KR102481599B1 - 교체 가능한 핸드 피스를 가지는 플라즈마 장치 - Google Patents

교체 가능한 핸드 피스를 가지는 플라즈마 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102481599B1
KR102481599B1 KR1020200006433A KR20200006433A KR102481599B1 KR 102481599 B1 KR102481599 B1 KR 102481599B1 KR 1020200006433 A KR1020200006433 A KR 1020200006433A KR 20200006433 A KR20200006433 A KR 20200006433A KR 102481599 B1 KR102481599 B1 KR 102481599B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plasma
gas
handpiece
base
signal
Prior art date
Application number
KR1020200006433A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20210092932A (ko
Inventor
김무환
장연숙
Original Assignee
(주)펨토사이언스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)펨토사이언스 filed Critical (주)펨토사이언스
Priority to KR1020200006433A priority Critical patent/KR102481599B1/ko
Priority to EP20207734.3A priority patent/EP3852504A1/en
Priority to JP2020194430A priority patent/JP2021114462A/ja
Priority to US17/103,011 priority patent/US11664204B2/en
Priority to CN202011362099.1A priority patent/CN113141699A/zh
Publication of KR20210092932A publication Critical patent/KR20210092932A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102481599B1 publication Critical patent/KR102481599B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches
    • H05H1/32—Plasma torches using an arc
    • H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/32807—Construction (includes replacing parts of the apparatus)
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2443—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube
    • H05H1/245—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube the plasma being activated using internal electrodes
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/14—Plasma, i.e. ionised gases
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N1/00—Electrotherapy; Circuits therefor
    • A61N1/44—Applying ionised fluids
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32018—Glow discharge
    • H01J37/32036—AC powered
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/3244—Gas supply means
    • H01J37/32449—Gas control, e.g. control of the gas flow
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches
    • H05H1/32—Plasma torches using an arc
    • H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
    • H05H1/3431—Coaxial cylindrical electrodes
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2202/00—Aspects relating to methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects
    • A61L2202/10—Apparatus features
    • A61L2202/11—Apparatus for generating biocidal substances, e.g. vaporisers, UV lamps
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2242/00—Auxiliary systems
    • H05H2242/20—Power circuits
    • H05H2242/22—DC, AC or pulsed generators
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2245/00—Applications of plasma devices
    • H05H2245/30—Medical applications
    • H05H2245/36—Sterilisation of objects, liquids, volumes or surfaces

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Electrotherapy Devices (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Surgical Instruments (AREA)

Abstract

본 실시예에 의한 플라즈마 장치는: 전원을 제공받고 교류 신호를 형성하는 전원부와, 가스(gas)를 제공받아 출력 가스의 유량을 제어하는 가스 유량 조절부, 사용자의 입력을 제공 받는 입력부 및 입력에 따라 전원부 및 가스 유량 조절부를 제어하는 제어부를 포함하는 베이스 및 교류 신호를 승압하는 승압 트랜스포머(transformer)와, 승압된 교류 신호와 가스가 제공되어 플라즈마를 형성하는 전극 구조 및 사용자의 플라즈마 토출 신호를 제공받는 스위치를 포함하며, 형성된 플라즈마를 토출하는 노즐(nozzle)을 포함하는 핸드피스(handpiece)를 포함하고, 핸드 피스는 커넥터를 통하여 베이스와 연결되어 교체 가능하다.

