컵(212), 제2 회수컵(212)의 외측에 마련되어 제2 회수컵(212)을 감싸도록 마련되는 제3 회수컵(213)을 포함할 수 있다. 이러한 경우, 제1 회수컵(211)이 상승하여 제1 처리액을 회수할 수 있고, 제2 회수컵(212)이 상승하여 제2 처리액을 회수할 수 있고, 제3 회수컵(213)이 상승하여 제3 처리액을 회수할 수 있다. A plurality of recovery cups 210 are provided to recover various types of treatment liquids. For example, the recovery cup 210 is provided outside the first recovery cup 211 provided to surround the rotation table 100 and the first recovery cup 211 to surround the first recovery cup 211. and a third recovery cup 213 provided outside the second recovery cup 212 to surround the second recovery cup 212 . In this case, the first recovery cup 211 rises to recover the first treatment liquid, the second recovery cup 212 rises to recover the second treatment liquid, and the third recovery cup 213 As this rises, the third treatment liquid can be recovered.

각각의 회수컵(210)은 처리액이 바깥으로 튀어나가지 않도록 돔 형상을 가질 수 있으며, 상부면이 개방된 지붕을 포함할 수 있다. 이러한 경우, 제1 회수컵 내지 제3 회수컵(211~213) 중 서로 인접하는 회수컵이 함께 상승하거나 하강한 때에, 각 회수컵(210)의 지붕의 적어도 일부가 서로 적층된 구조를 이룰 수 있다. 도 1은 제1 회수컵 내지 제3 회수컵(211~213)이 모두 상부면이 개방된 것으로, 완전히 하강하여 회전 테이블(100)을 완전히 노출시킨 모습을 도시한 것이다.Each recovery cup 210 may have a dome shape to prevent the treatment liquid from protruding outward, and may include a roof with an open upper surface. In this case, when the recovery cups adjacent to each other among the first to third recovery cups 211 to 213 rise or fall together, a structure in which at least a part of the roof of each recovery cup 210 is stacked may be achieved. there is. FIG. 1 shows a state in which the first to third recovery cups 211 to 213 have their upper surfaces open and fully descend to completely expose the rotary table 100 .

승강축(220)은 회수컵(210)과 후술할 기어박스(240)에 연결되는 것으로, 기어박스(240)에 의해 승하강하여 회수컵(210)을 승하강시키기 위한 구성이다. 본 실시예에서 승강축(220)은 회수컵(210)의 어느 일측에 연결되는 것과 상기 일측에 대향하는 타측에 연결되는 한 쌍으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 회수컵(210)은 회전 테이블(100)을 감싸는 링 형상일 수 있으며, 한 쌍의 승강축(220)은 상기 링의 중심점을 기준으로 대칭하는 위치에 각각 연결되는 것일 수 있다. 한 쌍의 승강축(220)이 하나의 회수컵(210)을 지지하게 됨에 따라, 회수컵(210)이 처리액을 회수하는 경우에도 안정적으로 높이 및 균형을 유지할 수 있게 된다.The lifting shaft 220 is connected to the recovery cup 210 and a gear box 240 to be described later, and is configured to move the recovery cup 210 up and down by moving up and down by the gear box 240. In this embodiment, the lifting shaft 220 may be formed of a pair connected to one side of the recovery cup 210 and the other side opposite to the one side. For example, the recovery cup 210 may have a ring shape surrounding the rotation table 100, and a pair of lifting shafts 220 may be connected to each other at symmetrical positions with respect to the central point of the ring. As the pair of lifting shafts 220 support one recovery cup 210, the recovery cup 210 can stably maintain its height and balance even when the treatment liquid is recovered.

승강축(220)은 일단이 회수컵(210)에 연결되고 타단이 기어박스(240)에 연결될 수 있으며, 바람직하게는 상기 일단이 회수컵(210)의 하부면에 연결되고, 타단이 기어박스(240)의 상부면에 연결되는 것일 수 있다. 승강축(220)은 기판 처리 장치의 높이 방향과 평행하는 방향에 따라 직선으로 연장되는 것일 수 있다. 이에 따라, 기어박스(240)와 승강축(220) 및 회수컵(210)은 동일한 직선 또는 평면 상에 나란히 배치되는 것일 수 있으며, 기판 처리 장치를 측면에서 보았을 때 회수컵(210)의 아래에 승강축(220)과 기어박스(240)가 배치될 수 있다. 이러한 경우, 회수컵(210)의 승하강 동작을 위한 설비가 회전 테이블(100)의 회전축(120)을 중심으로 회수컵(210)의 외측에 배치되지 않을 수 있게 되어 기판 처리 장치의 공간 활용성을 극대화하고, 전체 장치의 규모를 절감할 수 있게 된다.The lifting shaft 220 may have one end connected to the recovery cup 210 and the other end connected to the gearbox 240, preferably one end connected to the lower surface of the recovery cup 210 and the other end connected to the gearbox 240. It may be connected to the upper surface of (240). The elevation shaft 220 may extend in a straight line along a direction parallel to the height direction of the substrate processing apparatus. Accordingly, the gear box 240, the lifting shaft 220, and the recovery cup 210 may be disposed side by side on the same straight line or plane, and when the substrate processing apparatus is viewed from the side, the recovery cup 210 is below the recovery cup 210. An elevation shaft 220 and a gear box 240 may be disposed. In this case, equipment for raising and lowering the recovery cup 210 may not be disposed outside the recovery cup 210 around the rotary shaft 120 of the rotary table 100, thereby improving space utilization of the substrate processing apparatus. can be maximized, and the scale of the entire device can be reduced.

