KR102480646B1 - Active energy ray curable resin composition with white color and cured product thereof, and printed wiring board - Google Patents

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Abstract

(과제) 광경화 공정의 후에, 추가로, 열경화 공정을 행하지 않아도, 땜납 내열성, 밀착성, 도막 경도 등의 기본 특성을 구비한 경화물을 형성할 수 있는 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 제공한다.
(해결 수단) 일반식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)와 아크릴산 (b) 및, 1분자 중에 적어도 2개 이상의 수산기와 1개 이상의 카복시기를 갖는 화합물 (c)의 반응물 (E)에 다염기산 무수물 (d)를 반응시켜 얻어지는 반응성 폴리카본산 화합물 (A), (A) 이외의 반응성 화합물 (B), 광중합 개시제 (C) 및 산화 티탄 (D)를 함유하는 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물이다.
(Problem) To provide a white active energy ray-curable resin composition capable of forming a cured product having basic properties such as solder heat resistance, adhesion, and coating film hardness without further performing a thermal curing step after the photocuring step. .
(Solution) A polybasic acid anhydride is added to the reaction product (E) of the epoxy resin (a) represented by the general formula (1), acrylic acid (b), and the compound (c) having at least two hydroxyl groups and one or more carboxyl groups in one molecule. A white active energy ray-curable resin composition containing a reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained by reacting (d), a reactive compound (B) other than (A), a photopolymerization initiator (C), and titanium oxide (D).

Description

백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물 및 그의 경화물, 그리고 프린트 배선판{ACTIVE ENERGY RAY CURABLE RESIN COMPOSITION WITH WHITE COLOR AND CURED PRODUCT THEREOF, AND PRINTED WIRING BOARD}White active energy ray-curable resin composition, cured product thereof, and printed wiring board

본 발명은, 프린트 배선판 등의 기판에 형성된 도체 회로 패턴을 피복하기 위한 피복 재료에 적합한 활성 에너지선 경화형 수지 조성물 및, 이를 경화시킨 경화물에 의해 피복한 프린트 배선판 등의 피복 형성품에 관한 것이다. The present invention relates to an active energy ray-curable resin composition suitable for a coating material for covering a conductor circuit pattern formed on a substrate such as a printed wiring board, and a coated article such as a printed wiring board coated with a cured product obtained by curing the same.

프린트 배선판은, 일반적으로, 기판의 위에 도체 회로의 패턴을 형성하고, 그 회로 패턴의 납땜 랜드(land)에 전자 부품을 납땜에 의해 탑재하기 위해 사용된다. 그 납땜 랜드(land)를 제외하는 회로 부분은 영구 보호 피막으로서의 솔더 레지스트막에 의해 피복된다. 이에 따라, 프린트 배선판에 전자 부품을 납땜할 때, 땜납이 불필요한 부분에 부착하는 것을 방지함과 함께, 회로 도체가 공기에 직접 노출되어 산화나 습도에 의해 부식되는 것을 방지한다. A printed wiring board is generally used to form a pattern of a conductor circuit on a board and to mount electronic components on solder lands of the circuit pattern by soldering. Circuit portions other than the solder lands are covered with a solder resist film as a permanent protective film. This prevents solder from adhering to unnecessary parts when soldering electronic components on a printed wiring board, and prevents circuit conductors from being directly exposed to air and corroded by oxidation or humidity.

종래, 땜납 내열성이나 도막 경도 등의 기본 특성을 구비한 솔더 레지스트막을 프린트 배선판에 형성하려면, 특허문헌 1과 같이, 광경화 공정과 열경화 공정을 필요로 하고 있었다. 우선, 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 프린트 배선판에 도포 후, 필요에 따라서, 60∼100℃ 정도의 온도에서 예비 건조를 행하여, 도막을 형성한다. 다음으로, 활성 에너지선 경화형 수지 조성물 상에, 회로 패턴의 랜드(land) 이외를 투광성으로 한 패턴을 갖는 네거티브 필름을 밀착시켜, 활성 에너지선(예를 들면, 자외선)을 조사하여 광경화시킨다. 또한 비(非)노광 영역을 희(希)알칼리 수용액으로 제거하여 도막을 현상한다. 마지막으로, 140∼180℃ 정도의 온도로 도막을 열경화시켜, 프린트 배선판 상에 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화 도막을 형성시킨다. Conventionally, in order to form a solder resist film provided with basic characteristics such as solder heat resistance and coating film hardness on a printed wiring board, a photocuring step and a thermosetting step have been required as in Patent Document 1. First, after apply|coating an active energy ray-curable resin composition to a printed wiring board, pre-drying is performed at the temperature of about 60-100 degreeC as needed, and a coating film is formed. Next, on the active energy ray-curable resin composition, a negative film having a light-transmitting pattern except for the lands of the circuit pattern is brought into close contact, and photocured by irradiation with active energy rays (eg, ultraviolet rays). In addition, the non-exposed area is removed with a diluted alkaline aqueous solution, and the coating film is developed. Finally, the coating film is thermally cured at a temperature of about 140 to 180°C to form a cured coating film of the active energy ray-curable resin composition on the printed wiring board.

그러나, 이러한 종래의 솔더 레지스트막 형성 방법에서는, 광경화 공정과 열경화 공정을 행하기 때문에, 피막 형성품의 생산성이 향상하지 않는다는 문제가 있었다. 또한, 내열성이 낮은 기판에 솔더 레지스트막을 형성함에 있어서, 열경화 공정의 열이 기판의 변형이라는 기판의 품질 열화를 일으키는 문제가 있었다. However, in such a conventional solder resist film formation method, since a photocuring process and a thermosetting process are performed, there existed a problem that productivity of a film formed product did not improve. In addition, in forming a solder resist film on a substrate having low heat resistance, there is a problem in that the heat of the thermal curing process causes deterioration in quality of the substrate, such as deformation of the substrate.

특허문헌 2에는, 불포화기 함유 폴리카본산을 함유하는 수지 조성물이 솔더 레지스트에 적합하다는 것이 개시되어 있지만, 산화 티탄 등을 분산시킨 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관해서는, 전혀 기재가 되어 있지 않다. Patent Document 2 discloses that a resin composition containing an unsaturated group-containing polycarboxylic acid is suitable for a solder resist, but there is no description of a white active energy ray-curable resin composition in which titanium oxide or the like is dispersed. .

일본공개특허공보 2008-257044호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-257044 일본특허공보 제2704661호Japanese Patent Publication No. 2704661

본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 본 발명의 목적은, 광경화 공정의 후에, 추가로, 열경화 공정을 행하지 않아도, 땜납 내열성, 밀착성, 도막 경도 등의 기본 특성을 구비한 경화물을 형성할 수 있는 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 제공하는 것에 있다. The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is a cured product having basic properties such as solder heat resistance, adhesion, coating film hardness, and the like, even without performing a thermal curing step after the photocuring step. It is to provide a white active energy ray-curable resin composition capable of forming.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해, 예의 검토를 행한 결과, 특정의 화합물 및 조성을 갖는 수지 조성물이 상기 과제를 해결하는 것을 발견하여, 본 발명에 도달했다. As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, the present inventors discovered that the resin composition which has a specific compound and composition solves the said subject, and reached this invention.

즉, 본 발명은,That is, the present invention,

(1) 반응성 폴리카본산 화합물 (A), 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 이외의 반응성 화합물 (B), 광중합 개시제 (C) 및 산화 티탄 (D)를 함유하는 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물로서, 반응성 폴리카본산 화합물 (A)가, 일반식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)와 1분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카복시기를 갖는 화합물 (b) 및 필요에 따라서 1분자 중에 적어도 2개 이상의 수산기와 1개 이상의 카복시기를 갖는 화합물 (c)의 반응물 (E)에, 추가로 다염기산 무수물 (d)를 반응시켜 얻어지는 반응성 폴리카본산 화합물 (A)인, 당해 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관한 것이다: (1) A white active energy ray-curable resin composition containing a reactive polycarboxylic acid compound (A), a reactive compound (B) other than the reactive polycarboxylic acid compound (A), a photopolymerization initiator (C), and titanium oxide (D), , The reactive polycarboxylic acid compound (A) is an epoxy resin represented by the general formula (1) (a) and a compound (b) having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group and at least one carboxy group in one molecule, and optionally The reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained by further reacting a polybasic acid anhydride (d) with the reactant (E) of the compound (c) having at least two or more hydroxyl groups and one or more carboxy groups in one molecule. It relates to an energy ray curable resin composition:

Figure 112016032265830-pat00001
Figure 112016032265830-pat00001

(식 중, n은 0∼2의 정수를 나타냄). (In the formula, n represents an integer of 0 to 2).

(2) 또한 본 발명은, 반응성 폴리카본산 화합물 (A)가, 일반식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)와 1분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카복시기를 갖는 화합물 (b) 및 1분자 중에 적어도 2개 이상의 수산기와 1개 이상의 카복시기를 갖는 화합물 (c)의 반응물 (E)에, 추가로 다염기산 무수물 (d)를 반응시켜 얻어지는 반응성 폴리카본산 화합물 (A)인, 상기 (1)에 기재된 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관한 것이다. (2) In the present invention, the reactive polycarboxylic acid compound (A) is a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group and at least one carboxy group in one molecule with the epoxy resin (a) represented by the general formula (1) Reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained by further reacting a polybasic acid anhydride (d) with the reactant (E) of (b) and the compound (c) having at least two or more hydroxyl groups and one or more carboxy groups in one molecule. , It is related with the white active energy ray-curable resin composition as described in said (1).

(3) 또한 본 발명은, 광중합 개시제 (C)가 아실포스핀계 광중합 개시제와 벤조일옥심계 광중합 개시제이며, 그의 배합 비율은, 벤조일옥심계 광중합 개시제 1질량부에 대하여, 아실포스핀계 광중합 개시제가 2∼100질량부인 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관한 것이다. (3) Further, in the present invention, the photopolymerization initiator (C) is an acylphosphine-based photopolymerization initiator and a benzoyloxime-based photopolymerization initiator, and the blending ratio thereof is 2 parts by mass of the acylphosphine-based photopolymerization initiator with respect to 1 part by mass of the benzoyloxime-based photopolymerization initiator. It is related with the white active energy ray-curable resin composition as described in said (1) or (2) which is -100 mass parts.

(4) 또한 본 발명은, 광중합 개시제 (C)가 아실포스핀계 광중합 개시제와 벤조일옥심계 광중합 개시제이며, 그의 배합 비율은, 벤조일옥심계 광중합 개시제 1질량부에 대하여, 아실포스핀계 광중합 개시제가 3∼50질량부인 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관한 것이다. (4) Further, in the present invention, the photopolymerization initiator (C) is an acylphosphine-based photopolymerization initiator and a benzoyloxime-based photopolymerization initiator, and the blending ratio thereof is 3 parts by mass of the acylphosphine-based photopolymerization initiator with respect to 1 part by mass of the benzoyloxime-based photopolymerization initiator. It is related with the white active energy ray-curable resin composition as described in said (1) or (2) which is -50 mass parts.

(5) 또한 본 발명은, 광중합 개시제 (C)가 아실포스핀계 광중합 개시제와 벤조일옥심계 광중합 개시제이며, 그의 배합 비율은, 벤조일옥심계 광중합 개시제 1질량부에 대하여, 아실포스핀계 광중합 개시제가 4∼10질량부인 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관한 것이다. (5) Further, in the present invention, the photopolymerization initiator (C) is an acylphosphine-based photopolymerization initiator and a benzoyloxime-based photopolymerization initiator, and the blending ratio thereof is 4 parts by mass of the acylphosphine-based photopolymerization initiator with respect to 1 part by mass of the benzoyloxime-based photopolymerization initiator. It is related with the white active energy ray-curable resin composition as described in said (1) or (2) which is -10 mass parts.

(6) 또한 본 발명은, 아실포스핀계 광중합 개시제가 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메틸벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드 및 (2,4,6-트리메틸벤조일)에톡시페닐포스핀옥사이드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며, 벤조일옥심계 광중합 개시제가 1,2-옥탄디온-1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)], 2-프로판디온-2-O-벤조일옥심, 1-페닐-1,2-프로판디온2-O-벤조일옥심으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 상기 (3) 내지 (5)에 기재된 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관한 것이다. (6) In addition, the present invention, the acylphosphine-based photopolymerization initiator is 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2 ,6-dimethylbenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide and (2,4,6-trimethylbenzoyl) ethoxyphenyl phosphine oxide, and at least one selected from the group consisting of benzoyl oxime The photopolymerization initiator is 1,2-octanedione-1-[4-(phenylthio)-2-(O-benzoyloxime)], 2-propanedione-2-O-benzoyloxime, 1-phenyl-1,2- It is related with the white active energy ray-curable resin composition as described in said (3)-(5) which is 1 or more types selected from the group which consists of propanedione 2-O-benzoyl oxime.

(7) 또한 본 발명은, 상기 (1) 내지 (6)의 어느 1항에 기재된 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물에 관한 것이다. (7) The present invention also relates to a cured product of the white active energy ray-curable resin composition according to any one of (1) to (6) above.

(8) 또한 본 발명은, 상기 (1) 내지 (6)의 어느 1항에 기재된 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화 피막을 갖는 프린트 배선판에 관한 것이다. (8) The present invention also relates to a printed wiring board having a cured coating of the white active energy ray-curable resin composition according to any one of (1) to (6) above.

