KR102466831B1 - Rotary kiln and driving method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 회전형 반응기에 관한 것으로, 본 발명의 일 측면에 따르면, 내부에 반응물의 교반을 위한 공간이 형성되고 소정의 길이를 가지며, 길이 방향으로 연장되는 중심축을 기준으로 회전하는 반응기 몸체; 및 상기 반응기 몸체가 회전됨에 따라 상기 반응기 몸체의 내부에 수용된 반응물을 이동시키거나 균일하게 교반되도록 상기 반응기 몸체의 내부 벽면에 설치된 복수 개의 리프팅 플라이트를 포함하고, 복 수개의 상기 리프팅 플라이트 각각은, 플레이트 형상을 가지며, 상기 플레이트 형상의 측면이 상기 반응기 몸체 내측 벽면에 결합되는 베이스 플레이트; 및 상기 베이스 플레이트의 측면에 결합되고, 상기 베이스 플레이트에서 일 방향으로 절곡된 제1 가이드를 포함하는, 회전형 반응기가 제공될 수 있다.The present invention relates to a rotary reactor, and according to one aspect of the present invention, a reactor body having a space for stirring of reactants formed therein, having a predetermined length, and rotating about a central axis extending in the longitudinal direction; and a plurality of lifting flights installed on an inner wall surface of the reactor body to move or uniformly stir the reactants accommodated in the reactor body as the reactor body rotates, each of the plurality of lifting flights comprises a plate a base plate having a shape and having a side surface of the plate shape coupled to an inner wall surface of the reactor body; and a first guide coupled to a side surface of the base plate and bent in one direction from the base plate, a rotary reactor may be provided.

Description

회전형 반응기 및 그의 동작 방법{ROTARY KILN AND DRIVING METHOD THEREOF}Rotary reactor and its operating method {ROTARY KILN AND DRIVING METHOD THEREOF}

본 발명은 회전형 반응기 및 그의 동작 방법에 관한 것으로, 내부에 리프팅 플라이트(lifting flight)가 설치된 회전형 반응기 및 그의 동작 방법에 대한 발명이다.The present invention relates to a rotary reactor and an operating method thereof, and relates to a rotary reactor having a lifting flight installed therein and an operating method thereof.

회전형 반응기는, 회전하여 내부에 수용된 반응물이 내부 벽면에 설치된 리프팅 플라이트(lifting flight)에 의해 상부로 이동된 다음 하중에 의해 하부로 떨어지면서 내부 공기와의 접촉시키는 반응기이다. 이러한 회전형 반응기는 내부로 가열된 공기가 반응물과 접촉되어 반응물에 열이 전달되도록 한다.The rotary reactor is a reactor in which a reactant accommodated inside by rotating is moved upward by a lifting flight installed on an inner wall surface and then falls downward by a load to contact the internal air. In this rotary reactor, heated air is contacted with the reactants to transfer heat to the reactants.

그리고 회전형 반응기는, 내부에서 반응물이 열과 접촉되면서 일 방향으로 이동시키는 역할도 한다. 종래에는 회전형 반응기에서 반응물의 이동이 쉽게 일어나도록 내부 벽면에 나선 형상을 갖는 리프팅 플라이트가 설치된 것이 이용되었다. 이렇게 나선 형상을 갖는 리프팅 플라이트는 반응물을 용이하게 이동시킨다. 하지만, 일정 시간 동안 반응물이 회전형 반응기 내부에서 체류하며 교반이 이루어지는 경우, 나선 형상의 리프팅 플라이트는 반응물을 이용시키는 역할만 하고, 회전형 반응기 내부에서 반응물이 균일하게 분포시키는 역할을 하지 못하여 반응물이 회전형 반응기 내부에서 한쪽으로 치우치는 문제가 있다.In addition, the rotary reactor also serves to move the reactant in one direction while being in contact with heat inside. Conventionally, a lifting flight having a spiral shape is installed on an inner wall surface to easily move reactants in a rotary reactor. The lifting flight having such a spiral shape easily moves the reactants. However, when the reactant stays inside the rotary reactor for a certain period of time and is stirred, the spiral-shaped lifting flight only serves to use the reactant and does not play a role in uniformly distributing the reactant inside the rotary reactor, so that the reactant There is a problem of being biased to one side inside the rotary reactor.

한편, 회전형 반응기에 설치된 리프팅 플라이트에 대한 연구는 다양하게 이루어지고 있다. 이러한 회전형 반응기는, 꺾쇠 형상을 갖는 리프팅 플라이트가 설치된 회전형 반응기가 있고, 반원 형상을 갖는 리프팅 플라이트가 설치된 회전형 반응기가 있다. 또한, 이러한 회전형 반응기는, 국자 형상을 갖는 리프팅 플라이트가 설치된 회전형 반응기가 있으며, V자 형상을 갖는 리프팅 플라이트가 설치된 회전형 반응기가 있다.Meanwhile, various studies on lifting flights installed in rotary reactors have been conducted. Such a rotary reactor includes a rotary reactor equipped with lifting flights having a clamp shape and a rotary reactor equipped with lifting flights having a semicircular shape. In addition, such a rotary reactor includes a rotary reactor in which lifting flights having a ladle shape are installed, and there is a rotary reactor in which lifting flights having a V shape are installed.

상기와 같이, 리프팅 플라이트의 형상을 다양하게 변형한 것은, 반응물에 열전달 효율을 높여 반응물을 효과적으로 교반하도록 유도하지만, 반응물이 일 방향으로만 이동하는 이동성만 고려될 뿐, 체류 시간을 고려한 교반이 이루어지지 않는 문제가 있다.As described above, various modifications of the shape of the lifting flight induce effective agitation of the reactants by increasing the heat transfer efficiency to the reactants, but only the mobility of the reactants in one direction is considered, and the agitation considering the residence time is achieved. There is a problem that is not supported.

미국 등록특허 제2959869호 (1960.11.15.)US Patent No. 2959869 (November 15, 1960) 미국 등록특허 제3407511호 (1968.10.29.)US Patent No. 3407511 (1968.10.29.) 미국 등록특허 제3799735호 (1974.03.26.)US Patent No. 3799735 (1974.03.26.) 미국 등록특허 제5083382호 (1992.01.28.)US Patent No. 5083382 (1992.01.28.) 유럽 등록특허 제0612395호 (1997.04.09.)European Patent No. 0612395 (1997.04.09.) 미국 등록특허 제5997289호 (1999.12.07.)US Patent No. 5997289 (1999.12.07.)

본 발명의 실시예들은 상기와 같은 배경에서 발명된 것으로서, 회전형 반응기의 정방향 또는 역방향으로 구동시켜 최적화되도록 반응물을 이동시키나 이동 없이 교반할 수 있는 회전형 반응기 및 그의 동작 방법을 제공하고자 한다.Embodiments of the present invention have been invented in the above background, and to provide a rotary reactor and an operating method thereof capable of moving reactants to be optimized by driving the rotary reactor in the forward or reverse direction, but stirring without movement.