Description

교체 가능한 핸드 피스를 가지는 플라즈마 장치{PLASMA DEVICE HAVING EXCHANGEABLE HANDPIECE}
본 기술은 교체 가능한 핸드 피스를 가지는 플라즈마 장치에 관련된다.
플라즈마(plasma)는 궤도 전자들이 제거된 원자들인 이온 가스와 자유 전자들로 구성되며, 강력한 전기장 혹은 열원으로 가열되어 기체 상태를 넘어 전자, 중성입자, 이온 등 입자들로 나누어진 상태를 의미한다. 플라즈마는 주로 물질의 표면 개질, 코팅, 살균, 소독 등에 사용되었으며, 최근에는 바이오 의료 분야뿐만 아니라 미용 분야에 까지 널리 사용되고 있다.
플라즈마는 생성되어 유입되는 가스의 압력에 의하여 노즐로 토출되는 리모트 모드(remote mode), 전기장에 의하여 가속되어 토출되는 디렉트 모드(direct mode) 등을 비롯하여 여러 가지 모드를 가질 수 있다.
종래의 플라즈마 장치는 산업적으로 사용하기 위하여 표면 개질 대상인 필름 등에 대면적으로 토출하기 위한 구조를 가지는 것이 일반적이다. 소규모 플라즈마 장치는 소형 핀(pin) 타입 노즐로 국소 영역에 플라즈를 제공하는 것에 그쳤다. 따라서, 소규모 플라즈마 생성기로 비교적 넓은 면적에 플라즈마 처리를 수행하거나, 서로 다른 모드의 플라즈마를 사용하고자 하는 경우에는 용도에 부합하는 플라즈마 생성 장치를 구입하여 사용하여야 했다.
본 기술은 상기한 종래 기술의 난점을 해소하기 위한 것이다. 본 기술이 해결하고자 하는 과제 중 하나는 제공되는 플라즈마의 특성을 핸드 피스를 교체함으로서 간단히 변화시킬 수 있는 플라즈마 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 실시예에 의한 플라즈마 장치는 전원을 제공받고 교류 신호를 형성하는 전원부와, 가스(gas)를 제공받아 출력 가스의 유량을 제어하는 가스 유량 조절부, 사용자의 입력을 제공 받는 입력부 및 입력에 따라 전원부 및 가스 유량 조절부를 제어하는 제어부를 포함하는 베이스 및 교류 신호를 승압하는 승압 트랜스포머(transformer)와, 승압된 교류 신호와 가스가 제공되어 플라즈마를 형성하는 전극 구조 및 사용자의 플라즈마 토출 신호를 제공받는 스위치를 포함하며, 형성된 플라즈마를 토출하는 노즐(nozzle)을 포함하는 핸드피스(handpiece)를 포함하고, 핸드피스는 커넥터를 통하여 베이스와 연결되어 교체 가능하다.
플라즈마 장치의 일 예로, 전원부는 제공된 전원으로부터 교류 신호를 형성하는 오실레이터를 포함한다.
플라즈마 장치의 일 예로, 전원부는, 전원으로 직류 전압이 제공되어 직류 전압의 값을 변환하는 DC-DC 컨버터 및 전원으로 교류 전압이 제공되고, 직류 전압으로 변환하는 AD-DC 컨버터 중 어느 하나를 더 포함한다.
플라즈마 장치의 일 예로, 가스 유량 조절부는, 제어부가 제공한 신호에 따라 출력 가스의 유량을 조절하는 밸브를 포함한다.
플라즈마 장치의 일 예로, 입력부는, 토출되는 플라즈마의 이온 농도(ion density)를 조절하는 강도 버튼(intensity button), 출력 가스의 유량을 조절하는 유량 제어 버튼(flow control button) 및 전원 버튼(power button) 중 어느 하나 이상을 포함한다.
플라즈마 장치의 일 예로, 베이스는, 입력부에 의한 입력을 표시하는 표시부를 더 포함한다.
플라즈마 장치의 일 예로, 승압 트랜스포머는, 교류 신호의 진폭을 4kV 내지 10kV 중 어느 한 전압으로 승압한다.
플라즈마 장치의 일 예로, 플라즈마 장치는, 서로 다른 복수의 핸드피스와 연결 가능하며, 복수의 핸드피스는 서로 다른 전극 구조를 가진다.
플라즈마 장치의 일 예로, 플라즈마 장치는, 서로 다른 복수의 핸드피스와 연결 가능하며, 복수의 핸드피스는 서로 다른 노즐 구조를 가진다.
플라즈마 장치의 일 예로, 플라즈마 장치는, 서로 다른 복수의 핸드피스와 연결 가능하며, 복수의 핸드피스는 서로 다른 모드의 플라즈마를 형성한다.
플라즈마 장치의 일 예로, 베이스는 출력 가스를 핸드피스에 제공하는 가스 튜브와 교류 신호를 핸드피스에 제공하는 전원 선로를 통하여 연결되며, 가스 튜브와 전원 선로는 동일한 피복으로 피복된다.
본 실시에에 의한 플라즈마 장치에 의하면, 목적하는 플라즈마의 모드 및/또는 목적하는 노즐의 형태를 가지는 핸드피스를 베이스와 결합하여 사용할 수 있다는 장점이 제공된다.
도 1은 본 실시예에 의한 플라즈마 장치의 핸드피스가 베이스와 연결되어 베이스에 거치된 상태를 도시한 도면이다.
도 2는 베이스의 일 측면을 도시한 도면이다.
도 3은 베이스의 개요를 도시한 블록도이다.
도 4(a)는 핸드피스의 사시도이고, 도 4(b)는 핸드피스의 측면도이다.
도 5는 핸드피스의 개요를 도시한 블록도이다.