본 발명의 실시 형태에 의하면, 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 배합함으로써, 노광에 의한 광경화 공정 후에 열경화 공정을 행하지 않아도, 즉, 활성 에너지선에 의한 노광 처리에 의해, 반사율, 땜납 내열성, 밀착성 및 도막 경도 등의 제(諸)특성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명의 실시 형태에서는, 광경화 공정 후에 열경화 공정을 행하지 않아도, 상기한 제특성이 우수한 경화물을 얻을 수 있기 때문에, 제품, 예를 들면, 경화 피막을 갖는 프린트 배선판의 생산 효율이 향상한다. According to the embodiment of the present invention, by blending the reactive polycarboxylic acid compound (A), the reflectance and solder heat resistance can be improved without performing the thermal curing step after the photocuring step by exposure, that is, by exposure treatment with active energy rays. , a cured product having excellent properties such as adhesion and film hardness can be obtained. In addition, in the embodiment of the present invention, since a cured product excellent in the various characteristics described above can be obtained without performing a thermal curing step after the photocuring step, the production efficiency of a product, for example, a printed wiring board having a cured film is improved. improve

(발명을 실시하기 위한 형태)(Mode for implementing the invention)

이하, 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명에 있어서의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)는, 일반식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)와 1분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카복시기를 갖는 화합물 (b) 및 필요에 따라서 1분자 중에 적어도 2개 이상의 수산기와 1개 이상의 카복시기를 갖는 화합물 (c)의 반응물 (E)에, 추가로 다염기산 무수물 (d)를 반응시켜 얻어진다. The reactive polycarboxylic acid compound (A) in the present invention is an epoxy resin represented by Formula (1) (a) and a compound (b) having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group and at least one carboxy group in one molecule. And it is obtained by making a polybasic acid anhydride (d) react with the reaction material (E) of the compound (c) which has at least 2 or more hydroxyl group and 1 or more carboxy group in 1 molecule as needed.

즉, 본 발명에 있어서의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)는, 에폭시 수지 (a)와 화합물 (b)의 반응물 (E)에 다염기산 무수물 (d)를 반응시키거나, 또는 에폭시 수지 (a)와 화합물 (b)와 화합물 (c)의 반응물 (E)에 다염기산 무수물 (d)를 반응시켜 얻어진다. That is, the reactive polycarboxylic acid compound (A) in the present invention is obtained by reacting the polybasic acid anhydride (d) with the reaction product (E) of the epoxy resin (a) and the compound (b), or with the epoxy resin (a) It is obtained by making a polybasic acid anhydride (d) react with the reactant (E) of compound (b) and compound (c).

본 발명에 있어서는, 에폭시카복실레이트화 반응에 의해, 분자쇄 중에 에틸렌성 불포화기와 수산기를 도입함으로써, 본 발명의 특징이 발휘되는 것이다. In the present invention, the characteristics of the present invention are exhibited by introducing an ethylenically unsaturated group and a hydroxyl group into the molecular chain through an epoxy carboxylate reaction.

본 발명에 있어서의 일반식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)는, (4(4(1,1-비스(p-하이드록시페닐)-에틸)α,α-디메틸벤질)페놀)(이하, 페놀 화합물 (PA1)이라고 함)과 에피할로하이드린을 반응시켜 얻어진다. 본 에폭시 수지는, 하기 대표 구조로서 나타난다: The epoxy resin (a) represented by the general formula (1) in the present invention is (4(4(1,1-bis(p-hydroxyphenyl)-ethyl)α,α-dimethylbenzyl)phenol) (hereinafter , It is obtained by reacting a phenolic compound (PA1)) with epihalohydrin. This epoxy resin is represented by the following representative structure:

Figure 112016032265830-pat00002
Figure 112016032265830-pat00002

(식 중, n은 0∼2의 정수를 나타냄). (In the formula, n represents an integer of 0 to 2).

본 에폭시 수지는 TECMOREVG3101L(프린텍 제조), NC-6300C(닛뽄가야쿠 제조), NC-6300H(닛뽄가야쿠 제조) 등으로서, 일반적으로 입수가 가능하지만, 이하의 제조법에 의해서도 일반식 (1)의 화합물은 제조하여 얻을 수 있다. This epoxy resin is generally available as TECMOREVG3101L (manufactured by Printec), NC-6300C (manufactured by Nippon Gayaku), NC-6300H (manufactured by Nippon Gayaku), etc., but also by the following manufacturing method, the general formula (1) The compound can be obtained by manufacturing.

또한, 본 발명에 있어서 이용되는 에폭시 수지 (a)는 상온에서 고체인 것이 보다 바람직하다. 본 발명에 있어서는 통상, 연화점이 50∼100℃, 또는 융점이 50∼190℃인 에폭시 수지 (a)가 사용되지만, 연화점이 60∼100℃, 또는 융점이 60∼190℃인 것이 바람직하다. 또한, 에폭시 당량이 130∼500g/eq.인 것이 본 발명에 있어서는 통상 이용될 수 있지만, 바람직하게는 150∼400g/eq., 더욱 바람직하게는 170∼300g/eq.이다. 에폭시 당량이 지나치게 작으면 딱딱하고, 물러지기 쉬운 경향이 강하고, 에폭시 당량이 지나치게 큰 경우, 경도가 나오기 어려워, 유리 전이점이 낮아지는 경우가 있다. Moreover, as for the epoxy resin (a) used in this invention, it is more preferable that it is solid at normal temperature. In the present invention, an epoxy resin (a) having a softening point of 50 to 100°C or a melting point of 50 to 190°C is usually used, but one having a softening point of 60 to 100°C or a melting point of 60 to 190°C is preferred. In addition, epoxy equivalents of 130 to 500 g/eq. can usually be used in the present invention, but are preferably 150 to 400 g/eq., and more preferably 170 to 300 g/eq. If the epoxy equivalent is too small, it tends to be hard and brittle, and if the epoxy equivalent is too large, the hardness is difficult to come out and the glass transition point may be low.

페놀 화합물 (PA1)과 에피할로하이드린의 반응에 있어서 사용하는 에피할로하이드린으로서는, 에피클로로하이드린, α-메틸에피클로로하이드린, γ-메틸에피클로로하이드린, 에피브로모하이드린 등을 들 수 있고, 본 발명에 있어서는, 공업적으로 입수가 용이한 에피클로로하이드린이 바람직하다. 에피할로하이드린의 사용량은, 페놀 화합물 (PA1)의 수산기 1몰에 대하여 통상 2∼15몰이며, 바람직하게는 4∼10몰이다. 나머지 과잉의 에피할로하이드린을 사용하면 생산성이 나쁠 뿐만 아니라, 제조되는 에폭시 수지의 연화점이 낮아져, 프리프레그로 한 경우의 택성 등에 좋은 영향을 주지 않는 경우가 있다. 또한, 에피할로하이드린의 양이 2몰 미만이면, n의 값이 커져버려 제조 중에 겔화하기 쉬워지는 경우가 있다. Examples of the epihalohydrin used in the reaction between the phenolic compound (PA1) and epihalohydrin include epichlorohydrin, α-methylepichlorohydrin, γ-methylepichlorohydrin, and epibromohydrin. These etc. are mentioned, In this invention, industrially easily available epichlorohydrin is preferable. The amount of epihalohydrin used is usually 2 to 15 moles, preferably 4 to 10 moles, per mole of the hydroxyl group of the phenolic compound (PA1). When the remaining excess epihalohydrin is used, not only productivity is bad, but also the softening point of the epoxy resin to be produced is lowered, which may not have a good effect on tackiness or the like when used as a prepreg. In addition, when the amount of epihalohydrin is less than 2 mol, the value of n may become large and gelation may easily occur during production.

상기 에폭시화 반응에 있어서는, 알칼리 금속 수산화물을 사용하는 것이 바람직하다. 당해 알칼리 금속 수산화물로서는, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨 등을 들 수 있다. 또한, 알칼리 금속 수산화물을, 고형물로서 이용해도 좋고, 그의 수용액으로서 이용해도 좋다. 예를 들면, 알칼리 금속 수산화물을 수용액으로서 사용하는 경우에 있어서는, 알칼리 금속 수산화물의 수용액을 연속적으로 반응계 내에 첨가함과 함께, 감압하 또는 상압하에서 연속적으로 물 및 에피할로하이드린을 유출시키고, 추가로 분액하여 물을 제거하여, 에피할로하이드린을 반응계 내에 연속적으로 되돌리는 방법에 의해 에폭시화 반응을 행할 수 있다. 또한 고형을 사용하는 경우, 그 취급의 용이함, 용해성 등의 문제로부터 플레이크 형상인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 알칼리 금속 수산화물의 사용량은, 페놀 화합물 (PA1)의 수산기 1몰에 대하여 통상 0.90∼1.5몰이고, 바람직하게는 1.01∼1.25몰이며, 보다 바람직하게는 1.01∼1.15몰이다. In the epoxidation reaction, it is preferable to use an alkali metal hydroxide. Examples of the alkali metal hydroxide include sodium hydroxide and potassium hydroxide. In addition, an alkali metal hydroxide may be used as a solid substance or as an aqueous solution thereof. For example, when an alkali metal hydroxide is used as an aqueous solution, an aqueous solution of the alkali metal hydroxide is continuously added into the reaction system, while water and epihalohydrin are continuously distilled off under reduced pressure or normal pressure, and The epoxidation reaction can be performed by a method in which water is removed by liquid separation and epihalohydrin is continuously returned to the reaction system. Moreover, when using a solid, it is preferable to use a flake-shaped thing from problems, such as the ease of handling and solubility. The amount of the alkali metal hydroxide used is usually 0.90 to 1.5 moles, preferably 1.01 to 1.25 moles, more preferably 1.01 to 1.15 moles per mole of the hydroxyl group of the phenolic compound (PA1).

상기 에폭시화 반응에 있어서는, 반응을 촉진하기 위해 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 트리메틸벤질암모늄클로라이드 등의 4급 암모늄염이나, 테트라메틸포스포늄클로라이드, 테트라메틸포스포늄브로마이드, 트리메틸벤질포스포늄클로라이드, 트리페닐벤질포스포늄클로라이드, 트리페닐에틸브로마이드 등의 4급 포스포늄염을 촉매로서 첨가해도 좋다. 이들 4급염의 사용량은, 페놀 화합물 (PA1)의 수산기 1몰에 대하여 통상 0.1∼15g이며, 바람직하게는 0.2∼10g이다. In the epoxidation reaction, to promote the reaction, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, and trimethylbenzylammonium chloride, tetramethylphosphonium chloride, tetramethylphosphonium bromide, and trimethylbenzylphosphonium chloride , A quaternary phosphonium salt such as triphenylbenzylphosphonium chloride or triphenylethyl bromide may be added as a catalyst. The amount of these quaternary salts used is usually 0.1 to 15 g, preferably 0.2 to 10 g, per mole of the hydroxyl group of the phenolic compound (PA1).

상기 에폭시화 반응에 있어서는, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올 등의 알코올류, 테트라하이드로푸란, 디옥산 등의 에테르류, 디메틸술폰, 디메틸술폭사이드, 디메틸이미다졸리디논 등의 비프로톤성 극성 용매 등을 첨가하여 반응을 행하는 것이 반응 진행상 바람직하고, 본 발명에 있어서는 특히 그 광학 특성으로부터 알코올류 및/또는 에테르류의 사용이 바람직하다. In the epoxidation reaction, alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, aprotic polar solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and dimethyl imidazolidinone, etc. It is preferable to carry out the reaction by adding , and in the present invention, the use of alcohols and/or ethers is particularly preferable in view of their optical properties.

상기 알코올류나 에테르류를 사용하는 경우, 그 사용량은, 에피할로하이드린의 사용량에 대하여 통상 2∼50질량%이며, 바람직하게는 4∼20질량%이다. 한편, 상기 비프로톤성 극성 용매를 이용하는 경우, 그 사용량은, 에피할로하이드린의 사용량에 대하여 통상 5∼100질량%이며, 바람직하게는 10∼80질량%이다. When the above alcohols or ethers are used, their amount is usually 2 to 50% by mass, preferably 4 to 20% by mass, based on the amount of epihalohydrin. On the other hand, when the aprotic polar solvent is used, the amount used is usually 5 to 100% by mass, preferably 10 to 80% by mass, based on the amount of epihalohydrin.

상기 에폭시화 반응에 있어서, 반응 온도는 통상 30∼90℃이며, 바람직하게는 35∼80℃이다. 한편, 반응 시간은 통상 0.5∼10시간이며, 바람직하게는 1∼8시간이다. 본 반응은 상압이라도 감압하라도 상관없고, 감압 조건에서 물-에피할로하이드린의 공비(共費) 탈수 조건으로 반응해도 상관없다. 이들의 에폭시화 반응의 반응물은, 물세정 후, 또는 물세정 없이 가열 감압하에서 에피할로하이드린이나 용매 등을 제거함으로써 정제될 수 있다. 또한, 추가로 가수 분해성 할로겐이 적은 에폭시 수지로 하기 위해, 회수한 반응물을 톨루엔, 메틸이소부틸케톤 등의 용제로 용해하고, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨 등의 알칼리 금속 수산화물의 수용액을 첨가하여, 부(副)생성물의 폐환 반응을 행하고, 부생성물인 할로하이드린의 폐환을 확실한 것으로 하는 것은 바람직하다. In the above epoxidation reaction, the reaction temperature is usually 30 to 90°C, preferably 35 to 80°C. On the other hand, the reaction time is usually 0.5 to 10 hours, preferably 1 to 8 hours. This reaction may be carried out under normal pressure or reduced pressure, and may be reacted under reduced pressure conditions under conditions of azeotropic dehydration of water and epihalohydrin. The reaction product of these epoxidation reactions can be purified by removing epihalohydrin, a solvent, or the like after washing with water or without washing with water under heating and reduced pressure. Further, in order to obtain an epoxy resin with fewer hydrolysable halogens, the recovered reactants are dissolved in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, and an aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added to form part ( It is preferable to carry out a ring closure reaction of the sub-product to ensure ring closure of halohydrin as a by-product.