승강축(220)은 기어박스(240)의 상부를 통해 후술할 승강부(242)에 결합될 수 있으며, 구동부(243)가 승강부(242)를 승하강시킴에 따라 승강부(242)와 함께 승하강할 수 있다. 승강축(220)은 하우징(140)에 마련된 개구(도시하지 않음)를 통과하여 기어박스(240)에 결합될 수 있으며, 개구에서 하우징(140)과 승강축(220) 사이에는 이탈방지부재(230)가 마련될 수 있다. 이탈방지부재(230)는 승강축(220)의 승하강 동작을 보장하면서 승강축(220)이 기판 처리 장치의 높이 방향에 대해 치우치지 않도록 할 수 있다. 본 실시예에서 승강축(220)은 한 쌍으로 마련되어 일단이 회수컵(210)의 양측을 각각 지지함과 동시에, 승강축(220)의 타단이 기어박스(240)에 연결되고, 상기 일단과 타단 사이에서 이탈방지부재(230)에 의해 치우침이 방지되어 회수컵(210)이 처리액을 회수하는 경우에도 안정적으로 높이 및 균형을 유지할 수 있게 된다.The elevating shaft 220 may be coupled to an elevating unit 242 to be described later through an upper portion of the gearbox 240, and as the driving unit 243 moves the elevating unit 242 up and down, the elevating unit 242 and the elevating unit 242 You can go up and down together. The lifting shaft 220 may pass through an opening (not shown) provided in the housing 140 and be coupled to the gearbox 240, and between the housing 140 and the lifting shaft 220 in the opening, a separation preventing member ( 230) may be provided. The separation prevention member 230 may ensure the elevation of the elevation shaft 220 and prevent the elevation shaft 220 from being biased in the height direction of the substrate processing apparatus. In this embodiment, the elevating shaft 220 is provided as a pair, one end supporting both sides of the recovery cup 210, and the other end of the elevating shaft 220 is connected to the gear box 240, and the one end and The deviation between the other ends is prevented by the separation prevention member 230, so that the recovery cup 210 can stably maintain its height and balance even when recovering the treatment liquid.

회수컵(210)은 내부의 공간에 회수되는 처리액을 저장할 수 있으며, 하부면 또는 측면에 저장되는 처리액을 배출하기 위한 회수 홀(도시하지 않음)을 구비할 수 있다. 회수 홀과 승강축(220)이 회수컵(210)의 하부면에 마련되는 경우, 승강축(220)과 회수 홀은 회수컵(210)의 하부면에서 서로 어긋난 위치에 배치될 수 있다. 회수컵(210)의 회수 홀은 하우징(140)에 마련되는 회수 홀(141) 또는 플러싱 홀(142)에 연결될 수 있다. 처리액은 하우징(140)의 회수 홀(141) 또는 플러싱 홀(142)을 통과하여 기판 처리 장치의 외부 또는 기판 처리 장치에 마련되는 별도의 저장 용기로 공급될 수 있다.The recovery cup 210 may store the recovered treatment liquid in an internal space, and may have a recovery hole (not shown) for discharging the treatment liquid stored on a lower surface or side surface. When the recovery hole and the lifting shaft 220 are provided on the lower surface of the recovery cup 210, the lifting shaft 220 and the recovery hole may be disposed at positions offset from each other on the lower surface of the recovery cup 210. The recovery hole of the recovery cup 210 may be connected to the recovery hole 141 or the flushing hole 142 provided in the housing 140 . The processing liquid may pass through the recovery hole 141 or the flushing hole 142 of the housing 140 and be supplied to the outside of the substrate processing apparatus or to a separate storage container provided in the substrate processing apparatus.

회수컵(210)이 복수 개로 마련되는 경우, 승강축(220) 또한 복수 개로 마련되어 각각의 회수컵(210)에 대응하도록 결합될 수 있다. 예를 들어, 제1 회수컵 내지 제3 회수컵(211~213)을 포함하는 경우, 승강축(220)은 일단이 제1 회수컵(211)에 연결되는 제1 승강축(221), 일단이 제2 회수컵(212)에 연결되는 제2 승강축(222), 일단이 제3 회수컵(213)에 연결되는 제3 승강축(223)을 포함할 수 있다. 제1 승강축(221) 내지 제3 승강축(223)은 타단이 각각 기어박스(240)에 연결될 수 있으며, 구체적으로는 각각에 대응하는 승강부(242)에 연결될 수 있다. 전술한 바와 같이, 제1 승강축(221) 내지 제3 승강축(223)은 각각 한 쌍으로 마련될 수 있으며, 한 쌍의 승강축(220)은 서로 동기화되어 동시에 승하강함으로써 한 쌍의 승강축(220)에 연결된 회수컵(210)을 어느 한 방향으로 기울어지지 않은 상태로 승하강시킬 수 있다.When a plurality of recovery cups 210 are provided, a plurality of lifting shafts 220 may also be provided and coupled to correspond to each recovery cup 210 . For example, when the first to third recovery cups 211 to 213 are included, the lifting shaft 220 includes a first lifting shaft 221 having one end connected to the first recovery cup 211, one end A second lifting shaft 222 connected to the second recovery cup 212 and a third lifting shaft 223 having one end connected to the third recovery cup 213 may be included. The other ends of the first lifting shaft 221 to the third lifting shaft 223 may be connected to the gearbox 240, and specifically, may be connected to the lifting unit 242 corresponding to each. As described above, the first lifting shafts 221 to the third lifting shafts 223 may be provided as a pair, and the pair of lifting shafts 220 are synchronized with each other to move up and down at the same time. The recovery cup 210 connected to the shaft 220 may be moved up and down without tilting in any direction.

기어박스(240)는 기판 처리 장치의 하우징(140)에 연결되는 기어박스 하우징(241)과 그 내부 공간에 마련되는 승강부(242) 및 구동부(243)를 포함할 수 있다. 본 실시예에서 기어박스(240)는 한 쌍으로 마련되어 한 쌍의 승강축(220)에 대응하는 위치에 배치될 수 있으며, 기판 처리 장치를 측면에서 보았을 때 회수컵(210)의 아래에 배치될 수 있다. 도시하지 않았으나, 기어박스 하우징(241)은 기판 처리 장치 하우징(140)의 내부에 배치되는 것일 수 있으며, 기어박스(240)의 외관을 구성하여 내부에 승강부(242)와 구동부(243)를 포함할 수 있다. The gearbox 240 may include a gearbox housing 241 connected to the housing 140 of the substrate processing apparatus, and an elevating unit 242 and a driving unit 243 provided in an internal space thereof. In this embodiment, the gear boxes 240 are provided in pairs and may be disposed at positions corresponding to the pair of lifting shafts 220, and may be disposed below the recovery cup 210 when viewing the substrate processing apparatus from the side. can Although not shown, the gearbox housing 241 may be disposed inside the substrate processing apparatus housing 140, and configures the exterior of the gearbox 240 to include the lifting unit 242 and the driving unit 243 therein. can include

