KR102493648B1 - Polyimide film having excellent resilence property - Google Patents

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Abstract

본 발명은 적어도 1종의 디아민; 및 적어도 1종의 산이무수물을 포함하여 공중합된 폴리이미드 필름으로서, 보다 상세하게는 높은 레질리언스(Modulus of Resilienc)와 항복강도로 인해 우수한 복원성과 고굴곡 특성을 동시에 확보하여 디스플레이의 커버윈도우로 사용될 수 있는 폴리이미드 필름을 제공한다.The present invention relates to at least one diamine; And at least one kind of acid dianhydride as a copolymerized polyimide film, more specifically, due to its high modulus of resiliency and yield strength, it simultaneously secures excellent resilience and high flexural properties and can be used as a cover window for a display. A polyimide film that can be used is provided.

Description

우수한 복원 특성을 갖는 폴리이미드 필름{POLYIMIDE FILM HAVING EXCELLENT RESILENCE PROPERTY}Polyimide film having excellent restoring properties {POLYIMIDE FILM HAVING EXCELLENT RESILENCE PROPERTY}

본 발명은 폴리이미드 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 높은 레질리언스(Modulus of Resilience)와 항복강도로 인해 우수한 복원력과 고굴곡 특성을 동시에 가져 디스플레이의 커버윈도우로 사용될 수 있는 폴리이미드 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a polyimide film, and more particularly, to a polyimide film that can be used as a cover window of a display because of its high modulus of resilience and yield strength, and thus has excellent resilience and high bending properties at the same time. will be.

액정표시장치(Liquid Crystal Display: LCD), 유기전계발광 표시장치(Organic Light Emitting Display: OLED) 등과 같은 디스플레이 장치의 표면에는 패널을 보호하기 위한 커버 윈도우(Cover Window)가 적용된다. 종래 커버 윈도우의 재질로는 평탄도, 내열성, 내화학성 및 수분이나 기체에 대한 배리어 성능이 우수하고, 선팽창계수(CTE)가 작으며, 광 투과율이 높은 강화 유리가 주로 사용되었다.A cover window for protecting a panel is applied to a surface of a display device such as a liquid crystal display (LCD) or an organic light emitting display (OLED). As a material of a conventional cover window, tempered glass having excellent flatness, heat resistance, chemical resistance, and barrier performance against moisture or gas, a low coefficient of linear expansion (CTE), and high light transmittance has been mainly used.

한편, 최근 곡면 디스플레이나 접이식(in-folding) 디스플레이와 같은 플렉서블 디스플레이들이 개발되고 있다. 이러한 플렉서블 디스플레이에 적용되기 위해서는 커버 윈도우 역시 유연성을 가지고 있어야 하나, 종래 유리 재질의 커버 윈도우는 대체로 무겁고 깨지기 쉬울 뿐 아니라, 유연성이 떨어져 플렉서블 디스플레이에 적합하지 못하다.Meanwhile, flexible displays such as curved displays and in-folding displays are being developed. In order to be applied to such a flexible display, the cover window must also have flexibility, but a conventional glass cover window is generally heavy and easy to break, and is not suitable for a flexible display due to poor flexibility.

상기와 같은 문제점을 해결하고자, 최근에는 성형성이 비교적 자유로운 플라스틱 재질을 이용한 커버 윈도우들이 제안되고 있다. 플라스틱 재질을 이용한 커버 윈도우는 가볍고, 잘 깨지지 않으며, 다양한 디자인을 구현할 수 있다는 장점이 있다. 현재 커버 윈도우용 플라스틱 재료로는 주로 투명성이 우수한 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등이 사용되고 있다. 상기 재료들은 투명성이 우수하다는 장점이 있으나, 유리전이온도(Tg)가 150℃ 이하로 내열 특성이 나쁘고, 내화학성 및 기계적 강도가 떨어져 적용이 제한되고 있다. In order to solve the above problems, recently, cover windows using plastic materials having relatively free moldability have been proposed. A cover window made of a plastic material has the advantage of being light, hard to break, and capable of implementing various designs. Currently, as a plastic material for a cover window, polycarbonate, polyethylene terephthalate, and polymethyl methacrylate having excellent transparency are mainly used. Although these materials have the advantage of excellent transparency, their glass transition temperature (Tg) is less than 150° C., and their application is limited due to their poor heat resistance and poor chemical resistance and mechanical strength.

이러한 점을 보완하고자, 전술한 플라스틱 재료에 두꺼운 하드 코팅층 등을 도입하기도 하였으나, 이 경우 성형시 하드 코팅층에 크랙이 발생하거나 굴곡성이 현저히 저하된다. 특히, 최근에는 플렉서블 형태의 디스플레이를 많이 사용하는데, 외부의 힘에 의한 물리적 변형에 대해 복원력을 개선하는데 한계가 있었다. In order to compensate for this problem, a thick hard coating layer or the like has been introduced to the above-mentioned plastic material, but in this case, cracks occur in the hard coating layer or flexibility is significantly reduced during molding. In particular, in recent years, a flexible display has been widely used, but there is a limit to improving the restoring force against physical deformation caused by an external force.

본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 우수한 복원력과 높은 굴곡성, 기계적 강도, 투명성 등의 제반 물성이 동시에 우수하여 커버 윈도우로 적용될 수 있는 신규 폴리이미드 필름을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and a technical task is to provide a novel polyimide film that can be applied as a cover window with excellent restoring force, high flexibility, mechanical strength, transparency, and other physical properties at the same time. .

본 발명의 다른 목적 및 이점은 하기 발명의 상세한 설명 및 청구범위에 의해 보다 명확하게 설명될 수 있다. Other objects and advantages of the present invention can be more clearly described by the following detailed description and claims.

상기한 기술적 과제를 달성하기 위해, 본 발명은 적어도 1종의 디아민; 및 적어도 1종의 산이무수물을 포함하여 공중합된 폴리이미드 필름으로서, 30 내지 100 ㎛의 두께에서, ASTM D882에 따라 측정된 항복강도(Yield Strength)가 50 내지 200 MPa이고, 레질리언스(Modulus of Resilience)는 0.5 내지 5.0 MPa인 폴리이미드 필름을 제공한다. In order to achieve the above technical problem, the present invention is at least one diamine; And a polyimide film copolymerized with at least one acid dianhydride, wherein the yield strength measured according to ASTM D882 is 50 to 200 MPa at a thickness of 30 to 100 μm, and the Modulus of Resilience) provides a polyimide film that is 0.5 to 5.0 MPa.

본 발명의 일 실시예를 들면, 상기 폴리이미드 필름은, 당해 필름 두께 30 내지 100㎛을 기준으로, 곡률반경 1 내지 10mm에서 72시간 동안 필름에 굴곡을 행한 후의 최초 복원 높이(HI)가 5cm 이하이고, 적어도 1시간 경과 후의 복원 높이(HF)가 3cm 이하일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the polyimide film has an initial restoration height (H I ) of 5 cm after bending the film for 72 hours at a radius of curvature of 1 to 10 mm based on a film thickness of 30 to 100 μm. or less, and the restoration height (H F ) after at least 1 hour may be 3 cm or less.

본 발명의 일 실시예를 들면, ASTM D882에 따라 측정된 당해 필름의 응력-변형 곡선(Stress-Strain Curve)에 있어서, 인장강도 20~40 MPa의 구간 기울기 대비 적어도 80%에 대응되는 임계점의 변형(strain)으로 정의되는 항복 변형(Yield Strain, Y/S)이 2.0% 내지 5.0%일 수 있다. In one embodiment of the present invention, in the stress-strain curve of the film measured according to ASTM D882, the deformation of the critical point corresponding to at least 80% of the slope of the tensile strength range of 20 to 40 MPa Yield Strain (Y/S), defined as strain, may be 2.0% to 5.0%.

본 발명의 일 실시예를 들면, 곡률 반경 1 내지 5mm로 당해 필름을 굴곡시켰을 때 파단까지의 굴곡 횟수가 100,000회 이상일 수 있다. In one embodiment of the present invention, when the film is bent with a radius of curvature of 1 to 5 mm, the number of times of bending until breakage may be 100,000 or more.

본 발명의 일 실시예를 들면, ASTM D882에 따라 측정된 모듈러스가 3 내지 8 GPa 일 수 있다. For one embodiment of the present invention, the modulus measured according to ASTM D882 may be 3 to 8 GPa.

본 발명의 일 실시예를 들면, 두께 30 내지 100 ㎛에서, 파장 550nm의 광 투과율이 85% 이상이며, ASTM E313-73 규격에 의한 황색도가 10 이하일 수 있다. In one embodiment of the present invention, at a thickness of 30 to 100 μm, light transmittance at a wavelength of 550 nm is 85% or more, and yellowness according to the ASTM E313-73 standard may be 10 or less.

본 발명의 일 실시예를 들면, 상기 적어도 1종의 디아민은, 불소화 방향족 제1디아민, 설폰계 방향족 제2디아민, 히드록시계 방향족 제3디아민, 에테르계 방향족 제4디아민, 비불소 방향족 제5 디아민 및 지환족 제6 디아민으로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the at least one type of diamine is a fluorinated aromatic first diamine, a sulfone-based aromatic second diamine, a hydroxy-based aromatic third diamine, an ether-based aromatic fourth diamine, a non-fluorinated aromatic fifth It may include at least one selected from the group consisting of diamines and alicyclic 6th diamines.

본 발명의 일 실시예를 들면, 상기 제1 디아민 내지 제6 디아민의 함량은 각각, 전체 디아민 100 몰%를 기준으로 10 내지 100 몰%일 수 있다. For one embodiment of the present invention, the content of each of the first diamine to the sixth diamine may be 10 to 100 mol% based on 100 mol% of the total diamine.

본 발명의 일 실시예를 들면, 상기 적어도 1종의 산이무수물은 불소화 방향족 제1산이무수물, 비불소화 방향족 제2산이무수물, 설폰계 방향족 제3산이무수물 및 지환족 제4 산이무수물로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the at least one acid dianhydride is from the group consisting of a fluorinated aromatic primary acid dianhydride, a non-fluorinated aromatic secondary acid dianhydride, a sulfonic aromatic tertiary acid dianhydride, and an alicyclic quaternary acid dianhydride. One or more selected species may be included.

본 발명의 일 실시예를 들면, 상기 제1 산이무수물 내지 제4 산이무수물의 함량은 각각 전체 산이무수물 100 몰%를 기준으로 10 내지 100 몰%일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the content of the first to fourth acid dianhydrides may be 10 to 100 mol% based on 100 mol% of the total acid dianhydride.

본 발명의 일 실시예를 들면, 상기 디아민(a)과 상기 산이무수물(b)의 몰수의 비(a/b)는 0.7 내지 1.3 범위일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the ratio (a/b) of the number of moles of the diamine (a) and the acid dianhydride (b) may be in the range of 0.7 to 1.3.

본 발명의 일 실시예를 들면, 상기 폴리이미드 필름은 디스플레이 장치의 커버윈도우로 사용될 수 있다. For example, the polyimide film may be used as a cover window of a display device.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 폴리이미드 필름을 구성하는 소정 성분의 채택 및 이의 함량 조절을 통해 높은 레질리언스과 항복강도를 확보하여 물리적 변형에 대해 우수한 복원성을 나타낼 수 있다. 그리고 인장 탄성영역 기울기를 조절하여 높은 항복변형 및 고굴곡 특성을 구현할 수 있다. According to one embodiment of the present invention, high resilience and yield strength can be secured through the adoption of certain components constituting the polyimide film and control of their contents, thereby exhibiting excellent resilience against physical deformation. In addition, it is possible to realize high yield strain and high flexural characteristics by adjusting the slope of the tensile elastic region.

또한 본 발명에서는 높은 광투과도, 낮은 황색도, 우수한 모듈러스 및 표면경도를 나타내어, 최종 제품의 작업성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다. In addition, in the present invention, it exhibits high light transmittance, low yellowness, excellent modulus and surface hardness, so that the workability and reliability of the final product can be improved.

이에 따라, 본 발명의 폴리이미드 필름은 평판 디스플레이 패널을 비롯한 당 분야의 디스플레이 장치, 플렉서블 디스플레이 등의 커버 윈도우로 유용하게 적용될 수 있으며, 그 외 당 분야에 공지된 IT 제품, 전자제품, 가전제품 등에도 적용 가능하다. Accordingly, the polyimide film of the present invention can be usefully applied as a cover window for display devices, flexible displays, etc. in the field including flat panel display panels, and other IT products, electronic products, home appliances, etc. known in the art. is also applicable.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 보다 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.Effects according to the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more diverse effects are included in the present specification.

도 1 은 본 발명에 따른 폴리이미드 필름을 이용한 인장시험에 있어서, 항복강도(Yield Strength), 항복변형(Yield Strain) 및 레질리언스(Modulus of Resilience)가 정의된 응력-변형 곡선(Stress-Strain Curve) 그래프이다. 1 is a stress-strain curve in which yield strength, yield strain, and modulus of resilience are defined in a tensile test using a polyimide film according to the present invention. Curve) is a graph.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예들은 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 이때 본 명세서 전체 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구조를 지칭한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail. The embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art, and the following examples may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the following embodiments. It is not limited to examples. Here, like reference numerals designate like structures throughout this specification.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않은 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used in this specification may be used in a meaning commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. In addition, terms defined in commonly used dictionaries are not interpreted ideally or excessively unless explicitly specifically defined.

또한, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서 전체에서, "위에" 또는 "상에"라 함은 대상 부분의 위 또는 아래에 위치하는 경우 뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함함을 의미하는 것이며, 반드시 중력 방향을 기준으로 위쪽에 위치하는 것을 의미하는 것은 아니다. 그리고, 본원 명세서에서 "제1", "제2" 등의 용어는 임의의 순서 또는 중요도를 나타내는 것이 아니라 구성요소들을 서로 구별하고자 사용된 것이다.Also, throughout the specification, when a certain part "includes" a certain component, it means that it may further include other components, not excluding other components, unless otherwise stated. In addition, throughout the specification, "above" or "on" means not only the case of being located above or below the target part, but also the case of another part in the middle thereof, and must necessarily specify the direction of gravity It does not mean that it is located above the standard. Also, terms such as "first" and "second" in the present specification do not indicate any order or importance, but are used to distinguish components from each other.

<폴리이미드 필름><Polyimide film>

본 발명의 일 실시예에 따른 폴리이미드 수지 필름은, 디스플레이 장치에 구비될 수 있는 투명 필름으로서, 보다 구체적으로 플렉서블 디스플레이의 커버 윈도우(Cover Window)로 사용될 수 있다. The polyimide resin film according to an embodiment of the present invention is a transparent film that can be included in a display device, and more specifically, can be used as a cover window of a flexible display.

여기서 커버 윈도우는, 플렉시블 디스플레이 장치의 최외각에 배치되어 디스플레이 장치를 보호하는 필름을 지칭한다. 이러한 커버 윈도우는 윈도우 필름 단독이거나, 또는 광학적으로 투명한 수지로 이루어진 별도의 기재(Substrate) 상에 윈도우 코팅층이 형성된 필름일 수 있다. Here, the cover window refers to a film disposed on the outermost surface of the flexible display device to protect the display device. The cover window may be a window film alone or a film having a window coating layer formed on a separate substrate made of an optically transparent resin.

한편 외부에 노출되는 디스플레이의 커버 윈도우는 일상 생활에서 플렉시블(flexibility) 등의 가공 특성과 우수한 광학 특성을 가져야 할 뿐만 아니라, 외부 하중에 의한 물리적 변형에 대해 소정의 복원성을 갖는 것이 필요하다. 특히 커버 윈도우를 폴딩시, 응력에 의한 변형이 항복변형을 넘어가는 경우, 영구변형이 발생하여 더 이상 회복되지 않고 복원이 불가하게 된다. On the other hand, the cover window of the display exposed to the outside needs to have processing characteristics such as flexibility and excellent optical characteristics in daily life, as well as a certain degree of stability against physical deformation caused by external loads. In particular, when the deformation due to stress exceeds the yield deformation when the cover window is folded, permanent deformation is generated, and thus recovery is impossible.

본 발명에서는 필름 재료가 갖는 본연의 물성 중 복원력과 연관되는 특정 물성, 예컨대 레질리언스(modulus of Resilience)와 항복강도(Yield Strength)를 채택하고, 이들 물성을 종래 공지된 플라스틱 재질 및/또는 폴리이미드 필름보다 높게 제어하여 복원성을 개선하고자 한다. 이에 따라, 전술한 폴리이미드 필름을 접이식(foldable) 디스플레이 장치의 커버윈도우로 적용시, 스태틱 폴딩(static folding) 전과 후의 필름 복원력이 우수하며 높은 신뢰성을 제공할 수 있다. 이러한 디스플레이 장치는 당 분야에 공지된 디스플레이 장치에 제한 없이 적용될 수 있으며, 특히 인폴딩(in-folding), 아웃폴딩(out-folding)형 폴더블 디스플레이(foldable display)일 수 있다. In the present invention, among the inherent physical properties of film materials, specific physical properties related to restoring force, such as modulus of resilience and yield strength, are adopted, and these physical properties are conventionally known plastic materials and/or poly We want to improve the stability by controlling it higher than the mid film. Accordingly, when the above-described polyimide film is applied to a cover window of a foldable display device, film resilience before and after static folding is excellent and high reliability can be provided. Such a display device may be applied to any display device known in the art without limitation, and may be in particular an in-folding or out-folding type foldable display.

본 발명의 일 구체예를 들면, 상기 폴리이미드 필름은 적어도 1종의 디아민; 및 적어도 1종의 산이무수물을 포함하여 공중합된 것으로서, 30 내지 100 ㎛의 두께에서, ASTM D882에 따라 측정된 항복강도(Yield Strength)가 50 내지 200 MPa이고, 레질리언스(Modulus of Resilience, R)가 0.5 내지 5.0 MPa일 수 있다. For one embodiment of the present invention, the polyimide film may include at least one type of diamine; And at least one type of acid dianhydride copolymerized, at a thickness of 30 to 100 μm, the yield strength measured according to ASTM D882 is 50 to 200 MPa, and the Modulus of Resilience (R ) may be 0.5 to 5.0 MPa.

여기서, 레질리언스는 하기 [식 1]에 의해 정의된 것일 수 있다. Here, the resilience may be defined by the following [Equation 1].

[식 1] [Equation 1]

Figure 112021025990664-pat00001
Figure 112021025990664-pat00001

(상기 식에서, σ는 항복강도이고, E는 모듈러스임)(In the above formula, σ is the yield strength and E is the modulus)

구체적으로, 레질리언스(R)는 재료의 레올로지(Rheology) 특성 중 하나로서, 영구변형 없이 재료가 흡수할 수 있는 단위 체적 당 에너지를 의미한다. 예컨대, 소정의 재료에 변형을 주었을 때, 작은 변형량에서의 변형은 탄성적이지만, 어떤 조건에서 탄성변형에서 소성변형으로 넘어가면 더 이상 회복되지 않는 영구변형이 발생하게 된다. 즉, 레질리언스는 탄성한도 내에서 재료의 단위체적이 저장할 수 있는 최대 에너지로서, 즉 탄력성 회복력을 나타낸다. 본 발명에서 제어하고자 하는 레질리언스(R), 항복강도(Yield Strength), 후술되는 항복변형(Yield Strain) 등의 물성은 응력-변형 곡선(Stress-Strain Curve, S-S curve)을 통해서 알 수 있다. 이러한 응력-변형 곡선(S-S curve)은 고분자 재료의 인장실험을 통하여 고분자 재료에 가해진 응력(stress)과, 이 응력에 대응하여 나타난 고분자 재료의 변형도(strain) 사이의 관계를 나타낸 그래프상의 곡선으로서, 고분자 재료의 변형의 증가에 따라 요구되는 응력의 크기 변화를 나타내는 곡선이라 할 수 있다. 하기 도 1에 나타난 바와 같이, 일반적으로 가로축(예, x축)에 인장 변형(Strain)을 표시하고 세로축(예, y축)에 응력(인장강도, Stress)을 표시한다.Specifically, resilience (R) is one of the rheological characteristics of a material, and means energy per unit volume that a material can absorb without permanent deformation. For example, when a predetermined material is deformed, the deformation at a small amount of deformation is elastic, but under certain conditions, when the elastic deformation is transferred to the plastic deformation, permanent deformation that is not recovered anymore occurs. That is, resilience is the maximum energy that a unit volume of a material can store within the elastic limit, that is, it represents the elastic recovery force. Physical properties such as resilience (R), yield strength, and yield strain described later to be controlled in the present invention can be known through a stress-strain curve (S-S curve) . This stress-strain curve (S-S curve) is a curve on a graph showing the relationship between the stress applied to the polymer material through the tensile test of the polymer material and the strain of the polymer material in response to the stress , it can be said to be a curve showing the change in the amount of stress required as the strain of the polymer material increases. As shown in FIG. 1 below, in general, tensile strain is displayed on the horizontal axis (eg, x-axis) and stress (tensile strength) is displayed on the vertical axis (eg, y-axis).

본 발명에서, 전술한 레질리언스(Modulus of Resilience), 및 항복강도(Yield Strength) 파라미터 및 그 수치는 당해 폴리이미드 필름의 두께에 영향을 받을 수 있다. 이러한 레질리언스와 항복강도의 수치는 당해 폴리이미드 필름의 두께 30 내지 100 ㎛를 기준으로 측정된 것일 수 있으며, 구체적으로 30 내지 90 ㎛, 보다 구체적으로 80 ± 5 ㎛일 수 있다.In the present invention, the above-described Modulus of Resilience and Yield Strength parameters and their values may be affected by the thickness of the polyimide film. The values of resilience and yield strength may be measured based on a thickness of 30 to 100 μm of the polyimide film, specifically 30 to 90 μm, and more specifically 80 ± 5 μm.

구체적으로, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름은 항복강도(Yield Strength)가 50 내지 195 MPa이고, 레질리언스(Modulus of Resilience, R)가 0.5 내지 4.0 MPa 일 수 있으며, 보다 구체적으로 항복강도(Yield Strength)가 100 내지 190 MPa이고, 레질리언스(Modulus of Resilience, R)가 2.0 내지 3.5 MPa일 수 있다. 전술한 레질리언스와 항복강도(Yield Strength) 파라미터를 만족하는 본 발명의 폴리이미드 필름의 경우, 영구변형 발생 없이 고탄성을 확보하여 우수한 복원 특성을 나타낼 수 있다. Specifically, the polyimide film according to the present invention may have a yield strength of 50 to 195 MPa and a modulus of resilience (R) of 0.5 to 4.0 MPa, and more specifically, the yield strength (Yield Strength). Strength) is 100 to 190 MPa, and the resilience (Modulus of Resilience, R) may be 2.0 to 3.5 MPa. In the case of the polyimide film of the present invention that satisfies the above-described resilience and yield strength parameters, it can exhibit excellent restoring characteristics by securing high elasticity without permanent deformation.

본 발명에 따른 폴리이미드 필름이 이동통신 단말기나 태블릿 PC 등의 커버 윈도우로 사용되기 위해서는, 전술한 레질리언스, 항복강도 특성과 더불어, 우수한 유연성, 고투명도 및 광투과율 등의 우수한 광학 특성, 높은 기계적 특성을 동시에 갖는 것이 바람직하다. In order for the polyimide film according to the present invention to be used as a cover window for a mobile communication terminal or a tablet PC, in addition to the aforementioned resilience and yield strength properties, excellent optical properties such as excellent flexibility, high transparency and light transmittance, high It is desirable to have mechanical properties at the same time.

특히 본 발명의 폴리이미드 필름은, 종래 공지된 플라스틱 재질 및/또는 폴리이미드 필름 대비 높은 항복 변형(Yield Strain)과 고 굴곡 특성을 동시에 갖는 것을 또 다른 특징으로 한다. 이러한 폴리이미드 필름을 인폴딩(in-folding)형 폴더블 모바일폰의 커버윈도우로 적용시, 높은 굴곡성과 고강도를 통해 우수한 내절강도(folding endurance, 耐折强度) 효과를 발휘할 수 있다. In particular, the polyimide film of the present invention is another feature of having high yield strain and high flexural properties at the same time compared to conventionally known plastic materials and/or polyimide films. When such a polyimide film is applied to a cover window of an in-folding type foldable mobile phone, it can exhibit excellent folding endurance and strength through high flexibility and high strength.

일 구체예를 들면, 상기 폴리이미드 필름은, ASTM D882에 따라 측정된 당해 필름의 응력-변형 곡선(Stress-Strain Curve)에 있어서, 인장강도 20~40 MPa의 구간 기울기 대비 적어도 80%에 대응되는 임계점의 변형(strain)으로 정의되는 항복 변형(Yield Strain, Y/S)이 2.0% 내지 5.0%일 수 있다. For example, the polyimide film corresponds to at least 80% of the slope of the tensile strength of 20 to 40 MPa in the stress-strain curve of the film measured according to ASTM D882. A yield strain (Y/S) defined as a strain at a critical point may be 2.0% to 5.0%.

본 명세서에서, 항복 변형은 ASTM D882에 따라 측정된 당해 폴리이미드 필름의 응력-변형 곡선(Stress-Strain Curve)에 있어서, 특정 인장강도 구간(예, 20~40 MPa)에서의 응력-변형 기울기(Stress-Strain slope, X1) 대비 적어도 80% 이상을 갖는 소정 임계점(threshold slope, X2≥X1 × 0.8)의 x 절편값, 즉 인장 변형(Tensile strain)으로 정의된다(하기 도 1 참조). 이러한 항복변형은 본 발명에서 새롭게 정의된 것으로서, 폴리이미드 필름이 갖는 특정 조성에 기인하는 고유한 물성이므로, 종래 폴리이미드 필름과 구별되는 특징에 해당될 수 있다. In the present specification, the yield strain is the stress-strain slope in a specific tensile strength range (eg, 20 to 40 MPa) in the stress-strain curve of the polyimide film measured according to ASTM D882 ( It is defined as the x-intercept value, that is, tensile strain, of a predetermined threshold slope (X 2 ≥X 1 × 0.8) having at least 80% of the Stress-Strain slope, X 1 ) (see FIG. 1 below) . This yield strain is newly defined in the present invention, and since it is a unique physical property due to the specific composition of the polyimide film, it may correspond to a characteristic different from the conventional polyimide film.

구체적으로, 25℃에서 측정하는 인장 시험에 의해 얻어진 응력-변형 곡선(S-S curve)에 있어서, 상기 폴리이미드 필름의 항복 변형(Y/S)은 2.0% 내지 4.8%일 수 있다. 당해 항복 변형(Y/S)은 굴곡 내성을 향상시킨다는 점에서 2.0% 내지 4.0%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2.0 내지 3.8%일 수 있다. 이러한 항복 변형(Y/S) 파라미터를 만족하는 폴리이미드 필름의 경우, 유연성이 현저히 우수하여 반복되는 굴곡 피로에 대한 크랙 발생을 억제하고 뛰어난 굴곡성을 나타낼 수 있다.Specifically, in a stress-strain curve (S-S curve) obtained by a tensile test measured at 25 ° C, the yield strain (Y / S) of the polyimide film may be 2.0% to 4.8%. The yield strain (Y/S) is preferably from 2.0% to 4.0%, more preferably from 2.0% to 3.8% in view of improving the bending resistance. In the case of a polyimide film that satisfies such a yield strain (Y/S) parameter, flexibility is remarkably excellent, and crack generation due to repeated bending fatigue can be suppressed and excellent flexibility can be exhibited.

다른 일 구체예를 들면, 상기 폴리이미드 필름은, 필름 두께 30 내지 100㎛을 기준으로, 곡률반경 1 내지 10mm에서 72시간 동안 필름에 굴곡을 행한 후의 최초 복원 높이(HI)가 5cm 이하이고, 1시간 경과 후의 복원 높이(HF)가 3cm 이하일 수 있다. 구체적으로, 최초 복원 높이(HI)는 3cm 이하일 수 있으며, 1 시간 경과 후의 복원 높이(HF)는 0.5cm 이하일 수 있다. 이때 최초 또는 1시간 경과 후 당해 필름의 복원 높이의 하한치는 특별히 한정되지 않으며, 일례로 0cm 이상일 수 있다.In another embodiment, the polyimide film has an initial restoration height (H I ) of 5 cm or less after bending the film for 72 hours at a radius of curvature of 1 to 10 mm based on a film thickness of 30 to 100 μm, The restoration height after 1 hour (H F ) may be 3 cm or less. Specifically, the initial restoration height (H I ) may be 3 cm or less, and the restoration height (H F ) after 1 hour may be 0.5 cm or less. At this time, the lower limit of the restoration height of the film at the beginning or after 1 hour has elapsed is not particularly limited, and may be, for example, 0 cm or more.

또 다른 일 구체예를 들면, 상기 폴리이미드 필름은 곡률 반경 1mm 내지 5mm로 당해 필름을 굴곡시켰을 때 파단까지의 굴곡 횟수가 100,000회 이상일 수 있다. 특히, 굴곡 반경 1mm로 굴곡시켰을 때 파단까지의 굴곡 횟수가 10만회 이상, 구체적으로 20만회 이상, 바람직하게는 백만(1,000,000)회 이상일 수 있다. 이때 파단까지의 굴곡 횟수의 변형의 상한치는 특별히 한정되지 않으며, 일례로 3,000,000회 이하일 수 있으며, 구체적으로 2,500,000회 이하일 수 있다. For another specific example, when the polyimide film is bent with a radius of curvature of 1 mm to 5 mm, the number of bends until breakage may be 100,000 or more. In particular, when bending with a bending radius of 1 mm, the number of bendings until breakage may be 100,000 or more, specifically 200,000 or more, and preferably 1,000,000 or more. At this time, the upper limit of the deformation of the number of times of bending until fracture is not particularly limited, and may be, for example, 3,000,000 times or less, and specifically, 2,500,000 times or less.

본 발명에 따른 폴리이미드 필름은, 디스플레이의 내스크래치성, 신뢰성 등을 고려하여, 높은 모듈러스의 우수한 기계적 특성을 갖는 것이 바람직하다.The polyimide film according to the present invention preferably has excellent mechanical properties of high modulus in consideration of scratch resistance and reliability of a display.

일 구체예를 들면, 상기 폴리이미드 필름은 3 내지 8 GPa의 모듈러스(Modulus)를 가질 수 있으며, 기계적 경도와 우수한 유연성을 동시에 나타낸다는 측면에서 3.5 내지 7 GPa일 수 있다. 여기서, 모듈러스(modulus)는 ASTM D882에 따라 측정한 값을 의미한다. 상기 모듈러스가 전술한 수치보다 작을 경우 충분한 경도를 발휘하기 어려우며, 전술한 수치보다 클 경우 유연성이 떨어져 폴딩성이 저하될 수 있다.For example, the polyimide film may have a modulus of 3 to 8 GPa, and may be 3.5 to 7 GPa in terms of simultaneously exhibiting mechanical hardness and excellent flexibility. Here, modulus means a value measured according to ASTM D882. When the modulus is smaller than the above-described value, it is difficult to exhibit sufficient hardness, and when the modulus is larger than the above-mentioned value, flexibility may decrease and foldability may deteriorate.

본 발명에 따른 폴리이미드 필름은, 디스플레이 화면의 시인성을 높이기 위해서 고투명도 및 광투과율 등의 우수한 광학 특성을 동시에 갖는 것이 바람직하다.The polyimide film according to the present invention preferably has excellent optical properties such as high transparency and light transmittance at the same time in order to increase the visibility of the display screen.

일 구체예를 들면, 상기 폴리이미드 필름은, 두께 30 내지 100 ㎛에서, 파장 550nm의 광 투과율이 85% 이상이며, 구체적으로 89% 이상, 보다 구체적으로 90% 내지 99%일 수 있다. 또한 ASTM E313-73 규격에 의한 황색도(Y.I.)가 10 이하일 수 있으며, 구체적으로 7 이하, 보다 구체적으로 5 이하일 수 있다. For example, the polyimide film may have a light transmittance of 85% or more, specifically 89% or more, and more specifically 90% to 99% at a thickness of 30 to 100 μm and a wavelength of 550 nm. In addition, yellowness (Y.I.) according to the ASTM E313-73 standard may be 10 or less, specifically 7 or less, and more specifically 5 or less.

본 명세서에서, 폴리이미드 필름의 전술한 물성들은 특별한 언급이 없는 한, 당해 필름 두께 10 내지 100 ㎛를 기준으로 하며, 구체적으로 30 내지 80 ㎛일 수 있다. 그러나 전술한 두께 범위에 한정되지 않고, 당 분야에 공지된 통상의 두께 범위 내에서 적절히 조절할 수 있다. In this specification, the above-described physical properties of the polyimide film are based on a film thickness of 10 to 100 μm, and may be specifically 30 to 80 μm, unless otherwise specified. However, it is not limited to the aforementioned thickness range, and may be appropriately adjusted within a normal thickness range known in the art.

본 발명에 따른 폴리이미드 필름은, 전술한 레질리언스와 항복강도 특성을 만족한다면, 폴리이미드 수지를 구성하는 성분 및/또는 이의 조성 등에 특별히 제한되지 않는다. The polyimide film according to the present invention, as long as it satisfies the above-described resilience and yield strength characteristics, is not particularly limited to components constituting the polyimide resin and/or its composition.

일례를 들면, 상기 폴리이미드 필름은 적어도 1종의 적어도 1종의 디아민; 및 적어도 1종의 산이무수물을 포함하여 공중합된 것으로서, 구체적으로 디아민, 산이무수물, 필요에 따라 용제를 포함하는 폴리아믹산 조성물을 고온에서 이미드화 및 열처리하여 제조된 것일 수 있다. For example, the polyimide film may include at least one type of diamine; and at least one acid dianhydride, and may be prepared by imidizing and heat-treating a polyamic acid composition including diamine, acid dianhydride, and, if necessary, a solvent, at a high temperature.

일반적으로 폴리이미드(polyimide, PI) 수지는 방향족 산이무수물과 방향족 디아민 또는 방향족 디이소시아네이트를 용액중합하여 폴리아믹산 유도체를 제조한 후, 고온에서 폐환탈수시켜 이미드화하여 제조되는 고내열 수지를 일컫는다. 이러한 폴리이미드 수지는 이미드(imide) 고리를 함유하는 고분자 물질로서, 이미드 고리의 화학적 안정성을 기초로 하여 내열성, 내화학성, 내마모성 및 전기적 특성이 우수하다. 상기 폴리이미드 수지는 랜덤 공중합체(random copolymer)나 블록 공중합체(block copolymer) 형태일 수 있다. In general, polyimide (PI) resin refers to a highly heat-resistant resin prepared by solution polymerization of aromatic acid dianhydride and aromatic diamine or aromatic diisocyanate to prepare a polyamic acid derivative, followed by ring-closure dehydration at high temperature to imidize. Such a polyimide resin is a polymer material containing an imide ring, and has excellent heat resistance, chemical resistance, wear resistance and electrical properties based on the chemical stability of the imide ring. The polyimide resin may be in the form of a random copolymer or a block copolymer.

본 발명의 폴리이미드 필름을 구성하는 디아민(a) 성분은 분자 내 디아민 구조를 갖는 화합물이라면 한정되지 않으며, 당 분야에 공지된 통상의 디아민 화합물을 제한 없이 사용 가능하다. 일례로, 디아민 구조를 가지고 있는 방향족, 지환족, 지방족 화합물, 또는 이들의 조합 등이 있다. The diamine (a) component constituting the polyimide film of the present invention is not limited as long as it is a compound having a diamine structure in a molecule, and a conventional diamine compound known in the art can be used without limitation. For example, there are aromatic, alicyclic, aliphatic compounds, or combinations thereof having a diamine structure.

특히 본 발명에서는 폴리이미드 필름의 높은 레질리언스와 항복 강도, 고굴곡성, 모듈러스(Modulus) 등의 기계적 특성; 높은 광투과도(High Transmittance), 낮은 Y.I, 낮은 헤이즈(Haze) 등의 광학 특성을 고려할 때, 적어도 1종의 방향족 디아민을 사용하거나, 혹은 상기 방향족 디아민과 지환족 디아민을 혼용(混用)할 수 있다. In particular, in the present invention, mechanical properties such as high resilience, yield strength, high flexibility, and modulus of the polyimide film; Considering optical properties such as high transmittance, low Y.I, and low haze, at least one type of aromatic diamine may be used, or the aromatic diamine and alicyclic diamine may be mixed. .

전술한 방향족 디아민의 구체예로는, 불소화 치환기를 가진 불소계, 설폰(Sulfone)계, 히드록시계(Hydroxyl), 에테르(Ether)계, 비불소계 등의 디아민이 있다. 이에 따라, 본 발명에서는 디아민 화합물로서, 불소 치환기가 도입된 불소화 방향족 제1디아민, 설폰계 방향족 제2디아민, 히드록시계 방향족 제3디아민, 에테르계 방향족 제4디아민, 비불소계 방향족 제5 디아민을 각각 단독으로 사용하거나 또는 이들을 적절히 조합하여 2종 이상 혼합된 형태로 사용할 수 있다.Specific examples of the aforementioned aromatic diamine include fluorine-based, sulfone-based, hydroxyl-based, ether-based, and non-fluorine-based diamines having a fluorinated substituent. Accordingly, in the present invention, as the diamine compound, a fluorinated aromatic first diamine having a fluorine substituent introduced therein, a sulfone-based aromatic second diamine, a hydroxy-based aromatic tertiary diamine, an ether-based aromatic fourth diamine, and a fluorine-based aromatic fifth diamine are prepared. Each may be used alone or in a mixed form of two or more by appropriately combining them.

사용 가능한 디아민 단량체(a)의 비제한적인 예로는, 옥시디아닐린(ODA), 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐(2,2'-TFDB), 2,2'-비스(트리플루오로 메틸)-4,3'- 디아미노비페닐 (2,2'-Bis(trifluoromethyl) -4,3'-Diaminobiphenyl), 2,2'-비스 (트리플루오로 메틸)-5,5'-디아미노비페닐 (2,2'-Bis(trifluoromethyl) -5,5'-Diaminobiphenyl), 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-다이아미노페닐에테르(2,2'-Bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl ether, 6-FODA), 비스 아미노하이드록시 페닐 헥사플르오로프로판(DBOH), 비스 아미노 페녹시 페닐 헥사플루오로프로판(4BDAF), 비스 아미노 페녹시 페닐프로판(6HMDA), 비스 아미노페녹시 디페닐술폰(DBSDA), 비스(4-아미노페닐)설폰(4,4'-DDS), 비스(3-아미노페닐)설폰(3,3'-DDS), 술포닐디프탈릭안하이드라이드(SO2DPA), 4,4'-옥시디아닐린 (4,4'-ODA), 또는 이들의 1종 또는 2종 이상이 혼합된 형태 등이 적용 가능하다. Non-limiting examples of usable diamine monomers (a) include oxydianiline (ODA), 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl (2,2'-TFDB ), 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,3'-diaminobiphenyl (2,2'-Bis (trifluoromethyl) -4,3'-Diaminobiphenyl), 2,2'-bis ( Trifluoromethyl) -5,5'-diaminobiphenyl (2,2'-Bis (trifluoromethyl) -5,5'-Diaminobiphenyl), 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4 '-diaminophenyl ether (2,2'-Bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl ether, 6-FODA), bis aminohydroxy phenyl hexafluoropropane (DBOH), bis amino phenoxy phenyl hexafluoro Lopropane (4BDAF), Bis Aminophenoxy Phenylpropane (6HMDA), Bis Aminophenoxy Diphenylsulfone (DBSDA), Bis(4-Aminophenyl)sulfone (4,4'-DDS), Bis(3-Aminophenyl ) Sulfone (3,3'-DDS), sulfonyldiphthalic anhydride (SO2DPA), 4,4'-oxydianiline (4,4'-ODA), or one or a mixture of two or more thereof forms, etc. are applicable.

폴리이미드 필름의 고투명성, 높은 유리전이온도, 및 낮은 황색도를 고려할 때, 불소화 제1디아민은 직선형의 고분자화를 유도할 수 있는 2,2'-비스(트리플루오로 메틸)-4,4'-디아미노비페닐 (2,2'-TFDB), 1,4-Bis(4-amino-2-trifluoromethylphenoxy)benzene (6-FAPB)를 사용할 수 있다. 또한 설폰계 제2디아민은 비스(4-아미노페닐)설폰(4,4'-DDS) 또는 3,3'-DDS를 사용할 수 있다. 또한 히드록시계 제3디아민은, 2,2-비스(3-아미노-4-히드록시페닐)헥사플루오로프로판(2,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)-hexafluoropropane, BIS-AP-AF)을 사용할 수 있다. 또한 에테르계 제4디아민은 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-다이아미노페닐에테르 (6-FODA), 또는 옥시디아닐린 (ODA)를 사용할 수 있다. 또한 비불소계 제5 디아민으로는 2,2- 비스 (3-아미노-4-메틸페닐)-헥사플루오로프로판 (2,2-Bis (3-amino-4-methylphenyl)-hexafluoropropane, BIS-AT-AF), m-톨리딘(m-tolidine), 또는 p-페닐렌디아민(p-PDA)을 사용할 수 있다. Considering the high transparency, high glass transition temperature, and low yellowness of the polyimide film, fluorinated primary diamine is 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4, which can lead to linear polymerization. '-Diaminobiphenyl (2,2'-TFDB) and 1,4-Bis(4-amino-2-trifluoromethylphenoxy)benzene (6-FAPB) can be used. In addition, bis(4-aminophenyl)sulfone (4,4'-DDS) or 3,3'-DDS may be used as the sulfone-based secondary diamine. In addition, the hydroxy-based tertiary diamine is 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane (2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) -hexafluoropropane, BIS-AP -AF) can be used. In addition, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminophenyl ether (6-FODA) or oxydianiline (ODA) may be used as the ether-based quaternary diamine. In addition, as a non-fluorine-based fifth diamine, 2,2-bis (3-amino-4-methylphenyl) -hexafluoropropane (2,2-Bis (3-amino-4-methylphenyl) -hexafluoropropane, BIS-AT-AF ), m-tolidine, or p-phenylenediamine (p-PDA) may be used.

본 발명의 디아민 단량체(a)에서, 상기 불소화 방향족 제1디아민, 설폰계 방향족 제2디아민, 히드록시계 방향족 제3디아민, 에테르계 방향족 제4디아민, 비불소계 방향족 제5디아민 등의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 각각 전체 디아민 100 몰%를 기준으로 0 내지 100몰%일 수 있으며, 구체적으로 10 내지 90 몰%, 보다 구체적으로 20 내지 80 몰%일 수 있다. 다만, 상기 제1 디아민 내지 제5디아민 중 적어도 하나의 함량은 전체 디아민 100 몰%를 만족하도록 포함된다. In the diamine monomer (a) of the present invention, the content of the fluorinated aromatic primary diamine, sulfone-based aromatic secondary diamine, hydroxy-based aromatic tertiary diamine, ether-based aromatic quaternary diamine, and non-fluorine-based aromatic tertiary diamine is particularly Although not limited, each may be 0 to 100 mol% based on 100 mol% of the total diamine, specifically 10 to 90 mol%, and more specifically 20 to 80 mol%. However, the content of at least one of the first to fifth diamines is included to satisfy 100 mol% of the total diamines.

본 발명의 일 구체예를 들면, 상기 디아민 단량체(a)로서 불소화 제1 디아민과 에테르계 제4 디아민을 혼용(混用)할 수 있다. 이때 이들의 사용 비율은 특별히 제한되지 않으며, 일례로 50~90 : 10~50 몰%비일 수 있다. For one specific example of the present invention, as the diamine monomer (a), the first fluorinated diamine and the fourth ether diamine may be mixed. At this time, their use ratio is not particularly limited, and may be, for example, 50 to 90: 10 to 50 mol% ratio.

본 발명의 다른 일 구체예를 들면, 상기 디아민 단량체(a)로서 적어도 1종의 불소화 제1디아민을 혼용할 수 있다. 이때 이들의 사용 비율은 50~90 : 10~50 몰%비일 수 있으나, 이에 특별히 제한되지 않는다.For another specific example of the present invention, at least one type of fluorinated primary diamine may be mixed as the diamine monomer (a). At this time, their use ratio may be 50 to 90: 10 to 50 mol% ratio, but is not particularly limited thereto.

지환족 디아민은 분자 구조 내 지환족 고리를 적어도 하나 이상 포함하면 특별히 제한되지 않는다. 사용 가능한 지환족 디아민의 비제한적인 예를 들면, 2,2-비스(3-아미노-4-히드록시 시클로헥실)헥사플루오로프로판 [2,2-bis(3-amino-4-hydroxy cyclohexyl)hexafluoropropane], 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디사이클로헥실메탄 (MACM), 4,4'-메틸렌바이사이클로헥실아민 (PACM), 1,3-비스(아미노메틸)사이클로헥산 (1,3-BAC), 1,4-비스(아미노메틸)사이클로헥산 (1,4-BAC), 시스-1,2-사이클로헥산디메탄아민, 트랜스-1,2-사이클로헥산디메탄아민, 1,4-시클로헥실디아민 (1,4-cyclohexyldiamine, CHDA), 비스(4-아미노사이클로헥실) 에테르, 또는 이들의 혼합물 등을 사용할 수 있다. Alicyclic diamine is not particularly limited as long as it contains at least one alicyclic ring in its molecular structure. Non-limiting examples of usable alicyclic diamines include 2,2-bis(3-amino-4-hydroxy cyclohexyl)hexafluoropropane [2,2-bis(3-amino-4-hydroxy cyclohexyl) hexafluoropropane], 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodicyclohexylmethane (MACM), 4,4'-methylenebicyclohexylamine (PACM), 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane (1,3-BAC), 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane (1,4-BAC), cis-1,2-cyclohexanedimethaneamine, trans-1,2-cyclohexanedimethaneamine , 1,4-cyclohexyldiamine (CHDA), bis(4-aminocyclohexyl) ether, or mixtures thereof.

본 발명에서는 디아민 단량체(a)로서 방향족 디아민과 지환족 디아민을 혼용할 수 있으며, 이때 이들의 혼합 비율은 폴리이미드 필름의 물성을 고려하여 적절히 조절할 수 있다. 일례로, 방향족 디아민과 지환족 디아민의 혼합 비율은 전체 디아민 100 몰%를 기준으로 0 ~ 100 : 100 ~ 0 몰%비일 수 있으며, 구체적으로 10~90 : 90~10 몰%비일 수 있다. In the present invention, aromatic diamine and alicyclic diamine may be mixed as the diamine monomer (a), and the mixing ratio thereof may be appropriately adjusted in consideration of physical properties of the polyimide film. For example, the mixing ratio of aromatic diamine and alicyclic diamine may be 0 to 100: 100 to 0 mol% based on 100 mol% of the total diamine, and specifically 10 to 90: 90 to 10 mol%.

본 발명의 폴리이미드 필름을 구성하는 산이무수물(b) 단량체는 분자 내 산이무수물 구조를 갖는 당 분야에 알려진 통상적인 화합물을 제한 없이 사용할 수 있다. 일례로, 산이무수물(dianhydride) 구조를 가지고 있는 방향족, 지환족, 지방족 화합물, 또는 이들의 조합 등을 사용할 수 있으며, 구체적으로 적어도 1종의 방향족 산이무수물을 사용하거나, 혹은 상기 방향족 산이무수물과 지환족 산이무수물을 혼용(混用)할 수 있다. As the acid dianhydride (b) monomer constituting the polyimide film of the present invention, conventional compounds known in the art having an acid dianhydride structure in a molecule may be used without limitation. For example, an aromatic, alicyclic, or aliphatic compound having a dianhydride structure, or a combination thereof may be used. Specifically, at least one type of aromatic acid dianhydride may be used, or the aromatic acid dianhydride and alicyclic compound It is possible to use a mixture of tribasic acid dianhydrides.

전술한 방향족 산이무수물의 구체예로는, 불소화 방향족 제1산이무수물, 비불소화 방향족 제2산이무수물, 설폰계 방향족 제3산이무수물 등이 있다. 이에 따라, 본 발명에서는 산이무수물 화합물로서, 불소 치환기가 도입된 불소화 방향족 제1산이무수물, 비불소화 방향족 제2산이무수물, 설폰계 방향족 제3산이무수물을 각각 단독으로 사용하거나 또는 이들을 적절히 조합하여 2종 이상 혼합된 형태로 사용할 수 있다.Specific examples of the aforementioned aromatic acid dianhydride include fluorinated aromatic primary acid dianhydride, non-fluorinated aromatic secondary acid dianhydride, and sulfone-based aromatic tertiary acid dianhydride. Accordingly, in the present invention, as the acid dianhydride compound, a fluorinated aromatic primary acid dianhydride, a non-fluorinated aromatic secondary acid dianhydride, and a sulfone-based aromatic tertiary acid dianhydride having a fluorine substituent introduced therein are used alone or in combination thereof to form two It can be used in a mixed form of more than one species.

상기 불소화 제1 산이무수물 단량체는 불소 치환기가 도입된 방향족 산이무수물이라면, 특별히 한정하지 않는다. 사용 가능한 불소화 제1 산이무수물의 비제한적인 예를 들면, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드 (2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropane dianhydride, 6-FDA), 4-(트리플루오로메틸)피로멜리틱 디안하이드라이드 (4-(trifluoromethyl)pyromellitic dianhydride, 4-TFPMDA) 등이 있다. 이들을 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상 혼용할 수 있다. 불소화 산이무수물 중 6-FDA는 분자 사슬 간 및 분자 사슬 내 전하이동착물 (CTC: Change transfer complex)의 형성을 제한하는 특성이 매우 커서 투명화하는데 적절한 화합물이다. The first fluorinated acid dianhydride monomer is not particularly limited as long as it is an aromatic acid dianhydride having a fluorine substituent introduced therein. Non-limiting examples of usable fluorinated primary acid dianhydrides include 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride (2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride, 6-FDA), and 4-(trifluoromethyl)pyromellitic dianhydride (4-(trifluoromethyl)pyromellitic dianhydride, 4-TFPMDA). These may be used alone or in combination of two or more. Among the fluorinated acid dianhydrides, 6-FDA has a very high property of limiting the formation of charge transfer complexes (CTC: Change Transfer Complex) between molecular chains and within molecular chains, so it is suitable for transparent.

또한 비불소화 제2산이무수물 단량체는 불소 치환기가 도입되지 않은 비(非)불소화 방향족 산이무수물이라면, 특별히 한정하지 않는다. 사용 가능한 비불소화 제3산이무수물 단량체의 비제한적인 예로는, 피로멜리틱 디안하이드라이드 (Pyromellitic Dianhydride, PMDA), 3,3′,4,4′-비페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드 (3,3′,4,4′-Biphenyl tetracarboxylic acid dianhydride, BPDA), 벤조페논 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BTDA), 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(ODPA), 4,4-(4,4-Isopropylidenediphenoxy)bis(phthalic anhydride) (BPADA), 비스(카르복시페닐) 디메틸실란 디안하이드라이드 (Bis(3,4dicarboxyphenyl)dimethylsilanedianhydride, SiDA) 등이 있다. 이들을 단독으로 사용하거나, 또는 이들을 2종 이상 혼용할 수 있다.In addition, the non-fluorinated secondary acid dianhydride monomer is not particularly limited as long as it is a non-fluorinated aromatic acid dianhydride in which no fluorine substituent is introduced. Non-limiting examples of usable non-fluorinated tertiary acid dianhydride monomers include pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3′,4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (3 ,3′,4,4′-Biphenyl tetracarboxylic acid dianhydride (BPDA), benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA), oxydiphthalic dianhydride (ODPA), 4,4-(4,4-Isopropylidenediphenoxy )bis(phthalic anhydride) (BPADA), bis(carboxyphenyl)dimethylsilane dianhydride (Bis(3,4dicarboxyphenyl)dimethylsilanedianhydride, SiDA), and the like. These may be used alone or in combination of two or more thereof.

또한 설폰계 제3 산이무수물 단량체는 설폰기가 도입된 산이무수물이라면, 특별히 한정하지 않으며, 일례로 3,3',4,4'-디페닐설폰테트라카르복실릭 디안하이드라이드(3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, DSDA)가 있다. In addition, the sulfone-based third acid dianhydride monomer is not particularly limited as long as it is an acid dianhydride into which a sulfone group is introduced, and for example, 3,3',4,4'-diphenylsulfotetracarboxylic dianhydride (3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, DSDA).

본 발명의 산이무수물 단량체(b)에서, 상기 불소화 방향족 제1산이무수물, 비불소화 방향족 제2산이무수물, 설폰계 방향족 제3산이무수물의 함량은 특별히 한정되지 않는다. 일례로, 이들은 각각 전체 산이무수물 100 몰%를 기준으로 0 내지 100 몰% 범위로 포함될 수 있으며, 구체적으로 10 내지 90 몰%이며, 보다 구체적으로 20 내지 80 몰%일 수 있다. 다만, 제1산이무수물 내지 제3산이무수물 중 적어도 하나의 함량은 전체 산이무수물 100 몰%를 만족하도록 포함된다.In the acid dianhydride monomer (b) of the present invention, the contents of the fluorinated aromatic primary acid dianhydride, non-fluorinated aromatic secondary acid dianhydride, and sulfonic aromatic tertiary acid dianhydride are not particularly limited. As an example, these may be included in the range of 0 to 100 mol%, specifically 10 to 90 mol%, and more specifically 20 to 80 mol% based on 100 mol% of the total acid dianhydride. However, the content of at least one of the first acid dianhydride to the third acid dianhydride is included to satisfy 100 mol% of the total acid dianhydride.

지환족(alicyclic) 산이무수물은 화합물 내 방향족고리가 아닌 지환족 고리를 가지면서 산이무수물 구조를 갖는 화합물이라면 특별히 제한되지 않는다. 사용 가능한 지환족 산이무수물의 비제한적인 예를 들면, 사이클로부탄 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA), 1,2,3,4-사이클로펜탄 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CPDA), 비사이클로[2,2,2]-7-옥텐-2,3,5,6-테트라카르복실산 디안하이드라이드(BCDA), 4-(2,5-디옥소테트라하이드로퓨란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복실릭 안하이드라이드(TDA), 1,1'-바이사이클로헥산-3,3',4,4'-테트라카르복실릭디안하이드라이드(H-BPDA), 1,2,4,5-사이클로헥산-테트라카르복실릭디안하이드라이드(H-PMDA), 시클로펜타논 비스-스피로노르보난(cyclopentanone bis-spironorbornane, cpODA), Bicyclo[2.2.2]octane-2,3,5,6-tetracarboxylic2,3:5,6-dianhydride(7CI,8CI) 또는 이들의 1종 이상의 혼합물 등이 있다. The alicyclic acid dianhydride is not particularly limited as long as it has an alicyclic ring other than an aromatic ring in the compound and has an acid dianhydride structure. Non-limiting examples of usable alicyclic acid dianhydrides include cyclobutane tetracarboxylic dianhydride (CBDA), 1,2,3,4-cyclopentane tetracarboxylic dianhydride (CPDA), bicyclo [2,2,2]-7-octene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride (BCDA), 4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-1 ,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride (TDA), 1,1'-bicyclohexane-3,3',4,4'-tetracarboxylic diane hydride (H-BPDA), 1,2,4,5-cyclohexane-tetracarboxylic dianhydride (H-PMDA), cyclopentanone bis-spironorbornane (cpODA), Bicyclo [2.2.2] octane-2,3,5,6-tetracarboxylic 2,3:5,6-dianhydride (7CI,8CI) or a mixture of one or more thereof.

본 발명에서는 산이무수물 단량체(b)로서 방향족 산이무수물과 지환족 산이무수물을 혼용할 수 있으며, 이때 이들의 혼합 비율은 폴리이미드 필름의 물성을 고려하여 적절히 조절할 수 있다. 일례로, 방향족 산이무수물과 지환족 산이무수물의 혼합 비율은 전체 산이무수물 100 몰%를 기준으로 0 ~ 100 : 100 ~ 0 몰%비일 수 있으며, 구체적으로 10~90 : 90~10 몰%비일 수 있다.In the present invention, aromatic acid dianhydride and alicyclic acid dianhydride may be mixed as the acid dianhydride monomer (b), and the mixing ratio thereof may be appropriately adjusted in consideration of physical properties of the polyimide film. For example, the mixing ratio of the aromatic acid dianhydride and the alicyclic acid dianhydride may be 0 to 100: 100 to 0 mol% ratio based on 100 mol% of the total acid dianhydride, and specifically 10 to 90: 90 to 10 mol% ratio. there is.

본 발명의 일 구체예를 들면, 상기 산이무수물(b)로서 불소화 방향족 제1산이무수물과 지환족 산이무수물; 또는 불소화 방향족 제2 산이무수물과 비불소화 방향족 제2산이무수물을 혼용(混用)할 수 있다. 이때 이들의 사용 비율은 특별히 제한되지 않으며, 일례로 10~90 : 90~10 몰%비일 수 있으며, 구체적으로 30~80 : 70~20 몰%비일 수 있다. For one specific example of the present invention, as the acid dianhydride (b), a fluorinated aromatic primary acid dianhydride and an alicyclic acid dianhydride; Alternatively, a fluorinated aromatic second acid dianhydride and a non-fluorinated aromatic second acid dianhydride may be mixed. At this time, their use ratio is not particularly limited, and may be, for example, 10 to 90: 90 to 10 mol% ratio, specifically 30 to 80: 70 to 20 mol% ratio.

본 발명의 다른 일 구체예를 들면, 상기 산이무수물(b)로서 지환족 산이무수물과 비불소화 방향족 제2 산이무수물을 혼용할 수 있다. 이때 이들의 사용 비율은 30~80 : 20~70 몰%비일 수 있으나, 이에 특별히 제한되지 않는다. For another specific example of the present invention, as the acid dianhydride (b), an alicyclic acid dianhydride and a non-fluorinated aromatic second acid dianhydride may be mixed. At this time, their use ratio may be 30 to 80: 20 to 70 mol% ratio, but is not particularly limited thereto.

본 발명의 바람직한 다른 일례를 들면, 상기 산이무수물(b)로서 적어도 1종의 비불소화 방향족 제2산이무수물을 혼용할 수 있다. 이때 이들의 사용 비율은 50~80 : 20~50 몰%비일 수 있으나, 이에 특별히 제한되지 않는다.For another preferable example of the present invention, as the acid dianhydride (b), at least one non-fluorinated aromatic secondary acid dianhydride may be mixed. At this time, their use ratio may be 50 to 80: 20 to 50 mol% ratio, but is not particularly limited thereto.

본 발명의 폴리이미드 필름을 구성하는 폴리아믹산 조성물에서, 상기 디아민 성분(a)의 몰수와 상기 산이무수물 성분(b)의 몰수의 비(a/b)는 0.7~1.3 일 수 있으며, 바람직하게는 0.8 내지 1.2이며, 더욱 바람직하게는 0.9 내지 1.1 범위일 수 있다.In the polyamic acid composition constituting the polyimide film of the present invention, the ratio (a/b) of the number of moles of the diamine component (a) to the number of moles of the acid dianhydride component (b) may be 0.7 to 1.3, preferably. It may range from 0.8 to 1.2, more preferably from 0.9 to 1.1.

본 발명의 폴리아믹산 조성물은 전술한 단량체들의 용액 중합반응을 위한 용매로서 당 분야에 공지된 유기용매를 제한 없이 사용할 수 있다. 사용 가능한 용매의 일례를 들면, m-크레졸, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸설폭사이드(DMSO), 아세톤, 디에틸아세테이트, 및 디메틸 프탈레이트(DMP) 중에서 선택된 하나 이상의 극성용매를 사용할 수 있다. 이외에도, 테트라하이드로퓨란(THF), 클로로포름과 같은 저비점 용액 또는 γ-부티로락톤과 같은 용매를 사용할 수 있다. 이때 용매(중합용 제1 용매)의 함량은 특별히 제한되지 않으나, 적절한 폴리아믹산 조성물(폴리아믹산 용액)의 분자량과 점도를 얻기 위하여 전체 폴리아믹산 조성물 중량을 기준으로 하여 50 ~ 95 중량%가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 70 ~ 90 중량% 범위로 포함될 수 있다.In the polyamic acid composition of the present invention, an organic solvent known in the art may be used as a solvent for solution polymerization of the above-described monomers without limitation. For example, m-cresol, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethylsulfoxide (DMSO), acetone, diethyl At least one polar solvent selected from acetate and dimethyl phthalate (DMP) may be used. In addition, a low boiling point solution such as tetrahydrofuran (THF) or chloroform or a solvent such as γ-butyrolactone may be used. At this time, the content of the solvent (first solvent for polymerization) is not particularly limited, but is preferably 50 to 95% by weight based on the total weight of the polyamic acid composition in order to obtain an appropriate molecular weight and viscosity of the polyamic acid composition (polyamic acid solution) , More preferably, it may be included in the range of 70 to 90% by weight.

상술한 폴리아믹산 조성물은 적어도 1종의 산이무수물과 적어도 1종의 디아민을 유기용매에 투입한 후 반응시켜 제조할 수 있으며, 일례로 폴리이미드의 물성 개선을 위해 디아민(a)과 산이무수물(b)을 대략 1 : 1의 당량비로 조절할 수 있다. 이러한 폴리아믹산 조성물의 조성은 특별히 제한되지 않으며, 일례로 폴리아믹산 조성물 전체 중량 100 중량%을 기준으로, 산이무수물 2.5 내지 25.0 중량%, 디아민 2.5 내지 25.0 중량%, 및 조성물 100 중량%를 만족시키는 잔량의 유기용매를 포함하여 구성될 수 있다. 여기서, 유기용매의 함량은 70 내지 90 중량%일 수 있다. 또한 상기 폴리아믹산 조성물은 당해 고형분 100 중량%을 기준으로 할 때, 산이무수물 30 내지 70 중량%, 및 디아민 30 내지 70 중량% 범위로 포함될 수 있으며, 이에 특별히 제한되지 않는다. The above-described polyamic acid composition may be prepared by adding at least one kind of acid dianhydride and at least one kind of diamine to an organic solvent and then reacting them. For example, to improve the physical properties of polyimide, diamine (a) and acid dianhydride (b) ) can be adjusted to an equivalence ratio of approximately 1: 1. The composition of the polyamic acid composition is not particularly limited, and for example, based on 100% by weight of the total weight of the polyamic acid composition, 2.5 to 25.0% by weight of acid dianhydride, 2.5 to 25.0% by weight of diamine, and the balance satisfying 100% by weight of the composition. It may be configured to include an organic solvent of. Here, the content of the organic solvent may be 70 to 90% by weight. In addition, the polyamic acid composition may include 30 to 70 wt% of acid dianhydride and 30 to 70 wt% of diamine based on 100 wt% of the solid content, but is not particularly limited thereto.

상기와 같이 구성되는 폴리아믹산 조성물은 약 1,000 내지 200,000 cps, 바람직하게는 약 5,000 내지 50,000 cps 범위의 점도를 가질 수 있다. 폴리아믹산 조성물의 점도가 전술한 범위에 해당되는 경우, 폴리아믹산 조성물의 코팅시 두께 조절이 용이하며, 코팅 표면이 균일하게 발휘될 수 있다.The polyamic acid composition configured as described above may have a viscosity ranging from about 1,000 to 200,000 cps, preferably about 5,000 to 50,000 cps. When the viscosity of the polyamic acid composition falls within the above-mentioned range, the thickness can be easily controlled during coating of the polyamic acid composition, and the coating surface can be exhibited uniformly.

필요에 따라, 상기 폴리아믹산 조성물은 본 발명의 목적과 효과를 현저히 손상시키지 않는 범위 내에서, 가소제, 산화방지제, 난연화제, 분산제, 점도 조절제, 레벨링제 등의 적어도 1종의 첨가제를 소량 포함할 수 있다.If necessary, the polyamic acid composition may contain a small amount of at least one additive such as a plasticizer, an antioxidant, a flame retardant, a dispersant, a viscosity modifier, a leveling agent, etc., within a range that does not significantly impair the objects and effects of the present invention. can

본 발명에 따른 폴리이미드 수지 필름은 당 분야에 알려진 통상적인 방법에 따라 제조될 수 있으며, 일례로 전술한 폴리아믹산 조성물을 기재(substrate), 예컨대 유리 기판 상에 코팅(캐스팅)한 후 30~350℃의 범위에서 온도를 서서히 승온시키면서 0.5 ~ 8시간 동안 이미드 폐환반응 (Imidazation)을 유도시켜 제조될 수 있다. The polyimide resin film according to the present invention may be prepared according to a conventional method known in the art, and for example, after coating (casting) the above-described polyamic acid composition on a substrate, for example, a glass substrate, 30 to 350 It can be prepared by inducing an imide ring closure reaction (Imidazation) for 0.5 to 8 hours while gradually raising the temperature in the range of ℃.

이때 코팅방법은 당 업계에 알려진 통상적인 방법을 제한 없이 사용할 수 있으며, 일례로 스핀코팅(Spin coating), 딥 코팅(Dip coating), 용매 캐스팅(Solvent casting), 슬롯다이 코팅(Slot die coating) 및 스프레이 코팅으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나의 방법에 의해 이루어질 수 있다. 상기 무색투명한 폴리이미드 수지층의 두께는 수 백 nm에서 수십 ㎛가 되도록 폴리아믹산 조성물을 적어도 1회 이상 코팅할 수 있다.At this time, the coating method may use a conventional method known in the art without limitation, and as an example, spin coating, dip coating, solvent casting, slot die coating, and It can be made by at least one method selected from the group consisting of spray coating. The polyamic acid composition may be coated at least once or more so that the colorless and transparent polyimide resin layer has a thickness of several hundred nm to several tens of μm.