이 경우, 알칼리 금속 수산화물의 사용량은, 에폭시화에 사용한 페놀 화합물 (PA1)의 수산기 1몰에 대하여 통상 0.01∼0.3몰이며, 바람직하게는 0.05∼0.2몰이다. 또한, 반응 온도는 통상 50∼120℃이며, 반응 시간은 통상 0.5∼2시간이다.In this case, the amount of alkali metal hydroxide used is usually 0.01 to 0.3 moles, preferably 0.05 to 0.2 moles, per mole of the hydroxyl group of the phenolic compound (PA1) used for epoxidation. In addition, the reaction temperature is usually 50 to 120°C, and the reaction time is usually 0.5 to 2 hours.

상기 에폭시화 반응에 있어서는, 반응 종료 후, 생성한 염을 여과, 물세정 등에 의해 제거하고, 추가로 가열 감압하 용제를 증류제거함으로써 본 발명에 사용할 수 있는 에폭시 수지를 얻을 수 있다. 이와 같이 하여 얻어진 에폭시 수지는 일부 그의 용제나 물에 의해 에폭시 수지가 부가한 것이나, 전부 폐환되지 않고 할로겐이 잔존하는 것도 포함된다.In the above epoxidation reaction, after completion of the reaction, the formed salt is removed by filtration, washing with water, etc., and further, the solvent is distilled off under reduced pressure by heating, so that an epoxy resin usable in the present invention can be obtained. Epoxy resins obtained in this way include those to which an epoxy resin was partially added with a solvent or water, and those in which halogens remained without ring closure at all.

이와 같이 하여 얻어지는 페놀 화합물 (PA1)과 에피할로하이드린의 반응 생성물인 에폭시 수지 (a)는, 생산성 및, 취급성이 우수하며, 또한 경화물에 높은 기계적 강도를 주는 이하의 어느 조건을 충족하는 것이 바람직하다.The thus obtained epoxy resin (a), which is a reaction product of the phenolic compound (PA1) and epihalohydrin, is excellent in productivity and handleability, and satisfies any of the following conditions for imparting high mechanical strength to a cured product: It is desirable to do

1. 에폭시 당량이 바람직하게는 195∼245g/eq., 보다 바람직하게는 200∼240g/eq.이다. 1. The epoxy equivalent is preferably 195 to 245 g/eq., more preferably 200 to 240 g/eq.

2. 겔 투과 크로마토그래피에 있어서, 페놀 화합물 (PA1)끼리가 에피할로하이드린에 의해 2개 연결된 것이 30면적% 이하, 이너트 연결된 것이 20면적% 이하, 보다 바람직하게는 2개 연결된 것이 25면적% 이하, 이너트 연결된 것이 15면적% 이하이다. 잔여로서 에폭시 수지 (a)의 단량체가 해당한다. 2. In gel permeation chromatography, 30 area% or less of two phenol compounds (PA1) connected by epihalohydrin, 20 area% or less of inert connection, more preferably 25 Area% or less, inert connection is 15 area% or less. As the remainder, the monomer of the epoxy resin (a) corresponds.

본 발명에 있어서의 1분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카복시기를 갖는 화합물 (b)는, 활성 에너지선으로의 반응성을 부여시키기 위해 반응시키는 것이다. 에틸렌성 불포화기와 카복시기는 각각 분자 내에 1개 이상 있는 것이면 제한은 없다. 이들로서는 모노카본산 화합물, 폴리카본산 화합물을 들 수 있다. The compound (b) having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group and at least one carboxy group in one molecule in the present invention is reacted to impart reactivity to active energy rays. The ethylenically unsaturated group and the carboxy group are not particularly limited as long as one or more are present in each molecule. Examples of these include monocarboxylic acid compounds and polycarboxylic acid compounds.

1분자 중에 1개의 카복시기를 갖는 모노카본산 화합물로서는, 예를 들면 (메타)아크릴산류나 크로톤산, α-시아노신남산, 신남산, 혹은 포화 또는 불포화 2염기산과 불포화기 함유 모노글리시딜 화합물의 반응물을 들 수 있다. 상기에 있어서 (메타)아크릴산류로서는, 예를 들면 (메타)아크릴산, β-스티릴아크릴산, β-푸르푸릴아크릴산, (메타)아크릴산 2량체, 포화 또는 불포화 2염기산 무수물과 1분자 중에 1개의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 유도체와 당몰 반응물인 반(半)에스테르류, 포화 또는 불포화 2염기산과 모노글리시딜(메타)아크릴레이트 유도체류의 당몰 반응물인 반에스테르류 등을 들 수 있다. Examples of monocarboxylic acid compounds having one carboxyl group per molecule include (meth)acrylic acids, crotonic acids, α-cyanocinnamic acids, cinnamic acids, or monoglycidyl compounds containing saturated or unsaturated dibasic acids and unsaturated groups. reactants. In the above, as (meth)acrylic acid, for example, (meth)acrylic acid, β-styryl acrylic acid, β-furfuryl acrylic acid, (meth)acrylic acid dimer, saturated or unsaturated dibasic acid anhydride and one molecule in one molecule Half esters which are an equimolar reaction product of a (meth)acrylate derivative having a hydroxyl group, and half esters which are an equimolar reaction product of a saturated or unsaturated dibasic acid and monoglycidyl (meth)acrylate derivatives.

또한 1분자 중에 2개 이상의 카복시기를 갖는 폴리카본산 화합물로서는, 1분자 중에 복수의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 유도체와 당몰 반응물인 반에스테르류, 포화 또는 불포화 2염기산과 복수의 에폭시기를 갖는 글리시딜(메타)아크릴레이트 유도체류의 당몰 반응물인 반에스테르류 등을 들 수 있다. In addition, as the polycarboxylic acid compound having two or more carboxyl groups in one molecule, half esters that are equimolar reactants with (meth)acrylate derivatives having a plurality of hydroxyl groups in one molecule, glycols having a saturated or unsaturated dibasic acid and a plurality of epoxy groups and half esters which are equimolar reactants of cydyl (meth)acrylate derivatives.

이들 중 가장 바람직하게는, 활성 에너지선 경화형 수지 조성물로 했을 때의 감도의 점에서 (메타)아크릴산, (메타)아크릴산과 ε-카프로락톤의 반응 생성물 또는 신남산을 들 수 있다. 화합물 (b)로서는, 화합물 중에 수산기를 갖지 않는 것이 바람직하다. Among these, (meth)acrylic acid, the reaction product of (meth)acrylic acid and epsilon-caprolactone, or cinnamic acid are mentioned most preferably from the viewpoint of sensitivity when it is set as an active energy ray-curable resin composition. As a compound (b), what does not have a hydroxyl group in a compound is preferable.

본 발명에 있어서의 필요에 따라서 이용되는, 1분자 중에 적어도 2개 이상의 수산기와 1개 이상의 카복시기를 갖는 화합물 (c)는, 카복실레이트 화합물 중에 수산기를 도입하는 것을 목적으로 하여 반응시키는 것이다. The compound (c) having at least two or more hydroxyl groups and one or more carboxy groups in one molecule, which is used as necessary in the present invention, is reacted for the purpose of introducing a hydroxyl group into a carboxylate compound.

본 발명에 있어서의 1분자 중에 적어도 2개 이상의 수산기와 1개 이상의 카복시기를 갖는 화합물 (c)의 구체예로서는, 예를 들면, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 디메틸올아세트산, 디메틸올부티르산, 디메틸올발레르산, 디메틸올카프론산 등의 폴리하이드록시 함유 모노카본산류 등을 들 수 있다. 특히 바람직한 것으로서는, 예를 들면 디메틸올프로피온산 등을 들 수 있다. Specific examples of the compound (c) having at least two or more hydroxyl groups and one or more carboxy groups in one molecule in the present invention include, for example, dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid, dimethylolacetic acid, dimethylolbutyric acid, and dimethylol. and polyhydroxy-containing monocarboxylic acids such as valeric acid and dimethylolcaproic acid. As a particularly preferable thing, dimethylol propionic acid etc. are mentioned, for example.

이들 중, 상기의 에폭시 수지 (a)와 화합물 (b) 및 화합물 (c)의 반응의 안정성을 고려하면, 화합물 (b) 및 화합물 (c)는 모노카본산인 것이 바람직하고, 모노카본산과 폴리카본산을 병용하는 경우라도, 모노카본산의 총계 몰량/폴리카본산의 총계 몰량으로 나타나는 값이 15 이상인 것이 바람직하다. Among these, considering the stability of the reaction between the epoxy resin (a), the compound (b) and the compound (c), it is preferable that the compound (b) and the compound (c) are monocarboxylic acids, and monocarboxylic acids and polycarboxylic acids. Even when an acid is used in combination, it is preferable that the value represented by total molar amount of monocarboxylic acid/total molar amount of polycarboxylic acid is 15 or more.

이 반응에 있어서의 에폭시 수지 (a)와 화합물 (b) 및 필요에 따라서 이용되는 화합물 (c)의 카본산 총계의 투입 비율로서는, 용도에 따라서 적절히 변경되어야 할 것이다. 즉, 모든 에폭시기를 카복실레이트화한 경우는, 미(未)반응의 에폭시기가 잔존하지 않기 때문에, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물로서의 보존 안정성은 높다. 이 경우는, 도입한 이중 결합에 의한 반응성만을 이용하게 된다. The addition ratio of the epoxy resin (a) and the compound (b) in this reaction and the total amount of carboxylic acids of the compound (c) used as needed should be appropriately changed depending on the use. That is, when all the epoxy groups are carboxylated, since no unreacted epoxy groups remain, the storage stability as a reactive epoxy carboxylate compound is high. In this case, only the reactivity due to the introduced double bond is used.

한편, 고의로 카본산 화합물의 투입량을 감량하여 미반응의 잔존 에폭시기를 남김으로써, 도입한 불포화 결합에 의한 반응성과, 잔존하는 에폭시기에 의한 반응, 예를 들면 광 양이온 촉매에 의한 중합 반응이나 열 중합 반응을 복합적으로 이용하는 것도 가능하다. 그러나, 이 경우는 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (E)의 보존 및, 제조 조건의 검토에는 주의를 기울여야 한다. On the other hand, by deliberately reducing the amount of the carboxylic acid compound to leave unreacted residual epoxy groups, the reactivity due to the introduced unsaturated bond and the reaction due to the remaining epoxy groups, for example, a polymerization reaction or a thermal polymerization reaction using a photocationic catalyst It is also possible to use a combination of However, in this case, attention must be paid to preservation of the reactive epoxy carboxylate compound (E) and examination of manufacturing conditions.

에폭시기를 잔존시키지 않는 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (E)를 제조하는 경우, 화합물 (b) 및 필요에 따라서 이용되는 화합물 (c)의 총계가, 상기 에폭시 수지 (a) 1당량에 대하여 90∼120당량%인 것이 바람직하다. 이 범위이면 비교적 안정적인 조건에서의 제조가 가능하다. 이보다도 화합물 (b) 및 필요에 따라서 이용하는 화합물 (c)의 총 투입량이 많은 경우에는, 과잉의 화합물 (b) 및 화합물 (c)가 잔존해 버리기 때문에 바람직하지 않다. In the case of producing a reactive epoxy carboxylate compound (E) in which no epoxy group remains, the total amount of the compound (b) and the compound (c) used as necessary is 90 to 120 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy resin (a). % is preferred. If it is this range, manufacture under relatively stable conditions is possible. If the total amount of the compound (b) and the compound (c) used as needed is larger than this, it is not preferable because excess compounds (b) and compounds (c) remain.

또한, 에폭시기를 고의로 잔류시키는 경우에는, 화합물 (b) 및 필요에 따라서 이용되는 화합물 (c)의 총계가, 상기 에폭시 수지 (a) 1당량에 대하여 20∼90당량%인 것이 바람직하다. 이것의 범위를 일탈하는 경우에는, 더 한층의 에폭시기에 의한 반응이 충분히 진행되지 않는다. 이 경우는, 반응 중의 겔화나, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (E)의 시간 경과에 따른 안정성에 대하여 충분한 주의가 필요하다. In addition, when leaving an epoxy group intentionally, it is preferable that the total amount of the compound (b) and the compound (c) used as needed is 20 to 90 equivalent% with respect to 1 equivalent of the said epoxy resin (a). When it deviates from this range, further reaction by an epoxy group does not fully advance. In this case, sufficient attention is required for gelation during the reaction and stability over time of the reactive epoxy carboxylate compound (E).

화합물 (b)와 화합물 (c)를 사용하는 경우의 사용 비율은, 카본산에 대한 몰비(比)에 있어서 화합물 (b):화합물 (c)가 95:5∼5:95, 나아가서는 95:5∼40:60의 범위가 바람직하다. 이 범위이면 활성 에너지선으로의 감도는 양호하고, 또한 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (E)에 다염기산 무수물 (d)를 반응시키기 위해 충분한 수산기를 도입할 수 있다. In the case of using the compound (b) and the compound (c), the ratio of compound (b):compound (c) is 95:5 to 5:95, furthermore 95: The range of 5-40:60 is preferable. Within this range, the sensitivity to active energy rays is good, and sufficient hydroxyl groups can be introduced in order to make the polybasic acid anhydride (d) react with the reactive epoxy carboxylate compound (E).

