KR102472793B1

KR102472793B1 - 치아미백장치

Info

Publication number: KR102472793B1
Application number: KR1020210035983A
Authority: KR
Inventors: 박준규; 김현종; 고성권
Original assignee: 주식회사 에스엠디솔루션
Priority date: 2021-03-19
Filing date: 2021-03-19
Publication date: 2022-12-01
Also published as: KR20220131006A

Abstract

본 발명은 치아미백장치에 관한 것이다.
본 발명의 실시예에 의한 치아미백장치는, 플라즈마 발생기; 상기 플라즈마 발생기가 장착된 마우스피스; 및 가장자리가 상기 마우스피스에 의해 감싸지고, 구강 내부의 공기를 흡입하여 외부로 배출하는 코어석션부를 포함한다.

Description

치아미백장치{devices for the whitening of teeth}

본 발명은 치아미백장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 모든 치아의 색상을 균등하게 복원하고, 미백과정에서 발생하는 유해가스를 외부로 원활하게 배출할 수 있는 치아미백장치를 제공하는 것이다.

치아 미백술은 행위 주체에 따라 전문가 미백술(office bleaching)과 자가 미백술(home bleaching)로 나뉜다(Walton과 Rostein, 1996). 전문가 미백제로는 주로 30∼35%의 과산화 수소나 35% 과산화요소(carbamide peroxide)가 주로 사용되며 자가 미백제로는 10%, 16%, 20% 등의 과산화요소가 주로 사용되고 있다.
전문가 미백에 사용되는 고농도의 과산화수소는 과산화물이 분해되면서 생성된 반응성 높은 자유라디칼이 치아에 부착된 착색물이나 유기물을 제거하거나 변색시켜 미백효과를 나타내지만 활성이 높고 불안정해서 법랑질의 구성성분 및 표면형상, 기계적 성질에 영향을 주는 것으로 보고되고 있다.
또한 치아 미백 과정 중 법랑질 표면에는 기공과 구멍 등이 형성되고 불규칙한 프리즘으로 인해 법랑질 표면의 마모 저항성이 감소되는 결과를 보인다(Bitter과 Sanders, 1992). 따라서 고농도의 과산화수소를 사용하여 치아미백을 시행하는 것에 대한 우려의 목소리가 높은 실정이다.
[선행기술문헌]
대한민국 등록특허공보 제10-2013659호

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본 발명이 해결하고자 하는 과제는 다음과 같다.

첫째, 플라즈마를 이용하여 치아를 원래의 색으로 회복시키는 장치를 제공하는 것이다.

둘째, 미백과정에서 발생하는 과산화수소와 오존을 신속하게 외부로 배출하여 잇몸 손상 및 호흡기 흡입량을 최소화하는 장치를 제공하는 것이다.

셋째, 불안정한 상태의 플라즈마를 치아와 근접한 위치에서 생성하고 전달할 수 있는 장치를 제공하는 것이다.

넷째, 모든 치아를 균등하게 미백할 수 있는 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

상기 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 의한 치아미백장치는, 플라즈마 발생기; 상기 플라즈마 발생기가 장착된 마우스피스; 및 가장자리가 상기 마우스피스에 의해 감싸지고, 구강 내부의 공기를 흡입하여 외부로 배출하는 코어석션부를 포함한다.

본 발명에 따르면, 다음과 같은 효과가 있다.

첫째, 플라즈마를 이용하여 치아를 원래의 색으로 회복시키는 장치를 제공할 수 있다.

둘째, 미백과정에서 발생하는 과산화수소와 오존을 신속하게 외부로 배출하여 잇몸 손상 및 호흡기 흡입량을 최소화하는 장치를 제공할 수 있다.

셋째, 불안정한 상태의 플라즈마를 치아와 근접한 위치에서 생성하고 전달할 수 있는 장치를 제공할 수 있다.

넷째, 모든 치아를 균등하게 미백할 수 있는 장치를 제공할 수 있다.

