KR102490725B1 - Composition for forming organic electroluminescent device, method for manufacturing organic electroluminescent device and organic film - Google Patents

Composition for forming organic electroluminescent device, method for manufacturing organic electroluminescent device and organic film Download PDF

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Abstract

유기 전계 발광 소자를 구성하는 유기막을 습식 성막에 의해 형성하는 경우에 있어서, 뱅크에 둘러싸인 영역 내에 있어서의 유기막의 막 두께의 균일성을 개선 가능한 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 제공한다. 본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물은, 전하 주입 수송 재료, 유기 용매 및 적어도 2종의 표면 개질제를 함유한다.A composition for forming an organic electroluminescent element capable of improving the uniformity of film thickness of an organic film in a region surrounded by banks in a case where an organic film constituting an organic electroluminescent element is formed by wet film formation. The composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention contains a charge injection and transport material, an organic solvent, and at least two types of surface modifiers.

Description

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물, 유기 전계 발광 소자 및 유기막의 제조 방법Composition for forming organic electroluminescent device, method for manufacturing organic electroluminescent device and organic film

본 발명은, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물, 유기 전계 발광 소자 및 유기막의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a composition for forming an organic electroluminescent device, an organic electroluminescent device, and an organic film.

2016년 12월 12일에 일본특허청에 출원된 특원 제2016-240539호의 명세서, 특허청구의 범위, 도면 및 요약서의 전체 내용, 그리고 본 명세서에서 인용된 문헌 등에 개시된 내용의 일부 또는 전부를 여기에 인용하고, 본 명세서의 개시 내용으로서 도입한다.The entire contents of the specification, claims, drawings and abstract of Japanese Patent Application No. 2016-240539 filed with the Japan Patent Office on December 12, 2016, and some or all of the contents disclosed in the documents cited in this specification are cited here And, it is introduced as the disclosure content of this specification.

유기 전계 발광 소자의 제조 방법으로서는, 유기 재료를 진공 증착법에 의해 성막하고, 적층하는 제조 방법이 일반적이지만, 근년, 보다 재료 사용 효율이 우수한 제조 방법으로서, 용액화한 유기 재료를 잉크젯법 등에 의해 성막하고, 적층하는 습식 성막에 의한 제조 방법의 연구가 활발해지고 있다.As a method for manufacturing an organic electroluminescent device, a manufacturing method in which organic materials are formed into a film by a vacuum deposition method and then laminated is common. However, in recent years, as a manufacturing method with more excellent material use efficiency, a film is formed by an inkjet method or the like of a solution of an organic material. Research on a manufacturing method by wet film formation in which film is deposited and laminated is being actively pursued.

습식 성막에 의한 유기 전계 발광 소자, 특히 유기 EL 디스플레이의 제조에 있어서는, 각 화소를 뱅크라고 불리는 격벽으로 구획하고, 뱅크 내의 미소한 영역에, 유기 전계 발광 소자를 구성하는 유기막을 형성하기 위한 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물인 도포액을 잉크젯법으로 토출하고, 성막하는 방법을 사용하는 것이 검토되고 있다. 이때, 도포액에 다양한 표면 개질제를 혼합함으로써, 뱅크로 둘러싸인 영역 내에 있어서, 보다 평탄한 막을 얻는 기술이 제안되고 있다(특허문헌 1 및 2).In the manufacture of an organic electroluminescent element, particularly an organic EL display, by wet film formation, each pixel is partitioned with a partition called a bank, and an organic film constituting the organic electroluminescent element is formed in a minute region within the bank. It has been studied to use a method of discharging a coating liquid, which is a composition for forming a light emitting element, by an inkjet method to form a film. At this time, a technique for obtaining a flatter film in a region surrounded by banks by mixing various surface modifiers with a coating liquid has been proposed (Patent Documents 1 and 2).

특허문헌 1에 있어서는, 균일한 성막을 행하기 위해서, 발광층 형성용 조성물에 특정한 고분자 화합물을 함유시키는 것이 기재되어 있다. 특정한 고분자 화합물의 일례로서는 폴리실록산을 들 수 있고, 잉크젯법으로 뱅크 내에 성막하여, 균일한 막이 형성되는 것이 개시되어 있다.In Patent Literature 1, it is described that a specific high molecular compound is contained in the composition for forming a light emitting layer in order to form a uniform film. An example of the specific high molecular compound is polysiloxane, and it is disclosed that a uniform film is formed by forming a film in a bank by an inkjet method.

특허문헌 2에 있어서는, 발광층 형성용 도액에, 특정량의 레벨링제, 특히 실리콘계 화합물 혹은 불소계 화합물을 포함하는 레벨링제를 함유함으로써, 격벽에 둘러싸인 영역에 있어서 평탄한 막이 얻어지는 것이 개시되어 있다.In Patent Literature 2, it is disclosed that a flat film can be obtained in a region surrounded by barrier ribs by incorporating a specific amount of a leveling agent, particularly a leveling agent containing a silicon-based compound or a fluorine-based compound, into a coating liquid for forming a light emitting layer.

그러나, 이들 방법으로는, 아직 충분한 평탄성이 얻어지고 있다고는 말하기 어려운 것이 실정이었다.However, it was difficult to say that sufficient flatness was still obtained by these methods.

국제공개 제2010/104183호International Publication No. 2010/104183 일본특허공개 제2002-056980호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-056980

본 발명은, 유기 전계 발광 소자를 구성하는 유기막을 습식 성막에 의해 형성하는 경우에 있어서, 유기막의 뱅크에 둘러싸인 영역 내에 있어서의 막 두께의 균일성을 개선 가능한 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention provides a composition for forming an organic electroluminescent element capable of improving the uniformity of the film thickness in a region surrounded by banks of the organic film in the case where an organic film constituting the organic electroluminescent element is formed by wet film formation. aims to

본 발명자들은 예의 검토한 결과, 유기 전계 발광 소자를 구성하는 유기막을 습식 성막에 의해 형성하는 경우에 있어서, 동일한 용매에 용해했을 때 서로 표면 장력이 다른 2종류의 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 사용하면, 균일성이 우수한 유기막을 실현 가능한 것을 발견하고, 본 발명을 완성시켰다.As a result of intensive studies, the present inventors have found that, in the case where the organic film constituting the organic electroluminescent element is formed by wet film formation, an organic electroluminescent element containing two types of surface modifiers having different surface tensions when dissolved in the same solvent The inventors have found that an organic film having excellent uniformity can be realized by using the forming composition, and completed the present invention.

즉, 본 발명은, 이하의 구성을 갖는다.That is, this invention has the following structures.

[1] 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 1종 이상의 제1 표면 개질제 및 1종 이상의 제2 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서,[1] A composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, at least one first surface modifier and at least one second surface modifier,

상기 유기 용매의 표면 장력(단위: mN/m)을 Sa로 하고, 상기 유기 용매 100중량부에 대한 상기 1종 이상의 제1 표면 개질제의 합계의 함유량을 C1중량부로 하고, 상기 유기 용매 100중량부에 대한 상기 1종 이상의 제2 표면 개질제의 합계의 함유량을 C2중량부로 하고,The surface tension (unit: mN/m) of the organic solvent is Sa, the total content of the one or more first surface modifiers with respect to 100 parts by weight of the organic solvent is C1 parts by weight, and 100 parts by weight of the organic solvent The content of the total of the one or more types of second surface modifiers for C2 parts by weight,

각 상기 제1 표면 개질제는, 상기 유기 용매의 100중량부에 상기 제1 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시킨 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S1y로 하면, 하기 식 (1)을 충족하는 표면 개질제이고,Each of the first surface modifiers satisfies the following formula (1) when S1y is the surface tension (unit: mN/m) of a mixture in which 0.01 part by weight of the first surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of the organic solvent. It is a surface modifier to

Sa-S1y>1.0 … (1)Sa-S1y>1.0 … (One)

각 상기 제2 표면 개질제는, 상기 유기 용매의 100중량부에 상기 제2 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시킨 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S2y로 하면, 하기 식 (2)를 충족하는 표면 개질제이고,Each of the second surface modifiers satisfies the following formula (2) when the surface tension (unit: mN/m) of a mixture in which 0.01 part by weight of the second surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of the organic solvent is S2y. It is a surface modifier to

Sa-S2y≤1.0 … (2)Sa-S2y≤1.0 … (2)

상기 유기 용매의 100중량부와 상기 제1 표면 개질제의 상기 C1중량부와의 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S1x로 하면, 하기 식 (3)을 충족하고,When the surface tension (unit: mN/m) of a mixture of 100 parts by weight of the organic solvent and the C1 part by weight of the first surface modifier is S1x, the following formula (3) is satisfied,

Sa-S1x>1.0 … (3)Sa-S1x>1.0 … (3)

상기 유기 용매의 100중량부와 상기 제2 표면 개질제의 상기 C2중량부와의 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S2x로 하면, 하기 식 (4)를 충족하는,When S2x is the surface tension (unit: mN/m) of a mixture of 100 parts by weight of the organic solvent and the C2 part by weight of the second surface modifier, the following formula (4) is satisfied,

Sa-S2x<1.0 … (4)Sa-S2x<1.0 … (4)

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.A composition for forming an organic electroluminescent device.

[2] 상기 C1이 0.001 내지 1인, [1]에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.[2] The composition for forming an organic electroluminescent element according to [1], wherein C1 is 0.001 to 1.

[3] 상기 C2가 0.001 내지 1인, [1] 또는 [2]에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.[3] The composition for forming an organic electroluminescent element according to [1] or [2], wherein C2 is 0.001 to 1.

[4] 상기 제1 표면 개질제가, 실리콘 및/또는 불소를 함유하는 재료인, [1] 내지 [3] 중 어느 한 항에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.[4] The composition for forming an organic electroluminescent element according to any one of [1] to [3], wherein the first surface modifier is a material containing silicon and/or fluorine.

[5] 상기 제2 표면 개질제가, 계면 활성제인, [1] 내지 [4] 중 어느 한 항에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.[5] The composition for forming an organic electroluminescent device according to any one of [1] to [4], wherein the second surface modifier is a surfactant.

[6] 상기 계면 활성제가, 에테르형, 에스테르형 및 에테르·에스테르형으로 이루어지는 군에서 선택되는 비이온성 계면 활성제인, [5]에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.[6] The composition for forming an organic electroluminescent device according to [5], wherein the surfactant is a nonionic surfactant selected from the group consisting of ether type, ester type, and ether ester type.

[7] 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 제5 표면 개질제 및 제6 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서,[7] A composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, a fifth surface modifier and a sixth surface modifier,

순수의 표면 장력(단위: mN/m)을 Sa'로 하고, 순수의 100중량부와 상기 제5 표면 개질제의 0.1중량부와의 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S1z로 하고, 순수의 100중량부와 상기 제6 표면 개질제의 0.1중량부와의 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S2z로 하면, 하기 식 (5)를 충족하는,The surface tension of pure water (unit: mN/m) is Sa', and the surface tension of a mixture of 100 parts by weight of pure water and 0.1 part by weight of the fifth surface modifier (unit: mN/m) is S1z, When S2z is the surface tension (unit: mN/m) of a mixture of 100 parts by weight of pure water and 0.1 part by weight of the sixth surface modifier, the following equation (5) is satisfied,

Sa'>S1z>S2z … (5)Sa'>S1z>S2z . . . (5)

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.A composition for forming an organic electroluminescent device.

[8] 상기 유기 용매 100중량부에 대한, 상기 제5 표면 개질제의 함유량이 0.001 내지 1중량부인, [7]에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.[8] The composition for forming an organic electroluminescent device according to [7], wherein the content of the fifth surface modifier is 0.001 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the organic solvent.

[9] 상기 유기 용매 100중량부에 대한, 상기 제6 표면 개질제의 함유량이 0.001 내지 1중량부인, [7] 또는 [8]에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.[9] The composition for forming an organic electroluminescent device according to [7] or [8], wherein the content of the sixth surface modifier is 0.001 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the organic solvent.

[10] 상기 제5 표면 개질제가, 실리콘 및/또는 불소를 함유하는 재료인, [7] 내지 [9] 중 어느 한 항에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.[10] The composition for forming an organic electroluminescent device according to any one of [7] to [9], wherein the fifth surface modifier is a material containing silicon and/or fluorine.

[11] 상기 제6 표면 개질제가, 계면 활성제인, [7] 내지 [10] 중 어느 한 항에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.[11] The composition for forming an organic electroluminescent device according to any one of [7] to [10], wherein the sixth surface modifier is a surfactant.

[12] 상기 계면 활성제가, 에테르형, 에스테르형 및 에테르·에스테르형으로 이루어지는 군에서 선택되는 비이온성 계면 활성제인, [11]에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.[12] The composition for forming an organic electroluminescent device according to [11], wherein the surfactant is a nonionic surfactant selected from the group consisting of ether type, ester type, and ether/ester type.

[13] [1] 내지 [12] 중 어느 한 항에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 건조시켜서 이루어지는 유기막을 포함하는, 유기 전계 발광 소자.[13] An organic electroluminescent device comprising an organic film formed by drying the composition for forming an organic electroluminescent device according to any one of [1] to [12].

[14] 격벽으로 구획된 영역으로의 [1] 내지 [12] 중 어느 한 항에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 도포, 및 도포된 상기 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 건조를 포함하는, 유기막의 제조 방법.[14] Including application of the composition for forming an organic electroluminescent element according to any one of [1] to [12] to a region partitioned by a barrier rib, and drying the applied composition for forming an organic electroluminescent element, A method for producing an organic film.

본 발명에 관한 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 의하면, 뱅크에 둘러싸인 영역 내에 있어서의 유기막의 막 두께의 균일성을 양호하게 할 수 있고, 유기 전계 발광 소자의 특성을 개선할 수 있다.According to the composition for forming an organic electroluminescent element according to the present invention, the uniformity of the film thickness of the organic film in the region surrounded by the bank can be improved, and the characteristics of the organic electroluminescent element can be improved.

도 1은 본 발명의 유기 전계 발광 소자의 실시 형태의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.
도 2는 실시예에 있어서의 격벽 내로의 유기막의 형성의 모습을 도시하는 모식도이다.
1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an embodiment of an organic electroluminescent device of the present invention.
Fig. 2 is a schematic view showing the state of formation of an organic film into a partition wall in Example.

이하, 본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 적합한 실시 형태에 대해서 상세하게 설명한다. 또한, 도면의 설명에 있어서 동일한 요소에는 동일한 부호를 붙이고, 중복된 설명을 생략한다. 또한, 도시의 편의상, 도면의 치수 비율은 설명한 것과 반드시 일치하지 않는다. 또한, 본 발명은 이하에 설명하는 내용에 한정되는 것이 아니고, 그의 요지를 변경하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경해서 실시하는 것이 가능하다.Hereinafter, preferred embodiments of the composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention will be described in detail. In addition, in description of drawings, the same code|symbol is attached|subjected to the same element, and redundant description is abbreviate|omitted. Also, for convenience of illustration, the dimensional ratios in the drawings do not necessarily correspond to those described. In addition, this invention is not limited to the content demonstrated below, It is possible to implement with arbitrary change in the range which does not change the summary.

또한, 특별히 언급하지 않는 한, 본 발명에 있어서의 함유량이나 농도는, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 했을 때의 함유량이나 농도를 나타내고 있다. 예를 들어, 100중량ppm의 함유량의 물질이라고 한 경우에는, 유기 용매 100중량부에 대하여 0.01중량부의 물질이 함유되어 있는 것을 의미한다.In addition, unless otherwise indicated, the content and concentration in the present invention represent the content and concentration when the amount of the organic solvent contained in the composition for forming an organic electroluminescent element is taken as a reference value. For example, in the case of a substance having a content of 100 ppm by weight, it means that 0.01 part by weight of the substance is contained with respect to 100 parts by weight of the organic solvent.

또한, 특별히 언급하지 않는 한, 본 명세서에 있어서 「내지」를 사용해서 표현되는 수치 범위는, 「내지」의 전후에 기재된 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미하고, 「A 내지 B」는 A 이상 B 이하인 것을 의미한다.In addition, unless otherwise indicated, in this specification, a numerical range expressed using "to" means a range including the numerical values described before and after "to" as a lower limit and an upper limit, and "A to B" It means more than A and less than B.

[유기 전계 발광 소자 형성용 조성물][Composition for Forming Organic Electroluminescent Device]

본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물은, 전하 주입 수송 재료, 유기 용매 및 적어도 2종의 표면 개질제를 함유한다.The composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention contains a charge injection and transport material, an organic solvent, and at least two types of surface modifiers.

본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제1 양태는, 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 제1 표면 개질제 및 제2 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서,A first aspect of the composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention is a composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, a first surface modifier and a second surface modifier,

해당 유기 용매 단독의 표면 장력을 Sa(mN/m)로 하면,If the surface tension of the organic solvent alone is Sa (mN / m),

제1 표면 개질제는, 해당 유기 용매에 해당 제1 표면 개질제 1종을 100중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력(S1y)이 Sa-S1y>1.0(이하, 「식 (1)」이라고 하는 경우도 있다)이 되는 것을 나타내고,The first surface modifier has a surface tension (S1y) of Sa-S1y > 1.0 when 100 ppm by weight of the first surface modifier is dissolved in the organic solvent (hereinafter referred to as "formula (1)" in some cases). ) indicates that

제2 표면 개질제는, 해당 유기 용매에 해당 제2 표면 개질제 1종을 100중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력(S2y)이 Sa-S2y≤1.0(이하, 「식 (2)」라고 하는 경우도 있다)이 되는 것을 나타내고,The second surface modifier has a surface tension (S2y) of Sa-S2y ≤ 1.0 when 100 ppm by weight of the second surface modifier is dissolved in the organic solvent (hereinafter referred to as "Formula (2)" in some cases. ) indicates that

모든 제1 표면 개질제만을 해당 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 있어서의 농도와 동일 농도(중량%)로 해당 유기 용매에 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1x(mN/m),The surface tension when only all the first surface modifiers are dissolved in the organic solvent at the same concentration (% by weight) as the concentration in the composition for forming an organic electroluminescent device is S1x (mN/m);

모든 제2 표면 개질제만을 해당 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 있어서의 농도와 동일 농도(중량%)로 해당 유기 용매에 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2x(mN/m)로 했을 때,When only all the second surface modifiers are dissolved in the organic solvent at the same concentration (% by weight) as the concentration in the composition for forming an organic electroluminescent element, the surface tension is S2x (mN / m),

Sa-S1x>1.0(이하, 「식 (3)」이라고 하는 경우도 있다), 또한 Sa-S2x<1.0(이하, 「식 (4)」라고 하는 경우도 있다)Sa-S1x > 1.0 (hereinafter sometimes referred to as "Equation (3)"), and Sa-S2x < 1.0 (hereinafter sometimes referred to as "Equation (4)")

을 충족하는 것을 특징으로 한다.It is characterized in that it satisfies.

즉, 본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제1 양태는, 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 1종 이상의 제1 표면 개질제 및 1종 이상의 제2 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서,That is, the first aspect of the composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention is to form an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, at least one first surface modifier and at least one second surface modifier. As a composition for

유기 용매의 표면 장력(단위: mN/m)을 Sa로 하고, 유기 용매 100중량부에 대한 제1 표면 개질제의 함유량(2종 이상의 제1 표면 개질제를 사용하는 경우에는, 그들의 합계 함유량)을 C1중량부로 하고, 유기 용매 100중량부에 대한 제2 표면 개질제의 함유량(2종 이상의 제2 표면 개질제를 사용하는 경우에는, 그들의 합계 함유량)을 C2중량부로 하고,The surface tension (unit: mN/m) of the organic solvent is taken as Sa, and the content of the first surface modifier relative to 100 parts by weight of the organic solvent (when two or more types of first surface modifiers are used, the total content thereof) is C1 parts by weight, and the content of the second surface modifier relative to 100 parts by weight of the organic solvent (when two or more types of second surface modifiers are used, the total content thereof) is C2 parts by weight,

각 제1 표면 개질제는, 유기 용매의 100중량부에 제1 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시킨 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S1y로 하면, 하기 식 (1)을 충족하는 표면 개질제이고,Each first surface modifier is a surface modifier that satisfies the following formula (1) when the surface tension (unit: mN/m) of a mixture in which 0.01 part by weight of the first surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of an organic solvent is S1y. ego,

Sa-S1y>1.0 … (1)Sa-S1y>1.0 … (One)

각 제2 표면 개질제는, 유기 용매의 100중량부에 제2 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시킨 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S2y로 하면, 하기 식 (2)를 충족하는 표면 개질제이고,Each second surface modifier is a surface modifier that satisfies the following formula (2) when the surface tension (unit: mN/m) of a mixture in which 0.01 part by weight of the second surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of an organic solvent is S2y. ego,

Sa-S2y≤1.0 … (2)Sa-S2y≤1.0 … (2)

유기 용매의 100중량부와 제1 표면 개질제의 C1중량부와의 혼합물(즉, 유기 용매 중에, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 모든 제1 표면 개질제만을, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 양과 동일한 양으로 함유시킨 혼합물)의 표면 장력(단위: mN/m)을 S1x로 하면, 하기 식 (3)을 충족하고,A mixture of 100 parts by weight of the organic solvent and C1 parts by weight of the first surface modifier (that is, in the organic solvent, only all the first surface modifiers included in the composition for forming an organic electroluminescent element are added to the composition for forming an organic electroluminescent element) When the surface tension (unit: mN/m) of the mixture contained in the same amount as the amount contained is S1x, the following formula (3) is satisfied,

Sa-S1x>1.0 … (3)Sa-S1x>1.0 … (3)

유기 용매의 100중량부와 제2 표면 개질제의 C2중량부와의 혼합물(즉, 유기 용매 중에, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 모든 제2 표면 개질제만을, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 양과 동일한 양으로 함유시킨 혼합물)의 표면 장력(단위: mN/m)을 S2x로 하면, 하기 식 (4)를 충족하는 것을 특징으로 한다.A mixture of 100 parts by weight of the organic solvent and C2 parts by weight of the second surface modifier (that is, in the organic solvent, only all the second surface modifiers included in the composition for forming an organic electroluminescent element are added to the composition for forming an organic electroluminescent element) When the surface tension (unit: mN/m) of the mixture containing the same amount as the amount contained is S2x, it is characterized in that the following formula (4) is satisfied.

Sa-S2x<1.0 … (4)Sa-S2x<1.0 … (4)

본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제2 양태는, 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 제3 표면 개질제 및 제4 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서, 해당 유기 용매 단독의 표면 장력을 Sa(mN/m), 해당 유기 용매에 해당 제3 표면 개질제만을 100중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1y(mN/m), 해당 유기 용매에 해당 제4 표면 개질제만을 100중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2y(mN/m)로 했을 때,A second aspect of the composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention is a composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, a third surface modifier and a fourth surface modifier, wherein the organic solvent alone The surface tension of Sa (mN / m), the surface tension of S1y (mN / m) when only 100 wt. ppm of the third surface modifier is dissolved in the organic solvent, and the fourth surface modifier alone in the organic solvent 100 wt. When the surface tension when dissolved in ppm is S2y (mN/m),

Sa-S1y>1.0, 또한 Sa-S2y≤1.0Sa-S1y>1.0, and Sa-S2y≤1.0

을 충족하는 것을 특징으로 한다.It is characterized in that it satisfies.

본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제3 양태는, 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 제5 표면 개질제 및 제6 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서, 순수의 표면 장력을 Sa'(mN/m), 순수에 제5 표면 개질제만을 1000중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1z(mN/m), 순수에 제6 표면 개질제만을 1000중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2z(mN/m)로 했을 때, 하기 식 (5)를 충족하는 것을 특징으로 한다.A third aspect of the composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention is a composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, a fifth surface modifier and a sixth surface modifier, wherein the surface tension of pure water is Sa' (mN / m), the surface tension when only 1000 ppm by weight of the fifth surface modifier was dissolved in pure water S1z (mN / m), the surface tension when only 1000 ppm by weight of the sixth surface modifier was dissolved in pure water When S2z (mN/m) is used, it is characterized in that the following formula (5) is satisfied.

Sa'>S1z>S2z … (5)Sa'>S1z>S2z . . . (5)

본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제4 양태는, 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 제7 표면 개질제 및 제8 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서, 해당 제7 표면 개질제의 분자량이 1000 이상이고, 또한 해당 제8 표면 개질제의 분자량이 1000 미만인 것을 특징으로 한다.A fourth aspect of the composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention is a composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, a seventh surface modifier and an eighth surface modifier, wherein the seventh surface It is characterized in that the molecular weight of the modifier is 1000 or more, and the molecular weight of the eighth surface modifier is less than 1000.

<표면 개질제><Surface modifier>

본 발명에 있어서의 표면 개질제란, 액체의 표면 장력, 또는 고체의 표면 에너지를 제어할 수 있는 재료를 말한다. 표면 개질제는, 액체에 소량 첨가함으로써, 해당 액체를 도포한 후에 액체 표면, 혹은 도포해서 얻어지는 고체 표면에 대하여 기능성을 부여할 수 있다. 여기서 부여되는 기능으로서는, 발액성, 비점착성, 습윤성, 평활성, 분산성, 소포성 등을 들 수 있다.The surface modifier in the present invention refers to a material capable of controlling the surface tension of a liquid or the surface energy of a solid. By adding a small amount to a liquid, the surface modifier can impart functionality to the surface of the liquid after application of the liquid or to the surface of a solid obtained by application. Examples of the functions imparted here include liquid repellency, non-adhesiveness, wettability, smoothness, dispersibility, defoaming properties, and the like.

표면 개질제로서 사용할 수 있는 재료로서는, 액체 표면에 편석하기 쉬운 재료가 바람직하고, 구체적으로는, 실리콘이나 불소를 함유하는 재료(폴리머, 올리고머, 저분자), 파라핀 또는 계면 활성제 등을 들 수 있다.As a material that can be used as a surface modifier, a material that tends to segregate on the surface of the liquid is preferable, and specific examples thereof include silicon, fluorine-containing materials (polymers, oligomers, low molecules), paraffin, and surfactants.

여기에서 말하는 계면 활성제란, 친수성을 갖는 부분(기)과 소수성을 갖는 부분(기)을 갖는 양 친매성의 화학 구조를 갖는 물질이며, 분산제나 기포제, 소포제, 유화제, 식품 첨가물, 보습제, 대전 방지제, 습윤성 향상제, 활제, 방청제 등 폭넓은 용도에 사용되고 있다. 이러한 계면 활성제는, 친수성 부분이 양이온성, 음이온성, 양성인 것과, 비이온성인 것으로 크게 구별되지만, 본 발명에 있어서는, 유기 전계 발광 소자 내에서의 통전의 방해가 되지 않도록, 비이온성의 계면 활성제가 바람직하다.A surfactant as used herein is a substance having an amphiphilic chemical structure having a hydrophilic moiety (group) and a hydrophobic moiety (group), and is a dispersing agent, a foaming agent, an antifoaming agent, an emulsifying agent, a food additive, a moisturizing agent, and an antistatic agent. , wettability improver, lubricant, rust preventive, etc. are used in a wide range of applications. Such surfactants are broadly classified into cationic, anionic, and amphoteric surfactants having a hydrophilic portion and nonionic surfactants. desirable.

또한, 이러한 계면 활성제는, 물과 기름에 대한 친화성의 정도를 나타내는 HLB값에 의해 분류되는 경우도 있다. HLB값은 0 내지 20까지의 값을 취하고, 0에 가까울수록 친유성(소수성)이 높고, 20에 가까울수록 친수성이 높아지는 것이 알려져 있다. 본 발명에 있어서, HLB값에 있어서의 한정은 특별히 없지만, 유기 용매에 대한 용해성의 관점에서, 바람직하게는 1.5 이상이고, 또한 18 이하이다.In addition, these surfactants are sometimes classified according to the HLB value indicating the degree of affinity for water and oil. It is known that the HLB value takes a value from 0 to 20, and the closer to 0, the higher the lipophilicity (hydrophobicity), and the closer to 20, the higher the hydrophilicity. In the present invention, the HLB value is not particularly limited, but is preferably 1.5 or more and 18 or less from the viewpoint of solubility in organic solvents.

이하에, 본 발명의 표면 개질제로서 사용할 수 있는 재료의 구체예를 나타낸다.Specific examples of materials that can be used as the surface modifier of the present invention are shown below.

실리콘을 함유하는 재료로서는, 폴리실록산; 폴리실록산을 부분적으로 에테르 변성, 에스테르 변성, 아르알킬 변성시킨 화합물; 폴리실록산의 메틸기를 알킬기 치환한 화합물; 폴리실록산에 반응기를 부가시킨 반응성 폴리실록산; 등을 들 수 있다.As a material containing silicon, it is polysiloxane; compounds obtained by partially ether-modified, ester-modified, or aralkyl-modified polysiloxanes; Compounds in which the methyl group of polysiloxane is substituted with an alkyl group; reactive polysiloxane obtained by adding a reactive group to polysiloxane; etc. can be mentioned.

구체적으로는, 신에쓰 가가꾸사제 KF 시리즈와 X-22 시리즈, KP 시리즈, 빅 케미사제 BYK 시리즈, 도레이 다우코닝사제 SH 시리즈, SF 시리즈, BY 시리즈, 교에샤 가가꾸사제 폴리플로우 KL 시리즈 등을 들 수 있다. 각 사에서 제공하고 있는 카탈로그에 기재된 재료이면, 특별히 한정되지는 않지만, 특히, 유기 용매에 대한 용해성과 내열성의 관점에서, KF-351A, KF-945, KF-96, KF-6015, KF-6017, KF-410, X22-821, FL-100, KF-414, KF-4917, X-22-7322, X-22-1877, KF-50, KF-6004, KF-889, KF-53, X-22-163, X-22-164, KP-124, KP-106, KP-623, KP-323, KP-327, KP-625, KP-341, KP-624, KP-310, KP-301, KP-105(신에쓰 가가꾸사제), BYK-361N, BYK-302, BYK-330, BYK-310, BYK-313, BYK-315N, BYK-370, BYK-322, BYK-323, BYK-065, BYK-323, BYK-3440, BYK-345, BYK-3560, BYK-306, BYK-333(빅 케미사제), SH-200, SH-3771, SH-3746, BY16-036, SH-28, SF-8428, 3Additive, 11Additive, 29Additive, 56Additive, 8526Additive, 501WAdditive, SF-8427, SF-8416, BY16-846, BY16-880, BY16-750, BY16-849, BY16-853, FZ-3785, SF-8411, BY16-870, BY16-869, SF-8417, BY16-205, SF-8413, BY16-880, SF-8421, SF-8416, SH-203, FS-1265, SH-510, SH-550, SH-710, SH-8410, FZ-77, FS-1265(도레이 다우코닝사제), 폴리플로우 KL-400, 폴리플로우 KL-401, 폴리플로우 KL-402, 폴리플로우 KL-403, 폴리플로우 KL-404(교에샤 가가꾸사제) 등이 바람직하다.Specifically, Shin-Etsu Chemical's KF series, X-22 series, KP series, Big Chemie's BYK series, Toray Dow Corning's SH series, SF series, BY series, Kyoesha Chemical's Polyflow KL series, etc. can be heard It is not particularly limited as long as it is a material described in the catalog provided by each company, but in particular, from the viewpoint of solubility in organic solvents and heat resistance, KF-351A, KF-945, KF-96, KF-6015, KF-6017 , KF-410, X22-821, FL-100, KF-414, KF-4917, X-22-7322, X-22-1877, KF-50, KF-6004, KF-889, KF-53, X -22-163, X-22-164, KP-124, KP-106, KP-623, KP-323, KP-327, KP-625, KP-341, KP-624, KP-310, KP-301 , KP-105 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), BYK-361N, BYK-302, BYK-330, BYK-310, BYK-313, BYK-315N, BYK-370, BYK-322, BYK-323, BYK- 065, BYK-323, BYK-3440, BYK-345, BYK-3560, BYK-306, BYK-333 (made by Big Chemie), SH-200, SH-3771, SH-3746, BY16-036, SH-28 , SF-8428, 3Additive, 11Additive, 29Additive, 56Additive, 8526Additive, 501WAdditive, SF-8427, SF-8416, BY16-846, BY16-880, BY16-750, BY16-849, BY16-853, FZ-3785, SF -8411, BY16-870, BY16-869, SF-8417, BY16-205, SF-8413, BY16-880, SF-8421, SF-8416, SH-203, FS-1265, SH-510, SH-550 , SH-710, SH-8410, FZ-77, FS-1265 (manufactured by Toray Dow Corning), Polyflow KL-400, Polyflow KL-401, Polyflow KL-402, Polyflow KL-403, Polyflow KL -404 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and the like are preferable.

불소를 함유하는 재료로서는, 불소 함유기 올리고머; 퍼플루오로알킬기 함유 올리고머; UV 반응기를 갖는 상기 올리고머; 등을 들 수 있다. As a material containing fluorine, it is fluorine-containing group oligomer; perfluoroalkyl group-containing oligomers; the oligomer having a UV reactive group; etc. can be mentioned.

구체적으로는, 3M사제 플루오라드 시리즈, DIC사제 메가팍(등록상표) F 시리즈, 메가팍 R 시리즈, AGC 세이미케미칼사제 서플론(등록상표) S 시리즈, 다이킨 고교사제 유니다임(등록상표) 시리즈, 뎀넘(등록상표) 시리즈, 미쓰비시 머티리얼 덴시 가세이사제 에프톱 EF 시리즈, 교에샤 가가꾸사제 폴리플로우 시리즈, 트로이 케미컬사제 트로이졸 S 시리즈, OMNOVA사제 PolyFox 시리즈, DuPont사제 Capstone(등록상표) 등을 들 수 있다. 각 사에서 제공하고 있는 카탈로그에 기재된 재료이면, 특별히 한정되지는 않지만, 특히 유기 용매에 대한 용해성의 관점에서, FC-4430, FC-4432(3M사제), F-444, F-477, F-554, F-556, F-565, F-568, F-557, F-559, F-560, F-561, F-562, F-552, RS-75, RS-78, RS-56, F-410, F-510, F-553, F-430, F-555(DIC사제), S-242, S-243, S-420, S-611, S-651, S-386, S-680, S-685(AGC 세이미케미칼사제), No.7, No.50, No.54, No.75, No.77, No.85, No.90, No.95, No.99(교에샤 가가꾸사제), TG-5502, S-20, S-65, S-200(다이킨 고교사제), EF-PP31, EF-PP33, EF-PP32, EF-L174(미쓰비시 머티리얼 덴시 가세이사제), S-366(트로이 케미컬사제), PF-6320, PF-154, PF-159, PF-3320, PF-151, PF-652, PF-636(OMNOVA사제), FS-22, FS-66, FS-83(DuPont사제) 등이 바람직하다.Specifically, Fluorad series manufactured by 3M, Megafac (registered trademark) F series manufactured by DIC, Megafac R series, Suplon (registered trademark) S series manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd., Unidigm (registered trademark) manufactured by Daikin Kogyo Co., Ltd. Series, Demnum (registered trademark) series, Mitsubishi Material Denshi Kasei's Ftop EF series, Kyoesha Chemical's Polyflow series, Troy Chemical's Troisol S series, OMNOVA's PolyFox series, DuPont's Capstone (registered trademark) etc. can be mentioned. It is not particularly limited as long as it is a material described in the catalog provided by each company, but in particular from the viewpoint of solubility in organic solvents, FC-4430, FC-4432 (manufactured by 3M), F-444, F-477, F- 554, F-556, F-565, F-568, F-557, F-559, F-560, F-561, F-562, F-552, RS-75, RS-78, RS-56, F-410, F-510, F-553, F-430, F-555 (manufactured by DIC), S-242, S-243, S-420, S-611, S-651, S-386, S- 680, S-685 (manufactured by AGC Semichemical), No.7, No.50, No.54, No.75, No.77, No.85, No.90, No.95, No.99 Esha Kagaku Co., Ltd.), TG-5502, S-20, S-65, S-200 (Daikin Kogyo Co., Ltd.), EF-PP31, EF-PP33, EF-PP32, EF-L174 (Mitsubishi Material Denshi Kasei Co., Ltd.) ), S-366 (manufactured by Troy Chemical), PF-6320, PF-154, PF-159, PF-3320, PF-151, PF-652, PF-636 (manufactured by OMNOVA), FS-22, FS- 66, FS-83 (manufactured by DuPont), and the like are preferable.

파라핀이란, 탄화수소계 화합물의 일종이며, 탄소수가 20 이상인 알칸 화합물이다. 파라핀에는 고형의 것과 액체의 것이 있고, 일반적으로 고형의 것은 파라핀 왁스, 액체의 것은 파라핀 오일이라고 부르고 있다. 본 발명에 있어서는, 유기 용매에 대한 용해성의 관점에서 파라핀 오일이 적합하다고 생각된다.Paraffin is a type of hydrocarbon-based compound and is an alkane compound having 20 or more carbon atoms. There are solid and liquid paraffin, and in general, the solid is called paraffin wax and the liquid is called paraffin oil. In the present invention, paraffin oil is considered to be suitable from the viewpoint of solubility in organic solvents.

계면 활성제로서는, 양이온성 계면 활성제, 음이온성 계면 활성제, 양성 계면 활성제, 비이온성 계면 활성제를 들 수 있다.Examples of the surfactant include cationic surfactants, anionic surfactants, amphoteric surfactants, and nonionic surfactants.

양이온성 계면 활성제로서는, 구체적으로는, 아민형, 제4급 암모늄염형 등을 들 수 있다.As a cationic surfactant, an amine type, a quaternary ammonium salt type, etc. are mentioned specifically,.

아민형으로서는, 폴리옥시에틸렌알킬아민이나 알킬아민염 등의 지방족 아민, 알킬이미다졸린 등의 복소환 아민염 등을 들 수 있다.Examples of the amine type include aliphatic amines such as polyoxyethylene alkylamines and alkylamine salts, and heterocyclic amine salts such as alkyl imidazolines.

제4급 암모늄염형으로서는, 알킬트리메틸암모늄염이나 디알킬디메틸암모늄염, 알킬벤질디메틸암모늄염, 폴리디알릴디메틸암모늄염 등을 들 수 있다. 또한, 알킬트리메틸암모늄클로라이드나 디알킬디메틸암모늄클로라이드 등의 염소염형이나, 알킬디메틸에틸암모늄에틸설페이트 등의 비염소형 등을 들 수 있다.Examples of the quaternary ammonium salt type include alkyltrimethylammonium salts, dialkyldimethylammonium salts, alkylbenzyldimethylammonium salts, and polydiallyldimethylammonium salts. In addition, chlorine salt types such as alkyltrimethylammonium chloride and dialkyldimethylammonium chloride, and non-chlorine types such as alkyldimethylethylammonium ethyl sulfate are exemplified.

이들 중에서도, 아민형이나 제4급 암모늄염형의 비염소형 양이온성 계면 활성제가 유기 전계 발광 소자의 성능을 저하시킬 가능성이 있는 원소를 포함하고 있지 않고, 비금속 원소로 구성되어 있다고 하는 이유에서 바람직하다. 예를 들어, 카오사제 아세타민(등록상표) 시리즈, 사니졸(등록상표) 시리즈, 코타민(등록상표) 시리즈(아세타민 24, 아세타민 86, 사니졸 B-50 등), 다이이찌 고교 세이야꾸사제 카티오겐(등록상표) 시리즈, 샤롤(등록상표) 시리즈(카티오겐 ES-P, 카티오겐 DDM-PG 등), 닛카 가가꾸사제 닛카논(등록상표) 시리즈 등을 들 수 있다.Among these, amine-type or quaternary ammonium salt-type non-chlorine-type cationic surfactants are preferable because they do not contain elements that may deteriorate the performance of organic electroluminescent devices and are composed of non-metal elements. For example, Kao Corporation's Acetamine (registered trademark) series, Sanisol (registered trademark) series, Kotamine (registered trademark) series (acetamine 24, acetamine 86, Sanisol B-50, etc.), Daiichi Kogyo Seiya Catiogen (registered trademark) series made by Kussa, Charol (registered trademark) series (Catiogen ES-P, Catiogen DDM-PG, etc.), Nikkanon (registered trademark) series made by Nikka Chemical Co., Ltd., etc. are mentioned. .

음이온성 계면 활성제로서는, 구체적으로는, 황산에스테르형, 인산에스테르형, 카르복실산형, 술폰산형 등을 들 수 있다. 염으로서, 나트륨이나 칼륨 등의 알칼리 금속을 포함하지 않고, 비금속 원소로 구성되어 있는 음이온성 계면 활성제는, 유기 전계 발광 소자의 성능을 저하시킬 가능성이 있는 원소를 포함하고 있지 않다고 하는 이유에서 바람직하다.Specific examples of the anionic surfactant include sulfuric acid ester type, phosphoric acid ester type, carboxylic acid type, and sulfonic acid type. As a salt, an anionic surfactant composed of a non-metal element and not containing an alkali metal such as sodium or potassium is preferable because it does not contain an element that may deteriorate the performance of the organic electroluminescent device. .

황산에스테르형으로서는 구체적으로, 알킬황산에스테르염, 에톡시황산에스테르염, 폴리옥시에틸렌스티렌화 페닐황산에스테르염, 폴리옥시에틸렌알킬에테르황산에스테르염, 장쇄 알코올황산에스테르염, 그 외의 황산에스테르염 등을 들 수 있다.Specific examples of the sulfate ester type include alkyl sulfate ester salts, ethoxy sulfate ester salts, polyoxyethylene styrenated phenyl sulfate ester salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfate ester salts, long-chain alcohol sulfate ester salts, and other sulfuric acid ester salts. can be heard

인산에스테르형으로서는 구체적으로, 폴리옥시에틸렌알킬에테르인산에스테르(염) 등을 들 수 있다.Specifically as a phosphoric acid ester type|mold, polyoxyethylene alkyl ether phosphoric acid ester (salt) etc. are mentioned.

카르복실산형으로서는 구체적으로, 지방산염, 폴리옥시에틸렌알킬에테르아세트산염, 폴리옥시에틸렌알킬에테르술포숙신산염, 알케닐숙신산염, 폴리아크릴산염, 스티렌-말레산 코폴리머 암모늄염, 카르복시메틸셀룰로오스염 등을 들 수 있다.Specific examples of the carboxylic acid type include fatty acid salts, polyoxyethylene alkyl ether acetates, polyoxyethylene alkyl ether sulfosuccinates, alkenyl succinates, polyacrylates, styrene-maleic acid copolymer ammonium salts, carboxymethyl cellulose salts, and the like. can be heard

술폰산형으로서는 구체적으로, 술폰산염, 술포숙신산염, 알킬벤젠술폰산염, 알칸술폰산염, 알파올레핀술폰산염, 페놀술폰산염, 나프탈렌술폰산나트륨포르말린 축합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the sulfonic acid type include sulfonic acid salts, sulfosuccinic acid salts, alkylbenzenesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, alpha olefin sulfonic acid salts, phenolsulfonic acid salts, naphthalenesulfonic acid sodium formalin condensates, and the like.

예를 들어, 카오사제 에말(등록상표) 시리즈, 라테물(등록상표) 시리즈, 네오펠렉스(등록상표) 시리즈, 펠렉스(등록상표) 시리즈, 데몰(등록상표) 시리즈, 포이즈(등록상표) 시리즈, 호모게놀(등록상표) 시리즈(에말 20C, 라테물 WX, 네오펠렉스 GS, 펠렉스 SS-L, 데몰 NL, 포이즈 520 등), 다이이찌 고교 세이야꾸사제 모노겐(등록상표) 시리즈, 하이테놀(등록상표) 시리즈, 플라이서프 시리즈, 네오 하이테놀(등록상표) 시리즈, 칼리 비누 시리즈, 네오겐(등록상표) 시리즈, 네오콜(등록상표) 시리즈(모노겐 Y-100, 하이테놀 227L, 플라이서프 A215C, 네오 하이테놀 LS, 칼리 비누 HY, 네오겐 S-20F, 네오콜 P 등), 닛카 가가꾸사제 선렉스 시리즈 등을 들 수 있다.For example, Kaosha Emal (registered trademark) series, Lattemul (registered trademark) series, Neopelex (registered trademark) series, Pelex (registered trademark) series, Demoll (registered trademark) series, Poise (registered trademark) Series, Homogenol (registered trademark) series (Emal 20C, Lattemul WX, Neopelex GS, Pelex SS-L, Demoll NL, Poise 520, etc.), Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Monogen (registered trademark) series, Hightenol (registered trademark) series, Flysurf series, Neo Hightenol (registered trademark) series, Kali Soap series, Neogen (registered trademark) series, Neocall (registered trademark) series (Monogen Y-100, Hitenol 227L , Flysurf A215C, Neo Hytenol LS, Kali Soap HY, Neogen S-20F, Neocall P, etc.), Sunlex series manufactured by Nikka Chemical Co., Ltd., etc. are mentioned.

양성 계면 활성제로서는, 구체적으로는 베타인형, 아민옥사이드형, N-알킬아미노산형, 이미다졸린형 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 베타인형이나 이미다졸린형의 비금속 원소로 구성되어 있는 양성 계면 활성제가 유기 전계 발광 소자의 성능을 저하시킬 가능성이 있는 원소를 포함하고 있지 않다고 하는 이유에서 바람직하다.Specific examples of amphoteric surfactants include betaine type, amine oxide type, N-alkyl amino acid type, imidazoline type and the like. Among these, betaine type or imidazoline type amphoteric surfactants composed of non-metallic elements are preferable because they do not contain elements that may deteriorate the performance of the organic electroluminescent device.

베타인형으로서는 구체적으로, 알킬베타인, 지방족 아미드베타인 등의 아미드베타인 등을 들 수 있다.Specific examples of the betaine type include amide betaines such as alkyl betaines and aliphatic amide betaines.

아민옥사이드형으로서는 구체적으로, 알킬아민옥사이드 등을 들 수 있다.Specifically as an amine oxide type, an alkylamine oxide etc. are mentioned.

N-알킬아미노산형으로서는, 구체적으로 N-알킬-β-아미노프로피온산염 등을 들 수 있다.Specific examples of the N-alkylamino acid type include N-alkyl-β-aminopropionic acid salts and the like.

이미다졸린형으로서는, 구체적으로 2-알킬이미다졸린 유도체 등을 들 수 있다.Specific examples of the imidazoline type include 2-alkyl imidazoline derivatives and the like.

비이온성 계면 활성제로서는, 구체적으로는, 에테르형, 에스테르형, 에테르·에스테르형, 다가 알코올형, 아미드형, 고분자형 등을 들 수 있다. 비이온성 계면 활성제는, 전하를 갖지 않는 화합물이기 때문에, 유기 전계 발광 소자 중 전하의 흐름을 방해할 일이 없다. 또한, 유기 전계 발광 소자의 발광을 소광해 버릴 가능성이 있는 화합물도 포함하고 있지 않다. 이러한 점에서, 첨가량에 의존해서 유기 전계 발광 소자의 성능이 변화하지 않기 때문에, 계면 활성제로서는, 비이온성 계면 활성제가 바람직하다.Specific examples of nonionic surfactants include ether type, ester type, ether ester type, polyhydric alcohol type, amide type and polymer type. Since the nonionic surfactant is a compound having no charge, it does not hinder the flow of charge in the organic electroluminescent device. In addition, it does not contain a compound that may quench the light emission of the organic electroluminescent element. From this point of view, since the performance of the organic electroluminescent device does not change depending on the amount added, a nonionic surfactant is preferable as the surfactant.

에테르형은, 고급 알코올이나 알킬페놀 등의 수산기와, 일반적으로 산화에틸렌을 부가시킨 골격을 갖는 화합물이며, 구체적으로는 폴리옥시알킬렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌알킬알릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌글리콜, 폴리옥시에틸렌알킬아민, 폴리옥시에틸렌쿠밀퓨엘에테르 등을 들 수 있다.The ether type is a compound having a skeleton in which a hydroxyl group such as a higher alcohol or alkylphenol is generally added with ethylene oxide, and specifically, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl allyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether , polyoxyethylene polyoxypropylene glycol, polyoxyethylene alkylamine, polyoxyethylene cumyl fuel ether, and the like.

예를 들어, 카오사제 에멀겐(등록상표) 시리즈(에멀겐 123P, 에멀겐 130K, 에멀겐 150, 에멀겐 430, 에멀겐 409PV, 에멀겐 705, 에멀겐 707, 에멀겐 709, 에멀겐 A-60, 에멀겐 A-500 등)나 다이이찌 고교 세이야꾸사제 노이겐(등록상표) 시리즈, 안티프로스(등록상표) 시리즈, 에판 시리즈, DKS-NL 시리즈(노이겐 XL-40, 노이겐 XL-80, 노이겐 XL-1000, 노이겐 TDS-70, 노이겐 LF-80X, 노이겐 LF-202N, 노이겐 LP-100, 노이겐 SO-70, 안티프로스 M-9, 노이겐 EA-167, 노이겐 EN, 에판 410, 에판 710, DKS-NL-15, 노이겐 ET-128), 닛폰 뉴카자이사제 뉴콜(등록상표) 시리즈(뉴콜 2305, 뉴콜 2308, 뉴콜 2310, 뉴콜 2330, 뉴콜 NT-7, 뉴콜 NT-15, 뉴콜 1004, 뉴콜 1310, 뉴콜 1607, 뉴콜 2306Y, 뉴콜 2308Y, 뉴콜 703, 뉴콜 723, 뉴콜 610, 뉴콜 2607, 뉴콜 707F, 뉴콜 B13, 뉴콜 BNF6, 뉴콜 CMP6 등) 등을 들 수 있다.For example, Emulgen (registered trademark) series made by Kaosha (Emulgen 123P, Emulgen 130K, Emulgen 150, Emulgen 430, Emulgen 409PV, Emulgen 705, Emulgen 707, Emulgen 709, Emulgen A- 60, Emergen A-500, etc.), Noigen (registered trademark) series, Antipros (registered trademark) series, Epan series, DKS-NL series (Neugen XL-40, Noigen XL- 80, Neugen XL-1000, Neugen TDS-70, Neugen LF-80X, Neugen LF-202N, Neugen LP-100, Neugen SO-70, Antipros M-9, Neugen EA-167, Neugen EN, Epan 410, Epan 710, DKS-NL-15, Neugen ET-128), Nippon Nyukazai Newcol (registered trademark) series (Newcol 2305, Newcol 2308, Newcol 2310, Newcol 2330, Newcol NT- 7. can

에스테르형으로서는, 소르비톨이나 소르비탄, 글리세린, 자당 등의 다가 알코올과 지방산이 에스테르 결합한 골격을 갖는 화합물이며, 소르비톨 지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 자당 지방산 에스테르, 자당 유도체, 지방산 에스테르 등을 들 수 있다.As the ester type, it is a compound having a skeleton in which polyhydric alcohols such as sorbitol, sorbitan, glycerin, and sucrose are ester-bonded with fatty acids, and sorbitol fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, glycerin fatty acid esters, sucrose fatty acid esters, sucrose derivatives, fatty acid esters, etc. can be heard

예를 들어, 카오사제 레오돌(등록상표) 시리즈, 레오돌 수퍼 시리즈, 에마졸(등록상표) 시리즈, 엑셀(등록상표) 시리즈(예; 레오돌 SP-L10, 레오돌 SP-P10, 레오돌 SP-S10V, 레오돌 SP-S20, 레오돌 SP-S30V, 레오돌 SP-O10V, 레오돌 SP-O30V, 레오돌 수퍼 SP-L10, 레오돌 AO-10V, 에마졸 L-10V, 에마졸 O-10V, 에마졸 O-120V, 레오돌 MS-50, 레오돌 MS-60, 레오돌 MO-60, 레오돌 MS-165V, 엑셀 S-95, 엑셀 O-95R, 엑셀 200 등)나 다이이찌 고교 세이야꾸사제 DKS-NL 시리즈, 노이겐(등록상표) ET 시리즈, 소르겐(등록상표) 시리즈, DK 에스테르 시리즈, 모노펫(등록상표) 시리즈(예; DKS-NL-70, DKS-NL-89, 노이겐 ET-89, 노이겐 ET-159, 소르겐 20V, 소르겐 40, DK 에스테르 F160, DK 에스테르 F90, DK 에스테르 FA-10E, 모노펫 SB, 모노펫 SOA 등), 닛폰 뉴카자이사제 뉴콜(등록상표) 시리즈(예; 뉴콜 20, 뉴콜 60, 뉴콜 80, 뉴콜 25, 뉴콜 65, 뉴콜 85 등) 등을 들 수 있다.For example, Kao Corporation Leodol (registered trademark) series, Leodol Super series, Emazole (registered trademark) series, Excel (registered trademark) series (e.g. Leodol SP-L10, Leodol SP-P10, Leodol SP-S10V, Leodol SP-S20, Leodol SP-S30V, Leodol SP-O10V, Leodol SP-O30V, Leodol Super SP-L10, Leodol AO-10V, Emazole L-10V, Emazole O -10V, Emazole O-120V, Leodol MS-50, Leodol MS-60, Leodol MO-60, Leodol MS-165V, Excel S-95, Excel O-95R, Excel 200, etc.) or Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. DKS-NL series, Neugen (registered trademark) ET series, Sorgen (registered trademark) series, DK Ester series, Monopet (registered trademark) series (eg DKS-NL-70, DKS-NL- 89, Neugen ET-89, Neugen ET-159, Sorgen 20V, Sorgen 40, DK Ester F160, DK Ester F90, DK Ester FA-10E, Monopet SB, Monopet SOA, etc.), Nippon New Kazaisa The first NuCall (registered trademark) series (eg, NewCall 20, NewCall 60, NewCall 80, NewCall 25, NewCall 65, NewCall 85, etc.) and the like.

에테르·에스테르형은, 소르비톨이나 소르비탄, 글리세린, 자당 등의 다가 알코올과 지방산으로 구성된 에스테르에, 산화에틸렌을 부가한 골격이며, 분자 내에 에스테르 결합과 에테르 결합의 양쪽을 갖고 있다. 구체적으로는, 폴리옥시에틸렌소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 경화 피마자유 에테르 등을 들 수 있다.The ether ester type is a skeleton obtained by adding ethylene oxide to an ester composed of a polyhydric alcohol such as sorbitol, sorbitan, glycerin, or sucrose and a fatty acid, and has both an ester bond and an ether bond in the molecule. Specifically, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene hydrogenated castor oil ether, etc. are mentioned.

예를 들어, 카오사제 레오돌(등록상표) TW 시리즈, 레오돌 수퍼 TW 시리즈, 레오돌 400 시리즈, 에마논(등록상표) 시리즈(예; 레오돌 TW-L120, 레오돌 TW-P120, 레오돌 TW-S120V, 레오돌 TW-O120V, 레오돌 TW-O320V, 레오돌 수퍼 TW-L120, 에마논 3199V, 에마논 3299RV, 에마논 4110, 에마논 CH40 등)나 다이이찌 고교 세이야꾸사제 노이겐(등록상표) HC 시리즈, 노이겐 DS 시리즈, 노이겐 GIS 시리즈, 노이겐 ES 시리즈, 소르겐(등록상표) TW 시리즈(예; 노이겐 ES-99D, 노이겐 ES-129D, 노이겐 ES-148D, 노이겐 ES-168, 노이겐 DS-601, 소르겐 TW80V, 소르겐 TW20V, 노이겐 GIS-125, 노이겐 HC-400 등) 등을 들 수 있다.For example, Leodol (registered trademark) TW series made by Kao Corporation, Leodol Super TW series, Leodol 400 series, Emanon (registered trademark) series (e.g. Leodol TW-L120, Leodol TW-P120, Leodol TW-S120V, Leodol TW-O120V, Leodol TW-O320V, Leodol Super TW-L120, Emanon 3199V, Emanon 3299RV, Emanon 4110, Emanon CH40, etc.) or Noigen made by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. registered trademark) HC series, Neugen DS series, Neugen GIS series, Neugen ES series, Sorgen (registered trademark) TW series (e.g. Neugen ES-99D, Neugen ES-129D, Neugen ES-148D, Neugen ES-168, Neugen DS-601, Sorgen TW80V, Sorgen TW20V, Neugen GIS-125, Neugen HC-400, etc.).

다가 알코올형으로서는, 알킬글루코시드, 알킬폴리글루코시드 등을 들 수 있다. 예를 들어, 다이이찌 고교 세이야꾸사제 노니오시드 시리즈(예; 노니오시드 O-13) 등을 들 수 있다.Examples of the polyhydric alcohol type include alkyl glucosides and alkyl polyglucosides. For example, Nonioside series (eg, Nonioside O-13) by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., etc. are mentioned.

아미드형은, 소수기와 친수기가 아미드 결합으로 결합한 지방산 알칸올아미드를 갖고 있으며, 구체적으로는 알킬알칸올아미드, 올레핀산아미드 등을 들 수 있다.The amide type has a fatty acid alkanolamide in which a hydrophobic group and a hydrophilic group are bonded by an amide bond, and specific examples thereof include alkylalkanolamides and olefin acid amides.

예를 들어, 카오사제 아미트(등록상표) 시리즈, 아미논(등록상표) 시리즈(예; 아미트 102, 아미트 105, 아미트 302, 아미트 320, 아미논 PK-02S 등), 다이이찌 고교 세이야꾸사제 아미라친 시리즈, 다이아놀(등록상표) 시리즈(예; 다이아놀 CDE, 다이아놀 300, 아미라친 D 등), 닛폰 뉴카자이사제 뉴콜(등록상표) 시리즈(예; 뉴콜 LA407, 뉴콜 OD420, 뉴콜 TA420 등) 등을 들 수 있다.For example, Amit (registered trademark) series made by Kao Corporation, Aminon (registered trademark) series (eg Amit 102, Amit 105, Amit 302, Amit 320, Aminon PK-02S, etc.), Daiichi Amirachine series manufactured by Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Dianol (registered trademark) series (eg, Dianol CDE, Dianol 300, Amirachine D, etc.), Newcall (registered trademark) series manufactured by Nippon Newkazai Co., Ltd. (eg, Newcol LA407, Newcol) OD420, Newcol TA420, etc.).

고분자형으로서는, 구체적으로, 폴리비닐피롤리돈, 폴리알킬렌폴리아민알킬렌옥시드 부가물, 폴리알킬렌폴리이민알킬렌옥시드 부가물 등을 들 수 있다.Specifically as a polymer type, polyvinyl pyrrolidone, a polyalkylene polyamine alkylene oxide adduct, a polyalkylene polyimine alkylene oxide adduct, etc. are mentioned.

예를 들어, 다이이찌 고교 세이야꾸사제 피츠콜(등록상표) 시리즈, 디스콜(등록상표) 시리즈(예; 디스콜 N508, 디스콜 N518, 피츠콜 K-30, 피츠콜 K-40 등)를 들 수 있다.Examples include Fitzcall (registered trademark) series and Discoll (registered trademark) series (eg, Discoll N508, Discoll N518, Fitzcall K-30, Fitzcall K-40, etc.) manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. .

[유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제1 양태][First aspect of composition for forming organic electroluminescent device]

본 형태는, 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 제1 표면 개질제 및 제2 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서,This aspect is a composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, a first surface modifier and a second surface modifier,

해당 유기 용매 단독의 표면 장력을 Sa(mN/m)로 하면,If the surface tension of the organic solvent alone is Sa (mN / m),

모든 제1 표면 개질제만을 해당 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 있어서의 농도와 동일 농도(중량%)로 해당 유기 용매에 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1x(mN/m),The surface tension when only all the first surface modifiers are dissolved in the organic solvent at the same concentration (% by weight) as the concentration in the composition for forming an organic electroluminescent device is S1x (mN/m);

모든 제2 표면 개질제만을 해당 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 있어서의 농도와 동일 농도(중량%)로 해당 유기 용매에 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2x(mN/m)로 했을 때,When only all the second surface modifiers are dissolved in the organic solvent at the same concentration (% by weight) as the concentration in the composition for forming an organic electroluminescent element, the surface tension is S2x (mN / m),

Sa-S1x>1.0, 또한 Sa-S2x<1.0Sa-S1x>1.0, and Sa-S2x<1.0

을 충족하는 것을 특징으로 한다.It is characterized in that it satisfies.

또한, 해당 유기 용매 단독의 표면 장력을 Sa(mN/m)로 하면,In addition, when the surface tension of the organic solvent alone is Sa (mN / m),

제1 표면 개질제는, 해당 유기 용매에 해당 제1 표면 개질제 1종을 100중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력(S1y)이 Sa-S1y>1.0이 되는 것을 나타내고,The first surface modifier indicates that the surface tension (S1y) when 100 ppm by weight of the first surface modifier is dissolved in the organic solvent is Sa-S1y > 1.0,

제2 표면 개질제는, 해당 유기 용매에 해당 제2 표면 개질제 2종을 100중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력(S2y)이 Sa-S2y≤1.0이 되는 것을 나타낸다.The second surface modifier indicates that the surface tension (S2y) of Sa-S2y ≤ 1.0 when 100 ppm by weight of the two second surface modifiers is dissolved in the organic solvent.

즉, 본 형태는, 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 1종 이상의 제1 표면 개질제 및 1종 이상의 제2 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서,That is, the present embodiment is a composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, at least one first surface modifier and at least one second surface modifier,

유기 용매의 표면 장력(단위: mN/m)을 Sa로 하고, 유기 용매 100중량부에 대한 제1 표면 개질제의 함유량(2종 이상의 제1 표면 개질제를 사용하는 경우에는, 그들의 합계 함유량)을 C1중량부로 하고, 유기 용매 100중량부에 대한 제2 표면 개질제의 함유량(2종 이상의 제2 표면 개질제를 사용하는 경우에는, 그들의 합계 함유량)을 C2중량부로 하고,The surface tension (unit: mN/m) of the organic solvent is taken as Sa, and the content of the first surface modifier relative to 100 parts by weight of the organic solvent (when two or more types of first surface modifiers are used, the total content thereof) is C1 parts by weight, and the content of the second surface modifier relative to 100 parts by weight of the organic solvent (when two or more types of second surface modifiers are used, the total content thereof) is C2 parts by weight,

각 제1 표면 개질제는, 유기 용매의 100중량부에 제1 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시킨 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S1y로 하면, 하기 식 (1)을 충족하는 표면 개질제이고,Each first surface modifier is a surface modifier that satisfies the following formula (1) when the surface tension (unit: mN/m) of a mixture in which 0.01 part by weight of the first surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of an organic solvent is S1y. ego,

Sa-S1y>1.0 … (1)Sa-S1y>1.0 … (One)

각 제2 표면 개질제는, 유기 용매의 100중량부에 제2 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시킨 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S2y로 하면, 하기 식 (2)를 충족하는 표면 개질제이고,Each second surface modifier is a surface modifier that satisfies the following formula (2) when the surface tension (unit: mN/m) of a mixture in which 0.01 part by weight of the second surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of an organic solvent is S2y. ego,

Sa-S2y≤1.0 … (2)Sa-S2y≤1.0 … (2)

유기 용매의 100중량부와 제1 표면 개질제의 C1중량부와의 혼합물(즉, 유기 용매 중에, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 모든 제1 표면 개질제만을, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 양과 동일한 양으로 함유시킨 혼합물)의 표면 장력(단위: mN/m)을 S1x로 하면, 하기 식 (3)을 충족하고,A mixture of 100 parts by weight of the organic solvent and C1 parts by weight of the first surface modifier (that is, in the organic solvent, only all the first surface modifiers included in the composition for forming an organic electroluminescent element are added to the composition for forming an organic electroluminescent element) When the surface tension (unit: mN/m) of the mixture contained in the same amount as the amount contained is S1x, the following formula (3) is satisfied,

Sa-S1x>1.0 … (3)Sa-S1x>1.0 … (3)

유기 용매의 100중량부와 제2 표면 개질제의 C2중량부와의 혼합물(즉, 유기 용매 중에, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 모든 제2 표면 개질제만을, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 양과 동일한 양으로 함유시킨 혼합물)의 표면 장력(단위: mN/m)을 S2x로 하면, 하기 식 (4)를 충족하는 것을 특징으로 한다.A mixture of 100 parts by weight of the organic solvent and C2 parts by weight of the second surface modifier (that is, in the organic solvent, only all the second surface modifiers included in the composition for forming an organic electroluminescent element are added to the composition for forming an organic electroluminescent element) When the surface tension (unit: mN/m) of the mixture containing the same amount as the amount contained is S2x, it is characterized in that the following formula (4) is satisfied.