구동부(243)는 후술할 모터와 기어를 포함하여 기어박스(240) 내부에서 승강부(242)를 승하강시킬 수 있으며, 승강부(242)가 승하강함에 따라 승강부(242)에 연결된 승강축(220) 또한 승하강할 수 있게 된다. 도시하지 않았으나, 구동부(243)는 각각의 승강축(220)에 대응하도록 복수 개로 마련되는 것일 수 있다. 즉, 하나의 기어박스(240)에 대해 복수 개의 승강축(220)이 연결되는 경우, 상기 하나의 기어박스(240) 내부에 복수 개의 승강축(220)에 각각 대응하는 복수 개의 승강부(242)와 복수 개의 구동부(243)가 마련될 수 있다. 승강부(242)는 구동부(243)의 모터 및 기어에 대해 물리적으로 맞물리게 연결되어 종래 공압 실린더를 이용한 제어 대비 오차가 최소화되거나 제거된 승하강 동작을 구현할 수 있으며, 한 쌍으로 마련되는 것으로 한 쌍을 구성하는 다른 승강부(242)와의 동기화가 용이하게 구현될 수 있다. 승강부(242)와 구동부(243)의 보다 구체적인 동작에 대해서는 후술하기로 한다.The drive unit 243 includes a motor and gears to be described later to move the elevator 242 up and down inside the gearbox 240, and as the elevator 242 goes up and down, the elevator connected to the elevator 242 moves up and down. Shaft 220 is also able to move up and down. Although not shown, a plurality of driving units 243 may be provided to correspond to each of the lifting shafts 220 . That is, when a plurality of lifting shafts 220 are connected to one gearbox 240, a plurality of lifting parts 242 respectively corresponding to the plurality of lifting shafts 220 inside the one gearbox 240. ) and a plurality of driving units 243 may be provided. The lifting unit 242 is physically interlockingly connected to the motor and gear of the driving unit 243 to implement a lifting and lowering operation with minimized or eliminated errors compared to control using a conventional pneumatic cylinder, and is provided as a pair. Synchronization with the other lifting unit 242 constituting the can be easily implemented. More specific operations of the lifting unit 242 and the driving unit 243 will be described later.

도 3 및 4를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에서 기어박스를 보다 구체적으로 설명한다. 도 3 및 4에서는 기어박스(240)의 구동을 설명하기 위해 기어박스(240)에 연결되는 복수 개의 승강축(220)과 이탈방지부재(230)까지 함께 도시한 것으로, 한 쌍의 승강축(220)의 일측이 두 개의 승강축(220)으로 이루어지며, 총 세 쌍의 승강축(220)이 연결되는 기어박스(240)의 모습을 나타낸 것이다.Referring to Figures 3 and 4 will be described in more detail the gearbox in the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 3 and 4 show a plurality of lifting shafts 220 connected to the gearbox 240 and a separation preventing member 230 together to explain the driving of the gearbox 240, and a pair of lifting shafts ( 220) is made of two lifting shafts 220, and shows the appearance of the gearbox 240 to which a total of three pairs of lifting shafts 220 are connected.

도 3 및 4를 참조하면, 기어박스(240)는 기어박스 하우징(241)과 승강부(242) 및 구동부(243)를 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 3 and 4 , the gearbox 240 may include a gearbox housing 241 , an elevating unit 242 and a driving unit 243 .

기어박스 하우징(241)은 내부에 승강부(242)와 구동부(243)가 배치될 수 있는 공간을 제공한다. 기어박스 하우징(241)은 상부면의 적어도 일부가 개방된 형상을 가질 수 있으며, 상부면을 통해 기판 처리 장치의 하우징(140)에 결합될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 기어박스 하우징(241)의 일 측면에는 내부에 배치되는 승강부(242) 및 구동부(243)의 정상 동작 여부를 모니터링하기 위한 창이 마련될 수도 있다.The gearbox housing 241 provides a space in which the lifting unit 242 and the driving unit 243 can be disposed. The gear box housing 241 may have a shape in which at least a part of an upper surface is open, and may be coupled to the housing 140 of the substrate processing apparatus through the upper surface, but is not limited thereto. A window for monitoring whether the lifting unit 242 and the driving unit 243 are normally operated may be provided on one side of the gearbox housing 241 .

기어박스 하우징(241)은 구동부(243)를 내부에 수용하되, 구동부(243)의 일부는 기어박스 하우징(241)으로부터 돌출되는 것일 수 있다. 구동부(243)는 모터(2431), 모터축(2432) 및 기어(2433)를 포함할 수 있다. 도 3을 참조하면, 모터(2431)는 기어박스 하우징(241)의 일 측면을 통해 외부로 돌출되어 배치되어 외부 전원(도시하지 않음)에 연결되는 것일 수 있다.The gearbox housing 241 accommodates the driving unit 243 therein, but a part of the driving unit 243 may protrude from the gearbox housing 241 . The driving unit 243 may include a motor 2431 , a motor shaft 2432 , and a gear 2433 . Referring to FIG. 3 , the motor 2431 may protrude outward through one side of the gearbox housing 241 and be connected to an external power source (not shown).

모터(2431)는 전기에 의해 구동력을 발생시키되, 전기 신호에 따라 그 동작이 제어되는 것일 수 있다. 예를 들어, 모터(2431)는 펄스 신호에 따라 회전 방향을 제어할 수 있는 서보 모터일 수 있다. 모터(2431)는 기판 처리 장치의 높이 방향에 수직한 방향을 회전축으로 하여 모터(2431)에 연결되는 모터축(2432)을 회전시킬 수 있다. 모터축(2432)은 회전 테이블(100)의 회전축(120)과 수직한 방향에 평행하도록 배치되어 회전할 수 있다. 즉, 모터축(2432)과 승강축(220)은 서로 수직한 방향으로 배치될 수 있다. 모터축(2432)의 일단에는 모터(2431)가 연결되고, 타단에는 기어(2433)가 연결될 수 있다.The motor 2431 may generate driving force by electricity, and its operation may be controlled according to an electric signal. For example, the motor 2431 may be a servo motor capable of controlling a rotation direction according to a pulse signal. The motor 2431 may rotate a motor shaft 2432 connected to the motor 2431 using a rotation axis perpendicular to the height direction of the substrate processing apparatus. The motor shaft 2432 may be arranged and rotated parallel to a direction perpendicular to the rotation shaft 120 of the rotation table 100 . That is, the motor shaft 2432 and the elevation shaft 220 may be disposed in a direction perpendicular to each other. A motor 2431 may be connected to one end of the motor shaft 2432 and a gear 2433 may be connected to the other end.