카복실레이트화 반응은, 무용제로 반응시키거나, 또는 용제로 희석하여 반응시킬 수도 있다. 여기에서 이용할 수 있는 용제로서는, 카복실레이트화 반응에 대하여 이너트 용제이면 특별히 한정은 없다. The carboxylation reaction can be carried out without a solvent or diluted with a solvent. As a solvent that can be used here, there will be no particular limitation as long as it is an inert solvent for the carboxylate reaction.

바람직한 용제의 사용량은, 얻어지는 수지의 점도나 용도에 의해 적절히 조정되어야 하는 것이지만, 바람직하게는 고형분 100질량부에 대하여 90∼30질량부, 보다 바람직하게는 80∼50질량부가 되도록 사용된다. The amount of the solvent to be used is preferably adjusted appropriately depending on the viscosity and use of the resin to be obtained, but is preferably 90 to 30 parts by mass, more preferably 80 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the solid content.

구체적으로 예시하면, 예를 들면 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠, 테트라메틸벤젠 등의 방향족계 탄화수소 용제, 헥산, 옥탄, 데칸 등의 지방족계 탄화수소 용제 및, 그들의 혼합물인 석유 에테르, 화이트 가솔린, 솔벤트 나프타 등, 에스테르계 용제, 에테르계 용제, 케톤계 용제 등을 들 수 있다. Specifically, for example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene, and tetramethylbenzene, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, octane, and decane, and mixtures thereof such as petroleum ether, white gasoline, and solvent naphtha etc., an ester solvent, an ether solvent, a ketone solvent, etc. are mentioned.

에스테르계 용제로서는, 아세트산 에틸, 아세트산 프로필, 아세트산 부틸 등의 알킬아세테이트류, γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르모노아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르모노아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 부틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 모노, 또는 폴리알킬렌글리콜모노알킬에테르모노아세테이트류, 글루타르산 디알킬, 숙신산 디알킬, 아디프산 디알킬 등의 폴리카본산 알킬에스테르류 등을 들 수 있다. Examples of the ester solvent include alkyl acetates such as ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate, cyclic esters such as γ-butyrolactone, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether monoacetate, and diethylene glycol mono. Mono or polyalkylene glycol monoalkyl ether mono such as ethyl ether monoacetate, triethylene glycol monoethyl ether monoacetate, diethylene glycol monobutyl ether monoacetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, butylene glycol monomethyl ether acetate and polycarboxylic acid alkyl esters such as acetates, dialkyl glutarate, dialkyl succinate, and dialkyl adipic acid.

에테르계 용제로서는, 디에틸에테르, 에틸부틸에테르 등의 알킬에테르류, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜디메틸에테르, 트리에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 글리콜에테르류, 테트라하이드로푸란 등의 환상 에테르류 등을 들 수 있다. Examples of the ether solvent include alkyl ethers such as diethyl ether and ethyl butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and triethylene. Cyclic ethers, such as glycol ethers, such as glycol diethyl ether, and tetrahydrofuran, etc. are mentioned.

케톤계 용제로서는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥산온, 이소포론 등을 들 수 있다.Acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, isophorone etc. are mentioned as a ketone solvent.

이 외에도, 후술하는 그 외 반응성 화합물 (B) 등의 단독 또는 혼합 유기 용매 중에서 행할 수 있다. 이 경우, 경화성 조성물로서 사용한 경우에는, 직접 조성물로서 이용할 수 있기 때문에 바람직하다. In addition to this, it can be carried out alone or in a mixed organic solvent, such as other reactive compounds (B) described later. In this case, when used as a curable composition, it is preferable because it can be directly used as a composition.

반응시에는, 반응을 촉진시키기 위해 촉매를 사용하는 것이 바람직하고, 당해 촉매의 사용량은, 반응물, 즉 에폭시 수지 (a), 카본산 화합물 (b), 필요에 따라서 이용되는 화합물 (c) 및 경우에 따라 용제 그 외를 첨가한 반응물의 총량 100질량부에 대하여 통상 0.1∼10질량부이다. 그때의 반응 온도는 통상 60∼150℃이며, 또한 반응 시간은, 바람직하게는 5∼60시간이다. 사용할 수 있는 촉매의 구체예로서는, 예를 들면 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리메틸암모늄요오다이드, 트리페닐포스핀, 트리페닐스티빈, 메틸트리페닐스티빈, 옥탄산 크롬, 옥탄산 지르코늄 등 기지(旣知) 일반의 염기성 촉매 등을 들 수 있다. At the time of the reaction, it is preferable to use a catalyst to promote the reaction, and the amount of the catalyst used is the reactants, that is, the epoxy resin (a), the carboxylic acid compound (b), the compound (c) used as needed, and the case It is usually 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the reactants to which the solvent and others are added according to. The reaction temperature at that time is usually 60 to 150°C, and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of the catalyst that can be used include, for example, triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, and methyltriphenylstiline. Known general basic catalysts, such as bean, chromium octanoate, and zirconium octanoate, etc. are mentioned.

또한, 열중합 금지제로서, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 2-메틸하이드로퀴논, 하이드로퀴논, 디페닐피크릴하이드라진, 디페닐아민, 3,5-디-t-부틸-4하이드록시톨루엔 등을 사용하는 것이 바람직하다. In addition, as a thermal polymerization inhibitor, hydroquinone monomethyl ether, 2-methylhydroquinone, hydroquinone, diphenylpicrylhydrazine, diphenylamine, 3,5-di-t-butyl-4hydroxytoluene, etc. are used. It is desirable to do

본 반응은, 적절히 샘플링하면서, 샘플의 산가가 5㎎·KOH/g 이하, 바람직하게는 3㎎·KOH/g 이하가 된 시점을 종점으로 한다. This reaction makes the end point the time point when the acid value of the sample becomes 5 mg·KOH/g or less, preferably 3 mg·KOH/g or less, while appropriately sampling.

이와 같이 하여 얻어진 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (E)의 바람직한 분자량 범위로서는, GPC에 있어서의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 1,000 내지 50,000의 범위이며, 보다 바람직하게는 2,000 내지 30,000이다. As a preferable molecular weight range of the reactive epoxy carboxylate compound (E) obtained in this way, the weight average molecular weight in terms of polystyrene in GPC is in the range of 1,000 to 50,000, more preferably 2,000 to 30,000.

이 분자량보다도 작은 경우에는 경화물의 강인성이 충분히 발휘되지 않고, 또한 이보다도 지나치게 큰 경우에는, 점도가 높아져 도공 등이 곤란해진다. When the molecular weight is smaller than this, the toughness of the cured product is not sufficiently exhibited, and when it is too large, the viscosity increases and coating or the like becomes difficult.

다음으로, 산 부가 공정에 대해서 상술한다. 산 부가 공정은, 전(前) 공정에 있어서 얻어진 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (E)에 카복시기를 도입하고, 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 얻는 것을 목적으로 하여 행해진다. 즉, 카복실레이트화 반응에 의해 발생한 수산기에 다염기산 무수물 (d)를 부가 반응시킴으로써, 에스테르 결합을 개재하여 카복시기를 도입한다. Next, the acid addition step will be described in detail. The acid addition step is performed for the purpose of obtaining a reactive polycarboxylic acid compound (A) by introducing a carboxy group into the reactive epoxy carboxylate compound (E) obtained in the previous step. That is, a carboxyl group is introduced through an ester bond by subjecting a polybasic acid anhydride (d) to an addition reaction to the hydroxyl group generated by the carboxylation reaction.

다염기산 무수물 (d)의 구체예로서는, 예를 들면, 분자 중에 산 무수물 구조를 갖는 화합물이면 모두 이용할 수 있지만, 알칼리 수용액 현상성, 내열성, 가수 분해 내성 등이 우수한, 무수 숙신산, 무수 프탈산, 테트라하이드로 무수프탈산, 헥사하이드로 무수 프탈산, 무수 이타콘산, 3-메틸-테트라하이드로 무수 프탈산, 4-메틸-헥사하이드로 무수 프탈산, 무수 트리멜리트산 또는 무수 말레산이 특히 바람직하다. As specific examples of the polybasic acid anhydride (d), any compound having an acid anhydride structure in the molecule can be used. Phthalic acid, hexahydrophthalic anhydride, itaconic anhydride, 3-methyl-tetrahydrophthalic anhydride, 4-methyl-hexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride or maleic anhydride are particularly preferred.

다염기산 무수물 (d)를 부가시키는 반응은, 상기 카복실레이트화 반응액에 다염기산 무수물 (d)를 첨가함으로써 행할 수 있다. 첨가량은 용도에 따라서 적절히 변경되어야 하는 것이다. The reaction of adding the polybasic acid anhydride (d) can be performed by adding the polybasic acid anhydride (d) to the carboxylate reaction solution. The addition amount should be appropriately changed depending on the use.

다염기산 무수물 (d)의 첨가량은 예를 들면, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 알칼리 현상형의 레지스트로서 이용하고자 하는 경우는, 다염기산 무수물 (d)를 최종적으로 얻어지는 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 고형분 산가(JISK5601-2-1:1999에 준거)가 40∼120㎎·KOH/g, 보다 바람직하게는 60∼120㎎·KOH/g이 되는 계산값을 투입하는 것이 바람직하다. 이 때의 고형분 산가가 이 범위인 경우, 본 발명의 감광성 수지 조성물의 알칼리 수용액 현상성이 양호한 현상성을 나타낸다. 즉, 양호한 패터닝성과 과현상에 대한 관리 폭도 넓고, 또한 과잉의 산 무수물이 잔류하는 경우도 없다. The addition amount of the polybasic acid anhydride (d) is, for example, when the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention is to be used as an alkali developing type resist, the polybasic acid anhydride (d) is finally obtained. It is preferable to add a calculated value such that the solid acid value (based on JISK5601-2-1:1999) of (A) is 40 to 120 mg·KOH/g, more preferably 60 to 120 mg·KOH/g. When the solid content acid value at this time is within this range, the alkali solution developability of the photosensitive resin composition of the present invention shows good developability. That is, good patterning performance and a wide management range for overdevelopment are also provided, and there is no case where excessive acid anhydrides remain.

반응시에는, 반응을 촉진시키기 위해 촉매를 사용하는 것이 바람직하고, 당해 촉매의 사용량은, 반응물, 즉 에폭시 화합물 (a), 카본산 화합물 (b), 필요에 따라서 이용되는 화합물 (c)로부터 얻어진 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (E) 및, 다염기산 무수물 (d), 경우에 따라 용제 그 외를 첨가한 반응물의 총량 100질량부에 대하여 통상 0.1∼10질량부이다. 그때의 반응 온도는 통상 60∼150℃이며, 또한 반응 시간은, 바람직하게는 5∼60시간이다. 사용할 수 있는 촉매의 구체예로서는, 예를 들면 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리메틸암모늄요오다이드, 트리페닐포스핀, 트리페닐스티빈, 메틸트리페닐스티빈, 옥탄산 크롬, 옥탄산 지르코늄 등을 들 수 있다. In the reaction, it is preferable to use a catalyst to promote the reaction, and the amount of the catalyst used is obtained from the reactants, that is, the epoxy compound (a), the carboxylic acid compound (b), and the compound (c) used as needed. It is usually 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the reactive epoxy carboxylate compound (E), the polybasic acid anhydride (d), and optionally the solvent and the like added. The reaction temperature at that time is usually 60 to 150°C, and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of the catalyst that can be used include, for example, triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, and methyltriphenylstiline. Bin, chromium octanoate, zirconium octanoate, etc. are mentioned.

본 산 부가 반응은, 무용제로 반응하거나, 또는 용제로 희석하여 반응시킬 수도 있다. 여기에서 이용할 수 있는 용제로서는, 산 부가 반응에 대하여 이너트 용제이면 특별히 한정은 없다. 또한, 전(前) 공정인 카복실레이트화 반응으로 용제를 이용하여 제조한 경우에는, 그 양(兩)반응에 이너트인 것을 조건으로, 용제를 제거하는 일 없이 직접 다음 공정인 산 부가 반응에 제공할 수도 있다. 이용할 수 있는 용제는 카복실레이트화 반응으로 이용할 수 있는 것과 동일한 것으로 좋다. This acid addition reaction can be reacted without a solvent or diluted with a solvent. As a solvent that can be used here, there is no limitation in particular as long as it is an inert solvent with respect to the acid addition reaction. In addition, in the case of manufacturing using a solvent in the carboxylation reaction, which is a previous step, it is directly supplied to the acid addition reaction, which is the next step, without removing the solvent, provided that both reactions are inert. You may. The solvent that can be used is preferably the same as that used in the carboxylation reaction.

바람직한 용제의 사용량은, 얻어지는 수지의 점도나 용도에 의해 적절히 조정되어야 하는 것이지만, 바람직하게는 고형분 100질량부에 대하여 90∼30질량부, 보다 바람직하게는 80∼50질량부가 되도록 이용된다. The preferred amount of the solvent used should be appropriately adjusted depending on the viscosity and use of the resin to be obtained, but is preferably 90 to 30 parts by mass, more preferably 80 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the solid content.

이 외에도, 후술하는 반응성 화합물 (B) 등의 단독 또는 혼합 유기 용매 중에서 행할 수 있다. 이 경우, 경화성 조성물로서 사용한 경우에는, 직접 조성물로서 이용할 수 있기 때문에 바람직하다. In addition to this, it can be carried out alone or in a mixed organic solvent, such as the reactive compound (B) described later. In this case, when used as a curable composition, it is preferable because it can be directly used as a composition.

또한, 열중합 금지제 등은, 상기 카복실레이트화 반응에 있어서의 예시와 동일한 것을 사용하는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable to use the same thing as the example in the said carboxylation reaction for a thermal polymerization inhibitor etc.