본 발명의 일 측면에 따르면, 내부에 반응물의 교반을 위한 공간이 형성되고 소정의 길이를 가지며, 길이 방향으로 연장되는 중심축을 기준으로 회전하는 반응기 몸체; 및 상기 반응기 몸체가 회전됨에 따라 상기 반응기 몸체의 내부에 수용된 반응물을 이동시키거나 균일하게 교반되도록 상기 반응기 몸체의 내부 벽면에 설치된 복수 개의 리프팅 플라이트를 포함하고, 복 수개의 상기 리프팅 플라이트 각각은, 플레이트 형상을 가지며, 상기 플레이트 형상의 측면이 상기 반응기 몸체 내측 벽면에 결합되는 베이스 플레이트; 및 상기 베이스 플레이트의 측면에 결합되고, 상기 베이스 플레이트에서 일 방향으로 절곡된 제1 가이드를 포함하는, 회전형 반응기가 제공될 수 있다.According to one aspect of the present invention, a reactor body having a space for stirring of reactants formed therein, having a predetermined length, and rotating based on a central axis extending in the longitudinal direction; and a plurality of lifting flights installed on an inner wall surface of the reactor body to move or uniformly stir the reactants accommodated in the reactor body as the reactor body rotates, each of the plurality of lifting flights comprises a plate a base plate having a shape and having a side surface of the plate shape coupled to an inner wall surface of the reactor body; and a first guide coupled to a side surface of the base plate and bent in one direction from the base plate, a rotary reactor may be provided.

상기 베이스 플레이트에 있어서, 상기 반응기 몸체에 결합되는 측면은, 상기 길이 방향과 소정의 틸팅각을 가지도록 경사진, 회전형 반응기가 제공될 수 있다.In the base plate, a side surface coupled to the reactor body is inclined to have a predetermined tilting angle with respect to the longitudinal direction, and a rotary reactor may be provided.

상기 베이스 플레이트는, 상기 소정의 틸팅각은 3도 내지 7도 각도인, 회전형 반응기가 제공될 수 있다.The base plate may be provided with a rotary reactor, wherein the predetermined tilting angle is 3 degrees to 7 degrees.

상기 제1 가이드와 상기 베이스 플레이트가 이루는 각도는 둔각일 수 있다.An angle between the first guide and the base plate may be an obtuse angle.

복 수개의 상기 리프팅 플라이트 각각은, 상기 베이스 플레이트의 측면에 결합되고, 상기 베이스 플레이트에서 타 방향으로 절곡된 제2 가이드를 더 포함하는, 회전형 반응기가 제공될 수 있다.Each of the plurality of lifting flights may be coupled to a side surface of the base plate and further include a second guide bent in a different direction from the base plate.

상기 제2 가이드와 상기 베이스 플레이트가 이루는 각도는 수직일 수 있다.An angle between the second guide and the base plate may be perpendicular.

복수 개의 상기 리프팅 플라이트는, 상기 반응기 몸체의 내부 벽면에 등 간격을 가지며 배치된, 회전형 반응기가 제공될 수 있다.The plurality of lifting flights may be provided in a rotary reactor, which is arranged at equal intervals on an inner wall surface of the reactor body.

복수 개의 상기 리프팅 플라이트는, 상기 반응기 몸체의 내부 벽면에 소정의 간격을 가지는 열을 이루도록 배치되고, 상기 열은, 상기 길이 방향을 따라 복수 개로 제공된, 회전형 반응기가 제공될 수 있다.The plurality of lifting flights may be disposed in rows having predetermined intervals on the inner wall surface of the reactor body, and the rows may be provided in plural numbers along the longitudinal direction.

한편, 본 발명의 일 측면에 따르면, 내부에 반응물의 교반을 위한 공간이 형성되고, 소정의 길이를 가지는 반응기 몸체가 길이 방향으로 연장되는 중심축을 기준으로 회전하는 제1 정방향 회전 단계; 상기 반응기 몸체가 상기 중심축을 기준으로 상기 제1 정방향 회전 단계에서의 회전에 반대 방향으로 회전하는 역방향 회전 단계; 및 상기 반응기 몸체가 상기 중심축을 기준으로 상기 정방향으로 회전하는 제2 정방향 회전 단계를 포함하고, 상기 반응기 몸체에는, 상기 반응기 몸체가 회전됨에 따라 상기 반응기 몸체의 내부에 수용된 반응물이 이송 또는 교반되도록 상기 반응기 몸체 내부 벽면에 복수 개의 리프팅 플라이트가 설치된, 회전형 반응기의 동작 방법이 제공될 수 있다.On the other hand, according to one aspect of the present invention, a first forward rotation step in which a space for stirring of the reactants is formed therein, and a reactor body having a predetermined length is rotated based on a central axis extending in the longitudinal direction; a reverse rotation step of rotating the reactor body in a direction opposite to the rotation in the first forward rotation step with respect to the central axis; and a second forward rotation step of rotating the reactor body in the forward direction with respect to the central axis, wherein the reactor body rotates so that the reactant contained in the reactor body is transported or stirred. A method of operating a rotary reactor in which a plurality of lifting flights are installed on the inner wall of the reactor body may be provided.

복 수개의 상기 리프팅 플라이트 각각은, 플레이트 형상을 가지며, 상기 플레이트 형상의 측면이 상기 반응기 몸체 내측 벽면에 결합되는 베이스 플레이트; 및 상기 베이스 플레이트의 측면에 결합되고, 상기 베이스 플레이트에서 일 방향으로 절곡된 제1 가이드를 포함하는, 회전형 반응기의 동작 방법이 제공될 수 있다.Each of the plurality of lifting flights includes a base plate having a plate shape and a side surface of the plate shape coupled to an inner wall surface of the reactor body; and a first guide coupled to a side surface of the base plate and bent in one direction from the base plate, a method for operating a rotary reactor may be provided.

상기 제1 정방향 회전 단계는 상기 반응기 몸체의 내부에 상기 반응물이 투입되는 동안 동작하고, 상기 제2 정방향 회전 단계는, 상기 반응기 몸체의 내부에서 상기 반응물이 배출되는 동안 동작하는, 회전형 반응기의 동작 방법이 제공될 수 있다.The first forward rotation step operates while the reactant is introduced into the reactor body, and the second forward rotation step operates while the reactant is discharged from the inside of the reactor body. A method may be provided.

상기 역방향 회전은, 상기 반응기 몸체 내부에서 상기 반응물이 교반되도록 동작하는, 회전형 반응기의 동작 방법이 제공될 수 있다.The reverse rotation may provide a method of operating a rotary reactor in which the reactants are stirred in the reactor body.

본 발명의 실시예들에 따르면, 회전형 반응기를 최소한으로 정방향 또는 역방향으로 구동시켜 반응물이 한 쪽으로 치우치지 않은 상태로 교반되면서 이동시킬 수 있어, 회전형 반응기의 구동부에 부하가 최소화될 수 있다.According to embodiments of the present invention, the rotary reactor can be driven in a forward or reverse direction at a minimum to move the reactants while being stirred in a non-lopsided state, so that the load on the drive unit of the rotary reactor can be minimized.