모터(2431)는 한 쌍의 기어박스(240) 내부에 각각 마련되어 한 쌍을 구성할 수 있고, 각각이 한 쌍의 승강부(242)를 통해 한 쌍의 승강축(220)에 연결될 수 있다. 따라서, 한 쌍의 승강축(220)이 복수 개로 구성되는 경우, 승강부(242)와 모터(2431) 또한 한 쌍씩 복수 개의 쌍으로 마련되어 대응되는 승강축(220)에 각각 연결될 수 있다. 한 쌍으로 마련되는 모터(2431)는 서로 동기화되어, 모터(2431)에 연결되는 승강부(242)를 동시에 승하강시킬 수 있다. 예를 들어, 하나의 기어박스(240) 내에는 세 개의 모터(2431)가 마련될 수 있고, 각각의 모터(2431)에 연결되는 세 개의 승강부(242)가 마련될 수 있다.The motors 2431 may be provided inside the pair of gearboxes 240 to form a pair, and each may be connected to the pair of lift shafts 220 through the pair of lift units 242 . Therefore, when a pair of lifting shafts 220 are configured in plurality, the lifting unit 242 and the motor 2431 may also be provided in a plurality of pairs, respectively, and connected to the corresponding lifting shafts 220 . The motors 2431 provided as a pair are synchronized with each other, so that the elevation unit 242 connected to the motors 2431 can be simultaneously moved up and down. For example, three motors 2431 may be provided in one gearbox 240, and three lifting parts 242 connected to each motor 2431 may be provided.

도 4는 도 3의 AA'로 표시한 가상의 선에 따른 기어박스(240)의 단면도이다. 기어(2433)는 모터축(2432)을 통해 모터(2431)에 연결되며, 모터(2431)로부터 전달받는 동력을 승강축(220)으로 전달할 수 있다. 구체적으로, 기어(2433)는 모터축(2432)으로부터 회전력을 전달받아 그 방향을 전환하여 승강부(242)의 승하강에 필요한 동력으로 전달할 수 있는 수단을 의미하며, 기어(2433)는 베벨 기어, 랙/피니언 기어 또는 웜 기어일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.FIG. 4 is a cross-sectional view of the gearbox 240 taken along an imaginary line indicated by AA' in FIG. 3 . The gear 2433 is connected to the motor 2431 through the motor shaft 2432 and may transmit power received from the motor 2431 to the elevation shaft 220 . Specifically, the gear 2433 refers to a means capable of receiving rotational force from the motor shaft 2432 and converting the direction thereof into power necessary for the elevation and descent of the elevation unit 242, and the gear 2433 is a bevel gear. , may be a rack / pinion gear or a worm gear, but is not limited thereto.

승강부(242)는 스크류(2421), 너트(2422, 2424) 및 승강판(2423)을 포함할 수 있다. 기어(2433)는 일단이 모터축(2432)에 연결되고, 타단이 승강부(242)의 스크류(2421)에 연결되어 모터축(2432)의 동력을 스크류(2421)로 전달하여 스크류(2421)를 회전시킬 수 있다. 스크류(2421)는 기어(2433)를 통해 모터(2431)에 연결되는 것으로, 모터축(2432)에 대한 수직축을 중심으로 회전할 수 있다. 스크류(2421)는 기어(2433)로부터 기판 처리 장치의 높이 방향을 따라 연장되어 형성되되, 기어박스 하우징(241)의 높이까지 연장되는 것일 수 있다. 도시하지 않았으나, 스크류(2421)는 그 외주면에 형성되는 나사산을 포함할 수 있으며, 승강판(2423)과 너트(2422, 2424)는 스크류(2421) 외주면의 나사산에 대해 나사 결합할 수 있다.The elevation part 242 may include a screw 2421 , nuts 2422 and 2424 , and an elevation plate 2423 . The gear 2433 has one end connected to the motor shaft 2432 and the other end connected to the screw 2421 of the elevation part 242 to transmit the power of the motor shaft 2432 to the screw 2421 so that the screw 2421 can be rotated. The screw 2421 is connected to the motor 2431 through a gear 2433 and can rotate about a vertical axis with respect to the motor shaft 2432 . The screw 2421 is formed to extend from the gear 2433 along the height direction of the substrate processing apparatus, and may extend to the height of the gear box housing 241 . Although not shown, the screw 2421 may include a screw thread formed on its outer circumferential surface, and the lifting plate 2423 and the nuts 2422 and 2424 may be screwed to the screw thread on the outer circumferential surface of the screw 2421.

너트(2422, 2424)는 스크류(2421)에서 승강판(2423)의 위치를 기준으로 상부너트(2422)와 하부너트(2424) 중 하나 이상을 포함할 수 있으며, 상부너트(2422)와 하부너트(2424) 각각 또는 이들 모두는 승강판(2423)과 인접하거나 접촉하도록 배치되어 승강판(2423)의 회전을 억제한다. 이러한 경우, 스크류(2421)가 회전하더라도 승강판(2423)은 스크류(2421)와 함께 회전하지 않고 나사산을 따라 이동하게 되어 기판 처리 장치의 높이 방향을 기준으로 승하강할 수 있게 된다.The nuts 2422 and 2424 may include one or more of an upper nut 2422 and a lower nut 2424 based on the position of the lift plate 2423 in the screw 2421, and the upper nut 2422 and the lower nut Each or both of 2424 are disposed adjacent to or in contact with the lifting plate 2423 to suppress rotation of the lifting plate 2423. In this case, even if the screw 2421 rotates, the lifting plate 2423 does not rotate together with the screw 2421 but moves along the screw thread, so that it can move up and down based on the height direction of the substrate processing apparatus.

승강판(2423)은 스크류(2421)에 대해 수직 방향으로 연장되는 판 형상의 부재일 수 있으며, 중앙에 마련되는 개구(도시하지 않음)를 통해 스크류(2421)에 나사 결합하는 것일 수 있다. 승강판(2423)에서 상기 개구의 옆에는 승강축(220)이 연결될 수 있으며, 스크류(2421)의 회전축과 승강축(220)은 서로 평행하게 배치될 수 있다. 바람직하게는, 스크류(2421)의 회전축과 승강축(220)은 동일한 평면 상에 나란히 배치되는 것일 수 있다.The lifting plate 2423 may be a plate-shaped member extending in a direction perpendicular to the screw 2421, and may be screwed to the screw 2421 through an opening (not shown) provided in the center. An elevation shaft 220 may be connected to the side of the opening in the elevation plate 2423, and the rotation axis of the screw 2421 and the elevation shaft 220 may be disposed parallel to each other. Preferably, the rotation shaft and the elevation shaft 220 of the screw 2421 may be disposed side by side on the same plane.