도 6은 플라즈마를 형성하기 위한 전극 구조의 실시예를 개요적으로 도시한 도면이다.
도 7(a) 내지 도 7(c)는 노즐의 실시예들을 개요적으로 도시한 도면이다.
본 발명에 관한 설명은 구조적 내지 기능적 설명을 위한 실시예에 불과하므로, 본 발명의 권리범위는 본문에 설명된 실시예에 의하여 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 된다. 즉, 실시예는 다양한 변경이 가능하고 여러 가지 형태를 가질 수 있으므로 본 발명의 권리범위는 기술적 사상을 실현할 수 있는 균등물들을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 본 출원에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
각 단계들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않은 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 단계들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 반대의 순서대로 수행될 수도 있다.
본 개시의 실시예들을 설명하기 위하여 참조되는 도면은 설명의 편의 및 이해의 용이를 위하여 의도적으로 크기, 높이, 두께 등이 과장되어 표현되어 있으며, 비율에 따라 확대 또는 축소된 것이 아니다. 또한, 도면에 도시된 어느 구성요소는 의도적으로 축소되어 표현하고, 다른 구성요소는 의도적으로 확대되어 표현될 수 있다.
여기서 사용되는 모든 용어들은 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미를 지니는 것으로 해석될 수 없다.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 실시예에 의한 플라즈마 장치를 설명한다. 본 실시예에 의한 플라즈마 장치는 전원을 제공받고 교류 신호를 형성하는 전원부와, 가스(gas)를 제공받아 출력 가스의 유량을 제어하는 가스 유량 조절부, 사용자의 입력을 제공 받는 입력부 및 입력에 따라 전원부 및 가스 유량 조절부를 제어하는 제어부를 포함하는 베이스 및 교류 신호를 승압하는 승압 트랜스포머와, 승압된 교류 신호와 가스가 제공되어 플라즈마를 형성하는 전극 구조 및 사용자의 플라즈마 토출 신호를 제공받는 스위치를 포함하며, 형성된 플라즈마를 토출하는 노즐(nozzle)을 포함하는 핸드피스(handpiece)를 포함하고, 핸드 피스는 커넥터를 통하여 베이스와 연결되어 교체 가능하다.
도 1은 본 실시예에 의한 플라즈마 장치(10)의 핸드피스(100)가 베이스(200)와 연결되어 베이스(200)에 거치된 상태를 도시한 도면이고, 도 2는 베이스(200)의 일 측면을 도시한 도면이다. 도 1 및 도 2로 예시된 실시예에서, 베이스(200)에는 개구부(280)가 형성될 수 있으며 개구부(280)에 핸드피스(100)가 삽입되어 거치될 수 있다. 도시되지 않은 다른 실시예에서, 베이스는 핸드피스(100)를 걸치거나, 자석을 이용하여 부착하는 형태로 거치할 수 있는 거치부를 포함할 수 있다.
베이스(200)에는 사용자의 입력을 제공받는 입력부(230)가 형성될 수 있다. 도 1 및 도 2로 예시된 실시예에서, 입력부(230)는, 플라즈마 장치(10)에 전원을 인가하거나 전원을 차단하는 전원 버튼(230p), 플라즈마를 형성하는 가스의 유량을 조절하는 유량 제어 버튼(230f), 플라즈마 내의 이온 농도를 제어하는 강도 버튼(230i, intensity button)를 포함한다.
일 실시예에서, 사용자가 전원 버튼(230p)을 누르면 플라즈마 장치(10)에 전원이 인가되고, 다시 한 번 전원 버튼(230p)을 누르면 플라즈마 장치(10)에 제공되는 전원이 차단된다.
사용자가 강도 버튼(230i)을 누를 때마다 핸드피스(100)를 통하여 토출되는 플라즈마내의 이온 농도(ion density)를 증가시킬 수 있으며, 일 예로, 사용자가 강도 버튼(230i)를 미리 설정된 횟수만큼 누르면 핸드피스(100)를 통하여 토출되는 플라즈마내의 이온 농도를 최소한으로 감소시킬 수 있다.
사용자는 유량 제어 버튼(230f)을 눌러 베이스(200)로 유입되는 가스를 핸드피스(100)로 제공할 수 있다. 일 실시예로, 사용자가 유량 제어 버튼(230f)를 눌러 핸드피스(100)로 가스를 제공하거나 차단할 수 있으며, 다른 예로, 유량 제어 버튼(230f)를 눌러 핸드피스(100)로 제공되는 가스의 유량을 증가 또는 감소시킬 수 있다. 일 실시예로, 사용자가 유량 제어 버튼(230f)을 눌러서 핸드피스(100)로 유입되는 가스의 유량을 증가시킬 수 있고, 미리 설정된 횟수만큼 누르면 핸드피스(100)로 유입되는 가스의 유량을 최소한으로 감소시킬 수 있다.