Sa-S2x<1.0 … (4)Sa-S2x<1.0 … (4)

<전하 주입 수송 재료><Charge injection transport material>

전하 주입 수송 재료는, 전극으로부터의 전하(정공, 전자)의 주입과 수송을 효율적으로 행하는 것이 가능한 재료이며, 유기 전계 발광 소자 내에서는, 주로, 전하 주입층, 전하 수송층 및 발광층에 사용되고 있다. 또한, 이들 재료는, 상기 각 층에 있어서 단독으로도 사용되는 경우가 많지만, 전하 수송을 제어하기 위해서 복수종 혼합해서 사용되어도 된다. 또한, 저분자 재료나 고분자 재료여도 된다.A charge injection and transport material is a material capable of efficiently injecting and transporting charges (holes and electrons) from an electrode, and is mainly used for a charge injection layer, a charge transport layer, and a light emitting layer in an organic electroluminescent device. In addition, although these materials are often used alone in each of the above layers, in order to control charge transport, a plurality of types may be mixed and used. Further, a low molecular material or a high molecular material may be used.

전하 주입 수송 재료로서는, 유기 전계 발광 소자용, 유기 광 도전체용의 공지된 전하 주입 수송 재료를 사용할 수 있다. 이러한 전하 주입 수송 재료는, 정공 주입 수송 재료 및 전자 주입 수송 재료로 분류되고, 이들의 구체적인 화합물을 이하에 예시하지만, 본 발명은 이들 재료에 한정되는 것은 아니다.As the charge injection and transport material, known charge injection and transport materials for organic electroluminescent devices and organic photoconductors can be used. These charge injection transport materials are classified into hole injection transport materials and electron injection transport materials, and specific compounds thereof are exemplified below, but the present invention is not limited to these materials.

또한, 유기 전계 발광 소자의 대표적인 층 구성에 대해서는 후술하지만, 정공 주입 수송 재료는 주로, 정공 주입층, 정공 수송층 및 발광층에 사용되고, 전자 주입 수송 재료는 주로, 발광층, 정공 저지층, 전자 수송층 및 전자 주입층에 사용된다.In addition, although a representative layer configuration of an organic electroluminescent device will be described later, the hole injection and transport material is mainly used for the hole injection layer, the hole transport layer and the light emitting layer, and the electron injection and transport material is mainly used for the light emitting layer, the hole blocking layer, the electron transport layer and the electron transport layer. used in the injection layer.

정공 주입 수송 재료로서는, 예를 들어 산화바나듐(V2O5), 산화몰리브덴(MoO2) 등의 산화물; 무기 p형 반도체 재료; 포르피린 화합물; N,N'-비스(3-메틸페닐)-N,N'-비스(페닐)-벤지딘(TPD), N,N'-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐-벤지딘(NPD) 등의 방향족 제3급 아민 화합물; 히드라존 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 스티릴아민 화합물 등의 저분자 재료; 폴리아닐린(PANI), 폴리아닐린-캄포술폰산(PANI-CSA), 3,4-폴리에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌술포네이트(PEDOT/PSS), 폴리(트리페닐아민) 유도체(Poly-TPD), 폴리비닐카르바졸(PVCz), 폴리(p-페닐렌비닐렌)(PPV), 폴리(p-나프탈렌비닐렌)(PNV) 등의 고분자 재료; 등을 들 수 있다.Examples of the hole injection transport material include oxides such as vanadium oxide (V 2 O 5 ) and molybdenum oxide (MoO 2 ); inorganic p-type semiconductor materials; porphyrin compounds; N,N'-bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidine (TPD), N,N'-di(naphthalen-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine aromatic tertiary amine compounds such as (NPD); low molecular materials such as hydrazone compounds, quinacridone compounds, and styrylamine compounds; Polyaniline (PANI), polyaniline-camphorsulfonic acid (PANI-CSA), 3,4-polyethylenedioxythiophene/polystyrenesulfonate (PEDOT/PSS), poly(triphenylamine) derivative (Poly-TPD), polyvinylcarbazole polymer materials such as (PVCz), poly(p-phenylenevinylene) (PPV), and poly(p-naphthalenevinylene) (PNV); etc. can be mentioned.

정공 주입층에 사용하는 정공 주입 수송 재료로서는, 양극으로부터의 정공의 주입·수송을 보다 효율적으로 행하는 점에서, 정공 수송층에 사용하는 정공 주입 수송 재료보다 최고 피점 분자 궤도(HOMO)의 에너지 준위가 낮은 재료를 사용하는 것이 바람직하다.The hole injection/transport material used for the hole injection layer has a lower highest point molecular orbital (HOMO) energy level than that of the hole injection/transport material used for the hole transport layer in that holes are injected and transported from the anode more efficiently. It is preferable to use the material.

정공 수송층에 사용하는 정공 주입 수송 재료로서는, 정공 주입층에 사용하는 정공 주입 수송 재료보다 정공의 이동도가 높은 재료를 사용하는 것이 바람직하다.As the hole injection and transport material used for the hole transport layer, it is preferable to use a material having a higher hole mobility than the hole injection and transport material used for the hole injection layer.

또한, 보다 정공의 주입 수송성을 향상시키기 위해서, 상기 재료에 추가로 억셉터를 도프한 것을 정공 주입 수송 재료로서 사용하는 것이 바람직하다. 억셉터로서는, 유기 전계 발광 소자용의 공지된 억셉터 재료를 사용할 수 있다. 이들의 구체적인 화합물을 이하에 예시하지만, 본 발명에 있어서는 이들 재료에 한정되는 것은 아니다.Further, in order to further improve the hole injection and transport properties, it is preferable to use as the hole injection and transport material a material obtained by further doping an acceptor in the above material. As the acceptor, a known acceptor material for organic electroluminescent devices can be used. Although these specific compounds are illustrated below, in this invention, it is not limited to these materials.

억셉터 재료로서는, Au, Pt, W, Ir, POCl3, AsF6, Cl, Br, I, 산화바나듐(V2O5), 산화몰리브덴(MoO2) 등의 무기 재료; TCNQ(7,7,8,8,-테트라시아노퀴노디메탄), TCNQF4(테트라플루오로테트라시아노퀴노디메탄), TCNE(테트라시아노에틸렌), HCNB(헥사시아노부타디엔), DDQ(디시클로디시아노벤조퀴논) 등의 시아노기를 갖는 화합물; TNF(트리니트로플루오레논), DNF(디니트로플루오레논) 등의 니트로기를 갖는 화합물; 플루오라닐, 클로라닐, 브로마닐 등의 유기 재료;를 들 수 있다. 이 중, TCNQ, TCNQF4, TCNE, HCNB, DDQ 등의 시아노기를 갖는 화합물이 보다 캐리어 농도를 효과적으로 증가시키는 것이 가능하기 때문에 보다 바람직하다. 또한, 4-이소프로필-4-메틸디페닐요오도늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등의 불소 함유 유기염을 사용할 수도 있다.Examples of the acceptor material include inorganic materials such as Au, Pt, W, Ir, POCl 3 , AsF 6 , Cl, Br, I, vanadium oxide (V 2 O 5 ), and molybdenum oxide (MoO 2 ); TCNQ (7,7,8,8,-tetracyanoquinodimethane), TCNQF4 (tetrafluorotetracyanoquinodimethane), TCNE (tetracyanoethylene), HCNB (hexacyanobutadiene), DDQ ( compounds having a cyano group such as dicyclodicyanobenzoquinone); compounds having a nitro group such as TNF (trinitrofluorenone) and DNF (dinitrofluorenone); and organic materials such as fluoranil, chloranil, and bromanyl. Among these, compounds having a cyano group such as TCNQ, TCNQF4, TCNE, HCNB, and DDQ are more preferable because they can increase the carrier concentration more effectively. Further, fluorine-containing organic salts such as 4-isopropyl-4-methyldiphenyliodonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate can also be used.

전자 주입 수송 재료로서는, 예를 들어 n형 반도체인 무기 재료; 옥사디아졸 유도체, 트리아졸 유도체, 티오피라진디옥시드 유도체, 벤조퀴논 유도체, 나프토퀴논 유도체, 안트라퀴논 유도체, 디페노퀴논 유도체, 플루오레논 유도체, 벤조디푸란 유도체 등의 저분자 재료; 폴리(옥사디아졸)(Poly-OXZ), 폴리스티렌 유도체(PSS) 등의 고분자 재료를 들 수 있다. 특히, 전자 주입 수송 재료로서는, 특히 불화리튬(LiF), 불화바륨(BaF2) 등의 불화물, 산화리튬(Li2O) 등의 산화물 등을 들 수 있다.Examples of the electron injection transport material include inorganic materials that are n-type semiconductors; low molecular materials such as oxadiazole derivatives, triazole derivatives, thiopyrazine dioxide derivatives, benzoquinone derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, diphenoquinone derivatives, fluorenone derivatives, and benzodifuran derivatives; and polymer materials such as poly(oxadiazole) (Poly-OXZ) and polystyrene derivative (PSS). In particular, examples of the electron injection transport material include fluorides such as lithium fluoride (LiF) and barium fluoride (BaF 2 ), oxides such as lithium oxide (Li 2 O), and the like.

전자 주입층에 사용하는 전자 주입 수송 재료로서는, 전자의 음극으로부터의 주입·수송을 보다 효율적으로 행하는 점에서, 전자 수송층에 사용하는 전자 주입 수송 재료보다 최저 공분자 궤도(LUMO)의 에너지 준위가 높은 재료를 사용하는 것이 바람직하다.As the electron injection/transport material used for the electron injection layer, the energy level of the lowest co-molecular orbital (LUMO) is higher than that of the electron injection/transport material used for the electron-transport layer in that the injection/transport of electrons from the cathode is performed more efficiently. It is preferable to use the material.

전자 수송층에 사용하는 전자 주입 재료로서는, 전자 주입층에 사용하는 전자 주입 수송 재료보다 전자의 이동도가 높은 재료를 사용하는 것이 바람직하다.As the electron injection material used for the electron transport layer, it is preferable to use a material having higher electron mobility than the electron injection transport material used for the electron transport layer.

또한, 보다 전자의 주입·수송성을 향상시키기 위해서, 상기 재료에 추가로 도너를 도프한 것을 전자 주입 수송 재료로서 사용하는 것이 바람직하다. 도너로서는, 유기 전계 발광 소자용의 공지된 도너 재료를 사용할 수 있다. 이들의 구체적인 화합물을 이하에 예시하지만, 본 발명에 있어서는 이들 재료에 한정되는 것은 아니다.Further, in order to further improve the electron injection/transport property, it is preferable to use as the electron injection/transport material what is further doped with a donor to the above material. As the donor, a known donor material for organic electroluminescence devices can be used. Although these specific compounds are illustrated below, in this invention, it is not limited to these materials.

도너 재료로서는, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 희토류 원소, Al, Ag, Cu, In 등의 무기 재료; 아닐린류, 페닐렌디아민류, 벤지딘류(N,N,N',N'-테트라페닐벤지딘, N,N'-비스(3-메틸페닐)-N,N'-비스(페닐)벤지딘, N,N'-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐벤지딘 등), 트리페닐아민류(트리페닐아민, 4,4'4"-트리스(N,N-디페닐-아미노)트리페닐아민, 4,4'4"-트리스(N-3-메틸페닐-N-페닐-아미노)트리페닐아민, 4,4'4"-트리스(N-(1-나프틸)-N-페닐아미노)트리페닐아민 등), 트리페닐디아민류(N,N'-디-(4-메틸-페닐)-N,N'-디페닐-1,4-페닐렌디아민) 등의 방향족 3급 아민을 골격에 갖는 화합물; 페난트렌, 피렌, 페릴렌, 안트라센, 테트라센, 펜타센 등의 축합 다환 화합물(단, 축합 다환 화합물은 치환기를 가져도 된다); TTF(테트라티아풀발렌)류, 디벤조푸란, 페노티아진, 카르바졸 등의 유기 재료;를 들 수 있다. 이 중, 방향족 3급 아민을 골격에 갖는 화합물, 축합 다환 화합물, 알칼리 금속이 보다 캐리어 농도를 효과적으로 증가시키는 것이 가능하기 때문에 보다 바람직하다.Examples of the donor material include inorganic materials such as alkali metals, alkaline earth metals, rare earth elements, Al, Ag, Cu, and In; Anilines, phenylenediamines, benzidines (N,N,N',N'-tetraphenylbenzidine, N,N'-bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)benzidine, N, N'-di(naphthalen-1-yl)-N,N'-diphenylbenzidine, etc.), triphenylamines (triphenylamine, 4,4'4"-tris(N,N-diphenyl-amino)tri Phenylamine, 4,4'4"-tris(N-3-methylphenyl-N-phenyl-amino)triphenylamine, 4,4'4"-tris(N-(1-naphthyl)-N-phenylamino ) Aromatic tertiary amines such as triphenylamine, etc.) and triphenyldiamines (N,N'-di-(4-methyl-phenyl)-N,N'-diphenyl-1,4-phenylenediamine) Compounds in the skeleton; Condensed polycyclic compounds such as phenanthrene, pyrene, perylene, anthracene, tetracene, and pentacene (however, the condensed polycyclic compound may have a substituent); TTF (tetrathiafulvalene), dibenzo organic materials such as furan, phenothiazine, carbazole, etc. Among these, compounds having aromatic tertiary amines in their skeletons, condensed polycyclic compounds, and alkali metals are more effective because they can increase the carrier concentration more effectively. desirable.

<유기 용매><Organic Solvent>

본 발명에서 사용되는 유기 용매는, 습식 성막에 의해 전하 주입 수송 재료를 포함하는 층을 형성하기 위해서 사용하는, 휘발성을 갖는 액체 성분이며, 해당 전하 주입 수송 재료가 양호하게 용해하는 유기 용매이면 특별히 한정되지 않는다.The organic solvent used in the present invention is a volatile liquid component used to form a layer containing a charge injection and transport material by wet film formation, and is particularly limited as long as it is an organic solvent that dissolves the charge injection and transport material well. It doesn't work.

바람직한 유기 용매로서는, 예를 들어 n-데칸, 시클로헥산, 에틸시클로헥산, 데칼린, 비시클로헥산 등의 알칸류;Examples of preferred organic solvents include alkanes such as n-decane, cyclohexane, ethylcyclohexane, decalin, and bicyclohexane;

톨루엔, 크실렌, 메시틸렌, 페닐시클로헥산, 테트랄린 등의 방향족 탄화수소류;aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene, phenylcyclohexane, and tetralin;

클로로벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠 등의 할로겐화 방향족 탄화수소류;halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene, and trichlorobenzene;

아세트산2-페녹시에틸, 벤질글리콜, 페닐글리콜 등의 방향족 글리콜류;Aromatic glycols, such as 2-phenoxyethyl acetate, benzyl glycol, and phenyl glycol;

1,2-디메톡시벤젠, 1,3-디메톡시벤젠, 아니솔, 에틸아니솔, 프로필페닐에테르, 부틸페닐에테르, 메틸아니솔, 디메틸아니솔, 에틸아니솔, 디에틸아니솔, 프로필아니솔, 부틸아니솔, 펜틸아니솔, 메틸나프틸아니솔, 옥틸아니솔, 페네톨, 2-메톡시톨루엔, 3-메톡시톨루엔, 4-메톡시톨루엔, 2,3-디메틸아니솔, 2,4-디메틸아니솔, 디페닐에테르, 3페녹시톨루엔 등의 방향족 에테르류;1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, anisole, ethylanisole, propylphenyl ether, butylphenyl ether, methylanisole, dimethylanisole, ethylanisole, diethylanisole, propylanisole Sol, butylanisole, pentylanisole, methylnaphthylanisole, octylanisole, phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, 2 aromatic ethers such as ,4-dimethylanisole, diphenyl ether, and 3-phenoxytoluene;

아세트산페닐, 프로피온산페닐, 벤조산메틸, 벤조산에틸, 벤조산프로필, 벤조산n-부틸, 벤조산t-부틸, 벤조산이소아밀 등의 방향족 에스테르류;aromatic esters such as phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, n-butyl benzoate, t-butyl benzoate, and isoamyl benzoate;

시클로헥사논, 시클로옥타논, 펜콘 등의 지환족 케톤류;alicyclic ketones such as cyclohexanone, cyclooctanone, and pencon;

시클로헥산올, 시클로옥탄올 등의 지환족 알코올류;alicyclic alcohols such as cyclohexanol and cyclooctanol;

메틸에틸케톤, 디부틸케톤 등의 지방족 케톤류;aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone and dibutyl ketone;

부탄올, 헥산올 등의 지방족 알코올류;aliphatic alcohols such as butanol and hexanol;

에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르아세테이트(PGMEA), 트리에틸렌글리콜부틸메틸에테르, 트리에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디-n-부틸에테르 등의 지방족 에테르류; 등을 들 수 있다.Ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA), triethylene glycol butyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol di-n- aliphatic ethers such as butyl ether; etc. can be mentioned.

용해성이나 성막 균일성, 소자 특성의 관점에서, 알칸류, 방향족 탄화수소류, 방향족 에스테르류 및 방향족 에테르류로부터 적어도 하나 선택되는 것이 바람직하고, 방향족 에스테르류 및/또는 방향족 에테르가 보다 바람직하다. 특히 바람직하게는, 벤조산n-부틸, 벤조산t-부틸, 벤조산이소아밀이나 디페닐에테르, 2,4-디메틸아니솔을 들 수 있다. 이들을 사용함으로써 습식 성막 프로세스에 있어서 바람직한 점도와 비점을 얻을 수 있는 경향이 있다.From the viewpoint of solubility, film formation uniformity, and device characteristics, at least one selected from alkanes, aromatic hydrocarbons, aromatic esters and aromatic ethers is preferred, and aromatic esters and/or aromatic ethers are more preferred. Especially preferably, n-butyl benzoate, t-butyl benzoate, isoamyl benzoate, diphenyl ether, and 2,4-dimethylanisole are mentioned. By using these, there is a tendency that desirable viscosities and boiling points can be obtained in the wet film forming process.

이들 유기 용매는 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종류 이상을 임의의 조합 및 비율로 사용해도 되지만, 방향족 탄화수소류, 방향족 에스테르류, 방향족 에테르류는 재료의 용해성을 바꾸는 일이 없고, 용매의 표면 장력이나 점도를 변화시키는 것이 가능한 점에서, 조합해서 사용하는 것이 바람직하다.These organic solvents may be used individually by one type or two or more types may be used in any combination and ratio, but aromatic hydrocarbons, aromatic esters, and aromatic ethers do not change the solubility of the material, Since it is possible to change the surface tension and viscosity of , it is preferable to use them in combination.

유기 용매의 비점(유기 용매로서, 2종류 이상의 유기 용매를 조합해서 사용하는 경우에는, 조합한 각 유기 용매의 함유량과 비점으로부터 산출한 가중 평균의 값을 비점으로 한다. 이하 마찬가지)은, 통상 80℃ 이상, 바람직하게는 100℃ 이상, 보다 바람직하게는 150℃ 이상, 특히 바람직하게는 200℃ 이상이고, 통상 350℃ 이하, 바람직하게는 280℃ 이하, 보다 바람직하게는 250℃ 이하이다. 상기 하한값 이상인 것으로, 습식 성막 시에 있어서, 조성물로부터의 유기 용매의 증발을 억제하여, 성막 안정성이 얻어지는 경향이 있다. 또한, 상기 상한값 이하인 것으로, 건조 후에 유기막 본래의 특성이 얻어지는 경향이 있다.The boiling point of the organic solvent (when two or more organic solvents are used in combination as the organic solvent, the weighted average value calculated from the content and boiling point of each organic solvent combined is taken as the boiling point. The same below) is usually 80 °C or higher, preferably 100 °C or higher, more preferably 150 °C or higher, particularly preferably 200 °C or higher, and usually 350 °C or lower, preferably 280 °C or lower, more preferably 250 °C or lower. When the amount is equal to or greater than the lower limit, evaporation of the organic solvent from the composition is suppressed during wet film formation, and film formation stability tends to be obtained. Moreover, when it is below the above upper limit, the original characteristics of the organic film tend to be obtained after drying.

유기 용매의 표면 장력(측정 방법에 대해서는 후술한다)은, 습식 제막법에 있어서 도포하는 것이 가능하면 특별히 한정되지는 않지만, 도포성이 좋다고 하는 관점에서, 실온에서의 값이 통상 20mN/m 이상, 바람직하게는 25mN/m 이상이고, 또한 통상 45mN/m 이하, 바람직하게는 40mN/m 이하, 보다 바람직하게는 38mN/m 이하이다.The surface tension of the organic solvent (measurement method will be described later) is not particularly limited as long as it can be applied in the wet film forming method, but from the viewpoint of good applicability, the value at room temperature is usually 20 mN/m or more, It is preferably 25 mN/m or more, and is usually 45 mN/m or less, preferably 40 mN/m or less, and more preferably 38 mN/m or less.

유기 용매의 점도는, 도포 장치로부터 사출할 수 있는 점도이면 한정은 하지 않지만, 여과가 용이하다는 관점에서, 통상, 1cP 이상이고, 바람직하게는 2cP 이상이고, 또한 실온에서의 값이 통상 30cP 이하, 바람직하게는 25cP 이하, 보다 바람직하게는 20cP 이하이다.The viscosity of the organic solvent is not limited as long as it can be injected from the coating device, but from the viewpoint of easy filtration, it is usually 1 cP or more, preferably 2 cP or more, and the value at room temperature is usually 30 cP or less, Preferably it is 25 cP or less, More preferably, it is 20 cP or less.

<제1 표면 개질제><First surface modifier>

제1 표면 개질제는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 사용되는 유기 용매 단독의 표면 장력(유기 용매로서, 2종류 이상의 유기 용매를 조합한 혼합물을 사용하는 경우에는, 그 혼합물의 표면 장력을 의미한다. 이하 마찬가지)을 Sa(mN/m)로 하고, 해당 유기 용매에 해당 제1 표면 개질제 1종을 100중량ppm, 즉 해당 유기 용매의 100중량부에 해당 제1 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1y로 하면, Sa-S1y>1.0을 충족하는 표면 개질제이다.The first surface modifier refers to the surface tension of the organic solvent alone used in the composition for forming an organic electroluminescent device (when a mixture of two or more organic solvents is used as the organic solvent, the surface tension of the mixture is used. Same hereafter) is Sa (mN/m), and 100 parts by weight of the first surface modifier is dissolved in the organic solvent, that is, 0.01 part by weight of the first surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of the organic solvent. When the surface tension of is S1y, it is a surface modifier that satisfies Sa-S1y>1.0.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 포함되는 복수의 표면 개질제 중, 상기 조건을 충족하는 표면 개질제는, 모두 제1 표면 개질제이고, 제1 표면 개질제로서 1종 이상의 제1 표면 개질제를 포함하고, 2종 이상의 제1 표면 개질제를 포함해도 된다.Among the plurality of surface modifiers included in the composition for forming an organic electroluminescent element, the surface modifiers that satisfy the above conditions are all first surface modifiers, include at least one type of first surface modifier as the first surface modifier, and include two types of first surface modifiers. The above 1st surface modifier may also be included.

또한, 모든 제1 표면 개질제(즉, 제1 표면 개질제로서 2종 이상의 제1 표면 개질제가 어느 비율로 사용되는 경우에는, 그들 2종 이상의 제1 표면 개질제의 그 비율에 있어서의 혼합물을 의미한다)만을 해당 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 있어서의 농도와 동일 농도(중량%)로 해당 유기 용매에 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1x(mN/m)로 하면, Sa-S1x>1.0을 충족한다.Further, all first surface modifiers (that is, when two or more types of first surface modifiers are used as the first surface modifiers in a certain ratio, it means a mixture of the two or more types of first surface modifiers in that ratio) Sa-S1x>1.0 is satisfied when the surface tension when dissolved in the organic solvent at the same concentration (wt%) as that in the composition for forming an organic electroluminescent element is S1x (mN/m).

또한, 본 발명에 있어서, 표면 장력은, 자동 표면 장력계(예를 들어, 교와 가이멘 가가꾸사제 CBVP-Z형)를 사용하여, 실온 하에서 플레이트법(Wilhelmy법)에 의해 측정한다. 본 측정에서의 플레이트에는 백금을 사용하고, 측정 직전에 직화에 의해 표면의 이물을 제거해서 측정하는 것으로 한다.In the present invention, the surface tension is measured by the plate method (Wilhelmy method) at room temperature using an automatic surface tensiometer (for example, CBVP-Z type manufactured by Kyowa Science and Technology Co., Ltd.). Platinum is used for the plate in this measurement, and foreign matter on the surface is removed by direct fire immediately before measurement, and the measurement is carried out.

제1 표면 개질제로서, 구체적으로는, 상술한 표면 개질제 중, 실리콘을 함유하는 재료, 불소를 함유하는 재료, 파라핀 등(폴리머, 올리고머, 저분자 중 어느 것이든 무방하다)이 적합하게 사용된다. 그 중에서도, 특히 실리콘을 함유하는 재료 및/또는 불소를 함유하는 재료가 적합하다. 특히, 폴리실록산; 폴리실록산을 부분적으로 에테르 변성, 에스테르 변성, 아르알킬 변성시킨 화합물; 폴리실록산의 메틸기를 알킬기 치환한 화합물; 불소 함유기 올리고머; 퍼플루오로알킬기 함유 올리고머; 등이 바람직하다. 이들 재료는, 유기막에 사용하는 재료에 미치는 영향, 내열성, 유기 용매에 대한 친화성의 관점에서 바람직하다.As the first surface modifier, specifically, among the above-mentioned surface modifiers, materials containing silicon, materials containing fluorine, paraffin, etc. (any of polymers, oligomers, and low molecules may be used) are suitably used. Among them, a material containing silicon and/or a material containing fluorine is particularly suitable. In particular, polysiloxanes; compounds obtained by partially ether-modified, ester-modified, or aralkyl-modified polysiloxanes; Compounds in which the methyl group of polysiloxane is substituted with an alkyl group; fluorine-containing oligomers; perfluoroalkyl group-containing oligomers; etc. are preferred. These materials are preferable from the viewpoints of their influence on materials used for organic films, heat resistance, and affinity to organic solvents.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 제1 표면 개질제의 함유량은, 용매에 대한 용해성의 관점과 표면 개질로서의 기능성의 관점에서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 바람직하게는 1중량ppm 이상, 보다 바람직하게는 10중량ppm 이상, 더욱 바람직하게는 50중량ppm 이상이고, 바람직하게는 50000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 더욱 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.The content of the first surface modifier in the composition for forming an organic electroluminescent element is based on the amount of the organic solvent contained in the composition for forming an organic electroluminescent element, from the viewpoint of solubility in the solvent and functionality as a surface modification. As such, it is preferably 1 wtppm or more, more preferably 10 wtppm or more, still more preferably 50 wtppm or more, preferably 50000 wtppm or less, more preferably 10000 wtppm or less, still more preferably is less than 1000 ppm by weight.

또한, 제1 표면 개질제로서 2종 이상의 제1 표면 개질제가 사용되는 경우에는, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 모든 제1 표면 개질제의 합계의 함유량은, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 바람직하게는 1중량ppm 이상이고, 보다 바람직하게는 10중량ppm 이상, 더욱 바람직하게는 50중량ppm 이상이고, 바람직하게는 50000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 더욱 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.In addition, when two or more types of first surface modifiers are used as the first surface modifier, the total content of all the first surface modifiers in the composition for forming an organic electroluminescent element is Based on the amount of the organic solvent contained as a reference value, it is preferably 1 ppm by weight or more, more preferably 10 ppm by weight or more, still more preferably 50 ppm by weight or more, preferably 50000 ppm by weight or less, more preferably is 10000 ppm by weight or less, more preferably 1000 ppm by weight or less.

상기 상한값 이하인 것으로, 용매에 대한 용해성을 담보할 수 있고, 또한 상기 하한값 이상인 것으로, 표면 개질제로서의 기능을 발현할 수 있다.When it is below the above upper limit value, solubility in solvents can be ensured, and when it is above the above lower limit value, the function as a surface modifier can be expressed.

<제2 표면 개질제><Second surface modifier>

제2 표면 개질제는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 사용되는 유기 용매 단독의 표면 장력을 Sa(mN/m)로 하고, 해당 유기 용매에 해당 제2 표면 개질제 1종을 100중량ppm, 즉 해당 유기 용매의 100중량부에 해당 제2 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2y로 하면, Sa-S2y≤1.0을 충족하는 표면 개질제이다.The second surface modifier has a surface tension of Sa (mN/m) of the organic solvent alone used in the composition for forming an organic electroluminescent device, and 100 ppm by weight of the second surface modifier in the organic solvent, that is, the organic solvent. When S2y is the surface tension when 0.01 part by weight of the second surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of the solvent, the surface modifier satisfies Sa-S2y≤1.0.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 포함되는 복수의 표면 개질제 중, 상기 조건을 충족하는 표면 개질제는, 모두 제2 표면 개질제이고, 제2 표면 개질제로서 1종 이상의 제2 표면 개질제를 포함하고, 제2 표면 개질제로서 2종 이상의 제2 표면 개질제를 포함해도 된다.Among the plurality of surface modifiers included in the composition for forming an organic electroluminescent device, the surface modifiers that satisfy the above conditions are all second surface modifiers, include one or more types of second surface modifiers as the second surface modifier, and As the surface modifier, two or more types of second surface modifiers may be included.

또한, 모든 제2 표면 개질제(즉, 제2 표면 개질제로서 2종 이상의 제2 표면 개질제가 어느 비율로 사용되는 경우에는, 그들 2종 이상의 제2 표면 개질제의 그 비율에 있어서의 혼합물을 의미한다)만을 해당 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 있어서의 농도와 동일 농도(중량%)로 해당 유기 용매에 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2x(mN/m)로 하면, Sa-S2x<1.0을 충족한다.In addition, all the second surface modifiers (that is, when two or more types of second surface modifiers are used as the second surface modifiers in a certain ratio, it means a mixture of the two or more types of second surface modifiers in that ratio) Sa-S2x<1.0 is satisfied when the surface tension when dissolved in the organic solvent at the same concentration (wt%) as that in the composition for forming an organic electroluminescent element is S2x (mN/m).

즉, 제1 표면 개질제는, 유기 용매와 혼합됨으로써, 유기 용매의 표면 장력을 저하시킬수 있고, 제2 표면 개질제는, 유기 용매와 혼합된 경우, 유기 용매의 표면 장력을 저하시키는 기능이 제1 표면 개질제에 비해서 약하거나, 또는 유기 용매의 표면 장력을 저하시키는 기능이 없는 표면 개질제이다.That is, the first surface modifier can lower the surface tension of the organic solvent by being mixed with the organic solvent, and the second surface modifier, when mixed with the organic solvent, has a function of lowering the surface tension of the organic solvent on the first surface. A surface modifier that is weaker than a modifier or does not have a function of lowering the surface tension of an organic solvent.

제2 표면 개질제로서, 구체적으로는, 상술한 표면 개질제 중, 비이온성 계면 활성제가 적합하게 사용된다. 비이온성 계면 활성제 중에서도, 특히 에테르형, 에스테르형, 또는 에테르·에스테르형의 비이온성 계면 활성제가 바람직하다. 이들 재료는, 첨가량에 의존해서 유기 전계 발광 소자의 성능이 변화하지 않기 때문에, 유기 전계 발광 소자의 성능을 유지할 수 있는 경향이 있는 관점에서 바람직하다.As the second surface modifier, specifically, among the surface modifiers described above, a nonionic surfactant is preferably used. Among the nonionic surfactants, ether-type, ester-type, or ether/ester-type nonionic surfactants are particularly preferred. These materials are preferred from the standpoint of being able to maintain the performance of the organic electroluminescent element since the performance of the organic electroluminescent element does not change depending on the amount added.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 제2 표면 개질제의 함유량은, 용매에 대한 용해성의 관점에서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 바람직하게는 1중량ppm 이상, 보다 바람직하게는 10중량ppm 이상, 더욱 바람직하게는 50중량ppm 이상이고, 바람직하게는 50000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 더욱 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.The content of the second surface modifier in the composition for forming an organic electroluminescent element is preferably 1, based on the amount of the organic solvent contained in the composition for forming an organic electroluminescent element, from the viewpoint of solubility in the solvent. It is more than 10 weight ppm, more preferably 10 weight ppm or more, still more preferably 50 weight ppm or more, preferably 50000 weight ppm or less, more preferably 10000 weight ppm or less, still more preferably 1000 weight ppm or less.

또한, 제2 표면 개질제로서 2종 이상의 제2 표면 개질제가 사용되는 경우에는, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 모든 제2 표면 개질제의 합계의 함유량은, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 바람직하게는 1중량ppm 이상, 보다 바람직하게는 10중량ppm 이상, 더욱 바람직하게는 50중량ppm 이상이고, 바람직하게는 50000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 더욱 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.In addition, when two or more types of second surface modifiers are used as the second surface modifier, the total content of all the second surface modifiers in the composition for forming an organic electroluminescent element is in the composition for forming an organic electroluminescent element. Based on the amount of the organic solvent contained as a reference value, it is preferably 1 ppm by weight or more, more preferably 10 ppm by weight or more, still more preferably 50 ppm by weight or more, preferably 50000 ppm by weight or less, more preferably It is 10000 weight ppm or less, More preferably, it is 1000 weight ppm or less.

상기 상한값 이하인 것으로, 용매에 대한 용해성을 담보할 수 있고, 또한 상기 하한값 이상인 것으로, 표면 개질제로서의 기능을 발현할 수 있다.When it is below the above upper limit value, solubility in solvents can be ensured, and when it is above the above lower limit value, the function as a surface modifier can be expressed.

또한, 순수의 표면 장력을 Sa'(mN/m)로 하고, 순수에 모든 제1 표면 개질제(즉, 제1 표면 개질제로서 2종 이상의 제1 표면 개질제가 어느 비율로 사용되는 경우에는, 그들 2종 이상의 제1 표면 개질제에 있어서의 그 비율의 혼합물을 의미한다)만을 1000중량ppm, 즉 순수의 100중량부에 해당 제1 표면 개질제의 0.1중량부를 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1z'(mN/m)로 하고, 순수에 모든 제2 표면 개질제(즉, 제2 표면 개질제로서 2종 이상의 제2 표면 개질제가 어느 비율로 사용되는 경우에는, 그들 2종 이상의 제2 표면 개질제의 그 비율에 있어서의 혼합물을 의미한다)만을 1000중량ppm, 즉 순수의 100중량부에 해당 제2 표면 개질제의 0.1중량부를 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2z'(mN/m)로 하면, Sa'>S1z'>S2z'를 충족하는 것이 바람직하다.In addition, the surface tension of pure water is Sa' (mN/m), and all the first surface modifiers in the pure water (that is, when two or more kinds of first surface modifiers are used as the first surface modifiers in a certain ratio, those 2 The surface tension when only 1000 ppm by weight, that is, 0.1 part by weight of the first surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of pure water is S1z' (mN / m), and all the second surface modifiers in pure water (that is, when two or more types of second surface modifiers are used as second surface modifiers in a certain ratio, in the ratio of those two or more types of second surface modifiers mixture) alone is 1000 ppm by weight, that is, when 0.1 part by weight of the second surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of pure water, the surface tension is S2z' (mN / m), Sa' > S1z' > S2z It is desirable to satisfy '.

이것을 충족함으로써, 격벽 내에 유기막을 습식 성막했을 때, 양호한 막 두께 균일성을 얻을 수 있는 경향이 있다.By satisfying this requirement, there is a tendency that good film thickness uniformity can be obtained when the organic film is wet-formed within the barrier rib.

또한, 순수, Sa', S1z', S2z'의 정의는, 후술하는 본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제3 양태에 나타낸, 순수, Sa', S1z, S2z와 각각 동일한 의미이다.Further, the definitions of pure water, Sa', S1z', and S2z' have the same meanings as those of pure water, Sa', S1z, and S2z shown in the third aspect of the composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention described later.

<제1 표면 개질제와 제2 표면 개질제의 조합><Combination of first surface modifier and second surface modifier>

제1 표면 개질제와 제2 표면 개질제의 조합은, 본 발명의 효과를 크게 손상시키지 않으면 특별히 한정되지 않는다. 특히, 제1 표면 개질제의 실리콘을 함유하는 재료와 제2 표면 개질제의 에테르형 계면 활성제의 조합, 제1 표면 개질제의 실리콘을 함유하는 재료와 제2 표면 개질제의 에테르·에스테르형의 계면 활성제의 조합 등이 유기 전계 발광 소자에 대한 영향도의 관점에서 바람직하다.The combination of the first surface modifier and the second surface modifier is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired. In particular, a combination of a silicone-containing material of the first surface modifier and an ether type surfactant of the second surface modifier, a combination of a silicone-containing material of the first surface modifier and an ether/ester type surfactant of the second surface modifier and the like are preferable from the viewpoint of the degree of influence on the organic electroluminescent element.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중 제1 표면 개질제와 제2 표면 개질제의 함유량비(중량비)는 특별히 한정되지 않는다. 제1 표면 개질제의 합계의 함유량 C1과 제2 표면 개질제의 합계의 함유량 C2의 비 C2/C1로서, 바람직하게는 0.05 이상, 보다 바람직하게는 0.1 이상, 더욱 바람직하게는 0.5 이상이고, 바람직하게는 500 이하, 보다 바람직하게는 100 이하, 더욱 바람직하게는 50 이하이다.The content ratio (weight ratio) of the first surface modifier and the second surface modifier in the composition for forming an organic electroluminescent device is not particularly limited. The ratio C2/C1 of the total content C1 of the first surface modifier and the total content C2 of the second surface modifier is preferably 0.05 or more, more preferably 0.1 or more, still more preferably 0.5 or more, preferably 500 or less, more preferably 100 or less, still more preferably 50 or less.

상기 하한값 이상인 것으로, 건조 공정에서의 제2 표면 개질제의 흡착이 기대한 바와 같이 발생하는 경향이 있고, 또한 상기 상한값 이하인 것으로, 제1 표면 개질제의 표면 장력을 낮추는 효과가 얻어지는 경향이 있다.When it is equal to or more than the lower limit, adsorption of the second surface modifier in the drying step tends to occur as expected, and when it is equal to or less than the upper limit, the effect of lowering the surface tension of the first surface modifier tends to be obtained.

<제1 표면 개질제와 제2 표면 개질제를 사용하는 것에 의한 효과><Effect of using the first surface modifier and the second surface modifier>

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 제1 표면 개질제와 제2 표면 개질제를 함유시킴으로써, 격벽 내에 유기막을 습식 성막했을 때, 양호한 막 두께의 평탄성을 얻을 수 있는 메커니즘은, 이하와 같이 추정하고 있다.The mechanism by which the composition for forming an organic electroluminescent device contains the first surface modifier and the second surface modifier to obtain good film thickness and flatness when the organic film is wet-formed in the barrier rib is estimated as follows.

여기서, 평탄성이란, 유기막이 얼마나 평탄한 것인지를 나타내는 지표이며, 본 발명에 있어서는, 발광 영역 전체에 대한, 막 두께차가 5㎚ 이하인 영역의 비율을 나타내고 있다. 이러한 평탄성은, 오렌지필의 발생, 핀 홀의 발생, 불균일의 발생 등의 결함이 발생함으로써 악화되어 버린다. 이들 결함 발생의 원인은, 도포막의 건조 중에 발생하는, 유기 용매의 증발, 유기 용매의 증발에 수반하는 점도 변화, 표면 장력의 변화이다. 유기 용매의 증발이나 점도 변화는 재료에 크게 의존하기 때문에, 통상은 용액의 표면 장력 변화를 최대한 저하시키는, 즉 표면 개질제로 표면 장력을 저하 또한 균일화함으로써 평탄성의 악화를 억제하였다.Here, the flatness is an index indicating how flat the organic film is, and in the present invention, represents the ratio of the area having a film thickness difference of 5 nm or less to the entire light emitting area. Such flatness deteriorates when defects such as occurrence of orange peel, occurrence of pinholes, and occurrence of unevenness occur. The cause of these defects is the evaporation of the organic solvent, the change in viscosity and the change in surface tension accompanying the evaporation of the organic solvent, which occur during drying of the coating film. Since the evaporation of the organic solvent and the change in viscosity largely depend on the material, the deterioration of the flatness is usually suppressed by reducing the change in surface tension of the solution as much as possible, that is, by lowering and equalizing the surface tension with a surface modifier.

이 경우, 용액의 표면 장력을 저하 또한 균일화시킴으로써, 격벽 내 중앙부의 유기막의 평탄성의 악화는 억제할 수 있지만, 격벽의 근방 영역인 격벽 가장자리부의 유기막의 평탄성은 악화되어 버린다. 이것은, 격벽 가장자리부에서 용액의 피닝이 발생하기 때문에, 커피 스테인(coffee stain) 효과에 의해 격벽에 대한 용액의 젖어 오름이 과장되어 버려, 격벽 가장자리부의 유기막의 막 두께가 크게 변화하기 때문이다.In this case, deterioration of the flatness of the organic film in the central portion of the partition can be suppressed by lowering and equalizing the surface tension of the solution, but the flatness of the organic film at the edge of the partition, which is a region near the partition, deteriorates. This is because, since pinning of the solution occurs at the edge of the partition, the wetting of the solution to the partition is exaggerated due to the coffee stain effect, and the film thickness of the organic film at the edge of the partition greatly changes.

한편, 본 발명에 있어서의, 제1 표면 개질제의 작용은, 용액 표면에 편석함으로써 표면 장력을 저하 또한 균일화시키는 것이며, 제2 표면 개질제는, 용액 중에 분산시키기 위해서 표면 장력을 저하시키는 기능은 제1 표면 개질제에 비해서 약하지만, 제1 표면 개질제에 흡착하여 제1 표면 개질제의 기능을 변화시키는 작용이 있다고 생각된다. 즉, 양 표면 개질제가 막 형성의 과정에 있어서 이하와 같이 작용하고 있다고 추정된다.On the other hand, in the present invention, the function of the first surface modifier is to lower and equalize the surface tension by segregating on the surface of the solution, and the function of the second surface modifier to lower the surface tension for dispersing in the solution is to reduce the surface tension of the first surface modifier. Although weaker than that of the surface modifier, it is thought to have an effect of adsorbing to the first surface modifier and changing the function of the first surface modifier. That is, it is estimated that both surface modifiers act as follows in the process of film formation.

먼저 용액의 표면 장력을 균일화시키는 제1 표면 개질제에 의해, 격벽 내 중앙부의 유기막의 평탄성 악화를 억제한다. 이어서, 건조 공정으로 이행했을 때는, 격벽 가장자리부부터 건조되므로, 격벽 가장자리부의 제1 표면 개질제와 제2 표면 개질제의 농도가 높아진다. 이때, 제1 표면 개질제와 제2 표면 개질제의 평균 자유 공정이 짧아져서 양자가 접촉할 확률이 높아지고, 제2 표면 개질제가 제1 표면 개질제에 흡착되기 쉬워진다. 제2 표면 개질제가 흡착된 제1 표면 개질제는, 용액의 표면 장력을 저하시키는 기능이 억제된다. 그 때문에, 건조가 빠른 격벽 가장자리부의 용액의 표면 장력 저하가 억제되고, 결과적으로 격벽에 대한 젖어 오름을 억제하여, 격벽 가장자리부의 유기막의 막 두께 변화가 작아진다. 이때, 격벽 내 중앙부는, 격벽 가장자리부에 비해 건조 속도가 느려서 양 표면 개질제의 농도가 높아지지 않은 상태이기 때문에, 용액의 표면 장력은 유지된 채 그대로이며, 평탄성의 악화를 억제한 상태이다. 또한 건조가 진행됨에 따라서, 격벽 가장자리부와 마찬가지로 격벽 내 중앙부의 양 표면 개질제의 농도가 높아져서, 용액의 표면 장력의 저하는 억제되지만, 건조가 진행된 상태에서는 커피 스테인 효과에 의해 격벽 가장자리부의 방향으로 장력이 작용한 상태이므로, 이 장력에 의해 격벽 내의 유기막의 막 두께 차가 작아져서, 평탄성의 악화를 억제할 수 있는 것이라 추정하고 있다.First, deterioration in the flatness of the organic film at the central portion of the barrier rib is suppressed by the first surface modifier that equalizes the surface tension of the solution. Then, when it transfers to a drying process, since it dries from the edge part of a partition, the density|concentration of the 1st surface modifier and the 2nd surface modifier of a partition edge part increases. At this time, the mean free process of the first surface modifier and the second surface modifier is shortened, the probability of contact between the two is increased, and the second surface modifier is easily adsorbed to the first surface modifier. The first surface modifier to which the second surface modifier is adsorbed suppresses a function of lowering the surface tension of the solution. Therefore, a decrease in the surface tension of the solution at the edge of the partition, which dries quickly, is suppressed, and as a result, wetting to the partition is suppressed, and the change in film thickness of the organic film at the edge of the partition is reduced. At this time, since the concentration of both surface modifiers in the central portion of the barrier rib is slower than that of the edge portion of the barrier rib, the concentration of both surface modifiers is not high, so the surface tension of the solution is maintained and the deterioration of flatness is suppressed. In addition, as drying progresses, the concentration of both surface modifiers in the central part of the partition increases, as in the edge of the partition, and the decrease in surface tension of the solution is suppressed. Since this is in a state where this is applied, it is presumed that the difference in film thickness of the organic film in the barrier rib is reduced by this tension, and deterioration in flatness can be suppressed.

상기 추정에 기초하여, [Sa-S1x]는 용액의 표면 장력 저하 기능이 높은 점에서, 보다 바람직하게는 1.2 이상, 더욱 바람직하게는 1.5 이상, 특히 바람직하게는 1.8 이상, 가장 바람직하게는 2.0 이상이다. 또한, [Sa-S2x]는 표면 장력 저하의 기능이 보다 제1 표면 개질제보다 약하고, 건조 시의 격벽 가장자리부의 표면 장력 저하의 억제 효과가 높은 점에서, 보다 바람직하게는 0.8 이하, 더욱 바람직하게는 0.6 이하, 특히 바람직하게는 0.5 이하이다.Based on the above estimation, [Sa-S1x] is more preferably 1.2 or more, still more preferably 1.5 or more, particularly preferably 1.8 or more, and most preferably 2.0 or more, in view of the high surface tension lowering function of the solution. to be. In addition, [Sa-S2x] has a weaker surface tension lowering function than the first surface modifier and has a high effect of suppressing the surface tension lowering of the partition edge portion during drying, so it is more preferably 0.8 or less, still more preferably 0.8 or less. 0.6 or less, particularly preferably 0.5 or less.

[유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제2 양태][Second aspect of composition for forming organic electroluminescent device]

본 형태는, 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 제3 표면 개질제 및 제4 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서,This embodiment is a composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, a third surface modifier and a fourth surface modifier,

해당 유기 용매 단독의 표면 장력을 Sa(mN/m)로 하고, 해당 유기 용매에 해당 제3 표면 개질제만을 100중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1y(mN/m)로 하고, 해당 유기 용매에 해당 제4 표면 개질제만을 100중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2y(mN/m)로 하면,The surface tension of the organic solvent alone is set to Sa (mN/m), and the surface tension when only 100 ppm by weight of the third surface modifier is dissolved in the organic solvent is set to S1y (mN/m). If the surface tension when only the fourth surface modifier is dissolved at 100 ppm by weight is S2y (mN/m),

Sa-S1y>1.0, 또한 Sa-S2y≤1.0Sa-S1y>1.0, and Sa-S2y≤1.0

을 충족한다.meets

전하 주입 수송 재료 및 유기 용매에 대해서는, 상술한 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제1 양태와 동일하다.The charge injection and transport material and the organic solvent are the same as those of the first aspect of the composition for forming an organic electroluminescent device described above.

<제3 표면 개질제><Third surface modifier>

제3 표면 개질제는, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 사용되는 유기 용매 단독의 표면 장력을 Sa(mN/m)로 하고, 해당 유기 용매에 해당 제3 표면 개질제 1종(즉, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 2종 이상의 제3 표면 개질제를 사용하는 경우, 2종 이상의 제3 표면 개질제 각각을 개별로 사용하는 것을 의미한다)을 100중량ppm, 즉 해당 유기 용매의 100중량부에 해당 제3 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1y로 하면, Sa-S1y>1.0을 충족하는 표면 개질제이다.The third surface modifier has a surface tension of Sa (mN/m) of the organic solvent alone used in the composition for forming an organic electroluminescent device, and one kind of the corresponding third surface modifier (ie, organic electroluminescent device) is added to the organic solvent. When two or more types of third surface modifiers are used in the forming composition, it means that each of the two or more types of third surface modifiers are individually used) in an amount of 100 ppm by weight, that is, 100 parts by weight of the corresponding organic solvent. When S1y is the surface tension when 0.01 part by weight of the surface modifier is dissolved, it is a surface modifier that satisfies Sa-S1y>1.0.

제3 표면 개질제로서, 구체적으로는, 상술한 표면 개질제 중, 실리콘을 함유하는 재료, 불소를 함유하는 재료 등(폴리머, 올리고머, 저분자 중 어느 것이든 무방하다)이 제3 표면 개질제로서 적합하게 사용된다. 그 중에서도, 특히 실리콘을 함유하는 폴리머가 적합하다. 특히, 폴리실록산; 폴리실록산을 부분적으로 에테르 변성, 에스테르 변성, 아르알킬 변성시킨 화합물; 폴리실록산의 메틸기를 알킬기 치환한 화합물;이 바람직하다. 이들 재료는, 유기막에 사용하는 재료에 미치는 영향, 내열성, 유기 용매에 대한 친화성의 관점에서 바람직하다.As the third surface modifier, specifically, among the above-mentioned surface modifiers, materials containing silicon, materials containing fluorine, etc. (any of polymers, oligomers, and low molecules may be used) are suitably used as the third surface modifier. do. Among them, polymers containing silicone are particularly suitable. In particular, polysiloxanes; compounds obtained by partially ether-modified, ester-modified, or aralkyl-modified polysiloxanes; A compound obtained by substituting an alkyl group for a methyl group of polysiloxane; is preferred. These materials are preferable from the viewpoints of their influence on materials used for organic films, heat resistance, and affinity to organic solvents.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 제3 표면 개질제의 함유량은, 용매에 대한 용해성의 관점과 표면 개질로서의 기능성의 관점에서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 통상 1중량ppm 이상, 바람직하게는 10중량ppm 이상, 보다 바람직하게는 50중량ppm 이상이고, 통상 50000중량ppm 이하, 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.The content of the third surface modifier in the composition for forming an organic electroluminescent element is based on the amount of the organic solvent contained in the composition for forming an organic electroluminescent element, from the viewpoint of solubility in the solvent and functionality as a surface modification. As such, it is usually 1 ppm by weight or more, preferably 10 ppm by weight or more, more preferably 50 ppm by weight or more, and usually 50000 ppm by weight or less, preferably 10000 ppm by weight or less, and more preferably 1000 ppm by weight or less. .

상기 상한값 이하인 것으로, 용매에 대한 용해성을 담보할 수 있고, 또한 상기 하한값 이상인 것으로, 표면 개질제로서의 기능을 발현할 수 있다.When it is below the above upper limit value, solubility in solvents can be ensured, and when it is above the above lower limit value, the function as a surface modifier can be expressed.

<제4 표면 개질제><Fourth surface modifier>

제4 표면 개질제는, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 사용되는 유기 용매 단독의 표면 장력을 Sa(mN/m)로 하고, 해당 유기 용매에 해당 제4 표면 개질제 1종(즉, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 2종 이상의 제4 표면 개질제를 사용하는 경우, 2종 이상의 제4 표면 개질제 각각을 개별로 사용하는 것을 의미한다)을 100중량ppm, 즉 해당 유기 용매의 100중량부에 해당 제4 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2y로 하면, Sa-S2y≤1.0을 충족하는 표면 개질제이다.In the fourth surface modifier, the surface tension of the organic solvent alone used in the composition for forming an organic electroluminescent device is Sa (mN/m), and one kind of the corresponding fourth surface modifier (ie, an organic electroluminescent device) is added to the organic solvent. When two or more types of fourth surface modifiers are used in the forming composition, it means that each of the two or more types of fourth surface modifiers are individually used) in an amount of 100 ppm by weight, that is, 100 parts by weight of the corresponding organic solvent. If S2y is the surface tension when 0.01 parts by weight of the surface modifier is dissolved, it is a surface modifier that satisfies Sa-S2y≤1.0.

즉, 제3 표면 개질제는, 유기 용매와 혼합됨으로써, 유기 용매의 표면 장력을 저하시킬 수 있고, 제4 표면 개질제는, 유기 용매와 혼합된 경우, 유기 용매의 표면 장력을 저하시키는 기능이 제3 표면 개질제에 비해서 약하거나, 또는 유기 용매의 표면 장력을 저하시키는 기능이 없는 표면 개질제이다.That is, the third surface modifier can lower the surface tension of the organic solvent by being mixed with the organic solvent, and the fourth surface modifier has a function of lowering the surface tension of the organic solvent when mixed with the organic solvent. It is a surface modifier that is weaker than a surface modifier or does not have a function of lowering the surface tension of an organic solvent.

제4 표면 개질제로서, 구체적으로는, 상술한 표면 개질제 중, 비이온성 계면 활성제가 적합하게 사용된다. 비이온성 계면 활성제 중에서도, 특히 에테르형, 에스테르형, 또는 에테르·에스테르형의 비이온성 계면 활성제가 바람직하다. 이들 재료는, 첨가량에 의존해서 유기 전계 발광 소자의 성능이 변화하지 않기 때문에, 유기 전계 발광 소자의 성능을 유지할 수 있는 경향이 있는 관점에서 바람직하다.As the fourth surface modifier, specifically, among the surface modifiers described above, a nonionic surfactant is preferably used. Among the nonionic surfactants, ether-type, ester-type, or ether/ester-type nonionic surfactants are particularly preferred. These materials are preferred from the standpoint of being able to maintain the performance of the organic electroluminescent element since the performance of the organic electroluminescent element does not change depending on the amount added.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 제4 표면 개질제의 함유량은, 용매에 대한 용해성의 관점에서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 통상 1중량ppm 이상, 바람직하게는 10중량ppm 이상, 보다 바람직하게는 50중량ppm 이상이고, 통상 50000중량ppm 이하, 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.The content of the fourth surface modifier in the composition for forming an organic electroluminescent element is usually 1 ppm by weight, based on the amount of the organic solvent contained in the composition for forming an organic electroluminescent element, from the viewpoint of solubility in the solvent. or more, preferably 10 wtppm or more, more preferably 50 wtppm or more, and usually 50000 wtppm or less, preferably 10000 wtppm or less, and more preferably 1000 wtppm or less.

상기 상한값 이하인 것으로, 용매에 대한 용해성을 담보할 수 있고, 또한 상기 하한값 이상인 것으로, 표면 개질제로서의 기능을 발현할 수 있다.When it is below the above upper limit value, solubility in solvents can be ensured, and when it is above the above lower limit value, the function as a surface modifier can be expressed.

<제3 표면 개질제와 제4 표면 개질제를 사용하는 것에 의한 효과><Effect of using the third surface modifier and the fourth surface modifier>

제3 표면 개질제와 제4 표면 개질제를 사용하는 것에 의한 효과, 및 그 메커니즘은, 제1 표면 개질제와 제2면 개질제를 사용하는 것에 의한 효과와 동일하다. 또한, [Sa-S1y] 및 [Sa-S2y]의 바람직한 범위도, 각각, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제1 양태에 있어서의 [Sa-S1x] 및 [Sa-S2x]의 바람직한 범위와 동일하다.The effect of using the third surface modifier and the fourth surface modifier and the mechanism thereof are the same as those of using the first surface modifier and the second surface modifier. Further, the preferred ranges of [Sa-S1y] and [Sa-S2y] are the same as the preferred ranges of [Sa-S1x] and [Sa-S2x] in the first aspect of the composition for forming an organic electroluminescent element, respectively. Do.

[유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제3 양태][Third aspect of composition for forming organic electroluminescent device]

본 형태는, 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 제5 표면 개질제 및 제6 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서,This embodiment is a composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, a fifth surface modifier and a sixth surface modifier,

순수의 표면 장력을 Sa'(mN/m), 순수에 제5 표면 개질제만을 1000중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1z(mN/m), 순수에 제6 표면 개질제만을 1000중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2z(mN/m)로 했을 때,When the surface tension of pure water is Sa' (mN/m), the surface tension when only 1000 ppm by weight of the fifth surface modifier is dissolved in pure water is S1z (mN/m), and when only 1000 ppm by weight of the sixth surface modifier is dissolved in pure water When the surface tension of is S2z (mN / m),

Sa'>S1z>S2z … (5)Sa'>S1z>S2z . . . (5)

를 충족하는 것을 특징으로 한다.It is characterized in that it satisfies.

즉, 본 형태는, 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 제5 표면 개질제 및 제6 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서,That is, the present embodiment is a composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, a fifth surface modifier and a sixth surface modifier,

순수의 표면 장력(단위: mN/m)을 Sa'로 하고, 순수의 100중량부와 제5 표면 개질제의 0.1중량부의 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S1z로 하고, 순수의 100중량부와 제6 표면 개질제의 0.1중량부의 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S2z로 하면, 하기 식 (5)를 충족하는 것을 특징으로 한다.The surface tension (unit: mN/m) of pure water is Sa', the surface tension (unit: mN/m) of a mixture of 100 parts by weight of pure water and 0.1 part by weight of the fifth surface modifier is S1z, and 100 parts by weight of pure water When S2z is the surface tension (unit: mN/m) of a mixture of parts by weight and 0.1 part by weight of the sixth surface modifier, the following formula (5) is characterized.

Sa'>S1z>S2z … (5)Sa'>S1z>S2z . . . (5)

여기서, 순수란, 불순물을 포함하지 않거나, 거의 포함하지 않은 순도가 높은 물을 말한다. 순수의 순도의 지표는, 순수의 비저항, 혹은 도전율로 평가되며, 10MΩ·㎝ 이상인 것이 순수라 정의된다.Here, pure water refers to water with high purity that does not contain or hardly contains impurities. An indicator of the purity of pure water is evaluated by the specific resistance or conductivity of pure water, and a pure water is defined as 10 MΩ·cm or more.

전하 주입 수송 재료 및 유기 용매에 대해서는, 상술한 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제1 양태와 동일하다.The charge injection and transport material and the organic solvent are the same as those of the first aspect of the composition for forming an organic electroluminescent device described above.

<제5 표면 개질제><Fifth surface modifier>

제5 표면 개질제는, 순수의 표면 장력을 Sa'(mN/m), 순수에 해당 제5 표면 개질제만을 1000중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1z(mN/m)로 했을 때, Sa'>S1z를 충족하고, 또한 순수에 해당 제6 표면 개질제만을 1000중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2z(mN/m)로 했을 때, S1z>S2z를 충족하는 표면 개질제이다.For the fifth surface modifier, when the surface tension of pure water is Sa' (mN/m) and the surface tension when only 1000 ppm by weight of the fifth surface modifier is dissolved in pure water is S1z (mN/m), Sa'> It is a surface modifier that satisfies S1z and satisfies S1z>S2z when the surface tension when only 1000 ppm by weight of the sixth surface modifier is dissolved in pure water is S2z (mN/m).

제5 표면 개질제는, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 사용되는 유기 용매 단독의 표면 장력(유기 용매로서, 2종류 이상의 유기 용매를 조합한 혼합물을 사용하는 경우에는, 그 혼합물의 표면 장력을 의미한다. 이하 마찬가지)을 Sa(mN/m)로 하고, 해당 유기 용매에 해당 제5 표면 개질제 1종을 100중량ppm, 즉 해당 유기 용매의 100중량부에 해당 제5 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1y로 하면, Sa-S1y>1.0을 충족하는 것이 바람직하다.The fifth surface modifier is the surface tension of the organic solvent alone used in the composition for forming an organic electroluminescent element (when a mixture of two or more organic solvents is used as the organic solvent, it means the surface tension of the mixture) . hereinafter the same) is Sa (mN/m), and 100 parts by weight of the fifth surface modifier is dissolved in the organic solvent, that is, 0.01 part by weight of the fifth surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of the organic solvent. When the surface tension at the time is S1y, it is preferable to satisfy Sa-S1y>1.0.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 포함되는 복수의 표면 개질제 중, 모든 제5 표면 개질제는 상기 조건을 충족하는 것이 바람직하다. 제5 표면 개질제로서 1종 이상의 제5 표면 개질제를 포함하고, 2종 이상의 제5 표면 개질제를 포함해도 된다.Among the plurality of surface modifiers included in the composition for forming an organic electroluminescent device, all fifth surface modifiers preferably satisfy the above conditions. As the fifth surface modifier, one or more kinds of fifth surface modifiers are included, and two or more kinds of fifth surface modifiers may be included.

제5 표면 개질제로서, 구체적으로는, 상술한 표면 개질제 중, 실리콘을 함유하는 재료, 불소를 함유하는 재료 등(폴리머, 올리고머, 저분자 중 어느 것이든 무방하다)이 제5 표면 개질제로서 적합하게 사용된다. 그 중에서도, 특히 실리콘을 함유하는 폴리머가 적합하다. 특히, 폴리실록산; 폴리실록산을 부분적으로 에테르 변성, 에스테르 변성, 아르알킬 변성시킨 화합물; 폴리실록산의 메틸기를 알킬기 치환한 화합물;이 바람직하다. 이들 재료는, 유기막에 사용하는 재료에 미치는 영향, 내열성, 유기 용매에 대한 친화성의 관점에서 바람직하다.As the fifth surface modifier, specifically, among the above-mentioned surface modifiers, materials containing silicon, materials containing fluorine, etc. (any of polymers, oligomers, and low molecules may be used) are suitably used as the fifth surface modifier. do. Among them, polymers containing silicone are particularly suitable. In particular, polysiloxanes; compounds obtained by partially ether-modified, ester-modified, or aralkyl-modified polysiloxanes; A compound obtained by substituting an alkyl group for a methyl group of polysiloxane; is preferred. These materials are preferable from the viewpoints of their influence on materials used for organic films, heat resistance, and affinity to organic solvents.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 제5 표면 개질제의 함유량은, 용매에 대한 용해성의 관점과 표면 개질로서의 기능성의 관점에서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 통상 1중량ppm 이상, 바람직하게는 10중량ppm 이상, 보다 바람직하게는 50중량ppm 이상이고, 통상 50000중량ppm 이하, 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.The content of the fifth surface modifier in the composition for forming an organic electroluminescent element is based on the amount of the organic solvent contained in the composition for forming an organic electroluminescent element, from the viewpoint of solubility in the solvent and functionality as a surface modification. As such, it is usually 1 ppm by weight or more, preferably 10 ppm by weight or more, more preferably 50 ppm by weight or more, and usually 50000 ppm by weight or less, preferably 10000 ppm by weight or less, and more preferably 1000 ppm by weight or less. .

또한, 제5 표면 개질제로서 2종 이상의 제5 표면 개질제가 사용되는 경우에는, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 모든 제5 표면 개질제의 합계의 함유량은, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 바람직하게는 1중량ppm 이상이고, 보다 바람직하게는 10중량ppm 이상, 더욱 바람직하게는 50중량ppm 이상이고, 바람직하게는 50000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 더욱 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.In addition, when two or more types of fifth surface modifiers are used as the fifth surface modifier, the total content of all the fifth surface modifiers in the composition for forming an organic electroluminescent element is in the composition for forming an organic electroluminescent element. Based on the amount of the organic solvent contained as a reference value, it is preferably 1 ppm by weight or more, more preferably 10 ppm by weight or more, still more preferably 50 ppm by weight or more, preferably 50000 ppm by weight or less, more preferably is 10000 ppm by weight or less, more preferably 1000 ppm by weight or less.

상기 상한값 이하인 것으로, 용매에 대한 용해성을 담보할 수 있고, 또한 상기 하한값 이상인 것으로, 표면 개질제로서의 기능을 발현할 수 있다.When it is below the above upper limit value, solubility in solvents can be ensured, and when it is above the above lower limit value, the function as a surface modifier can be expressed.

<제6 표면 개질제><Sixth surface modifier>

제6 표면 개질제는, 순수의 표면 장력을 Sa'(mN/m), 순수에 해당 제6 표면 개질제만을 1000중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2z(mN/m)로 했을 때, Sa'>S2z를 충족하고, 또한 순수에 해당 제5 표면 개질제만을 1000중량ppm 용해시켰을 때의 표면 장력을 S1z(mN/m)로 했을 때, S1z>S2z를 충족하는 표면 개질제이다.For the sixth surface modifier, the surface tension of pure water is Sa' (mN/m), and the surface tension when only 1000 ppm by weight of the sixth surface modifier is dissolved in pure water is S2z (mN/m), Sa'> It is a surface modifier that satisfies S2z and satisfies S1z > S2z when the surface tension when only 1000 ppm by weight of only the fifth surface modifier is dissolved in pure water is S1z (mN/m).

즉, 제5 표면 개질제 및 제6 표면 개질제는, 순수와 혼합됨으로써, 순수의 표면 장력을 저하시킬수 있고, 제5 표면 개질제는, 순수와 혼합된 경우, 순수의 표면 장력을 저하시키는 기능이 제6 표면 개질제에 비해서 약하다.That is, the fifth surface modifier and the sixth surface modifier can reduce the surface tension of pure water by being mixed with pure water, and the fifth surface modifier has a function of reducing the surface tension of pure water when mixed with pure water. It is weak compared to surface modifiers.

제6 표면 개질제는, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 사용되는 유기 용매 단독의 표면 장력을 Sa(mN/m)로 하고, 해당 유기 용매에 해당 제6 표면 개질제 1종을 100중량ppm, 즉 해당 유기 용매의 100중량부에 해당 제6 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시켰을 때의 표면 장력을 S2y로 하면, Sa-S2y≤1.0을 충족하는 것이 바람직하다.In the sixth surface modifier, the surface tension of the organic solvent alone used in the composition for forming an organic electroluminescent device is Sa (mN/m), and the sixth surface modifier is added to the organic solvent in an amount of 100 ppm by weight, that is, If S2y is the surface tension when 0.01 part by weight of the sixth surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of the organic solvent, Sa-S2y ≤ 1.0 is preferably satisfied.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 포함되는 복수의 표면 개질제 중, 모든 제6 표면 개질제는 상기 조건을 충족하는 것이 바람직하다. 제6 표면 개질제로서 1종 이상의 제6 표면 개질제를 포함하고, 2종 이상의 제6 표면 개질제를 포함해도 된다.Among the plurality of surface modifiers included in the composition for forming an organic electroluminescent element, all of the sixth surface modifiers preferably satisfy the above conditions. As the sixth surface modifier, one or more types of sixth surface modifiers are included, and two or more types of sixth surface modifiers may be included.

제6 표면 개질제로서는, 구체적으로는, 상술한 표면 개질제 중, 비이온성 계면 활성제가 적합하게 사용된다. 비이온성 계면 활성제 중에서도, 특히 에테르형, 에스테르형, 또는 에테르·에스테르형의 비이온성 계면 활성제가 바람직하다. 이들 재료는, 첨가량에 의존해서 유기 전계 발광 소자의 성능이 변화하지 않기 때문에, 유기 전계 발광 소자의 성능을 유지할 수 있는 경향이 있는 관점에서 바람직하다.Specifically, as the sixth surface modifier, a nonionic surfactant is preferably used among the surface modifiers described above. Among the nonionic surfactants, ether-type, ester-type, or ether/ester-type nonionic surfactants are particularly preferred. These materials are preferred from the standpoint of being able to maintain the performance of the organic electroluminescent element since the performance of the organic electroluminescent element does not change depending on the amount added.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 제6 표면 개질제의 함유량은, 용매에 대한 용해성의 관점에서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 통상 1중량ppm 이상, 바람직하게는 10중량ppm 이상, 보다 바람직하게는 50중량ppm 이상, 통상 50000중량ppm 이하, 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.The content of the sixth surface modifier in the composition for forming an organic electroluminescent element is usually 1 ppm by weight, based on the amount of the organic solvent contained in the composition for forming an organic electroluminescent element, from the viewpoint of solubility in the solvent. or more, preferably 10 wtppm or more, more preferably 50 wtppm or more, and usually 50000 wtppm or less, preferably 10000 wtppm or less, and more preferably 1000 wtppm or less.

또한, 제6 표면 개질제로서 2종 이상의 제6 표면 개질제가 사용되는 경우에는, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 모든 제6 표면 개질제의 합계의 함유량은, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 바람직하게는 1중량ppm 이상이고, 보다 바람직하게는 10중량ppm 이상, 더욱 바람직하게는 50중량ppm 이상이고, 바람직하게는 50000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 더욱 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.In addition, when two or more types of sixth surface modifiers are used as the sixth surface modifier, the total content of all the sixth surface modifiers in the composition for forming an organic electroluminescent element is in the composition for forming an organic electroluminescent element. Based on the amount of the organic solvent contained as a reference value, it is preferably 1 ppm by weight or more, more preferably 10 ppm by weight or more, still more preferably 50 ppm by weight or more, preferably 50000 ppm by weight or less, more preferably is 10000 ppm by weight or less, more preferably 1000 ppm by weight or less.

상기 상한값 이하인 것으로, 용매에 대한 용해성을 담보할 수 있고, 또한 상기 하한값 이상인 것으로, 표면 개질제로서의 기능을 발현할 수 있다.When it is below the above upper limit value, solubility in solvents can be ensured, and when it is above the above lower limit value, the function as a surface modifier can be expressed.

<제5 표면 개질제와 제6 표면 개질제를 사용하는 것에 의한 효과><Effect of using the fifth surface modifier and the sixth surface modifier>

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에, 보다 친수성이 낮고, 또한 유기 용매 용액의 표면 장력을 저하 또한 균일화시키는 제5 표면 개질제와, 보다 친수성이 높고, 유기 용매의 표면 장력을 변화시키는 기능은 제5 표면 개질제에 비해서 약하지만, 제5 표면 개질제에 흡착하여 제5 표면 개질제의 기능을 변화시키는 작용이 있는 제6 표면 개질제를 함유시킴으로써, 격벽 내에 유기막을 습식 성막했을 때, 양호한 막 두께 균일성을 얻을 수 있는 메커니즘은, 이하와 같이 추정하고 있다.In the composition for forming an organic electroluminescent element, the fifth surface modifier having a lower hydrophilicity and lowering and equalizing the surface tension of the organic solvent solution and the function of changing the surface tension of the organic solvent having a higher hydrophilicity are the fifth surface modifier. By containing the sixth surface modifier, which is weaker than that of the fifth surface modifier but has an effect of adsorbing to the fifth surface modifier and changing the function of the fifth surface modifier, good film thickness uniformity can be obtained when an organic film is wet-formed inside the barrier rib. The existing mechanism is presumed as follows.

먼저 용액의 표면 장력을 균일화시키는 제5 표면 개질제에 의해, 격벽 내 중앙부의 유기막의 평탄성의 악화를 억제한다. 또한, 순수의 표면 장력을 보다 저하시키는, 즉 친수성이 높은 제6 표면 개질제가 격벽 가장자리에 흡착하여, 격벽의 습윤성을 보다 친수화한다. 격벽이 친수성이 됨으로써, 유기 용매를 포함하는 용액이 젖기 어려워져서, 피닝이 억제되고, 그 결과, 격벽에 대한 젖어 오름이 진정되게 된다. 격벽에 대한 젖어 오름이 억제되고, 또한 표면 장력의 저하를 균일화시킨 채 건조는 진행되기 때문에, 유기막의 평탄성 악화는 억제된 상태 그대로이다. 또한 건조가 진행됨에 따라서, 격벽 가장자리의 건조가 빠르기 때문에 격벽 가장자리에서 어쨌든 피닝이 발생하지만, 이때 격벽 내 전체에 있어서, 평탄성의 악화를 억제한 채 건조가 충분히 진행된 상태가 되고, 이 결과, 평탄성이 높은 막이 형성되는 것이라 추정하고 있다.First, deterioration of the flatness of the organic film at the central portion in the partition wall is suppressed by the fifth surface modifier that equalizes the surface tension of the solution. In addition, the sixth surface modifier, which further lowers the surface tension of pure water, that is, has high hydrophilicity, is adsorbed to the edge of the barrier rib, thereby making the wettability of the barrier rib more hydrophilic. When the barrier rib becomes hydrophilic, the solution containing the organic solvent becomes difficult to wet, suppressing pinning, and as a result, wetting to the barrier rib is suppressed. Since wetting of the barrier rib is suppressed and drying progresses while the decrease in surface tension is uniformed, deterioration in flatness of the organic film remains suppressed. In addition, as drying progresses, peening occurs at the edge of the partition wall anyway because the edge of the partition wall is dried quickly. It is assumed that a high film is formed.

[유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제4 양태][Fourth aspect of composition for forming organic electroluminescent device]

본 형태는, 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 제7 표면 개질제 및 제8 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서,This embodiment is a composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, a seventh surface modifier and an eighth surface modifier,

해당 제7 표면 개질제의 분자량이 1000 이상이고, 또한 해당 제8 표면 개질제의 분자량이 1000 미만이다.The seventh surface modifier has a molecular weight of 1000 or more, and the eighth surface modifier has a molecular weight of less than 1000.

전하 주입 수송 재료 및 유기 용매에 대해서는, 상술한 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제1 양태와 동일하다.The charge injection and transport material and the organic solvent are the same as those of the first aspect of the composition for forming an organic electroluminescent device described above.

<제7 표면 개질제><Seventh surface modifier>

제7 표면 개질제는, 분자량이 1000 이상인 표면 개질제이다. 제7 표면 개질제가 폴리머인 경우에는, 중량 평균 분자량이 1000 이상인 표면 개질제를 말한다. 또한, 분자량(폴리머인 경우에는, 중량 평균 분자량)이 너무 크면 용매에 대한 용해성이 극단적으로 저하되기 때문에, 바람직하게는 100000 이하, 특히 바람직하게는 10000 이하이다.The seventh surface modifier is a surface modifier having a molecular weight of 1000 or more. When the seventh surface modifier is a polymer, it refers to a surface modifier having a weight average molecular weight of 1000 or more. Moreover, since solubility to a solvent will fall extremely when molecular weight (weight average molecular weight in the case of a polymer) is too large, Preferably it is 100000 or less, Especially preferably, it is 10000 or less.

제7 표면 개질제로서, 구체적으로는, 상술한 표면 개질제 중, 실리콘을 함유하는 재료, 불소를 함유하는 재료 등(폴리머, 올리고머, 저분자 중 어느 것이든 무방하다)이 제7 표면 개질제로서 적합하게 사용된다. 그 중에서도, 특히 실리콘을 함유하는 폴리머가 적합하다. 특히, 폴리실록산; 폴리실록산을 부분적으로 에테르 변성, 에스테르 변성, 아르알킬 변성시킨 화합물; 폴리실록산의 메틸기를 알킬기 치환한 화합물;이 바람직하다.As the seventh surface modifier, specifically, among the above-mentioned surface modifiers, materials containing silicon, materials containing fluorine, etc. (any of polymers, oligomers, and low molecules may be used) are suitably used as the seventh surface modifier. do. Among them, polymers containing silicone are particularly suitable. In particular, polysiloxanes; compounds obtained by partially ether-modified, ester-modified, or aralkyl-modified polysiloxanes; A compound obtained by substituting an alkyl group for a methyl group of polysiloxane; is preferred.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 제7 표면 개질제의 함유량은, 용매에 대한 용해성의 관점과 표면 개질로서의 기능성의 관점에서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 통상 1중량ppm 이상, 바람직하게는 10중량ppm 이상, 보다 바람직하게는 50중량ppm 이상이고, 통상 50000중량ppm 이하, 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.The content of the seventh surface modifier in the composition for forming an organic electroluminescent element is based on the amount of the organic solvent contained in the composition for forming an organic electroluminescent element, from the viewpoint of solubility in the solvent and functionality as a surface modification. As such, it is usually 1 ppm by weight or more, preferably 10 ppm by weight or more, more preferably 50 ppm by weight or more, and usually 50000 ppm by weight or less, preferably 10000 ppm by weight or less, and more preferably 1000 ppm by weight or less. .

또한, 제7 표면 개질제로서 2종 이상의 제7 표면 개질제가 사용되는 경우에는, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 모든 제7 표면 개질제의 합계의 함유량은, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 통상 1중량ppm 이상, 바람직하게는 10중량ppm 이상, 보다 바람직하게는 50중량ppm 이상이고, 통상 50000중량ppm 이하, 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.In addition, when two or more types of seventh surface modifiers are used as the seventh surface modifier, the total content of all seventh surface modifiers in the composition for forming an organic electroluminescent element is in the composition for forming an organic electroluminescent element. Based on the amount of the organic solvent contained as a reference value, it is usually 1 ppm by weight or more, preferably 10 ppm by weight or more, more preferably 50 ppm by weight or more, and usually 50000 ppm by weight or less, preferably 10000 ppm by weight or less, more Preferably it is 1000 weight ppm or less.

상기 상한값 이하인 것으로, 용매에 대한 용해성을 담보할 수 있고, 또한 상기 하한값 이상인 것으로, 표면 개질제로서의 기능을 발현할 수 있다.When it is below the above upper limit value, solubility in solvents can be ensured, and when it is above the above lower limit value, the function as a surface modifier can be expressed.

<제8 표면 개질제><Eighth surface modifier>

제8 표면 개질제는 분자량이 1000 미만인 표면 개질제이다.The eighth surface modifier is a surface modifier having a molecular weight of less than 1000.

제8 표면 개질제로서는, 구체적으로는, 상술한 표면 개질제 중, 비이온성 계면 활성제가 적합하게 사용된다. 비이온성 계면 활성제 중에서도, 특히 에테르형, 에스테르형, 또는 에테르·에스테르형의 비이온성 계면 활성제가 바람직하다.Specifically, as the eighth surface modifier, a nonionic surfactant is preferably used among the surface modifiers described above. Among the nonionic surfactants, ether-type, ester-type, or ether/ester-type nonionic surfactants are particularly preferred.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 제8 표면 개질제의 함유량은, 용매에 대한 용해성의 관점에서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 통상 1중량ppm 이상, 바람직하게는 10중량ppm 이상, 보다 바람직하게는 50중량ppm 이상, 통상 50000중량ppm 이하, 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.The content of the eighth surface modifier in the composition for forming an organic electroluminescent element is usually 1 ppm by weight, based on the amount of the organic solvent contained in the composition for forming an organic electroluminescent element, from the viewpoint of solubility in the solvent. or more, preferably 10 wtppm or more, more preferably 50 wtppm or more, and usually 50000 wtppm or less, preferably 10000 wtppm or less, and more preferably 1000 wtppm or less.

또한, 제8 표면 개질제로서 2종 이상의 제8 표면 개질제가 사용되는 경우에는, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 있어서의, 모든 제8 표면 개질제의 합계 함유량은, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값으로 해서, 바람직하게는 1중량ppm 이상, 보다 바람직하게는 10중량ppm 이상, 더욱 바람직하게는 50중량ppm 이상이고, 바람직하게는 50000중량ppm 이하, 보다 바람직하게는 10000중량ppm 이하, 더욱 바람직하게는 1000중량ppm 이하이다.In addition, when two or more types of eighth surface modifiers are used as the eighth surface modifier, the total content of all the eighth surface modifiers in the composition for forming an organic electroluminescent device is included in the composition for forming an organic electroluminescent device. The amount of the organic solvent used as a reference value is preferably 1 ppm by weight or more, more preferably 10 ppm by weight or more, even more preferably 50 ppm by weight or more, preferably 50000 ppm by weight or less, and more preferably 10000 ppm by weight or less. It is weight ppm or less, More preferably, it is 1000 weight ppm or less.

상기 상한값 이하인 것으로, 용매에 대한 용해성을 담보할 수 있고, 또한 상기 하한값 이상인 것으로, 표면 개질제로서의 기능을 발현할 수 있다.When it is below the above upper limit value, solubility in solvents can be ensured, and when it is above the above lower limit value, the function as a surface modifier can be expressed.

<제7 표면 개질제와 제8 표면 개질제를 사용하는 것에 의한 효과><Effect of using the seventh surface modifier and the eighth surface modifier>

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 중에 제7 표면 개질제와 제8 표면 개질제를 함유시킴으로써, 격벽 내에 유기막을 습식 성막했을 때, 양호한 막 두께 균일성을 얻을 수 있는 메커니즘은, 이하와 같이 추정하고 있다.The mechanism for obtaining good film thickness uniformity when the organic film is wet-formed in the barrier rib by including the seventh surface modifier and the eighth surface modifier in the composition for forming an organic electroluminescent element is estimated as follows.

본 발명에 있어서는, 분자량이 1000 미만인 제8 표면 개질제는, 분자량이 낮기 때문에 액 표면에서 분자가 보다 배열되기 때문에 평탄성의 악화를 억제하는 기능이 강하다. 한편, 분자량 1000 이상인 제7 표면 개질제를 사용함으로써 액 표면에는 분자의 배열이 일어나기 어렵지만, 건조 중에 제7 표면 개질제의 농도가 상승해서 점도가 급격하게 증대하기 때문에, 격벽에 대한 용액의 젖어 오름을 억제하는 기능을 갖고 있는 것이라 생각된다. 이러한 점에서, 제8 표면 개질제에 의해 격벽 내의 유기막의 평탄성은 향상되고, 또한 제7 표면 개질제에 의해 격벽 가장자리의 젖어 오름에 의한 막 두께의 증대를 억제하고 있기 때문에, 평탄성이 좋아지는 것이라 생각된다.In the present invention, the eighth surface modifier having a molecular weight of less than 1000 has a strong function of suppressing deterioration of flatness because the molecules are more arranged on the surface of the liquid due to its low molecular weight. On the other hand, by using the seventh surface modifier having a molecular weight of 1000 or more, molecular arrangement is difficult to occur on the surface of the liquid, but the concentration of the seventh surface modifier increases during drying and the viscosity increases rapidly, so that wetting of the solution to the partition wall is suppressed. It is thought to have the ability to From this point of view, since the flatness of the organic film in the barrier rib is improved by the eighth surface modifier and the increase in film thickness due to wetting of the edge of the barrier rib is suppressed by the seventh surface modifier, the flatness is thought to be improved.

[유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제1 내지 제4 양태에 공통되는 양태][Aspects common to the first to fourth aspects of the composition for forming an organic electroluminescent element]

이하, 본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 제1 내지 제4 양태에 공통되는 양태에 대해서 설명한다.Hereinafter, aspects common to the first to fourth aspects of the composition for forming an organic electroluminescent element of the present invention will be described.

(유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 조성)(Composition of Composition for Forming Organic Electroluminescent Device)

본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 있어서, 전하 주입 수송 재료의 함유량은, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 유기 용매의 양을 기준값(100중량부)으로 해서, 통상 0.1중량부 이상, 바람직하게는 0.5중량부 이상, 보다 바람직하게는 1.0중량부 이상이고, 또한 통상 50중량부 이하, 바람직하게는 20중량부, 보다 바람직하게는 10중량부 이하이다.In the composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention, the content of the charge injection and transport material is usually 0.1 part by weight or more, based on the amount of the organic solvent contained in the composition for forming an organic electroluminescent device as a reference value (100 parts by weight). , preferably 0.5 parts by weight or more, more preferably 1.0 parts by weight or more, and usually 50 parts by weight or less, preferably 20 parts by weight, more preferably 10 parts by weight or less.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 있어서, 전하 주입 수송 재료의 함유량이 상기 하한값 이상이면, 막 형성이 되기 쉽고, 상기 상한값 이하이면 유기 용매중에서 용해 상태를 유지하기 쉬운 경향이 있다.In the composition for forming an organic electroluminescent element, when the content of the charge injection transport material is equal to or greater than the lower limit, film formation tends to occur, and when the content is equal to or less than the upper limit, the composition tends to remain dissolved in the organic solvent.

본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 있어서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 전체(100중량%)에서 차지하는 유기 용매의 함유량은, 통상 50중량% 이상, 바람직하게는 80중량% 이상, 더욱 바람직하게는 90중량% 이상이고, 통상 99.9중량% 이하, 바람직하게는 99.5중량% 이하, 더욱 바람직하게는 99중량% 이하이다.In the composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention, the content of the organic solvent in the total (100% by weight) of the composition for forming an organic electroluminescent device is usually 50% by weight or more, preferably 80% by weight or more, and furthermore It is preferably 90% by weight or more, and usually 99.9% by weight or less, preferably 99.5% by weight or less, and more preferably 99% by weight or less.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 전체(100중량%)에서 차지하는 유기 용매의 함유량이 상기 하한값 이상이면, 전하 주입 수송층을 석출시키지 않고 용해 상태를 유지하기 쉽고, 상기 상한값 이하이면 막 형성이 되기 쉽다.When the content of the organic solvent in the total (100% by weight) of the composition for forming an organic electroluminescent element is equal to or greater than the lower limit, the charge injection and transport layer is not precipitated and the dissolved state is easily maintained.

(유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 포함되는 그 외의 구성)(Other Components Included in Composition for Forming Organic Electroluminescent Element)

본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물은, 상술한 전하 주입 수송 재료, 유기 용매 및 각 표면 개질제 이외에, 적절히 다른 재료를 포함하고 있어도 된다.The composition for forming an organic electroluminescent element of the present invention may contain other materials as appropriate in addition to the above-described charge injection and transport material, organic solvent, and each surface modifier.

예를 들어, 발광에 기여하는 도펀트 재료를 포함하고 있어도 된다. 발광에 관한 도펀트 재료의 함유량은, 전하를 효율적으로 발광시킨다는 관점에서, 통상 0.05중량% 이상, 바람직하게는 0.1중량% 이상이고, 또한 농도 과다에 의한 발광의 소광을 피한다는 관점에서 통상 20중량% 이하, 바람직하게는 10중량% 이하, 더욱 바람직하게는 5중량% 이하이다.For example, a dopant material contributing to light emission may be included. The content of the dopant material related to light emission is usually 0.05% by weight or more, preferably 0.1% by weight or more, from the viewpoint of efficiently emitting electric charges, and is usually 20% by weight from the viewpoint of avoiding extinction of light emission due to excessive concentration. or less, preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less.

또한, Irganox 1010이나 부틸히드록시아니솔 등으로 대표되는 산화 방지제 등을 포함하고 있어도 된다.In addition, antioxidants represented by Irganox 1010, butylhydroxyanisole, and the like may be included.

[유기 전계 발광 소자][Organic electroluminescence device]

본 발명의 유기 전계 발광 소자는, 본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 건조시켜서 이루어지는 유기막을 포함한다. 본 발명의 유기 전계 발광 소자는, 격벽으로 구획된 영역에, 본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 도포 후, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 건조해서 얻어진 유기막을 갖는 것이 바람직하다.The organic electroluminescent device of the present invention includes an organic film obtained by drying the composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention. The organic electroluminescent element of the present invention preferably has an organic film obtained by applying the composition for forming an organic electroluminescent element of the present invention to a region partitioned by barrier ribs and then drying the composition for forming an organic electroluminescent element.

유기 전계 발광 소자에 있어서의 모든 유기막이 본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 사용해서 형성될 필요는 없고, 본 발명의 유기 전계 발광 소자는, 어느 유기막이 본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 사용해서 형성되어 있으면 된다. 다른 유기막은 종래 공지된 재료, 방법을 적절히 사용해서 형성하면 되지만, 본 발명의 유기 전계 발광 소자에 있어서, 습식 성막되는 모든 유기막이 본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 사용해서 형성되는 것이 바람직하다.It is not necessary that all organic films in the organic electroluminescent device are formed using the composition for forming an organic electroluminescent device of the present invention, and which organic film is used for forming an organic electroluminescent device of the present invention. What is necessary is just to form using a composition. Other organic films may be formed using conventionally known materials and methods as appropriate, but in the organic electroluminescent element of the present invention, it is preferable that all organic films to be wet-formed are formed using the composition for forming an organic electroluminescent element of the present invention Do.

본 발명의 유기 전계 발광 소자는, 기판 상에 직접 또는 다른 층을 개재하여 형성된 격벽으로 구획된 복수의 영역을 갖는 것이 바람직하다. 해당 영역이, 유기 전계 발광 소자의 화소에 상당한다.The organic electroluminescent element of the present invention preferably has a plurality of regions partitioned off by barrier ribs formed directly on the substrate or through another layer. This area corresponds to a pixel of an organic electroluminescent element.

본 발명에 관한 유기 전계 발광 소자의 일반적 층 구성의 일례를 도 1에 도시한다.Fig. 1 shows an example of the general layer structure of the organic electroluminescent device according to the present invention.

도 1은 본 발명에 관한 유기 전계 발광 소자(10)의 구조예를 나타내는 단면의 모식도로서, 도 1에 있어서, 1은 기판, 2는 양극, 3은 정공 주입층, 4는 정공 수송층, 5는 발광층, 6은 정공 저지층, 7은 전자 수송층, 8은 전자 주입층, 9는 음극을 각각 나타낸다. 또한, 격벽에 대해서는 생략되어 있다.1 is a schematic cross-sectional view showing a structural example of an organic electroluminescent device 10 according to the present invention. In FIG. 1, 1 is a substrate, 2 is an anode, 3 is a hole injection layer, 4 is a hole transport layer, and 5 is a A light emitting layer, 6 represents a hole blocking layer, 7 represents an electron transport layer, 8 represents an electron injection layer, and 9 represents a cathode, respectively. In addition, about the partition wall, it is abbreviate|omitted.

상기 각 층을 형성하는 유기막의 막 두께는, 통상 1 내지 1000㎚ 정도이지만, 10 내지 500㎚가 바람직하다. 막 두께가 상기 하한값 이상이면, 원래 필요해지는 물성(전하의 주입 특성, 수송 특성, 가둠 특성)을 얻기 쉽고, 티끌 등의 이물에 의한 화소 결함이 발생할 가능성이 낮아진다. 또한, 막 두께가 상기 상한값 이하이면 유기막의 전기 저항이 낮게 억제되어, 구동 전압을 낮게 할 수 있다.The film thickness of the organic film forming each of the above layers is usually about 1 to 1000 nm, but preferably 10 to 500 nm. When the film thickness is equal to or greater than the above lower limit, it is easy to obtain originally required physical properties (charge injection characteristics, transport characteristics, confinement characteristics), and the possibility of occurrence of pixel defects due to foreign substances such as dust is reduced. In addition, when the film thickness is equal to or less than the above upper limit, the electrical resistance of the organic film is suppressed to a low level, and the drive voltage can be reduced.

[유기막의 제조 방법][Method for producing organic film]

본 발명의 유기막의 제조 방법은, 격벽으로 구획된 영역으로의 본 발명의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 도포, 및 도포된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 건조를 포함한다.The method for producing an organic film of the present invention includes applying the composition for forming an organic electroluminescent element of the present invention to a region partitioned by barrier ribs, and drying the applied composition for forming an organic electroluminescent element.

본 발명의 격벽으로 구획된 영역의 크기는, 특별히 한정되지 않지만, 장축: 600㎛ 이하, 단축: 300㎛ 이하일 때 특히 효과가 크다. 개구 면적이 이 범위이면, 격벽 근방에 있어서의 평탄성이 악화되는 면적의 비율이 커서, 본 발명의 효과가 특히 크다.The size of the region partitioned by the barrier rib of the present invention is not particularly limited, but it is particularly effective when the long axis: 600 μm or less and the short axis: 300 μm or less. When the opening area is within this range, the ratio of the area where the flatness deteriorates in the vicinity of the partition wall is large, and the effect of the present invention is particularly large.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 도포 및 건조는, 종래 공지된 습식 성막법을 사용할 수 있다. 여기서, 습식 성막법이란, 용매를 포함하는 조성물을, 스핀 코팅법, 딥 코팅법, 다이 코팅법, 바 코팅법, 블레이드 코팅법, 롤 코팅법, 스프레이 코팅법, 캐필러리 코팅법, 잉크젯법, 스크린 인쇄법, 그라비아 인쇄법, 플렉소 인쇄법 등 습식을 사용해서 성막하는 방법을 말한다. 이 중에서도 특히, 잉크젯법을 사용해서 도포하는 것이 바람직하다. 도포 후의 건조 방법에 대해서는, 진공 건조, 가열 건조 등, 종래 공지된 건조 방법을 적절히 사용하면 되지만, 진공 건조가 바람직하다.A conventionally known wet film forming method can be used for coating and drying the composition for forming an organic electroluminescent element. Here, the wet film forming method refers to a composition containing a solvent, spin coating method, dip coating method, die coating method, bar coating method, blade coating method, roll coating method, spray coating method, capillary coating method, ink jet method , screen printing method, gravure printing method, flexographic printing method, and the like. Among these, application|coating using the inkjet method is especially preferable. As for the drying method after application, conventionally known drying methods such as vacuum drying and heat drying may be appropriately used, but vacuum drying is preferable.

(격벽의 형성 방법)(Method of forming bulkhead)

격벽의 형성 방법도 종래 공지된 형성 방법을 사용하면 된다. 예를 들어, 격벽 형성용 감광성 수지 조성물을 기판 상에 도포하고, 감광성 수지 조성물층을 형성하는 도포 공정과, 감광성 수지 조성물층을 노광하는 노광 공정을 포함하는 방법을 들 수 있다. 이러한 격벽의 형성 방법의 구체예로서는, 잉크젯법과 포토리소그래피법을 들 수 있다.A conventionally well-known formation method may also be used for the formation method of a partition. For example, the method including the application process of apply|coating the photosensitive resin composition for partition formation on a board|substrate, and forming the photosensitive resin composition layer, and the exposure process of exposing the photosensitive resin composition layer is mentioned. As a specific example of the formation method of such a barrier rib, an inkjet method and a photolithography method are mentioned.

격벽을 형성하기 위한 감광성 수지 조성물로서는, (A) 에틸렌성 불포화 화합물, (B) 광중합 개시제, (C) 알칼리 가용성 수지를 함유하는 감광성 수지 조성물을 들 수 있다.As a photosensitive resin composition for forming a partition, the photosensitive resin composition containing (A) ethylenically unsaturated compound, (B) photoinitiator, and (C) alkali-soluble resin is mentioned.

또한, 격벽을 형성하기 위한 감광성 수지 조성물은, 발액성의 격벽을 형성하는 관점에서 (D) 발액제를 함유해도 되고, 또한 상기 (A) 내지 (C) 성분을 발액제로서의 작용을 나타내는 것을 사용해도 된다. 또한, 격벽을 형성하기 위한 감광성 수지 조성물은, 통상 (E) 용제를 함유한다.Moreover, the photosensitive resin composition for forming a partition may contain (D) liquid repellent from the viewpoint of forming a liquid-repellent partition, and furthermore, the above-mentioned (A) to (C) components exhibiting an action as a liquid repellent are used. can also Moreover, the photosensitive resin composition for forming a partition contains (E) solvent normally.

(A) 성분; 에틸렌성 불포화 화합물(A) component; ethylenically unsaturated compounds

격벽을 형성하기 위한 감광성 수지 조성물은, (A) 에틸렌성 불포화 화합물을 함유한다. (A) 에틸렌성 불포화 화합물을 포함함으로써, 고감도가 된다고 생각된다.The photosensitive resin composition for forming a partition contains (A) an ethylenically unsaturated compound. (A) It is thought that it becomes highly sensitive by including an ethylenically unsaturated compound.

여기서 사용되는 에틸렌성 불포화 화합물로서는, 에틸렌성 불포화 결합을 분자 내에 1개 이상 갖는 화합물을 의미하지만, 중합성, 가교성, 및 그에 수반하는 노광부와 비노광부의 현상액 용해성의 차이를 확대할 수 있는 등의 점에서, 에틸렌성 불포화 결합을 분자 내에 2개 이상 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 또한 그 불포화 결합은 (메트)아크릴로일옥시기에서 유래하는 것, 즉 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 더욱 바람직하다.As used herein, the ethylenically unsaturated compound refers to a compound having one or more ethylenically unsaturated bonds in the molecule, but is capable of widening the difference in polymerizability, crosslinkability, and consequent solubility of the exposed and unexposed areas in the developing solution. In view of the above, it is preferable that the compound has two or more ethylenically unsaturated bonds in the molecule, and the unsaturated bond is derived from a (meth)acryloyloxy group, that is, a (meth)acrylate compound is more preferable. Do.

특히, 1분자 중에 에틸렌성 불포화 결합을 2개 이상 갖는 다관능 에틸렌성 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 다관능 에틸렌성 단량체가 갖는 에틸렌성 불포화기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 2 이상, 보다 바람직하게는 3 이상, 더욱 바람직하게는 5 이상이고, 또한 바람직하게는 15 이하, 보다 바람직하게는 10 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 중합성이 향상되어 고감도가 되는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 보다 양호해지는 경향이 있다.In particular, it is preferable to use a polyfunctional ethylenic monomer having two or more ethylenically unsaturated bonds in one molecule. The number of ethylenically unsaturated groups of the polyfunctional ethylenic monomer is not particularly limited, but is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, even more preferably 5 or more, and more preferably 15 or less, more preferably is less than 10. When it is set to the above lower limit or more, the polymerization property tends to improve and the sensitivity becomes high, and when the value is set to below the above upper limit, the developability tends to be better.

에틸렌성 불포화 화합물의 구체예로서는, 지방족 폴리히드록시 화합물과 불포화 카르복실산과의 에스테르; 방향족 폴리히드록시 화합물과 불포화 카르복실산과의 에스테르; 지방족 폴리히드록시 화합물, 방향족 폴리히드록시 화합물 등의 다가 히드록시 화합물과, 불포화 카르복실산 및 다염기성 카르복실산과의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르 등을 들 수 있다.Specific examples of the ethylenically unsaturated compound include esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids; Esters of aromatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids; esters obtained by esterification of polyvalent hydroxy compounds such as aliphatic polyhydroxy compounds and aromatic polyhydroxy compounds with unsaturated carboxylic acids and polybasic carboxylic acids; and the like.

이들 중에서도, 적정한 테이퍼 각도와 감도의 관점에서 (A) 에틸렌성 불포화 화합물로서, 에스테르(메트)아크릴레이트류 또는 우레탄(메트)아크릴레이트류를 사용하는 것이 바람직하고, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 2-트리스아크릴로일옥시메틸에틸프탈산, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 이염기산 무수물 부가물, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트의 이염기산 무수물 부가물 등을 사용하는 것이 보다 바람직하다.Among these, from the viewpoint of appropriate taper angle and sensitivity, it is preferable to use ester (meth)acrylates or urethane (meth)acrylates as (A) ethylenically unsaturated compounds, and dipentaerythritol hexa(meth) Dibasic acid anhydride of acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, 2-trisacryloyloxymethylethylphthalic acid, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate It is more preferable to use an adduct, a dibasic acid anhydride adduct of pentaerythritol triacrylate, and the like.

이들은 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

(B) 성분; 광중합 개시제component (B); photopolymerization initiator

격벽을 형성하기 위한 감광성 수지 조성물은, (B) 광중합 개시제를 함유한다. 광중합 개시제는, 활성 광선에 의해, 상기 (A) 에틸렌성 불포화 화합물이 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 중합시키는 화합물이면 특별히 한정되는 것이 아니고, 공지된 광중합 개시제를 사용할 수 있다.The photosensitive resin composition for forming a partition contains (B) a photoinitiator. The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that polymerizes the ethylenically unsaturated bond of the ethylenically unsaturated compound (A) with actinic light, and a known photopolymerization initiator can be used.

감광성 수지 조성물은, (B) 광중합 개시제로서, 이 분야에서 통상 사용되고 있는 광중합 개시제를 사용할 수 있다. 이러한 광중합 개시제로서는, 예를 들어 헥사아릴비이미다졸계 광중합 개시제, 아실포스핀옥사이드계 광중합 개시제, 옥심계 광중합 개시제, 트리아진계 광중합 개시제, 아세토페논계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 히드록시벤젠계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제, 안트라퀴논계 광중합 개시제, 케탈계 광중합 개시제, 티타노센계 광중합 개시제, 할로겐화 탄화수소 유도체계 광중합 개시제, 유기 붕소산염계 광중합 개시제, 오늄염계 광중합 개시제, 술폰 화합물계 광중합 개시제, 카르밤산 유도체계 광중합 개시제, 술폰아미드계 광중합 개시제, 트리아릴메탄올계 광중합 개시제를 들 수 있다.In the photosensitive resin composition, as the (B) photopolymerization initiator, a photopolymerization initiator commonly used in this field can be used. Examples of such photopolymerization initiators include hexaarylbiimidazole-based photopolymerization initiators, acylphosphine oxide-based photopolymerization initiators, oxime-based photopolymerization initiators, triazine-based photopolymerization initiators, acetophenone-based photopolymerization initiators, benzophenone-based photopolymerization initiators, and hydroxybenzene. photopolymerization initiator, thioxanthone photopolymerization initiator, anthraquinone photopolymerization initiator, ketal photopolymerization initiator, titanocene photopolymerization initiator, halogenated hydrocarbon derivative photopolymerization initiator, organic borate photopolymerization initiator, onium salt photopolymerization initiator, sulfone compound photopolymerization and initiators, carbamic acid derivative photopolymerization initiators, sulfonamide photopolymerization initiators, and triarylmethanol photopolymerization initiators.

이들 광중합 개시제는, 감광성 수지 조성물 중에 그 1종이 단독으로 포함되어 있어도 되고, 2종 이상이 포함되어 있어도 된다. 이들 광중합 개시제 중에서, 옥심계 광중합 개시제, 헥사아릴비이미다졸 화합물이 바람직하다.These photopolymerization initiators may be contained singly or in combination of two or more thereof in the photosensitive resin composition. Among these photopolymerization initiators, oxime-based photopolymerization initiators and hexaarylbiimidazole compounds are preferred.

또한 상기 광중합 개시제와 병용하여, 연쇄 이동제를 사용해도 된다. 연쇄 이동제로서는 머캅토기 함유 화합물이나, 사염화탄소 등을 들 수 있고, 연쇄 이동 효과가 높은 경향이 있는 점에서 머캅토기를 갖는 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. S-H 결합 에너지가 작은 것에 의해 결합 개열이 일어나기 쉽고, 수소 인발 반응이나 연쇄 이동 반응을 일으키기 쉽기 때문이라고 생각된다. 감도 향상이나 표면 경화성에 유효하다.Moreover, you may use a chain transfer agent in combination with the said photoinitiator. Examples of the chain transfer agent include compounds containing a mercapto group, carbon tetrachloride, and the like, and since the chain transfer effect tends to be high, it is more preferable to use a compound having a mercapto group. It is considered that bond cleavage easily occurs due to the small S-H bond energy, and hydrogen withdrawal reaction and chain transfer reaction are easily caused. It is effective for sensitivity improvement and surface hardenability.

머캅토기 함유 화합물로서는, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 3-머캅토-1,2,4-트리아졸, 2-머캅토-4(3H)-퀴나졸린, β-머캅토나프탈렌, 1,4-디메틸머캅토벤젠 등의 방향족환을 갖는 머캅토기 함유 화합물; 헥산디티올, 데칸디티올, 부탄디올비스(3-머캅토프로피오네이트), 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 트리스히드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨트리스(3-머캅토프로피오네이트), 부탄디올비스(3-머캅토부티레이트), 에틸렌글리콜비스(3-머캅토부티레이트), 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토부티레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토부티레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-머캅토부티레이트), 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등의 지방족계의 머캅토기 함유 화합물 등을 들 수 있다.As the mercapto group-containing compound, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 2-mercapto-4 mercapto group-containing compounds having an aromatic ring such as (3H)-quinazoline, β-mercaptonaphthalene, and 1,4-dimethylmercaptobenzene; Hexanedithiol, Decanedithiol, Butanediolbis(3-mercaptopropionate), Butanediolbisthioglycolate, Ethylene glycolbis(3-mercaptopropionate), Ethylene glycolbisthioglycolate, Trimethylolpropanetris (3-mercaptopropionate), trimethylolpropane trithioglycolate, trishydroxyethyltrithiopropionate, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tris (3- Mercaptopropionate), butanediolbis (3-mercaptobutyrate), ethylene glycol bis (3-mercaptobutyrate), trimethylolpropanetris (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate) butyrate), pentaerythritol tris (3-mercaptobutyrate), 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H,3H and aliphatic mercapto group-containing compounds such as ,5H)-trione.

이들은 다양한 것이 1종을 단독으로, 혹은 2종 이상을 혼합해서 사용할 수 있다.A variety of these can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

(C) 성분; 알칼리 가용성 수지component (C); alkali soluble resin

격벽을 형성하기 위한 감광성 수지 조성물은, (C) 알칼리 가용성 수지를 함유한다. 알칼리 가용성 수지로서는 현상액으로 현상 가능한 것이면 특별히 한정되지 않지만, 현상액으로서는 알칼리 현상액이 바람직하기 때문에, 알칼리 가용성 수지를 사용한다. 알칼리 가용성 수지로서는, 카르복시기 또는 수산기 함유의 각종 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 적당한 테이퍼각의 격벽이 얻어지는 것 및 격벽의 열 용융에 의한 유출이 억제되어 발액성을 유지할 수 있는 것 등으로부터, 카르복실기를 갖는 것이 바람직하고, 또한 에틸렌성 불포화기를 갖는 것인 것이 보다 바람직하다.The photosensitive resin composition for forming a partition contains (C) alkali-soluble resin. The alkali-soluble resin is not particularly limited as long as it can be developed with a developing solution. As the developing solution, an alkali-soluble resin is preferably used. Examples of the alkali-soluble resin include various resins containing a carboxy group or a hydroxyl group. Among them, those having a carboxyl group are preferred, and those having an ethylenically unsaturated group are more preferred, from the viewpoint of obtaining a partition wall with an appropriate taper angle and suppressing outflow due to thermal melting of the partition wall to maintain liquid repellency. Do.

<카르복실기 함유 (공)중합체 (1)><Carboxyl group-containing (co)polymer (1)>

카르복실기 함유 (공)중합체의 대표적인 것으로서는, 구체적으로는, 예를 들어 (메트)아크릴산, 크로톤산, 이소크로톤산, 말레산, 무수 말레산, 이타콘산, 시트라콘산 등의 불포화 카르복실산과, 스티렌, α-메틸스티렌, 히드록시스티렌 등의 스티렌류, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 도데실(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 아다만틸(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 히드록시메틸(메트)아크릴레이트, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, N-(메트)아크릴로일모르폴린 등의 (메트)아크릴산에스테르류, (메트)아크릴로니트릴 등의 (메트)아크릴로니트릴류, (메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드류, 아세트산비닐 등의 비닐화합물류 등과의 공중합체를 들 수 있다.Representative examples of the carboxyl group-containing (co)polymer include, for example, unsaturated carboxylic acids such as (meth)acrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, and citraconic acid; Styrene, such as styrene, α-methylstyrene, and hydroxystyrene, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, Hexyl(meth)acrylate, dodecyl(meth)acrylate, 2-ethylhexyl(meth)acrylate, dicyclopentanyl(meth)acrylate, adamantyl(meth)acrylate, isobornyl(meth)acrylate hydroxymethyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, N - (meth)acrylic acid esters such as (meth)acryloylmorpholine, (meth)acrylonitriles such as (meth)acrylonitrile, (meth)acrylamide, N-methylol (meth)acrylamide, and copolymers with (meth)acrylamides such as N,N-dimethyl(meth)acrylamide and N,N-dimethylaminoethyl(meth)acrylamide, and vinyl compounds such as vinyl acetate.

<카르복실기 함유 (공)중합체 (2)><Carboxyl group-containing (co)polymer (2)>

또한, 상기 불포화 카르복실산 대신에, 히드록시알킬(메트)아크릴레이트에 다염기산(무수물)을 부가시킨 화합물과, 상기 스티렌류, (메트)아크릴산에스테르류, (메트)아크릴로니트릴류, (메트)아크릴아미드류, 비닐 화합물류 등과의 공중합체를 들 수 있다.In addition, instead of the unsaturated carboxylic acid, a compound obtained by adding a polybasic acid (anhydride) to a hydroxyalkyl (meth)acrylate, and the above styrenes, (meth)acrylic acid esters, (meth)acrylonitriles, (meth) ) copolymers with acrylamides, vinyl compounds and the like.

<불포화 카르복실산과 2종 이상의 에틸렌성 불포화기 함유 화합물과의 공중합체><Copolymer of unsaturated carboxylic acid and two or more kinds of ethylenically unsaturated group-containing compounds>

측쇄에 에틸렌성 불포화기를 갖는 카르복실기 함유 (공)중합체로서, 예를 들어 알릴(메트)아크릴레이트, 3-알릴옥시-2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 신나밀(메트)아크릴레이트, 크로토닐(메트)아크릴레이트, 메탈릴(메트)아크릴레이트, N,N-디알릴(메트)아크릴아미드 등의 2종 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물, 또는 비닐(메트)아크릴레이트, 1-클로로비닐(메트)아크릴레이트, 2-페닐비닐(메트)아크릴레이트, 1-프로페닐(메트)아크릴레이트, 비닐크로토네이트, 비닐(메트)아크릴아미드 등의 2종 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물과, (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산, 또는 추가로 불포화 카르복실산에스테르 등을, 전자의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물의 전체에서 차지하는 비율을 10 내지 90몰%, 바람직하게는 30 내지 80몰% 정도가 되도록 공중합시켜 얻어진 공중합체 등을 들 수 있다.As a carboxyl group-containing (co)polymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain, for example, allyl (meth) acrylate, 3-allyloxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, cinnamyl (meth) acrylate, chromium Compounds having two or more types of ethylenically unsaturated groups such as tonyl (meth)acrylate, methallyl (meth)acrylate, N,N-diallyl (meth)acrylamide, or vinyl (meth)acrylate, 1-chlorovinyl (meth) acrylate, 2-phenylvinyl (meth) acrylate, 1-propenyl (meth) acrylate, vinyl crotonate, a compound having two or more ethylenically unsaturated groups such as vinyl (meth) acrylamide; (meth)acrylic acid and other unsaturated carboxylic acids or unsaturated carboxylic acid esters in a proportion of the total amount of the former ethylenically unsaturated group-containing compounds is 10 to 90 mol%, preferably 30 to 80 mol% and copolymers obtained by copolymerizing to a certain degree.

<에폭시기 함유 불포화 화합물 변성 카르복실기 함유 (공)중합체><Epoxy group-containing unsaturated compound-modified carboxyl group-containing (co)polymer>

또한, 측쇄에 에틸렌성 불포화기를 갖는 카르복실기 함유 (공)중합체로서, 예를 들어 카르복실기 함유 (공)중합체에, 에폭시기 함유 불포화 화합물을 반응시켜서, 카르복실기 함유 (공)중합체의 카르복실기 일부에 에폭시기 함유 불포화 화합물의 에폭시기를 부가시켜서 변성시킨 변성 카르복실기 함유 (공)중합체를 들 수 있다.Further, as a carboxyl group-containing (co)polymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain, for example, a carboxyl group-containing (co)polymer is reacted with an epoxy group-containing unsaturated compound to form an epoxy group-containing unsaturated compound on a part of the carboxyl group of the carboxyl group-containing (co)polymer. and modified carboxyl group-containing (co)polymers modified by adding an epoxy group of .

그 카르복실기 함유 (공)중합체로서는, 감도의 관점에서, 전술한 카르복실기 함유 (공)중합체의 (메트)아크릴레이트-(메트)아크릴산 공중합체 및 스티렌-(메트)아크릴레이트-(메트)아크릴산 공중합체 등이 바람직하다.As the carboxyl group-containing (co)polymer, from the viewpoint of sensitivity, (meth)acrylate-(meth)acrylic acid copolymer and styrene-(meth)acrylate-(meth)acrylic acid copolymer of the above-mentioned carboxyl group-containing (co)polymer etc. are preferred.

또한, 그 에폭시기 함유 불포화 화합물로서는, 알릴글리시딜에테르, 글리시딜(메트)아크릴레이트, α-에틸글리시딜(메트)아크릴레이트, 글리시딜크로토네이트, 글리시딜이소크로토네이트, 크로토닐글리시딜에테르, 이타콘산모노알킬모노글리시딜에스테르, 푸마르산모노알킬모노글리시딜에스테르, 말레산모노알킬모노글리시딜에스테르 등의 지방족 에폭시기 함유 불포화 화합물 및 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 2,3-에폭시시클로펜틸메틸(메트)아크릴레이트, 7,8-에폭시〔트리시클로[5.2.1.0]데시-2-일〕옥시에틸(메트)아크릴레이트 등의 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물을 들 수 있다.Further, as the epoxy group-containing unsaturated compound, allyl glycidyl ether, glycidyl (meth) acrylate, α-ethyl glycidyl (meth) acrylate, glycidyl crotonate, glycidyl isocrotonate , aliphatic epoxy group-containing unsaturated compounds such as crotyl glycidyl ether, itaconic acid monoalkyl monoglycidyl ester, fumaric acid monoalkyl monoglycidyl ester, maleic acid monoalkyl monoglycidyl ester, and 3,4-epoxycyclo hexylmethyl (meth)acrylate, 2,3-epoxycyclopentylmethyl (meth)acrylate, 7,8-epoxy [tricyclo[5.2.1.0]decy-2-yl]oxyethyl (meth)acrylate, etc. and unsaturated compounds containing an alicyclic epoxy group.

<불포화 카르복실산 변성 에폭시기 및 카르복실기 함유 (공)중합체><Unsaturated carboxylic acid-modified epoxy group and carboxyl group-containing (co)polymer>

또한, 측쇄에 에틸렌성 불포화기를 갖는 카르복실기 함유 (공)중합체로서, 예를 들어 (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산과, 전술한 지방족 에폭시기 함유 불포화 화합물 또는 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물, 또는 추가로 불포화 카르복실산에스테르나 스티렌 등을, 전자의 카르복실기 함유 불포화 화합물의 전체에서 차지하는 비율을 10 내지 90몰%, 바람직하게는 30 내지 80몰% 정도가 되도록 공중합시켜서 얻어진 공중합체에, (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산을 반응시켜서, 해당 공중합체의 에폭시기에 불포화 카르복실산의 카르복실기를 부가시켜서 변성시킨 변성 에폭시기 및 카르복실기 함유 (공)중합체를 들 수 있다.Further, as a (co)polymer containing a carboxyl group having an ethylenically unsaturated group in the side chain, for example, an unsaturated carboxylic acid such as (meth)acrylic acid, an aliphatic epoxy group-containing unsaturated compound or an alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound, or further unsaturated (meth)acrylic acid, etc. modified epoxy groups and carboxyl group-containing (co)polymers modified by reacting an unsaturated carboxylic acid of and adding a carboxyl group of an unsaturated carboxylic acid to an epoxy group of the copolymer.

<산 변성 에폭시기 함유 공중합체><Acid-modified epoxy group-containing copolymer>

또한, 측쇄에 에틸렌성 불포화기를 갖는 카르복실기 함유 공중합체로서, 예를 들어 글리시딜(메트)아크릴레이트, α-에틸글리시딜(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시부틸(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트글리시딜에테르 등의 에폭시기 함유 (메트)아크릴레이트 5 내지 95몰%과, (메트)아크릴산 에스테르 등의 에틸렌성 불포화 화합물 통상 5 내지 95몰%과의 공중합체(이하, 에폭시기 함유 공중합체로 약기하는 경우가 있다)를, 해당 공중합체에 포함되는 에폭시기의 통상 10 내지 100몰%에, 에틸렌성 불포화 모노카르복실산을 부가하고, 추가로 부가했을 때 생성하는 수산기의 통상 10 내지 100몰%에, 다염기산(무수물)을 부가해서 얻어지는 산 변성 에폭시기 함유 공중합체를 들 수 있다.Further, as a carboxyl group-containing copolymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain, for example, glycidyl (meth)acrylate, α-ethylglycidyl (meth)acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth)acrylate 5 to 95 mol% of an epoxy group-containing (meth)acrylate such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate glycidyl ether, and (meth)acrylic acid ester A copolymer with usually 5 to 95 mol% of an ethylenically unsaturated compound such as (hereinafter sometimes abbreviated as an epoxy group-containing copolymer) is ethylenic to 10 to 100 mol% of the epoxy groups contained in the copolymer. An acid-modified epoxy group-containing copolymer obtained by adding a polybasic acid (anhydride) to usually 10 to 100 mol% of the hydroxyl groups formed when an unsaturated monocarboxylic acid is added and further added is exemplified.

<에폭시(메트)아크릴레이트 수지(산 변성 에폭시 수지)><Epoxy (meth)acrylate resin (acid-modified epoxy resin)>

카르복실기 및 에틸렌성 불포화기 함유 수지로서, 예를 들어 에폭시 수지의 에틸렌성 불포화기 모노카르복실산 부가체에, 추가로 다염기산(무수물)이 부가된, 카르복실기 및 에틸렌성 불포화기 함유 에폭시 수지, 즉 소위 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 들 수 있다. 즉, 에폭시 수지의 에폭시기에, 에틸렌성 불포화 모노카르복실산의 카르복시기가 개환 부가됨으로써, 에폭시 수지에 에스테르 결합(-COO-)을 개재해서 에틸렌성 불포화 결합이 부가됨과 함께, 그 때 발생한 수산기에, 다염기산(무수물)의 한쪽 카르복시기가 부가된 것을 들 수 있다.As a resin containing a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group, for example, an epoxy resin containing a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group, in which a polybasic acid (anhydride) is further added to an ethylenically unsaturated group monocarboxylic acid adduct of an epoxy resin, that is, a so-called Epoxy (meth)acrylate resins are exemplified. That is, by ring-opening addition of the carboxy group of ethylenically unsaturated monocarboxylic acid to the epoxy group of the epoxy resin, an ethylenically unsaturated bond is added to the epoxy resin via an ester bond (-COO-), and to the hydroxyl group generated at that time, and those to which one carboxy group of a polybasic acid (anhydride) has been added.

여기서, 에폭시 수지란, 열경화에 의해 수지를 형성하기 이전의 원료 화합물도 포함시켜서 말하기로 하며, 그 에폭시 수지로서는, 공지된 에폭시 수지 중에서 적절히 선택해서 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 비스페놀 A 에폭시 수지, 비스페놀 F 에폭시 수지, 비스페놀 S 에폭시 수지, 페놀노볼락에폭시 수지, 크레졸 노볼락에폭시 수지, 비페닐노볼락에폭시 수지, 트리스페놀에폭시 수지, 페놀과 디시클로펜탄과의 중합 에폭시 수지, 디하이드로옥실플루오렌형 에폭시 수지, 디하이드로옥실알킬렌옥실플루오렌형 에폭시 수지, 9,9-비스(4'-히드록시페닐)플루오렌의 디글리시딜에테르화물, 1,1-비스(4'-히드록시페닐)아다만탄의 디글리시딜에테르화물 등을 들 수 있다.Here, the epoxy resin includes raw material compounds prior to forming the resin by thermal curing, and the epoxy resin can be appropriately selected from known epoxy resins and used. Specifically, for example, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, biphenyl novolak epoxy resin, trisphenol epoxy resin, phenol and dicyclo Polymerization epoxy resin with pentane, dihydroxylfluorene type epoxy resin, dihydroxyalkyleneoxylfluorene type epoxy resin, diglycidyl ether compound of 9,9-bis(4'-hydroxyphenyl)fluorene , diglycidyl etherified product of 1,1-bis(4'-hydroxyphenyl)adamantane, and the like.

또한, 에틸렌성 불포화 모노카르복실산으로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산, 크로톤산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산 등 및 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트 무수 숙신산 부가물, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트 테트라히드로 무수 프탈산 부가물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 무수 숙신산 부가물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 무수 프탈산 부가물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 테트라히드로 무수 프탈산 부가물, (메트)아크릴산과 ε-카프로락톤과의 반응 생성물 등을 들 수 있다.In addition, examples of ethylenically unsaturated monocarboxylic acids include (meth)acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, etc., and pentaerythritol tri(meth)acrylate succinic anhydride adducts, penta Erythritol tri(meth)acrylate tetrahydrophthalic anhydride adduct, dipentaerythritol penta(meth)acrylate succinic anhydride adduct, dipentaerythritol penta(meth)acrylate phthalic anhydride adduct, dipentaerythritol penta (meth)acrylate tetrahydrophthalic anhydride adducts, reaction products of (meth)acrylic acid and ε-caprolactone, and the like are exemplified.

또한, 다염기산(무수물)으로서는, 예를 들어 숙신산, 말레산, 이타콘산, 프탈산, 테트라히드로프탈산, 3-메틸테트라히드로프탈산, 4-메틸테트라히드로프탈산, 3-에틸테트라히드로프탈산, 4-에틸테트라히드로프탈산, 헥사히드로프탈산, 3-메틸헥사히드로프탈산, 4-메틸헥사히드로프탈산, 3-에틸헥사히드로프탈산, 4-에틸헥사히드로프탈산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 비페닐테트라카르복실산 및 그들의 무수물 등을 들 수 있다.In addition, as a polybasic acid (anhydride), for example, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, 3-methyltetrahydrophthalic acid, 4-methyltetrahydrophthalic acid, 3-ethyltetrahydrophthalic acid, 4-ethyltetra Hydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, 3-methylhexahydrophthalic acid, 4-methylhexahydrophthalic acid, 3-ethylhexahydrophthalic acid, 4-ethylhexahydrophthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, Biphenyl tetracarboxylic acid and their anhydrides, etc. are mentioned.

<변성 페놀 수지><Modified phenolic resin>

카르복실기 및 에틸렌성 불포화기 함유 수지로서, 예를 들어 페놀 수지의 에틸렌성 불포화기 함유 에폭시 화합물 부가체에, 다염기산(무수물)이 부가된, 카르복실기 및 에틸렌성 불포화기 함유 페놀 수지를 들 수 있다. 즉, 페놀 수지의 페놀성 수산기에, 에틸렌성 불포화기 함유 에폭시 화합물의 에폭시기가 개환 부가됨으로써, 페놀 수지에 에스테르 결합(-COO-)을 개재해서 에틸렌성 불포화 결합이 부가됨과 함께, 그 때 발생한 수산기에, 다염기산(무수물)의 한쪽 카르복시기가 부가된 것을 들 수 있다.Examples of the resin containing a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group include a phenol resin containing a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group obtained by adding a polybasic acid (anhydride) to an adduct of an ethylenically unsaturated group-containing epoxy compound of a phenol resin. That is, while an ethylenically unsaturated bond is added to the phenolic resin through an ester bond (-COO-) by ring-opening addition of the epoxy group of the ethylenically unsaturated group-containing epoxy compound to the phenolic hydroxyl group of the phenolic resin, the hydroxyl group generated at that time , those to which one carboxyl group of a polybasic acid (anhydride) has been added.

여기서, 페놀 수지로서는, 예를 들어 페놀, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 2,5-크실레놀, 3,5-크실레놀, o-에틸페놀, m-에틸페놀, p-에틸페놀, 프로필페놀, n-부틸페놀, t-부틸페놀, 1-나프톨, 2-나프톨, 4,4'-비페닐디올, 비스페놀-A, 피로카테콜, 레조르시놀, 하이드로퀴논, 피로갈롤, 1,2,4-벤젠트리올, 벤조산, 4-히드록시페닐아세트산, 살리실산, 플로로글루시놀 등의 페놀류 중 적어도 1종을, 산 촉매 하에, 예를 들어 포름알데히드, 파라포름알데히드, 아세트알데히드, 파라알데히드, 프로피온알데히드, 벤즈알데히드, 살리실알데히드, 푸르푸랄 등의 알데히드류, 또는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 중 적어도 1종과 중축합시킨 노볼락 수지 및 그 중축합에 있어서의 산 촉매 대신에 알칼리 촉매를 사용하는 것 이외에는 마찬가지로 하여 중축합시킨 레졸 수지 등을 들 수 있다. 여기서, 상기 페놀류와 알데히드류와의 축합 반응은, 무용제 하에 또는 용제 중에서 행해진다.Here, as a phenolic resin, for example, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,5-xylenol, 3,5-xylenol, o-ethylphenol, m-ethylphenol, p -Ethylphenol, propylphenol, n-butylphenol, t-butylphenol, 1-naphthol, 2-naphthol, 4,4'-biphenyldiol, bisphenol-A, pyrocatechol, resorcinol, hydroquinone, pyrolysis At least one of phenols, such as gallol, 1,2,4-benzenetriol, benzoic acid, 4-hydroxyphenylacetic acid, salicylic acid, and phloroglucinol, is catalyzed by an acid, for example, formaldehyde, paraformaldehyde, A novolak resin polycondensed with at least one of aldehydes such as acetaldehyde, paraaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde, salicylaldehyde, and furfural, or ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, and a polycondensate thereof Resol resin etc. which were similarly polycondensed except using an alkali catalyst instead of the acid catalyst in polymerization are mentioned. Here, the condensation reaction between phenols and aldehydes is carried out in the absence of a solvent or in a solvent.

<그 외의 알칼리 가용성 수지><Other alkali-soluble resins>

그 외에, 알칼리 현상액에 대하여 열화되기 쉬운 기판의 유기 전계 발광 소자에 격벽을 마련하려고 하는 경우로서, 약알칼리성의 알칼리성 화합물을 포함하는 현상액, 혹은 알칼리성 화합물을 함유하지 않는 현상액을 사용하는 경우에 있어서는, 알칼리 가용성 수지로서, 폴리비닐알코올, 혹은 카르복실기 함유 (공)중합체 (1)에서 예로 든 공단량체(바람직한 예로서는, 아세트산비닐 등)를 0.1 내지 40몰%, 바람직하게는 1 내지 30몰% 공중합시킨 비닐알코올 공중합체, 혹은 카르복실기 함유 (공)중합체 (1)에서 예로 든 공중합체를 에스테르화 반응에 의해 0.1 내지 40몰%, 바람직하게는 1 내지 30몰% 도입한 변성 폴리비닐알코올이 바람직하게 사용된다.In addition, in the case of providing a barrier rib to the organic electroluminescent element of the substrate that is easily deteriorated with respect to the alkali developer, in the case of using a developing solution containing a weakly alkaline alkaline compound or a developing solution containing no alkaline compound, As the alkali-soluble resin, 0.1 to 40% by mol, preferably 1 to 30% by mol, of polyvinyl alcohol or the comonomer (preferably, vinyl acetate etc.) mentioned in the carboxyl group-containing (co)polymer (1) is copolymerized vinyl. An alcohol copolymer or a modified polyvinyl alcohol in which 0.1 to 40 mol%, preferably 1 to 30 mol%, of the copolymer exemplified in (1) containing a carboxyl group is introduced by an esterification reaction is preferably used. .

(D) 성분; 발액제(D) component; liquid repellent

격벽을 형성하기 위한 감광성 수지 조성물은, 발액제를 함유하고 있어도 된다. 특히, 잉크젯법으로 유기 전계 발광 소자를 작성하는 경우에는 발액제를 함유하는 것이 바람직하고, 발액제를 함유함으로써 그것이 격벽의 표면에 발액성을 부여할 수 있는 점에서, 얻어지는 격벽을 유기층의 화소마다의 혼색을 방지하는 것으로 할 수 있는 경향이 있다.The photosensitive resin composition for forming a partition may contain a liquid repellent. In particular, when an organic electroluminescent element is produced by an inkjet method, it is preferable to contain a liquid repellent, and by containing a liquid repellent, it can impart liquid repellency to the surface of the partition, so that the obtained partition is provided for each pixel of the organic layer. There is a tendency that can be done by preventing color mixing.

발액제로서는, 실리콘 함유 화합물이나 불소계 화합물을 들 수 있고, 바람직하게는 가교기를 함유하는 발액제(이하, 「가교기 함유 발액제」라고 칭하는 경우가 있다)를 들 수 있다. 가교기로서는, 에폭시기 또는 에틸렌성 불포화기를 들 수 있고, 현상액의 발액 성분의 유출 억제의 관점에서, 바람직하게는 에틸렌성 불포화기이다.Examples of the liquid repellent include silicone-containing compounds and fluorine-based compounds, preferably liquid repellents containing a crosslinking group (hereinafter, sometimes referred to as "liquid repellents containing a crosslinking group"). As a bridge|crosslinking group, an epoxy group or an ethylenically unsaturated group is mentioned, From a viewpoint of suppressing the outflow of the liquid-repellent component of a developing solution, Preferably it is an ethylenically unsaturated group.

가교기 함유 발액제를 사용하는 경우에는, 형성한 도포막을 노광할 때 그의 표면에서의 가교 반응을 가속할 수 있고, 발액제가 현상 처리로 유출되기 어려워져서, 그 결과, 얻어지는 격벽을 높은 발액성을 나타내는 것으로 할 수 있다고 생각된다.In the case of using a liquid repellent containing a crosslinking group, when the formed coating film is exposed to light, the crosslinking reaction on the surface thereof can be accelerated, and the liquid repellent agent is difficult to flow out in the development process, and as a result, the obtained barrier rib has high liquid repellency. It is thought that it can be expressed as

그 외, 중합 금지제, 자외선 흡수제, 계면 활성제, 열 중합 개시제, 착색제, 실란 커플링제를 적절히 사용해도 된다.In addition, you may use a polymerization inhibitor, a ultraviolet absorber, surfactant, a thermal polymerization initiator, a coloring agent, and a silane coupling agent suitably.

(E) 성분; 용제(E) component; solvent

격벽을 형성하기 위한 감광성 수지 조성물은, 통상 용제를 함유하고, 전술한 각 성분을 용제에 용해 또는 분산시킨 상태에서 사용된다(이하, 용제를 포함하는 감광성 수지 조성물을 「감광성 수지 조성물 용액」이라고 기재하는 경우가 있다). 그 용제로서는, 특별히 제한은 없지만, 예를 들어 이하에 기재하는 유기 용제를 들 수 있다.The photosensitive resin composition for forming the barrier rib usually contains a solvent, and is used in a state in which each of the above-mentioned components is dissolved or dispersed in the solvent (hereinafter, the photosensitive resin composition containing the solvent is described as "photosensitive resin composition solution"). may do). The solvent is not particularly limited, but examples thereof include organic solvents described below.

에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜-t-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 메톡시메틸펜탄올, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 3-메톡시-1-부탄올, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르와 같은 글리콜모노알킬에테르류; 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르와 같은 글리콜디알킬에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시-1-부틸아세테이트와 같은 글리콜알킬에테르아세테이트류; 에틸렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트 등의 글리콜디아세테이트류; 시클로헥산올아세테이트 등의 알킬아세테이트류; 아밀에테르, 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 디아밀에테르, 에틸이소부틸에테르, 디헥실에테르와 같은 에테르류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소아밀케톤, 디이소프로필케톤, 디이소부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 에틸아밀케톤, 메틸부틸케톤, 메틸헥실케톤, 메틸노닐케톤, 메톡시메틸펜타논과 같은 케톤류; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 메톡시메틸펜탄올, 글리세린, 벤질알코올과 같은 1가 또는 다가 알코올류; n-펜탄, n-옥탄, 디이소부틸렌, n-헥산, 헥센, 이소프렌, 디펜텐, 도데칸과 같은 지방족 탄화수소류; 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 메틸시클로헥센, 비시클로헥실과 같은 지환식 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 쿠멘과 같은 방향족 탄화수소류; 아밀포르메이트, 에틸포르메이트, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산프로필, 아세트산아밀, 메틸이소부티레이트, 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸프로피오네이트, 프로필프로피오네이트, 부티르산부틸, 부티르산이소부틸, 이소부티르산메틸, 에틸카프릴레이트, 부틸스테아레이트, 에틸벤조에이트, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, γ-부티로락톤과 같은 쇄상 또는 환상 에스테르류; 3-메톡시프로피온산, 3-에톡시프로피온산과 같은 알콕시카르복실산류; 부틸클로라이드, 아밀클로라이드와 같은 할로겐화 탄화수소류; 메톡시메틸펜타논과 같은 에테르케톤류; 아세토니트릴, 벤조니트릴과 같은 니트릴류: 테트라히드로푸란, 디메틸테트라히드로푸란, 디메톡시테트라히드로푸란과 같은 테트라히드로푸란류 등이다.Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol-t- Butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, methoxymethyl pentanol, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, 3-methyl -glycol monoalkyl ethers such as 3-methoxybutanol, 3-methoxy-1-butanol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, and tripropylene glycol methyl ether; Glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, and dipropylene glycol dimethyl ether ; Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether Acetate, methoxybutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, dipropylene glycol mono glycol alkyl ether acetates such as methyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate and 3-methoxy-1-butyl acetate; glycol diacetates such as ethylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate, and 1,6-hexanol diacetate; alkyl acetates such as cyclohexanol acetate; ethers such as amyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, diamyl ether, ethyl isobutyl ether and dihexyl ether; Acetone, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isoamyl ketone, diisopropyl ketone, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl amyl ketone, methyl butyl ketone, methyl hexyl ketones such as ketones, methyl nonyl ketone, and methoxymethyl pentanone; Monovalent or polyhydric alcohols; aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-octane, diisobutylene, n-hexane, hexene, isoprene, dipentene, and dodecane; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexene, and bicyclohexyl; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and cumene; Amyl formate, ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, propyl acetate, amyl acetate, methyl isobutyrate, ethylene glycol acetate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl butyrate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, ethyl Caprylate, butyl stearate, ethyl benzoate, 3-ethoxymethylpropionate, 3-ethoxyethylpropionate, 3-methoxymethylpropionate, 3-methoxyethylpropionate, 3-methoxypropylpropionate, 3-methoxymethylpropionate chain or cyclic esters such as butyl toxypropionate and γ-butyrolactone; alkoxycarboxylic acids such as 3-methoxypropionic acid and 3-ethoxypropionic acid; halogenated hydrocarbons such as butyl chloride and amyl chloride; ether ketones such as methoxymethylpentanone; nitriles such as acetonitrile and benzonitrile; tetrahydrofurans such as tetrahydrofuran, dimethyltetrahydrofuran, and dimethoxytetrahydrofuran;

잉크젯법으로는, 용제에 의한 희석 등에 의해 점도 조정된 감광성 수지 조성물을 잉크로서 사용하여, 소정의 격벽의 패턴을 따라 잉크젯법에 의해 잉크 액적을 기판 상에 토출함으로써 감광성 수지 조성물을 기판 상에 도포해서 미경화된 격벽의 패턴을 형성한다. 그리고, 미경화된 격벽의 패턴을 노광하여, 기판 상에 경화된 격벽을 형성한다. 미경화된 격벽의 패턴의 노광은, 마스크를 사용하지 않는 것 외에는, 후술하는 포토리소그래피법에 있어서의 노광 공정과 마찬가지로 행해진다.In the inkjet method, the photosensitive resin composition whose viscosity is adjusted by dilution with a solvent or the like is used as ink, and ink droplets are ejected onto the substrate by the inkjet method along a predetermined barrier rib pattern to apply the photosensitive resin composition to the substrate. to form a pattern of uncured barrier ribs. Then, the pattern of the non-cured barrier rib is exposed to form a hardened barrier rib on the substrate. The exposure of the uncured barrier rib pattern is performed in the same manner as the exposure step in the photolithography method described later, except that a mask is not used.

포토리소그래피법에서는, 감광성 수지 조성물을, 기판의 격벽이 형성되는 영역 전체면에 도포해서 감광성 수지 조성물층을 형성한다. 형성된 감광성 수지 조성물층을, 소정의 격벽의 패턴에 따라서 노광한 후, 노광된 감광성 수지 조성물층을 현상하여, 기판 상에 격벽이 형성된다.In the photolithography method, the photosensitive resin composition layer is formed by applying the photosensitive resin composition to the entire surface of the region where the barrier rib is formed. After the formed photosensitive resin composition layer is exposed according to a predetermined barrier rib pattern, the exposed photosensitive resin composition layer is developed to form barrier ribs on the substrate.

포토리소그래피법에 있어서의, 감광성 수지 조성물을 기판 상에 도포하는 도포 공정에서는, 격벽이 형성되어야 할 기판 상에, 롤 코터, 리버스 코터, 바 코터 등의 접촉 전사형 도포 장치나 스피너(회전식 도포 장치), 커튼 플로우 코터 등의 비접촉형 도포 장치를 사용해서 감광성 수지 조성물을 도포하고, 필요에 따라서, 진공 건조 등의 건조에 의해 용매를 제거하여, 감광성 수지 조성물층을 형성한다.In the coating step of applying the photosensitive resin composition onto the substrate in the photolithography method, a contact transfer type coating device such as a roll coater, reverse coater, bar coater or spinner (rotary coating device) is applied to the substrate on which a barrier rib is to be formed. , A photosensitive resin composition layer is formed by applying the photosensitive resin composition using a non-contact coating device such as a curtain flow coater and, if necessary, removing the solvent by drying such as vacuum drying.

이어서, 노광 공정에서는, 네가티브형 마스크를 이용하여, 감광성 수지 조성물층에 자외선, 엑시머 레이저 광 등의 활성 에너지선을 조사하고, 감광성 수지 조성물층을 뱅크의 패턴에 따라서 부분적으로 노광한다. 노광에는, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 카본 아크등 등의 자외선을 발하는 광원을 사용할 수 있다. 노광량은 감광성 수지 조성물의 조성에 따라서도 상이하지만, 예를 들어 10 내지 400mJ/㎠ 정도가 바람직하다.Next, in the exposure process, the photosensitive resin composition layer is irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays and excimer laser light using a negative mask, and the photosensitive resin composition layer is partially exposed according to the bank pattern. For exposure, a light source that emits ultraviolet rays such as a high-pressure mercury-vapor lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, or a carbon arc lamp can be used. The exposure amount varies depending on the composition of the photosensitive resin composition, but is preferably about 10 to 400 mJ/cm 2 , for example.

이어서, 현상 공정에서는, 격벽의 패턴에 따라서 노광된 감광성 수지 조성물층을 현상액으로 현상함으로써 격벽을 형성한다. 현상 방법은 특별히 한정되지 않고, 침지법, 스프레이법 등을 사용할 수 있다. 현상액의 구체예로서는, 디메틸벤질아민, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 유기계의 것이나, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 암모니아, 4급 암모늄염 등의 수용액을 들 수 있다. 또한, 현상액에는 소포제나 계면 활성제를 첨가할 수도 있다.Subsequently, in the developing process, the barrier rib is formed by developing the photosensitive resin composition layer exposed to light according to the pattern of the barrier rib with a developing solution. The developing method is not particularly limited, and an immersion method, a spray method, or the like can be used. Specific examples of the developing solution include organic solutions such as dimethylbenzylamine, monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, and aqueous solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, and quaternary ammonium salts. Further, an antifoaming agent or a surfactant may be added to the developing solution.

그 후, 현상 후의 격벽에 포스트베이크를 실시해서 가열 경화한다. 포스트베이크는 150 내지 250℃에서 15 내지 60분간이 바람직하다.After that, post-baking is applied to the barrier rib after development to heat-harden it. Post-baking is preferably performed at 150 to 250° C. for 15 to 60 minutes.

실시예Example

이하, 실시예를 나타내서 본 발명에 대해서 더욱 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명은 그의 요지를 일탈하지 않는 한 임의로 변경해서 실시할 수 있다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically by showing examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and the present invention can be implemented with arbitrary changes without departing from the gist thereof.

(실시예 1)(Example 1)

<유기 전계 발광 소자용 조성물의 조제><Preparation of composition for organic electroluminescent device>

벤조산부틸과 디페닐에테르, 아세트산2-페녹시에틸을 중량비로 50:49:1이 되도록 혼합한 유기 용매 1에, 제1 표면 개질제, 제3 표면 개질제, 제5 표면 개질제, 또는 제7 표면 개질제(이하, 실시예에 있어서, 이들을 총칭해서 「표면 개질제 A」라고 한다)로서 KF-96 10cs(신에쓰 가가꾸사제)를 100중량ppm(즉, 유기 용매 1의 중량을 100중량부로 하여, 0.01중량부의 KF-96 10cs를 사용했다), 제2 표면 개질제, 제4 표면 개질제, 제6 표면 개질제, 또는 제8 표면 개질제(이하, 실시예에 있어서, 이들을 총칭해서 「표면 개질제 B」라고 한다)로서 SP-O30V(카오사제)를 500중량ppm(즉, 유기 용매 1의 중량을 100중량부로 하여, 0.05중량부의 SP-O30V를 사용했다)을 혼합한 용액을 조제했다.A first surface modifier, a third surface modifier, a fifth surface modifier, or a seventh surface modifier in organic solvent 1 in which butyl benzoate, diphenyl ether, and 2-phenoxyethyl acetate are mixed in a weight ratio of 50:49:1 (Hereinafter, in the examples, these are collectively referred to as "surface modifier A") KF-96 10cs (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) at 100 ppm by weight (i.e., the weight of organic solvent 1 is 100 parts by weight, 0.01 10 cs of KF-96 by weight was used), the second surface modifier, the fourth surface modifier, the sixth surface modifier, or the eighth surface modifier (hereinafter, in the examples, they are collectively referred to as "surface modifier B") As a solution, a mixture of 500 ppm by weight of SP-O30V (manufactured by Kao Corporation) (ie, 0.05 part by weight of SP-O30V was used with the weight of organic solvent 1 as 100 parts by weight) was prepared.

이어서, 전하 주입 수송 재료인 방향족 아민 유도체를 단위 골격으로 하는 중량 평균 분자량 4만의 폴리머 (P-1) 및 (P-2)와, 전자 수용성 화합물 (A-1)을 중량비로 75:25:20이 되도록 혼합하여, 먼저 조제한 용액에, 유기 용매 1의 중량을 100중량부로 하여, 이들 혼합물이 1.0중량부가 되도록 용해시켜서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 조제했다.Subsequently, polymers (P-1) and (P-2) having a weight average molecular weight of 40,000 having an aromatic amine derivative as a unit skeleton, which is a charge injection transport material, and an electron-accepting compound (A-1) at a weight ratio of 75:25:20 Composition 1 for forming an organic electroluminescent element was prepared by mixing 100 parts by weight of the organic solvent 1 and dissolving the mixture to 1.0 parts by weight in the previously prepared solution.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1에 있어서, 전술한 방법으로 표면 장력의 측정을 행한바, 유기 용매 1 단독의 표면 장력, 즉 Sa는 36.0(mN/m), 유기 용매 1에 상기 표면 개질제 A만을 100중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S1x, S1y는 29.0(mN/m), 유기 용매 1에 상기 표면 개질제 B만을 100중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S2y는 36.4(mN/m), 유기 용매 1에 상기 표면 개질제 B만을 1000중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력은 35.6(mN/m)이었다. 이들 값으로부터, 유기 용매 1에 상기 표면 개질제 B만을 500중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S2x는 35.6 내지 36.4(mN/m)의 범위가 된다고 추정된다. 이들 값으로부터, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1은, 상기 식 (1) 내지 (4)를 충족하는 것을 알 수 있다.In the composition 1 for forming an organic electroluminescent element, the surface tension was measured by the method described above, and the surface tension of the organic solvent 1 alone, that is, Sa was 36.0 (mN/m), and only the surface modifier A in the organic solvent 1 was found. The surface tension when 100 ppm by weight was dissolved, that is, S1x and S1y, was 29.0 (mN/m), and the surface tension when only 100 ppm by weight of the surface modifier B was dissolved in organic solvent 1, that is, S2y, was 36.4 (mN/m). , The surface tension when only 1000 ppm by weight of the surface modifier B was dissolved in organic solvent 1 was 35.6 (mN/m). From these values, it is estimated that the surface tension, ie, S2x, when only 500 ppm by weight of the surface modifier B is dissolved in organic solvent 1 is in the range of 35.6 to 36.4 (mN/m). From these values, it can be seen that the composition 1 for forming an organic electroluminescent element satisfies the above formulas (1) to (4).

또한, 순수의 표면 장력, 즉 Sa'는 72.7(mN/m), 순수에 상기 제1 표면 개질제만을 1000중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S1z는 61.0(mN/m), 순수에 상기 제2 표면 개질제만을 1000중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S2z는 32.5(mN/m)이며, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1은, 상기 식 (5)를 충족하는 것을 알 수 있다.In addition, the surface tension of pure water, that is, Sa', is 72.7 (mN/m), and the surface tension when only 1000 ppm by weight of the first surface modifier is dissolved in pure water, that is, S1z, is 61.0 (mN/m), and the first surface modifier in pure water is 61.0 (mN/m). 2 The surface tension when only 1000 ppm by weight of the surface modifier was dissolved, that is, S2z, was 32.5 (mN/m), and it was found that the composition 1 for forming an organic electroluminescent device satisfies the above formula (5).

<격벽 내로의 유기막의 형성><Formation of Organic Film into Partition Wall>

도 2에, 본 형태의 격벽 내로의 유기막의 형성의 모습을 모식도로서 나타낸다.In FIG. 2, the mode of formation of the organic film in the partition wall of this form is shown as a schematic diagram.

ITO 기판(20) 상에 발액성을 갖는 아크릴계의 수지 1을 사용하여, 귀퉁이가 라운딩된 직사각형(장축 길이(도 2 중, b로 나타나고 있다); 0.3㎜, 단축 길이(도 2 중, a로 나타나고 있다); 0.1㎜)형의 개구부(「격벽으로 구획된 영역」에 상당한다)를 갖도록, 전술한 포토리소그래피에 의한 형성 방법에 의해 두께 1.7㎛의 격벽을 형성했다. 각 개구부의 피치는 단축 방향으로 0.2㎜ 피치(도 2 중, c로 나타나고 있다), 장축 방향으로 0.5㎜ 피치(도 2 중, d로 나타나고 있다)로 하였다. 이어서, 상기 격벽을 형성한 ITO 기판의 원하는 개구부에, 잉크젯 프린터(후지 필름사제 DMP-2831)를 사용하여, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 건조 막 두께가 약 30㎚가 되도록 도포했다. 그 후, 진공 건조에 의해 유기 용매를 제거해서 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 건조하고, 230℃에서 30분간 소성하고, 유기막을 제작하여, 유기막을 형성한 개구부(12)를 형성했다.Using acrylic resin 1 having liquid repellency on an ITO substrate 20, a rectangle with rounded corners (major axis length (indicated by b in FIG. 2); 0.3 mm, minor axis length (in FIG. 2 by a) A barrier rib having a thickness of 1.7 μm was formed by the above-described photolithography forming method so as to have a 0.1 mm)-shaped opening (corresponding to “a region partitioned by barrier ribs”). The pitch of each opening was 0.2 mm pitch in the minor axis direction (indicated by c in FIG. 2) and 0.5 mm pitch in the major axis direction (indicated by d in FIG. 2). Subsequently, composition 1 for forming an organic electroluminescent element was applied to desired openings of the ITO substrate on which the barrier ribs were formed using an inkjet printer (DMP-2831 manufactured by Fujifilm Corporation) to a dry film thickness of about 30 nm. Thereafter, the organic solvent was removed by vacuum drying, and the composition 1 for forming an organic electroluminescent element was dried, fired at 230° C. for 30 minutes, an organic film was formed, and openings 12 formed with the organic film were formed.

실시예 1에서는, 도 2에 도시한 바와 같이, 개구부의 단축 방향에 있어서 5열 간격으로 유기막을 형성하지 않는 개구부(13)를 마련했다.In Example 1, as shown in FIG. 2, openings 13 with no organic film formed thereon were provided at intervals of 5 rows in the direction of the minor axis of the openings.

<<격벽 내의 유기막의 평탄도 측정>><<Measurement of the flatness of the organic film in the barrier rib>>

유기막의 막 두께는, 유기막이 형성된 ITO 기판을 촉침식의 표면 조도계(텐코르사제 P15)를 사용하여 측정했다. 표면 조도계의 촉침 주사는, 도 2의 A-B간에 대해서, 격벽, 유기막을 형성한 개구부, 유기막을 형성하지 않는 개구부가 각각 연속해서 주사되도록 하여 행하였다. 즉, 주사 방향은 단축 방향으로 하고, 개구부의 장축 방향에 있어서의 중앙부를 횡단하도록 하고, 또한 유기막을 형성한 개구부를, 유기막을 형성하지 않는 개구부 사이에 끼우도록 측정을 실시했다. 이어서, 측정에 의해 얻어진 A-B간의 프로파일 데이터를, 양 단의 유기막을 형성하지 않은 영역의 데이터를 기준으로 레벨링을 행하여, 프로파일 데이터의 기울기를 수정하고, 유기막을 형성하지 않은 영역에 대한 유기막을 형성한 영역의 높이를 유기막의 막 두께라 간주했다.The film thickness of the organic film was measured for the ITO substrate on which the organic film was formed using a stylus-type surface roughness meter (P15 manufactured by Tencor Co., Ltd.). The stylus scan of the surface roughness meter was performed in such a way that the openings in which the barrier rib, the organic film were formed, and the openings in which the organic film was not formed were sequentially scanned between A and B in FIG. 2 . That is, the scanning direction was the short axis direction, and the measurement was performed so as to cross the center of the opening in the long axis direction, and sandwich the opening formed with the organic film between the openings without forming the organic film. Next, the profile data between A and B obtained by measurement is leveled based on the data of the region where the organic film is not formed at both ends, the slope of the profile data is corrected, and the organic film is formed for the region where the organic film is not formed. The height of the region was regarded as the film thickness of the organic film.

이어서, 주사한 개구부 내, 중앙의 2개의 유기막을 형성한 개구부의 프로파일 데이터를 평균한 후, 유기막의 개구부 중앙 4㎛의 영역의 평균 막 두께 Da를 산출하고, Da와의 차가 5㎚를 초과하는 영역의 개구부의 폭 X㎛를 산출했다. 그리고, 개구부의 폭 Y㎛에 있어서의, Da와의 차가 5㎚ 이하인 영역의 비율, 즉 (Y-X)/Y(%)의 값을 평탄도로 했다. 개구부의 폭 Y에 대해서는, 유기막을 형성하지 않는 개구부의 프로파일 데이터로부터 산출했다. 평탄도의 값이 클수록, 개구부에 있어서의 유기막의 막 두께의 균일성이 양호한 것을 의미한다.Next, within the scanned openings, after averaging the profile data of the openings formed with the two organic films in the center, the average film thickness Da of the area of 4 μm in the center of the openings of the organic film is calculated, and the area where the difference from Da exceeds 5 nm The width X μm of the opening was calculated. Then, the ratio of the region where the difference from Da in the width Y μm of the opening was 5 nm or less, that is, the value of (Y−X)/Y (%), was taken as flatness. The width Y of the opening was calculated from the profile data of the opening where no organic film was formed. It means that the uniformity of the film thickness of the organic film in an opening part is so good that the value of flatness is large.

실시예 1의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막의 평탄도는 82%였다.The flatness of the organic film comprising the composition 1 for forming an organic electroluminescent device of Example 1 was 82%.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 1의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1의 조제에 있어서, 표면 개질제 B로서, SP-O30V(카오사제) 대신에 에멀겐 A500(카오사제)을 사용해서 조제한 것 이외에는(실시예 2에서 사용한 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을, 「유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 2」로 한다), 실시예 1과 마찬가지로 유기막을 제작하고, 평탄도의 측정을 행하였다.In the preparation of composition 1 for forming an organic electroluminescent element of Example 1, as the surface modifier B, instead of SP-O30V (manufactured by Kao Corp.), Emulgen A500 (manufactured by Kao Corp.) was used, except for preparing (the same as in Example 2). The organic electroluminescent element-forming composition was referred to as “organic electroluminescent element-forming composition 2”), an organic film was prepared in the same manner as in Example 1, and flatness was measured.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 2에 있어서, 전술한 방법으로 표면 장력의 측정을 행한바, 유기 용매 1에 상기 표면 개질제 B만을 100중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S2y는 36.2(mN/m), 유기 용매 1에 상기 표면 개질제 B만을 1000중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력은 36.0(mN/m)이었다. 이들 값으로부터, 유기 용매 1에 상기 표면 개질제 B만을 500중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S2x는 36.0 내지 36.2(mN/m)의 범위가 된다고 추정된다. 이들 값으로부터, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 2는, 상기 식 (1) 내지 (4)를 충족하는 것을 알 수 있다.In the composition 2 for forming an organic electroluminescent element, the surface tension was measured by the method described above. ), the surface tension when only 1000 ppm by weight of the surface modifier B was dissolved in organic solvent 1 was 36.0 (mN/m). From these values, it is estimated that the surface tension, that is, S2x, when only 500 ppm by weight of the surface modifier B is dissolved in organic solvent 1 is in the range of 36.0 to 36.2 (mN/m). From these values, it is understood that the composition 2 for forming an organic electroluminescent element satisfies the above formulas (1) to (4).

또한, 순수에 상기 표면 개질제 B만을 1000중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S2z는 45.6(mN/m)이고, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 2는, 상기 식 (5)를 충족하는 것을 알 수 있다.In addition, it was found that the surface tension, that is, S2z, when only 1000 ppm by weight of the surface modifier B was dissolved in pure water was 45.6 (mN/m), and the composition 2 for forming an organic electroluminescent device satisfies the above formula (5). can

실시예 2의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 2를 포함하는 유기막의 평탄도는 82%였다.The flatness of the organic film comprising the composition 2 for forming an organic electroluminescent device of Example 2 was 82%.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

실시예 1의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1의 조제에 있어서, SP-O30V를 사용하지 않고, 표면 개질제 KF-96 10cs만을 100중량ppm 혼합시킨 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 유기막을 형성하여 평탄도를 측정했다.In the preparation of composition 1 for forming an organic electroluminescent device of Example 1, an organic film was formed in the same manner as in Example 1, except that only 10 cs of KF-96 by weight was mixed with 10 cs of surface modifier without using SP-O30V. degree was measured.

비교예 1의 유기막의 평탄도는 64%였다.The flatness of the organic film of Comparative Example 1 was 64%.

실시예 1, 2 및 비교예 1의 결과를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the results of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1.

Figure 112019052457153-pct00001
Figure 112019052457153-pct00001

(실시예 3)(Example 3)

<유기 전계 발광 소자용 조성물의 제작><Preparation of composition for organic electroluminescent device>

벤조산이소아밀에, 표면 개질제 A로서 KF-96 10cs(신에쓰 가가꾸사제)를 100중량ppm, 표면 개질제 B로서 SP-O30V(카오사제)를 500중량ppm을 혼합한 용액을 조제했다. 이어서, 전하 주입 수송 재료인 방향족 아민 유도체를 단위 골격으로 하는 중량 평균 분자량 4만인 폴리머 (P-3)을, 먼저 조제한 용액에 고형분 농도 1.0중량%가 되도록 용해시켜서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3을 조제했다.A solution was prepared by mixing isoamyl benzoate with 100 ppm by weight of KF-96 10cs (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as the surface modifier A and 500 ppm by weight of SP-O30V (manufactured by Kao Corporation) as the surface modifier B. Next, a polymer (P-3) having a weight average molecular weight of 40,000 and having an aromatic amine derivative as a unit skeleton, which is a charge injection and transport material, is dissolved in a previously prepared solution to have a solid content concentration of 1.0% by weight. Composition 3 for Forming an Organic Electroluminescent Device prepared

본 실시예 3에 있어서, 전술한 방법으로 표면 장력의 측정을 행한바, 벤조산이소아밀 단독의 표면 장력, 즉 Sa는 31.5(mN/m), 벤조산이소아밀에 상기 표면 개질제 A만을 100중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S1x, S1y는 29.4(mN/m), 벤조산이소아밀에 상기 표면 개질제 B만을 100중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S2y는 32.0(mN/m), 벤조산이소아밀에 상기 표면 개질제 B만을 1000중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력은 32.0(mN/m)이었다. 이들 값으로부터, 벤조산이소아밀에 상기 표면 개질제 B만을 500중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S2x도 32.0(mN/m)이 된다고 추정된다. 이들 값으로부터, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3은, 상기 식 (1) 내지 (4)를 충족하는 것을 알 수 있다.In this Example 3, the surface tension was measured by the above-described method, and the surface tension of isoamyl benzoate alone, that is, Sa was 31.5 (mN/m), and 100 weight of only the surface modifier A was added to isoamyl benzoate. The surface tension when dissolved in ppm, that is, S1x and S1y, was 29.4 (mN/m), and the surface tension when only 100 ppm by weight of the surface modifier B was dissolved in isoamyl benzoate, that is, S2y, was 32.0 (mN/m), The surface tension when only 1000 ppm by weight of the surface modifier B was dissolved in isoamyl benzoate was 32.0 (mN/m). From these values, it is estimated that the surface tension, that is, S2x, when only 500 ppm by weight of the surface modifier B is dissolved in isoamyl benzoate is also 32.0 (mN/m). From these values, it is understood that the composition 3 for forming an organic electroluminescent element satisfies the above formulas (1) to (4).

또한, 순수에 상기 표면 개질제 B만을 1000중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S2z는 32.5(mN/m)이며, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3은, 상기 식 (5)를 충족하는 것을 알 수 있다.In addition, it was found that the surface tension, that is, S2z, when only 1000 ppm by weight of the surface modifier B was dissolved in pure water was 32.5 (mN/m), and the composition 3 for forming an organic electroluminescent device satisfies the above formula (5). can

<격벽 내로의 유기막의 2층막의 형성><Formation of two-layer film of organic film into barrier rib>

실시예 1에 있어서, 개구부의 단축 방향에 있어서 7열 간격으로 유기막을 형성하지 않는 개구부를 마련한 것 이외에는 마찬가지로 하여, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막을 갖는 유기막 패턴 1을 형성했다.An organic film pattern 1 having an organic film containing composition 1 for forming an organic electroluminescent element was formed in the same manner as in Example 1, except that the openings where no organic film was formed were provided at intervals of 7 rows in the minor axis direction of the openings. .

이어서, 상기 유기막 패턴 1에 대하여, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막을 형성하지 않는 개구부의 열에 더하여, 그의 양측의 1열씩에도 유기막을 형성하지 않는 패턴이 되도록, 원하는 개구부에 대하여, 잉크젯 프린터(후지필름사제 DMP-2831)를 사용하여, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3을 건조 막 두께가 약 20㎚가 되도록 도포했다. 그 후, 진공 건조에 의해 유기 용매를 제거해서 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3을 건조하고, 230℃에서 30분간 소성하고, 유기막을 제작하여, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막 및 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3을 포함하는 유기막을 갖는 유기막 패턴 2를 형성했다.Next, with respect to the organic film pattern 1, in addition to the rows of openings in which the organic film containing the composition 1 for forming an organic electroluminescent element is not formed, a pattern in which an organic film is not formed even in one row on both sides of the pattern is applied to desired openings. Then, using an inkjet printer (DMP-2831 manufactured by Fujifilm Corporation), the composition 3 for forming an organic electroluminescent element was applied to a dry film thickness of about 20 nm. Thereafter, the organic solvent is removed by vacuum drying, the composition 3 for forming an organic electroluminescent element is dried, and the organic film is formed by baking at 230° C. for 30 minutes, and the organic film containing the composition 1 for forming an organic electroluminescent element is formed. And an organic layer pattern 2 having an organic layer including the composition 3 for forming an organic electroluminescent device was formed.

<<격벽 내의 유기막의 평탄도 측정>><<Measurement of the flatness of the organic film in the barrier rib>>

유기막의 막 두께는, 실시예 1과 마찬가지로, 유기막이 형성된 ITO 기판을 촉침식 표면 조도계(텐코르사제 P15)를 사용하여 측정했다. 여기에서는, 적층된 유기막의 상층측의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3을 포함하는 유기막의 평탄도를 평가하기 위해서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막의 막 두께에 대해서는, 유기막을 형성하지 않는 개구부를 기준으로, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막만이 형성되어 있는 영역의 평균 막 두께 프로파일 1을 산출했다. 이어서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막만이 형성되어 있는 영역을 기준으로, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막 및 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3을 포함하는 유기막이 형성되어 있는 영역의 평균 막 두께 프로파일 2를 산출하고, 전술한 평균 막 두께 프로파일 1을 차감함으로써, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3을 포함하는 유기막만의 평균 막 두께 프로파일을 산출했다. 이 프로파일 데이터로부터, 평탄도를 산출함으로써, 적층막에 있어서의 상층의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3을 포함하는 유기막 단독의 평탄도를 평가할 수 있게 된다.As in Example 1, the film thickness of the organic film was measured for the ITO substrate on which the organic film was formed using a stylus-type surface roughness meter (P15 manufactured by Tencor Co., Ltd.). Here, in order to evaluate the flatness of the organic film containing the organic electroluminescent element-forming composition 3 on the upper layer side of the stacked organic films, for the film thickness of the organic film containing the organic electroluminescent element-forming composition 1, the organic film An average film thickness profile 1 of a region where only the organic film containing the composition 1 for forming an organic electroluminescent element was formed was calculated based on the openings not formed. Next, based on the region where only the organic film containing the composition 1 for forming an organic electroluminescent element is formed, an organic film containing the composition 1 for forming an organic electroluminescent element and a composition 3 for forming an organic electroluminescent element are formed. The average film thickness profile 2 of the region where the organic film was formed was calculated and the average film thickness profile of only the organic film containing the composition 3 for forming an organic electroluminescent element was calculated by subtracting the average film thickness profile 1 described above. By calculating the flatness from this profile data, it becomes possible to evaluate the flatness of the organic film alone containing the organic electroluminescent element-forming composition 3 as an upper layer in the laminated film.

실시예 3의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3을 포함하는 유기막의 평탄도는 89%였다.The flatness of the organic film comprising the composition 3 for forming an organic electroluminescent device of Example 3 was 89%.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

실시예 3의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3의 조제에 있어서, SP-O30V를 사용하지 않고, 표면 개질제 KF-96 10cs만을 10중량ppm 혼합시킨 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 유기막을 형성하여, 적층막에 있어서의 상층의 유기막의 평탄도를 측정했다.In preparing the composition 3 for forming an organic electroluminescent device of Example 3, an organic film was formed in the same manner as in Example 3, except that SP-O30V was not used and only 10 cs of KF-96 by weight was mixed, The flatness of the upper organic film in the laminated film was measured.

비교예 2의 적층막에 있어서의 상층의 유기막의 평탄도는 67%였다.The flatness of the upper organic film in the multilayer film of Comparative Example 2 was 67%.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

비교예 2에 있어서, 표면 개질제 KF-96 10cs의 함유량을 100중량ppm으로 변경한 것 이외에는, 비교예 2와 마찬가지로 유기막을 형성하여, 적층막에 있어서의 상층의 유기막의 평탄도를 측정했다.In Comparative Example 2, an organic film was formed in the same manner as in Comparative Example 2, except that the content of the surface modifier KF-96 10cs was changed to 100 ppm by weight, and the flatness of the upper organic film in the laminated film was measured.

비교예 3의 적층막에 있어서의 상층의 유기막의 평탄도는 76%였다.The flatness of the upper organic film in the multilayer film of Comparative Example 3 was 76%.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

실시예 3의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3의 조제에 있어서, 표면 개질제 KF-96 10cs를 10중량ppm, SP-O30V(카오사제)를 500중량ppm을 혼합한 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 유기막을 형성하여, 적층막에 있어서의 상층의 유기막의 평탄도를 측정했다.In preparing the composition 3 for forming an organic electroluminescent element of Example 3, the surface modifier KF-96 10cs was mixed with 10 ppm by weight and SP-O30V (manufactured by Kao Corp.) was mixed with 500 ppm by weight, in the same manner as in Example 3. An organic film was formed, and the flatness of the upper organic film in the laminated film was measured.

비교예 4의 적층막에 있어서의 상층의 유기막의 평탄도는 65%였다.The flatness of the upper organic film in the laminated film of Comparative Example 4 was 65%.

실시예 3, 비교예 2, 비교예 3 및 비교예 4의 결과를 표 2에 나타낸다.Table 2 shows the results of Example 3, Comparative Example 2, Comparative Example 3 and Comparative Example 4.

Figure 112019052457153-pct00002
Figure 112019052457153-pct00002

(실시예 4)(Example 4)

<유기 전계 발광 소자용 조성물의 제작><Preparation of composition for organic electroluminescent device>

벤조산이소아밀 대신에 유기 용매 1을 사용한 것 이외에는, 실시예 3에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 3과 마찬가지로 하여 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 4를 조제했다.A composition 4 for forming an organic electroluminescent element was prepared in the same manner as in the composition 3 for forming an organic electroluminescent element described in Example 3, except that organic solvent 1 was used instead of isoamyl benzoate.

이어서, 유기 용매 1에, 표면 개질제 A로서 KF-96 10cs(신에쓰 가가꾸사제)를 100중량ppm, 표면 개질제 B로서 SP-O30V(카오사제)를 500중량ppm 혼합한 용액을 조제했다. 이어서, 하기에 나타내는 전하 주입 수송 재료인 화합물 (H-1)과 (H-2)와 발광 재료인 (D-1)을 중량비로 30:70:20이 되도록 혼합하고, 먼저 조제한 용액에 고형분 농도 2.4중량%가 되도록 용해시켜서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 5를 제작했다.Subsequently, a solution was prepared by mixing 100 ppm by weight of KF-96 10cs (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as the surface modifier A and 500 ppm by weight of SP-O30V (manufactured by Kao Corporation) as the surface modifier B in the organic solvent 1. Next, compounds (H-1) and (H-2), which are charge injection and transport materials, and (D-1), which is a light emitting material, are mixed in a weight ratio of 30:70:20, and the solid content concentration is added to the previously prepared solution. It dissolved so that it might become 2.4 weight%, and the composition 5 for organic electroluminescent element formation was produced.

Figure 112019052457153-pct00003
Figure 112019052457153-pct00003

Figure 112019052457153-pct00004
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Figure 112019052457153-pct00005
Figure 112019052457153-pct00005

상술한 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 5는, 유기 용매 및 표면 개질제에 대해서는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1과 마찬가지이기 때문에, 상기 식 (1) 내지 (4) 및 상기 식 (5)를 충족하는 것을 알 수 있다.Since the composition 5 for forming an organic electroluminescent device described above is the same as the composition 1 for forming an organic electroluminescent device with respect to the organic solvent and the surface modifier, it satisfies the above formulas (1) to (4) and the above formula (5). can know that

<격벽 내로의 유기막의 3층막의 형성><Formation of three-layer film of organic film into barrier rib>

실시예 3과 마찬가지로 하여, 유기막 패턴 1을 형성했다.In the same manner as in Example 3, an organic film pattern 1 was formed.

이어서, 상기 유기막 패턴 1에 대하여, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막을 형성한 개구부에 대하여, 잉크젯 프린터(후지필름사제 DMP-2831)를 사용하여, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 4를 건조 막 두께가 약 20㎚가 되도록 도포했다. 그 후, 진공 건조에 의해 유기 용매를 제거해서 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 4를 건조하고, 230℃에서 30분간 소성하고, 유기막을 제작하고, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막 및 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 4를 포함하는 유기막을 갖는 유기막 패턴 3을 형성했다.Subsequently, the composition for forming an organic electroluminescent element was formed in the organic film pattern 1 by using an inkjet printer (DMP-2831 manufactured by Fujifilm Co., Ltd.) with respect to the opening where the organic film containing the composition 1 was formed. 4 was applied to a dry film thickness of about 20 nm. Thereafter, the organic solvent is removed by vacuum drying, the composition 4 for forming an organic electroluminescent element is dried, and the composition 4 is baked at 230° C. for 30 minutes to form an organic film, and the organic film containing the composition 1 for forming an organic electroluminescent element is formed. And an organic layer pattern 3 having an organic layer including the composition 4 for forming an organic electroluminescent device was formed.

이어서, 상기 유기막 패턴 3에 대하여, 유기막을 형성하지 않는 개구부의 열에 더하여, 그의 양측의 1열씩에도 유기막을 형성하지 않는 패턴이 되도록, 원하는 개구부에 대하여, 잉크젯 프린터(후지필름사제 DMP-2831)를 사용하여, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 5를 건조 막 두께가 약 60㎚가 되도록 도포했다. 그 후, 진공 건조에 의해 유기 용매를 제거해서 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 5를 건조하고, 120℃에서 20분간 소성하고, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 4를 포함하는 유기막 및 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 5를 포함하는 유기막을 갖는 유기막 패턴 4를 형성했다.Then, with respect to the organic film pattern 3, desired openings are printed so that in addition to the rows of openings on which organic films are not formed, even one row on both sides of the pattern is formed, an inkjet printer (DMP-2831 manufactured by Fujifilm Corporation) is used. was used to apply the composition 5 for forming an organic electroluminescent element to a dry film thickness of about 60 nm. Thereafter, the organic solvent is removed by vacuum drying, and the composition 5 for forming an organic electroluminescent element is dried, fired at 120° C. for 20 minutes, and an organic film containing the composition 1 for forming an organic electroluminescent element, an organic electroluminescent element An organic film pattern 4 having an organic film containing the forming composition 4 and an organic film containing the composition 5 for forming an organic electroluminescent device was formed.

<<격벽 내의 유기막의 평탄도 측정>><<Measurement of the flatness of the organic film in the barrier rib>>

유기막의 막 두께는, 실시예 1과 마찬가지로, 유기막이 형성된 ITO 기판을 촉침식의 표면 조도계(텐코르사제 P15)를 사용하여 측정했다. 여기에서는, 적층된 유기막의 최상층의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 5를 포함하는 유기막의 평탄도를 평가하기 위해서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막 상에 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 4를 포함하는 유기막이 적층된 적층막의 막 두께에 대해서는, 유기막을 형성하지 않는 개구부를 기준으로, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막 상에 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 4를 포함하는 유기막이 적층된 적층막의 평균 막 두께 프로파일 1'를 산출한다. 이어서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막 상에 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 4를 포함하는 유기막이 적층된 적층막만이 형성되어 있는 영역을 기준으로, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막 상에 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 4를 포함하는 유기막이 적층된 적층막 및 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 5를 포함하는 유기막이 형성되어 있는 영역의 평균 막 두께 프로파일 2'를 산출하고, 전술한 평균 막 두께 프로파일 1'를 차감함으로써, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 5를 포함하는 유기막만의 평균 막 두께 프로파일을 산출했다. 이 프로파일 데이터로부터, 평탄도를 산출함으로써, 3층막에 있어서의 최상층의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 5를 포함하는 유기막 단독의 평탄도를 평가할 수 있게 된다.As in Example 1, the film thickness of the organic film was measured for the ITO substrate on which the organic film was formed using a stylus-type surface roughness meter (P15 manufactured by Tencor Co., Ltd.). Here, in order to evaluate the flatness of the organic film containing the organic electroluminescent element-forming composition 5 of the uppermost layer of the stacked organic films, the organic electroluminescent element-forming organic film containing the organic electroluminescent element-forming composition 1 Regarding the film thickness of the laminated film in which the organic film containing the composition 4 is stacked, the composition 4 for forming an organic electroluminescent element is applied on the organic film containing the composition 1 for forming an organic electroluminescent element based on the openings in which the organic film is not formed. The average film thickness profile 1' of the laminated film in which the containing organic film is stacked is calculated. Then, based on the region where only the laminated film in which the organic film containing the composition 4 for forming an organic electroluminescent element is stacked on the organic film containing the composition 1 for forming an organic electroluminescent element is formed, Average film thickness profile 2 of a laminated film in which an organic film containing the composition 4 for forming an organic electroluminescent element is laminated on an organic film containing the composition 1 and an organic film containing the composition 5 for forming an organic electroluminescent element are formed ' was calculated, and the average film thickness profile of only the organic film containing the composition 5 for forming an organic electroluminescent element was calculated by subtracting the above-described average film thickness profile 1'. By calculating the flatness from this profile data, the flatness of the organic film alone containing the composition 5 for forming an organic electroluminescent element as the uppermost layer in the three-layer film can be evaluated.

실시예 4의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 5를 포함하는 유기막의 평탄도는 68%였다.The flatness of the organic film comprising the composition 5 for forming an organic electroluminescent device of Example 4 was 68%.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

실시예 4의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 5의 조제에 있어서, SP-O30V를 사용하지 않고, 표면 개질제 KF-96 10cs만을 100중량ppm 혼합시킨 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 유기막을 형성하고, 3층막에 있어서의 최상층의 유기막의 평탄도를 측정했다.In preparing the composition 5 for forming an organic electroluminescent element of Example 4, an organic film was formed in the same manner as in Example 4, except that SP-O30V was not used and only 10 cs of KF-96 by weight was mixed, The flatness of the uppermost organic film in the three-layer film was measured.

비교예 5의 3층막에 있어서의 최상층의 유기막의 평탄도는 55%였다.The flatness of the uppermost organic film in the three-layer film of Comparative Example 5 was 55%.

실시예 4 및 비교예 5의 결과를 표 3에 나타낸다.The results of Example 4 and Comparative Example 5 are shown in Table 3.

Figure 112019052457153-pct00006
Figure 112019052457153-pct00006

(실시예 5)(Example 5)

ITO 기판 상에, 실시예 1에서 사용한 아크릴계의 수지 1과는 다른, 발액성을 갖는 수지 2를 사용하여, 귀퉁이가 라운딩된 직사각형(장축 길이(도 2 중, b로 나타나고 있다); 약 0.28㎜, 단축 길이(도 2 중, a로 나타나고 있다); 약 0.078㎜)형의 개구부(「격벽으로 구획된 영역」에 상당한다)를 갖도록, 전술한 포토리소그래피에 의한 형성 방법에 의해 두께 1.5㎛의 격벽을 형성했다. 각 개구부의 피치는, 단축 방향으로 약 0.135㎜ 피치(도 2 중, c로 나타나고 있다), 장축 방향으로 약 0.370㎜ 피치(도 2 중, d로 나타나고 있다)로 하였다. 상기 격벽을 형성한 ITO 기판을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 유기막을 형성하여, 평탄도를 측정했다.On an ITO substrate, resin 2 having liquid repellency, which is different from acrylic resin 1 used in Example 1, was used, and a rectangle with rounded corners (long axis length (indicated by b in FIG. 2); about 0.28 mm , minor axis length (indicated by a in Fig. 2); about 0.078 mm) shaped opening (corresponding to the "region partitioned by barrier ribs") with a thickness of 1.5 μm by the above-described formation method by photolithography. formed a bulkhead. The pitch of each opening was about 0.135 mm pitch in the minor axis direction (indicated by c in FIG. 2 ) and about 0.370 mm pitch in the major axis direction (indicated by d in FIG. 2 ). An organic film was formed in the same manner as in Example 1, except that the ITO substrate on which the barrier ribs were formed was used, and flatness was measured.

실시예 5의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1을 포함하는 유기막의 평탄도는 83%였다.The flatness of the organic film comprising the composition 1 for forming an organic electroluminescent device of Example 5 was 83%.

(실시예 6)(Example 6)

표면 개질제 A로서 F-552(DIC사제)를 100중량ppm, 표면 개질제 B로서 SP-O30V(카오사제)를 500중량ppm 사용한 것 이외에는, 실시예 1에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 1과 마찬가지로 하여 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 6을 조제했다.In the same manner as in Composition 1 for Forming an Organic Electroluminescent Device described in Example 1, except that 100 ppm by weight of F-552 (manufactured by DIC Corporation) was used as the surface modifier A and 500 ppm by weight of SP-O30V (manufactured by Kao Corporation) was used as the surface modifier B. Thus, a composition 6 for forming an organic electroluminescent element was prepared.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 6에 있어서, 전술한 방법으로 표면 장력의 측정을 행한바, 유기 용매 1에 상기 표면 개질제 A만을 100중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S1x, S1y는 25.4(mN/m)이었다. 이것과 상술한 값으로부터, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 6은, 상기 식 (1) 내지 (4)를 충족하는 것을 알 수 있다.In the composition 6 for forming an organic electroluminescent element, the surface tension was measured by the method described above. /m) was. From this and the above-described values, it is understood that the composition 6 for forming an organic electroluminescent element satisfies the above formulas (1) to (4).

실시예 5에 있어서, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 6을 사용한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 유기막을 형성하여, 평탄도를 측정했다.In Example 5, an organic film was formed in the same manner as in Example 5, except that the composition 6 for forming an organic electroluminescent element was used, and flatness was measured.

실시예 6의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 6을 포함하는 유기막의 평탄도는 84%였다.The flatness of the organic film comprising the composition 6 for forming an organic electroluminescent device of Example 6 was 84%.

(실시예 7)(Example 7)

실시예 6에 있어서, 표면 개질제 B로서 SP-O30V(카오사제)를 300중량ppm, 에멀겐 A60(카오사제)을 200중량ppm 혼합시킨 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 7을 사용한 것 이외에는, 실시예 6과 마찬가지로 유기막을 형성하여, 평탄도를 측정했다.In Example 6, except that composition 7 for forming an organic electroluminescent element in which 300 ppm by weight of SP-O30V (manufactured by Kao Corp.) and 200 ppm by weight of Emulgen A60 (manufactured by Kao Corp.) were mixed as the surface modifier B was used. An organic film was formed in the same manner as in 6, and flatness was measured.

유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 7에 있어서, 전술한 방법으로 표면 장력의 측정을 행한바, 유기 용매 1에 SP-O30V를 300중량ppm, 에멀겐 A60을 200중량ppm 용해시킨 경우의 표면 장력, 즉 S2x는 35.4(mN/m)이었다. 이것과 상술한 값으로부터, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 7은, 상기 식 (1) 내지 (4)를 충족하는 것을 알 수 있다.In the composition for forming an organic electroluminescent element 7, the surface tension was measured by the method described above. The surface tension when 300 ppm by weight of SP-O30V and 200 ppm by weight of Emulgen A60 were dissolved in the organic solvent 1, that is, S2x was 35.4 (mN/m). From this and the above-described values, it can be seen that the composition 7 for forming an organic electroluminescent element satisfies the above formulas (1) to (4).

실시예 7의 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물 7을 포함하는 유기막의 평탄도는 84%였다.The flatness of the organic film comprising the composition 7 for forming an organic electroluminescent device of Example 7 was 84%.

(비교예 6)(Comparative Example 6)

실시예 5에 있어서, 표면 개질제를 첨가하지 않고 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 조제한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 유기막을 형성하여, 평탄도를 측정했다.In Example 5, an organic film was formed in the same manner as in Example 5, except that a composition for forming an organic electroluminescent element was prepared without adding a surface modifier, and flatness was measured.

비교예 6의 유기막의 평탄도는 71%였다.The flatness of the organic film of Comparative Example 6 was 71%.

(비교예 7)(Comparative Example 7)

실시예 5에 있어서, SP-O30V를 사용하지 않고, 표면 개질제 KF-96 10cs만을 100중량ppm 혼합시킨 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 조제하고, 사용한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 유기막을 형성하여, 평탄도를 측정했다.In Example 5, an organic film was formed in the same manner as in Example 5 except that a composition for forming an organic electroluminescent element was prepared and used in which only 10 cs of KF-96 was mixed with 100 ppm by weight of the surface modifier without using SP-O30V. , the flatness was measured.

비교예 7의 유기막의 평탄도는 42%였다.The flatness of the organic film of Comparative Example 7 was 42%.

(비교예 8)(Comparative Example 8)

실시예 5에 있어서, KF-96 10cs를 사용하지 않고, 표면 개질제 SP-O30V만을 500중량ppm 혼합시킨 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 조제하고, 사용한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 유기막을 형성하여, 평탄도를 측정했다.In Example 5, an organic film was formed in the same manner as in Example 5 except that a composition for forming an organic electroluminescent element was prepared and used in which only 500 ppm by weight of SP-O30V was mixed without using KF-96 10cs. , the flatness was measured.

비교예 8의 유기막의 평탄도는 63%였다.The flatness of the organic film of Comparative Example 8 was 63%.

(비교예 9)(Comparative Example 9)

실시예 6에 있어서, SP-O30V를 사용하지 않고, 표면 개질제 F-552만을 100중량ppm 혼합시킨 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 조제하고, 사용한 것 이외에는, 실시예 6과 마찬가지로 유기막을 형성하여, 평탄도를 측정했다.In Example 6, an organic film was formed in the same manner as in Example 6 except that a composition for forming an organic electroluminescent element was prepared and used in which only 100 ppm by weight of the surface modifier F-552 was mixed without using SP-O30V. Flatness was measured.

비교예 9의 유기막의 평탄도는 71%였다.The flatness of the organic film of Comparative Example 9 was 71%.

실시예 5 내지 7 및 비교예 6 내지 9의 결과를 표 4에 나타낸다.Table 4 shows the results of Examples 5 to 7 and Comparative Examples 6 to 9.

Figure 112019052457153-pct00007
Figure 112019052457153-pct00007

표 5 내지 7에, 실시예의 표면 장력 측정 결과를 정리했다. 또한, 표 6 중, 「내지」를 사용해서 표현되는 수치 범위는, 「내지」의 전후에 기재된 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.Tables 5 to 7 summarize the surface tension measurement results of Examples. In addition, in Table 6, the numerical range expressed using "to" means the range which includes the numerical value described before and after "to" as a lower limit and an upper limit.

Figure 112019052457153-pct00008
Figure 112019052457153-pct00008

Figure 112019052457153-pct00009
Figure 112019052457153-pct00009

Figure 112019052457153-pct00010
Figure 112019052457153-pct00010

실시예 1과 비교예 1로부터, 표면 개질제 A만을 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에, 소정의 표면 개질제 B를 함유시킴으로써, 유기막의 평탄도가 64%에서 82%까지 개선되는 것을 알 수 있다. 실시예 2에서는 실시예 1과는 다른 표면 개질제 B를 함유시키고 있지만, 마찬가지로 평탄도 82%가 얻어지고 있고, 표면 개질제의 재료에 따르지 않고, 본 발명의 효과가 얻어지는 것을 알 수 있다.From Example 1 and Comparative Example 1, it can be seen that the flatness of the organic film is improved from 64% to 82% by incorporating the predetermined surface modifier B into the composition for forming an organic electroluminescent device containing only the surface modifier A. . In Example 2, a surface modifier B different from that in Example 1 was contained, but a flatness of 82% was similarly obtained, and it was found that the effect of the present invention was obtained regardless of the material of the surface modifier.

또한, 실시예 3, 비교예 2 내지 4에서는, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에, 실시예 1 및 실시예 2와는 다른 유기 용매 및 전하 주입 수송 재료를 사용하고 있지만, 표면 개질제 B를 함유하지 않는 경우(비교예 2, 3) 및 소정의 표면 장력 값을 만족하지 않는 경우(비교예 4)와 비교하여, 유기막의 평탄도가 65 내지 76%에서 89%까지 개선되고 있는 것을 알 수 있다. 실시예 4와 비교예 5의 경우도 마찬가지로, 평탄도가 55%에서 68%로 개선되고 있는 것을 알 수 있다.Further, in Example 3 and Comparative Examples 2 to 4, an organic solvent and a charge injection transport material different from those of Examples 1 and 2 were used in the composition for forming an organic electroluminescent element, but the surface modifier B was not contained. It can be seen that the flatness of the organic film is improved from 65 to 76% to 89% compared to the cases (Comparative Examples 2 and 3) and the case where the predetermined surface tension value is not satisfied (Comparative Example 4). In the case of Example 4 and Comparative Example 5 as well, it can be seen that the flatness is improved from 55% to 68%.

또한, 실시예 5와 비교예 6 내지 8에서는, 상기 실시예와는 다른 격벽 재료를 사용한 경우를 나타내고 있지만, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물에 표면 개질제가 함유되지 않는 경우(비교예 6), 1종류의 표면 개질제만이 함유되어 있는 경우(비교예 7, 8)에 비하여, 평탄도가 명백하게 개선되고 있는 것을 알 수 있다.Further, in Example 5 and Comparative Examples 6 to 8, a case where a barrier rib material different from the above example is used is shown, but when the composition for forming an organic electroluminescent element does not contain a surface modifier (Comparative Example 6), 1 Compared to the case where only a kind of surface modifier was contained (Comparative Examples 7 and 8), it was found that the flatness was clearly improved.

또한, 실시예 6에서는 실시예 5와는 다른 표면 개질제 A를 함유시키고 있지만, 마찬가지로 표면 개질제가 함유되지 않는 경우(비교예 6), 1종류의 표면 개질제만이 함유되어 있는 경우(비교예 8, 9)에 비하여, 평탄도가 63 내지 71%에서 84%로 개선되고 있고, 표면 개질제의 재료에 따르지 않고, 본 발명의 효과가 얻어지는 것을 알 수 있다.In Example 6, a surface modifier A different from that in Example 5 is contained, but similarly, when no surface modifier is contained (Comparative Example 6), when only one type of surface modifier is contained (Comparative Examples 8 and 9 ), the flatness is improved from 63 to 71% to 84%, and it can be seen that the effect of the present invention is obtained regardless of the material of the surface modifier.

또한, 실시예 7에서는 실시예 6에서 사용된 표면 개질제에 더하여, 추가로 별도의 표면 개질제 B를 함유시키고 있지만, 마찬가지로 표면 개질제가 함유되지 않는 경우(비교예 6), 1종류의 표면 개질제만이 함유되어 있는 경우(비교예 9)에 비하여, 평탄도가 71%에서 84%로 개선되고 있는 것을 알 수 있다.Further, in Example 7, in addition to the surface modifier used in Example 6, another surface modifier B is contained, but similarly, when no surface modifier is contained (Comparative Example 6), only one type of surface modifier is used. It can be seen that the flatness is improved from 71% to 84% compared to the case where it is contained (Comparative Example 9).

본 발명은, 유기 전계 발광 소자를 비롯한 유기 디바이스용 재료 외에, 유기 전계 발광 소자가 사용되는 각종 분야, 예를 들어 플랫 패널·디스플레이(예를 들어 OA 컴퓨터용이나 벽걸이 텔레비전)나 면 발광체로서의 특징을 살린 광원(예를 들어, 복사기의 광원, 액정 디스플레이나 계기류의 백라이트 광원), 표시판, 표지등, 조명 장치 등의 분야에 있어서, 적합하게 사용할 수 있다.In addition to materials for organic devices such as organic electroluminescent elements, the present invention has characteristics as various fields in which organic electroluminescent elements are used, such as flat panel displays (eg, for OA computers and wall-mounted televisions) and surface light emitting bodies. It can be suitably used in the field of light sources (for example, light sources for photocopiers, backlight sources for liquid crystal displays and instruments), display boards, signs, lighting devices, and the like.

1 : 기판
2 : 양극
3 : 정공 주입층
4 : 정공 수송층
5 : 발광층
6 : 정공 저지층
7 : 전자 수송층
8 : 전자 주입층
9 : 음극
10 : 유기 전계 발광 소자
11 : 격벽
12 : 유기막을 형성한 개구부
13 : 유기막을 형성하지 않는 개구부
20 : 기판
1: Substrate
2: anode
3: hole injection layer
4: hole transport layer
5: light emitting layer
6: hole blocking layer
7: electron transport layer
8: electron injection layer
9: cathode
10: organic electroluminescent element
11: bulkhead
12: opening formed with an organic film
13: openings that do not form an organic film
20: Substrate

Claims (14)

적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 1종 이상의 제1 표면 개질제 및 1종 이상의 제2 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서,
상기 유기 용매의 표면 장력(단위: mN/m)을 Sa로 하고, 상기 유기 용매 100중량부에 대한 상기 1종 이상의 제1 표면 개질제의 합계의 함유량을 C1중량부로 하고, 상기 유기 용매 100중량부에 대한 상기 1종 이상의 제2 표면 개질제의 합계의 함유량을 C2중량부로 하고,
제1 표면 개질제는, 폴리실록산; 폴리실록산을 부분적으로 에테르 변성, 에스테르 변성, 또는 아르알킬 변성시킨 화합물; 폴리실록산의 메틸기를 알킬기 치환한 화합물; 또는 폴리실록산에 반응기를 부가시킨 반응성 폴리실록산이고,
제2 표면 개질제는, 폴리옥시알킬렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌알킬알릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌글리콜, 폴리옥시에틸렌알킬아민, 폴리옥시에틸렌쿠밀퓨엘에테르, 소르비톨 지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 자당 지방산 에스테르, 자당 유도체 또는 지방산 에스테르이고,
각 상기 제1 표면 개질제는, 상기 유기 용매의 100중량부에 상기 제1 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시킨 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S1y로 하면, 하기 식 (1)을 충족하는 표면 개질제이고,
Sa-S1y>1.0 … (1)
각 상기 제2 표면 개질제는, 상기 유기 용매의 100중량부에 상기 제2 표면 개질제의 0.01중량부를 용해시킨 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S2y로 하면, 하기 식 (2)를 충족하는 표면 개질제이고,
Sa-S2y≤1.0 … (2)
상기 유기 용매의 100중량부와 상기 제1 표면 개질제의 상기 C1중량부와의 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S1x로 하면, 하기 식 (3)을 충족하고,
Sa-S1x>1.0 … (3)
상기 유기 용매의 100중량부와 상기 제2 표면 개질제의 상기 C2중량부와의 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S2x로 하면, 하기 식 (4)를 충족하는,
Sa-S2x<1.0 … (4)
유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.
A composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, at least one first surface modifier and at least one second surface modifier,
The surface tension (unit: mN/m) of the organic solvent is Sa, the total content of the one or more first surface modifiers with respect to 100 parts by weight of the organic solvent is C1 parts by weight, and 100 parts by weight of the organic solvent The content of the total of the one or more types of second surface modifiers for C2 parts by weight,
The first surface modifier may be polysiloxane; compounds obtained by partially ether-modified, ester-modified, or aralkyl-modified polysiloxanes; Compounds in which the methyl group of polysiloxane is substituted with an alkyl group; or a reactive polysiloxane obtained by adding a reactive group to polysiloxane;
The second surface modifier is polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl allyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene glycol, polyoxyethylene alkylamine, polyoxyethylene cumyl fuel ether, sorbitol fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, glycerin fatty acid esters, sucrose fatty acid esters, sucrose derivatives or fatty acid esters,
Each of the first surface modifiers satisfies the following formula (1) when S1y is the surface tension (unit: mN/m) of a mixture in which 0.01 part by weight of the first surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of the organic solvent. It is a surface modifier to
Sa-S1y>1.0 … (One)
Each of the second surface modifiers satisfies the following formula (2) when S2y is the surface tension (unit: mN/m) of a mixture in which 0.01 part by weight of the second surface modifier is dissolved in 100 parts by weight of the organic solvent. It is a surface modifier to
Sa-S2y≤1.0 … (2)
When the surface tension (unit: mN/m) of a mixture of 100 parts by weight of the organic solvent and the C1 part by weight of the first surface modifier is S1x, the following formula (3) is satisfied,
Sa-S1x>1.0 … (3)
When S2x is the surface tension (unit: mN/m) of a mixture of 100 parts by weight of the organic solvent and the C2 part by weight of the second surface modifier, the following equation (4) is satisfied,
Sa-S2x<1.0 … (4)
A composition for forming an organic electroluminescent device.
제1항에 있어서, 상기 C1이 0.001 내지 1인, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.The composition for forming an organic electroluminescent device according to claim 1, wherein C1 is 0.001 to 1. 제1항에 있어서, 상기 C2가 0.001 내지 1인, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.The composition for forming an organic electroluminescent device according to claim 1, wherein C2 is 0.001 to 1. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 적어도 전하 주입 수송 재료, 유기 용매, 제5 표면 개질제 및 제6 표면 개질제를 함유하는 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물로서,
제5 표면 개질제는, 폴리실록산; 폴리실록산을 부분적으로 에테르 변성, 에스테르 변성, 또는 아르알킬 변성시킨 화합물; 폴리실록산의 메틸기를 알킬기 치환한 화합물; 또는 폴리실록산에 반응기를 부가시킨 반응성 폴리실록산이고,
제6 표면 개질제는, 폴리옥시알킬렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌알킬알릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌글리콜, 폴리옥시에틸렌알킬아민, 폴리옥시에틸렌쿠밀퓨엘에테르, 소르비톨 지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 자당 지방산 에스테르, 자당 유도체 또는 지방산 에스테르이고,
순수의 표면 장력(단위: mN/m)을 Sa'로 하고, 순수의 100중량부와 상기 제5 표면 개질제의 0.1중량부와의 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S1z로 하고, 순수의 100중량부와 상기 제6 표면 개질제의 0.1중량부와의 혼합물의 표면 장력(단위: mN/m)을 S2z로 하면, 하기 식 (5)를 충족하는,
Sa'>S1z>S2z … (5)
유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.
A composition for forming an organic electroluminescent device containing at least a charge injection and transport material, an organic solvent, a fifth surface modifier and a sixth surface modifier,
The fifth surface modifier is polysiloxane; compounds obtained by partially ether-modified, ester-modified, or aralkyl-modified polysiloxanes; Compounds in which the methyl group of polysiloxane is substituted with an alkyl group; or a reactive polysiloxane obtained by adding a reactive group to polysiloxane;
The sixth surface modifier is polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl allyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene glycol, polyoxyethylene alkylamine, polyoxyethylene cumyl fuel ether, sorbitol fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, glycerin fatty acid esters, sucrose fatty acid esters, sucrose derivatives or fatty acid esters,
The surface tension of pure water (unit: mN/m) is Sa', and the surface tension of a mixture of 100 parts by weight of pure water and 0.1 part by weight of the fifth surface modifier (unit: mN/m) is S1z, When S2z is the surface tension (unit: mN/m) of a mixture of 100 parts by weight of pure water and 0.1 part by weight of the sixth surface modifier, the following equation (5) is satisfied,
Sa'>S1z>S2z . . . (5)
A composition for forming an organic electroluminescent device.
제7항에 있어서, 상기 유기 용매 100중량부에 대한, 상기 제5 표면 개질제의 함유량이 0.001 내지 1중량부인, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.The composition for forming an organic electroluminescent device according to claim 7, wherein the content of the fifth surface modifier is 0.001 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the organic solvent. 제7항에 있어서, 상기 유기 용매 100중량부에 대한, 상기 제6 표면 개질제의 함유량이 0.001 내지 1중량부인, 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물.The composition for forming an organic electroluminescent device according to claim 7, wherein the content of the sixth surface modifier is 0.001 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the organic solvent. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항 내지 제3항 및 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물을 건조시켜서 이루어지는 유기막을 포함하는, 유기 전계 발광 소자.An organic electroluminescent element comprising an organic film obtained by drying the composition for forming an organic electroluminescent element according to any one of claims 1 to 3 and 7 to 9. 격벽으로 구획된 영역으로의 제1항 내지 제3항 및 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 도포, 및 도포된 상기 유기 전계 발광 소자 형성용 조성물의 건조를 포함하는, 유기막의 제조 방법.Application of the composition for forming an organic electroluminescent device according to any one of claims 1 to 3 and 7 to 9 to a region partitioned by barrier ribs, and the applied composition for forming an organic electroluminescent device A method for producing an organic film comprising drying.
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