바람직하게는, 한 쌍의 승강축(220)은 회수컵(210)의 일측에 연결되는 두 개의 승강축(220)과, 상기 일측에 대향하는 타측에 연결되는 두 개의 승강축(220)으로 이루어지는 것일 수 있으며, 회수컵(210)의 일측에 연결되는 두 개의 승강축(220)이 상기 개구를 사이에 두고 승강판(2423)에 연결될 수 있다. 이러한 경우, 스크류(2421)에 대해 나사 결합하는 승강판(2423)은 항상 스크류(2421)에 대해 수직, 기판 처리 장치가 배치되는 지면에 대해 수평을 유지하면서 두 개의 승강축(220)을 안정적으로 지지할 수 있고, 두 개의 승강축(220)이 회수컵(210)의 일축을 지지하여 회수컵(210)의 균형을 유지하면서 승하강할 수 있게 된다. 즉, 기어박스(240)는 승강부(242)의 스크류(2421)에 대한 승강판(2423)의 상대적 높이를 조절하게 되며, 승강판(2423)이 스크류(2421)의 길이 방향을 따라 승하강함에 따라 승강판(2423)에 연결된 하나 이상의 승강축(220) 또한 승하강하여 최종적으로 회수컵(210)을 승하강시키게 된다. Preferably, the pair of lift shafts 220 are composed of two lift shafts 220 connected to one side of the recovery cup 210 and two lift shafts 220 connected to the other side opposite to the one side. Two lift shafts 220 connected to one side of the recovery cup 210 may be connected to the lift plate 2423 with the opening therebetween. In this case, the lifting plate 2423 screwed to the screw 2421 is always perpendicular to the screw 2421 and the two lifting shafts 220 are stably maintained horizontally with respect to the ground on which the substrate processing apparatus is placed. The two lifting shafts 220 support one shaft of the recovery cup 210 so that the recovery cup 210 can move up and down while maintaining its balance. That is, the gear box 240 adjusts the relative height of the lift plate 2423 with respect to the screw 2421 of the lift unit 242, and the lift plate 2423 moves up and down along the longitudinal direction of the screw 2421. Accordingly, one or more lifting shafts 220 connected to the lifting plate 2423 also move up and down to finally move the recovery cup 210 up and down.

이상과 같은 설명과 도 1 및 도 5 내지 7을 참조하여, 본 실시예에 따른 기판 처리 장치에서 처리액 회수부의 거동을 보다 구체적으로 설명한다.With reference to the above description and FIGS. 1 and 5 to 7 , the behavior of the treatment liquid recovery unit in the substrate processing apparatus according to the present embodiment will be described in more detail.

본 실시예에 따른 기판 처리 장치의 처리액 회수부(200)는 제1 회수컵(211), 제2 회수컵(212), 제3 회수컵(213)과 각각의 회수컵(210)에 연결되는 세 쌍의 승강축(220)을 포함할 수 있다. 한 쌍의 승강축(220)은 일단이 회수컵(210)의 일측과 상기 일측에 대향하는 타측에 각각 연결될 수 있으며, 타단이 한 쌍의 기어박스(240)에 각각 연결될 수 있다. 승강축(220)이 세 쌍으로 마련됨에 따라, 한 쌍의 기어박스(240) 내부에 총 세 쌍의 승강부(242)와 구동부(243)가 마련되어 대응하는 승강축(220)에 연결될 수 있다. 한 쌍의 구동부(243)는 서로 동기화되어 작동하되, 세 쌍의 구동부(243)의 작동이 전체로서 제어될 수 있다.The processing liquid recovery unit 200 of the substrate processing apparatus according to the present embodiment is connected to the first recovery cup 211, the second recovery cup 212, the third recovery cup 213, and each recovery cup 210. It may include three pairs of lifting shafts 220 to be. One end of the pair of lifting shafts 220 may be connected to one side of the recovery cup 210 and the other side opposite to the one side, and the other end may be connected to the pair of gearboxes 240, respectively. As the lifting shafts 220 are provided in three pairs, a total of three pairs of lifting parts 242 and driving parts 243 are provided inside the pair of gearboxes 240 and can be connected to the corresponding lifting shafts 220. . The pair of driving units 243 operate in synchronization with each other, but the operation of the three pairs of driving units 243 may be controlled as a whole.

도 1에서와 같이, 기판 처리 장치의 처리액 회수부(200)는 최초 회수컵(210)이 모두 하강한 상태를 유지할 수 있다. 회전 테이블(100)의 척핀(110)에 기판(S)이 배치되어 도 5 내지 7과 같은 상태가 될 수 있다. 이하에서는, 도 5부터 7의 순서로 설명하지만 기판 처리 동작이 이에 한정되는 것은 아니며 도 5 내지 7에 도시된 상태의 다양한 조합에 따라 동작할 수 있다.As shown in FIG. 1 , the processing liquid recovery unit 200 of the substrate processing apparatus may maintain a state in which all of the initial recovery cups 210 are lowered. The substrate S may be placed on the chuck pin 110 of the rotation table 100 to be in a state as shown in FIGS. 5 to 7 . Hereinafter, although described in order of FIGS. 5 to 7 , the substrate processing operation is not limited thereto and may operate according to various combinations of states shown in FIGS. 5 to 7 .

도 5를 참조하면, 기판 처리 장치에 기판(S)이 배치된 후, 제1 회수컵 내지 제3 회수컵(211~213)이 모두 상승할 수 있다. 세 쌍의 구동부(243)를 모두 구동하여 세 쌍의 승강부(242)가 상승할 수 있고, 이에 따라 세 쌍의 승강축(221~223)과 회수컵(211~213)이 회전 테이블(100)에 대해 모두 상승한 상태를 유지할 수 있다. 회전 테이블(100)의 중심에서 회전 테이블(100)의 외측 방향을 바라볼 때, 제1 회수컵(211)의 처리액을 저장하기 위한 내부 공간만이 개방되고, 제2 회수컵(212) 및 제3 회수컵(213)의 내부 공간은 제1 회수컵(211)에 의해 차폐될 수 있다. 이러한 상태에서, 처리액 공급부(도시하지 않음)를 통해 제1 처리액이 기판(S)의 표면에 분사되면, 제1 처리액은 기판(S) 및 회전 테이블(100)의 표면을 따라 흘러 제1 회수컵(211)의 내부 공간으로 유입된다.Referring to FIG. 5 , after the substrate S is disposed in the substrate processing apparatus, all of the first to third recovery cups 211 to 213 may rise. By driving all three pairs of driving units 243, the three pairs of lift units 242 can be raised, and accordingly, the three pairs of lift shafts 221 to 223 and the recovery cups 211 to 213 are moved to the rotary table 100. ) can remain elevated for all. When looking toward the outside of the rotary table 100 from the center of the rotary table 100, only the inner space for storing the treatment liquid of the first recovery cup 211 is open, and the second recovery cup 212 and The inner space of the third recovery cup 213 may be shielded by the first recovery cup 211 . In this state, when the first treatment liquid is sprayed onto the surface of the substrate S through a treatment liquid supply unit (not shown), the first treatment liquid flows along the surface of the substrate S and the rotary table 100 to remove 1 flows into the inner space of the recovery cup 211.

도 6을 참조하면, 제1 처리액의 분사를 마친 후, 제2 회수컵(212)과 제3 회수컵(213)은 상승한 상태를 유지하고, 제1 회수컵(211)은 하강할 수 있다. 제1 회수컵(211)에 연결된 한 쌍의 구동부(243)만을 구동하여 회전 테이블(100) 및 기판(S)이 완전히 노출될 때까지 제1 회수컵(211)을 하강시킬 수 있다. 회전 테이블(100)의 중심에서 회전 테이블(100)의 외측 방향을 바라볼 때, 제2 회수컵(212)의 처리액을 저장하기 위한 내부 공간만이 개방되고, 제3 회수컵(213)의 내부 공간은 제2 회수컵(212)에 의해 차폐될 수 있다. 이러한 상태에서, 처리액 공급부를 통해 제2 처리액이 기판(S)의 표면에 분사되면, 제2 처리액은 기판(S), 회전 테이블(100) 및 제1 회수컵(211)의 외부 표면을 따라 흘러 제2 회수컵(212)의 내부 공간으로 유입된다.Referring to FIG. 6 , after the injection of the first treatment liquid is finished, the second recovery cup 212 and the third recovery cup 213 maintain an elevated state, and the first recovery cup 211 may descend. . The first recovery cup 211 may be lowered until the rotation table 100 and the substrate S are completely exposed by driving only the pair of drive units 243 connected to the first recovery cup 211 . When looking toward the outside of the rotary table 100 from the center of the rotary table 100, only the inner space for storing the treatment liquid of the second recovery cup 212 is open, and the third recovery cup 213 The inner space may be shielded by the second recovery cup 212 . In this state, when the second treatment liquid is sprayed onto the surface of the substrate S through the treatment liquid supply unit, the second treatment liquid is applied to the outer surfaces of the substrate S, the rotary table 100, and the first recovery cup 211. It flows along and flows into the inner space of the second recovery cup 212 .

도 7을 참조하면, 제2 처리액의 분사를 마친 후, 제3 회수컵(213)은 상승한 상태를 유지하고, 제2 회수컵(212)은 하강할 수 있다. 제2 회수컵(212)에 연결된 한 쌍의 구동부(243)만을 구동하여 회전 테이블(100) 및 기판(S)이 완전히 노출될 때까지 제2 회수컵(212)을 하강시킬 수 있다. 제2 회수컵(212)이 제2 처리액을 저장하기 위한 내부 공간을 제공하고, 제3 회수컵(213)이 제3 처리액을 저장하기 위한 내부 공간을 제공하는 경우, 회전 테이블(100)의 중심에서 회전 테이블(100)의 외측 방향을 바라볼 때, 제3 회수컵(213)의 처리액을 저장하기 위한 내부 공간만이 개방될 수 있다. 이러한 상태에서, 처리액 공급부를 통해 제3 처리액이 기판(S)의 표면에 분사되면, 제3 처리액은 기판(S), 회전 테이블(100) 및 제2 회수컵(212)의 외부 표면을 따라 흘러 제2 회수컵(212) 또는 제3 회수컵(213)의 내부 공간으로 유입된다.Referring to FIG. 7 , after the injection of the second treatment liquid is finished, the third recovery cup 213 may remain elevated, and the second recovery cup 212 may descend. The second recovery cup 212 may be lowered until the rotary table 100 and the substrate S are completely exposed by driving only the pair of drive units 243 connected to the second recovery cup 212 . When the second recovery cup 212 provides an inner space for storing the second treatment liquid and the third recovery cup 213 provides an inner space for storing the third treatment liquid, the rotary table 100 When looking at the outer direction of the rotary table 100 from the center of , only the inner space for storing the treatment liquid of the third recovery cup 213 can be opened. In this state, when the third treatment liquid is sprayed onto the surface of the substrate S through the treatment liquid supply unit, the third treatment liquid is applied to the outer surfaces of the substrate S, the rotary table 100, and the second recovery cup 212. It flows along and flows into the inner space of the second recovery cup 212 or the third recovery cup 213.

다시 도 1을 참조하면, 제3 처리액의 분사를 마친 후, 제3 회수컵(213)까지 하강하여 모든 회수컵(210)이 하강된 상태를 유지할 수 있다. 처리된 기판(S)은 회전 테이블(100)로부터 제거될 수 있으며, 처리가 필요한 새로운 기판이 배치되어 전술한 과정을 반복 수행할 수 있다.Referring back to FIG. 1 , after the injection of the third treatment liquid is finished, it descends to the third recovery cup 213 and all the recovery cups 210 may remain in a descended state. The processed substrate S may be removed from the rotation table 100, and a new substrate to be processed may be placed and the above-described process may be repeated.

이상과 같은 본 실시예에 따른 기판 처리 장치는 승하강이 가능한 회수컵을 구비하는 처리액 회수부를 포함하여 기판 처리에 사용된 처리액을 회수할 수 있는 것으로, 종래 공압 실린더 대신 모터를 이용하여 회수컵의 높이를 보다 정밀하게 제어할 수 있으며 반복 사용하더라도 오차가 발생하지 않거나 오차 보정을 용이하게 할 수 있다.As described above, the substrate processing apparatus according to the present embodiment includes a processing liquid recovery unit having a recovery cup capable of lifting and lowering, and can recover the processing liquid used in substrate processing, using a motor instead of a conventional pneumatic cylinder. The height of the cup can be controlled more precisely, and errors do not occur even when used repeatedly, or errors can be easily corrected.

구체적으로, 기판 처리 장치는 하나의 회수컵 양측에 한 쌍의 승강축을 연결하고, 각 승강축은 서로 동기화된 한 쌍의 모터에 의해 승하강하도록 구성하여 회수컵의 균형을 유지하면서 원하는 높이로 조절할 수 있게 된다. 이때, 기판 처리 장치는 기어를 통해 모터에 대해 기계적으로 연결되는 스크류 및 스크류에 나사 결합하여 승하강이 가능한 승강부를 구비하여, 한 쌍의 모터가 서로 용이하게 동기화되는 것일 수 있다.Specifically, the substrate processing apparatus connects a pair of lift shafts to both sides of one recovery cup, and each lift shaft is configured to move up and down by a pair of motors synchronized with each other, so that the recovery cup can be adjusted to a desired height while maintaining balance. there will be In this case, the substrate processing apparatus may include a screw that is mechanically connected to the motor through a gear, and a lift part screwed to the screw to move up and down, so that the pair of motors may be easily synchronized with each other.

또한, 기판 처리 장치는 복수 개의 회수컵과 이에 대응하는 여러 쌍의 모터를 구비하여 복수 개의 처리액이 서로 혼합되지 않도록 정밀한 제어를 구현할 수 있다.In addition, the substrate processing apparatus may include a plurality of recovery cups and corresponding pairs of motors to implement precise control so that the plurality of treatment liquids are not mixed with each other.

본 발명은 상기에서 설명한 실시예로 한정되지 않으며, 상기 실시예들의 조합 또는 상기 실시예 중 적어도 어느 하나와 공지 기술의 조합을 또 다른 실시예로서 포함할 수 있음은 물론이다.Of course, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and may include a combination of the above embodiments or a combination of at least one of the above embodiments and known technology as another embodiment.

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다.Although the present invention has been described in detail through specific examples, this is for explaining the present invention in detail, the present invention is not limited thereto, and within the technical spirit of the present invention, by those skilled in the art It will be clear that the modification or improvement is possible.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.All simple modifications or changes of the present invention fall within the scope of the present invention, and the specific protection scope of the present invention will be clarified by the appended claims.

100: 회전 테이블 110: 척핀
120: 회전축 130: 회전 구동부
140: 하우징 200: 처리액 회수부
210: 회수컵 211: 제1 회수컵
212: 제2 회수컵 213: 제3 회수컵
220: 승강축 221: 제1 승강축
222: 제2 승강축 223: 제3 승강축
230: 이탈방지부재 240: 기어박스
241: 기어박스 하우징 242: 승강부
2421: 스크류 2422: 상부너트
2423: 승강판 2424: 하부너트
243: 구동부 2431: 모터
2432: 모터축 2433: 기어
S: 기판
100: rotary table 110: chuck pin
120: rotation shaft 130: rotation drive unit
140: housing 200: treatment liquid recovery unit
210: recovery cup 211: first recovery cup
212: second recovery cup 213: third recovery cup
220: lifting shaft 221: first lifting shaft
222: second lifting shaft 223: third lifting shaft
230: departure prevention member 240: gearbox
241: gearbox housing 242: lifting part
2421: screw 2422: upper nut
2423: lifting plate 2424: lower nut
243: driving unit 2431: motor
2432: motor shaft 2433: gear
S: substrate

Claims (8)

기판을 지지하며 회전하는 회전 테이블과 상기 기판에 분사되는 처리액을 회수하는 처리액 회수부가 배치되는 하우징을 구비하는 기판 처리 장치로서,
상기 처리액 회수부는,
상기 회전 테이블의 외측에 배치되며, 내부에 처리액을 회수하기 위한 공간을 제공하는 회수컵;
상기 회수컵에 연결되는 한 쌍의 승강축; 및
상기 승강축 각각에 연결되는 한 쌍의 기어박스를 포함하며,
상기 한 쌍의 승강축은,
상기 회수컵의 일측에 연결되는 두 개의 승강축과, 상기 일측에 대향하는 타측에 연결되는 두 개의 승강축으로 이루어지고,
상기 한 쌍의 기어박스는,
서로 동기화되어 상기 한 쌍의 승강축을 동시에 승하강시킴으로써 상기 회전 테이블에 대한 상기 회수컵의 상대적인 높이를 조절하며,
상기 회수컵은,
상기 회전 테이블을 감싸도록 마련되는 제1 회수컵, 상기 제1 회수컵의 외측에 마련되어 상기 제1 회수컵을 감싸도록 마련되는 제2 회수컵, 및 상기 제2 회수컵의 외측에 마련되어 상기 제2 회수컵을 감싸도록 마련되는 제3 회수컵을 포함하고,
상기 승강축은,
일단이 상기 제1 회수컵에 연결되는 제1 승강축, 일단이 상기 제2 회수컵에 연결되는 제2 승강축, 및 일단이 상기 제3 회수컵에 연결되는 제3 승강축을 포함하며,
상기 제1 승강축, 상기 제2 승강축 및 상기 제3 승강축은 상기 회수컵의 일측 및 타측에 나란하게 배치되는 것인, 기판 처리 장치.
A substrate processing apparatus having a housing in which a rotary table rotating while supporting a substrate and a processing liquid recovery unit for recovering a processing liquid sprayed on the substrate are disposed,
The treatment liquid recovery unit,
a recovery cup disposed outside the rotation table and providing a space for recovering the treatment liquid therein;
a pair of lifting shafts connected to the recovery cup; and
It includes a pair of gearboxes connected to each of the lifting shafts,
The pair of lifting shafts,
It consists of two lifting shafts connected to one side of the recovery cup and two lifting shafts connected to the other side opposite to the one side,
The pair of gearboxes,
Adjusting the relative height of the recovery cup with respect to the rotary table by simultaneously lifting and lowering the pair of lifting shafts in synchronization with each other;
The recovery cup,
A first recovery cup provided to surround the rotary table, a second recovery cup provided outside the first recovery cup and provided to surround the first recovery cup, and a second recovery cup provided outside the second recovery cup. Including a third recovery cup provided to surround the recovery cup;
The lifting shaft is
a first lifting shaft having one end connected to the first recovery cup, a second lifting shaft having one end connected to the second recovery cup, and a third lifting shaft having one end connected to the third recovery cup;
Wherein the first lifting shaft, the second lifting shaft and the third lifting shaft are disposed side by side on one side and the other side of the recovery cup.
제 1 항에 있어서,
상기 회수컵은,
상부면이 개방되며, 상기 승강축이 완전히 하강되면 상기 처리액을 회수하지 않는 것인, 기판 처리 장치.
According to claim 1,
The recovery cup,
The upper surface is opened and the processing liquid is not recovered when the lifting shaft is completely lowered.
제 1 항에 있어서,
상기 승강축은,
일단이 상기 회수컵의 하부면에 연결되며, 타단이 상기 기어박스의 상부면에 연결되는 것인, 기판 처리 장치.
According to claim 1,
The lifting shaft is
One end is connected to the lower surface of the recovery cup, and the other end is connected to the upper surface of the gear box.
제 3 항에 있어서,
상기 회수컵은,
상기 공간에 회수된 처리액을 배출하기 위한 회수 홀을 포함하며,
상기 승강축과 상기 회수 홀은,
상기 회수컵의 하부면에서 서로 어긋난 위치에 배치되는 것인, 기판 처리 장치.
According to claim 3,
The recovery cup,
A recovery hole for discharging the treatment liquid recovered in the space;
The lifting shaft and the recovery hole,
The substrate processing apparatus that is disposed at a position shifted from each other on the lower surface of the recovery cup.
제 1 항에 있어서,
상기 한 쌍의 기어박스는,
상기 일측에 연결되는 두 개의 승강축을 동시에 승하강시키는 기어박스와, 상기 타측에 연결되는 두 개의 승강축을 동시에 승하강시키는 기어박스로 이루어지는 것인, 기판 처리 장치.
According to claim 1,
The pair of gearboxes,
A substrate processing apparatus comprising a gearbox for simultaneously lifting and lowering two lifting shafts connected to one side and a gearbox for simultaneously lifting and lowering two lifting shafts connected to the other side.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 기어박스는,
구동력을 발생시키는 모터;
기어를 통해 상기 모터에 연결되며, 상기 모터의 회전축에 대해 수직인 회전축을 중심으로 회전하는 스크류;
상기 스크류에 나사 결합되며, 상기 승강축의 타단이 연결되는 승강판; 및
상기 승강판의 회전을 억제하는 너트를 포함하며,
상기 스크류에 대한 상기 승강판의 상대적 높이를 조절하여 상기 승강축을 승하강시키는 것인, 기판 처리 장치.
According to claim 1,
The gearbox,
a motor that generates a driving force;
a screw connected to the motor through a gear and rotating about a rotational axis perpendicular to the rotational axis of the motor;
an elevation plate screwed to the screw and to which the other end of the elevation shaft is connected; and
A nut for suppressing rotation of the elevation plate,
The substrate processing apparatus, wherein the lifting shaft is moved up and down by adjusting a relative height of the lift plate with respect to the screw.
제 7 항에 있어서,
상기 스크류의 회전축과 상기 승강축은 서로 평행하게 배치되는 것인, 기판 처리 장치.
According to claim 7,
The rotation axis and the elevation axis of the screw are disposed parallel to each other, the substrate processing apparatus.
KR1020210052864A 2021-04-23 2021-04-23 Substrate processing apparatus KR102523645B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210052864A KR102523645B1 (en) 2021-04-23 2021-04-23 Substrate processing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210052864A KR102523645B1 (en) 2021-04-23 2021-04-23 Substrate processing apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220146051A KR20220146051A (en) 2022-11-01
KR102523645B1 true KR102523645B1 (en) 2023-04-20

Family

ID=84042262

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210052864A KR102523645B1 (en) 2021-04-23 2021-04-23 Substrate processing apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102523645B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012044213A (en) * 2011-10-26 2012-03-01 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing apparatus
JP2013051265A (en) 2011-08-30 2013-03-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Elevating unit and substrate processing device
JP2019106560A (en) 2019-04-09 2019-06-27 株式会社Screenホールディングス Substrate processing device and substrate processing method
JP2020188289A (en) 2015-12-28 2020-11-19 東京エレクトロン株式会社 Substrate processing apparatus and substrate processing method

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200177295Y1 (en) * 1997-09-27 2000-04-15 김영환 Apparatus for controlling catchcup-height of developer in semiconductor

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013051265A (en) 2011-08-30 2013-03-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Elevating unit and substrate processing device
JP2012044213A (en) * 2011-10-26 2012-03-01 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing apparatus
JP2020188289A (en) 2015-12-28 2020-11-19 東京エレクトロン株式会社 Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2019106560A (en) 2019-04-09 2019-06-27 株式会社Screenホールディングス Substrate processing device and substrate processing method

Also Published As

Publication number Publication date
KR20220146051A (en) 2022-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102523645B1 (en) Substrate processing apparatus
CN111002217A (en) Leveling mounting frame and sheet bearing device
JP3977767B2 (en) Substrate processing equipment
KR101043796B1 (en) The device for separation a sheet to solar cell wafer
CN103031514A (en) Shielding device, PVD device with the shielding device and control method of PVD device
KR20230158829A (en) Substrate Processing Apparatus
CN103806095A (en) Planetary rotary tray device
CN210968883U (en) Sucker manipulator for moving articles
CN210084380U (en) Plate discharging structure of medicine plate
CN114834864B (en) Intelligent automatic transmission service system for equipment transmission
CN115533722A (en) Semiconductor wafer double-side polishing equipment and process
CN114939509A (en) Automatic gluing device and method for semiconductor silicon wafer
KR20150008297A (en) Going up and down apparatus and apparatus for transferring substrate
CN113275087A (en) Novel high-efficient grinding device
CN209766377U (en) Pick up brilliant machine and carry a dish and carry platform positioning mechanism
CN210028039U (en) Cup-falling buckle cover device
CN114981552B (en) Method of performing an operation on a container assembly and container assembly
CN217797347U (en) Sieving mechanism is used in rice processing
CN216104860U (en) Feeding and discharging frame for end cover machining
CN219553600U (en) Full-automatic sheet discharging machine
CN218427136U (en) Be used for digit control machine tool loading attachment
CN217426691U (en) Liquid recovery module and single wafer processing apparatus
CN213002292U (en) Feeding device and feeding system thereof
CN217933723U (en) SMIF wafer box wafer sensing device
KR20050086268A (en) Apparatus for manufacturing fpd

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right