베이스(200)에는 사용자가 입력부(230)를 통하여 제공한 입력을 표시하는 표시부(240)가 형성될 수 있다. 도 1로 예시된 실시예와 같이 표시부(240)는 발광 소자(light emitting device)일 수 있다. 일 예로, 플라즈마 장치(10)에 전원이 인가되면 발광 소자 240p가 발광하고, 플라즈마 장치(10)에 전원이 차단되면 발광 소자 240p가 발광하지 않을 수 있다. 일 예로, 핸드피스(100)로 가스가 유입되면 발광 소자 240f가 발광하고, 핸드피스(100)로 가스가 유입되지 않으면 발광 소자 240f가 발광하지 않을 수 있다. 사용자가 설정한 핸드피스(100)를 통하여 토출되는 플라즈마내의 이온 농도에 따라 발광 소자 240i1, 240i2, 240i3이 점등하거나 소등할 수 있다.
도 3은 베이스(200)의 개요를 도시한 블록도이다. 도 1 내지 도 3을 참조하면, 베이스(200)는 전원을 제공받아 교류 신호인 펄스를 형성하는 전원부(210)와, 가스(gas)를 제공받아 출력 가스의 유량을 제어하는 가스 조절부(250), 사용자의 입력을 제공받는 입력부(230) 및 입력에 따라 전원부 및 가스 유량 조절부를 제어하는 제어부(240)를 포함한다.
일 실시예에서, 베이스(200)는 사용자의 입력을 표시하는 표시부(240)를 더 포함할 수 있다. 일 예로, 표시부(240)는 상술한 바와 같이 LED 등의 발광 소자(240p, 240f, 240i1, 240i2, 240i3)를 포함한다. 다른 예로, 표시부는 사용자가 입력부를 통하여 제공한 입력을 문자 및/또는 숫자로 표시하는 디스플레이를 포함할 수 있다.
전원부(210)는 외부 전력원과 연결되는 전원 커넥터(212)와, 전력을 제공받아 펄스로 변환하여 출력하는 오실레이터(oscillator, 214)를 포함한다. 일 실시예로, 전원 커넥터(212)는 직류 전압을 제공하는 전원에 연결될 수 있으며, 제공된 직류 전압을 오실레이터(214)에 출력할 수 있다. 전원부(210)는 제공된 직류 전압의 레벨을 변환하는 DC-DC 컨버터(미도시)를 더 포함할 수 있고, DC-DC 컨버터(미도시)가 변환한 직류를 오실레이터(214)에 제공할 수 있다.
다른 실시예로, 전원부(210)는 교류 전압을 제공하는 전원과 연결되고, 제공된 교류 전압을 목적하는 레벨의 직류로 변환하여 출력하는 AC-DC 컨버터(미도시)를 포함할 수 있다. 전원 커넥터(212)는 AC 전원과 연결되어 전력을 제공받고, AC-DC 컨버터에 제공한다. AC-DC 컨버터는 설정된 직류 전압을 오실레이터(214)에 제공할 수 있다.
오실레이터(214)는 직류 전압을 제공받고, 이로부터 펄스열(pulse train) 형성하여 출력한다. 일 실시예로, 오실레이터(214)가 출력하는 펄스열(pulse train)은 + 전압과 접지 전압 사이에서 스윙하거나, -전압과 접지 전압 사이에서 스윙하거나, + 전압과 ?? 전압 사이에서 스윙하는 펄스열 중 어느 하나일 수 있다.
오실레이터(214)가 출력하는 펄스열의 진폭은 사용자가 강도 버튼(230i)으로 조절한 강도에 상응하여 변화한다. 일 예로, 사용자가 최대 강도로 조절한 경우에 펄스열은 최대 진폭으로 스윙(swing)할 수 있으며, 사용자가 최소 강도로 조절한 경우에는 펄스열은 최소 진폭으로 스윙할 수 있다.
베이스(200)는 가스 조절부(250)를 포함한다. 가스 조절부(250)는 외부에서 가스가 연결되는 가스 커넥터(252)와, 제어부(240)에 의하여 제어되어 핸드피스(100)로 가스를 제공하는 가스를 제어하는 밸브(valve, 254)를 포함한다. 일 실시예로, 가스 커넥터(252)는 가스를 공급하는 가스 튜브와 체결되는 체결 구조일 수 있다. 일 예로, 가스는 아르곤 (Ar), 질소 (N2), 헬륨 (He) 및 산소 (O2) 가스 및 이들 중 어느 둘 이상이 혼합된 가스 중 어느 하나일 수 있다.
일 실시예로, 밸브(254)는 제어부(240)가 제공하는 제어 신호에 의하여 제공하는 유량이 제어되는 밸브일 수 있다. 일 예로, 밸브(254)는 솔레노이드 밸브(254)로, 가스의 제공 및 차단을 제어하거나, 제공되는 가스의 유량을 증가시키거나, 감소하도록 조절할 수 있다.
사용자는 입력부(230)를 통하여 제어부(240)에 사용자의 입력을 제공한다. 제어부(240)는 제공된 입력에 따라 오실레이터(214), 밸브(254) 및 표시부(240)를 제어할 수 있음은 상술한 바와 같다.