본 반응은, 적절히 샘플링하면서, 반응물의 산가가, 설정한 산가의 플러스 마이너스 10%의 범위가 된 점으로서 종점으로 한다. This reaction is set as the end point as the point where the acid value of the reactant falls within the range of plus or minus 10% of the set acid value while appropriately sampling.

반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 바람직한 분자량 범위로서는, GPC에 있어서의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 500 내지 50,000의 범위이며, 보다 바람직하게는 1,000 내지 20,000이다. As a preferable molecular weight range of the reactive polycarboxylic acid compound (A), the weight average molecular weight in terms of polystyrene in GPC is in the range of 500 to 50,000, more preferably 1,000 to 20,000.

반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 당해 수지 조성물 중에 있어서의 사용 비율은, 5∼70질량%, 바람직하게는 10∼65질량%이다. The use ratio of the reactive polycarboxylic acid compound (A) in the resin composition is 5 to 70% by mass, preferably 10 to 65% by mass.

본 발명에 있어서 사용할 수 있는 반응성 화합물 (B)로서는, 라디칼 반응형의 아크릴레이트류, 양이온 반응형의 그 외 에폭시 화합물류, 그 쌍방에 감응하는 비닐 화합물류 등의 소위 반응성 올리고머류를 들 수 있다. Examples of the reactive compound (B) that can be used in the present invention include so-called reactive oligomers such as radical reactive acrylates, cation reactive other epoxy compounds, and vinyl compounds sensitive to both. .

라디칼 반응형의 아크릴레이트류로서는, 예를 들면, 단관능 (메타)아크릴레이트, 2관능 (메타)아크릴레이트, 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트올리고머, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트올리고머, 에폭시(메타)아크릴레이트올리고머 등을 들 수 있다. Examples of radical reactive acrylates include monofunctional (meth)acrylates, bifunctional (meth)acrylates, trifunctional (meth)acrylates, urethane (meth)acrylate oligomers, and polyester (meth)acrylates. ) Acrylate oligomer, epoxy (meth)acrylate oligomer, etc. are mentioned.

단관능 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면, 아크릴로일모르폴린; 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트 등의 수산기 함유 (메타)아크릴레이트; 사이클로헥산-1,4-디메탄올모노(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 디사이클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디사이클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디사이클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트 등의 지방족 (메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 페닐(폴리)에톡시(메타)아크릴레이트, p-쿠밀페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 페닐티오에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페닐옥시프로필(메타)아크릴레이트, 페닐페놀(폴리)에톡시(메타)아크릴레이트, 페닐페놀에폭시(메타)아크릴레이트 등의 방향족 (메타)아크릴레이트를 들 수 있다. As a monofunctional (meth)acrylate, it is acryloyl morpholine, for example; hydroxyl group-containing (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate; Cyclohexane-1,4-dimethanol mono(meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl(meth)acrylate, isobornyl(meth)acrylate, dicyclopentanyl(meth)acrylate, dicyclopentenyl(meth)acrylate ) acrylate, aliphatic (meth)acrylates such as dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, phenyl (poly)ethoxy (meth)acrylate, p-cumylphenoxy Ethyl (meth)acrylate, tribromophenyloxyethyl (meth)acrylate, phenylthioethyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth)acrylate, phenylphenol (poly) Aromatic (meth)acrylates, such as oxy (meth)acrylate and phenyl phenol epoxy (meth)acrylate, are mentioned.

2관능 (메타)아크릴레이트로서는, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 트리사이클로데칸디메탄올(메타)아크릴레이트, 비스페놀A(폴리)에톡시디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A(폴리)프로폭시디(메타)아크릴레이트, 비스페놀F(폴리)에톡시디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, (폴리)에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트하이드록시피발산 네오펜틸글리콜의 ε-카프로락톤 부가물의 디(메타)아크릴레이트(예를 들면, 닛뽄가야쿠(주) 제조, KAYARAD HX-220, HX-620 등) 등을 들 수 있다. Examples of the bifunctional (meth)acrylate include 1,4-butanedioldi(meth)acrylate, 1,6-hexanedioldi(meth)acrylate, 1,9-nonanedioldi(meth)acrylate, and tricyclodecane. Dimethanol (meth)acrylate, bisphenol A (poly)ethoxydi (meth)acrylate, bisphenol A (poly)propoxydi (meth)acrylate, bisphenol F (poly)ethoxydi (meth)acrylate, ethylene glycol Di(meth)acrylate, (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate di(meth)acrylate of ε-caprolactone adduct of hydroxypivalic acid neopentyl glycol (for example, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) , KAYARAD HX-220, HX-620, etc.).

3관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트로서는, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올옥탄트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판폴리에톡시트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판(폴리)프로폭시트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판(폴리)에톡시(폴리)프로폭시트리(메타)아크릴레이트 등의 메틸올류; 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨폴리에톡시테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨(폴리)프로폭시테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 에리트리톨류; 트리스[(메타)아크릴로일옥시에틸]이소시아누레이트, 카프로락톤 변성 트리스[(메타)아크릴로일옥시에틸]이소시아누레이트 등; 숙신산 변성 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 숙신산 변성 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트류를 들 수 있다. Examples of trifunctional or higher polyfunctional (meth)acrylates include ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethyloloctane tri(meth)acrylate, and trimethylolpropane polyethoxytri. methylols such as (meth)acrylate, trimethylolpropane (poly)propoxytri(meth)acrylate, and trimethylolpropane(poly)ethoxy(poly)propoxytri(meth)acrylate; Pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol polyethoxytetra(meth)acrylate, pentaerythritol(poly)propoxytetra(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipenta erythritols such as erythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate; tris[(meth)acryloyloxyethyl]isocyanurate, caprolactone-modified tris[(meth)acryloyloxyethyl]isocyanurate, etc.; and succinic acid-modified pentaerythritol triacrylate and succinic acid-modified dipentaerythritol pentaacrylate.

(폴리)에스테르(메타)아크릴레이트올리고머로서는, 예를 들면, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 폴리에틸렌글리콜, (폴리)프로필렌글리콜 등의 글리콜류, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올 등의 직쇄 또는 분기 알킬디올류, 사이클로헥산-1,4-디메탄올 등의 지환식 알킬디올류, 비스페놀A(폴리)에톡시디올, 또는 비스페놀A(폴리)프로폭시디올 등의 디올 화합물과 상기의 2염기산 또는 그의 무수물의 반응물인 (폴리)에스테르디올과, (메타)아크릴산의 반응물 등을 들 수 있다. Examples of the (poly)ester (meth)acrylate oligomer include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, neopentyl glycol, polyethylene glycol, and (poly)propylene glycol. glycols such as 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 3-methyl-1,5 -Pentanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, straight-chain or branched alkyldiols such as 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, cyclohexane-1,4-dimethanol Diol compounds such as alicyclic alkyldiols such as bisphenol A (poly) ethoxydiol, or bisphenol A (poly) propoxydiol and (poly) ester diol, which is a reaction product of the dibasic acid or its anhydride, ( A reactant of meth)acrylic acid, etc. are mentioned.

우레탄(메타)아크릴레이트올리고머로서는, 예를 들면, 디올 화합물(예를 들면, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 1,4-부탄디올, 네오펜틸글리콜, 1,6-헥산디올, 1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 사이클로헥산-1,4-디메탄올, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 비스페놀A폴리에톡시디올, 비스페놀A폴리프로폭시디올 등) 또는 이들 디올 화합물과 2염기산 또는 그의 무수물(예를 들면, 숙신산, 아디프산, 아젤라산, 다이머산, 이소프탈산, 테레프탈산, 프탈산 또는 이들의 무수물)의 반응물인 폴리에스테르디올과, 유기 폴리이소시아네이트(예를 들면, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 쇄상 포화 탄화수소 이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 노르보르난디이소시아네이트, 디사이클로헥실메탄디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-사이클로헥실이소시아네이트), 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가 자일렌디이소시아네이트, 수소 첨가 톨루엔디이소시아네이트 등의 환상 포화 탄화수소 이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 1,3-자일렌디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 3,3'-디메틸-4,4'-디이소시아네이트, 6-이소프로필-1,3-페닐디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트 등의 방향족 폴리이소시아네이트)를 반응시키고, 이어서 수산기 함유 (메타)아크릴레이트를 부가한 반응물 등을 들 수 있다.Examples of the urethane (meth)acrylate oligomer include diol compounds (e.g., ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl Glycol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,4-di Ethyl-1,5-pentanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, cyclohexane-1,4-dimethanol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, bisphenol A polyethoxydiol, bisphenol A polypropoxydiol, etc.) or these diol compounds and dibasic acids or their anhydrides (eg, succinic acid, adipic acid, azelaic acid, dimer acid, isophthalic acid, terephthalic acid, phthalic acid or their anhydrides) polyesters Diols and organic polyisocyanates (e.g., tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, etc. chain saturated hydrocarbon isocyanates , isophorone diisocyanate, norbornane diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, methylene bis(4-cyclohexyl isocyanate), hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, hydrogenated toluene diisocyanate, etc. Saturated hydrocarbon isocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanate, 6-isopropyl-1,3- Aromatic polyisocyanate, such as phenyl diisocyanate and 1,5-naphthalene diisocyanate) was made to react, and the reactant etc. which were then added with the hydroxyl-containing (meth)acrylate are mentioned.

에폭시(메타)아크릴레이트올리고머로서는, 에폭시기를 갖는 화합물과 (메타)아크릴산의 카복실레이트 화합물이다. 예를 들면, 페놀노볼락형 에폭시(메타)아크릴레이트, 크레졸노볼락형 에폭시(메타)아크릴레이트, 트리스하이드록시페닐메탄형 에폭시(메타)아크릴레이트, 디사이클로펜타디엔페놀형 에폭시(메타)아크릴레이트, 비스페놀A형 에폭시(메타)아크릴레이트, 비스페놀F형 에폭시(메타)아크릴레이트, 비페놀형 에폭시(메타)아크릴레이트, 비스페놀-A노볼락형 에폭시(메타)아크릴레이트, 나프탈렌 골격 함유 에폭시(메타)아크릴레이트, 글리옥살형 에폭시(메타)아크릴레이트, 복소환식 에폭시(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. The epoxy (meth)acrylate oligomer is a carboxylate compound of a compound having an epoxy group and (meth)acrylic acid. For example, phenol novolak type epoxy (meth)acrylate, cresol novolak type epoxy (meth)acrylate, trishydroxyphenylmethane type epoxy (meth)acrylate, dicyclopentadiene phenol type epoxy (meth)acrylate rate, bisphenol A type epoxy (meth)acrylate, bisphenol F type epoxy (meth)acrylate, biphenol type epoxy (meth)acrylate, bisphenol-A novolak type epoxy (meth)acrylate, naphthalene backbone-containing epoxy ( meth) acrylate, glyoxal type epoxy (meth) acrylate, heterocyclic epoxy (meth) acrylate, and the like are exemplified.

비닐 화합물류로서는 비닐에테르류, 스티렌류, 그 외 비닐 화합물을 들 수 있다. 비닐에테르류로서는, 에틸비닐에테르, 프로필비닐에테르, 하이드록시에틸비닐에테르, 에틸렌글리콜디비닐에테르 등을 들 수 있다. 스티렌류로서는, 스티렌, 메틸스티렌, 에틸스티렌 등을 들 수 있다. 그 외 비닐 화합물로서는 트리알릴이소이시아누레이트, 트리메타알릴이소시아누레이트 등을 들 수 있다. Examples of vinyl compounds include vinyl ethers, styrenes, and other vinyl compounds. Examples of vinyl ethers include ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, and ethylene glycol divinyl ether. As styrenes, styrene, methyl styrene, ethyl styrene, etc. are mentioned. Other vinyl compounds include triallyl isocyanurate and trimethallyl isocyanurate.

또한, 양이온 반응형 단량체로서는, 일반적으로 에폭시기를 갖는 화합물이면 특별히 한정은 없다. 예를 들면, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜에테르, 에틸글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, 비스페놀A디글리시딜에테르, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4,-에폭시사이클로헥산카복실레이트(유니온·카바이드사 제조 「사이라큐어(cyracure) UVR-6110」 등), 3,4-에폭시사이클로헥실에틸-3,4-에폭시사이클로헥산카복실레이트, 비닐사이클로헥센디옥사이드(유니온·카바이드사 제조 「ELR-4206」 등), 리모넨디옥사이드((주)다이셀 제조 「셀록사이드(celloxide) 3000」 등), 알릴사이클로헥센디옥사이드, 3,4,-에폭시-4-메틸사이클로헥실-2-프로필렌옥사이드, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)사이클로헥산-m-디옥산, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)아디페이트(유니온·카바이드사 제조 「사이라큐어 UVR-6128」 등), 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸)아디페이트, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)에테르, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸)에테르, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)디에틸실록산 등을 들 수 있다. In addition, as a cation-reactive monomer, if it is a compound which generally has an epoxy group, there will be no limitation in particular. For example, glycidyl (meth)acrylate, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3, 4,-epoxycyclohexane carboxylate ("Cyracure UVR-6110" manufactured by Union Carbide, etc.), 3,4-epoxycyclohexylethyl-3,4-epoxycyclohexane carboxylate, vinylcyclohexene Dioxide (“ELR-4206” manufactured by Union Carbide, etc.), limonene dioxide (“Celloxide 3000” manufactured by Daicel Co., Ltd., etc.), allylcyclohexene dioxide, 3,4,-epoxy-4-methyl Cyclohexyl-2-propylene oxide, 2-(3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy)cyclohexane-m-dioxane, bis(3,4-epoxycyclohexyl)adi Fate ("Cyracure UVR-6128" manufactured by Union Carbide, etc.), bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis(3,4-epoxycyclohexyl) ether, bis(3,4- Epoxycyclohexylmethyl)ether, bis(3,4-epoxycyclohexyl)diethylsiloxane, etc. are mentioned.