본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

도1 은 본 발명의 일 실시예에 의한 치아미백장치의 사시도이다.
도2 는 본 발명의 일 실시예에 의한 치아미백장치의 분해 사시도이다.
도3 은 도2 의 하측부의 유체 흐름을 표현한 것이다.
도4 는 본 발명의 일 실시예에 의한 마우스피스를 하측에서 바라본 사시도이다.
도5 는 도1 의 5-5단면도이다.
도6 은 도5의 6번 부분을 확대한 것이다.
도7 은 도5에 비활성와 플라즈마 제트의 유동방향을 표시한 것이다.
도8 은 본 발명의 일 실시예에 의한 플라즈마 발생기의 개념도이다.
도9 는 본 발명의 다른 실시예에 의한 플라즈마 발생기의 개념도이다.
도10 은 본 발명의 다른 실시예에 의한 치아미백장치의 개념도이다.
도11 은 도10에 표시한 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 플라즈마 발생기의 단면도이다.
도12 는 도10에 표시한 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 플라즈마 발생기의 개념도이다.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다.

그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.

이하, 도면들을 참고하여 본 발명에 대해 설명하도록 한다.

도1 은 본 발명의 일 실시예에 의한 치아미백장치의 사시도이다. 도2 는 본 발명의 일 실시예에 의한 치아미백장치의 분해 사시도이다.

도1 내지 도2 를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 치아미백장치(300)는, 핸들(310); 핸들(310)과 연결된 마우스피스(330); 및 마우스피스(330)에 의해 전방 및 측면이 감싸진 코어석션부(350)를 포함한다.

치아미백장치(300)는 상측부(300b)와 하측부(300a)와 석션파이프(370)로 형성될 수 있다.

상측부(300b) 및 하측부(300a)는 핸들(310)과 마우스피스(330)와 코어석션부(350)를 형성한다.

석션파이프(370)는 코어석션부(350)에서 흡입한 가스가 유동한다. 코어석션부(350)에서 흡입한 가스는 오존 또는 과산화수소일 수 있다(이하, 설명의 편의를 위해 코어석션부(350)에서 흡입한 가스는 배출가스로 칭한다).

마우스피스(330)는, 치아의 순면(labial surface)과 마주보는 위치에 형성된 순면대응부(331)와 치아의 협면(buccal surface)과 마주보는 위치에 형성된 협면대응부(333)와 치아의 설면(lingual surface)과 마주보는 위치에 형성된 설면대응부(335)를 포함한다. 순면대응부(331)는 치아 중 앞니의 전방과 마주한다. 협면대응부(333)는 순면대응부(331)에서 좀더 구강 안쪽의 치아의 전방과 마주한다. 설면대응부(335)는 치아 중 혀를 바라보는 부분과 마주한다. 마우스피스(330)는 2중 "U" 형태로 형성되어 치아의 모든 부분과 마주한다.

마우스피스(330)는 순면대응부(331)와 설면대응부(335)를 연결하는 매개부(337)를 더 포함한다. 매개부(337)는 앞니의 씹는면이 닿는 부분이다. 매개부(337)는 전방흡입공(339)이 형성된다. 전방흡입공(339)은 앞니 부분에서 발생한 배출가스를 흡입하는 구멍이다.

도3 은 도2 의 하측부(300a)의 유체 흐름을 표현한 것이다.

도3 을 참조하면, 핸들(310)에는 유입구(51)와 배출구(53)가 형성된다. 유입구(51)로는 유체(공기, 수증기, Ar, He)등이 유동할 수 있다(이하, 설명의 편의를 위해 유입구(51)로 유입된 가스는 유입가스로 칭한다).

유입구(51)로는 비활성가스가 유입될 수 있다. 유입구(51)는 유입유로(311)와 연결된다. 핸들(310)에는 유입유로(311)가 형성된다.

유입유로(311)는 마우스피스(330)에서 확산되어 확산유로(313)와 연결된다. 확산유로(313)는 마우스피스(330)에 형성된다. 확산유로(313)는 석션파이프(370)의 상측과 하측으로 나뉘어져 유입유로(311)의 반대방향으로 이동한다. 석션파이프(370)는 유입가스와 배출가스가 혼합되는 것을 방지한다.

코어석션부(350)는 목젖을 향해 형성된 후방흡입공(357)과 혀 방향을 향해 형성된 하측흡입공(359)이 형성된다. 후방흡입공(357)과 하측흡입공(359)은 배출가스가 유입되는 구멍이다.

본 발명의 일 실시예에 의한 치아미백장치(300)는, 코어석션부(350)에서 흡입한 가스가 유동가능한 배출유로(317)가 형성되고 마우스피스(330)와 연결된 핸들(310)을 포함한다.

핸들(310)은 유입유로(311)와 배출유로(317)를 일체로 형성되거나, 적어도 배출유로(317)를 형성한다.