도 4(a)는 핸드피스(100)의 사시도이고, 도 4(b)는 핸드피스(100)의 측면도이다. 도 5는 핸드피스(100)의 개요를 도시한 블록도이다. 도 4(a), 도 4(b) 및 도 5를 참조하면, 핸드피스(100)는 오실레이터(214, 도 3 참조)가 출력한 교류 신호를 승압하는 승압 트랜스포머(110)와, 승압된 교류 신호와 가스가 제공되어 플라즈마를 형성하는 전극 구조(120) 및 사용자의 플라즈마 토출 신호를 제공받는 스위치(130)를 포함하며, 형성된 플라즈마를 토출하는 노즐(nozzle, 150)을 포함한다.
핸드피스(100)는 플라즈마의 토출을 제어하는 스위치(130)를 포함한다. 도시된 실시예에 의하면, 사용자는 핸드피스(100)를 파지하고 스위치(130)를 화살표 방향으로 밀어(push) 핸드피스(100)가 플라즈마를 토출하도록 제어할 수 있다.
일 실시예로, 핸드피스(100)는 사용자가 핸드피스(100)를 파지하였을 때, 실수로 핸드피스(100)을 놓치는 것을 방지할 수 있는 손가락 걸림 부재(140)를 더 포함할 수 있다. 손가락 걸림 부재(140)는 사용자가 핸드피스(100)를 파지하였을 때, 손가락 걸림 부재(140)를 검지와 중지 사이 혹은 중지와 약지 사이 등 손가락 사이에 걸쳐서 파지함으로써 보다 안정적으로 핸드피스(100)를 파지할 수 있도록 한다.
핸드피스(100)는 튜브(T)를 통하여 가스(gas)와 오실레이터가 형성한 펄스신호를 제공받는다. 도 4(a) 및 도 4(b)로 예시된 실시예에서, 튜브(T)는 단일한 피복으로 가스 튜브(122, 도 6 참조)와 펄스 신호를 전달하는 전원 선로를 피복한다.
승압 트랜스포머(110)는 오실레이터(214, 도 3 참조)가 출력한 펄스열을 튜브(T)에 포함된 전원 선로를 통해 제공받고, 이를 승압하여 전극 구조(120)에 제공한다. 일 예로, 승압 트랜스포머(110)는 제공된 펄스열의 진폭을 4kV ~ 10kV으로 승압하여 형성된 고전압(HV)를 전극 구조(120)에 인가한다.
전극 구조(120) 내로 제공된 가스가 전극 구조(120)에 인가된 고전압에 의하여 플라즈마로 형성된다. 도 6은 플라즈마를 형성하기 위한 전극 구조(120)의 실시예를 개요적으로 도시한 도면이다. 도 6을 참조하면, 전극 구조(120)는 가스(gas)가 유입되고, 형성된 플라즈마를 유도하는 튜브(122)와, 튜브 내면에 형성된 제1 전극(124)과, 튜브 외면에 형성된 제2 전극(128) 및 튜브(122)의 외면과 제2 전극(128) 사이에 위치하는 유전체(126)을 포함한다.
튜브(122)의 일단으로는 가스(gas)가 유입된다. 일 예로, 전극 구조(120)에 포함된 튜브(122)와 핸드피스(100)에 연결된 튜브(T, 도 1 참조)에 포함된 가스 튜브는 일체로 형성될 수 있다. 다른 예로, 핸드피스(100)와 연결된 튜브(T, 도 1 등 참조)는 전극 구조(120)의 튜브에 결합되어 연결될 수 있다. 전극 구조(120)에 포함된 튜브(122)는 형성된 플라즈마에 내구성이 강한 재질로 이루어질 수 있으며, 합성수지 재질일 수 있다.
튜브(122) 내부에는 제1 전극(124)이 형성될 수 있으며, 일 예로, 제1 전극(124)은 양호한 전도성을 가지는 금속 재질의 전극일 수 있다. 튜브(122) 외부에는 제2 전극(128)이 형성될 수 있으며, 일 예로, 제2 전극(128)은 양호한 전도성을 가지는 금속 재질일 수 있다.
튜브(122) 외면과 제2 전극(128) 사이에는 유전체(128)가 위치하며, 제1 전극(124)과 제2 전극(128) 사이에 인가되는 고전압(HV)을 절연한다. 일 실시예로, 유전체(128)는 세라믹 재질일 수 있다.
일 실시예로, 제1 전극(124)에 고전압(HV)이 제공되고, 제2 전극(128)에 접지전압이 제공되면 전극 구조(120)에서 디렉트 모드(direct mode) 플라즈마가 형성된다. 형성된 플라즈마는 전기장에 의하여 접지 전극을 향하여 튜브의 말단을 통해 노즐(150)로 유도된다. 디렉트 모드(direct mode) 플라즈마는 라이프 타임(life time)이 길어 튜브(122) 단부와 노즐(150) 사이를 길게 형성할 수 있다.
다른 실시예로, 제1 전극(124)에 접지전압이 제공되고, 제2 전극(128)에 고전압(HV)이 제공되면 전극 구조(120)에서 리모트 모드(remote mode) 플라즈마가 형성된다. 형성된 플라즈마는 가스의 유입 압력에 의하여 튜브의 말단을 통해 노즐로 유도된다. 리모트 모드(remote mode) 플라즈마를 형성하는 전극 구조는 튜브(122)와 노즐(150) 사이가 디렉트 모드의 플라즈마를 형성하는 전극 구조의 튜브(122)와 노즐(150) 사이에 비하여 짧을 수 있다.
도 7(a) 내지 도 7(c)는 노즐의 실시예들을 개요적으로 도시한 도면이다. 도 7(a)로 예시된 노즐(150a)는 단일한 토출구를 가진다. 단일한 토출구를 가지는 노즐(150a)는 한 곳에 집중적으로 플라즈마를 제공하여 처리를 수행할 수 있다.