이들 중, 반응성 화합물 (B)로서는, 중합성이 양호하고, 얻어지는 스페이서 등의 강도가 향상한다는 관점에서, 단관능, 2관능, 3관능 이상 (메타)아크릴레이트 등이 가장 바람직하다. Among these, as the reactive compound (B), monofunctional, bifunctional, or trifunctional (meth)acrylates are most preferred from the viewpoint of good polymerizability and improvement in strength of the obtained spacer or the like.

본 발명의 반응성 화합물 (B)는, 단독으로 사용해도 좋고 2종 이상을 혼합하여 사용해도 좋다. 당해 조성물에 있어서의 반응성 화합물 (B)의 사용 비율로서는, 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 100질량부에 대하여, 30∼250질량부가 바람직하고, 50∼200질량부가 보다 바람직하다. 반응성 화합물 (B)의 사용량이 30∼250질량부인 경우, 당해 조성물의 감도, 얻어지는 경화물 등의 내열성 및 탄성 특성이 보다 양호해진다. The reactive compound (B) of the present invention may be used alone or in combination of two or more. The proportion of the reactive compound (B) used in the composition is preferably 30 to 250 parts by mass, more preferably 50 to 200 parts by mass, based on 100 parts by mass of the reactive polycarboxylic acid compound (A). When the amount of the reactive compound (B) used is 30 to 250 parts by mass, the sensitivity of the composition and the heat resistance and elastic properties of the obtained cured product and the like become better.

본 발명의 광중합 개시제 (C)로서는, 활성 에너지선에 감응하여, 반응성 폴리카본산 화합물 (A)와 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 이외의 반응성 화합물 (B)의 중합을 개시할 수 있는 활성종을 발생시키는 성분이다. 이러한 광중합 개시제 (C)로서는, 아실포스핀 화합물, 벤조일옥심 화합물, 아세토페논 화합물, 비이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. The photopolymerization initiator (C) of the present invention is an active species capable of initiating polymerization of the reactive polycarboxylic acid compound (A) and a reactive compound (B) other than the reactive polycarboxylic acid compound (A) in response to active energy rays. is a component that causes As such a photoinitiator (C), an acylphosphine compound, a benzoyloxime compound, an acetophenone compound, a biimidazole compound, etc. are mentioned.

그 중에서도, 광중합 개시제로서, 아실포스핀 화합물과 벤조일옥심 화합물을 병용함으로써, 노광에 의해 광경화 공정 후에 열처리 공정을 행하지 않아도, 반사율, 땜납 내열성, 밀착성 및 도막 경도 등의 제특성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다. Among them, by using an acylphosphine compound and a benzoyloxime compound together as a photopolymerization initiator, even without performing a heat treatment step after a photocuring step by exposure, a cured product having excellent properties such as reflectance, solder heat resistance, adhesion and coating film hardness can be obtained. You can get it.

아실포스핀계 광중합 개시제로서는, 아실포스핀 구조를 구비한 광중합 개시제이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메틸벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드, (2,4,6-트리메틸벤조일)에톡시페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드 화합물을 들 수 있다. The acylphosphine-based photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a photopolymerization initiator having an acylphosphine structure, and examples thereof include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis(2,4,6- trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, bis(2,6-dimethylbenzoyl)-2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, (2,4,6-trimethylbenzoyl)ethoxyphenylphosphine oxide, etc. An acylphosphine oxide compound is mentioned.

벤조일옥심계 광중합 개시제로서는, 벤조일옥심 구조를 구비한 광중합 개시제이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 1,2-옥탄디온-1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)], 2-프로판디온-2-O-벤조일옥심, 1-페닐-1,2-프로판디온-2-O-벤조일옥심 등의 옥심에스테르 화합물을 들 수 있다. The benzoyloxime-based photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a photopolymerization initiator having a benzoyloxime structure, and examples thereof include 1,2-octanedione-1-[4-(phenylthio)-2-(O-benzoyloxime) ], oxime ester compounds such as 2-propanedione-2-O-benzoyloxime and 1-phenyl-1,2-propanedione-2-O-benzoyloxime.

아실포스핀계 광중합 개시제와 벤조일옥심계 광중합 개시제의 배합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 벤조일옥심계 광중합 개시제 1질량부에 대한 아실포스핀계 광중합 개시제의 배합량의 하한값은, 경화물의 반사율의 저하를 방지하는 점에서 2질량부가 바람직하고, 내부 경화를 충분히 행하여 밀착성을 보다 향상시키는 점에서 3질량부가 보다 바람직하고, 경화물의 반사율의 저하를 확실히 방지하는 점에서 4질량부가 특히 바람직하다. 한편으로, 벤조일옥심계 광중합 개시제 1질량부에 대한 아실포스핀계 광중합 개시제의 배합량의 상한값은, 땜납 내열성과 밀착성을 확실히 향상시키는 점에서 100질량부가 바람직하고, 도막 경도의 저하를 확실히 방지하는 점에서 50질량부가 보다 바람직하고, 땜납 내열성과 밀착성을 균형 좋게 더욱 향상시키는 점에서 10질량부가 특히 바람직하다. The blending ratio of the acylphosphine-based photopolymerization initiator and the benzoyloxime-based photopolymerization initiator is not particularly limited, but, for example, the lower limit of the compounding amount of the acylphosphine-based photopolymerization initiator relative to 1 part by mass of the benzoyloxime photopolymerization initiator is the lowering of the reflectance of the cured product. 2 parts by mass is preferable from the viewpoint of preventing, 3 parts by mass is more preferred from the viewpoint of sufficiently performing internal curing to further improve adhesion, and 4 parts by mass is particularly preferred from the viewpoint of reliably preventing a decrease in the reflectance of the cured product. On the other hand, the upper limit of the compounding amount of the acylphosphine-based photopolymerization initiator with respect to 1 part by mass of the benzoyloxime-based photopolymerization initiator is preferably 100 parts by mass from the viewpoint of reliably improving solder heat resistance and adhesion, and reliably preventing a decrease in coating film hardness. 50 parts by mass is more preferable, and 10 parts by mass is particularly preferable from the viewpoint of further improving solder heat resistance and adhesion in a well-balanced manner.

즉, 아실포스핀계 광중합 개시제와 벤조일옥심계 광중합 개시제의 배합 비율은, 벤조일옥심계 광중합 개시제 1질량부에 대하여, 통상은 아실포스핀계 광중합 개시제가 2∼100질량부 정도, 바람직하게는 3∼50질량부 정도, 특히 바람직하게는 4∼10질량부 정도가 바람직하다.That is, the blending ratio of the acylphosphine-based photopolymerization initiator and the benzoyloxime-based photopolymerization initiator is usually about 2 to 100 parts by mass, preferably 3 to 50 parts by mass of the acylphosphine-based photopolymerization initiator relative to 1 part by mass of the benzoyloxime-based photopolymerization initiator. About 4 parts by mass, particularly preferably about 4 to 10 parts by mass is preferable.

아실포스핀계 광중합 개시제와 벤조일옥심계 광중합 개시제의 배합량의 합계는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 그의 하한값은, 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 100질량부에 대하여, 광경화성을 확실히 부여하여 경화물의 기계적 강도를 향상시키는 점에서 1질량부가 바람직하고, 내열성의 향상의 점에서 2질량부가 특히 바람직하다. 한편, 그의 상한값은, 상기 광중합 개시제의 산화 분해에 의한 변색에 의해 반사율이 저하하는 것을 억제하는 점에서 30질량부가 바람직하고, 기판과의 밀착성의 점에서 20질량부가 특히 바람직하다. The total compounding amount of the acylphosphine-based photopolymerization initiator and the benzoyloxime-based photopolymerization initiator is not particularly limited. 1 mass part is preferable at the point of improving the mechanical strength of hardened|cured material, and 2 mass parts is especially preferable at the point of heat resistance improvement. On the other hand, the upper limit thereof is preferably 30 parts by mass from the viewpoint of suppressing a decrease in reflectance due to discoloration due to oxidative decomposition of the photopolymerization initiator, and particularly preferably 20 parts by mass from the viewpoint of adhesion to the substrate.

즉, 아실포스핀계 광중합 개시제와 벤조일옥심계 광중합 개시제의 배합량의 합계는, 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 100질량부에 대하여, 1∼30질량부가 바람직하고, 2∼20질량부 정도를 이용하는 것이 특히 바람직하다. That is, the total compounding amount of the acylphosphine-based photopolymerization initiator and the benzoyloxime-based photopolymerization initiator is preferably 1 to 30 parts by mass, and about 2 to 20 parts by mass is used with respect to 100 parts by mass of the reactive polycarboxylic acid compound (A). particularly preferred.

산화 티탄 (D)는 도막 등의 경화물을 백색화하기 위해 배합하는 것으로서, 아나타스형 산화 티탄, 루틸 결정 구조를 갖는 루틸형 산화 티탄 등을 들 수 있다. 이들 중, 백색도의 점에서 루틸형 산화 티탄이 바람직하다. 루틸형 산화 티탄으로는, 예를 들면, 후지티탄공업(주) 제조 「TR-600」, 「TR-700」, 「TR-750」, 「TR-840」, 이시하라산업(주) 제조 「R-550」, 「R-580」, 「R-630」, 「R-820」, 「CR-50」, 「CR-60」, 「CR-80」, 「CR-90」, 「CR-93」, 티탄공업(주) 제조 「KR-270」, 「KR-310」, 「KR-380」 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 혼합하여 이용해도 좋다. Titanium oxide (D) is blended to whiten cured products such as coating films, and examples thereof include anatase-type titanium oxide and rutile-type titanium oxide having a rutile crystal structure. Among these, rutile type titanium oxide is preferable in terms of whiteness. Examples of rutile titanium oxide include "TR-600", "TR-700", "TR-750", "TR-840" manufactured by Fuji Titanium Industry Co., Ltd., and "R" manufactured by Ishihara Industry Co., Ltd. -550”, “R-580”, “R-630”, “R-820”, “CR-50”, “CR-60”, “CR-80”, “CR-90”, “CR-93” ", "KR-270", "KR-310", and "KR-380" manufactured by Titanium Industry Co., Ltd. are exemplified. These may be used independently, and may mix and use 2 or more types.

산화 티탄 (D)의 배합량은, 특별히 한정되지 않지만, 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 100질량부에 대하여, 경화물의 백색도와 강도의 밸런스의 점에서 30∼200질량부 정도가 바람직하고, 특히 바람직하게는 50∼150질량부 정도이다. The blending amount of titanium oxide (D) is not particularly limited, but is preferably about 30 to 200 parts by mass, particularly preferably from the viewpoint of the balance between the whiteness and strength of the cured product, relative to 100 parts by mass of the reactive polycarboxylic acid compound (A). It is about 50 to 150 parts by mass.

본 발명의 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에는, 상기 성분의 외에, 필요에 따라서, 여러 가지의 첨가 성분, 예를 들면, 소포제, 분산제, 용제, 체질 안료 등을, 적절히 함유시킬 수 있다. In the white active energy ray-curable resin composition of the present invention, in addition to the above components, various additional components such as an antifoaming agent, a dispersing agent, a solvent, an extender pigment and the like can be appropriately contained as needed.

소포제에는, 공지의 것을 사용할 수 있으며, 예를 들면, 실리콘계, 탄화수소계, 아크릴계 등을 들 수 있다. 분산제에는, 예를 들면, 실란계, 티타네이트계, 알루미나계 등의 커플링제를 들 수 있다. A known antifoaming agent can be used, and examples thereof include silicone type, hydrocarbon type, acrylic type and the like. Coupling agents, such as a silane type, a titanate type, and an alumina type, are mentioned to a dispersing agent, for example.

용제는, 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 점도나 건조성을 조절하기 위한 것으로서, 예를 들면, 메틸에틸케톤, 사이클로헥산 등의 케톤류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 메탄올, 이소프로판올, 사이클로헥산올 등의 알코올류, 사이클로헥산, 메틸사이클로헥산 등의 지환식 탄화수소류, 석유 에테르, 석유 나프타 등의 석유계 용제, 셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브류, 카르비톨, 부틸카르비톨 등의 카르비톨류, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트 등의 아세트산 에스테르류 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고 2종 이상을 혼합하여 사용해도 좋다. The solvent is for adjusting the viscosity or dryness of the white active energy ray-curable resin composition, and for example, ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, methanol, isopropanol, and cyclohexane Alcohols such as alcohol, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane, petroleum solvents such as petroleum ether and petroleum naphtha, cellosolves such as cellosolve and butyl cellosolve, carbitol, butylcarbitol, etc. acetic acid esters such as carbitols of , ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, and butyl carbitol acetate; and the like. These may be used individually or may mix and use 2 or more types.

체질 안료는, 경화물(예를 들면, 도공한 솔더 레지스트막)의 기계적 강도를 보조적으로 향상시키기 위한 것이며, 예를 들면, 실리카, 황산 바륨, 알루미나, 수산화 알루미늄, 탈크, 마이카 등을 들 수 있다. The extender pigment is for supplementarily improving the mechanical strength of a cured product (eg, a coated solder resist film), and examples thereof include silica, barium sulfate, alumina, aluminum hydroxide, talc, and mica. .

또한, 본 발명에서는, 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을, 산화 티탄을 이용하여 백색으로 착색하고 있지만, 용도에 따라서, 본 발명의 효과에 영향을 주지 않는 범위에서, 적절히, 청색 착색제, 황색 착색제, 흑색 착색제 등의 착색제를 첨가해도 좋다. 백색 이외의 착색제의 구체예로서는, 프탈로시아닌 그린, 프탈로시아닌 블루 등의 프탈로시아닌계, 안트라퀴논계, 아조계 등의 유기 안료, 카본블랙 등의 무기 안료를 들 수 있다. Further, in the present invention, the active energy ray-curable resin composition is colored white using titanium oxide, but depending on the application, a blue colorant, a yellow colorant, or a black colorant are appropriately used within a range that does not affect the effect of the present invention. You may add coloring agents, such as a coloring agent. Specific examples of colorants other than white include organic pigments such as phthalocyanine systems such as phthalocyanine green and phthalocyanine blue, anthraquinone systems and azo systems, and inorganic pigments such as carbon black.

상기한 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 제조 방법은, 특정의 방법에 한정되지 않지만, 예를 들면, 상기 각 성분을 소정 비율로 배합 후, 실온에서, 3축 롤, 볼 밀, 샌드 밀 등의 혼련 수단, 또는 슈퍼 믹서, 플래니터리 믹서 등의 교반 수단에 의해 혼련 또는 혼합하여 제조할 수 있다. 또한, 상기 혼련 또는 혼합의 전에, 필요에 따라서, 예비 혼련 또는 예비 혼합해도 좋다. The method for producing the active energy ray-curable resin composition of the present invention described above is not limited to a specific method. For example, after blending each of the above components in a predetermined ratio, at room temperature, a triaxial roll, a ball mill, or a sand mill It can be produced by kneading or mixing with a kneading means such as a super mixer or a stirring means such as a planetary mixer. In addition, you may pre-knead or pre-mix as needed before the said kneading or mixing.

다음으로, 상기한 본 발명의 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 사용 방법에 대해서 설명한다. 여기에서는, 본 발명의 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을, 회로 기판 상에 솔더 레지스트막으로서 도공하는 경우를 예로 들어 설명한다. Next, a method of using the white active energy ray-curable resin composition of the present invention described above is described. Here, the case where the white active energy ray-curable resin composition of this invention is coated as a solder resist film on a circuit board is taken as an example and demonstrated.

상기와 같이 하여 얻어진 본 발명의 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을, 예를 들면, 동박을 에칭하여 형성한 회로 패턴을 갖는 프린트 배선판 상에, 스크린 인쇄, 스프레이 코터, 바 코터, 어플리케이터, 블레이드 코터, 나이프 코터, 롤 코터, 그라비아 코터 등, 공지의 도공 방법을 이용하여 소망의 두께로 도포한다. 또한, 도포 후, 필요에 따라서, 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물 중의 용제를 휘산시키기 위해 60∼80℃ 정도의 온도로 15∼60분간 정도 가열하는 예비 건조를 행하여 택 프리의 도막을 형성해도 좋다. 공지의 도공 방법을 이용하여 도포한 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물 상에, 회로 패턴의 랜드(land) 이외를 투광성으로 한 패턴을 갖는 네거티브 필름을 밀착시키고, 그 위로부터 활성 에너지선(예를 들면, 자외선)을 조사하여 도막을 광경화시킨다. 다음으로, 상기 랜드(land)에 대응하는 비노광 영역을 희알칼리 수용액으로 제거함으로써 도막을 현상시킴으로써, 프린트 배선판 상에 목적으로 하는 솔더 레지스트막을 형성시킬 수 있다. 상기 현상 방법에는, 스프레이법, 샤워법 등이 이용되고, 사용되는 희알칼리 수용액으로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 0.5∼5%의 탄산 나트륨 수용액을 들 수 있다. 또한, 도막을 현상할 필요가 없는 경우에는, 네거티브 필름을 사용하지 않고 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 광경화시켜도 좋다. The white active energy ray-curable resin composition of the present invention obtained as described above is applied, for example, to a printed wiring board having a circuit pattern formed by etching copper foil, screen printing, spray coater, bar coater, applicator, blade coater, It is applied to a desired thickness using a known coating method such as a knife coater, a roll coater, or a gravure coater. After coating, if necessary, pre-drying by heating at a temperature of about 60 to 80° C. for about 15 to 60 minutes to volatilize the solvent in the white active energy ray-curable resin composition may be performed to form a tack-free coating film. On the white active energy ray-curable resin composition applied using a known coating method, a negative film having a light-transmitting pattern except for the lands of the circuit pattern is adhered, and an active energy ray (e.g., , ultraviolet rays) to photocur the coating film. Next, a target solder resist film can be formed on the printed wiring board by removing the unexposed region corresponding to the land with a dilute alkali aqueous solution and developing the coating film. A spray method, a shower method, etc. are used for the above developing method, and the dilute alkaline aqueous solution used is not particularly limited, and examples thereof include a 0.5 to 5% sodium carbonate aqueous solution. In the case where it is not necessary to develop the coating film, the white active energy ray-curable resin composition may be photocured without using a negative film.

이와 같이 하여 얻어진 솔더 레지스트막으로 피복된 회로 기판에, 분류 납땜 방법, 리플로우 납땜 방법 등에 의해 전자 부품이 납땜됨으로써, 전자 회로 유닛이 형성된다. An electronic circuit unit is formed by soldering an electronic component to the circuit board coated with the solder resist film obtained in this way by a spray soldering method, a reflow soldering method, or the like.

광경화된 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물 및 경화 피막, 그리고 당해 경화물 또는 당해 경화 피막을 갖는 회로 기판이나 프린트 배선판도 본 발명에 포함된다. A cured product of a photocured white active energy ray-curable resin composition and a cured film, and a circuit board or printed wiring board having the cured product or the cured film are also included in the present invention.

(실시예)(Example)

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 중, 특별히 언급이 없는 한, 「부」는 질량부를, 「%」는 질량%를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples, but the present invention is not limited by these examples. In addition, in the examples, unless otherwise specified, "part" represents a mass part, and "%" represents a mass %.

연화점, 에폭시 당량, 산가는 이하의 조건으로 측정했다.The softening point, epoxy equivalent, and acid value were measured under the following conditions.

1) 에폭시 당량: JISK7236:2001에 준한 방법으로 측정했다.1) Epoxy equivalent: Measured by a method according to JISK7236:2001.

2) 연화점: JISK7234:1986에 준한 방법으로 측정했다.2) Softening point: measured according to JISK7234:1986.

3) 산가: JISK0070:1992에 준한 방법으로 측정했다3) Acid value: measured according to JISK0070:1992

실시예 1-1∼1-3Examples 1-1 to 1-3

[반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 조제][Preparation of Reactive Polycarboxylic Acid Compound (A)]

에폭시 수지 (a)로서 NC-6300H(닛뽄가야쿠 제조; 일반식 (1)의 n=0(64%), n=1(23%), n=2 이상(13%); 에폭시 당량 230g/eq.)를 표 1 중 기재량, 화합물 (b)로서 아크릴산(약칭 AA, Mw=72)을 표 1 중 기재량, 화합물 (c)로서 디메틸올프로피온산(약칭 DMPA, Mw=134)을 표 1 중 기재량 첨가했다. 촉매로서 트리페닐포스핀 3g, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 고형분이 반응액의 80질량%가 되도록 첨가하고, 100℃에서 24시간 반응시켜, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (E) 용액을 얻었다. 고형분 산가(AV: ㎎·KOH/g) 5 이하를 반응 종점으로 하여, 다음 반응으로 진행했다. 산가 측정은, 반응 용액에서 측정하고 고형분으로서의 산가로 환산했다. As epoxy resin (a), NC-6300H (manufactured by Nippon Kayaku; n = 0 (64%), n = 1 (23%), n = 2 or more (13%) of general formula (1); epoxy equivalent 230 g / eq.) as the amount described in Table 1, and acrylic acid (abbreviated name AA, Mw = 72) as the compound (b) as the amount described in Table 1 and dimethylolpropionic acid (abbreviated name DMPA, Mw = 134) as the compound (c) in Table 1 Medium amount was added. 3 g of triphenylphosphine as a catalyst and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent were added so that the solid content was 80% by mass of the reaction solution, and reacted at 100 ° C. for 24 hours to obtain a reactive epoxy carboxylate compound (E) solution. . The solid acid value (AV: mg·KOH/g) of 5 or less was set as the reaction end point, and the reaction proceeded to the next one. The acid value was measured in the reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

이어서, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (E) 용액에 다염기산 무수물 (d)로서, 테트라하이드로 무수 프탈산(약칭 THPA)을 표 1 기재량 및, 용제로서 고형분이 65질량%가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 첨가하고, 100℃로 가열한 후, 산 부가 반응시켜 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 용액을 얻었다. 고형분 산가(AV: ㎎·KOH/g)를 표 1 중에 기재했다. Next, as a polybasic acid anhydride (d), to the reactive epoxy carboxylate compound (E) solution, tetrahydrophthalic anhydride (abbreviated abbreviation THPA) was added in the amount described in Table 1 and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent so that the solid content was 65% by mass was added, and after heating at 100°C, an acid addition reaction was performed to obtain a reactive polycarboxylic acid compound (A) solution. The solid content acid value (AV: mg·KOH/g) is shown in Table 1.

비교예 1-1, 1-2Comparative Example 1-1, 1-2

[비교용 반응성 폴리카본산 화합물의 조제][Preparation of reactive polycarboxylic acid compound for comparison]

에폭시 수지를 실시예 1-1∼1-3의 에폭시 수지 (a)로부터 크레졸노볼락형 에폭시 수지 EOCN-103S(닛뽄가야쿠 제조, 에폭시 당량 200g/eq.)를 표 1 중 기재량으로 바꾼 것 외에는, 실시예 1-1∼1-3과 동일하게 하여 카복실레이트 화합물 용액을 얻었다. The epoxy resin was changed from the epoxy resin (a) of Examples 1-1 to 1-3 to the cresol novolac type epoxy resin EOCN-103S (manufactured by Nippon Kayaku, epoxy equivalent 200 g/eq.) in the amount described in Table 1. Other than that, a carboxylate compound solution was obtained in the same manner as in Examples 1-1 to 1-3.

이어서, 실시예 1-1∼1-3과 동일하게 하여 비교용 반응성 폴리카본산 화합물 용액을 얻었다. 고형분 산가(AV: ㎎·KOH/g)를 표 1 중에 기재했다.Subsequently, a reactive polycarboxylic acid compound solution for comparison was obtained in the same manner as in Examples 1-1 to 1-3. The solid content acid value (AV: mg·KOH/g) is shown in Table 1.

비교예 1-3Comparative Example 1-3

[비교용 방향환을 갖지 않는 반응성 폴리카본산 화합물의 조제][Preparation of reactive polycarboxylic acid compound having no aromatic ring for comparison]

교반기, 온도계, 환류 냉각기, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 2리터 세퍼러블 플라스크에, 용매로서 디에틸렌글리콜디메틸에테르 900g 및, 중합 개시제로서 t-부틸-퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(일본유지(주) 제조 퍼부틸(PERBUTYL)®O) 21.4g을 첨가하여 90℃로 가열했다. 가열 후, 여기에, 메타크릴산 309.9g, 메타크릴산 메틸 116.4g 및, 락톤 변성 2-하이드록시에틸메타크릴레이트((주)다이셀 제조 프락셀(PLACCEL)FM1) 109.8g을, 중합 개시제인 비스(4-t-부틸사이클로헥실)퍼옥시디카보네이트(일본유지(주) 제조 퍼로일(PEROYL) TCP) 21.4g과 함께 3시간에 걸쳐 적하하여 첨가하고, 추가로 6시간 숙성함으로써, 카복시기 함유 공중합 수지를 얻었다. 또한, 반응은, 질소 분위기하에 행했다. In a 2-liter separable flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping funnel and nitrogen inlet tube, 900 g of diethylene glycol dimethyl ether as a solvent and t-butyl-peroxy-2-ethylhexanoate as a polymerization initiator ( 21.4 g of PERBUTYL®O manufactured by Nippon Oil & Oil Co., Ltd. was added and heated to 90°C. After heating, here, 309.9 g of methacrylic acid, 116.4 g of methyl methacrylate, and 109.8 g of lactone-modified 2-hydroxyethyl methacrylate (PLACCEL FM1 manufactured by Daicel Co., Ltd.) were added as a polymerization initiator. Added dropwise over 3 hours along with 21.4 g of bis(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate (PEROYL TCP manufactured by Nippon Oil & Oil Co., Ltd.) and further aged for 6 hours to contain a carboxyl group A copolymer resin was obtained. In addition, the reaction was performed in a nitrogen atmosphere.

다음으로, 얻어진 카복시기 함유 공중합 수지에, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸아크릴레이트((주)다이셀 제조 사이클로머(CYCLOMER) A200) 363.9g, 개환 촉매로서 디메틸벤질아민 3.6g, 중합 금지제로서 하이드로퀴논모노메틸에테르 1.80g을 첨가하여, 100℃로 가열하고, 교반함으로써 에폭시의 개환 부가 반응을 행했다. 16시간 후, 고형분의 산가가 108.9㎎·KOH/g, 중량 평균 분자량이 25,000의, 방향환을 갖지 않는 카복시기 함유 수지를 65질량%(고형분) 포함하는 용액을 얻었다. Next, 363.9 g of 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate (CYCLOMER A200 manufactured by Daicel Co., Ltd.), 3.6 g of dimethylbenzylamine as a ring-opening catalyst, and polymerization inhibitor were added to the obtained carboxy group-containing copolymer resin. As a result, 1.80 g of hydroquinone monomethyl ether was added, heated at 100°C, and stirred to carry out ring-opening addition reaction of epoxy. After 16 hours, a solution containing 65 mass% (solid content) of a carboxy group-containing resin having no aromatic ring having an acid value of 108.9 mg·KOH/g and a weight average molecular weight of 25,000 in the solid content was obtained.