마우스피스(330)는, 코어석션부(350)와 배출유로(317)를 연결하는 석션파이프(370)를 포함한다.

도4 는 본 발명의 일 실시예에 의한 마우스피스(330)를 하측에서 바라본 사시도이다.

도4 를 참조하면, 코어석션부(350)는, 혀와 마주하는 위치에 제1 흡입유도부(359a) 및 제1 흡입유도부(359a)의 후방에 형성된 제2 흡입유도부(359b)를 포함하고, 제2 흡입유도부(359b)는, 제1 흡입유도부(359a) 보다 높이가 낮다.

마우스피스(330)의 하측에는 하측흡입공(359)의 가장자리에 형성되어 혀 방향으로 돌출된 제1 흡입유도부(359a)와 제2 흡입유도부(359b)가 형성된다.

제2 흡입유도부(359b)는 제1 흡입유도부(359a)의 후방에 형성된다. 제2 흡입유도부(359b)는 제1 흡입유도부(359a)보다 높이가 낮다. 제1 흡입유도부(359a)는 혀를 누르는 기능을 하여 제2 흡입유도부(359b)의 흡입을 원활하게 한다. 제1 흡입유도부(359a)와 제2 흡입유도부(359b)는 혀와 마주하는 방향에 흡입유도홈(359c)을 형성한다. 흡입유도홈(359c)은 혀와 간격을 형성하여 배출가스의 흡입을 원활하게 한다.

본 발명의 일 실시예에 의한 치아미백장치(300)는, 플라즈마 발생기(380, 385, 390); 플라즈마 발생기(380, 385, 390)가 장착된 마우스피스(330); 및 가장자리가 마우스피스(330)에 의해 감싸지고, 구강 내부의 공기를 흡입하여 외부로 배출하는 코어석션부(350)를 포함한다.

플라즈마 발생기(380, 385, 390)는 마우스피스(330)의 내부에 배치될 수도 있고, 외부에 배치될 수도 있다.

도5 는 도1 의 5-5단면도이다. 도6 은 도5의 6번 부분을 확대한 것이다. 도7 은 도5 에 비활성와 플라즈마 제트의 유동방향을 표시한 것이다.

도5 내지 도7 을 참조하면, 플라즈마 발생기(380, 385)는 마우스피스(330) 내부에 배치되고, 마우스피스(330)는 플라즈마 발생기(380, 385)에서 생성된 오존(O3) 또는 수산기(OH Radical)를 치아를 향해 방출하는 분사공(330a)이 형성된다.

유입가스는 플라즈마 발생기(380, 385)로 유입되어 오존 또는 수산기(를 생성할 수 있다. 배출되는 가스의 종류는 유입가스의 종류에 따라 달라질 수 있다.

마우스피스(330) 내부에는 복수의 가스 스토퍼(340)(gas stopper)가 형성되고, 가스 스토퍼(340)들 사이에는 분사공(330a)이 형성되며, 플라즈마 발생기(380, 385)는, 가스 스토퍼(340)들 사이에 배치된다.

가스 스토퍼(340)는 마우스피스(330)의 분사공(330a) 마다 챔버를 형성할 수 있다. 챔버는 유입가스가 모이는 공간이다. 유입가스는 핸들(310)에서 마우스피스(330)의 후방으로 이동한다. 유동하는 유입가스는 이동방향에 각각 형성된 챔버로 유동하여 플라즈마 발생기(380, 385)로 유입된다. 플라즈마 발생기(380, 385)는 전극(382, 385)을 통과하는 유입가스로 플라즈마를 발생시킨다.

도8 은 본 발명의 일 실시예에 의한 플라즈마 발생기의 개념도이다. 도9 는 본 발명의 다른 실시예에 의한 플라즈마 발생기의 개념도이다.

도8 및 도9 를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 치아미백장치(300)는, 가스가 유동가능한 유입유로(311)가 형성되고 마우스피스(330)와 연결된 핸들(310)을 포함하고, 플라즈마 발생기(380, 385)는, 마우스피스(330) 내부를 유동하는 가스가 유입되는 가스유입부(380a,385a)가 형성된다.

마우스피스(330) 내부에는 복수의 가스 스토퍼(340)(gas stopper)가 형성되고, 플라즈마 발생기(380, 385)는, 마우스피스(330) 내부를 유동하는 가스의 흐름을 가스유입홀(380a, 385a) 방향으로 유도하는 유동가이드(381, 386)가 배치되고, 유동가이드(381, 386)는 가스 스토퍼(340)들 사이에 배치된다.

플라즈마 발생기(380, 385)는 유입가스가 유입되는 가스유입부(380a,385a)가 형성되고, 유동가이드(381, 386)는 챔버내를 유동하는 유입가스가 가스유입부(380a,385a)로 향하도록 한다. 유동가이드(381, 386)는 돌출되거나 굽힌 형상일 수 있다. 가스 스토퍼(340)는 복수의 플라즈마 발생기(380, 385)로 유입가스를 고르게 분배하는 기능을 한다. 가스 스토퍼(340)는 복수의 플라즈마 발생기(380, 385)에서 배출된 플라즈마 제트(389)의 양을 균일하게 한다.

도10 은 본 발명의 다른 실시예에 의한 치아미백장치의 개념도이다. 도11 은 도10에 표시한 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 플라즈마 발생기의 단면도이다. 도12 는 도10 에 표시한 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 플라즈마 발생기의 개념도이다.

도10 내지 도12 를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 의한 플라즈마 발생기(390)는, 마우스피스(330)의 외부에 U형태로 배치된다.

플라즈마 발생기(390)는 마우스피스(330)의 외부에 배치될 수 있다. 플라즈마 발생기(390)는 유입가스의 도움이 없어도 구강 내에 존재하는 수분과 공기를 이용하여 플라즈마를 생성할 수 있다.

플라즈마 발생기(390)는, 세라믹(397) 층 위에 캐소드전극(395)과 애노드전극(396)이 교차 배치된다.

전극(395, 396)의 적어도 어느 일측에는 유전체가 배치될 수 있다. 전극(395,396)의 적어도 어느 일측에는 유리 또는 세라믹 재질의 소재가 배치될 수 있다. 플라즈마 발생기(390)는 Surface Dielectric Barrier Discharge 타입이다.

마우스피스(330)는, 치아의 순면(labial surface)과 마주보는 위치에 형성된 순면대응부(331)와 치아의 협면(buccal surface)과 마주보는 위치에 형성된 협면대응부(333)와 치아의 설면(lingual surface)과 마주보는 위치에 형성된 설면대응부(335)를 포함하고, 플라즈마 발생기(390)는, 순면대응부(331)와 협면대응부(333)에 배치된 제1 플라즈마 발생부(391); 및 설면대응부(335)에 배치된 제2 플라즈마 발생부(392)를 포함한다.

따라서 플라즈마 발생기(390)는 치아의 모든 면과 마주하도록 배치된다.

마우스피스(330)는, 치아의 순면(labial surface)과 마주보는 위치에 형성된 순면대응부(331)와 치아의 협면(buccal surface)과 마주보는 위치에 형성된 협면대응부(333)와 치아의 설면(lingual surface)과 마주보는 위치에 형성된 설면대응부(335)를 포함하고, 코어석션부(350)는, 설면대응부(335)에 의해 감싸져 사용자의 혀 위에 배치된다.

코어석션부(350)는 혀 위에 배치되므로 구강의 중심에서 배출가스를 원활하게 흡입할 수 있다.

상기와 같은 본 발명에 의한 치아미백장치(300)는 저온 상압 플라즈마를 발생하여 치아의 색상을 개선할 수 있고, 미백과정에서 발생하는 유해가스를 원환하게 배출할 수 있다. 또한 본 발명에 의한 치아미백장치(300)는, 치아의 모든 부위에서 플라즈마를 발생시켜 균일한 미백효과를 달성할 수 있다.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니하며, 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안 될 것이다.

51: 유입구
53: 배출구
300: 치아미백장치
300a: 하측부
300b: 상측부
310: 핸들
311: 유입유로
313: 확산유로
317: 배출유로
330: 마우스피스
330a: 분사공
331: 순면대응부
333: 협면대응부
335: 설면대응부
337:매개부
339:전방흡입공
340: 가스 스토퍼
350: 코어석션부
357:후방흡입공
359:하측흡입공
359a: 제1 흡입유도부
359b: 제2 흡입유도부
359c: 흡입유도홈
370: 석션파이프
380,385,390: 플라즈마 발생기
380a,385a: 가스유입부
381,386: 유동가이드
382, 387, 395, 396: 전극
389: 플라즈마 제트
391: 제1 플라즈마 발생부
392: 제2 플라즈마 발생부
397: 세라믹

Claims

플라즈마 발생기;
상기 플라즈마 발생기에서 생성된 치아미백용 가스를 방출하는 분사공이 형성되고 내부에 가스를 좌우로 분배하는 확산유로가 형성된 마우스피스;
상기 마우스피스의 내측면에 고정되어 사용자의 혀 위에 배치되고, 사용자의 구강 내부로 배출된 가스를 흡입하는 코어석션부; 및
상기 마우스피스 내부에 배치되고, 상기 코어석션부와 연결되며, 상기 코어석션부로부터 유입된 가스와 상기 확산유로를 구분하는 석션파이프를 포함하는 치아미백장치.
제 1 항에 있어서,
상기 플라즈마 발생기는 상기 마우스피스 내부에 배치되고,
상기 분사공은 오존 또는 수산기(OH Radical)를 치아를 향해 방출하는 치아미백장치.
제 2 항에 있어서,
상기 마우스피스 내부에는 복수의 가스 스토퍼(gas stopper)가 형성되고,
상기 가스 스토퍼들 사이에는 상기 분사공이 형성되며,
상기 플라즈마 발생기는,
상기 가스 스토퍼들 사이에 배치된 치아미백장치.
제 1 항에 있어서,
가스가 유동가능한 유입유로가 형성되고 상기 마우스피스와 연결된 핸들을 더 포함하고,
상기 플라즈마 발생기는,
상기 마우스피스 내부를 유동하는 가스가 유입되는 가스유입홀이 형성된 치아미백장치.
제 4 항에 있어서,
상기 마우스피스 내부에는 복수의 가스 스토퍼(gas stopper)가 형성되고,
상기 플라즈마 발생기는,
상기 마우스피스 내부를 유동하는 가스의 흐름을 상기 가스유입홀 방향으로 유도하는 유동가이드가 배치되고,
상기 유동가이드는 상기 가스 스토퍼들 사이에 배치된 치아미백장치.
제 1 항에 있어서,
상기 플라즈마 발생기는,
상기 마우스피스의 외부에 U형태로 배치된 치아미백장치.
제 1 항에 있어서,
상기 마우스피스는,
치아의 순면(labial surface)과 마주보는 위치에 형성된 순면대응부와 치아의 협면(buccal surface)과 마주보는 위치에 형성된 협면대응부와 치아의 설면(lingual surface)과 마주보는 위치에 형성된 설면대응부를 포함하고,
상기 플라즈마 발생기는,
상기 순면대응부와 상기 협면대응부에 배치된 제1 플라즈마 발생부; 및
상기 설면대응부에 배치된 제2 플라즈마 발생부를 포함하는 치아미백장치.
제 1 항에 있어서,
상기 마우스피스는,
치아의 순면(labial surface)과 마주보는 위치에 형성된 순면대응부와 치아의 협면(buccal surface)과 마주보는 위치에 형성된 협면대응부와 치아의 설면(lingual surface)과 마주보는 위치에 형성된 설면대응부를 포함하고,
상기 코어석션부는,
상기 설면대응부에 의해 감싸져 사용자의 혀 위에 배치되는 치아미백장치.
제 1 항에 있어서,
상기 코어석션부에서 흡입한 가스가 유동가능한 배출유로가 형성되고 상기 마우스피스와 연결된 핸들을 더 포함하는 치아미백장치.
세라믹 층 위에 캐소드전극과 애노드전극이 교차배치된 플라즈마 발생기;
상기 플라즈마 발생기가 장착된 마우스피스; 및
가장자리가 상기 마우스피스에 의해 감싸지고, 구강 내부의 공기를 흡입하여 외부로 배출하는 코어석션부를 포함하는 치아미백장치.
플라즈마 발생기;
상기 플라즈마 발생기가 장착된 마우스피스; 및
가장자리가 상기 마우스피스에 의해 감싸지고, 구강 내부의 공기를 흡입하여 외부로 배출하는 코어석션부를 포함하고,
상기 코어석션부는,
혀와 마주하는 위치에 제1 흡입유도부 및 상기 제1 흡입유도부의 후방에 형성된 제2 흡입유도부를 포함하고,
상기 제2 흡입유도부는,
상기 제1 흡입유도부 보다 높이가 낮은 치아미백장치.
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