도 7(b)로 예시된 노즐(150b)는 평면의 토출부(152)에 형성된 복수의 토출구를 가진다. 토출부(152)는 원형 및 사각형, 삼각형 등의 다각형 형태를 가질 수 있으며, 평면 형상의 처리 대상물에 플라즈마를 토출하기에 용이하다. 복수의 토출구를 가지는 노즐(150b)는 보다 넓은 면적에 플라즈마를 제공하여 플라즈마로 처리를 수행할 수 있다.
도 7(c)로 예시된 노즐(150c)는 토출구들이 위치한 토출부(152)가 곡면으로 형성된다. 토출부(152)는 원형 및 사각형, 삼각형 등의 다각형 형태를 가질 수 있으며, 토출부(152)가 곡면으로 형성되므로, 플라즈마 처리 대상물이 굽은 표면을 가져도 효과적으로 플라즈마를 제공하여 처리를 수행할 수 있다.
상술한 복수의 노즐들(150a, 150b, 150c)은 핸드피스에 결합되며, 사용자가 플라즈마로 처리하고자 하는 대상에 따라 베이스(200)와 핸드피스(100)를 탈부착하여 사용할 수 있다는 장점이 제공된다. 일 예로, 어느 한 지점(spot)을 플라즈마로 처리하고자 하는 경우에는 단일한 토출구를 가지는 노즐(150a)을 포함하는 핸드피스(100)를 베이스(200)와 결합하여 플라즈마 처리할 수 있으며, 시험용 슬라이드(slide) 등과 같이 평면 표면을 플라즈마로 처리하고자 하는 경우에는 복수의 토출구를 가지며 평평한 토출부(152)를 가지는 노즐(150b)을 포함하는 핸드피스(100)를 베이스(200)와 결합하여 사용할 수 있다.
베이스(200)에는 핸드피스 결합 커넥터(290, 도 2 참조)가 형성되며, 핸드피스(100)에 포함된 튜브(T, 도 4 참조)의 단부에는 핸드피스 결합 커넥터(290, 도 2 참조)와 상응하는 베이스 결합 커넥터(190)가 형성된다. 베이스 결합 커넥터(190)와 핸드피스 결합 커넥터(290)는 서로 호응하여 연결될 수 있다.
일 실시예로, 핸드피스 결합 커넥터(290)의 중앙에는 사용자의 입력에 따라 유량이 조절된 가스를 핸드피스(100)로 연결하는 가스 연결구(G)가 배치될 수 있으며, 튜브 연결구(G)를 둘러싸도록 도전성 선로들과 연결되는 전극(C)들이 배치될 수 있다.
일 실시예로, 베이스 결합 커넥터(190)와 핸드 피스 결합 커넥터(290)는 상호 결합하여 베이스(200)와 핸드피스(100) 사이에서 전기적 신호를 전달할 수 있다. 일 예로, 베이스 결합 커넥터(190)와 핸드 피스 결합 커넥터(290)에는 서로 상응하는 위치에 하나 이상의 전극(C)이 위치한다. 베이스 결합 커넥터(190)와 핸드 피스 결합 커넥터(290)에 위치하는 전극(C)들이 상호 전기적으로 연결되어 사용자가 입력부(230)를 통하여 제공한 입력에 상응하도록 승압 트랜스포머가 출력한 펄스열의 진폭을 제어하는 신호를 핸드피스(100)에 제공할 수 있다. 또한, 베이스 결합 커넥터(190)와 핸드 피스 결합 커넥터(290)에 위치하는 전극(C)들이 상호 전기적으로 연결되어 핸드피스(100)가 플라즈마를 토출하도록 사용자가 스위치(130)를 통해 제공하는 신호를 베이스(200)에 제공할 수 있다.
또한, 베이스 결합 커넥터(190)와 핸드 피스 결합 커넥터(290)에는 서로 상응하는 위치에 가스 연결구(G)가 위치한다. 베이스 결합 커넥터(190)와 핸드 피스 결합 커넥터(290)가 상호 결합하면 가스 연결구(G)가 상호 체결되어 가스 조절부(250)로부터 핸드피스(100)로 가스를 제공할 수 있다.
상술한 바와 같이 핸드피스(100)에는 다른 노즐들(150a, 150b, 150c)이 형성될 수 있고, 각 핸드피스(100)는 동일한 베이스 결합 커넥터(190)가 형성될 수 있다. 따라서, 베이스 결합 커넥터(190)과 핸드피스 결합 커넥터(190)를 사용하여 사용자가 사용하고자 하는 목적에 부합하는 핸드피스(100)를 베이스(200)에 손쉽게 연결할 수 있다.
본 발명에 대한 이해를 돕기 위하여 도면에 도시된 실시 예를 참고로 설명되었으나, 이는 실시를 위한 실시예로, 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.
100: 핸드피스 110: 승압 트랜스포머
120: 전극 구조 122: 튜브
124: 제1 전극 126: 유전체
128: 제2 전극 130: 스위치
140: 손가락 걸림 부재 150, 150a, 150b, 150c: 노즐
190: 베이스 결합 커넥터
200: 베이스 210: 전원부
212: 전원 커넥터 214: 오실레이터
230: 입력부 230p: 전원 버튼
230f: 유량 제어 버튼 230i: 강도 버튼
240: 표시부 240p, 240f, 240i1, 240i2, 240i3: 발광 소자
250: 가스 조절부 252: 가스 커넥터
254: 밸브 280: 개구부
290: 핸드피스 결합 커넥터