또한, 회전형 반응기의 내부에 반응물이 균일하게 분포되도록 운전하기 위해 정방향 및 역방향으로 여러 번에 걸쳐 교대 운전하지 않고, 회전형 반응기를 정방향 및 역방향으로 1회씩 교대 운전하는 것만으로도 반응물이 교반되면서 이동될 때, 회전형 반응기 내의 반응물이 균일하게 분포할 수 있는 효과가 있다.In addition, in order to uniformly distribute the reactants inside the rotary reactor, the reactants are stirred and When moved, there is an effect of uniformly distributing the reactants in the rotary reactor.

더욱이, 회전형 반응기를 반응물이 투입되거나 배출될 때만 반응물의 이송을 위해 정방향 회전시키고, 교반을 위해서는 역방향으로 회전시킴에 따라 반복적으로 교대 운전을 하지 않아 회전형 구동부의 부하를 최소화할 수 있는 효과가 있다.Furthermore, as the rotary reactor is rotated in the forward direction for transporting the reactants only when the reactants are input or discharged and rotated in the reverse direction for stirring, the load on the rotary actuator can be minimized without repeatedly alternating operation. have.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기를 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기의 내부 벽면에 설치된 리프팅 플라이트들의 일부를 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기에 리프팅 플라이트들이 설치된 상태를 도시한 정면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기의 리프팅 플라이트들 중 하나를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기가 정방향으로 회전하는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기가 정방향으로 회전할 때 리프팅 플라이트에서 반응물이 이동하는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기가 정방향으로 회전할 때 투입구에서 반응물의 분포를 나타낸 사진이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기가 정방향으로 회전할 때 배출구에서 반응물의 분포를 나타낸 사진이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기의 리프팅 플라이트들 중 하나를 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기가 역방향으로 회전하는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기가 역방향으로 회전할 때 리프팅 플라이트에서 반응물이 이동하는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기가 역방향으로 회전할 때 투입구에서 반응물의 분포를 나타낸 사진이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전형 반응기가 역방향으로 회전할 때 배출구에서 반응물의 분포를 나타낸 사진이다.
1 is a view showing a rotary reactor according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a view showing some of the lifting flights installed on the inner wall of the rotary reactor according to an embodiment of the present invention.
3 is a front view showing a state in which lifting flights are installed in a rotary reactor according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a view for explaining one of the lifting flights of the rotary reactor according to an embodiment of the present invention.
5 is a view for explaining that a rotary reactor rotates in a forward direction according to an embodiment of the present invention.
6 is a view for explaining the movement of reactants in a lifting flight when a rotary reactor rotates in a forward direction according to an embodiment of the present invention.
7 is a photograph showing the distribution of reactants in the inlet when the rotary reactor rotates in the forward direction according to an embodiment of the present invention.
8 is a photograph showing the distribution of reactants at the outlet when the rotary reactor rotates in the forward direction according to an embodiment of the present invention.
9 is a view for explaining one of lifting flights of a rotary reactor according to an embodiment of the present invention.
10 is a view for explaining that a rotary reactor rotates in a reverse direction according to an embodiment of the present invention.
11 is a view for explaining the movement of a reactant in a lifting flight when a rotary reactor rotates in a reverse direction according to an embodiment of the present invention.
12 is a photograph showing the distribution of reactants in the inlet when the rotary reactor rotates in the reverse direction according to an embodiment of the present invention.
13 is a photograph showing the distribution of reactants at the outlet when the rotary reactor rotates in the reverse direction according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 본 발명을 구현하기 위한 구체적인 실시예에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다. Hereinafter, specific embodiments for implementing the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

아울러 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다.In addition, in the description of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted.

또한, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 '연결', '지지', '접속', '공급', '전달', '접촉'된다고 언급된 때에는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결, 지지, 접속, 공급, 전달, 접촉될 수도 있지만 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In addition, when a component is referred to as 'connecting', 'supporting', 'connecting', 'supplying', 'transferring', or 'contacting' to another component, it is directly connected to, supported by, or connected to the other component. It may be supplied, delivered, or contacted, but it should be understood that other components may exist in the middle.

본 명세서에서 사용된 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로 본 발명을 한정하려는 의도로 사용된 것은 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다.Terms used in this specification are only used to describe specific embodiments and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

또한, 본 명세서에서 상측, 하측, 측면 등의 표현은 도면에 도시를 기준으로 설명한 것이며 해당 대상의 방향이 변경되면 다르게 표현될 수 있음을 미리 밝혀둔다. 마찬가지의 이유로 첨부 도면에 있어서 일부 구성요소는 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었으며, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것이 아니다.In addition, in this specification, expressions such as upper, lower, side, etc. are described based on the drawings, and it is made clear in advance that they may be expressed differently if the direction of the object is changed. For the same reason, some components in the accompanying drawings are exaggerated, omitted, or schematically illustrated, and the size of each component does not entirely reflect the actual size.

또한, 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 해당 구성요소들은 이와 같은 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 이 용어들은 하나의 구성요소들을 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.In addition, terms including ordinal numbers, such as first and second, may be used to describe various components, but the components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another.

명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.As used herein, the meaning of "comprising" specifies specific characteristics, regions, integers, steps, operations, elements, and/or components, and other specific characteristics, regions, integers, steps, operations, elements, elements, and/or groups. does not exclude the presence or addition of

도 1 내지 도 13을 참조하여, 회전형 반응기(10)에 대해 설명한다. 회전형 반응기(10)는, 내부에 분말(powder) 형태의 반응물(20)을 교반하면서 이동시킨다. 상기와 같은 회전형 반응기(10)는, 반응기 몸체(100) 및 리프팅 플라이트(200, lifting flight)를 포함한다.Referring to FIGS. 1 to 13 , the rotary reactor 10 will be described. The rotary reactor 10 moves while stirring the reactant 20 in the form of powder therein. The rotary reactor 10 as described above includes a reactor body 100 and a lifting flight 200.

반응기 몸체(100)는, 내부에 중공을 가지며 소정의 길이를 갖는 대략 원통 형상을 가진다. 그리고 반응기 몸체(100)는 일 측에 반응물(20)이 투입되는 투입구(TI)가 형성되고, 타 측에 반응물(20)이 배출되는 배출구(DO)가 형성된다.The reactor body 100 has a substantially cylindrical shape with a hollow inside and a predetermined length. In addition, the reactor body 100 has an inlet (TI) into which the reactant 20 is input on one side and an outlet (DO) through which the reactant 20 is discharged is formed on the other side.

또한, 반응기 몸체(100)에는, 외부에서 가열된 공기가 유입될 수 있으며, 이를 위해 반응기 몸체(100)에 공기를 가열하기 위한 가열기 등이 연결될 수 있다. 또는, 필요에 따라 반응물(20)에 열을 전달하기 위한 별도의 매체가 반응기 몸체(100) 내부에 공급될 수 있다.In addition, air heated from the outside may be introduced into the reactor body 100, and for this purpose, a heater or the like for heating air may be connected to the reactor body 100. Alternatively, a separate medium for transferring heat to the reactant 20 may be supplied inside the reactor body 100 as needed.

반응기 몸체(100)의 내부에 복수 개의 리프팅 플라이트(200)가 배치된다. 리프팅 플라이트(200)는, 대략 소정의 길이를 갖는 플레이트 형상을 가지며, 이에 대해서는 후술한다. 리프팅 플라이트(200)는 리프팅 플라이트(200)의 길이 방향이 반응기 몸체(100)의 길이 방향으로 반응기 몸체(100)의 내부의 벽면에 결합된다.A plurality of lifting flights 200 are disposed inside the reactor body 100 . The lifting flight 200 has a plate shape with approximately a predetermined length, which will be described later. The lifting flight 200 is coupled to the inner wall surface of the reactor body 100 in the longitudinal direction of the lifting flight 200 in the longitudinal direction of the reactor body 100 .

그리고 복수 개의 리프팅 플라이트(200)는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 반응기 몸체(100)의 내부 벽면(원통좌표계에서, θ 방향)을 따라 소정의 간격을 가지며 배치될 수 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 복수 개의 리프팅 플라이트(200)(예컨대, 열여섯 개)가 소정의 간격을 가지도록 배치된 것을 하나의 열인 것으로 정의하면, 복수 개의 리프팅 플라이트(200)는 복수 개의 열이 반응기 몸체(100)의 내부 벽면에 배치될 수 있다.Also, as shown in FIGS. 1 and 2 , the plurality of lifting flights 200 may be arranged at predetermined intervals along the inner wall surface of the reactor body 100 (in the θ direction in a cylindrical coordinate system). As shown in FIG. 2, if a plurality of lifting flights 200 (eg, sixteen) are arranged to have a predetermined interval and defined as one column, the plurality of lifting flights 200 are a plurality of columns. It may be disposed on the inner wall of the reactor body 100.

여기서, 리프팅 플라이트(200)의 복수 개의 열은, 서로 소정의 간격으로 이격된 상태로 배치될 수 있다. 리프팅 플라이트(200)의 복수 개의 열은 서로 동일한 배치로 이격되어 배치될 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 리프팅 플라이트(200)의 복수 개의 열은 엇갈린 배치로 이격되어 배치될 수 있다.Here, a plurality of columns of the lifting flight 200 may be arranged spaced apart from each other at a predetermined interval. A plurality of columns of the lifting flights 200 may be arranged spaced apart in the same arrangement, but is not limited thereto, and a plurality of rows of the lifting flights 200 may be arranged spaced apart in a staggered arrangement.

복수 개의 리프팅 플라이트(200)는 각각 모두 동일한 것이 이용될 수 있고, 각각 베이스 플레이트(210), 제1 가이드(220) 및 제2 가이드(230)를 포함한다. 도 4를 참조하여 리프팅 플라이트(200)에 대해 상세하게 설명한다.The plurality of lifting flights 200 may be all the same, each including a base plate 210, a first guide 220 and a second guide 230. The lifting flight 200 will be described in detail with reference to FIG. 4 .

도 4에 도시된 리프팅 플라이트(200)는, 반응기 몸체(100)에 설치된 복수 개의 리프팅 플라이트(200) 중 하나이며, 베이스 플레이트(210)가 z축 방향으로 유사하게 배치된 것을 이용하여 설명한다. 즉, 리프팅 플라이트(200)는 반응기 몸체(100)는 길이 방향이 z축을 따라 배치될 수 있다.The lifting flight 200 shown in FIG. 4 is one of a plurality of lifting flights 200 installed on the reactor body 100, and the base plate 210 is similarly disposed in the z-axis direction. That is, the lifting flight 200 may be disposed along the z-axis in the longitudinal direction of the reactor body 100 .

베이스 플레이트(210)는, 소정의 넓이를 가지는 직사각형 형상의 플레이트일 수 있다. 이때, 베이스 플레이트(210)의 길이(L) 및 너비(W)는 각각 반응기 몸체(100) 내부 중공의 반경에 의해 결정될 수 있다. 예컨대, 베이스 플레이트(210)의 길이(L)는 반응기 몸체(100)의 내부 중공 반경(R)의 1/1.5일 수 있고, 베이스 플레이트(210)의 너비(W)는 반응기 몸체(100)의 내부 중공 반경(R)의 1/3일 수 있다.The base plate 210 may be a rectangular plate having a predetermined area. At this time, the length (L) and width (W) of the base plate 210 may be determined by the radius of the inner hollow of the reactor body 100, respectively. For example, the length (L) of the base plate 210 may be 1/1.5 of the inner hollow radius (R) of the reactor body 100, and the width (W) of the base plate 210 is that of the reactor body 100. It may be 1/3 of the inner hollow radius (R).

이러한 베이스 플레이트(210)는, 반응기 몸체(100)의 내부 측벽에 결합되는데, 베이스 플레이트(210)의 측면이 반응기 몸체(100)의 내부 측벽에 결합될 수 있다. 여기서, 베이스 플레이트(210)의 측면은 반응기 몸체(100)의 내부 둘레방향을 따라 연장되는 둘레면에 결합될 수 있다.The base plate 210 is coupled to the inner sidewall of the reactor body 100, and a side surface of the base plate 210 may be coupled to the inner sidewall of the reactor body 100. Here, the side surface of the base plate 210 may be coupled to a circumferential surface extending along the inner circumferential direction of the reactor body 100 .

그리고 베이스 플레이트(210)는 반응기 몸체(100)의 길이 방향(z축 방향)과 소정의 각도(d)로 경사질 수 있다. 이때, 베이스 플레이트(210)는 반응기 몸체(100)의 일 측에서 타 측(z축 방향)으로 갈수록 경사가 낮아지도록 반응기 몸체(100)의 길이 방향과 소정의 각도(d)로 경사질 수 있다.Also, the base plate 210 may be inclined at a predetermined angle d with the length direction (z-axis direction) of the reactor body 100 . At this time, the base plate 210 may be inclined at a predetermined angle d with the longitudinal direction of the reactor body 100 such that the inclination decreases from one side of the reactor body 100 to the other side (z-axis direction). .

예를 들어, 베이스 플레이트(210)는 배출구(DO) 측의 단부가 투입구(TI) 측의 단부보다 도 4에서의 -θ방향(역둘레 방향)에 위치하도록 길이방향(z축 방향)에 대해 소정의 틸팅각(d)으로 경사(틸팅)져 배치될 수 있다. 더 자세한 예시로, 이러한 소정의 틸팅각은, 대략 3도 내지 7도의 각도일 수 있다.For example, the base plate 210 is disposed in the longitudinal direction (z-axis direction) such that the end portion of the outlet DO side is located in the -θ direction (reverse circumferential direction) in FIG. 4 rather than the end portion of the inlet port TI side. It may be disposed inclined (tilted) at a predetermined tilting angle (d). As a more specific example, the predetermined tilting angle may be approximately 3 degrees to 7 degrees.

따라서 상기와 같이, 베이스 플레이트(210)가 z축에 대비하여 경사짐에 따라 베이스 플레이트(210)에 반응물(20)이 배치되면 베이스 플레이트(210)의 경사를 따라 반응기 몸체(100)의 배출구(DO) 측으로 이동될 수 있다.Therefore, as described above, when the reactant 20 is disposed on the base plate 210 as the base plate 210 is inclined relative to the z-axis, the outlet of the reactor body 100 along the slope of the base plate 210 ( DO) side.

제1 가이드(220)는 베이스 플레이트(210)의 한 쪽 가장자리에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 가이드(220)는 베이스 플레이트(210)에 있어 반경방향의 내측을 향하는 가장자리에 배치되어 길이방향으로 연장될 수 있다. 제1 가이드(220)는 베이스 플레이트(210)의 길이(L) 방향의 일 측면에 배치될 수 있다. 이때, 제1 가이드(220)는 소정의 너비를 가지고, 베이스 플레이트(210)의 길이(L)와 동일한 길이를 가질 수 있다.The first guide 220 may be disposed on one edge of the base plate 210 . For example, the first guide 220 may be disposed at a radially inward edge of the base plate 210 and extend longitudinally. The first guide 220 may be disposed on one side of the base plate 210 in the length (L) direction. In this case, the first guide 220 may have a predetermined width and the same length as the length L of the base plate 210 .

또한, 제1 가이드(220)는 둘레방향(도 1에서의 θ방향(정둘레방향), 또는 그 반대의 -θ방향(역둘레방향))을 향하여 소정 각도(t1)로 기울어질 수 있다. 예를 들어, 제1 가이드(220)는 베이스 플레이트(210)에 대해 역방향을 따르는 둘레방향(역둘레방향, θ방향)으로 소정의 각도(t1)로 배향될 수 있다. 더 자세한 예시로, 도 4에 도시된 바와 같이, 투입구(TI)와 배출구(DO) 측 가장자리가 수평면과 나란한 하나의 베이스 플레이트(210)에 구비되는 제1 가이드(220)를 보았을 때, 베이스 플레이트(210)를 기준으로 상부 방향으로 소정의 각도로 절곡될 수 있다.In addition, the first guide 220 may be inclined at a predetermined angle t1 toward the circumferential direction (the θ direction (normal circumferential direction) in FIG. 1 or the opposite -θ direction (reverse circumferential direction)). For example, the first guide 220 may be oriented at a predetermined angle t1 in a circumferential direction (reverse circumferential direction, θ direction) along the reverse direction with respect to the base plate 210 . As a more detailed example, as shown in FIG. 4, when looking at the first guide 220 provided on one base plate 210 whose edges at the inlet (TI) and outlet (DO) are parallel to the horizontal plane, the base plate It may be bent at a predetermined angle in an upward direction based on (210).

여기서, 제1 가이드(220)와 베이스 플레이트(210)의 일면이 이루는 각도(t1)는 둔각(90도 내지 180도)일 수 있다. 하지만, 제1 가이드(220)와 베이스 플레이트(210)의 일면이 이루는 각도(t1)는 둔각으로 한정되지 않고, 필요에 따라 수직이거나 예각(0도 내지 90도)일 수 있다.Here, an angle t1 formed between the first guide 220 and one surface of the base plate 210 may be an obtuse angle (90 degrees to 180 degrees). However, the angle t1 formed between the first guide 220 and one surface of the base plate 210 is not limited to an obtuse angle, and may be vertical or an acute angle (0 to 90 degrees) as needed.

그에 따라 베이스 플레이트(210)에 반응물(20)이 배치되는 경우, 하중에 의해 베이스 플레이트(210)의 경사를 따라 반응물(20)이 이동할 때, 제1 가이드(220)에 의해 반응물(20)이 베이스 플레이트(210)의 측면으로 떨어지지 않고 베이스 플레이트(210)의 경사를 따라 이동할 수 있다.Accordingly, when the reactant 20 is disposed on the base plate 210, when the reactant 20 moves along the slope of the base plate 210 by the load, the reactant 20 is moved by the first guide 220. It can move along the slope of the base plate 210 without falling to the side of the base plate 210 .

물론, 베이스 플레이트(210)의 일면에 제1 가이드(220)의 너비(베이스 플레이트(210)의 상면을 기준으로 높이)보다 많은 양의 반응물(20)이 배치되는 경우, 제1 가이드(220)를 넘어 베이스 플레이트(210)의 측면으로 반응물(20)이 베이스 플레이트(210)에서 떨어질 수 있다.Of course, when a larger amount of the reactant 20 is disposed on one surface of the base plate 210 than the width of the first guide 220 (height based on the upper surface of the base plate 210), the first guide 220 Beyond the side of the base plate 210, the reactant 20 may fall from the base plate 210.

제2 가이드(230)는 베이스 플레이트(210)의 다른 쪽 가장자리에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제2 가이드(230)는 베이스 플레이트(210)에 있어 투입구(TI) 측의 가장자리에 배치되어 반경방향으로 연장될 수 있다. 제2 가이드(230)는 베이스 플레이트(210)의 너비(W) 방향의 일 측면에 배치될 수 있다. 이때, 제2 가이드(230)는 소정의 너비를 가지고, 베이스 플레이트(210)의 너비(W)와 동일한 길이를 가질 수 있다.The second guide 230 may be disposed on the other edge of the base plate 210 . For example, the second guide 230 may be disposed at an edge of the base plate 210 on the side of the inlet TI and extend in a radial direction. The second guide 230 may be disposed on one side of the base plate 210 in the width (W) direction. In this case, the second guide 230 may have a predetermined width and the same length as the width W of the base plate 210 .

또한, 제2 가이드(230)는 둘레방향(도 1에서의 -θ방향(역둘레방향), 또는 반대의 θ방향(정둘레방향))을 향하여 소정의 각도(t2)로 기울어질 수 있다. 예를 들어, 제2 가이드(230)는 베이스 플레이트(210)에 대해 정방향을 따르는 둘레방향(정둘레방향, -θ방향)으로 소정의 각도(t2)로 배향될 수 있다.In addition, the second guide 230 may be inclined at a predetermined angle t2 toward the circumferential direction (-θ direction (reverse circumferential direction) in FIG. 1 or the opposite θ direction (normal circumferential direction)). For example, the second guide 230 may be oriented at a predetermined angle t2 in a circumferential direction (normal circumferential direction, -θ direction) along the positive direction with respect to the base plate 210 .

여기서, 도 4에 도시된 바와 같이, 제2 가이드(230)와 베이스 플레이트(210)가 이루는 각도(t2)는 90도 일 수 있다. 하지만, 제2 가이드(230)와 베이스 플레이트(210)가 이루는 각도는 90도로 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라 예각이나 둔각일 수도 있다.Here, as shown in FIG. 4 , an angle t2 between the second guide 230 and the base plate 210 may be 90 degrees. However, the angle formed by the second guide 230 and the base plate 210 is not limited to 90 degrees, and may be an acute angle or an obtuse angle as needed.

그에 따라 베이스 플레이트(210)에 반응물(20)이 배치되는 경우, 베이스 플레이트(210)는 도 9에 도시된 바와 같이, 제2 가이드(230) 측으로 하중에 의해 반응물이 이동될 수 있다.Accordingly, when the reactant 20 is disposed on the base plate 210, the base plate 210 may move the reactant toward the second guide 230 by a load, as shown in FIG. 9 .

도 5에 도시된 바와 같이, 회전형 반응기(10)가 정방향으로 회전할 때, 반응물(20)은 리프팅 플라이트(200)에 의해 회전형 반응기(10)의 회전에 따라 이동될 수 있다. 그리고 도 6에 도시된 바와 같이, 반응물(20)은 리프팅 플라이트(200)의 베이스 플레이트(210)의 경사를 따라 반응기 몸체(100)의 일 측에서 타 측 방향으로 이동될 수 있다.As shown in FIG. 5 , when the rotary reactor 10 rotates in the forward direction, the reactants 20 may be moved according to the rotation of the rotary reactor 10 by the lifting flight 200 . And as shown in FIG. 6 , the reactant 20 may be moved from one side of the reactor body 100 to the other side along the slope of the base plate 210 of the lifting flight 200 .

여기서, 정방향은, 원통좌표계에서 -θ방향일 수 있다. 즉, 투입구(TI)에서 배출구(DO)로 연장되는 중심축(z축 방향)에 대한 시계방향으로 정의될 수 있다. 또한, 역방향은, 그 반대방향(반시계방향)으로 정의될 수 있다.Here, the positive direction may be the -θ direction in the cylindrical coordinate system. That is, it may be defined in a clockwise direction with respect to a central axis (z-axis direction) extending from the inlet TI to the outlet DO. In addition, the reverse direction may be defined as the opposite direction (counterclockwise direction).

도 6을 참조하면, 리프팅 플레이트는 반응기 몸체(100)가 정방향으로 회전함에 따라 이동하며, 이때, 반응물(20)은 베이스 플레이트(210)가 경사짐에 따라 z축 방향으로 이동되면서, 리프팅 플라이트(200)에서 떨어질 수 있다. 이렇게 반응물(20)이 리프팅 플라이트(200)의 떨어지더라도 베이스 플레이트(210)의 경사 및 제1 가이드(220)로 인해, 점차 반응기 몸체(100)의 투입구(TI) 측에서 배출구(DO) 측 방향인 z축 방향으로 이동될 수 있다.6, the lifting plate moves as the reactor body 100 rotates in the forward direction, and at this time, the reactant 20 moves in the z-axis direction as the base plate 210 tilts, and the lifting flight ( 200) may fall. Even if the reactant 20 falls from the lifting flight 200, the inclination of the base plate 210 and the first guide 220 gradually move the reactor body 100 from the inlet (TI) side to the outlet (DO) side. can be moved in the z-axis direction.

여기서, 반응기 몸체(100)의 내부 중공의 체적을 약 6.4L로 하고, 반응기 몸체(100)의 내부에 복수 개의 리프팅 플라이트(200)를 설치하여 반응기 몸체(100)를 정방향으로 회전시킨 결과, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 반응기 몸체(100)의 투입구(TI)와 배출구(DO)에서 반응물(20)의 분포가 다르게 나타나는 것을 확인할 수 있다.Here, the volume of the inner hollow of the reactor body 100 is about 6.4L, and a plurality of lifting flights 200 are installed inside the reactor body 100 to rotate the reactor body 100 in the forward direction. As shown in FIGS. 7 and 8 , it can be seen that the distribution of the reactant 20 is different at the inlet (TI) and the outlet (DO) of the reactor body 100 .

이때, 반응기 몸체(100)의 내부에 수용된 반응물(20)은 평균입도 500㎛이고, 충진 밀도가 0.2lg/L이며, 질량 350g일 수 있다. 이러한 반응물(20)은 반응기 몸체(100)에서 약 27.2%의 부피를 차지한다. 따라서 반응기 몸체(100)에 수용된 반응물(20)은 투입구(TI) 및 배출구(DO)에서의 높이는 약 45mm일 수 있다.At this time, the reactant 20 accommodated inside the reactor body 100 may have an average particle size of 500 μm, a packing density of 0.2 lg/L, and a mass of 350 g. This reactant 20 occupies about 27.2% of the volume of the reactor body 100. Therefore, the reactant 20 accommodated in the reactor body 100 may have a height of about 45 mm at the input port TI and the outlet port DO.

이러한 상태에서, 회전형 반응기(10)를 정방향으로 회전시킨 결과, 도 7에 도시된 바와 같이, 투입구(TI) 측에 배치된 반응물(20)은 약 13mm(약 28.9%)의 높이만큼 배치되고, 배출구(DO) 측에 배치된 반응물(20)은 약 72mm(약 160%)의 높이만큼 배치된 것을 확인할 수 있다. 그에 따라 본 실시예에 따른 회전형 반응기(10)를 정방향으로 회전시킬 때, 반응물(20)이 투입구(TI) 측에서 배출구(DO) 측으로 대부분 이송되는 것을 확인할 수 있다.In this state, as a result of rotating the rotary reactor 10 in the forward direction, as shown in FIG. 7, the reactant 20 disposed on the inlet TI side is disposed at a height of about 13 mm (about 28.9%) and , It can be seen that the reactant 20 disposed on the outlet DO side is disposed at a height of about 72 mm (about 160%). Accordingly, when the rotary reactor 10 according to the present embodiment is rotated in the forward direction, it can be seen that most of the reactants 20 are transferred from the input port TI side to the outlet port DO side.

이렇게 회전형 반응기(10)는 정방향으로 회전하는 동안 내부에 있는 반응물(20)의 투입구(TI) 측에서 배출구(DO) 측으로 이송될 수 있다. 따라서 본 실시예에서, 회전형 반응기(10)는 반응물(20)이 투입구(TI)를 통해 투입되는 동안 정방향으로 회전하여, 반응물(20)을 투입구(TI) 측에서 배출구(DO) 측으로 이송시킬 수 있다. 또한, 회전형 반응기(10)는 반응물(200이 배출구(DO)를 통해 배출되는 동안 정방향으로 회전하여, 반응물(20)을 투입구(TI) 측에서 배출구(DO) 측으로 이송시킬 수 있다.In this way, while the rotary reactor 10 rotates in the forward direction, reactants 20 therein may be transported from the input port TI side to the outlet port DO side. Therefore, in the present embodiment, the rotary reactor 10 rotates in the forward direction while the reactant 20 is introduced through the inlet TI to transport the reactant 20 from the inlet TI side to the outlet DO side. can In addition, the rotary reactor 10 rotates in the forward direction while the reactant 200 is discharged through the outlet DO, so that the reactant 20 may be transported from the inlet port TI to the outlet DO.

그리고 회전형 반응기(10)를 역방향으로 회전시키는 경우, 도 10에 도시된 바와 같이, 반응물(20)이 리프팅 플라이트(200)의 베이스 플레이트(210)에 의해 이송된다. 이때, 도 11에 도시된 바와 같이, 반응물(20)은 베이스 플레이트(210)에서, 제2 가이드(230)가 배치된 위치로 이동하면서 베이스 플레이트(210)의 측면을 통해 떨어질 수 있다. 다시 말해, 제2 가이드(230)에 의해 베이스 플레이트(210) 상의 반응물은 투입구(TI) 외부로의 이동이 제한될 수 있다.And when rotating the rotary reactor 10 in the reverse direction, as shown in FIG. 10 , the reactant 20 is transported by the base plate 210 of the lifting flight 200 . At this time, as shown in FIG. 11 , the reactant 20 may fall through the side of the base plate 210 while moving to a position where the second guide 230 is disposed. In other words, the movement of the reactant on the base plate 210 to the outside of the inlet TI may be restricted by the second guide 230 .

상기와 같이, 회전형 반응기(10)가 역방향으로 회전하는 경우, 그 결과가 도 12 및 도 13에 도시된다. 도 12에 도시된 바와 같이, 투입구(TI) 측에 배치된 반응물(20)은 약 42mm(약 93.3%)의 높이만큼 배치되고, 도 13에 도시된 바와 같이, 배출구(DO) 측에 배치된 반응물(20)은 약 46mm(약 102%)의 높이만큼 배치된 것을 확인할 수 있다.As described above, when the rotary reactor 10 rotates in the reverse direction, the results are shown in FIGS. 12 and 13 . As shown in FIG. 12, the reactant 20 disposed on the inlet (TI) side is disposed at a height of about 42 mm (about 93.3%), and as shown in FIG. 13, disposed on the outlet (DO) side It can be seen that the reactant 20 is disposed at a height of about 46 mm (about 102%).

즉, 회전형 반응기(10)가 역방향으로 회전하면, 반응기 몸체(100)의 내부에 수용된 반응물(20)은 반응기 몸체(100) 내부에서 거의 균일하게 분포하는 것을 확인할 수 있고, 이송보다 반응물(20)의 교반이 균일하게 이루어진 것을 확인할 수 있다.That is, when the rotary reactor 10 rotates in the reverse direction, it can be confirmed that the reactant 20 accommodated in the reactor body 100 is almost uniformly distributed inside the reactor body 100, and the reactant 20 ) It can be seen that the stirring was made uniformly.

이렇게 회전형 반응기(10)는 역방향 회전하는 것으로, 반응기 몸체(100)의 내부에 반응물(20)이 균일하게 분포되도록 교반할 수 있다. 따라서 반응기 몸체(100)가 역방향으로 회전하는 것은 반응물(20)의 투입이 완료된 상태에서 이루어질 수 있다.In this way, the rotary reactor 10 is rotated in the reverse direction, and the reactant 20 may be stirred so that the reactant 20 is uniformly distributed inside the reactor body 100 . Accordingly, rotation of the reactor body 100 in the reverse direction may be performed in a state in which the input of the reactant 20 is completed.

이상 본 발명의 실시예들을 구체적인 실시 형태로서 설명하였으나, 이는 예시에 불과한 것으로서, 본 발명은 이에 한정되지 않는 것이며, 본 명세서에 개시된 실시예들에 따르는 최광의 범위를 갖는 것으로 해석되어야 한다. 당업자는 개시된 실시형태들을 조합/치환하여 적시되지 않은 형상의 패턴을 실시할 수 있으나, 이 역시 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 것이다. 이외에도 당업자는 본 명세서에 기초하여 개시된 실시형태를 용이하게 변경 또는 변형할 수 있으며, 이러한 변경 또는 변형도 본 발명의 권리범위에 속함은 명백하다.Although the embodiments of the present invention have been described as specific embodiments, this is merely an example, and the present invention is not limited thereto, and should be construed as having the widest scope according to the embodiments disclosed herein. A person skilled in the art may implement a pattern of a shape not indicated by combining/substituting the disclosed embodiments, but this also does not deviate from the scope of the present invention. In addition, those skilled in the art can easily change or modify the disclosed embodiments based on this specification, and it is clear that such changes or modifications also fall within the scope of the present invention.

10: 회전형 반응기
100: 반응기 몸체
200: 리프팅 플라이트 210: 베이스 플레이트
220: 제1 가이드 230: 제2 가이드
20: 반응물
TI: 투입구 DO: 배출구
10: rotary reactor
100: reactor body
200: lifting flight 210: base plate
220: first guide 230: second guide
20: reactant
TI: inlet DO: outlet

Claims (12)