본 발명에 따른 폴리이미드 필름 제조방법에 있어서, 중합된 폴리아믹산을 지지체에 캐스팅하여 이미드화하는 단계에 적용되는 이미드화법으로는 열이미드화법, 화학이미드화법, 또는 열이미드화법과 화학이미드화법을 병용하여 적용할 수 있다.In the polyimide film manufacturing method according to the present invention, the imidation method applied to the imidization step by casting the polymerized polyamic acid on a support is a thermal imidation method, a chemical imidation method, or a thermal imidation method and a chemical imidation method. It can be applied in combination with the imidation method.

열이미드화법은 폴리아믹산 조성물(폴리아믹산 용액)을 지지체상에 캐스팅하여 30 ~ 400℃의 온도범위에서 서서히 승온시키면서 1 ~ 10시간 가열하여 폴리이미드 필름을 얻는 방법이다.The thermal imidation method is a method of obtaining a polyimide film by casting a polyamic acid composition (polyamic acid solution) on a support and heating it for 1 to 10 hours while slowly raising the temperature in a temperature range of 30 to 400 ° C.

또한 화학이미드화법은 폴리아믹산 조성물에 아세트산무수물 등의 산무수물로 대표되는 탈수제와 이소퀴놀린, β-피콜린, 피리딘 등의 아민류 등으로 대표되는 이미드화 촉매를 투입하는 방법이다. 이러한 화학이미드화법에 열이미드화법 또는 열이미드화법을 병용하는 경우, 폴리아믹산 조성물의 가열 조건은 폴리아믹산 조성물의 종류, 제조되는 폴리이미드 필름의 두께 등에 의하여 변동될 수 있다.In the chemical imidation method, a dehydrating agent represented by an acid anhydride such as acetic anhydride and an imidation catalyst represented by amines such as isoquinoline, β-picoline, and pyridine are added to the polyamic acid composition. When a thermal imidation method or a thermal imidation method is used in combination with the chemical imidation method, heating conditions of the polyamic acid composition may vary depending on the type of the polyamic acid composition, the thickness of the polyimide film to be produced, and the like.

상기 열이미드화법과 화학이미드화법을 병용하는 경우를 보다 구체적으로 설명하면, 폴리아믹산 조성물에 탈수제 및 이미드화 촉매를 투입하여 지지체상에 캐스팅한 후 80 ~ 300℃, 바람직하게는 150 ~ 250℃에서 가열하여 탈수제 및 이미드화 촉매를 활성화함으로써 부분적으로 경화 및 건조한 후, 폴리이미드 필름을 얻을 수 있다.In more detail, when the thermal imidation method and the chemical imidation method are used together, a dehydrating agent and an imidation catalyst are added to the polyamic acid composition, casted on a support, and then 80 to 300 ° C., preferably 150 to 250 ° C. After partially curing and drying by heating at °C to activate the dehydrating agent and the imidation catalyst, a polyimide film can be obtained.

이와 같이 형성된 폴리이미드 필름의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 적용되는 분야에 따라 적절히 조절될 수 있다. 일례로 10 내지 150㎛ 범위일 수 있으며, 바람직하게는 30 내지 100㎛ 범위일 수 있다.The thickness of the polyimide film thus formed is not particularly limited and may be appropriately adjusted depending on the applied field. For example, it may be in the range of 10 to 150 μm, preferably in the range of 30 to 100 μm.

전술한 바와 같이 제작된 본 발명의 폴리이미드 필름 및 그 변형예들은, 높은 복원성과 고굴곡 특성, 우수한 광학 특성이 요구되는 다양한 분야에 유용하게 사용될 수 있다. 특히, 디스플레이 장치의 커버 윈도우(Cover Window)로 적용되어 표면 찰상을 방지하고 플렉서블 디스플레이 장치에 우수한 유연성과 시인성을 부여할 수 있다. The polyimide film and its modifications of the present invention manufactured as described above can be usefully used in various fields requiring high stability, high flexural properties, and excellent optical properties. In particular, it can be applied as a cover window of a display device to prevent surface scratches and provide excellent flexibility and visibility to a flexible display device.

본 발명에서, 디스플레이 장치는 화상을 표시하는 플렉시블 디스플레이 장치나 비플렉시블 디스플레이 장치를 지칭하는 것으로서, 평판 표시 장치(FPD: Flat Panel Display Device) 뿐 아니라, 곡면형 표시 장치(Curved Display Device), 폴더블 표시 장치(Foldable Display Device), 플렉서블 표시 장치(Flexible Display Device), 폴더블 모바일폰, 스마트폰, 이동통신 단말기나 태블릿 PC 등을 포함한다. 구체적으로, 상기 디스플레이 장치는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display), 전기영동 표시 장치(Electrophoretic Display), 유기 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Display), 무기 EL 표시 장치(Inorganic Light Emitting Display), 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display), 표면 전도 전자 방출 표시 장치(Surface-conduction Electron-emitter Display), 플라즈마 표시 장치(Plasma Display), 음극선관 표시장치(Cathode Ray Display), 전자 페이퍼 등일 수 있다. 일 구체예를 들면, LCD, PDP, OLED 등의 평판 디스플레이 패널일 수 있다. 전술한 용도에 한정되지 않고, 본 발명의 폴리이미드 필름은 당 분야에 공지된 통상의 디스플레이 장치에 적용 가능하며, 그 외 플렉서블 디스플레이용 기판이나 보호막으로도 활용될 수 있다.In the present invention, a display device refers to a flexible display device or a non-flexible display device that displays an image, and includes a flat panel display device (FPD) as well as a curved display device, a foldable display device, and a foldable display device. It includes a foldable display device, a flexible display device, a foldable mobile phone, a smart phone, a mobile communication terminal, a tablet PC, and the like. Specifically, the display device includes a liquid crystal display, an electrophoretic display, an organic light emitting display, an inorganic light emitting display, and a field emission display. It may be a field emission display, a surface-conduction electron-emitter display, a plasma display, a cathode ray display, electronic paper, and the like. For example, it may be a flat panel display panel such as LCD, PDP, OLED. Not limited to the above-mentioned uses, the polyimide film of the present invention can be applied to conventional display devices known in the art, and can also be used as a substrate or protective film for other flexible displays.

전술한 폴리이미드 필름이 구비된 디스플레이 장치의 일 구체예를 들면, 디스플레이부, 편광판, 터치스크린패널, 커버 윈도우, 및 보호필름을 포함하고, 상기 커버 윈도우는 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리이미드 필름을 포함할 수 있다. 여기서, 디스플레이 장치를 구성하는 각 구성요소는 특별히 제한되지 않으며, 당 분야에 공지된 통상의 구성요소를 포함할 수 있다. A specific example of a display device having the aforementioned polyimide film includes a display unit, a polarizing plate, a touch screen panel, a cover window, and a protective film, and the cover window is made of polyimide according to an embodiment of the present invention. may contain films. Here, each component constituting the display device is not particularly limited, and may include conventional components known in the art.

이하, 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 예시에 불과하며, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through specific examples. The following examples are merely examples to aid understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.

[실시예 1~4. 폴리이미드 필름 제조][Examples 1 to 4. Manufacture of polyimide film]

하기 표 1에 기재된 디아민과 산이무수물을 포함하는 조성을 사용하여 폴리아믹산 조성물을 제조하였다. A polyamic acid composition was prepared using a composition including diamine and acid dianhydride described in Table 1 below.

상기 폴리아믹산 조성물을 LCD용 유리판에 바코터(Bar Coater)를 이용하여 코팅한 후, 질소 분위기의 컨벡션 오븐에서 80℃에서 30분, 150℃에서 30분, 200℃에서 1시간, 300℃에서 1시간으로 단계적으로 서서히 승온시키면서, 건조 및 이미드 폐환반응(Imidazation)을 진행하였다. 이에 따라, 이미드화율이 85% 이상인 막 두께 80㎛의 폴리이미드 필름을 제조하였다. 이후 유리판에서 폴리이미드 필름을 분리하여 취하였다.After coating the polyamic acid composition on a glass plate for LCD using a bar coater, the mixture was heated at 80 ° C for 30 minutes, at 150 ° C for 30 minutes, at 200 ° C for 1 hour, at 300 ° C for 1 hour in a nitrogen atmosphere convection oven. While gradually raising the temperature step by step with time, drying and imide ring closure reaction (Imidazation) were performed. Thus, a polyimide film having an imidation rate of 85% or more and a film thickness of 80 μm was prepared. Then, the polyimide film was separated from the glass plate and taken.

디아민 (몰%)Diamine (mol %) 산이무수물 (몰%)Acid dianhydride (mol %) 제1모노머1st monomer 제2모노머Second monomer 제1모노머1st monomer 제2모노머Second monomer 실시예 1Example 1 TFDB (100)TFDB (100) -- BPADA (70)BPADA (70) BPDA (30)BPDA (30) 실시예 2Example 2 TFDB (100)TFDB (100) -- BPDA (80)BPDA (80) 6FDA (20)6FDA (20) 실시예 3Example 3 TFDB (70)TFDB (70) 6FODA (30)6FODA (30) CBDA (20)CBDA (20) BPDA (80)BPDA (80) 실시예 4Example 4 TFDB (70)TFDB (70) 6FAPB (30)6FAPB (30) BPADA (60)BPADA (60) CBDA (40)CBDA (40) 비교예 1Comparative Example 1 p-PDA (100)p-PDAs (100) -- BTDA (70)BTDA (70) DSDA (30)DSDA (30) 비교예 2Comparative Example 2 m-Tol (100)m-Tol (100) -- OPDA (50)OPDA (50) PMDA (50)PMDA (50) 비교예 3Comparative Example 3 BIS-AT-AF (70)BIS-AT-AF (70) p-PDA (30)p-PDAs (30) CpODA (30)CpODAs (30) BTDA (70)BTDA (70) 비교예 4Comparative Example 4 m-Tol (80)m-Tol (80) 4,4-DABAN (20)4,4-DABAN (20) CpODA (70)CpODAs (70) OPDA (30)OPDA (30)

[비교예 1~4. 폴리이미드 필름 제조][Comparative Examples 1 to 4. Manufacture of polyimide film]

전술한 표 1에 기재된 조성을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1~4와 동일하게 실시하여 비교예 1~4의 폴리이미드 필름을 각각 제조하였다. Polyimide films of Comparative Examples 1 to 4 were prepared in the same manner as in Examples 1 to 4, except that the compositions described in Table 1 were used.

[실험예. 물성 평가][Experimental example. Evaluation of physical properties]

실시예 1~4와 비교예 1~4에서 제조된 폴리이미드 수지 필름의 물성을 하기와 같은 방법으로 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다. 이때 하기 표 2의 각 물성은 두께 50 ㎛를 기준으로 한 것이다. The physical properties of the polyimide resin films prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were evaluated in the following manner, and the results are shown in Table 2 below. At this time, each physical property in Table 2 below is based on a thickness of 50 μm.

<물성평가 방법><Physical property evaluation method>

1) 광투과도 측정1) Measurement of light transmittance

550nm 파장에서 UV-Vis NIR Spectrophotometer(Shimadzu, 모델명: UV-3150)를 이용하여 측정하였다. It was measured using a UV-Vis NIR Spectrophotometer (Shimadzu, model name: UV-3150) at a wavelength of 550 nm.