Claims (11)

  1. 플라즈마 장치로, 상기 플라즈마 장치는:
    전원을 제공받고 교류 신호를 형성하는 전원부와, 가스(gas)를 제공받아 출력 가스의 유량을 제어하는 가스 유량 조절부, 사용자의 입력을 제공 받는 입력부 및 상기 입력에 따라 상기 전원부 및 상기 가스 유량 조절부를 제어하는 제어부를 포함하는 베이스;
    상기 교류 신호를 승압하는 승압 트랜스포머(transformer)와, 승압된 상기 교류 신호와 상기 가스가 제공되어 플라즈마를 형성하는 전극 구조 및 상기 사용자의 플라즈마 토출 신호를 제공받는 스위치를 포함하며, 형성된 상기 플라즈마를 토출하는 노즐(nozzle)을 포함하는 핸드피스(handpiece) 및
    상기 가스가 흐르도록 상기 핸드피스와 상기 베이스를 연결하되 일단에 커넥터가 위치하여 상기 핸드피스를 교체 가능하도록 연결하는 튜브를 포함하고,
    상기 핸드피스는,
    상기 튜브와, 상기 튜브 내측에 형성된 제1 전극과, 상기 튜브 외측에 유전체를 개재하여 형성된 제2 전극을 더 포함하며,
    상기 제1 전극과 상기 제2 전극 중 어느 하나에는 교류 전압을 인가하고, 다른 하나에는 접지 전압을 제공하고, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극에 제공되는 전압을 전환하여 상기 핸드피스에서 형성되는 플라즈마의 모드를 제어할 수 있는 플라즈마 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 전원부는,
    제공된 전원으로부터 상기 교류 신호를 형성하는 오실레이터를 포함하는 플라즈마 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 전원부는,
    상기 전원으로 직류 전압이 제공되어 상기 직류 전압의 값을 변환하는 DC-DC 컨버터 및
    상기 전원으로 교류 전압이 제공되고, 직류 전압으로 변환하는 AD-DC 컨버터 중 어느 하나를 더 포함하는 플라즈마 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 가스 유량 조절부는,
    상기 제어부가 제공한 신호에 따라 출력 가스의 유량을 조절하는 밸브를 포함하는 플라즈마 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 입력부는,
    토출되는 상기 플라즈마의 이온 농도(ion density)를 조절하는 강도 버튼(intensity button),
    상기 출력 가스의 유량을 조절하는 유량 제어 버튼(flow control button) 및
    전원 버튼(power button) 중 어느 하나 이상을 포함하는 플라즈마 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 베이스는,
    상기 입력부에 의한 입력을 표시하는 표시부를 더 포함하는 플라즈마 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 승압 트랜스포머는,
    상기 교류 신호의 진폭을 4kV 내지 10kV 중 어느 한 전압으로 승압하는 플라즈마 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 베이스는,
    서로 다른 복수의 핸드피스와 교체 가능하도록 연결 가능하며,
    상기 서로 다른 복수의 핸드피스는 서로 다른 상기 전극 구조를 가지는 플라즈마 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 베이스는,
    서로 다른 복수의 핸드피스와 교체 가능하도록 연결 가능하며,
    상기 서로 다른 복수의 핸드피스는 서로 다른 노즐 구조를 가지는 플라즈마 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 베이스는,
    서로 다른 복수의 핸드피스와 교체 가능하도록 연결 가능하며,
    상기 서로 다른 복수의 핸드피스는 서로 다른 모드의 플라즈마를 형성하는 플라즈마 장치.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 베이스는 상기 출력 가스를 상기 핸드피스에 제공하는 가스 튜브와 상기 교류 신호를 상기 핸드피스에 제공하는 전원 선로를 통하여 연결되며,
    상기 가스 튜브와 상기 전원 선로는 동일한 피복으로 피복된 플라즈마 장치.
KR1020200006433A 2020-01-17 2020-01-17 교체 가능한 핸드 피스를 가지는 플라즈마 장치 KR102481599B1 (ko)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200006433A KR102481599B1 (ko) 2020-01-17 2020-01-17 교체 가능한 핸드 피스를 가지는 플라즈마 장치
EP20207734.3A EP3852504A1 (en) 2020-01-17 2020-11-16 Plasma device having exchangeable handpiece
JP2020194430A JP2021114462A (ja) 2020-01-17 2020-11-24 プラズマ装置
US17/103,011 US11664204B2 (en) 2020-01-17 2020-11-24 Plasma device having exchangeable handpiece
CN202011362099.1A CN113141699A (zh) 2020-01-17 2020-11-27 具有可更换手持件的等离子体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200006433A KR102481599B1 (ko) 2020-01-17 2020-01-17 교체 가능한 핸드 피스를 가지는 플라즈마 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210092932A KR20210092932A (ko) 2021-07-27
KR102481599B1 true KR102481599B1 (ko) 2022-12-27