내부에 반응물의 교반을 위한 공간이 형성되고 소정의 길이를 가지며, 길이 방향으로 연장되는 중심축을 기준으로 회전하는 반응기 몸체; 및
상기 반응기 몸체가 회전됨에 따라 상기 반응기 몸체의 내부에 수용된 반응물을 이동시키거나 균일하게 교반되도록 상기 반응기 몸체의 내부 벽면에 설치된 복수 개의 리프팅 플라이트를 포함하고,
복수 개의 상기 리프팅 플라이트 각각은,
플레이트 형상을 가지며, 상기 플레이트 형상의 측면이 상기 반응기 몸체 내측 벽면에 결합되는 베이스 플레이트;
상기 베이스 플레이트의 측면에 결합되고, 상기 베이스 플레이트에서 일 방향으로 절곡된 제1 가이드: 및
상기 베이스 플레이트의 측면에 결합되고, 상기 베이스 플레이트에서 타 방향으로 절곡된 제2 가이드를 포함하고,
상기 반응기 몸체는, 일측에 상기 반응물이 투입되는 투입구가 형성되고, 타측에 상기 반응물이 배출되는 배출구가 형성되며,
상기 베이스 플레이트는, 상기 베이스 플레이트가 상기 반응기 몸체에 결합되는 측면이 상기 길이방향에 대하여 소정의 틸팅각으로 경사지게 형성되어,
상기 리프팅 플라이트가 상기 중심축을 기준으로 일방향으로 회전될 때, 상기 베이스 플레이트에 의해 상기 반응물은 상기 투입구 측으로부터 상기 배출구 방향으로 이동되고,
상기 리프팅 플라이트가 상기 중심축을 기준으로 상기 일방향의 반대방향인 타방향으로 회전될 때, 상기 베이스 플레이트 상의 상기 반응물의 어느 일부는 상기 투입구 측으로 이동하고, 상기 베이스 플레이트 상의 상기 반응물의 다른 일부는 상기 배출구 측으로 이동되어 교반되고,
상기 제2 가이드에 의해 상기 베이스 플레이트 상의 상기 반응물이 상기 투입구 외부로의 이동이 제한되는,
회전형 반응기.
A reactor body having a space for agitation of reactants formed therein, having a predetermined length, and rotating about a central axis extending in the longitudinal direction; and
A plurality of lifting flights installed on an inner wall surface of the reactor body to move or uniformly stir the reactants accommodated in the reactor body as the reactor body rotates,
Each of the plurality of lifting flights,
a base plate having a plate shape and a side surface of the plate shape coupled to an inner wall surface of the reactor body;
A first guide coupled to a side surface of the base plate and bent in one direction in the base plate: and
A second guide coupled to a side surface of the base plate and bent in another direction from the base plate;
The reactor body has an inlet through which the reactant is introduced on one side and an outlet through which the reactant is discharged is formed on the other side,
In the base plate, a side surface of the base plate coupled to the reactor body is formed to be inclined at a predetermined tilting angle with respect to the longitudinal direction,
When the lifting flight is rotated in one direction with respect to the central axis, the reactant is moved from the inlet side to the outlet direction by the base plate,
When the lifting flight is rotated in another direction opposite to the one direction based on the central axis, some of the reactants on the base plate move toward the inlet, and another part of the reactants on the base plate move toward the outlet. It is moved to the side and stirred,
Movement of the reactant on the base plate to the outside of the inlet is restricted by the second guide,
rotary reactor.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 소정의 틸팅각은 3도 내지 7도 각도인,
회전형 반응기.
According to claim 1,
The predetermined tilting angle is an angle of 3 degrees to 7 degrees,
rotary reactor.
제 1 항에 있어서,
상기 제1 가이드와 상기 베이스 플레이트가 이루는 각도는 둔각인,
회전형 반응기.
According to claim 1,
The angle formed by the first guide and the base plate is an obtuse angle,
rotary reactor.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 제2 가이드와 상기 베이스 플레이트가 이루는 각도는 수직인,
회전형 반응기.
According to claim 1,
The angle formed by the second guide and the base plate is vertical,
rotary reactor.
제 1 항에 있어서,
복수 개의 상기 리프팅 플라이트는, 상기 반응기 몸체의 내부 벽면에 등 간격을 가지며 배치된,
회전형 반응기.
According to claim 1,
The plurality of lifting flights are arranged at equal intervals on the inner wall surface of the reactor body,
rotary reactor.
제 1 항에 있어서,
복수 개의 상기 리프팅 플라이트는, 상기 반응기 몸체의 내부 벽면에 소정의 간격을 가지는 열을 이루도록 배치되고,
상기 열은, 상기 길이 방향을 따라 복수 개로 제공되는,
회전형 반응기.
According to claim 1,
The plurality of lifting flights are arranged to form a row having a predetermined interval on the inner wall surface of the reactor body,
The columns are provided in plurality along the longitudinal direction,
rotary reactor.
내부에 반응물의 교반을 위한 공간이 형성되고, 소정의 길이를 가지는 반응기 몸체가 길이 방향으로 연장되는 중심축을 기준으로 회전하는 제1 정방향 회전 단계;
상기 반응기 몸체가 상기 중심축을 기준으로 상기 제1 정방향 회전 단계에서의 회전에 반대 방향으로 회전하는 역방향 회전 단계; 및
상기 반응기 몸체가 상기 중심축을 기준으로 상기 정방향으로 회전하는 제2 정방향 회전 단계를 포함하고,
상기 반응기 몸체에는, 상기 반응기 몸체가 회전됨에 따라 상기 반응기 몸체의 내부에 수용된 반응물이 이송 또는 교반되도록 상기 반응기 몸체 내부 벽면에 복수 개의 리프팅 플라이트가 설치되고,
복수 개의 상기 리프팅 플라이트 각각은,
플레이트 형상을 가지며, 상기 플레이트 형상의 측면이 상기 반응기 몸체 내측 벽면에 결합되는 베이스 플레이트;
상기 베이스 플레이트의 측면에 결합되고, 상기 베이스 플레이트에서 일 방향으로 절곡된 제1 가이드; 및
상기 베이스 플레이트의 측면에 결합되고, 상기 베이스 플레이트에서 타 방향으로 절곡된 제2 가이드를 포함하고,
상기 반응기 몸체는, 일측에 상기 반응물이 투입되는 투입구가 형성되고, 타측에 상기 반응물이 배출되는 배출구가 형성되며,
상기 베이스 플레이트는, 상기 베이스 플레이트가 상기 반응기 몸체에 결합되는 측면이 상기 길이방향에 대하여 소정의 틸팅각으로 경사지게 형성되어,
상기 리프팅 플라이트가 상기 중심축을 기준으로 상기 정방향으로 회전될 때, 상기 베이스 플레이트에 의해 상기 반응물은 상기 투입구 측으로부터 상기 배출구 방향으로 이동되고,
상기 리프팅 플라이트가 상기 중심축을 기준으로 상기 정방향의 반대방향인 역방향으로 회전될 때, 상기 베이스 플레이트 상의 상기 반응물의 어느 일부는 상기 투입구 측으로 이동하고, 상기 베이스 플레이트 상의 상기 반응물의 다른 일부는 상기 배출구 측으로 이동되어 교반되고,
상기 제2 가이드에 의해 상기 베이스 플레이트 상의 상기 반응물이 상기 투입구 외부로의 이동이 제한되는,
회전형 반응기의 동작 방법.
A first forward rotation step in which a space for stirring reactants is formed and a reactor body having a predetermined length is rotated based on a central axis extending in a longitudinal direction;
a reverse rotation step of rotating the reactor body in a direction opposite to the rotation in the first forward rotation step with respect to the central axis; and
A second forward rotation step of rotating the reactor body in the forward direction with respect to the central axis;
In the reactor body, as the reactor body rotates, a plurality of lifting flights are installed on the inner wall surface of the reactor body so that the reactants accommodated in the reactor body are transported or stirred,
Each of the plurality of lifting flights,
a base plate having a plate shape and a side surface of the plate shape coupled to an inner wall surface of the reactor body;
a first guide coupled to a side surface of the base plate and bent in one direction from the base plate; and
A second guide coupled to a side surface of the base plate and bent in another direction from the base plate;
The reactor body has an inlet through which the reactant is introduced on one side and an outlet through which the reactant is discharged is formed on the other side,
In the base plate, a side surface of the base plate coupled to the reactor body is formed to be inclined at a predetermined tilting angle with respect to the longitudinal direction,
When the lifting flight is rotated in the forward direction with respect to the central axis, the reactant is moved from the inlet side to the outlet direction by the base plate,
When the lifting flight is rotated in a reverse direction, which is opposite to the forward direction, with respect to the central axis, some of the reactants on the base plate move toward the inlet side, and another part of the reactants on the base plate move toward the outlet side. moved and stirred,
Movement of the reactant on the base plate to the outside of the inlet is restricted by the second guide,
How to operate a rotary reactor.
삭제delete 제 9 항에 있어서,
상기 제1 정방향 회전 단계는 상기 반응기 몸체의 내부에 상기 반응물이 투입되는 동안 동작하고,
상기 제2 정방향 회전 단계는, 상기 반응기 몸체의 내부에서 상기 반응물이 배출되는 동안 동작하는,
회전형 반응기의 동작 방법.
According to claim 9,
The first forward rotation step operates while the reactant is introduced into the reactor body,
The second forward rotation step operates while the reactant is discharged from the inside of the reactor body,
How to operate a rotary reactor.
제 9 항에 있어서,
상기 역방향 회전은, 상기 반응기 몸체 내부에서 상기 반응물이 균일하게 교반되도록 동작하는,
회전형 반응기의 동작 방법.
According to claim 9,
The reverse rotation operates so that the reactants are uniformly stirred inside the reactor body.
How to operate a rotary reactor.
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