Figure 112016032265830-pat00003
Figure 112016032265830-pat00003

<본 발명 조성물의 조제><Preparation of the composition of the present invention>

하기표 2에 나타내는 각 성분을 하기표 2에 나타내는 배합 비율로 배합하고, 3축 롤을 이용하여 실온에서 혼합 분산시켜, 실시예 2-1∼2-3, 비교예 2-1∼2-3에서 사용하는 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 조제했다.Each component shown in Table 2 was blended in the blending ratio shown in Table 2 below, and mixed and dispersed at room temperature using a 3-roll roll, Examples 2-1 to 2-3 and Comparative Examples 2-1 to 2-3 A white active energy ray-curable resin composition used in was prepared.

Figure 112016032265830-pat00004
Figure 112016032265830-pat00004

실시예 및 비교예에서 이용한 각 성분의 상세를 나타낸다. Details of each component used in Examples and Comparative Examples are shown.

<반응성 화합물 (B)><Reactive compound (B)>

B-1: 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트와 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물(KAYARAD DPHA, 닛뽄가야쿠 제조)B-1: A mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku)

<광중합 개시제 (C)><Photoinitiator (C)>

C-1: 아실포스핀계 광중합 개시제C-1: Acylphosphine-based photopolymerization initiator

·비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드(IRGACURE 819, BASF 제조)Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide (IRGACURE 819, manufactured by BASF)

C-2: 벤조일옥심계 광중합 개시제C-2: Benzoyloxime-based photopolymerization initiator

·1,2-옥탄디온-1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)](IRGACURE OXE 01, BASF 제조)1,2-octanedione-1-[4-(phenylthio)-2-(O-benzoyloxime)] (IRGACURE OXE 01, manufactured by BASF)

<산화 티탄 (D)><Titanium oxide (D)>

D-1: 루틸형 산화 티탄(CR-80, 이시하라산업(주) 제조)D-1: Rutile type titanium oxide (CR-80, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)

<시험편 작성><Preparation of test piece>

동장(銅張) 적층판(FR-4, 두께 1.6㎜, 도체 두께 35㎛)에 회로 패턴을 형성한 프린트 배선판을 버프(연마 고리) 연마(대응 영단어: mopping, or buffing, or polishing)에 의해 표면 처리했다. 이어서, 실시예 2-1∼2-3 및 비교예 2-1∼2-3의 본 발명 조성물을, 각각, 스크린 인쇄법으로 프린트 배선판에 도포했다. 그 후, 작성한 프린트 배선판을 80℃에서 30분간, 열풍 순환식 건조로에서 건조시켰다. 건조 후의 프린트 배선판의 도막 상에 노광 장치((주)오크제작소, 형식 HMW-680GW)로 자외선(파장 300∼400㎚)을 2000mJ/㎠ 노광(광경화 공정)하여, 프린트 배선판 상에 본 발명 조성물의 경화 도막을 형성하고, 시험편을 제작했다. 경화 도막의 두께는 15∼20㎛였다. The surface of a printed wiring board on which a circuit pattern is formed on a copper-clad laminate (FR-4, thickness 1.6 mm, conductor thickness 35 μm) is polished with a buff (polishing ring) (corresponding English word: mopping, or buffing, or polishing) dealt with Next, the compositions of the present invention of Examples 2-1 to 2-3 and Comparative Examples 2-1 to 2-3 were respectively applied to printed wiring boards by a screen printing method. Thereafter, the printed wiring board thus produced was dried at 80°C for 30 minutes in a hot air circulation type drying furnace. The composition of the present invention is exposed to ultraviolet rays (wavelength: 300 to 400 nm) at 2000 mJ/cm 2 (photocuring step) with an exposure device (Oak Manufacturing Co., Ltd., type HMW-680GW) on the coated film of the printed wiring board after drying. A cured coating film was formed and a test piece was produced. The thickness of the cured coating film was 15 to 20 µm.

<평가><evaluation>

실시예 2-1∼2-3 및 비교예 2-1∼2-3의 조성물 및, 그 도막으로부터 형성되는 시험편에 대해서 하기의 평가를 했다. 평가 결과를 표 3에 아울러 나타낸다. The following evaluation was performed about the test pieces formed from the compositions of Examples 2-1 to 2-3 and Comparative Examples 2-1 to 2-3 and their coating films. An evaluation result is combined with Table 3 and shown.

(1) 반사율(1) Reflectance

분광 광도계 U-3310H((주)히타치제작소 제조: φ60㎜ 적분구)를 이용하여, 경화 도막을 피복한 시험편의 450㎚에 있어서의 반사율을 측정했다. The reflectance at 450 nm of the test piece coated with the cured coating film was measured using a spectrophotometer U-3310H (manufactured by Hitachi, Ltd.: 60 mm integrating sphere).

(2) 내광성(2) light fastness

얻어진 시험편에, 추가로 슈퍼 UV(90㎽)의 빛을 24시간 조사하여, 가속 열화시킨 후, 분광 광도계 U-3310H((주)히타치제작소 제조: φ60㎜ 적분구)를 이용하여, 색 변화를 측정했다. ΔE*ab는, 색의 변화를 나타낸다. 이 값이 작을수록 색의 변화가 작은 것을 나타낸다. The obtained test piece was further irradiated with super UV (90 mW) light for 24 hours to accelerate deterioration, and then, using a spectrophotometer U-3310H (manufactured by Hitachi, Ltd.: φ60 mm integrating sphere), color change was measured. Measured. ΔE*ab represents a change in color. The smaller this value is, the smaller the change in color is.

(3) 땜납 내열성(3) Solder heat resistance

시험편의 경화 도막을, JIS C-6481의 시험 방법에 준하여, 260℃의 땜납조에 10초간 침지 후, 셀로판 테이프에 의한 필링 시험(박리 시험)을 1사이클로 하고, 이를 1∼2회 반복한 후의 도막 상태를 육안에 의해 관찰하여, 이하의 기준에 따라 평가했다. The cured coating film of the test piece was immersed in a solder bath at 260 ° C. for 10 seconds in accordance with the test method of JIS C-6481, followed by a peeling test (peeling test) using cellophane tape as one cycle, and the coating film after repeating this 1 to 2 times The state was visually observed and evaluated according to the following criteria.

○: 2사이클 반복 후에도 도막에 변화가 확인되지 않는다.○: No change was observed in the coating film even after repeating 2 cycles.

△: 2사이클 반복 후의 도막에 변화가 확인된다. (triangle|delta): A change is confirmed in the coating film after repeating 2 cycles.

×: 1사이클 반복 후의 도막에 박리가 확인된다. x: Peeling is observed in the coating film after repeating 1 cycle.

(4) 밀착성(4) Adhesion

JIS K-5600-5-6에 준거하고, 시험편에 1㎜의 크로스 컷 100개(10×10)를 형성하여, 셀로판 테이프에 의한 필링 시험(박리 시험)을 행하고, 크로스 컷의 박리 상태를 육안에 의해 관찰하여, 크로스 컷 100개 중 기판으로부터 박리하고 있지 않은 격자 무늬의 개수를 계측했다. In accordance with JIS K-5600-5-6, 100 crosscuts (10 × 10) of 1 mm are formed on the test piece, and a peeling test (peeling test) is performed with cellophane tape, and the peeling state of the crosscut is visually observed. was observed, and the number of lattice patterns not peeled off from the substrate was counted among 100 crosscuts.

(5) 도막 경도(5) Coating hardness

JIS K-5600-5-4의 시험 방법에 따라, 시험편의 동박(銅箔) 상의 경화 도막에, 심의 끝이 평평하게 되도록 갈린 3B 내지 9H의 연필을 45˚의 각도로 밀어붙여, 도막의 벗겨짐이 발생하지 않는 연필의 경도를 기록했다. According to the test method of JIS K-5600-5-4, a 3B to 9H pencil sharpened so that the tip of the core is flat is pressed against the cured coating film on the copper foil of the test piece at an angle of 45 degrees, and the coating film is peeled off. The hardness of the pencil was recorded so that this did not occur.

Figure 112016032265830-pat00005
Figure 112016032265830-pat00005

상기의 결과로부터 명백한 바와 같이, 실시예 2-1∼2-3의 본 발명에 있어서의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 함유하는 백색 활성 에너지선 경화형 조성물은, 비교예 2-1∼2-3의 조성물에 비해, 반사율, 내광성, 땜납 내열성이 양호하며, 밀착성, 도막 경도가 우수한 것이 분명해졌다. 또한, 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 조제에 DMPA(화합물 (c))도 이용한 실시예 2-1과 실시예 2-2는, 화합물 (c)를 이용하고 있지 않은 실시예 2-3에 비해, 보다 우수한 밀착성을 나타내는 것이 발견되었다. As is clear from the above results, the white active energy ray-curable compositions containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) in the present invention of Examples 2-1 to 2-3 were compared to those of Comparative Examples 2-1 to 2- Compared to the composition of No. 3, it was found that the reflectance, light resistance, and solder heat resistance were good, and the adhesiveness and coating film hardness were excellent. Further, Examples 2-1 and 2-2 in which DMPA (compound (c)) was also used for preparation of the reactive polycarboxylic acid compound (A) were compared to Example 2-3 in which compound (c) was not used. In comparison, it was found to exhibit better adhesiveness.

본 발명의 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 광경화 공정 후에 열경화 공정을 행하지 않아도, 반사율, 땜납 내열성, 밀착성 및 도막 경도가 우수한 경화물을 얻을 수 있기 때문에, 예를 들면, 프린트 배선판의 솔더 레지스트막, 커버 레이의 분야에서 이용가치가 높다. Since the white active energy ray-curable resin composition of the present invention can obtain a cured product having excellent reflectance, solder heat resistance, adhesion, and coating film hardness even without performing a thermal curing step after the photocuring step, for example, solder for printed wiring boards It is highly useful in the field of resist film and cover lay.

Claims (6)

반응성 폴리카본산 화합물 (A), 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 이외의 반응성 화합물 (B), 광중합 개시제 (C) 및 산화 티탄 (D)를 함유하는 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물로서, 반응성 폴리카본산 화합물 (A)가, 일반식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)와 1분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카복시기를 갖는 화합물 (b) 및 1분자 중에 적어도 2개 이상의 수산기와 1개 이상의 카복시기를 갖는 화합물 (c)의 반응물 (E)에, 추가로 다염기산 무수물 (d)를 반응시켜 얻어지는 반응성 폴리카본산 화합물 (A)인, 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물:
Figure 112022082611354-pat00006

(식 중, n은 0∼2의 정수를 나타냄).
A white active energy ray-curable resin composition containing a reactive polycarboxylic acid compound (A), a reactive compound (B) other than the reactive polycarboxylic acid compound (A), a photopolymerization initiator (C), and titanium oxide (D), comprising: A carboxylic acid compound (A) is an epoxy resin represented by Formula (1) (a) and a compound (b) having one or more polymerizable ethylenically unsaturated groups and one or more carboxy groups in one molecule, and at least two in one molecule A white active energy ray-curable resin composition, which is a reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained by further reacting a polybasic acid anhydride (d) with a reactant (E) of a compound (c) having at least one hydroxyl group and at least one carboxy group:
Figure 112022082611354-pat00006

(In the formula, n represents an integer of 0 to 2).
삭제delete 제1항에 있어서,
광중합 개시제 (C)가 아실포스핀계 광중합 개시제와 벤조일옥심계 광중합 개시제이며, 그의 배합 비율은, 벤조일옥심계 광중합 개시제 1질량부에 대하여, 아실포스핀계 광중합 개시제가 2∼100질량부인 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.
According to claim 1,
The photopolymerization initiator (C) is an acylphosphine-based photopolymerization initiator and a benzoyloxime-based photopolymerization initiator, and the blending ratio thereof is 2 to 100 parts by mass of the acylphosphine-based photopolymerization initiator with respect to 1 part by mass of the benzoyloxime-based photopolymerization initiator. A curable resin composition.
제3항에 있어서,
아실포스핀계 광중합 개시제가 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메틸벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드 및 (2,4,6-트리메틸벤조일)에톡시페닐포스핀옥사이드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며, 벤조일옥심계 광중합 개시제가 1,2-옥탄디온-1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)], 2-프로판디온-2-O-벤조일옥심, 1-페닐-1,2-프로판디온-2-O-벤조일옥심으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.
According to claim 3,
The acylphosphine photopolymerization initiator is 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, bis(2,6-dimethylbenzoyl)-2 , 4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide and (2,4,6-trimethylbenzoyl) ethoxyphenylphosphine oxide, and at least one selected from the group consisting of benzoyl oxime photopolymerization initiator is 1,2-octane Dione-1-[4-(phenylthio)-2-(O-benzoyloxime)], 2-propanedione-2-O-benzoyloxime, 1-phenyl-1,2-propanedione-2-O-benzoyl A white active energy ray-curable resin composition of at least one member selected from the group consisting of oximes.
제1항, 제3항 및 제4항 중 어느 한 항에 기재된 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물.A cured product of the white active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 1, 3 and 4. 제1항, 제3항 및 제4항 중 어느 한 항에 기재된 백색 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화 피막을 갖는 프린트 배선판.A printed wiring board having a cured coating of the white active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 1, 3 and 4.
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