2) 황색도 측정2) Yellowness measurement

분광측색계(Konica Minolta, CM-3600A)를 이용하여 550 nm에서의 황색도를 ASTM E313-73 규격으로 측정하였다. Yellowness at 550 nm was measured according to the ASTM E313-73 standard using a spectrophotometer (Konica Minolta, CM-3600A).

3) 두께 측정 3) Thickness measurement

두께 측정기(Mitutoyo, 모델명: 547-401)를 이용하여 필름의 두께를 측정하였다.The thickness of the film was measured using a thickness meter (Mitutoyo, model name: 547-401).

4) 모듈러스 측정4) Modulus measurement

UTM (Instron, 모델명: 5942)을 이용하여 ASTM D882 규격으로 인장강도(MPa), 탄성율(GPa)을 측정하였다. Tensile strength (MPa) and modulus of elasticity (GPa) were measured according to the ASTM D882 standard using UTM (Instron, model name: 5942).

5) 항복변형(Yield Strain) 측정 5) Measurement of Yield Strain

UTM (Instron, 모델명: 5942)을 이용하여 ASTM D882 규격으로 20~40 MPa 구간에서 응력-변형 곡선의 기울기(Stress-Strain slope threshold, X1)를 기준으로 80% 이상 일치하는 임계값(X2 ≥ X1 × 0.8)에 대응되는 변형(Strain, x값)을 측정하였다.Using UTM (Instron, model name: 5942), a threshold value (X 2 Strain (x value) corresponding to ≥ X 1 × 0.8) was measured.

6) 레질리언스6) Resilience

전술한 모듈러스와 항복강도(Yield Strength)를 이용하여 하기 식 1에 따라 레질리언스를 계산하였다. 이때 항복강도는 항복점의 Yield/Strength로서, 전술한 항복변형과 동일한 방법으로 계산되었다. Resilience was calculated according to Equation 1 below using the above-described modulus and yield strength. At this time, the yield strength is Yield/Strength at the yield point, and was calculated in the same way as the yield strain described above.

[식 1][Equation 1]

Figure 112021025990664-pat00002
(상기 식에서, σ는 항복강도이고, E는 모듈러스임)
Figure 112021025990664-pat00002
(In the above formula, σ is the yield strength and E is the modulus)

7) 굴곡특성(Dynamic Folding cycle) 측정7) Measurement of dynamic folding cycle

면상체 무부하 U자 접기시험 장비(DLDMLS-FS, YUASA)를 사용하여 굴곡 특성을 측정하였으며, 곡률 반경을 1mm~5mm로 조절하여 폴딩 사이클(Folding Cycle)을 측정하였다.The bending characteristics were measured using a flat body unloaded U-folding test equipment (DLDMLS-FS, YUASA), and the folding cycle was measured by adjusting the radius of curvature to 1 mm to 5 mm.

8) 복원력 측정8) Measurement of resilience

스태틱 폴딩 홀더(Static Folding Holder, 곡률반경 1~10nm)에 준비된 샘플을 고정하고 72시간 동안 거치시킨 후, 해당 샘플을 꺼내었을 때 소정 시간 경과에 따른 필름의 높이를 측정하여 복원력을 확인하였다. After fixing the prepared sample in a static folding holder (curvature radius of 1 ~ 10nm) and standing for 72 hours, when the sample was taken out, the height of the film according to the lapse of a predetermined time was measured to confirm the restoring force.

항복
변형
(Yield Strain,
%)
surrender
transform
(Yield Strain,
%)
항복
강도
(Yield
Strength,
Mpa)
surrender
robbery
(Yield
strength,
MPa)
Modulus of
Resilience
(MPa)
Modulus of
Resilience
(MPa)
복원력 (cm)Resilience (cm) Dynamic Folding
Cycle
(@1R)
Dynamic Folding
Cycle
(@1R)
모듈러스
(Gpa)
modulus
(Gpa)
투과도
(%T, @ 550nm)
permeability
(%T, @ 550 nm)
황색도
(Y.I)
yellowness
(YI)
초기
높이
Early
height
1시간 경과 후 높이Height after 1 hour 3시간 경과 후 높이Height after 3 hours
실시예1Example 1 3.23.2 172172 3.083.08 < 0.1< 0.1 00 00 2000K2000K 4.84.8 89.589.5 3.43.4 실시예2Example 2 3.13.1 160160 3.053.05 1.01.0 0.10.1 < 0.1< 0.1 1800K1800K 4.24.2 89.889.8 2.52.5 실시예3Example 3 2.82.8 180180 2.892.89 1.81.8 0.80.8 0.20.2 1400K1400K 5.65.6 89.189.1 3.03.0 실시예4Example 4 3.03.0 168168 2.882.88 0.50.5 < 0.1< 0.1 < 0.1< 0.1 1700K1700K 4.94.9 90.090.0 2.72.7 비교예1Comparative Example 1 1.31.3 8080 0.460.46 6.96.9 6.16.1 5.55.5 60K60K 6.96.9 82.182.1 17.117.1 비교예2Comparative Example 2 1.51.5 8383 0.490.49 7.37.3 5.75.7 4.84.8 90K90K 7.17.1 84.184.1 14.714.7 비교예3Comparative Example 3 1.51.5 7272 0.420.42 6.26.2 5.35.3 4.34.3 80K80K 6.16.1 84.784.7 15.415.4 비교예4Comparative Example 4 1.41.4 6666 0.380.38 6.36.3 5.55.5 4.44.4 80K80K 5.85.8 83.483.4 16.816.8

상기 표 2에서 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름은 비교예 대비, 높은 레질리언스, 항복강도 및 항복변형 특성을 나타낼 뿐만 아니라 우수한 복원력과 높은 굴곡성을 동시에 나타낸다는 것을 알 수 있었다. 또한 우수한 투명성, 기계적 특성 및 열팽창계수를 갖는다는 것을 알 수 있었다. As shown in Table 2, it was found that the polyimide film according to the present invention not only exhibits high resilience, yield strength and yield strain characteristics, but also exhibits excellent resilience and high flexibility at the same time, compared to the comparative example. It was also found that it had excellent transparency, mechanical properties and thermal expansion coefficient.

이에 따라, 본 발명의 폴리이미드 필름은 디스플레이 장치의 커버 윈도우로 유용하게 적용될 수 있다는 것을 확인할 수 있었다.Accordingly, it was confirmed that the polyimide film of the present invention can be usefully applied as a cover window of a display device.

Claims (12)

적어도 1종의 디아민; 및 적어도 1종의 산이무수물을 포함하여 공중합된 폴리이미드 필름으로서,
상기 디아민은 불소화 방향족 제1 디아민으로 구성되며,
상기 산이무수물은 불소화 방향족 제1 산이무수물, 비불소화 방향족 제2 산이무수물, 및 설폰계 방향족 제3 산이무수물로 구성된 군에서 선택된 적어도 1종의 방향족 산이무수물을 포함하되,
다만 지환족 산이무수물은 비포함하며,
30 내지 100 ㎛의 두께에서, ASTM D882에 따라 측정된 항복강도가 50 내지 200 MPa이고,
하기 식 1에 의한 레질리언스는 3.05 내지 5.0 MPa인, 폴리이미드 필름:
[식 1]
Figure 112022092117918-pat00003

(상기 식에서, σ는 항복강도이고, E는 모듈러스임)
at least one diamine; And a polyimide film copolymerized with at least one acid dianhydride,
The diamine is composed of fluorinated aromatic primary diamine,
The acid dianhydride includes at least one aromatic acid dianhydride selected from the group consisting of a fluorinated aromatic first acid dianhydride, a non-fluorinated aromatic second acid dianhydride, and a sulfone-based aromatic third acid dianhydride,
However, alicyclic acid dianhydride is not included,
At a thickness of 30 to 100 μm, the yield strength measured according to ASTM D882 is 50 to 200 MPa,
A polyimide film having a resilience of 3.05 to 5.0 MPa according to the following formula 1:
[Equation 1]
Figure 112022092117918-pat00003

(In the above formula, σ is the yield strength and E is the modulus)
제1항에 있어서,
필름 두께 30 내지 100㎛을 기준으로, 곡률반경 1 내지 10mm에서 72시간 동안 필름에 굴곡을 행한 후의 최초 복원 높이(HI)가 5cm 이하이고, 적어도 1시간 경과 후의 복원 높이(HF)가 3cm 이하인, 폴리이미드 필름.
According to claim 1,
Based on a film thickness of 30 to 100 μm, the initial restoration height (H I ) after bending the film for 72 hours at a curvature radius of 1 to 10 mm is 5 cm or less, and the restoration height (H F ) after at least 1 hour has elapsed is 3 cm The polyimide film below.
제1항에 있어서,
ASTM D882에 따라 측정된 당해 필름의 응력-변형 곡선(Stress-Strain Curve)에 있어서, 인장강도 20~40 MPa의 구간 기울기 대비 적어도 80%에 대응되는 임계점의 변형(strain)으로 정의되는 항복 변형(Yield Strain, Y/S)이 2.0% 내지 5.0%인, 폴리이미드 필름.
According to claim 1,
In the stress-strain curve of the film measured according to ASTM D882, the yield strain defined as the strain of the critical point corresponding to at least 80% of the slope of the tensile strength range of 20 to 40 MPa ( Yield Strain, Y / S) is 2.0% to 5.0%, polyimide film.
제1항에 있어서,
곡률 반경 1 내지 5mm로 당해 필름을 굴곡시켰을 때 파단까지의 굴곡 횟수가 100,000회 이상인, 폴리이미드 필름.
According to claim 1,
A polyimide film whose number of bends until fracture is 100,000 or more when the film is bent with a curvature radius of 1 to 5 mm.
제1항에 있어서,
ASTM D882에 따라 측정된 모듈러스가 3 내지 8 GPa인, 폴리이미드 필름.
According to claim 1,
A polyimide film having a modulus of 3 to 8 GPa, measured according to ASTM D882.
제1항에 있어서,
두께 30 내지 100 ㎛에서, 파장 550nm의 광 투과율이 85% 이상이며,
ASTM E313-73 규격에 의한 황색도가 10 이하인, 폴리이미드 필름.
According to claim 1,
At a thickness of 30 to 100 μm, the transmittance of light at a wavelength of 550 nm is 85% or more,
A polyimide film having a yellowness of 10 or less according to the ASTM E313-73 standard.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 산이무수물 내지 제3 산이무수물의 함량은 각각 전체 산이무수물 100 몰%를 기준으로 10 내지 100 몰%인 폴리이미드 필름.
According to claim 1,
The content of the first acid dianhydride to the third acid dianhydride is 10 to 100 mol%, respectively, based on 100 mol% of the total acid dianhydride.
제1항에 있어서,
상기 디아민(a)과 상기 산이무수물(b)의 몰수의 비(a/b)는 0.7 내지 1.3 범위인 폴리이미드 필름.
According to claim 1,
A polyimide film having a ratio (a/b) of the number of moles of the diamine (a) and the acid dianhydride (b) in the range of 0.7 to 1.3.
제1항에 있어서,
디스플레이 장치의 커버윈도우로 사용되는 폴리이미드 필름.
According to claim 1,
Polyimide film used as a cover window for display devices.
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