Family

ID=73452038

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200006433A KR102481599B1 (ko) 2020-01-17 2020-01-17 교체 가능한 핸드 피스를 가지는 플라즈마 장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11664204B2 (ko)
EP (1) EP3852504A1 (ko)
JP (1) JP2021114462A (ko)
KR (1) KR102481599B1 (ko)
CN (1) CN113141699A (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102642992B1 (ko) * 2021-04-29 2024-03-04 (주)펨토사이언스 플라즈마 생성장치
KR102588789B1 (ko) 2022-10-24 2023-10-12 김무환 착탈식 분사 가이드부가 구비되는 플라즈마 발생장치
KR102567162B1 (ko) 2022-11-25 2023-08-14 김무환 색표지체를 포함하는 착탈식 분사 가이드부가 구비되는 플라즈마 발생장치

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101422823B1 (ko) * 2013-07-17 2014-08-01 주식회사 다온비티아이 플라즈마 피부 처리 장치

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3834392A (en) * 1973-02-01 1974-09-10 Kli Inc Laparoscopy system
US5041110A (en) * 1989-07-10 1991-08-20 Beacon Laboratories, Inc. Cart for mobilizing and interfacing use of an electrosurgical generator and inert gas supply
JP3046274B2 (ja) * 1998-04-13 2000-05-29 株式会社メックス 電気外科器の高電圧電源装置
US7335199B2 (en) * 2000-02-22 2008-02-26 Rhytec Limited Tissue resurfacing
GB0425765D0 (en) * 2004-11-23 2004-12-22 Gyrus Medical Ltd Tissue resurfacing
EP1148770A3 (de) * 2000-04-21 2008-01-02 Söring GmbH Plasmagenerator für die HF-Chirurgie
US6475215B1 (en) * 2000-10-12 2002-11-05 Naim Erturk Tanrisever Quantum energy surgical device and method
JP2006100078A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Tama Tlo Kk プラズマトーチ
GB0503380D0 (en) * 2005-02-17 2005-03-23 Rhytec Ltd Tissue treatment system
US8668687B2 (en) * 2010-07-29 2014-03-11 Covidien Lp System and method for removing medical implants
US9144453B2 (en) * 2010-11-08 2015-09-29 Bovie Medical Corporation Multi-mode electrosurgical apparatus
US9387269B2 (en) * 2011-01-28 2016-07-12 Bovie Medical Corporation Cold plasma jet hand sanitizer
KR101171091B1 (ko) 2011-09-16 2012-08-06 주식회사 메디플 치과 응용을 위한 대기압 알에프(ｒｆ) 플라즈마 치료기
CN103055332B (zh) * 2012-12-31 2014-09-17 云南航天工业有限公司 一种大气压介质阻挡放电等离子体灭菌装置
US10237962B2 (en) * 2014-02-26 2019-03-19 Covidien Lp Variable frequency excitation plasma device for thermal and non-thermal tissue effects
JP6651375B2 (ja) * 2015-08-31 2020-02-19 積水化学工業株式会社 プラズマ装置
KR101818142B1 (ko) * 2016-01-11 2018-02-21 김대용 오존을 이용하는 의료용 치료 장치
MX2019005654A (es) * 2016-11-17 2019-08-29 Apyx Medical Corp Aparato electroquirurgico con compensacion dinamica de corriente de fuga y modulacion dinamica de rf.
KR101859187B1 (ko) * 2017-08-10 2018-05-21 (주)쉬엔비 피부미용 및 피부재생 치료가 가능한 하이브리드 플라즈마 장치
CN208462122U (zh) * 2018-08-02 2019-02-01 王诗君 基于压电陶瓷变压器的冷等离子体射流系统
KR102042559B1 (ko) * 2019-05-30 2019-12-02 (주)쉬엔비 플라즈마를 이용하여 피부미용 및 피부재생이 가능한 플라즈마 핸드피스 및 이를 이용한 플라즈마 발생장치

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101422823B1 (ko) * 2013-07-17 2014-08-01 주식회사 다온비티아이 플라즈마 피부 처리 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210092932A (ko) 2021-07-27
US20210225620A1 (en) 2021-07-22
US11664204B2 (en) 2023-05-30
CN113141699A (zh) 2021-07-20
EP3852504A1 (en) 2021-07-21
JP2021114462A (ja) 2021-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102481599B1 (ko) 교체 가능한 핸드 피스를 가지는 플라즈마 장치
US9558918B2 (en) Cold plasma treatment devices and associated methods
US8475451B2 (en) Medical plasma generator and endoscope using the same
CA2477559C (en) Tip gas distributor
MY136134A (en) Improved consumable electrode arc welding
CN102523674B (zh) 手持式等离子体电筒
JP2020520534A (ja) 大気圧プラズマ装置
KR20190019806A (ko) 생체 피부용 플라즈마 발생기
KR20120005862A (ko) 저온 상압 플라즈마 제트 발생기
KR101189481B1 (ko) 의료용 플라즈마 발생 장치 및 그를 이용한 내시경
KR101150387B1 (ko) 모세관 구동 전극형 대기압 플라즈마 제트 발생기
WO2005120429A1 (fr) Dispositif portable pour soins de la peau et du visage
KR102152813B1 (ko) 건 타입 휴대용 대기압 플라즈마 분사장치
US6933461B2 (en) Tips and contact members having ridges for use in a contact start plasma arc torch
CN115279003A (zh) 等离子体生成装置
US20200083023A1 (en) Portable plasma device
KR102339970B1 (ko) 핸드형 저온 마이크로웨이브 플라즈마 발생 장치
KR20210049405A (ko) 피부 치료용 플라즈마 발생장치
JP3046274B2 (ja) 電気外科器の高電圧電源装置
KR20160010230A (ko) 다용도 적용형 플라즈마 발생시스템
KR20200092081A (ko) 대기압 플라즈마 분사장치
RU2409398C1 (ru) Устройство для профилактического и лечебного облучения
RU87632U1 (ru) Устройство для профилактического и лечебного облучения
EP4221467A3 (en) Portable plasma jet hand tool
JPH0212797A (ja) 超高圧水銀ランプの点灯用電源装置

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant