KR102515877B1 - Sheet for work processing and manufacturing method of processed work - Google Patents

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Abstract

기재, 및 상기 기재에서 한쪽면 측에 적층된 점착제층을 구비하는 워크 가공용 시트로서, 상기 점착제층이, 활성에너지선 경화성 점착제로 구성되어 있고, 상기 점착제층에서 상기 기재와는 반대 측의 면에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R0이, 28원자% 이하이고, 상기 점착제층 내의 위치 중에, 상기 점착제층에서 상기 기재와는 반대 측의 면으로부터 깊이 100 nm의 위치에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R100이, 20원자% 이상 29원자% 이하인 것을 특징으로 하는 워크 가공용 시트. 이러한 워크 가공용 시트는, 가공 후의 워크에 부착한 점착제층으로부터 유래하는 점착제를 흐르는 물에 의해서 양호하게 제거할 수 있는 동시에, 가공 후의 워크를 양호하게 분리할 수 있다.A sheet for work processing comprising a base material and an adhesive layer laminated on one side of the base material, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is composed of an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, and the pressure-sensitive adhesive layer is formed on a surface opposite to the base material. The oxygen atom ratio R 0 measured by X-ray photoelectron spectroscopy is 28 atomic% or less, and among positions in the pressure-sensitive adhesive layer, X-ray photoelectrons are located at a depth of 100 nm from the surface opposite to the base material in the pressure-sensitive adhesive layer. A workpiece processing sheet characterized in that the oxygen atom ratio R 100 measured by spectroscopic analysis is 20 atomic% or more and 29 atomic% or less. In such a workpiece processing sheet, the pressure-sensitive adhesive derived from the pressure-sensitive adhesive layer adhered to the processed workpiece can be satisfactorily removed with running water, and the processed workpiece can be satisfactorily separated.

Description

워크 가공용 시트 및 가공된 워크의 제조방법Sheet for work processing and manufacturing method of processed work

본 발명은, 다이싱에 적합하게 사용할 수 있는 워크 가공용 시트, 및 상기 워크 가공용 시트를 이용한 가공된 워크의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a workpiece processing sheet that can be suitably used for dicing, and a method for producing a processed workpiece using the workpiece processing sheet.

실리콘, 갈륨 비소 등의 반도체 웨이퍼 및 각종 패키지류(이하, 이것들을 종합해 「피절단물」이라고 기재하는 경우가 있다.)는, 대경(大徑) 상태로 제조되고, 이들은 소자 소편(小片)(이하, 「칩」이라고 기재하는 경우가 있다.)으로 분리(다이싱)되는 동시에 개개로 분리(픽업)된 후에, 다음의 공정인 마운트 공정으로 옮겨진다. 이 때, 반도체 웨이퍼 등의 피절단물은, 기재 및 점착제층을 구비하는 워크 가공용 시트에 첩착(貼着)된 상태로, 다이싱, 세정, 건조, 익스펜딩, 픽업 및 마운팅의 각 공정에 제공된다.Semiconductor wafers such as silicon and gallium arsenide and various packages (hereinafter, collectively referred to as "objects to be cut") are manufactured in a large-diameter state, and these are element pieces. (Hereinafter, it may be described as “chip”.) After being separated (diced) and individually separated (picked up), it is moved to the next step, the mounting step. At this time, the object to be cut, such as a semiconductor wafer, is provided to each step of dicing, washing, drying, expanding, picking up, and mounting in a state of being adhered to a sheet for work processing including a base material and an adhesive layer do.

상술한 다이싱 공정에서는, 회전하는 다이싱 블레이드와 피절단물이나 워크 가공용 시트의 사이에 생기는 마찰열에 의해, 다이싱 블레이드, 피절단물 및 워크 가공용 시트가 가열된다. 또한, 다이싱 공정에서는, 피절단물이나 워크 가공용 시트로부터 절삭편이 생겨 이것이 칩에 부착하는 경우가 있다.In the dicing process described above, the dicing blade, the object to be cut, and the sheet for processing the workpiece are heated by frictional heat generated between the rotating dicing blade and the sheet for processing the workpiece or the object to be cut. Also, in the dicing process, there are cases in which cutting fragments are generated from the object to be cut or the workpiece processing sheet and adhere to the chips.

이 때문에, 다이싱 공정을 행할 때, 통상, 절단 부분에 흐르는 물을 공급하여, 다이싱 블레이드 등을 냉각하는 동시에, 생긴 절삭편을 칩으로부터 제거하는 것이 행해진다.For this reason, when performing a dicing process, it is normally performed to cool the dicing blade etc. by supplying flowing water to the cutting part, and to remove the generated cutting fragments from the chips.

특허문헌 1에는, 이러한 흐르는 물에 의한 절삭편의 제거를 촉진하는 목적으로, 자외선 조사 전의 점착제층에서의 기재와 반대 측의 면의, 순수에 대한 접촉각이 82° ~ 114°이고, 또한, 요오드화 메틸렌에 대한 접촉각이 44° ~ 64°인 동시에, 자외선 조사 전의 점착제층에서의, 프로브 택 시험의 피크값이 294 ~ 578 kPa인 워크 가공용 시트가 개시되어 있다.In Patent Literature 1, for the purpose of promoting the removal of cutting chips by such running water, the contact angle of the surface opposite to the base material in the pressure-sensitive adhesive layer before ultraviolet irradiation with pure water is 82 ° to 114 °, and further, methylene iodide A workpiece processing sheet having a contact angle of 44° to 64° and a peak value of a probe tack test of 294 to 578 kPa in an adhesive layer before irradiation with ultraviolet rays is disclosed.

특허문헌 1:일본 특허 제5019657호Patent Document 1: Japanese Patent No. 5019657

그렇지만, 특허문헌 1에 개시되는 종래의 워크 가공용 시트를 사용하여 다이싱 공정을 행하는 경우, 워크 가공용 시트의 점착제층으로부터 유래하는 점착제를, 가공 후의 워크로부터 충분히 제거할 수 없었다.However, when the dicing process is performed using the conventional workpiece processing sheet disclosed in Patent Literature 1, the adhesive derived from the adhesive layer of the workpiece processing sheet cannot be sufficiently removed from the processed workpiece.

또한, 일반적으로, 픽업 공정에서 칩을 워크 가공용 시트로부터 분리할 때에는 과도한 힘을 필요로 하지 않고 분리할 수 있어, 이것에 의해 칩의 파손 등의 결함이 생기지 않는 것이 요구된다.Further, in general, when separating chips from the sheet for work processing in the pick-up process, it is required that chips can be separated without excessive force, thereby preventing defects such as chip breakage.

본 발명은, 이러한 실상을 감안하여 이루어진 것으로, 가공 후의 워크에 부착한, 점착제층으로부터 유래하는 점착제를, 흐르는 물에 의해서 양호하게 제거할 수 있는 동시에 가공 후의 워크를 양호하게 분리할 수 있는 워크 가공용 시트, 및 상기 워크 가공용 시트를 이용한 가공된 워크의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of such an actual situation, and is for processing workpieces in which the adhesive derived from the adhesive layer adhering to the workpiece after processing can be satisfactorily removed with running water and the workpiece after processing can be separated satisfactorily. It is an object of the present invention to provide a sheet and a method for manufacturing a processed work using the sheet for processing the work.

상기 목적을 달성하기 위해서, 제1의 본 발명은, 기재, 및 상기 기재에서 한쪽면 측에 적층된 점착제층을 구비하는 워크 가공용 시트로서, 상기 점착제층이 활성 에너지선 경화성 점착제로 구성되어 있고, 상기 점착제층에서 상기 기재와는 반대 측의 면에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R0이 28원자% 이하이고, 상기 점착제층 내의 위치 중에, 상기 점착제층에서 상기 기재와는 반대 측의 면으로부터 깊이 100 nm의 위치에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R100이, 20원자% 이상 29원자% 이하인 것을 특징으로 하는 워크 가공용 시트를 제공한다(발명 1).In order to achieve the above object, the first invention of the present invention is a sheet for work processing comprising a base material and an adhesive layer laminated on one side of the base material, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is composed of an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, In the pressure-sensitive adhesive layer, the oxygen atom ratio R 0 measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the side opposite to the base material is 28 atomic% or less, and in a position in the pressure-sensitive adhesive layer, on the side opposite to the base material in the pressure-sensitive adhesive layer. A sheet for work processing characterized in that the oxygen atom ratio R 100 measured by X-ray photoelectron spectroscopy at a depth of 100 nm from the surface of is 20 atomic% or more and 29 atomic% or less (Invention 1).

상기 발명(발명 1)와 관련되는 워크 가공용 시트에서는, 점착제층에서 기재와는 반대 측의 면(이하 「점착면」이라고 하는 경우가 있다.)에서 X선 광전자분광분자분석으로 측정한 산소원자 비율 R0이 28원자% 이하인 것에 의해서, 점착면이 과도한 소수성을 갖게 되고, 가공 후의 워크를 양호하게 분리하기 쉬워진다. 또한, 점착제층 내의 위치 중에 점착면으로부터 깊이 100 nm 의 위치에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R100이 20원자% 이상 29원자% 이하인 것으로, 가공 후의 워크에 부착한 점착제에서, 그 표면이 적절한 친수성을 가지게 되어, 가공 후의 워크에 부착한 점착제를 흐르는 물에 의해서 양호하게 제거할 수 있게 된다.In the sheet for workpiece processing according to the above invention (Invention 1), the oxygen atom ratio measured by X-ray photoelectron spectroscopy and molecular analysis on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer on the side opposite to the base material (hereinafter sometimes referred to as "adhesive surface") When R 0 is 28 atom% or less, the adhesive surface has excessive hydrophobicity, and the workpiece after processing is easily separated. In addition, the oxygen atom ratio R 100 measured by X-ray photoelectron spectroscopy at a position in the pressure-sensitive adhesive layer at a depth of 100 nm from the adhesive surface is 20 atom% or more and 29 atom% or less, and the pressure-sensitive adhesive adhered to the workpiece after processing, that The surface has appropriate hydrophilicity, and the adhesive adhering to the work after processing can be satisfactorily removed with running water.

상기 발명(발명 1)에서, 상기 산소원자 비율 R0의 값은, 상기 산소원자 비율 R100의 값보다도 크고, 하기 식(1)In the above invention (Invention 1), the value of the oxygen atom ratio R 0 is greater than the value of the oxygen atom ratio R 100 , and the following formula (1)

산소원자 비율의 감소율(%)={(산소원자 비율 R0-산소원자 비율 R100)/산소원자 비율 R0}×100 …(1)Oxygen atom ratio reduction rate (%) = {(Oxygen atom ratio R 0 -Oxygen atom ratio R 100 )/Oxygen atom ratio R 0 }×100 . (One)

로부터 산출되는 산소원자 비율의 감소율은, 0% 이상 15% 이하인 것이 바람직하다(발명 2).It is preferable that the reduction rate of the oxygen atom ratio calculated from is 0% or more and 15% or less (Invention 2).

상기 발명(발명 1, 2)에서, 상기 활성에너지선 경화성 점착제는, 활성에너지선 중합성 분기 중합체를 함유하는 점착제 조성물로 형성된 점착제인 것이 바람직하다(발명 3).In the above inventions (inventions 1 and 2), it is preferable that the active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive is a pressure-sensitive adhesive formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing an active energy ray-polymerizable branched polymer (invention 3).

상기 발명(발명 1 ~ 3)에서, 상기 점착제 조성물은, 관능기 함유 모노머 단위를 가지는 아크릴계 공중합체와 상기 관능기에 결합하는 관능기를 가지는 불포화기 함유 화합물을 반응시켜 얻어지는 활성에너지선 경화성 중합체를 함유하는 것이고, 상기 아크릴계 공중합체는, 중합체를 구성하는 모노머 단위로서 아크릴산메틸, (메타)아크릴산 2-메톡시에틸, (메타)아크릴산에틸 카비톨 및 (메타)아크릴산 메톡시에틸렌글리콜로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다(발명 4).In the above invention (Inventions 1 to 3), the pressure-sensitive adhesive composition contains an active energy ray-curable polymer obtained by reacting an acrylic copolymer having a functional group-containing monomer unit with an unsaturated group-containing compound having a functional group bonded to the functional group. , The acrylic copolymer contains at least one selected from methyl acrylate, 2-methoxyethyl (meth)acrylate, ethyl carbitol (meth)acrylate and methoxyethylene glycol (meth)acrylate as a monomer unit constituting the polymer. It is preferable to include (Invention 4).

상기 발명(발명 1 ~ 4)에서는, 다이싱 시트인 것이 바람직하다(발명 5).In the above invention (Invention 1 to 4), it is preferable that it is a dicing sheet (Invention 5).

제2의 본 발명은, 상기 워크 가공용 시트(발명 1 ~ 5)의 상기 점착제층에서 상기 기재와는 반대 측의 면과 워크를 첩합(貼合)하는 첩합 공정, 상기 워크 가공용 시트 상에서 상기 워크를 가공하여, 상기 워크 가공용 시트 상에 적층된 가공된 워크를 얻는 가공 공정, 상기 점착제층에 대해서 활성에너지선을 조사하여, 상기 점착제층을 경화시켜, 상기 가공된 워크에 대한 상기 워크 가공용 시트의 점착력을 저하시키는 조사 공정, 및 활성에너지선 조사 후의 상기 워크 가공용 시트로부터, 상기 가공된 워크를 분리하는 분리 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 가공된 워크의 제조방법을 제공한다(발명 6).In the second aspect of the present invention, a bonding step of bonding a workpiece to a surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the workpiece processing sheet (Invention 1 to 5) on the opposite side to the base material, and the workpiece on the workpiece processing sheet A processing step of obtaining a processed workpiece laminated on the workpiece processing sheet by irradiating the pressure-sensitive adhesive layer with active energy rays to cure the pressure-sensitive adhesive layer, and adhesive strength of the workpiece processing sheet to the processed workpiece and a separation step of separating the processed workpiece from the workpiece processing sheet after irradiation with active energy rays (Invention 6).

본 발명과 관련되는 워크 가공용 시트는, 가공 후의 워크에 부착한, 점착제층으로부터 유래하는 점착제를, 흐르는 물에 의해서 양호하게 제거할 수 있는 동시에 가공 후의 워크를 양호하게 분리할 수 있다. 또한, 본 발명과 관련되는 가공된 워크의 제조방법에 따르면, 가공된 워크를 효율적으로 제조할 수 있게 된다.The sheet for processing a workpiece according to the present invention can satisfactorily remove the adhesive derived from the adhesive layer adhering to the workpiece after processing with running water, and can satisfactorily separate the workpiece after processing. Further, according to the method for manufacturing a processed workpiece according to the present invention, it is possible to efficiently manufacture a processed workpiece.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described.

〔워크 가공용 시트〕[Sheet for work processing]

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트는, 기재, 및 기재에서 한쪽면 측에 적층된 점착제층을 구비한다.The sheet for work processing according to the present embodiment includes a base material and an adhesive layer laminated on one side of the base material.

1.워크 가공용 시트의 물성1. Physical properties of sheet for workpiece processing

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서는, 점착제층에서 기재와는 반대 측의 면(점착면)에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R0이, 28원자% 이하이다. 이 산소원자 비율 R0이 28원자% 이하인 것으로, 점착면이 적절한 소수성을 가지게 되어, 워크 가공용 시트의 가공 후의 워크에 대한 점착력이 과도하게 높아지는 것이 억제된다. 이것에 의해, 워크 가공용 시트로부터 가공 후의 워크를 양호하게 분리할 수 있게 된다. 특히, 워크로서 실리콘 웨이퍼를 사용하는 경우, 실리콘 웨이퍼의 표면에는 비교적 친수성 기가 많이 존재하고 있어, 이 면에 대해서, 적절한 소수성을 가지는 점착면이 접하게 됨으로써, 가공 후의 워크를 용이하게 분리하기 쉬워진다. 또한 상술한 산소원자 비율 R0의 측정방법의 상세는, 후술하는 시험예에 기재하는 바와 같다.In the sheet for work processing according to the present embodiment, the oxygen atom ratio R 0 measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the surface (adhesive surface) of the pressure-sensitive adhesive layer on the side opposite to the substrate is 28 atomic% or less. When the oxygen atom ratio R 0 is 28 atom% or less, the adhesive surface has appropriate hydrophobicity, and excessive increase in the adhesive force of the workpiece processing sheet to the workpiece after processing is suppressed. This makes it possible to favorably separate the work after processing from the sheet for processing the work. In particular, when a silicon wafer is used as a workpiece, a relatively large number of hydrophilic groups are present on the surface of the silicon wafer, and an adhesive surface having appropriate hydrophobicity comes into contact with this surface, making it easy to separate the workpiece after processing. In addition, the details of the measuring method of the above-mentioned oxygen atom ratio R 0 are as describing in the test example mentioned later.

상술한 산소원자 비율 R0이 28원자%를 초과하면, 점착면이 비교적 높은 친수성을 가지게 되어, 워크 가공용 시트의 가공 후의 워크에 대한 점착력이 과도하게 높아진다. 이 경우, 워크 가공용 시트로부터 가공 후의 워크를 떼어낼 때에 과도한 힘을 필요로 하게 되어, 가공 후의 워크의 파손이라고 하는 결함이 생길 가능성이 있다. 이러한 문제를 회피하는 관점에서, 상기 산소원자 비율 R0은, 27원자% 이하인 것이 바람직하다.When the oxygen atom ratio R 0 described above exceeds 28 atom%, the adhesive surface has relatively high hydrophilicity, and the adhesive force of the workpiece processing sheet to the workpiece after processing is excessively high. In this case, excessive force is required when removing the processed workpiece from the workpiece processing sheet, and there is a possibility that a defect such as breakage of the processed workpiece may occur. From the viewpoint of avoiding such a problem, the oxygen atom ratio R 0 is preferably 27 atomic% or less.

또한, 상기 산소원자 비율 R0은, 20원자% 이상인 것이 바람직하고, 특히 22원자% 이상인 것이 바람직하다. 상기 산소원자 비율 R0이 20원자% 이상인 것으로, 점착면에서의 친수성이 적절하게 되어, 워크 가공용 시트가 워크에 대해서 양호한 점착력을 발휘하기 쉬워진다. 이것에 의해, 워크의 가공 시나 워크 가공용 시트 상에 워크 또는 가공 후의 워크를 적층한 상태로 반송할 때 등에, 가공 전 또는 후의 워크의 의도하지 않는 박리를 효과적으로 억제할 수 있게 된다.Further, the oxygen atom ratio R 0 is preferably 20 atomic % or more, particularly preferably 22 atomic % or more. When the oxygen atom ratio R 0 is 20 atom% or more, the hydrophilicity on the adhesive surface becomes appropriate, and the workpiece processing sheet easily exhibits good adhesiveness to the workpiece. This makes it possible to effectively suppress unintentional peeling of the workpiece before or after processing, such as when processing the workpiece or conveying the workpiece or the processed workpiece in a stacked state on a sheet for processing the workpiece.

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서는, 점착제층 내의 위치 중의 점착면으로부터 깊이 100 nm의 위치에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R100이, 20원자% 이상 29원자% 이하이다. 이것에 의해서, 점착제층의 내부의 점착제가 적절한 친수성을 가지게 된다.In the sheet for work processing according to the present embodiment, the oxygen atom ratio R 100 measured by X-ray photoelectron spectroscopy at a position at a depth of 100 nm from the adhesive surface in the position in the pressure-sensitive adhesive layer is 20 atomic% or more and 29 atomic% or less. This allows the pressure-sensitive adhesive inside the pressure-sensitive adhesive layer to have appropriate hydrophilicity.

일반적으로, 다이싱 블레이드를 이용한 다이싱 시에는, 절단 부분에 대해서 흐르는 물의 공급을 행하면서, 회전하는 다이싱 블레이드를 피절단물에 대고, 상기 피절단물의 절단을 행한다. 이 때, 회전하는 다이싱 블레이드는, 피절단물 뿐만 아니라 점착제층에도 접촉하는 경우가 있다. 이와 같이 접촉한 부분에서는, 점착제층의 절단이나, 점착제층을 구성하고 있는 점착제가 다이싱 블레이드에 의해 말려올려가 그 결과, 상기 점착제의 소편이 형성되게 된다. 상기 소편은, 피절단물이나 형성된 칩에 부착하고, 그 후의 칩의 취급에 악영향을 주거나 칩이나 상기 칩이 탑재되는 제품의 품질을 저하시키는 원인이 된다. 여기서, 점착제의 소편은, 상술한 바와 같이 형성되기 때문에, 상기 소편의 대부분이, 점착제층을 구성하고 있을 때에는 점착제층의 내부에 존재하게 되어 있다.In general, in dicing using a dicing blade, the rotating dicing blade is applied to an object to be cut while supplying flowing water to the cut portion, and the object to be cut is cut. At this time, the rotating dicing blade may contact not only the object to be cut but also the pressure-sensitive adhesive layer. At the contacted portion, the pressure-sensitive adhesive layer is cut or the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer is rolled up by the dicing blade, and as a result, small pieces of the pressure-sensitive adhesive are formed. The small pieces adhere to the object to be cut or formed chips, adversely affect subsequent handling of the chips, or cause deterioration in the quality of the chips or products on which the chips are mounted. Here, since the small pieces of the pressure-sensitive adhesive are formed as described above, most of the small pieces exist inside the pressure-sensitive adhesive layer when forming the pressure-sensitive adhesive layer.

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서는, 상술한 바와 같이, 점착제층의 내부의 점착제가 적절한 친수성을 가지게 되어 있기 때문에, 가공 시에 상술한 바와 같은 점착제의 소편이 생겨 상기 소편이 가공 후의 워크(칩 등)에 부착한 경우에도, 상기 소편의 표면이 적절한 친수성을 가지게 된다. 이 때문에, 본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에 따르면, 가공 시에 공급되는 흐르는 물에 의해서, 가공 후의 워크로부터, 이것들에 부착한 점착제를 양호하게 제거할 수 있다.In the workpiece processing sheet according to the present embodiment, as described above, since the adhesive inside the pressure-sensitive adhesive layer has appropriate hydrophilicity, small pieces of the adhesive as described above are generated during processing, and the small pieces form the workpiece after processing ( chip, etc.), the surface of the small piece has appropriate hydrophilicity. For this reason, according to the sheet for processing a workpiece according to the present embodiment, the adhesive adhering to the workpiece after processing can be satisfactorily removed by flowing water supplied during processing.

한편, 산소원자 비율 R100이 20원자% 미만이면, 점착제층의 내부의 점착제가 물에 대해서 충분한 친화성을 가지게 되지 않고, 점착제의 소편을 가공 후의 워크로부터 충분히 제거할 수 없게 된다. 이러한 문제를 회피하는 관점에서, 상술한 산소원자 비율 R100은, 21원자% 이상인 것이 바람직하다.On the other hand, if the oxygen atom ratio R 100 is less than 20 atom%, the pressure-sensitive adhesive inside the pressure-sensitive adhesive layer does not have sufficient affinity for water, and small pieces of the pressure-sensitive adhesive cannot be sufficiently removed from the workpiece after processing. From the viewpoint of avoiding such a problem, the oxygen atom ratio R 100 described above is preferably 21 atomic% or more.

또한, 상술한 산소원자 비율 R100이 29원자%를 초과하면, 점착제층의 내부의 점착제가 물에 대해서 과도하게 친화성을 나타내게 되어, 이에 따라, 점착제층의 표면에서도 물에 대한 친화성이 높아진다. 이에 따라, 물의 침입을 억제할 수 없어, 다이싱 시에 칩 날림이나 칩 손상이 생긴다. 이러한 문제를 회피하는 관점에서, 상술한 산소원자 비율 R100은, 27원자% 이하인 것이 바람직하다. 또한 상기 산소원자 비율 R100의 측정방법의 상세는, 후술하는 시험예에 기재하는 바와 같다.In addition, when the above-mentioned oxygen atom ratio R 100 exceeds 29 atomic%, the pressure-sensitive adhesive inside the pressure-sensitive adhesive layer exhibits excessive affinity for water, and accordingly, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer also has high affinity for water. . As a result, the intrusion of water cannot be suppressed, and chip flying or chip damage occurs during dicing. From the viewpoint of avoiding such a problem, it is preferable that the oxygen atom ratio R 100 described above is 27 atomic% or less. Details of the method for measuring the oxygen atom ratio R 100 are as described in the test examples described later.

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서는, 산소원자 비율 R0 및 산소원자 비율 R100이 각각 전술한 범위가 되는 한, 산소원자 비율 R100의 값이 산소원자 비율 R0의 값보다도 커져도 좋고, 또는, 산소원자 비율 R0의 값이 산소원자 비율 R100의 값보다도 커져도 좋다. 혹은 산소원자 비율 R0과 산소원자 비율 R100이 같은 값이 되어도 좋다. 산소원자 비율 R0의 값이 산소원자 비율 R100의 값보다도 큰 경우에는, 하기 식(1)In the sheet for work processing according to the present embodiment, the value of the oxygen atom ratio R 100 may be greater than the value of the oxygen atom ratio R 0 as long as the oxygen atom ratio R 0 and the oxygen atom ratio R 100 are within the above-mentioned ranges, respectively; Alternatively, the value of the oxygen atom ratio R 0 may be greater than the value of the oxygen atom ratio R 100 . Alternatively, the oxygen atom ratio R 0 and the oxygen atom ratio R 100 may be the same. When the value of the oxygen atom ratio R 0 is larger than the value of the oxygen atom ratio R 100 , the following formula (1)

 산소원자 비율의 감소율(%)={(산소원자 비율 R0-산소원자 비율 R100)/산소원자 비율 R0}×100…(1)Reduction rate (%) of oxygen atom ratio = {(Oxygen atom ratio R 0 -Oxygen atom ratio R 100 )/Oxygen atom ratio R 0 }×100 . (One)

로부터 산출되는 산소원자 비율의 감소율이, 0% 이상인 것이 바람직하고, 특히 1% 이상인 것이 바람직하고, 또한 2% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 감소율은, 15% 이하인 것이 바람직하고, 특히 12% 이하인 것이 바람직하고, 또한 10% 이하인 것이 바람직하다. 산소원자 비율의 감소율이 상술한 범위인 것으로, 흐르는 물에 의해서 점착제를 양호하게 제거하는 것과, 워크 가공용 시트로부터 가공 후의 워크를 양호하게 분리하는 것을 양립하기 쉬워진다.The reduction rate of the oxygen atom ratio calculated from is preferably 0% or more, particularly preferably 1% or more, and more preferably 2% or more. In addition, the reduction rate is preferably 15% or less, particularly preferably 12% or less, and more preferably 10% or less. When the rate of decrease of the oxygen atom ratio is within the above-mentioned range, it is easy to achieve both satisfactory removal of the adhesive with running water and satisfactory separation of the processed workpiece from the workpiece processing sheet.

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서는, 워크 가공용 시트의 실리콘 웨이퍼에 대한 점착력이, 1000 mN/25 mm 이상인 것이 바람직하고, 특히 1200 mN/25 mm 이상인 것이 바람직하고, 또한 1500 mN/25 mm 이상인 것이 바람직하다. 여기에서의 점착력은, 워크 가공용 시트에 대해서 활성에너지선을 조사하지 않고, 점착제층의 경화가 생기지 않은 상태에서의 점착력을 말하는 것으로 한다. 또한, 본 명세서 전체에서, 활성에너지선 조사의 유무에 대해 언급하지 않고 기술된 「점착력」에 대해서도, 워크 가공용 시트에 대해서 활성에너지선을 조사하지 않고, 점착제층의 경화가 생기지 않은 상태에서의 점착력을 말하는 것으로 한다. 상술한 점착력이 1000 mN/25 mm 이상인 것으로, 가공 대상이 되는 워크를 워크 가공용 시트 상에 양호하게 유지하기 쉬워져, 가공 시나, 워크 또는 가공 후의 워크를 워크 가공용 시트 상에 적층한 상태로 반송할 때 등에, 가공 전 또는 후의 워크의 박리를 양호하게 억제할 수 있다. 특히, 가공 후의 워크가 칩인 경우에는, 상기 칩이 워크 가공용 시트로부터 비산하는 것을 양호하게 억제할 수 있다.In the workpiece processing sheet according to the present embodiment, the adhesive strength of the workpiece processing sheet to the silicon wafer is preferably 1000 mN/25 mm or more, particularly preferably 1200 mN/25 mm or more, and more preferably 1500 mN/25 mm or more. it is desirable The adhesive force herein refers to the adhesive force in a state in which no active energy ray is irradiated to the workpiece processing sheet and no curing of the pressure-sensitive adhesive layer occurs. Also, regarding the "adhesive force" described without mentioning the presence or absence of active energy ray irradiation throughout the present specification, the adhesive force in a state where the workpiece processing sheet is not irradiated with active energy rays and the pressure-sensitive adhesive layer is not cured. do it by saying Since the above-mentioned adhesive force is 1000 mN/25 mm or more, it is easy to hold the workpiece to be processed well on the workpiece processing sheet, and the workpiece during processing or after processing can be transported in a laminated state on the workpiece processing sheet. peeling of the workpiece before or after processing can be favorably suppressed. In particular, when the workpiece after processing is a chip, scattering of the chip from the sheet for processing the workpiece can be suppressed satisfactorily.

또한, 워크 가공용 시트의 실리콘 웨이퍼에 대한 점착력은, 5000 mN/25 mm 이하인 것이 바람직하고, 특히 4500 mN/25 mm 이하인 것이 바람직하고, 또한 3000 mN/25 mm 이하인 것이 바람직하다. 상기 점착력이 5000 mN/25 mm 이하인 것으로, 활성에너지선의 조사 후에 점착력을 후술하는 범위로 조정하기 쉬워진다. 또한 워크 가공용 시트의 실리콘 웨이퍼에 대한 점착력의 측정방법의 상세는, 후술하는 시험예에 기재하는 바와 같다.Further, the adhesive force of the workpiece processing sheet to the silicon wafer is preferably 5000 mN/25 mm or less, particularly preferably 4500 mN/25 mm or less, and more preferably 3000 mN/25 mm or less. When the adhesive force is 5000 mN/25 mm or less, it becomes easy to adjust the adhesive force within the range described later after irradiation with active energy rays. In addition, the detail of the measuring method of the adhesive force of the sheet|seat for work processing with respect to the silicon wafer is as describing in the test example mentioned later.

또한 본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서는, 워크 가공용 시트에 대해서 활성에너지선을 조사한 후에 워크 가공용 시트의 실리콘 웨이퍼에 대한 점착력이, 65 mN/25 mm 이하인 것이 바람직하다. 상기 점착력이 65 mN/25 mm 이하인 것으로, 워크의 가공이 완료한 후에, 워크 가공용 시트에 대한 활성에너지선의 조사에 의해, 가공 후의 워크를 워크 가공용 시트로부터 분리하는 것이 보다 용이하게 된다.Further, in the workpiece processing sheet according to the present embodiment, after irradiating the workpiece processing sheet with active energy rays, it is preferable that the adhesive force of the workpiece processing sheet to the silicon wafer is 65 mN/25 mm or less. When the adhesive force is 65 mN/25 mm or less, it is easier to separate the processed workpiece from the workpiece processing sheet by irradiating the workpiece processing sheet with active energy rays after the workpiece processing is completed.

2.워크 가공용 시트의 구성 부재2. Component members of sheet for work processing

(1) 기재(1) description

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서, 기재는, 워크 가공용 시트의 사용 공정에서의 소망한 기능을 발휘하고, 바람직하게는, 점착제층의 경화를 위해서 조사되는 활성에너지선에 대해서 양호한 투과성을 발휘하는 것인 한, 특별히 한정되지 않는다.In the sheet for work processing according to the present embodiment, the substrate exhibits a desired function in the process of using the sheet for work processing, and preferably exhibits good permeability to active energy rays irradiated for curing the pressure-sensitive adhesive layer. As long as it is to do it, it is not specifically limited.

예를 들면, 기재는, 수지계의 재료를 주재(主材)로 하는 수지 필름인 것이 바람직하고, 그 구체예로는, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름; 에틸렌-(메타)아크릴산 공중합체 필름, 에틸렌-(메타)아크릴산메틸 공중합체 필름, 그 외의 에틸렌-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체 필름 등의 에틸렌계 공중합 필름; 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 에틸렌-노르보르넨 공중합체 필름, 노르보르넨 수지 필름 등의 폴리올레핀계 필름; 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름 등의 폴리염화비닐계 필름; 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 필름; (메타)아크릴산 에스테르 공중합체 필름; 폴리우레탄 필름; 폴리이미드 필름; 폴리스티렌 필름; 폴리카르보네이트 필름; 불소 수지 필름 등을 들 수 있다. 폴리에틸렌 필름의 예로는, 저밀도 폴리에틸렌(LDPE) 필름, 직쇄 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE) 필름, 고밀도 폴리에틸렌(HDPE) 필름 등을 들 수 있다. 또한, 이들의 가교 필름, 아이오노머 필름이라고 하는 변성 필름도 이용된다. 또한, 기재는, 상술한 필름이 복수 적층되어 이루어지는 적층 필름이어도 좋다. 이 적층 필름에서, 각 층을 구성하는 재료는 동종이어도 좋고, 이종이어도 좋다. 기재로는, 상기 필름 중에서도, 유연성이 우수한 관점에서, 에틸렌-메타크릴산메틸 공중합체 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 또한 본 명세서에서의 「(메타)아크릴산」은, 아크릴산 및 메타크릴산의 양쪽 모두를 의미한다. 다른 유사 용어에 대해서도 마찬가지이다.For example, the base material is preferably a resin film mainly composed of a resin-based material, and specific examples include an ethylene-vinyl acetate copolymer film; ethylene-based copolymer films such as ethylene-(meth)acrylic acid copolymer films, ethylene-(meth)acrylate copolymer films, and other ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer films; Polyolefin films, such as a polyethylene film, a polypropylene film, a polybutene film, a polybutadiene film, a polymethylpentene film, an ethylene-norbornene copolymer film, and a norbornene resin film; polyvinyl chloride-based films such as polyvinyl chloride films and vinyl chloride copolymer films; Polyester-based films, such as a polyethylene terephthalate film, a polybutylene terephthalate film, and a polyethylene naphthalate; (meth)acrylic acid ester copolymer film; polyurethane film; polyimide film; polystyrene film; polycarbonate film; A fluororesin film etc. are mentioned. Examples of the polyethylene film include a low density polyethylene (LDPE) film, a linear low density polyethylene (LLDPE) film, and a high density polyethylene (HDPE) film. In addition, these crosslinked films and denatured films called ionomer films are also used. In addition, the base material may be a laminated film formed by laminating a plurality of the above-mentioned films. In this laminated film, the materials constituting each layer may be of the same type or of different types. As the substrate, among the above films, it is preferable to use an ethylene-methyl methacrylate copolymer film from the viewpoint of excellent flexibility. In addition, "(meth)acrylic acid" in this specification means both acrylic acid and methacrylic acid. The same applies to other similar terms.

기재는, 난연제, 가소제, 대전방지제, 윤활제, 산화방지제, 착색제, 적외선 흡수제, 자외선 흡수제, 이온 포착제 등의 각종 첨가제를 포함하고 있어도 좋다. 이러한 첨가제의 함유량으로는, 특별히 한정되지 않지만, 기재가 소망한 기능을 발휘하는 범위로 하는 것이 바람직하다.The substrate may contain various additives such as flame retardants, plasticizers, antistatic agents, lubricants, antioxidants, colorants, infrared absorbers, ultraviolet absorbers, and ion trapping agents. The content of these additives is not particularly limited, but is preferably within a range in which the base material exhibits desired functions.

기재의 점착제층이 적층되는 면에는, 점착제층과의 밀착성을 높이기 위해서, 프라이머 처리, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 표면 처리가 실시되어도 좋다.The surface of the base material on which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated may be subjected to surface treatment such as priming, corona treatment, or plasma treatment in order to improve adhesion to the pressure-sensitive adhesive layer.

기재의 두께는, 워크 가공용 시트가 사용되는 방법에 따라 적절히 설정할 수 있지만, 통상, 20μm 이상인 것이 바람직하고, 특히 25μm 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 두께는, 통상, 450μm 이하인 것이 바람직하고, 특히 300μm 이하인 것이 바람직하다.The thickness of the substrate can be appropriately set according to the method in which the sheet for work processing is used, but is usually preferably 20 μm or more, and particularly preferably 25 μm or more. Moreover, it is preferable that the said thickness is normally 450 micrometers or less, and it is especially preferable that it is 300 micrometers or less.

(2) 점착제층(2) adhesive layer

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서, 점착제층은, 활성에너지선 경화성 점착제로 구성되어 소망한 점착력을 발휘할 수 있는 동시에, 전술한 산소원자 비율 R0 및 산소원자 비율 R100이 각각 전술한 범위가 되는 것이면, 특별히 한정되지 않는다.In the sheet for work processing according to the present embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer is composed of an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive and can exhibit desired adhesive strength, and the above-mentioned oxygen atom ratio R 0 and oxygen atom ratio R 100 are within the above-mentioned ranges, respectively. It is not particularly limited as long as it becomes

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서는, 점착제층이 활성에너지선 경화성 점착제로 구성되어 있는 것으로, 점착제층의 점착면에 첩착된 가공 후의 워크와 상기 점착면을 분리할 때에, 활성에너지선 조사에 의해 점착제층을 경화시켜, 워크 가공용 시트의 가공 후의 워크에 대한 점착력을 저하시킬 수 있다. 이것에 의해, 점착제층의 점착면과 가공 후의 워크의 분리가 용이하게 된다.In the workpiece processing sheet according to the present embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer is composed of an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, and when separating the pressure-sensitive adhesive surface from the workpiece after processing adhered to the pressure-sensitive adhesive layer, active energy ray irradiation Thus, the pressure-sensitive adhesive layer can be cured, and the adhesive force of the sheet for processing the workpiece to the workpiece after processing can be reduced. This facilitates separation of the adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer and the workpiece after processing.

본 실시형태에서의 점착제층은, 활성에너지선 경화성을 가지는 폴리머를 함유하는 점착제 조성물로 형성된 것이어도 좋고, 활성에너지선 비경화성 폴리머(활성에너지선 경화성을 가지지 않은 폴리머)와 적어도 1개 이상의 활성에너지선 경화성 기를 가지는 모노머 및/또는 올리고머를 함유하는 점착제 조성물로 형성된 것이어도 좋다.The pressure-sensitive adhesive layer in the present embodiment may be formed of a pressure-sensitive adhesive composition containing a polymer having active energy ray curability, and may include an active energy ray non-curable polymer (a polymer having no active energy ray curable property) and at least one active energy. It may be formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing a monomer and/or an oligomer having a linearly curable group.

최초에, 본 실시형태에서의 점착제층이, 활성에너지선 경화성을 가지는 폴리머를 함유하는 점착제 조성물로 형성된 것인 경우에 대해서, 이하 설명한다.First, the case where the pressure-sensitive adhesive layer in the present embodiment is formed of a pressure-sensitive adhesive composition containing a polymer having active energy ray curability will be described below.

활성에너지선 경화성을 가지는 폴리머는, 측쇄에 활성에너지선 경화성을 가지는 관능기(활성에너지선 경화성 기)가 도입된 (메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)(이하 「활성에너지선 경화성 중합체(A)」라고 하는 경우가 있다.)인 것이 바람직하다. 이 활성에너지선 경화성 중합체(A)는, 관능기 함유 모노머 단위를 가지는 아크릴계 공중합체(a1)와 그 관능기에 결합하는 관능기를 가지는 불포화기 함유 화합물(a2)을 반응시켜 얻어지는 것이 바람직하다.The active energy ray-curable polymer is a (meth)acrylic acid ester (co)polymer (A) in which a functional group (active energy ray-curable group) is introduced into the side chain (hereinafter referred to as "active energy ray-curable polymer (A)). )”.) is preferable. The active energy ray-curable polymer (A) is preferably obtained by reacting an acrylic copolymer (a1) having a functional group-containing monomer unit with an unsaturated group-containing compound (a2) having a functional group bonded to the functional group.

아크릴계 공중합체(a1)는, 중합체를 구성하는 모노머 단위로서 아크릴계 공중합체(a1)의 친수성을 조정하기 위한 모노머(이하에서는, 「친수성 조정 모노머」라고 하는 경우가 있다.)를 포함하는 것이 바람직하고, 특히, 그 구체예로서 아크릴산메틸, (메타)아크릴산 2-메톡시에틸, (메타)아크릴산에틸 카비톨((메타)아크릴산 에톡시에톡시에틸) 및 (메타)아크릴산 메톡시에틸렌글리콜로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.The acrylic copolymer (a1) preferably contains, as a monomer unit constituting the polymer, a monomer for adjusting the hydrophilicity of the acrylic copolymer (a1) (hereinafter sometimes referred to as a “hydrophilic property adjusting monomer”). In particular, as specific examples thereof, methyl acrylate, (meth)acrylate 2-methoxyethyl, (meth)acrylate ethyl carbitol ((meth)acrylate ethoxyethoxyethyl) and (meth)acrylate methoxyethylene glycol are selected from It is preferable to include at least 1 type.

본 실시형태와 관련되는 점착 시트에서는, 아크릴계 공중합체(a1)가 상술한 친수성 조정 모노머를 사용하는 것으로, 산소원자 비율 R100을 전술한 범위로 조정하기 쉬워진다. 이 이유로는, 상술한 친수성 조정 모노머의 상당수는, 산소원자를 비교적 많이 가지고 있어 상기 모노머로 구성되는 아크릴계 공중합체(a1)를 사용하는 것으로, 점착제층의 산소원자의 절대량도 많아져, 이것에 의해 산소원자 비율 R100을 전술의 범위로 조정하기 쉬워지기 때문이라고 생각된다. 그렇지만, 상기 이유에만 한정되는 것은 아니다.In the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present embodiment, when the acrylic copolymer (a1) uses the hydrophilic property adjusting monomer described above, it is easy to adjust the oxygen atom ratio R 100 within the above range. For this reason, many of the above-mentioned hydrophilicity adjusting monomers have relatively many oxygen atoms, and by using the acrylic copolymer (a1) composed of the above monomers, the absolute amount of oxygen atoms in the pressure-sensitive adhesive layer also increases, thereby It is considered that this is because it becomes easy to adjust the oxygen atom ratio R 100 within the above range. However, it is not limited to the above reasons.

또한, 전술한 산소원자 비율 R100을 전술한 범위로 조정하기 쉽다는 관점에서, 아크릴계 공중합체(a1)는, 중합체를 구성하는 모노머 단위로서 상술한 모노머 중에서도, 아크릴산메틸, 아크릴산 2-메톡시에틸 및 아크릴산 메톡시에틸렌글리콜의 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.In addition, from the viewpoint of being easy to adjust the above-mentioned oxygen atom ratio R 100 to the above-mentioned range, the acrylic copolymer (a1) contains methyl acrylate and 2-methoxyethyl acrylate among the above-mentioned monomers as monomer units constituting the polymer. And it is preferable that at least 1 sort(s) of acrylic acid methoxyethylene glycol is included.

아크릴계 공중합체(a1)가 중합체를 구성하는 모노머 단위로서 아크릴산메틸을 포함하는 경우, 아크릴산메틸의 함유량은, 10질량% 이상인 것이 바람직하고, 특히 20질량% 이상인 것이 바람직하고, 또한 30질량% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 아크릴산메틸의 함유량은, 85질량% 이하인 것이 바람직하다. 이러한 함유량인 것으로, 형성된 점착제층에서 전술한 산소원자 비율 R100을 전술한 범위로 조정하기 더 쉬워진다. 또한 본 명세서에서, 상술한 아크릴산메틸의 함유량(질량%)은, 아크릴계 공중합체(a1)를 구성하는 전체 모노머에 대한 함유량을 의미한다. 또한, 후술하는 그 외의 모노머의 함유량(질량%)에 대해서도, 아크릴계 공중합체(a1)를 구성하는 전체 모노머에 대한 함유량을 의미하는 것으로 한다.When the acrylic copolymer (a1) contains methyl acrylate as a monomer unit constituting the polymer, the content of methyl acrylate is preferably 10% by mass or more, particularly preferably 20% by mass or more, and more preferably 30% by mass or more. desirable. Moreover, it is preferable that content of methyl acrylate is 85 mass % or less. With such a content, it becomes easier to adjust the above-mentioned oxygen atom ratio R 100 in the formed pressure-sensitive adhesive layer to the above-mentioned range. In addition, in this specification, the content (mass %) of methyl acrylate mentioned above means content with respect to all the monomers which comprise acrylic copolymer (a1). In addition, also about content (mass %) of other monomers mentioned later, content with respect to all the monomers which comprise an acryl-type copolymer (a1) shall be meant.

또한, 아크릴계 공중합체(a1)가 중합체를 구성하는 모노머 단위로서 아크릴산 2-메톡시에틸을 포함하는 경우, 아크릴산 2-메톡시에틸의 함유량은, 10질량% 이상인 것이 바람직하고, 특히 20질량% 이상인 것이 바람직하고, 또한 30질량% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 아크릴산 2-메톡시에틸의 함유량은, 85질량% 이하인 것이 바람직하고, 특히 80질량% 이하인 것이 바람직하고, 또한 70질량% 이하인 것이 바람직하다. 이러한 함유량인 것으로, 형성된 점착제층에서 전술한 산소원자 비율 R100을 전술한 범위로 조정하기 더 쉬워진다.Further, when the acrylic copolymer (a1) contains 2-methoxyethyl acrylate as a monomer unit constituting the polymer, the content of 2-methoxyethyl acrylate is preferably 10% by mass or more, particularly 20% by mass or more. It is preferable, and it is more preferable that it is 30 mass % or more. Further, the content of 2-methoxyethyl acrylate is preferably 85% by mass or less, particularly preferably 80% by mass or less, and more preferably 70% by mass or less. With such a content, it becomes easier to adjust the above-mentioned oxygen atom ratio R 100 in the formed pressure-sensitive adhesive layer to the above-mentioned range.

또한, 아크릴계 공중합체(a1)가 중합체를 구성하는 모노머 단위로서 아크릴산메틸 및 아크릴산 2-메톡시에틸의 양쪽 모두를 포함하는 경우, 아크릴산메틸 및 아크릴산 2-메톡시에틸의 함유량의 합계값은, 10질량% 이상인 것이 바람직하고, 특히 30질량% 이상인 것이 바람직하고, 또한 50질량% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 합계값은, 90질량% 이하인 것이 바람직하고, 특히 85질량% 이하인 것이 바람직하다. 상기 합계값이 이러한 범위인 것으로, 형성된 점착제층에서 전술한 산소원자 비율 R100을 전술한 범위로 조정하기 더 쉬워진다.In the case where the acrylic copolymer (a1) contains both methyl acrylate and 2-methoxyethyl acrylate as monomer units constituting the polymer, the total content of methyl acrylate and 2-methoxyethyl acrylate is 10 It is preferable that it is mass % or more, and it is especially preferable that it is 30 mass % or more, and it is more preferable that it is 50 mass % or more. Moreover, it is preferable that the said total value is 90 mass % or less, and it is especially preferable that it is 85 mass % or less. With the above total value being in this range, it becomes easier to adjust the above-mentioned oxygen atom ratio R 100 in the above-mentioned range in the formed pressure-sensitive adhesive layer.

또한 아크릴계 공중합체(a1)가 중합체를 구성하는 모노머 단위로서 아크릴산 메톡시에틸렌글리콜을 포함하는 경우, 아크릴산 메톡시에틸렌글리콜의 함유량은, 10질량% 이상인 것이 바람직하고, 특히 30질량% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 아크릴산 메톡시에틸렌글리콜의 함유량은, 90질량% 이하인 것이 바람직하고, 특히 85질량% 이하인 것이 바람직하다. 이러한 함유량인 것으로, 형성된 점착제층에서 전술한 산소원자 비율 R100을 전술한 범위로 조정하기 더 쉬워진다.Further, when the acrylic copolymer (a1) contains methoxyethylene glycol acrylate as a monomer unit constituting the polymer, the content of methoxyethylene glycol acrylate is preferably 10% by mass or more, particularly preferably 30% by mass or more. . Moreover, it is preferable that content of methoxyethylene glycol acrylate is 90 mass % or less, and it is especially preferable that it is 85 mass % or less. With such a content, it becomes easier to adjust the above-mentioned oxygen atom ratio R 100 in the formed pressure-sensitive adhesive layer to the above-mentioned range.

아크릴계 공중합체(a1)는, 상술한 친수성 조정 모노머 이외에, 관능기 함유 모노머로부터 유도하는 구성 단위 및 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 또는 그 유도체로부터 유도되는 구성단위를 포함하는 것이 바람직하다.The acrylic copolymer (a1) preferably contains a structural unit derived from a functional group-containing monomer and a structural unit derived from a (meth)acrylic acid ester monomer or a derivative thereof, in addition to the hydrophilicity adjusting monomer described above.

아크릴계 공중합체(a1)의 구성 단위로서의 관능기 함유 모노머는, 중합성의 이중 결합과 히드록시기, 카르복실기, 아미노기, 치환 아미노기, 에폭시기 등의 관능기를 분자 내에 가지는 모노머를 들 수 있고, 이들 중에서 히드록시기 함유 모노머, 아미노기 함유 모노머 및 치환 아미노기 함유 모노머의 적어도 1종을 함유하 것이 바람직하다.Examples of the functional group-containing monomer as the structural unit of the acrylic copolymer (a1) include monomers having a polymerizable double bond and a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a substituted amino group, and an epoxy group in the molecule. Among these, hydroxyl group-containing monomers and amino groups It is preferable to contain at least 1 sort(s) of containing monomer and a substituted amino group containing monomer.

상기 히드록시기 함유 모노머로는, 예를 들면, (메타)아크릴산 2-히드록시에틸, (메타)아크릴산 2-히드록시프로필, (메타)아크릴산 3-히드록시프로필, (메타)아크릴산 2-히드록시부틸, (메타)아크릴산 3-히드록시부틸, (메타)아크릴산 4-히드록시부틸 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용된다.Examples of the hydroxy group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth)acrylate , (meth)acrylic acid 3-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 4-hydroxybutyl, etc. are mentioned, These are used individually or in combination of 2 or more types.

  상기 아미노기 함유 모노머 또는 치환 아미노기 함유 모노머로는, 예를 들면, (메타)아크릴산아미노에틸, (메타)아크릴산 n-부틸아미노에틸 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다.Examples of the amino group-containing monomer or substituted amino group-containing monomer include aminoethyl (meth)acrylate and n-butylaminoethyl (meth)acrylate. These may be used independently or may be used in combination of 2 or more types.

또한 카르복실기 함유 모노머의 예로는, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 말레인산, 이타콘산, 시트라콘산 등의 에틸렌성 불포화 카르복실산을 들 수 있고, 이들은 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다. 그렇지만, 아크릴계 공중합체(a1)는, 카르복실기 함유 모노머를 포함하지 않은 것이 바람직하다. 아크릴계 공중합체(a1)가 카르복실기 함유 모노머를 포함하지 않은 것에 의해, 물 접촉각의 조정이 보다 용이하게 된다.Examples of the carboxyl group-containing monomer include ethylenically unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, and citraconic acid. These may be used alone or in combination of two or more. You may use it. However, it is preferable that the acrylic copolymer (a1) does not contain a carboxyl group-containing monomer. Adjustment of the water contact angle becomes easier because the acrylic copolymer (a1) does not contain a carboxyl group-containing monomer.

아크릴계 공중합체(a1)는, 상기 관능기 함유 모노머로부터 유도되는 구성 단위를, 1질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 특히 5질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 또한 10질량% 이상 함유하는 것이 바람직하다. 또한, 아크릴계 공중합체(a1)는, 상기 관능기 함유 모노머로부터 유도되는 구성 단위를, 35질량% 이하로 함유하는 것이 바람직하고, 특히 30질량% 이하로 함유하는 것이 바람직하다.The acrylic copolymer (a1) preferably contains 1% by mass or more of the structural unit derived from the functional group-containing monomer, particularly preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more. . In addition, the acrylic copolymer (a1) preferably contains 35% by mass or less, particularly preferably 30% by mass or less, of structural units derived from the functional group-containing monomer.

아크릴계 공중합체(a1)를 구성하는 (메타)아크릴산 에스테르 모노머로는, 알킬기의 탄소수가 1 ~ 20인 (메타)아크릴산알킬 에스테르 외에, 예를 들면, 분자 내에 지환식 구조를 가지는 모노머(지환식 구조 함유 모노머)가 바람직하게 이용된다.As the (meth)acrylic acid ester monomer constituting the acrylic copolymer (a1), in addition to a (meth)acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, for example, a monomer having an alicyclic structure in the molecule (alicyclic structure containing monomer) is preferably used.

(메타)아크릴산알킬 에스테르로는, 특히 알킬기의 탄소수가 1 ~ 18인 (메타)아크릴산알킬 에스테르, 예를 들면, 메타크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산프로필, (메타)아크릴산 n-부틸, (메타)아크릴산 2-에틸헥실 등이 바람직하게 이용된다. 이들은, 1종을 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다.Examples of (meth)acrylic acid alkyl esters include (meth)acrylic acid alkyl esters having 1 to 18 carbon atoms in the alkyl group, such as methyl methacrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, and (meth)acrylic acid. n-butyl, 2-ethylhexyl (meth)acrylate and the like are preferably used. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

지환식 구조 함유 모노머로는, 예를 들면, (메타)아크릴산시클로헥실, (메타)아크릴산디시클로펜타닐, (메타)아크릴산아다만틸, (메타)아크릴산이소보닐, (메타)아크릴산디시클로펜테닐, (메타)아크릴산디시클로펜테닐옥시에틸 등이 바람직하게 이용된다. 이들은, 1종을 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다.Examples of the alicyclic structure-containing monomer include cyclohexyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, adamantyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, and dicyclophene (meth)acrylate. tenyl, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate and the like are preferably used. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

또한, 아크릴계 공중합체(a1)는, (메타)아크릴산 에스테르 모노머 또는 그 유도체로부터 유도되는 구성단위를, 50질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 특히 60질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 또한 70질량% 이상 함유하는 것이 바람직하다. 또한, 아크릴계 공중합체(a1)는, (메타)아크릴산 에스테르 모노머 또는 그 유도체로부터 유도되는 구성단위를, 99질량% 이하로 함유하는 것이 바람직하고, 특히 95질량% 이하로 함유하는 것이 바람직하고, 또한 90질량% 이하로 함유하는 것이 바람직하다.In addition, the acrylic copolymer (a1) preferably contains 50% by mass or more of a structural unit derived from a (meth)acrylic acid ester monomer or a derivative thereof, particularly preferably 60% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more. It is preferable to contain % or more. The acrylic copolymer (a1) preferably contains 99% by mass or less of a structural unit derived from a (meth)acrylic acid ester monomer or a derivative thereof, particularly preferably 95% by mass or less, and It is preferable to contain at 90 mass % or less.

아크릴계 공중합체(a1)는, 바람직하게는, 상술한 친수성 조정 모노머와 관능기 함유 모노머와 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 또는 그 유도체를 상법(常法)으로 공중합하여 얻을 수 있지만, 이러한 모노머 외에도 디메틸아크릴아미드, 포름산비닐, 아세트산비닐, 스티렌 등이 공중합되어도 좋다.The acrylic copolymer (a1) can be preferably obtained by copolymerizing the above-described hydrophilic adjusting monomer, functional group-containing monomer, and (meth)acrylic acid ester monomer or a derivative thereof by a conventional method. In addition to these monomers, dimethylacrylamide is obtained. , vinyl formate, vinyl acetate, styrene, or the like may be copolymerized.

상기 관능기 함유 모노머 단위를 가지는 아크릴계 공중합체(a1)를, 그 관능기에 결합하는 관능기를 가지는 불포화기 함유 화합물(a2)과 반응시킴으로써, 활성에너지선 경화성 중합체(A)가 얻어진다.The active energy ray-curable polymer (A) is obtained by reacting the acrylic copolymer (a1) having a functional group-containing monomer unit with an unsaturated group-containing compound (a2) having a functional group bonded to the functional group.

불포화기 함유 화합물(a2)이 가지는 관능기는, 아크릴계 공중합체(a1)가 가지는 관능기 함유 모노머 단위의 관능기의 종류에 따라 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 아크릴계 공중합체(a1)가 가지는 관능기가 히드록시기, 아미노기 또는 치환 아미노기의 경우, 불포화기 함유 화합물(a2)이 가지는 관능기로는 이소시아네이트기 또는 에폭시기가 바람직하고, 아크릴계 공중합체(a1)가 가지는 관능기가 에폭시기의 경우, 불포화기 함유 화합물(a2)이 가지는 관능기로는 아미노기, 카르복실기 또는 아지리디닐기가 바람직하다.The functional group of the unsaturated group-containing compound (a2) can be appropriately selected depending on the kind of functional group of the functional group-containing monomer unit of the acrylic copolymer (a1). For example, when the functional group of the acrylic copolymer (a1) is a hydroxy group, amino group or substituted amino group, the functional group of the unsaturated group-containing compound (a2) is preferably an isocyanate group or an epoxy group, and the acrylic copolymer (a1) When the functional group to be possessed is an epoxy group, the functional group possessed by the unsaturated group-containing compound (a2) is preferably an amino group, a carboxyl group or an aziridinyl group.

또한 상기 불포화기 함유 화합물(a2)에는, 활성에너지선 중합성의 탄소-탄소 이중 결합이, 1분자 중에 적어도 1개, 바람직하게는 1 ~ 6개, 더 바람직하게는 1 ~ 4개 포함되어 있다. 이러한 불포화기 함유 화합물(a2)의 구체예로는, 예를 들면, 2-메타크릴로일옥시에틸 이소시아네이트, 메타-이소프로페닐-α,α-디메틸벤질 이소시아네이트, 메타크릴로일 이소시아네이트, 알릴이소시아네이트, 1,1-(비스아크릴로일옥시메틸)에틸 이소시아네이트; 디이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 (메타)아크릴산히드록시에틸의 반응에 의해 얻어지는 아크릴로일 모노이소시아네이트 화합물; 디이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 폴리올 화합물과 (메타)아크릴산히드록시에틸의 반응에 의해 얻어지는 아크릴로일 모노이소시아네이트 화합물; (메타)아크릴산글리시딜; (메타)아크릴산, (메타)아크릴산 2-(1-아지리디닐) 에틸, 2-비닐-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린 등을 들 수 있다.In addition, the unsaturated group-containing compound (a2) contains at least one, preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4 carbon-carbon double bonds polymerizable by active energy rays in one molecule. Specific examples of such an unsaturated group-containing compound (a2) include, for example, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, meta-isopropenyl-α,α-dimethylbenzyl isocyanate, methacryloyl isocyanate, and allyl isocyanate. , 1,1-(bisacryloyloxymethyl)ethyl isocyanate; acryloyl monoisocyanate compounds obtained by reaction of a diisocyanate compound or polyisocyanate compound with hydroxyethyl (meth)acrylate; Acryloyl monoisocyanate compound obtained by reaction of a diisocyanate compound or a polyisocyanate compound, a polyol compound, and hydroxyethyl (meth)acrylate; (meth)glycidyl acrylate; (meth)acrylic acid, 2-(1-aziridinyl)ethyl (meth)acrylic acid, 2-vinyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-2-oxazoline and the like.

상기 불포화기 함유 화합물(a2)은, 상기 아크릴계 공중합체(a1)의 관능기 함유 모노머의 몰 수에 대해서, 바람직하게는 50몰% 이상, 특히 바람직하게는 60몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상의 비율로 이용된다. 또한, 상기 불포화기 함유 화합물(a2)은, 상기 아크릴계 공중합체(a1)의 관능기 함유 모노머의 몰 수에 대해서, 바람직하게는 95몰% 이하, 특히 바람직하게는 93몰% 이하, 더 바람직하게는 90몰% 이하의 비율로 이용된다.The amount of the unsaturated group-containing compound (a2) is preferably 50 mol% or more, particularly preferably 60 mol% or more, and more preferably 70 mol%, based on the number of moles of the functional group-containing monomers of the acrylic copolymer (a1). % or higher is used. Further, the amount of the unsaturated group-containing compound (a2) is preferably 95 mol% or less, particularly preferably 93 mol% or less, and more preferably 93 mol% or less, relative to the number of moles of the functional group-containing monomer of the acrylic copolymer (a1). It is used in a ratio of 90 mol% or less.

아크릴계 공중합체(a1)와 불포화기 함유 화합물(a2)의 반응에서는, 아크릴계 공중합체(a1)가 가지는 관능기와 불포화기 함유 화합물(a2)이 가지는 관능기의 조합에 따라, 반응의 온도, 압력, 용매, 시간, 촉매의 유무, 촉매의 종류를 적절히 선택할 수 있다. 이것에 의해, 아크릴계 공중합체(a1) 중에 존재하는 관능기와 불포화기 함유 화합물(a2) 중의 관능기가 반응해, 불포화기가 아크릴계 공중합체(a1) 중의 측쇄에 도입되어 활성에너지선 경화성 중합체(A)가 얻어진다.In the reaction between the acrylic copolymer (a1) and the unsaturated group-containing compound (a2), the reaction temperature, pressure, and solvent depend on the combination of the functional group of the acrylic copolymer (a1) and the functional group of the unsaturated group-containing compound (a2). , time, the presence or absence of a catalyst, and the type of catalyst can be appropriately selected. As a result, the functional group present in the acrylic copolymer (a1) reacts with the functional group in the unsaturated group-containing compound (a2), and the unsaturated group is introduced into the side chain in the acrylic copolymer (a1) to form the active energy ray-curable polymer (A). is obtained

이와 같이 하여 얻어지는 활성에너지선 경화성 중합체(A)의 중량평균분자량(Mw)은, 1만 이상인 것이 바람직하고, 특히 15만 이상인 것이 바람직하고, 또한 20만 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 중량평균분자량(Mw)은, 150만 이하인 것이 바람직하고, 특히 100만 이하인 것이 바람직하다. 또한 본 명세서에서의 중량평균분자량(Mw)은, 겔투과 크로마토그래피 법(GPC법)에 의해 측정한 표준 폴리스티렌 환산값이다.The weight average molecular weight (Mw) of the active energy ray-curable polymer (A) thus obtained is preferably 10,000 or more, particularly preferably 150,000 or more, and more preferably 200,000 or more. Moreover, it is preferable that the said weight average molecular weight (Mw) is 1.5 million or less, and it is especially preferable that it is 1 million or less. In addition, the weight average molecular weight (Mw) in this specification is a standard polystyrene conversion value measured by the gel permeation chromatography method (GPC method).

본 실시형태에서 점착제 조성물이, 활성에너지선 경화성 중합체(A)라고 하는 활성에너지선 경화성을 가지는 폴리머를 함유하는 경우에도, 상기 점착제 조성물은, 활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)를 더 함유해도 좋다.In the present embodiment, even when the pressure-sensitive adhesive composition contains an active energy ray-curable polymer called an active energy ray-curable polymer (A), the pressure-sensitive adhesive composition contains an active energy ray-curable monomer and/or oligomer (B). It may contain more.

활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)로는, 예를 들면, 다가알코올과 (메타)아크릴산의 에스테르 등을 사용할 수 있다.As the active energy ray-curable monomer and/or oligomer (B), for example, an ester of a polyhydric alcohol and (meth)acrylic acid can be used.

이러한 활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)로는, 예를 들면, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트 등의 단관능성 아크릴산 에스테르류, 트리메티롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디메티롤트리시클로데칸 디(메타)아크릴레이트 등의 다관능성 아크릴산 에스테르류, 폴리에스테르 올리고(메타)아크릴레이트, 폴리우레탄 올리고(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of such active energy ray-curable monomers and/or oligomers (B) include monofunctional acrylic acid esters such as cyclohexyl (meth)acrylate and isobornyl (meth)acrylate; )Acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol Polyfunctional acrylic acid esters such as di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, dimethyloltricyclodecane di(meth)acrylate, polyester oligo(meth)acrylate, polyurethane oligo(meth)acrylate Acrylates etc. are mentioned.

활성에너지선 경화성 중합체(A)와 함께, 활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)를 배합하는 경우, 점착제 조성물 중에서의 활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)의 함유량은, 활성에너지선 경화성 중합체(A) 100질량부에 대해서, 0질량부 초과인 것이 바람직하고, 특히 60질량부 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 함유량은, 활성에너지선 경화성 중합체(A) 100질량부에 대해서, 250질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 200질량부 이하인 것이 바람직하다.When blending the active energy ray-curable monomer and/or oligomer (B) together with the active energy ray-curable polymer (A), the content of the active energy ray-curable monomer and/or oligomer (B) in the pressure-sensitive adhesive composition is It is preferably more than 0 parts by mass, and particularly preferably 60 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable polymer (A). The content is preferably 250 parts by mass or less, particularly preferably 200 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the active energy ray-curable polymer (A).

여기서, 활성에너지선 경화성 점착제를 경화시키기 위한 활성에너지선으로서 자외선을 이용하는 경우에는, 본 실시형태에서의 점착제 조성물이, 광중합개시제(C)를 함유하는 것이 바람직하다. 이 광중합개시제(C)의 사용에 의해, 중합 경화시간 및 광선 조사량을 줄일 수 있다.Here, when using an ultraviolet ray as the active energy ray for curing the active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive composition in the present embodiment contains a photopolymerization initiator (C). By using this photopolymerization initiator (C), the polymerization curing time and the amount of light irradiation can be reduced.

광중합개시제(C)로는, 구체적으로는, 벤조페논, 아세토페논, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인 안식향산, 벤조인 안식향산메틸, 벤조인 디메틸 케탈, 2,4-디에틸 티옥산손, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 벤질디페닐설파이드, 테트라메틸티우람모노설파이드, 아조비스이소부티로니트릴, 벤질, 디벤질, 디아세틸, β-클로로안스라퀴논, (2,4,6-트리메틸 벤질 디페닐) 포스핀 옥시드, 2-벤조티아졸-N,N-디에틸디티오카르바메이트, 올리고{2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-프로페닐) 페닐]프로파논}, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.As the photopolymerization initiator (C), specifically, benzophenone, acetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, benzoin methyl benzoate , benzoin dimethyl ketal, 2,4-diethyl thioxanthone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, benzyldiphenylsulfide, tetramethylthiurammonosulfide, azobisisobutyronitrile, benzyl, dibenzyl, di Acetyl, β-chloroanthraquinone, (2,4,6-trimethylbenzyl diphenyl) phosphine oxide, 2-benzothiazole-N,N-diethyldithiocarbamate, oligo{2-hydroxy -2-methyl-1-[4-(1-propenyl)phenyl]propanone}, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, etc. are mentioned. These may be used independently and may use 2 or more types together.

점착제 조성물 중에서의 광중합개시제(C)의 함유량은, 활성에너지선 경화성 중합체(A)(활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)를 배합하는 경우에는, 활성에너지선 경화성 중합체(A) 및 활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)의 합계량 100질량부) 100질량부에 대해서, 0.1질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 0.5질량부 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 함유량은, 활성에너지선 경화성 중합체(A)(활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)를 배합하는 경우에는, 활성에너지선 경화성 중합체(A) 및 활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)의 합계량 100질량부) 100질량부에 대해서 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 6 질량부 이하인 것이 바람직하다.The content of the photopolymerization initiator (C) in the pressure-sensitive adhesive composition is determined by the active energy ray-curable polymer (A) (when blending the active energy ray-curable monomer and/or oligomer (B), the active energy ray-curable polymer (A) and It is preferably 0.1 part by mass or more, particularly preferably 0.5 part by mass or more, with respect to 100 parts by mass) of the total amount of the active energy ray-curable monomer and/or oligomer (B). In addition, the above content is the active energy ray-curable polymer (A) (when blending the active energy ray-curable monomer and/or oligomer (B), the active energy ray-curable polymer (A) and the active energy ray-curable monomer and It is preferably 10 parts by mass or less, particularly preferably 6 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of / or oligomer (B) 100 parts by mass.

본 실시형태에서의 점착제 조성물은, 점착제층에서의 산소원자 비율을 조정하기 위한 첨가제(D)를 함유하는 것이 바람직하다. 이러한 첨가제의 예로는, 활성에너지선 중합성 분기 중합체, 분기 중합체, 에폭시 수지 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 점착제층에서의 산소원자 비율을 소망한 범위로 조정하기 쉽다는 관점에서, 활성에너지선 중합성 분기 중합체를 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable that the adhesive composition in this embodiment contains the additive (D) for adjusting the oxygen atom ratio in an adhesive layer. Examples of such additives include active energy ray polymerizable branched polymers, branched polymers, epoxy resins, and the like. Preference is given to using polymerizable branched polymers.

활성에너지선 중합성 분기 중합체란, 활성에너지선 중합성 화합물의 일종으로, 활성에너지선 중합성 기 및 분기 구조를 가지는 중합체를 의미한다. 본 실시형태에서의 점착제층이, 활성에너지선 중합성 분기 중합체를 함유하는 점착제 조성물로 형성되어 있는 것으로, 점착면에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R0을 28원자% 이하로 조정하는 것이 용이하게 된다. 이 이유로는, 이에 한정되지 않지만, 다음 것이 생각된다. 활성에너지선 중합성 분기 중합체를 함유하는 점착제 조성물을 이용하여 점착제층을 형성할 때, 활성에너지선 중합성 분기 중합체는, 점착제층 중의 표면 측에 편재하기 쉽다. 이 때문에, 형성된 점착제층에서는, 내부와 비교해 표면에 가까울수록, 활성에너지선 중합성 분기 중합체의 함유량이 많이 존재하게 된다. 여기서, 활성에너지선 중합성 분기 중합체 자체는, 산소원자 비율이 비교적 작은 성분이기 때문에, 활성에너지선 중합성 분기 중합체가 보다 많이 존재하는 점착면에서는, 28원자% 이하의 산소원자 비율을 달성하기 쉬워진다.The active energy ray polymerizable branched polymer is a type of active energy ray polymerizable compound, and means a polymer having an active energy ray polymerizable group and a branched structure. The pressure-sensitive adhesive layer in the present embodiment is formed of a pressure-sensitive adhesive composition containing an active energy ray polymerizable branched polymer, and the oxygen atom ratio R 0 measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the pressure-sensitive adhesive surface is adjusted to 28 atomic% or less. it becomes easier to do The reasons for this include, but are not limited to, the following. When forming a pressure-sensitive adhesive layer using an adhesive composition containing an active energy ray-polymerizable branched polymer, the active energy ray-polymerizable branched polymer tends to be unevenly distributed on the surface side in the pressure-sensitive adhesive layer. For this reason, in the formed pressure-sensitive adhesive layer, the content of the active energy ray polymerizable branched polymer is more present as it is closer to the surface compared to the inside. Here, since the active energy ray polymerizable branched polymer itself is a component with a relatively small oxygen atom ratio, it is easy to achieve an oxygen atom ratio of 28 atomic% or less on the adhesive surface where the active energy ray polymerizable branched polymer is present in a larger amount. lose

또한, 활성에너지선 중합성 분기 중합체는 활성에너지선 중합성 기를 가지기 때문에, 워크 가공용 시트에 대해서 활성에너지선을 조사한 경우에는, 활성에너지선 중합성 분기 중합체 끼리 또는 활성에너지선 중합성 분기 중합체와 활성에너지선 경화성 기를 가지는 성분의 사이에서 중합반응할 수 있고, 이것에 의해, 활성에너지선 중합성 분기 중합체가 가공 후의 워크로 이행하는 것이 억제되는 동시에, 활성에너지선 조사 후의 점착제층이 보다 경화하게 되어, 가공 후의 워크의 워크 가공용 시트로부터의 분리를 효과적으로 행하기 쉬워진다.In addition, since the active energy ray polymerizable branched polymer has an active energy ray polymerizable group, when the sheet for work processing is irradiated with active energy rays, active energy ray polymerizable branched polymers or active energy ray polymerizable branched polymers are active. A polymerization reaction can occur between components having an energy ray-curable group, whereby the migration of the active energy ray-polymerizable branched polymer to the workpiece after processing is suppressed, and the pressure-sensitive adhesive layer after active energy ray irradiation is further cured. , it becomes easy to effectively separate the workpiece after processing from the sheet for workpiece processing.

활성에너지선 중합성 분기 중합체는, 상술한 바와 같이, 활성에너지선 중합성 기 및 분기 구조를 가지는 중합체인 한, 구체적인 구조(예를 들면, 분기 구조의 정도, 한분자 중에 가지는 활성에너지선 중합성 기의 수)는 특별히 한정되지 않는다. 이러한 활성에너지선 중합성 분기 중합체를 얻는 방법으로는, 예를 들면, 2개 이상의 라디칼 중합성 이중 결합을 분자 내에 가지는 모노머와 활성수소기 및 1개의 라디칼 중합성 이중 결합을 분자 내에 가지는 모노머와 1개의 라디칼 중합성 이중 결합을 분자 내에 가지는 모노머를 중합시킴으로써 얻어지는 분기 구조를 가지는 중합체와, 활성수소기와 반응해 결합을 형성할 수 있는 관능기 및 적어도 1개의 라디칼 중합성 이중 결합을 분자 내에 가지는 화합물을 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 상술한 3종의 모노머는, 각각 (메타)아크릴산 에스테르나 (메타)아크릴산이어도 좋고, 이 경우, 활성에너지선 중합성 분기 중합체는 아크릴계 중합체가 된다.As described above, the active energy ray polymerizable branched polymer has a specific structure (e.g., degree of branched structure, active energy ray polymerizable property in one molecule) as long as it is a polymer having an active energy ray polymerizable group and a branched structure. The number of groups) is not particularly limited. As a method for obtaining such an active energy ray-polymerizable branched polymer, for example, a monomer having two or more radically polymerizable double bonds in a molecule, a monomer having an active hydrogen group and one radically polymerizable double bond in a molecule, and 1 A polymer having a branched structure obtained by polymerizing a monomer having two radically polymerizable double bonds in a molecule is reacted with a compound having a functional group capable of forming a bond by reacting with an active hydrogen group and at least one radically polymerizable double bond in a molecule. can be obtained by doing Each of the three types of monomers described above may be (meth)acrylic acid ester or (meth)acrylic acid, and in this case, the active energy ray polymerizable branched polymer is an acrylic polymer.

활성에너지선 중합성 분기 중합체의 중량평균분자량은, 1000 이상인 것이 바람직하고, 특히 3000 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 중량평균분자량은, 100000 이하인 것이 바람직하고, 특히 30000 이하인 것이 바람직하다. 중량평균분자량이 상술한 범위인 것으로, 점착면에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R0을 28원자% 이하로 조정하기 쉬워진다.The weight average molecular weight of the active energy ray polymerizable branched polymer is preferably 1000 or more, particularly preferably 3000 or more. Moreover, it is preferable that it is 100000 or less, and, as for the said weight average molecular weight, it is especially preferable that it is 30000 or less. When the weight average molecular weight is within the above-mentioned range, it becomes easy to adjust the oxygen atom ratio R 0 measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the adhesive surface to 28 atomic% or less.

점착제 조성물 중에서의 첨가제(D)의 함유량은, 활성에너지선 경화성 중합체(A) 100질량부(활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)를 배합하는 경우에는, 활성에너지선 경화성 중합체(A) 및 활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)의 합계량 100질량부)에 대해서, 0.05질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 0.1질량부 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 함유량은, 활성에너지선 경화성 중합체(A) 100질량부(활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)를 배합하는 경우에는, 활성에너지선 경화성 중합체(A) 및 활성에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머(B)의 합계량 100질량부)에 대해서, 1질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 0.5질량부 이하인 것이 바람직하다. 첨가제(D)의 함유량이 상술한 범위인 것으로, 점착제층에서의 산소원자 비율을 소망한 범위로 조정하기 쉬워진다.The content of the additive (D) in the pressure-sensitive adhesive composition is 100 parts by mass of the active energy ray-curable polymer (A) (when blending the active energy ray-curable monomer and/or oligomer (B), the active energy ray-curable polymer (A) ) and active energy ray-curable monomer and/or oligomer (B), relative to 100 parts by mass), preferably 0.05 part by mass or more, particularly preferably 0.1 part by mass or more. In addition, the above content is 100 parts by mass of the active energy ray-curable polymer (A) (when blending the active energy ray-curable monomer and/or oligomer (B), the active energy ray-curable polymer (A) and the active energy ray-curable polymer (A)) It is preferably 1 part by mass or less, particularly preferably 0.5 part by mass or less, relative to 100 parts by mass of the total amount of monomers and/or oligomers (B) of . When the content of the additive (D) is within the above-mentioned range, it becomes easy to adjust the oxygen atom ratio in the pressure-sensitive adhesive layer to a desired range.

본 실시형태에서의 점착제 조성물은, 이상 설명한 성분 이외에, 적절히 다른 성분을 배합해도 좋다. 다른 성분으로는, 예를 들면, 활성에너지선 비경화성 폴리머 성분 또는 올리고머 성분(E), 가교제(F) 등을 들 수 있다.The adhesive composition in this embodiment may mix|blend other components suitably other than the component demonstrated above. Other components include, for example, an active energy ray non-curable polymer component or oligomer component (E), a crosslinking agent (F), and the like.

활성에너지선 비경화성 폴리머 성분 또는 올리고머 성분(E)으로는, 예를 들면, 폴리아크릴산 에스테르, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리카르보네이트, 폴리올레핀 등을 들 수 있고, 중량평균분자량(Mw)이 3000 ~ 250만의 폴리머 또는 올리고머가 바람직하다. 상기 성분(E)을 활성에너지선 경화성 점착제에 배합함으로써, 경화 전의 점착성 및 박리성, 경화 후의 강도, 다른 층과의 접착성, 보존 안정성 등을 개선할 수 있다. 상기 성분(E)의 배합량은 특별히 한정되지 않고, 활성에너지선 경화성 중합체(A) 100질량부에 대해서 0질량부 초과, 50질량부 이하의 범위로 적절히 결정된다.Examples of the active energy ray non-curable polymer component or oligomer component (E) include polyacrylic acid esters, polyesters, polyurethanes, polycarbonates, polyolefins, and the like, and have a weight average molecular weight (Mw) of 3000 ~ 2.5 million polymers or oligomers are preferred. By blending the component (E) into the active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, the adhesiveness and peelability before curing, the strength after curing, the adhesiveness to other layers, storage stability, and the like can be improved. The compounding amount of the component (E) is not particularly limited, and is appropriately determined within a range of more than 0 parts by mass and 50 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable polymer (A).

가교제(F)로는, 활성에너지선 경화성 중합체(A) 등이 가지는 관능기와의 반응성을 가지는 다관능성 화합물을 이용할 수 있다. 이러한 다관능성 화합물의 예로는, 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 아민 화합물, 멜라민 화합물, 아지리딘 화합물, 히드라진 화합물, 알데히드 화합물, 옥사졸린 화합물, 금속알콕시드 화합물, 금속킬레이트 화합물, 금속염, 암모늄염, 반응성 페놀 수지 등을 들 수 있다.As the crosslinking agent (F), a polyfunctional compound having reactivity with a functional group of the active energy ray-curable polymer (A) or the like can be used. Examples of such multifunctional compounds include isocyanate compounds, epoxy compounds, amine compounds, melamine compounds, aziridine compounds, hydrazine compounds, aldehyde compounds, oxazoline compounds, metal alkoxide compounds, metal chelate compounds, metal salts, ammonium salts, and reactive phenolic resins. etc. can be mentioned.

가교제(F)의 배합량은, 활성에너지선 경화성 중합체(A) 100질량부에 대해서, 0.01질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 3질량부 이상인 것이 바람직하다. 또한, 가교제(F)의 배합량은, 활성에너지선 경화성 중합체(A) 100질량부에 대해서, 20질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 17질량부 이하인 것이 바람직하다.The compounding amount of the crosslinking agent (F) is preferably 0.01 parts by mass or more, and particularly preferably 3 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable polymer (A). Further, the compounding amount of the crosslinking agent (F) is preferably 20 parts by mass or less, particularly preferably 17 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the active energy ray-curable polymer (A).

다음에, 본 실시형태에서의 점착제층이, 활성에너지선 비경화성 폴리머 성분과 적어도 1개 이상의 활성에너지선 경화성 기를 가지는 모노머 및/또는 올리고머를 함유하는 점착제 조성물로 형성된 것인 경우에 대해서, 이하 설명한다.Next, the case where the pressure-sensitive adhesive layer in the present embodiment is formed of a pressure-sensitive adhesive composition containing an active energy ray non-curable polymer component and a monomer and/or oligomer having at least one active energy ray-curable group is described below. do.

활성에너지선 비경화성 폴리머 성분으로는, 예를 들면, 전술한 아크릴계 공중합체(a1)와 마찬가지의 성분을 사용할 수 있다.As the active energy ray non-curable polymer component, for example, a component similar to that of the acrylic copolymer (a1) described above can be used.

적어도 1개 이상의 활성에너지선 경화성 기를 가지는 모노머 및/또는 올리고머로는, 전술의 성분(B)과 같은 것을 선택할 수 있다. 활성에너지선 비경화성 폴리머 성분과 적어도 1개 이상의 활성에너지선 경화성 기를 가지는 모노머 및/또는 올리고머의 배합비는, 활성에너지선 비경화성 폴리머 성분 100질량부에 대해서, 적어도 1개 이상의 활성에너지선 경화성 기를 가지는 모노머 및/또는 올리고머 1질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 60질량부 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 배합비는, 활성에너지선 비경화성 폴리머 성분 100질량부에 대해서, 적어도 1개 이상의 활성에너지선 경화성 기를 가지는 모노머 및/또는 올리고머 200질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 160질량부 이하인 것이 바람직하다.As the monomer and/or oligomer having at least one or more active energy ray-curable groups, those similar to the above-mentioned component (B) can be selected. The blending ratio of the active energy ray non-curable polymer component and the monomer and/or oligomer having at least one active energy ray curable group is based on 100 parts by mass of the active energy ray non-curable polymer component. It is preferable that it is 1 mass part or more of a monomer and/or oligomer, and it is especially preferable that it is 60 mass parts or more. In addition, the above compounding ratio is preferably 200 parts by mass or less of a monomer and/or oligomer having at least one active energy ray-curable group based on 100 parts by mass of the active energy ray-curable polymer component, and more preferably 160 parts by mass or less. .

이 경우에도, 상기와 마찬가지로, 광중합개시제(C), 첨가제(D)나 가교제(F)를 적절히 배합할 수 있다.Also in this case, the photopolymerization initiator (C), additive (D) and crosslinking agent (F) can be appropriately blended in the same manner as above.

점착제층은, 1 μm 이상인 것이 바람직하고, 특히 5μm 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 두께는, 50μm 이하인 것이 바람직하고, 특히 40μm 이하인 것이 바람직하다. 점착제층의 두께가 상기 범위인 것으로, 워크에 대해 소망의 점착력을 달성하기 쉬워진다.The pressure-sensitive adhesive layer is preferably 1 μm or more, and particularly preferably 5 μm or more. Moreover, it is preferable that the said thickness is 50 micrometers or less, and it is especially preferable that it is 40 micrometers or less. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is within the above range, it is easy to achieve desired adhesive force with respect to the workpiece.

(3) 박리 시트(3) release sheet

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서는, 점착제층에서의 점착면을 워크에 첩부(貼付)할 때까지, 상기 면을 보호하는 목적으로, 상기 면에 박리 시트가 적층되어 있어도 좋다. 박리 시트의 구성은 임의이고, 플라스틱 필름을 박리제 등에 의해 박리 처리한 것이 예시된다. 플라스틱 필름의 구체예로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 및 폴리프로필렌이나 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀 필름을 들 수 있다. 박리제로는, 실리콘계, 불소계, 장쇄 알킬계 등을 이용할 수 있고, 이들 중에서, 염가로 안정한 성능이 얻어지는 실리콘계가 바람직하다. 박리 시트의 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 통상 20μm 이상 250μm 이하이다.In the workpiece processing sheet according to the present embodiment, a release sheet may be laminated on the adhesive face of the pressure-sensitive adhesive layer for the purpose of protecting the face until the face is attached to the work. The configuration of the release sheet is arbitrary, and a release treatment of a plastic film with a release agent or the like is exemplified. Specific examples of the plastic film include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, and polyolefin films such as polypropylene and polyethylene. As the release agent, silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl-based, and the like can be used, and among these, silicone-based, inexpensive and from which stable performance is obtained, is preferable. The thickness of the release sheet is not particularly limited, but is usually 20 μm or more and 250 μm or less.

(4) 그 외의 부재(4) Other members

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서는, 점착제층에서의 점착면에 접착제층이 적층되어 있어도 좋다. 이 경우, 본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트는, 상술한 바와 같이 접착제층을 구비하는 것으로, 다이싱·다이본딩 시트로서 사용할 수 있다. 이러한 워크 가공용 시트에서는, 접착제층에서의 점착제층과는 반대 측의 면에 워크를 첩부하고, 상기 워크와 함께 접착제층을 다이싱함으로써, 개편화된 접착제층이 적층된 칩을 얻을 수 있다. 상기 칩은, 이 개편화된 접착제층에 의해서, 상기 칩이 탑재되는 대상에 대해서 용이하게 고정할 수 있게 된다. 상술한 접착제층을 구성하는 재료로는, 열가소성 수지와 저분자량의 열경화성 접착 성분을 함유하는 것이나, B 스테이지(반경화상)의 열 경화형 접착 성분을 함유하는 것 등을 이용하는 것이 바람직하다.In the sheet for work processing according to the present embodiment, an adhesive layer may be laminated on the adhesive face of the adhesive layer. In this case, the sheet for work processing according to the present embodiment is equipped with an adhesive layer as described above, and can be used as a dicing die-bonding sheet. In such a sheet for processing a workpiece, a chip in which the separated adhesive layer is laminated can be obtained by attaching the workpiece to the surface of the adhesive layer opposite to the adhesive layer and dicing the adhesive layer together with the workpiece. The chip can be easily fixed to the object on which the chip is mounted by this segmented adhesive layer. As the material constituting the above-described adhesive layer, it is preferable to use a material containing a thermoplastic resin and a low molecular weight thermosetting adhesive component, or a material containing a B-stage (semi-curing) thermosetting adhesive component.

또한, 본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서는, 점착제층에서의 점착면에 보호막 형성층이 적층되어 있어도 좋다. 이 경우, 본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트는, 보호막 형성 겸 다이싱용 시트로서 사용할 수 있다. 이러한 워크 가공용 시트에서는, 보호막 형성층에서의 점착제층과는 반대 측의 면에 워크를 첩부하고, 상기 워크와 함께 보호막 형성층을 다이싱함으로써, 개편화된 보호막 형성층이 적층된 칩을 얻을 수 있다. 상기 워크로는, 한쪽면에 회로가 형성된 것이 사용되는 것이 바람직하고, 이 경우, 통상, 상기 회로가 형성된 면과는 반대 측의 면에 보호막 형성층이 적층된다. 개편화된 보호막 형성층은, 소정의 타이밍에 경화시킴으로써, 충분한 내구성을 가지는 보호막을 칩으로 형성할 수 있다. 보호막 형성층은, 미경화의 경화성 접착제로 이루어지는 것이 바람직하다.In the sheet for work processing according to the present embodiment, a protective film forming layer may be laminated on the adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer. In this case, the sheet for work processing according to the present embodiment can be used as a sheet for forming a protective film and for dicing. In such a sheet for processing a workpiece, a chip in which the separated protective film forming layer is laminated can be obtained by attaching the workpiece to the surface opposite to the pressure-sensitive adhesive layer in the protective film forming layer and dicing the protective film forming layer together with the workpiece. As the work, it is preferable to use one having a circuit formed on one side thereof, and in this case, usually, a protective film forming layer is laminated on the side opposite to the side on which the circuit is formed. By curing the separated protective film forming layer at a predetermined timing, a protective film having sufficient durability can be formed into a chip. The protective film forming layer is preferably composed of an uncured curable adhesive.

또한 본원 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트는, 산소원자 비율 R0 및 산소원자 비율 R100이 각각 전술한 범위로 되어 있지만, 점착제층에 대해서 상술한 접착제층 또는 보호막 형성층이 적층되는 경우에는, 이러한 층이 적층되기 전의 점착제층에 대해, 산소원자 비율 R0 및 산소원자 비율 R100이 각각 전술한 범위가 되면 좋다.In the workpiece processing sheet according to the embodiment of the present application, the oxygen atom ratio R 0 and the oxygen atom ratio R 100 are within the above-mentioned ranges, respectively. For the pressure-sensitive adhesive layer before layering, the oxygen atom ratio R 0 and the oxygen atom ratio R 100 may each fall within the above-mentioned ranges.

3.워크 가공용 시트의 제조방법3. Manufacturing method of sheet for work processing

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트의 제조방법은 특별히 한정되지 않고, 바람직하게는, 본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트는, 기재의 한쪽면 측에 점착제층을 적층함으로써 제조된다.The method for producing the sheet for work processing according to the present embodiment is not particularly limited, and preferably, the sheet for work processing according to the present embodiment is manufactured by laminating a pressure-sensitive adhesive layer on one side of a base material.

기재의 한쪽면 측에의 점착제층의 적층은, 공지 방법에 따라 행할 수 있다. 예를 들면, 박리 시트 상에 형성한 점착제층을, 기재의 한쪽면 측에 전사하는 것이 바람직하다. 이 경우, 점착제층을 구성하는 점착제 조성물, 및 소망에 따라 용매 또는 분산매를 더 함유하는 도공액을 조제하고, 박리 시트의 박리 처리된 면(이하 「박리면」이라고 하는 경우가 있다.) 상에, 다이 코터, 커텐 코터, 스프레이 코터, 슬릿 코터, 나이프 코터 등에 의해 그 도공액을 도포하여 도막을 형성하고, 상기 도막을 건조시킴으로써, 점착제층을 형성할 수 있다. 도공액은, 도포를 행할 수 있으면 그 성상은 특별히 한정되지 않고, 점착제층을 형성하기 위한 성분을 용질로서 함유하는 경우도 좋거나, 분산질로서 함유하는 경우도 좋다. 이 적층체에서의 박리 시트는 공정 재료로서 박리해도 좋고, 워크 가공용 시트를 워크에 첩부할 때까지, 점착제층의 점착면을 보호하기 위해서 이용해도 좋다.Lamination of the pressure-sensitive adhesive layer on one side of the base material can be performed in accordance with a known method. For example, it is preferable to transfer the pressure-sensitive adhesive layer formed on the release sheet to one side of the base material. In this case, a coating solution containing the pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer and, if desired, a solvent or a dispersion medium is prepared, and applied onto the release-treated surface (hereinafter sometimes referred to as "release surface") of the release sheet. , A pressure-sensitive adhesive layer can be formed by applying the coating solution with a die coater, curtain coater, spray coater, slit coater, knife coater or the like to form a coating film, and drying the coating film. The properties of the coating liquid are not particularly limited as long as it can be applied, and may contain a component for forming the pressure-sensitive adhesive layer as a solute or as a dispersoid. The release sheet in this layered body may be peeled off as a process material, or may be used to protect the adhesive face of the pressure-sensitive adhesive layer until the sheet for work processing is attached to the work.

점착제층을 형성하기 위한 도공액이 가교제를 함유하는 경우에는, 상기의 건조의 조건(온도, 시간 등)을 바꾸는 것으로, 또는 가열 처리를 별도 설치하는 것으로, 도막 내의 활성에너지선 경화성 중합체(A) 또는 활성에너지선 비경화성 폴리머와 가교제의 가교반응을 진행시켜, 점착제층 내에 소망한 존재 밀도로 가교 구조를 형성시키면 좋다. 이 가교반응을 충분히 진행시키기 위해서, 상기의 방법 등에 의해 기재에 점착제층을 적층시킨 후, 얻어진 워크 가공용 시트를, 예를 들면 23℃, 상대습도 50%의 환경에 수일간 정치하는 것과 같은 양생을 행해도 좋다.When the coating solution for forming the pressure-sensitive adhesive layer contains a crosslinking agent, by changing the above drying conditions (temperature, time, etc.) or by separately providing heat treatment, the active energy ray-curable polymer (A) in the coating film Alternatively, a crosslinking reaction between the active energy ray non-curable polymer and the crosslinking agent may be promoted to form a crosslinked structure at a desired density in the pressure-sensitive adhesive layer. In order to sufficiently advance this crosslinking reaction, after laminating the pressure-sensitive adhesive layer on the base material by the above method or the like, curing such as leaving the obtained sheet for work processing in an environment of, for example, 23°C and 50% relative humidity for several days is carried out. You may do it.

상술한 바와 같이 박리 시트 상에서 형성한 점착제층을 기재의 한쪽면 측에 전사하는 대신에, 기재 상에서 직접 점착제층을 형성해도 좋다. 이 경우, 전술한 점착제층을 형성하기 위한 도공액을 기재의 한쪽면 측에 도포하여 도막을 형성하고, 상기 도막을 건조시킴으로써, 점착제층을 형성한다.As described above, instead of transferring the pressure-sensitive adhesive layer formed on the release sheet to one side of the substrate, the pressure-sensitive adhesive layer may be formed directly on the substrate. In this case, the coating solution for forming the above-described pressure-sensitive adhesive layer is applied to one side of the substrate to form a coating film, and the coating film is dried to form the pressure-sensitive adhesive layer.

4.워크 가공용 시트의 사용 방법4. How to use the workpiece processing sheet

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트는, 워크의 가공을 위해서 사용할 수 있다. 즉, 본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트의 점착면을 워크에 첩부한 후, 워크 가공용 시트 상에서 워크의 가공을 행할 수 있다. 상기 가공에 따라, 본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트는, 백 그라인드 시트, 다이싱 시트, 익스팬드 시트, 픽업 시트 등으로서 사용할 수 있다. 여기서, 워크의 예로는, 반도체 웨이퍼, 반도체 패키지 등의 반도체 부재, 유리판 등의 유리 부재를 들 수 있다.The sheet for processing a workpiece according to the present embodiment can be used for processing a workpiece. That is, after the adhesive surface of the workpiece processing sheet according to the present embodiment is attached to the workpiece, the workpiece can be processed on the workpiece processing sheet. According to the above processing, the workpiece processing sheet according to the present embodiment can be used as a back grind sheet, a dicing sheet, an expand sheet, a pick-up sheet, and the like. Here, as an example of a workpiece, semiconductor members, such as a semiconductor wafer and a semiconductor package, and glass members, such as a glass plate, are mentioned.

또한, 본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트가, 전술한 접착제층을 구비하는 경우에는, 상기 워크 가공용 시트는, 다이싱·다이본딩 시트로서 사용할 수 있다. 또한 본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트가, 전술한 보호막 형성층을 구비하는 경우에는, 상기 워크 가공용 시트는, 보호막 형성 겸 다이싱용 시트로서 사용할 수 있다.In addition, when the sheet|seat for work processing concerning this embodiment is provided with the adhesive layer mentioned above, the sheet|seat for work processing can be used as a dicing die-bonding sheet. In the case where the workpiece processing sheet according to the present embodiment includes the protective film forming layer described above, the workpiece processing sheet can be used as a protective film forming and dicing sheet.

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트에서는, 점착제층 내의 위치 중의 점착면으로부터 깊이 100 nm의 위치에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R100이 전술한 범위인 것으로, 점착제층을 구성하는 점착제가 가공 후의 워크에 부착한 경우에도, 흐르는 물에 의해 상기 점착제를 양호하게 제거할 수 있다. 또한 점착면에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R0이 전술한 범위인 것으로, 가공 후의 워크를 양호하게 분리하기 쉬워진다. 이 때문에, 본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트는, 흐르는 물이 사용되는 가공에 사용하는 것이 적합하고, 특히, 절단 부분에 대해서 흐르는 물을 공급하는 것이 따르는 다이싱에 사용하는 것이 적합하다. 즉, 본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트는, 다이싱 시트로서 사용하는 것이 적합하다.In the sheet for work processing according to the present embodiment, the oxygen atom ratio R 100 measured by X-ray photoelectron spectroscopy at a position at a depth of 100 nm from the adhesive surface among positions in the pressure-sensitive adhesive layer is within the above-mentioned range, and constitutes the pressure-sensitive adhesive layer. Even when the adhesive adheres to the workpiece after processing, the adhesive can be satisfactorily removed with running water. In addition, when the oxygen atom ratio R 0 measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the adhesive surface is within the above-mentioned range, the workpiece after processing can be easily separated. For this reason, the workpiece processing sheet according to the present embodiment is suitable for use in processing in which running water is used, and is particularly suitable for use in dicing involving supplying running water to the cut portion. That is, the workpiece processing sheet according to the present embodiment is preferably used as a dicing sheet.

본 실시형태와 관련되는 워크 가공용 시트를 다이싱 시트로서 사용하는 경우, 다이싱의 조건 및 흐르는 물의 공급 조건으로는, 일반적인 조건을 사용할 수 있다. 특히 흐르는 물의 공급 조건에 관해서, 사용되는 물로는, 순수 등을 사용하는 것이 바람직하다. 물의 공급량으로는, 0.5L/min 이상인 것이 바람직하고, 특히 1 L/min 이상인 것이 바람직하다. 또한, 물의 공급량으로는, 2.5L/min 이하인 것이 바람직하고, 특히 2 L/min 이하인 것이 바람직하다. 또한 물의 온도는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 실온 정도로 하는 것이 바람직하다.In the case of using the sheet for work processing according to the present embodiment as a dicing sheet, general conditions can be used as the dicing conditions and running water supply conditions. Regarding the supply conditions of flowing water in particular, it is preferable to use pure water or the like as the water to be used. The supply amount of water is preferably 0.5 L/min or more, particularly preferably 1 L/min or more. Moreover, as a supply amount of water, it is preferable that it is 2.5 L/min or less, and it is especially preferable that it is 2 L/min or less. The temperature of the water is not particularly limited, and is preferably about room temperature, for example.

〔가공된 워크의 제조방법〕[Manufacturing method of processed work]

본 발명의 일 실시형태와 관련되는 가공된 워크의 제조방법은, 전술한 워크 가공용 시트의 점착제층에서 기재와는 반대 측의 면과 워크를 첩합하는 첩합 공정, 워크 가공용 시트 상에서 워크를 가공하여, 워크 가공용 시트 상에 적층된 가공된 워크를 얻는 가공 공정, 점착제층에 대해서 활성에너지선을 조사하여, 점착제층을 경화시켜, 가공된 워크에 대한 워크 가공용 시트의 점착력을 저하시키는 조사 공정, 및 활성에너지선 조사 후의 워크 가공용 시트로부터, 가공된 워크를 분리하는 분리 공정을 구비한다.A process for producing a processed workpiece according to an embodiment of the present invention includes a bonding step of bonding the workpiece to the surface on the opposite side to the base material in the pressure-sensitive adhesive layer of the above-described workpiece processing sheet, processing the workpiece on the workpiece processing sheet, A processing step of obtaining a processed workpiece laminated on a workpiece processing sheet, an irradiation step of irradiating the pressure-sensitive adhesive layer with active energy rays to cure the pressure-sensitive adhesive layer and reducing the adhesiveness of the workpiece processing sheet to the processed workpiece, and A separation step of separating the processed workpiece from the workpiece processing sheet after energy ray irradiation is provided.

본 실시형태의 가공된 워크의 제조방법에 사용되는 워크 가공용 시트는, 점착제층을 구성하는 점착제가 가공 후의 워크에 부착한 경우에도, 흐르는 물에 의해 상기 점착제를 양호하게 제거할 수 있는 동시에, 가공된 워크를 양호하게 분리하기 쉬워진다. 이 때문에, 본 실시형태의 가공된 워크의 제조방법에 따르면, 효율적으로 가공된 워크를 제조할 수 있게 된다.In the workpiece processing sheet used in the manufacturing method of a processed workpiece of the present embodiment, even when the adhesive constituting the adhesive layer adheres to the processed workpiece, the adhesive agent can be satisfactorily removed with flowing water, and the processing sheet is processed. It becomes easy to separate the worked work well. For this reason, according to the manufacturing method of the processed workpiece of this embodiment, it becomes possible to manufacture a processed workpiece efficiently.

이하, 본 실시형태의 가공된 워크의 제조방법에서의 각 공정에 대해서 설명한다.Hereinafter, each process in the manufacturing method of the processed workpiece of this embodiment is demonstrated.

(1) 첩합 공정(1) Bonding process

첩합 공정에서의 워크와 워크 가공용 시트의 첩합은, 종래 공지의 수법에 따라 행할 수 있다. 또한 계속되는 가공 공정에서 워크의 다이싱을 행하는 경우에는, 워크 가공용 시트의 점착제층 측의 면에서의, 워크를 첩합하는 영역의 외주 측의 영역에, 링 프레임을 첩합하는 것이 바람직하다. 또한, 사용하는 워크는, 제조하려고 하는 가공된 워크에 따른 소망한 것이어도 좋고, 구체예로는, 전술한 것을 사용할 수 있다.Bonding of the work piece and the sheet for work processing in the bonding step can be performed in accordance with a conventionally known method. Further, when performing dicing of the workpiece in the subsequent processing step, it is preferable to bond the ring frame to the area on the outer peripheral side of the area to which the workpiece is bonded on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer side of the sheet for processing the workpiece. In addition, the workpiece to be used may be a desired one according to the processed workpiece to be manufactured, and as a specific example, the above-mentioned one can be used.

(2) 가공 공정(2) Machining process

가공 공정에서는, 워크에 대해서 소망한 가공을 행할 수 있고, 예를 들면 백 그라인드, 다이싱 등을 행할 수 있다. 이러한 가공은, 종래 공지의 수법에 따라 행할 수 있다.In the processing step, desired processing can be performed on the workpiece, for example, back grinding, dicing, and the like can be performed. This processing can be performed according to a conventionally well-known method.

또한 상기 가공으로서 회전하는 블레이드를 이용한 블레이드 다이싱을 행하는 경우, 일반적으로, 워크와 함께, 워크 가공용 시트에서의 점착제층의 일부가 절단되게 된다. 이 때, 점착제층을 구성하는 점착제가 블레이드에 의해서 말려 올라가서 가공된 워크에 부착하는 경우가 있다. 그렇지만, 본 실시형태의 가공된 워크의 제조방법에 사용되는 워크 가공용 시트에서는, 전술한 바와 같이, 부착한 점착제를 흐르는 물에 의해 양호하게 제거할 수 있다. 이 관점에서, 본 실시형태에서의 가공은, 다이싱인 것이 적합하고, 특히 회전하는 블레이드를 이용한 블레이드 다이싱인 것이 적합하다.In addition, when performing blade dicing using a rotating blade as said process, generally, a part of the adhesive layer in the sheet|seat for work processing is cut together with a workpiece. At this time, the adhesive constituting the adhesive layer may be rolled up by the blade and attached to the processed work. However, in the sheet for processing a workpiece used in the manufacturing method of a processed workpiece of the present embodiment, as described above, the adhered adhesive can be satisfactorily removed with running water. From this point of view, the processing in the present embodiment is preferably dicing, and blade dicing using rotating blades is particularly suitable.

(3) 조사 공정(3) Irradiation process

조사 공정에서는, 가공된 워크에 대한 워크 가공용 시트의 점착력을 소망한 정도 저하시킬 수 있는 한, 활성에너지선의 조사의 조건은 한정되지 않고, 종래 공지의 수법에 기초해 행할 수 있다. 사용하는 활성에너지선의 종류로는, 예를 들면, 전리방사선, 즉, X선, 자외선, 전자선 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 비교적 조사 설비의 도입이 용이한 자외선이 바람직하다.In the irradiation step, the conditions for irradiation with active energy rays are not limited as long as the adhesive force of the workpiece processing sheet to the processed workpiece can be reduced to a desired degree, and it can be performed based on a conventionally known method. Examples of the type of active energy rays to be used include ionizing radiation, that is, X-rays, ultraviolet rays, electron beams, and the like, and among these, ultraviolet rays, which are relatively easy to introduce into an irradiation facility, are preferable.

(4) 분리 공정(4) separation process

분리 공정에서는, 가공의 종류나 얻어진 가공된 워크에 따른 방법에 따라, 분리를 행한다. 예를 들면, 가공으로서 다이싱을 행하고, 상기 다이싱에 의해서, 워크가 개편화되어 이루어지는 칩이 얻어지는 경우에는, 종래 공지의 픽업 장치를 이용하여, 얻어진 칩을 개개로 워크 가공용 시트로부터 픽업한다. 또한, 상기 픽업을 용이하게 하기 위해서, 워크 가공용 시트를 익스팬드하여, 가공된 워크끼리 이간시켜도 좋다.In the separation step, separation is performed according to the type of processing or the method according to the obtained processed work. For example, when dicing is performed as a process and chips formed by dividing the workpiece into pieces are obtained by the dicing, the obtained chips are individually picked up from the workpiece processing sheet using a conventionally known pick-up device. Further, in order to facilitate the pick-up, the sheet for processing the workpiece may be expanded to separate the processed workspieces.

(5) 그 외(5) others

본 실시형태의 가공된 워크의 제조방법에서는, 상술한 공정 이외의 공정을 설치해도 좋다. 예를 들면, 첩합 공정 후에, 얻어진 워크와 워크 가공용 시트의 적층체를 소정의 위치에 반송하는 반송 공정이나, 상기 적층체를 소정의 기간 보관하는 보관 공정 등을 설치해도 좋다. 또한, 분리 공정 후에, 얻어진 가공된 워크를, 소정의 기반 등에 마운트하는 마운트 공정 등을 설치해도 좋다.In the manufacturing method of the processed workpiece of this embodiment, you may provide processes other than the process mentioned above. For example, after the bonding step, you may provide a conveying step of conveying the obtained laminated body of the workpiece and the workpiece processing sheet to a predetermined position, a storage step of storing the laminated body for a predetermined period of time, or the like. Further, after the separation step, a mounting step or the like of mounting the obtained processed work to a predetermined base or the like may be provided.

이상 설명한 실시형태는, 본 발명의 이해를 용이하게 하기 위해서 기재된 것으로, 본 발명을 한정하기 위해서 기재된 것은 아니다. 따라서, 상기 실시형태에 개시된 각 요소는, 본 발명의 기술적 범위에 속하는 모든 설계변경이나 균등물도 포함하는 취지이다.The embodiments described above are described for facilitating understanding of the present invention, and are not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.

예를 들면, 기재와 점착제층의 사이, 또는 기재에서의 점착제층과는 반대 측의 면에는, 그 외의 층이 설치되어도 좋다.For example, another layer may be provided between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer or on the surface of the base material on the side opposite to the pressure-sensitive adhesive layer.

실시예Example

이하, 실시예 등에 의해 본 발명을 한층 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이러한 실시예 등에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically by examples and the like, but the scope of the present invention is not limited to these examples and the like.

〔실시예 1〕[Example 1]

(1) 점착제 조성물의 조제(1) Preparation of pressure-sensitive adhesive composition

아크릴산메틸 20질량부와 아크릴산 2-메톡시에틸 60 질량부와 아크릴산 2-히드록시에틸 20질량부를 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체와, 상기 아크릴계 공중합체 100 g에 대해서 21.4 g(아크릴산 2-히드록시에틸의 몰 수에 대해서 80몰%에 상당한다.)의 메타크릴로일옥시에틸 이소시아네이트(MOI)를 반응시켜, 활성에너지선 경화성 중합체를 얻었다. 이 활성에너지선 경화성 중합체의 중량평균분자량(Mw)을 후술하는 방법으로 측정했는데, 60만이었다.An acrylic copolymer obtained by copolymerizing 20 parts by mass of methyl acrylate, 60 parts by mass of 2-methoxyethyl acrylate, and 20 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, and 21.4 g (2-hydroxyethyl acrylate) based on 100 g of the acrylic copolymer It corresponds to 80 mol% with respect to the number of moles) of methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI) was reacted to obtain an active energy ray-curable polymer. When the weight average molecular weight (Mw) of this active energy ray-curable polymer was measured by the method described later, it was 600,000.

얻어진 활성에너지선 경화성 중합체 100질량부(고형분 환산, 이하 동일)와 광중합개시제로서의 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(BASF 사 제, 제품명 「IRGACURE 184」) 3질량부와, 가교제로서의 톨루엔 디이소시아네이트(TOSOH CORPORATION 제, 제품명 「Coronate L」) 9.32질량부와 첨가제로서의 활성에너지선 중합성 분기 중합체(Nissan Chemical Industries, Ltd. 제, 제품명 「OD-007」, 중량평균분자량:14000) 0.18질량부를 용매 중에서 혼합하여, 점착제 조성물을 얻었다.100 parts by mass of the obtained active energy ray-curable polymer (in terms of solid content, the same hereinafter), 3 parts by mass of 1-hydroxycyclohexylphenylketone (manufactured by BASF, product name "IRGACURE 184") as a photopolymerization initiator, and toluene diisocyanate as a crosslinking agent ( TOSOH CORPORATION, product name "Coronate L") 9.32 parts by mass and active energy ray polymerizable branched polymer as an additive (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., product name "OD-007", weight average molecular weight: 14000) 0.18 parts by mass in a solvent By mixing, an adhesive composition was obtained.

(2) 점착제층의 형성(2) Formation of pressure-sensitive adhesive layer

두께 38μm의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 한쪽면에 실리콘계의 박리제층이 형성되어 이루어지는 박리 시트(LINTEC Corporation 제, 제품명 「SP-PET381031」)의 박리면에 대해서, 상기 점착제 조성물을 도포하고, 가열에 의해 건조시킨 후, 23℃, 50%RH의 조건 하에서 7일간 양생함으로써, 박리 시트 상에 두께 5μm의 점착제층을 형성했다.The pressure-sensitive adhesive composition is applied to the release surface of a release sheet (manufactured by Lintec Corporation, product name "SP-PET381031") in which a silicone-based release agent layer is formed on one side of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm, and dried by heating. After that, by curing for 7 days under conditions of 23° C. and 50% RH, a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 5 μm was formed on the release sheet.

(3) 워크 가공용 시트의 제작(3) Manufacture of sheet for workpiece processing

상기 공정(2)에서 형성한 점착제층의 박리 시트와는 반대 측의 면과 기재로서의 두께 80μm의 에틸렌-메타크릴산 공중합체(EMAA) 필름의 한쪽면을 첩합하여, 워크 가공용 시트를 얻었다.The side opposite to the release sheet of the pressure-sensitive adhesive layer formed in the step (2) and one side of an 80 μm-thick ethylene-methacrylic acid copolymer (EMAA) film as a substrate were bonded together to obtain a sheet for work processing.

여기서, 전술한 중량평균분자량(Mw)은, 겔투과 크로마토그래피(GPC)를 이용하여 측정(GPC 측정)한 표준 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량이다.Here, the above-mentioned weight average molecular weight (Mw) is a weight average molecular weight in terms of standard polystyrene measured using gel permeation chromatography (GPC) (GPC measurement).

〔실시예 2 및 비교예 1 ~ 3〕[Example 2 and Comparative Examples 1 to 3]

아크릴계 공중합체의 조성, 가교제의 함유량 및 첨가제의 함유량을 표 1에 나타낸 바와 같이 변경하는 이외에, 실시예 1과 마찬가지로 하여 워크 가공용 시트를 제조했다.A sheet for workpiece processing was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the composition of the acrylic copolymer, the content of the crosslinking agent, and the content of the additive were changed as shown in Table 1.

〔시험예 1〕(산소원자 비율의 측정)[Test Example 1] (measurement of oxygen atom ratio)

실시예 및 비교예에서 제조한 워크 가공용 시트로부터 박리 시트를 박리하고, 노출한 점착제층의 노출면(점착면)에서의 산소원자 비율(%) 및 상기 노출면으로부터 깊이 100 nm의 위치에서 점착제층 내의 산소원자 비율(%)을, X선 광전자 분광분석 장치(ULVAC-PHI, INCORPORATED 제, 제품명 「PHI Quantera SXM」)을 이용하여 측정해, 각각 「0 nm의 위치」의 산소원자 비율(%) 및 「100 nm의 위치」의 산소원자 비율(%)로 했다. 결과를 표 1에 나타낸다.The release sheet was peeled off from the sheet for work processing prepared in Examples and Comparative Examples, and the oxygen atom ratio (%) on the exposed surface (adhesive surface) of the exposed pressure-sensitive adhesive layer and the pressure-sensitive adhesive layer at a depth of 100 nm from the exposed surface The oxygen atom ratio (%) in the inside was measured using an X-ray photoelectron spectroscopy device (manufactured by ULVAC-PHI, INCORPORATED, product name “PHI”Quantera”SXM”), and the oxygen atom ratio (%) at each “position of 0 nm” and oxygen atom ratio (%) at the "position of 100 nm". The results are shown in Table 1.

〔시험예 2〕(점착력의 측정)[Test Example 2] (measurement of adhesive force)

실시예 및 비교예에서 제조한 워크 가공용 시트로부터 박리 시트를 박리하고, 노출한 점착제층의 노출면을 경면 가공한 6인치 실리콘 웨이퍼의 경면에 적층하고, 2 kg의 롤러를 1회 왕복시킴으로써 하중을 가해 첩합하고, 20분 방치하여 점착력 측정용 샘플을 얻었다.The release sheet was peeled off from the sheet for work processing produced in Examples and Comparative Examples, the exposed surface of the exposed pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the mirror surface of a 6-inch silicon wafer subjected to mirror polishing, and a 2 kg roller was reciprocated once to apply a load. It was applied and bonded, and left to stand for 20 minutes to obtain a sample for measuring adhesive strength.

상기 점착력 측정용 샘플에 대해서, 실리콘 웨이퍼로부터, 박리 속도 300 mm/min, 박리 각도 180°로 워크 가공용 시트를 박리하고, JIS Z0237:2009에 준한 180°박리법에 따라, 실리콘 웨이퍼에 대한 점착력 (mN/25 mm)를 측정했다. 그 결과를 자외선 조사 전(UV 전)의 점착력으로서 표 1에 나타낸다.With respect to the sample for measuring the adhesive force, the sheet for work processing was peeled from the silicon wafer at a peeling rate of 300 mm/min and a peeling angle of 180 °, and in accordance with the 180 ° peeling method according to JIS Z0237: 2009, the adhesive force to the silicon wafer ( mN/25 mm) was measured. The results are shown in Table 1 as adhesive strength before ultraviolet irradiation (before UV).

〔시험예 3〕(점착제의 제거성의 평가)[Test Example 3] (Evaluation of adhesive removability)

실시예 및 비교예에서 제조한 워크 가공용 시트로부터 박리 시트를 박리하고, 노출한 점착제층의 노출면에, 테이프 마운터(LINTEC Corporation 제, 제품명 「Adwill RAD2500m/12」)를 이용하고, #2000 연마한 6인치 실리콘 웨이퍼(두께:150μm)의 연마면을 첩부했다. 계속해서, 다이싱 장치(DISCO Corporation 제, 제품명 「DFD-6361」)를 이용하고, 이하의 다이싱 조건에서 절단부에 흐르는 물을 공급하면서 6인치 실리콘 웨이퍼측에 절단하는 다이싱을 행했다.The release sheet was peeled off from the sheet for work processing produced in Examples and Comparative Examples, and the exposed surface of the exposed pressure-sensitive adhesive layer was polished with #2000 using a tape mounter (manufactured by Lintec Corporation, product name "Adwill RAD2500m/12"). The polished surface of a 6-inch silicon wafer (thickness: 150 μm) was affixed. Then, using a dicing device (manufactured by DISCO Corporation, product name "DFD-6361"), dicing was performed to cut the 6-inch silicon wafer side while supplying flowing water to the cutting portion under the following dicing conditions.

<다이싱 조건><Dicing conditions>

·다이싱 장치:DISCO Corporation 제 DFD-6361・Dicing device: DFD-6361 manufactured by DISCO Corporation

·블레이드   :DISCO Corporation 제 NBC-2H 2050 27HECC・Blade    :manufactured by DISCO Corporation  NBC-2H 2050 27HECC

·블레이드 폭  :0.025 ~ 0.030mm・Blade width   :0.025 ~ 0.030mm

·칼끝 돌출량  :0.640 ~ 0.760mm・Amount of protruding knife tip   :0.640 ~ 0.760mm

·블레이드 회전수:50000rpm・Blade rotation speed: 50000 rpm

·절삭속도   :20mm/sec·Cutting speed    :20mm/sec

·노치 깊이 :워크 가공용 시트에서의 점착제층 측의 면으로부터 15μmNotch depth: 15 μm from the surface of the pressure-sensitive adhesive layer side of the sheet for work processing

·흐르는 물 공급량  :1.0L/min· Flowing water supply volume: 1.0L/min

·흐르는 물 온도   :실온・Temperature of running water = room temperature

·컷팅 사이즈 :10mm×10mm・Cutting size: 10mm×10mm

상기 다이싱에 의해 얻어진 칩을, 워크 가공용 시트로부터 20개 분리하고, 이것들에 점착제가 부착되어 있는지를 목시로 확인했다. 그리고, 이하의 기준에 기초하여, 점착제의 제거성을 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Twenty chips obtained by the dicing were separated from the sheet for work processing, and it was visually confirmed whether or not an adhesive was adhered to them. And based on the following criteria, the removability of the adhesive was evaluated. The results are shown in Table 1.

○:점착제가 부착되어 있는 칩이 0개이었다.○: The number of chips to which the adhesive was attached was 0.

×:점착제가 부착되어 있는 칩이 1개 이상이었다.x: The number of chips to which the adhesive was attached was one or more.

 〔시험예 4〕(분리성의 평가)[Test Example 4] (Evaluation of separability)

실시예 및 비교예에서 제조한 워크 가공용 시트를 이용하고, 시험예 3과 마찬가지로 다이싱을 행했다. 다이싱의 완료 후, 워크 가공용 시트 측의 면에, 자외선 조사 장치(LINTEC Corporation 제, 제품명 「RAD-2000」)를 이용하여 자외선(UV)을 조사해(조도:230mW/㎠, 광량:190mJ/㎠), 점착제층을 경화시켰다. 그 후, 얻어진 모든 칩을 워크 가공용 시트로부터 픽업했다. 이 때, 워크 가공용 시트에서의 유리 칩이 첩부된 면과는 반대 측의 면으로부터, 니들에 의한 돌상(突上)을 행했다(니들 수:4개, 돌상 속도:50mm/초, 돌상 높이:0.5 mm). 이 때의 픽업의 상황에 기초하여, 이하의 기준으로, 칩을 워크 가공용 시트로부터 분리할 때의 분리성을 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Dicing was performed in the same manner as in Test Example 3 using the sheets for workpiece processing produced in Examples and Comparative Examples. After completion of dicing, the surface of the sheet for work processing is irradiated with ultraviolet rays (UV) using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Lintec Corporation, product name "RAD-2000") (illuminance: 230 mW/cm2, light amount: 190 mJ/cm2) ), the pressure-sensitive adhesive layer was cured. After that, all the obtained chips were picked up from the workpiece processing sheet. At this time, from the surface opposite to the surface on which the glass chips were attached in the workpiece processing sheet, protrusion was performed with a needle (number of needles: 4, protrusion speed: 50 mm/sec, protrusion height: 0.5 mm). Based on the pickup condition at this time, the separability at the time of separating the chips from the sheet for work processing was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.

○:어떤 문제도 없이 픽업할 수 있었다.○: We were able to pick up without any problems.

×:칩의 분리가 생기거나, 칩의 파손이 생긴 것에 의해, 양호하게 픽업할 수 없었다.x: Unsatisfactory pick-up was not possible due to separation of the chip or damage to the chip.

또한 표 1에 기재된 약호 등의 상세는 이하와 같다.In addition, the details of the abbreviation and the like described in Table 1 are as follows.

BA:아크릴산부틸BA: butyl acrylate

MMA:메타크릴산메틸MMA: methyl methacrylate

MA:아크릴산메틸MA: methyl acrylate

2MEA:아크릴산 2-메톡시에틸2MEA: 2-methoxyethyl acrylate

HEA:아크릴산 2-히드록시에틸HEA: 2-hydroxyethyl acrylate

Figure 112020029676118-pct00001
Figure 112020029676118-pct00001

표 1로부터 알 수 있듯이, 실시예에서 얻어진 워크 가공용 시트에 따르면, 흐르는 물에 의해서 점착제를 양호하게 제거할 수 있는 동시에, 가공 후의 워크를 양호하게 분리할 수 있었다.As can be seen from Table 1, according to the sheets for workpiece processing obtained in Examples, the adhesive could be satisfactorily removed with running water and the workpiece after processing could be separated satisfactorily.

본 발명의 워크 가공용 시트는, 다이싱에 적합하게 사용할 수 있다.The sheet for workpiece processing of the present invention can be suitably used for dicing.

Claims (6)

기재, 및 상기 기재에서 한쪽면 측에 적층된 점착제층을 구비하는 워크 가공용 시트로서,
상기 점착제층은, 활성에너지선 경화성 점착제로 구성되어 있고,
상기 점착제층에서 상기 기재와는 반대 측의 면에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R0은, 28원자% 이하이고,
상기 점착제층 내의 위치 중에, 상기 점착제층에서 상기 기재와는 반대 측의 면으로부터 깊이 100 nm의 위치에서 X선 광전자 분광분석으로 측정한 산소원자 비율 R100은, 20원자% 이상 29원자% 이하인 것을 특징으로 하는, 워크 가공용 시트.
A sheet for work processing comprising a substrate and an adhesive layer laminated on one side of the substrate,
The pressure-sensitive adhesive layer is composed of an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive,
In the pressure-sensitive adhesive layer, the oxygen atom ratio R 0 measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the side opposite to the substrate is 28 atomic% or less,
Among the positions in the pressure-sensitive adhesive layer, the oxygen atom ratio R 100 measured by X-ray photoelectron spectroscopy at a depth of 100 nm from the surface on the side opposite to the substrate in the pressure-sensitive adhesive layer is 20 atomic% or more and 29 atomic% or less Characterized by a sheet for work processing.
제1항에 있어서,
상기 산소원자 비율 R0의 값은, 상기 산소원자 비율 R100의 값보다도 크고,
하기 식(1)
산소원자 비율의 감소율(%)={(산소원자 비율 R0-산소원자 비율 R100)/산소원자 비율 R0}×100…(1)
로부터 산출되는 산소원자 비율의 감소율은, 0% 이상 15% 이하인 것을 특징으로 하는, 워크 가공용 시트.
According to claim 1,
The value of the oxygen atom ratio R 0 is greater than the value of the oxygen atom ratio R 100 ,
Equation (1)
Reduction rate (%) of oxygen atom ratio = {(Oxygen atom ratio R 0 -Oxygen atom ratio R 100 )/Oxygen atom ratio R 0 }×100 . (One)
A sheet for work processing, characterized in that the reduction rate of the oxygen atom ratio calculated from is 0% or more and 15% or less.
제1항에 있어서,
상기 활성에너지선 경화성 점착제는, 활성에너지선 중합성 분기 중합체를 함유하는 점착제 조성물로 형성된 점착제인 것을 특징으로 하는, 워크 가공용 시트.
According to claim 1,
The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive is a pressure-sensitive adhesive formed of a pressure-sensitive adhesive composition containing an active energy ray-polymerizable branched polymer, characterized in that, a sheet for work processing.
제3항에 있어서,
상기 점착제 조성물은, 관능기 함유 모노머 단위를 가지는 아크릴계 공중합체와 상기 관능기에 결합하는 관능기를 가지는 불포화기 함유 화합물을 반응시켜 얻어지는 활성에너지선 경화성 중합체를 함유하는 것이고,
상기 아크릴계 공중합체는, 중합체를 구성하는 모노머 단위로서 아크릴산메틸, (메타)아크릴산 2-메톡시에틸, (메타)아크릴산에틸 카비톨 및 (메타)아크릴산 메톡시에틸렌글리콜로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는, 워크 가공용 시트.
According to claim 3,
The pressure-sensitive adhesive composition contains an active energy ray-curable polymer obtained by reacting an acrylic copolymer having a functional group-containing monomer unit with an unsaturated group-containing compound having a functional group bonded to the functional group,
The acrylic copolymer contains at least one selected from methyl acrylate, 2-methoxyethyl (meth)acrylate, ethyl carbitol (meth)acrylate and methoxyethylene glycol (meth)acrylate as a monomer unit constituting the polymer. A sheet for work processing, characterized in that:
제1항에 있어서, 
다이싱 시트인 것을 특징으로 하는, 워크 가공용 시트.
According to claim 1,
A sheet for work processing characterized in that it is a dicing sheet.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 워크 가공용 시트의 상기 점착제층에서 상기 기재와는 반대 측의 면과 워크를 첩합하는 첩합 공정,
상기 워크 가공용 시트 상에서 상기 워크를 가공하여, 상기 워크 가공용 시트 상에 적층된 가공된 워크를 얻는 가공 공정,
상기 점착제층에 대해서 활성에너지선을 조사하여, 상기 점착제층을 경화시켜, 상기 가공된 워크에 대한 상기 워크 가공용 시트의 점착력을 저하시키는 조사 공정, 및
활성에너지선 조사 후의 상기 워크 가공용 시트로부터, 상기 가공된 워크를 분리하는 분리 공정,
을 구비하는 것을 특징으로 하는, 가공된 워크의 제조방법.
A bonding step of bonding a surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the sheet for processing a workpiece according to any one of claims 1 to 5 and a workpiece on the side opposite to the base material;
A processing step of processing the work on the work processing sheet to obtain a processed work laminated on the work processing sheet;
An irradiation step of irradiating the pressure-sensitive adhesive layer with active energy rays to cure the pressure-sensitive adhesive layer and reducing the adhesiveness of the workpiece processing sheet to the processed workpiece; and
a separation step of separating the processed workpiece from the workpiece processing sheet after irradiation with active energy rays;
Characterized in that it comprises a, manufacturing method of the processed work.
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