KR102437862B1 - cleaning apparatus for wafer cassette - Google Patents

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KR102437862B1 KR1020200162640A KR20200162640A KR102437862B1 KR 102437862 B1 KR102437862 B1 KR 102437862B1 KR 1020200162640 A KR1020200162640 A KR 1020200162640A KR 20200162640 A KR20200162640 A KR 20200162640A KR 102437862 B1 KR102437862 B1 KR 102437862B1
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Abstract

본 발명의 일 측면에 따른 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치는, 클린룸을 내부에 형성하는 하우징; 상기 클린룸에 로딩된 웨이퍼용 카세트의 양 측판 사이에 위치하여, 웨이퍼용 카세트의 내부를 에어로 클리닝하는 내부 에어 클리닝 유닛; 상기 클린룸에 로딩된 웨이퍼용 카세트의 양 측판 바깥쪽에 위치하여, 웨이퍼용 카세트의 외부를 에어로 클리닝하는 외부 에어 클리닝 유닛; 및 상기 내부 에어 클리닝 유닛 및 상기 외부 에어 클리닝 유닛에 의해 웨이퍼용 카세트로부터 분리된 이물을 상기 클린룸의 외부로 배출하는 이물 배출 유닛을 포함한다.A cassette cleaning apparatus for wafers according to an aspect of the present invention includes: a housing forming a clean room therein; an internal air cleaning unit positioned between both side plates of the cassette for wafers loaded into the clean room and air cleaning the inside of the cassette for wafers; an external air cleaning unit positioned outside both side plates of the cassette for wafers loaded into the clean room to clean the outside of the cassette for wafers with air; and a foreign material discharging unit discharging the foreign material separated from the wafer cassette by the internal air cleaning unit and the external air cleaning unit to the outside of the clean room.

Description

웨이퍼용 카세트 클리닝 장치{cleaning apparatus for wafer cassette}Cassette cleaning apparatus for wafers

본 발명은 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 적재된 웨이퍼 이송에 이용되었던 빈 웨이퍼용 카세트를 에어(air)를 이용하여 친환경적이면서도 쉽고 빠르게 클리닝(cleaning) 할 수 있는 웨이퍼용 카세트 클리징 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a cassette cleaning apparatus for wafers, and more particularly, to a cassette cleaner for wafers that can clean an empty wafer cassette used for transferring a loaded wafer in an environmentally friendly, easy and quick manner using air. It's about the device.

공정 중의 또는 공정이 완료된 웨이퍼(또는 링과 웨이퍼 필름을 포함하는 웨이퍼 유닛)은 개별 단위로 이동되지 않고 20개 ~ 25개 정도가 하나의 웨이퍼용 카세트에 적재되어 이동되며, 현재 다양한 종류의 웨이퍼용 카세트가 이용되고 있다.Wafers (or wafer units including rings and wafer films) in process or process completed are not moved as individual units, but about 20 to 25 are loaded and moved in one wafer cassette. Cassette is used.

통상적으로, 웨이퍼용 카세트는 서로 마주하는 한 쌍의 측벽을 포함하고 한 쌍의 측벽 각각에는 웨이퍼가 삽입되는 슬롯들이 일정 간격으로 형성되어 있다. 또한, 전후방과 하부가 개방된 구조를 갖는 웨이퍼용 카세트가 많이 이용되고 있다.In general, a cassette for wafers includes a pair of sidewalls facing each other, and slots into which the wafer is inserted are formed on each of the pair of sidewalls at regular intervals. In addition, a cassette for wafers having a structure in which the front and rear and the lower portion are open are widely used.

한편, 웨이퍼용 카세트에 이물질이 있는 경우 다음에 적재되는 웨이퍼를 심각하게 오염시킬 수 있다. 따라서, 공정이 끝난 후의 빈 웨이퍼용 카세트를 클리닝하는 것이 요구된다. On the other hand, if there is a foreign material in the wafer cassette, it may seriously contaminate the next wafer. Therefore, it is required to clean the cassette for empty wafers after the process is finished.

종래에는 웨이퍼용 카세트를 수작업으로 세척하므로 많은 시간과 비용이 낭비되었다. 이를 개선하기 위하여 웨이퍼용 카세트를 세척하는 장비들이 종래에 제안된 바 있지만, 종래의 장비들은 세정제와 물을 이용하는 습식 세정 장비들이므로 환경 오염을 유발할 우려가 크고, 처리비용이 과다하다는 문제점이 있었다. Conventionally, a lot of time and money was wasted because the wafer cassette was manually cleaned. In order to improve this, equipment for cleaning a cassette for wafers has been previously proposed, but the conventional equipment is wet cleaning equipment using a cleaning agent and water, so there is a high risk of environmental pollution and excessive processing costs.

특허등록번호 제10-1352555호(등록일자 2014년 1월 10일)Patent Registration No. 10-1352555 (Registration Date January 10, 2014) 특허공개번호 제10-2008-0029564호(공개일자 2008년 4월 23일)Patent Publication No. 10-2008-0029564 (published on April 23, 2008)

본 발명은 상술한 점을 감안하여 안출된 것으로서, 웨이퍼용 카세트를 에어를 이용하여 친환경적이면서도 쉽고 빠르게 클리닝할 수 있는 웨이퍼용 카세트 클리징 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been devised in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a wafer cassette cleaning apparatus that can clean a wafer cassette using air in an environment-friendly, easy and quick manner.

본 발명의 목적은 상술한 것에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 목적들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Objects of the present invention are not limited to those described above, and other objects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따른 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치는, 클린룸을 내부에 형성하는 하우징; 상기 클린룸에 로딩된 웨이퍼용 카세트의 양 측판 사이에 위치하여, 웨이퍼용 카세트의 내부를 에어로 클리닝하는 내부 에어 클리닝 유닛; 상기 클린룸에 로딩된 웨이퍼용 카세트의 양 측판 바깥쪽에 위치하여, 웨이퍼용 카세트의 외부를 에어로 클리닝하는 외부 에어 클리닝 유닛; 및 상기 내부 에어 클리닝 유닛 및 상기 외부 에어 클리닝 유닛에 의해 웨이퍼용 카세트로부터 분리된 이물을 상기 클린룸의 외부로 배출하는 이물 배출 유닛을 포함한다. A cassette cleaning apparatus for wafers according to an aspect of the present invention for achieving the above object includes: a housing forming a clean room therein; an internal air cleaning unit positioned between both side plates of the cassette for wafers loaded into the clean room and air cleaning the inside of the cassette for wafers; an external air cleaning unit positioned outside both side plates of the cassette for wafers loaded into the clean room to clean the outside of the cassette for wafers with air; and a foreign material discharging unit discharging the foreign material separated from the wafer cassette by the internal air cleaning unit and the external air cleaning unit to the outside of the clean room.

상기 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치는, 상기 클린룸의 전방 측에 배치되어 상기 클린룸의 입구를 통해 웨이퍼용 카세트를 도입시키는 제1 외부 이송 유닛과, 상기 클린룸의 후방 측에 배치되어 상기 클린룸의 출구를 통해 웨이퍼용 카세트를 배출시키는 제2 외부 이송 유닛과, 상기 클린룸에 배치되어 상기 제1 외부 이송 유닛으로부터 웨이퍼용 카세트를 받아 클리닝 위치로 이동시키고, 클리닝이 완료된 웨이퍼용 카세트를 상기 제2 외부 이송 유닛으로 이송시키는 내부 이송 유닛을 더 포함할 수 있다.The cassette cleaning apparatus for wafers includes a first external transfer unit disposed on the front side of the clean room to introduce the cassette for wafers through an inlet of the clean room, and a rear side of the clean room, disposed on the back side of the clean room. A second external transfer unit for discharging the cassette for wafers through the outlet, is disposed in the clean room, receives the cassette for wafers from the first external transfer unit, moves to a cleaning position, and transfers the cleaning cassette for wafers to the second It may further include an internal transfer unit for transferring to the external transfer unit.

상기 외부 에어 클리닝 유닛은, 웨이퍼용 카세트의 양 측판 각각의 외부면과 마주하도록 상기 클린룸의 바닥에 세워져 배열된 복수개의 기둥들과, 상기 기둥들 각각에 설치되어 웨이퍼용 카세트의 양 측판의 외부면에 에어를 분사하는 외부 에어 분사 노즐을 포함할 수 있다.The external air cleaning unit includes a plurality of pillars standing on the floor of the clean room to face the outer surfaces of each of the side plates of the wafer cassette, and a plurality of pillars installed on each of the pillars to the outside of both side plates of the wafer cassette It may include an external air spray nozzle for spraying air on the surface.

상기 내부 에어 클리닝 유닛은, 웨이퍼용 카세트의 양 측판의 내부면과 마주하도록 배치되는 한 쌍의 노즐 지지 블록과, 노즐 지지 블록 각각에 설치되어 웨이퍼용 카세트의 양 측판의 내부면에 에어를 분사하는 내부 에어 분사 노즐을 포함할 수 있다.The internal air cleaning unit includes a pair of nozzle support blocks disposed to face the inner surfaces of both side plates of the wafer cassette, and is installed in each of the nozzle support blocks to spray air to the inner surfaces of both side plates of the wafer cassette. It may include an internal air jet nozzle.

상기 내부 에어 클리닝 유닛은, 상기 노즐 지지 블록 각각의 전후 이동을 가이드 하는 레일이 형성된 레일 블록과, 상기 노즐 지지 블록 각각을 전후 이동시키는 구동부를 더 포함할 수 있다.The internal air cleaning unit may further include a rail block provided with rails for guiding forward and backward movement of each of the nozzle support blocks, and a driving unit configured to move each of the nozzle support blocks forward and backward.

상기 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치는, 상기 내부 에어 클리닝 유닛을 제1 높이와 제2 높이 사이에서 상하 승강시키는 승강 유닛을 더 포함하며, 상기 제1 높이는 상기 내부 에어 클리닝 유닛이 상기 클린룸에 로딩된 웨이퍼용 카세트의 양 측판 사이에 위치하는 높이이고, 상기 제2 높이는 상기 내부 이송 유닛의 내부 이송 컨베이어보다 낮은 높이일 수 있다.The cassette cleaning apparatus for wafers further includes a lifting unit for lifting and lowering the internal air cleaning unit between a first height and a second height, wherein the first height is a wafer in which the internal air cleaning unit is loaded into the clean room. A height positioned between both side plates of the cassette for use, and the second height may be a lower height than the internal transfer conveyor of the internal transfer unit.

상기 하우징은, 상기 클린룸의 입구를 개폐하도록 형성된 입구 도어와, 상기 클린룸의 출구를 개폐하도록 형성된 출구 도어와, 상기 클린룸 내 보수 및 수리를 위해 개방되는 천장 도어와, 상기 클린룸 내부를 관찰하기 위한 투시창을 포함할 수 있다.The housing includes an entrance door formed to open and close the entrance of the clean room, an exit door formed to open and close the exit of the clean room, a ceiling door opened for maintenance and repair in the clean room, and the interior of the clean room It may include a viewing window for observation.

상술한 본 발명에 의할 경우, 웨이퍼용 카세트를 에어를 이용하여 친환경적이면서도 쉽고 빠르게 클리닝할 수 있게 된다.According to the present invention described above, it is possible to clean the cassette for wafers in an environment-friendly, easy and fast manner using air.

본 발명의 효과는 상술한 것에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Effects of the present invention are not limited to those described above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치를 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치를 천장 도어가 제거된 상태로 도시한 평면도이다.
도 3은 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치 내에서 웨이퍼용 카세트의 진행 과정을 나타내는 도면이다.
도 4는 클린룸이 내부에 형성된 하우징과 웨이퍼용 카세트의 클리닝에 참여하는 구성요소들을 포함하는 클리닝 모듈을 천장 도어가 제거된 상태로 도시한 사시도이다.
도 5는 도 4에 도시된 클리닝 모듈을 천장 도어가 제거된 상태로 도시한 평면도이다.
도 6은 도 4 및 도 5에 도시된 클리닝 모듈을 하우징이 제거된 상태로 도시한 정면도이다.
도 7은 도 4 내지 도 6에 도시된 클리닝 모듈의 내부 에어 클리닝 유닛과 외부 에어 클리닝 유닛이 웨이퍼용 카세트를 클리닝 하는 상태를 도시한 부분 사시도이다.
도 8은 도 4 내지 도 7에 도시된 클리닝 모듈의 내부 에어 클리닝 유닛과 외부 에어 클리닝 유닛이 웨이퍼용 카세트를 클리닝 하는 상태를 도시한 정면도이다.
도 9는 내부 에어 클리닝 유닛을 도시한 평면도이다.1 is a perspective view illustrating a cassette cleaning apparatus for wafers according to an embodiment of the present invention.
2 is a plan view illustrating the cassette cleaning apparatus for wafers according to an embodiment of the present invention in a state in which the ceiling door is removed.
3 is a view showing a process of a cassette for wafers in the wafer cassette cleaning apparatus.
4 is a perspective view illustrating a cleaning module including a housing having a clean room formed therein and components participating in cleaning a cassette for wafers with a ceiling door removed.
5 is a plan view illustrating the cleaning module shown in FIG. 4 in a state in which the ceiling door is removed.
6 is a front view illustrating the cleaning module shown in FIGS. 4 and 5 with the housing removed.
7 is a partial perspective view illustrating a state in which the internal air cleaning unit and the external air cleaning unit of the cleaning module shown in FIGS. 4 to 6 clean the cassette for wafers.
8 is a front view illustrating a state in which the internal air cleaning unit and the external air cleaning unit of the cleaning module shown in FIGS. 4 to 7 clean the cassette for wafers.
9 is a plan view illustrating an internal air cleaning unit.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily implement them. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 설명함에 있어서, 도면에 도시된 구성요소의 크기나 형상 등은 설명의 명료성과 편의를 위해 과장되거나 단순화되어 나타날 수 있다. In describing the present invention, the size or shape of the components shown in the drawings may be exaggerated or simplified for clarity and convenience of explanation.

또한, 본 발명의 구성 및 작용을 고려하여 특별히 정의된 용어들은 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 이러한 용어들은 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.In addition, terms specifically defined in consideration of the configuration and operation of the present invention may vary depending on the intention or custom of the user or operator. These terms should be interpreted as meanings and concepts consistent with the technical spirit of the present invention based on the contents throughout this specification.

본 발명을 명확하게 설명하기 위하여 본 발명의 기술적 사상과 관계없는 부분의 설명은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다In order to clearly explain the present invention, the description of parts not related to the technical idea of the present invention is omitted, and the same reference numerals are given to the same or similar elements throughout the specification.

또한, 여러 실시예들에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적인 실시예에서만 설명하고, 그 외의 다른 실시예에서는 대표적인 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.In addition, in various embodiments, components having the same configuration will be described using the same reference numerals only in the representative embodiment, and only configurations different from the representative embodiment will be described in other embodiments.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐만 아니라, 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"된 것도 포함한다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함하는 것을 의미할 수 있다.Throughout the specification, when a part is "connected" to another part, it includes not only the case where it is "directly connected" but also the case where it is "indirectly connected" with another member interposed therebetween. In addition, when a part "includes" a certain component, this may mean further including other components, not excluding other components, unless otherwise stated.

도 3, 도 7, 도 8에 잘 도시된 바와 같이, 웨이퍼용 카세트(10)는 웨이퍼 또는 링과 웨이퍼 필름을 포함하는 웨이퍼 유닛(미도시)들이 삽입되는 슬롯들을 구비하는 좌우 양측 한 쌍의 측판(12, 12)과 양 측판(12, 12)을 연결하는 연결부(13)를 포함한다. 웨이퍼용 카세트(10)가 원래 목적으로 사용될 때에는 상기 연결부(13)가 웨이퍼용 카세트(10)의 바닥을 이루지만, 본 발명에 따른 웨이퍼 클리닝 장치에서 클리닝될 때에는 웨이퍼용 카세트(10)가 거꾸로 뒤집혀 상기 연결부(13)가 상측을 향해 있게 된다. 또한, 웨이퍼용 카세트(10)는 측판(12)과 평행한 방향으로 이동하는 것에 의해 클린룸(C)에 로딩될 수 있고, 또한, 클린룸(C) 내부로부터 클린룸(C) 외부로 배출될 수 있다.3, 7, and 8, the cassette 10 for a wafer is a pair of left and right side plates having slots into which wafer units (not shown) including a wafer or a ring and a wafer film are inserted. (12, 12) and a connection portion (13) for connecting both side plates (12, 12) is included. When the cassette 10 for wafers is used for its original purpose, the connecting portion 13 forms the bottom of the cassette 10 for wafers, but when the cassette 10 for wafers is cleaned in the wafer cleaning apparatus according to the present invention, the cassette 10 for wafers is turned upside down. The connecting portion 13 is directed upward. In addition, the cassette 10 for wafers can be loaded into the clean room (C) by moving in a direction parallel to the side plate 12, and also discharged from the inside of the clean room (C) to the outside of the clean room (C) can be

도 1 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치는 크게 웨이퍼용 카세트(10)를 에어로 클리닝하는 클리닝 모듈(1)과, 클리닝 모듈(1)의 클린룸(C)에 웨이퍼용 카세트(10)를 로딩하는 제1 외부 이송 유닛(400)과, 클리닝이 완료된 웨이퍼용 카세트(10)의 배출에 이용되는 제2 외부 이송 유닛(500)을 포함한다.1 to 9, the wafer cassette cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention includes a cleaning module 1 for air cleaning a wafer cassette 10, and a cleaning module 1 It includes a first external transfer unit 400 for loading the cassette 10 for wafers into the room C, and a second external transfer unit 500 used for discharging the cassette 10 for wafers that have been cleaned.

상기 제1 외부 이송 유닛(400)은 한 쌍의 측벽을 포함하는 제1 컨베이어 하우징(410)과, 상기 제1 컨베이어 하우징(410)의 측벽과 평행하게 배치된 한 쌍의 벨트(422, 422)를 포함하는 제1 외부 이송 컨베이어(420)와, 상기 제1 외부 이송 컨베이어(420)를 구동시키는 구동부를 포함한다. 웨이퍼용 카세트(10)는 양 측판(12, 12)의 하부가 한 쌍의 벨트(422, 422) 위에 올라타도록 제1 외부 이송 컨베이어(420) 상에 놓이며, 구동부에 의한 제1 외부 이송 컨베이어(420)의 구동에 의해 웨이퍼용 카세트(10)가 클린룸(C)의 입구에 도입되는 위치까지 이동된다. 이하 더 자세히 설명되는 내부 이송 유닛(600)은 클린룸(C)의 입구로 일부 들어온 웨이퍼용 카세트(10)를 클린룸(C) 내로 이동시키며, 이에 따라, 웨이퍼용 카세트(10)는 클린룸(C)에 로딩된다. The first external transfer unit 400 includes a first conveyor housing 410 including a pair of sidewalls, and a pair of belts 422 and 422 disposed parallel to the sidewalls of the first conveyor housing 410 . A first external transfer conveyor 420 including a, and a driving unit for driving the first external transfer conveyor (420). The cassette 10 for wafers is placed on the first external transport conveyor 420 so that the lower portions of both side plates 12 and 12 are mounted on the pair of belts 422 and 422, and the first external transport by the driving unit The wafer cassette 10 is moved to a position where it is introduced into the inlet of the clean room C by driving the conveyor 420 . The internal transfer unit 600, which will be described in more detail below, moves the cassette 10 for wafers partially introduced into the inlet of the clean room C into the clean room C, and accordingly, the cassette 10 for wafers is located in the clean room (C) is loaded.

상기 제2 외부 이송 유닛(500)은 한 쌍의 측벽을 포함하는 제2 컨베이어 하우징(510)과, 상기 제2 컨베이어 하우징(510)의 측벽과 평행하게 배치된 한 쌍의 벨트(522, 522)를 포함하는 제2 외부 이송 컨베이어(520)와, 상기 제2 외부 이송 컨베이어(520)를 구동시키는 구동부를 포함한다. 이하 더 자세히 설명되는 내부 이송 유닛(600)은 클리닝이 완료된 웨이퍼용 카세트(10)의 일부가 클린룸(C)의 출구 밖으로 나가도록 웨이퍼용 카세트(10)를 이동시킨다. 상기 제2 외부 이송 유닛(500)은 제2 이송 컨베이어(520)의 한 쌍의 벨트(522, 522)에 웨이퍼용 카세트(10)의 양 측판(12, 12)의 하부가 올라탄 상태에서 구동되어 웨이퍼용 카세트(10)를 배출한다.The second external transfer unit 500 includes a second conveyor housing 510 including a pair of sidewalls, and a pair of belts 522 and 522 arranged parallel to the sidewalls of the second conveyor housing 510 . and a second external transfer conveyor 520 including a, and a driving unit for driving the second external transfer conveyor 520 . The internal transfer unit 600, which will be described in more detail below, moves the cassette 10 for wafers so that a part of the cassette 10 for wafers on which cleaning is completed goes out of the exit of the clean room C. The second external transfer unit 500 is driven in a state in which the lower portions of both side plates 12 and 12 of the wafer cassette 10 are mounted on a pair of belts 522 and 522 of the second transfer conveyor 520 . and discharge the cassette 10 for wafers.

도 3의 (a)는 웨이퍼용 카세트(10)가 제1 외부 이송 유닛(400)에 의해 클린룸(C)을 향해 이송하는 상태를 나타내고, 도 3의 (b)는 제1 외부 이송 유닛(400)과 제2 이송 유닛(600)의 협력에 의해 클린룸(C)에 웨이퍼용 카세트(10)가 로딩되어 내부 에어 클리닝 유닛(300)과 외부 에어 클리닝 유닛(200)에 의해 클리닝되는 상태를 나타내며, 도 3의 (c)는 내부 이송 유닛(600)과 제2 외부 이송 유닛(500)의 협력에 의해 웨이퍼용 카세트(10)가 클린룸(C) 밖으로 나와 제2 외부 이송 유닛(600)에 의해 이송되는 상태를 나타낸다. 3 (a) shows a state in which the wafer cassette 10 is transferred toward the clean room C by the first external transfer unit 400, and FIG. 3 (b) is a first external transfer unit ( 400 ) and the second transfer unit 600 , the wafer cassette 10 is loaded into the clean room C and cleaned by the internal air cleaning unit 300 and the external air cleaning unit 200 . 3 (c) shows the wafer cassette 10 comes out of the clean room (C) by the cooperation of the internal transfer unit 600 and the second external transfer unit 500 and the second external transfer unit 600 Indicates the state being transported by

한편, 상기 클리닝 모듈(1)은, 양 측판(12, 12)을 포함하는 웨이퍼용 카세트(10)를 클리닝하는 것으로서, 클린룸(C)을 내부에 형성하는 하우징(100)과, 상기 클린룸(C)에 로딩된 웨이퍼용 카세트(10)의 양 측판(12, 12) 사이에 위치하여, 웨이퍼용 카세트(10)의 내부를 에어로 클리닝하는 내부 에어 클리닝 유닛(300)과, 상기 클린룸(C)에 로딩된 웨이퍼용 카세트(10)의 양 측판(12, 12) 바깥쪽에 위치하여, 웨이퍼용 카세트(10)의 외부를 에어로 클리닝하는 외부 에어 클리닝 유닛(200)과, 상기 내부 에어 클리닝 유닛(300) 및 상기 외부 에어 클리닝 유닛(200)에 의해 웨이퍼용 카세트(10)로부터 분리된 이물을 외부로 배출하는 이물 배출 유닛(700)을 포함한다.On the other hand, the cleaning module 1 cleans the wafer cassette 10 including both side plates 12 and 12 , and includes a housing 100 forming a clean room C therein, and the clean room (C) located between both side plates 12 and 12 of the cassette 10 for wafers loaded in (C), an internal air cleaning unit 300 for cleaning the inside of the cassette 10 for wafers with air, and the clean room ( C) located outside both side plates 12 and 12 of the cassette 10 for wafers loaded in C), an external air cleaning unit 200 for air cleaning the outside of the cassette 10 for wafers, and the internal air cleaning unit 300 and a foreign material discharging unit 700 for discharging the foreign material separated from the wafer cassette 10 by the external air cleaning unit 200 to the outside.

상기 하우징(100)은 상기 클린룸(C)의 입구를 슬라이드식으로 개폐하도록 후방벽(110)에 설치된 입구 도어(112)와, 상기 클린룸(C)의 출구를 슬라이드식으로 개폐하도록 전방벽(120)에 설치된 출구 도어(122)와, 상기 클린룸(C) 내 보수 및 수리를 위해 선택적으로 개방되는 천장 도어(130)와, 상기 클린룸(C)의 내부를 관찰하기 위해 상기 하우징(100)의 제1 측벽(140)과 제2 측벽(150) 각각에 형성된 투시창(142, 152)을 포함한다.The housing 100 includes an entrance door 112 installed on the rear wall 110 to slidably open and close the entrance of the clean room C, and a front wall to slidably open and close the exit of the clean room C. The exit door 122 installed in 120, the ceiling door 130 selectively opened for maintenance and repair in the clean room (C), and the housing ( The first sidewall 140 and the second sidewall 150 of 100 include see-through windows 142 and 152 formed on each.

상기 내부 이송 유닛(600)은, 클린룸(C) 내부에 배치되는 것으로서, 한 쌍의 측벽을 포함하는 내부 컨베이어 하우징(610)과, 상기 내부 컨베이어 하우징(610)의 측벽과 평행하게 배치된 한 쌍의 벨트(622, 622)를 포함하는 내부 이송 컨베이어와(620)와, 상기 내부 이송 컨베이어(620)를 구동시키도록 모터(602)를 포함하는 구동부를 포함한다.The internal conveying unit 600 is disposed inside the clean room C, and includes an internal conveyor housing 610 including a pair of sidewalls, and one disposed in parallel with the sidewalls of the internal conveyor housing 610 . It includes an inner transfer conveyor 620 including a pair of belts 622 and 622 , and a drive unit including a motor 602 to drive the inner transfer conveyor 620 .

위에서 언급된 바와 같이, 상기 내부 이송 유닛(600)은, 상기 제1 외부 이송 유닛(400)과 협력하여 웨이퍼용 카세트(10)를 클린룸(C) 내부로 로딩시키는 한편, 상기 제2 외부 이송 유닛(600)과 협력하여 웨이퍼용 카세트(10)를 클린룸(C) 외부로 배출시킬 수 있다.As mentioned above, the internal transfer unit 600 cooperates with the first external transfer unit 400 to load the cassette 10 for wafers into the clean room C, while the second external transfer In cooperation with the unit 600, the cassette 10 for wafers may be discharged to the outside of the clean room (C).

한편, 상기 외부 에어 클리닝 유닛(200)은, 클린룸(C) 내로 로딩된 웨이퍼용 카세트(10)의 양 측판(12) 각각의 외부면과 마주하도록, 상기 클린룸(C)의 바닥에 세워져 배열된 복수개의 기둥(210)들과, 상기 기둥(210)들 각각에 설치되어 웨이퍼용 카세트(10)의 양 측판(12)의 외부면에 에어를 분사하는 외부 에어 분사 노즐(220)을 포함한다.On the other hand, the external air cleaning unit 200 is erected on the floor of the clean room (C) so as to face the outer surfaces of each of the side plates 12 of the cassette 10 for wafers loaded into the clean room (C). A plurality of pillars 210 arranged, and an external air jet nozzle 220 installed on each of the pillars 210 to jet air to the outer surfaces of both side plates 12 of the cassette 10 for wafers. do.

또한, 상기 내부 에어 클리닝 유닛(300)은 승강유닛(800)에 의해 상하로 승강되는 베이스부(302)를 포함한다. 상기 베이스부(302)의 상하 승강에 의해 상기 내부 에어 클리닝 유닛(300)은, 상기 클린룸(C)에 로딩된 웨이퍼용 카세트(10)의 양 측판(12, 12)의 내부면과 마주하는 높이(제1 높이)까지 상승할 수 있으며, 또한, 내부 이송 컨베이어(620)의 웨이퍼용 카세트(10) 이송을 방해하지 않도록, 내부 이송 컨베이어(620)보다 아래 높이(제2 높이)까지 하강할 수 있다.In addition, the internal air cleaning unit 300 includes a base portion 302 that is lifted up and down by the lifting unit 800 . The internal air cleaning unit 300 by the vertical elevation of the base part 302 faces the inner surfaces of both side plates 12 and 12 of the cassette 10 for wafers loaded in the clean room C. It can rise to a height (first height), and also descend to a lower height (second height) than the inner transfer conveyor 620 so as not to interfere with the transfer of the wafer cassette 10 of the inner transfer conveyor 620 . can

상기 내부 에어 클리닝 유닛(300)은 상기 베이스(302)의 상면 좌우 양측에 설치되어 상기 베이스(302)와 함께 상하로 승강되는 레일 블록(330)과, 상기 레일 블록(330)의 외측면에 형성된 레일(332)에 슬라이딩 가능하게 결합되는 슬라이딩 홈부(312)를 구비하여, 상기 레일 블록(330)을 따라 전후로 슬라이딩될 수 있는 노즐 지지 블록(310)과, 상기 노즐 지지 블록(310)의 외부면에 설치되어, 웨이퍼용 카세트(10)의 양 측판(12, 12) 각각의 내부면을 향해 에어를 분사하는 내부 에어 분사 노즐(320)들을 포함한다.The internal air cleaning unit 300 includes a rail block 330 installed on both left and right sides of the upper surface of the base 302 to move up and down together with the base 302 , and formed on the outer surface of the rail block 330 . A nozzle support block 310 having a sliding groove portion 312 slidably coupled to the rail 332 , which can be slid back and forth along the rail block 330 , and an outer surface of the nozzle support block 310 . It is installed in the wafer cassette 10, both side plates 12, 12, and includes an internal air jet nozzle 320 for jetting air toward the inner surface of each.

도 9에 잘 도시된 바와 같이, 상기 내부 에어 클리닝 유닛(300)은 상기 노즐 지지 블록(310) 각각을 전후 이동시키는 구동부(340)를 더 포함한다. 상기 구동부(340)는 실린더부와 로드부를 포함하는 에어 실린더일 수 있으며, 실린더부는 상기 레일 블록(330)의 내측면에 설치된 제1 브라켓(334)에 의해 레일 블록(330)에 고정되고 상기 로드부는 노즐 지지 블록(310)의 내측면에 설치된 제2 브라켓(314)에 의해 상기 노즐 지지 블록(310)에 고정된다. 따라서, 상기 구동부(340)의 전후 왕복 구동에 의해, 노즐 지지 블록(310)이 레일 블록(310)을 따라 전후로 이동하며, 이에 의해, 노즐 지지 블록(310)의 외측면에 설치된 내부 에어 분사 노즐(310)들은 상기 웨이퍼용 카세트(10)의 내부면 전 영역에 대하여 에어를 불 수 있다.9 , the internal air cleaning unit 300 further includes a driving unit 340 for moving each of the nozzle support blocks 310 back and forth. The driving part 340 may be an air cylinder including a cylinder part and a rod part, and the cylinder part is fixed to the rail block 330 by a first bracket 334 installed on the inner surface of the rail block 330 and the rod. The part is fixed to the nozzle support block 310 by a second bracket 314 installed on the inner surface of the nozzle support block 310 . Accordingly, the nozzle support block 310 moves back and forth along the rail block 310 by the front and rear reciprocating driving of the driving unit 340 , and thereby, the internal air injection nozzle installed on the outer surface of the nozzle support block 310 . The 310 may blow air over the entire inner surface of the cassette 10 for wafers.

다시 도 1 내지 도 9를 참조하면, 입구 도어(112), 출구 도어(122), 천장 도어(130)가 폐쇄되어 클린룸(C)이 밀폐된 상태에서, 클린룸(C)에 로딩된 웨이퍼용 카세트(10)에 대하여, 내부 에어 클리닝 유닛(300)과 외부 에어 클리닝(200)이 에어 클리닝 작업을 수행하다. 에어 클리닝 작업에 의해, 웨이퍼용 카세트(10)에 잔류하던 이물(불순물)은 웨이퍼용 카세트(10)로부터 분리된다. 에어 클리닝 작업이 진행되는 동안, 이물 배출 유닛(700)이 작동하여, 웨이퍼용 카세트(10)로부터 분리된 이물(불순물)을 흡입하여 외부로 배출한다. 상기 이물 배출 유닛(700)은 클린룸(C)의 바닥에 형성된 개구부를 통하여 클린룸(C)에 접속되는 배출 배관(710)과, 상기 배출 배관(710)에 설치되어 클린룸(C)의 이물이 포함된 에어를 흡입하는 흡입력을 발생시키는 시로코팬(720)과, 배출되는 에어의 이물을 걸러내어, 순수 에어만 외부로 배출되게 하는 필터(730)을 포함한다.Referring back to FIGS. 1 to 9 , in a state in which the entrance door 112 , the exit door 122 , and the ceiling door 130 are closed and the clean room C is sealed, the wafer loaded into the clean room C With respect to the cassette 10 for use, the internal air cleaning unit 300 and the external air cleaning unit 200 perform an air cleaning operation. By the air cleaning operation, foreign substances (impurities) remaining in the cassette 10 for wafers are separated from the cassette 10 for wafers. While the air cleaning operation is in progress, the foreign material discharging unit 700 operates to suck in the foreign material (impurity) separated from the wafer cassette 10 and discharge it to the outside. The foreign material discharge unit 700 includes a discharge pipe 710 connected to the clean room C through an opening formed at the bottom of the clean room C, and a discharge pipe 710 installed in the discharge pipe 710 of the clean room C. It includes a sirocco fan 720 that generates a suction force for sucking air containing foreign substances, and a filter 730 that filters out foreign substances in the discharged air and discharges only pure air to the outside.

상기와 같은 구성을 갖는 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치에 의할 경우, 웨이퍼용 카세트를 에어를 이용하여 친환경적이면서도 쉽고 빠르게 클리닝할 수 있게 된다.In the case of the cassette cleaning apparatus for wafers having the above configuration, it is possible to clean the cassette for wafers easily and quickly in an environmentally friendly manner using air.

지금까지, 본 발명을 본 발명의 원리를 예시하기 위한 바람직한 실시예와 관련하여 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 그와 같이 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용으로 한정되는 것이 아니며, 첨부된 청구범위의 사상 및 범위를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정이 가능함을 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술자들은 잘 이해할 수 있을 것이다.While the present invention has been shown and described in connection with preferred embodiments for illustrating the principles of the invention, the invention is not limited to the construction and operation as so shown and described, and is not intended to be limited by the appended claims. It will be understood by those skilled in the art that many changes and modifications can be made to the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention.

10 : 웨이퍼용 카세트
C : 클린룸
100 : 하우징
200 : 외부 에어 클리닝 유닛
300 : 내부 에어 클리닝 유닛
700 : 이물 배출 유닛10: cassette for wafer
C: clean room
100: housing
200: external air cleaning unit
300: internal air cleaning unit
700: foreign matter discharging unit

Claims (7)

양 측판을 포함하는 웨이퍼용 카세트를 클리닝하는 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치에 있어서,
클린룸을 내부에 형성하는 하우징;
상기 클린룸에 로딩된 웨이퍼용 카세트의 양 측판 사이에 위치하여, 웨이퍼용 카세트의 내부를 에어로 클리닝하는 내부 에어 클리닝 유닛;
상기 클린룸에 로딩된 웨이퍼용 카세트의 양 측판 바깥쪽에 위치하여, 웨이퍼용 카세트의 외부를 에어로 클리닝하는 외부 에어 클리닝 유닛; 및
상기 내부 에어 클리닝 유닛 및 상기 외부 에어 클리닝 유닛에 의해 웨이퍼용 카세트로부터 분리된 이물을 상기 클린룸의 외부로 배출하는 이물 배출 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치.
In the cassette cleaning apparatus for wafers for cleaning a cassette for wafers including both side plates,
a housing forming a clean room therein;
an internal air cleaning unit positioned between both side plates of the cassette for wafers loaded into the clean room and air cleaning the inside of the cassette for wafers;
an external air cleaning unit positioned outside both side plates of the cassette for wafers loaded into the clean room to clean the outside of the cassette for wafers with air; and
and a foreign material discharging unit discharging the foreign material separated from the wafer cassette by the internal air cleaning unit and the external air cleaning unit to the outside of the clean room.
 제1항에 있어서,
상기 클린룸의 전방 측에 배치되어 상기 클린룸의 입구를 통해 웨이퍼용 카세트를 도입시키는 제1 외부 이송 유닛;
상기 클린룸의 후방 측에 배치되어 상기 클린룸의 출구를 통해 웨이퍼용 카세트를 배출시키는 제2 외부 이송 유닛; 및
상기 클린룸에 배치되어 상기 제1 외부 이송 유닛으로부터 웨이퍼용 카세트를 받아 클리닝 위치로 이동시키고, 클리닝이 완료된 웨이퍼용 카세트를 상기 제2 외부 이송 유닛으로 이송시키는 내부 이송 유닛을 더 포함하며,
상기 내부 이송 유닛은, 한 쌍의 측벽을 포함하는 내부 컨베이어 하우징과, 상기 내부 컨베이어 하우징의 측벽과 평행하게 배치된 한 쌍의 벨트를 포함하는 내부 이송 컨베이어와, 상기 내부 이송 컨베이어를 구동시키기 위한 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치.
According to claim 1,
a first external transfer unit disposed on the front side of the clean room to introduce a cassette for wafers through an inlet of the clean room;
a second external transfer unit disposed on the rear side of the clean room and discharging the cassette for wafers through an outlet of the clean room; and
An internal transfer unit disposed in the clean room to receive the wafer cassette from the first external transfer unit, move it to a cleaning position, and transfer the cleaned wafer cassette to the second external transfer unit,
The inner conveying unit includes an inner conveyor housing including a pair of sidewalls, an inner conveying conveyor including a pair of belts disposed parallel to the sidewalls of the inner conveyor housing, and a driving unit for driving the inner conveying conveyor. Wafer cassette cleaning apparatus comprising a.
 제1항에 있어서,
상기 외부 에어 클리닝 유닛은,
웨이퍼용 카세트의 양 측판 각각의 외부면과 마주하도록 상기 클린룸의 바닥에 세워져 배열된 복수개의 기둥들과,
상기 기둥들 각각에 설치되어 웨이퍼용 카세트의 양 측판의 외부면에 에어를 분사하는 외부 에어 분사 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치.
According to claim 1,
The external air cleaning unit,
A plurality of pillars erected and arranged on the floor of the clean room to face the outer surfaces of each of the side plates of the wafer cassette;
and an external air jet nozzle installed on each of the pillars to jet air to the outer surfaces of both side plates of the wafer cassette.
 제1항에 있어서,
상기 내부 에어 클리닝 유닛은,
웨이퍼용 카세트의 양 측판의 내부면과 마주하도록 배치되는 한 쌍의 노즐 지지 블록과,
노즐 지지 블록 각각에 설치되어 웨이퍼용 카세트의 양 측판의 내부면에 에어를 분사하는 내부 에어 분사 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치.
According to claim 1,
The internal air cleaning unit,
A pair of nozzle support blocks disposed to face the inner surfaces of both side plates of the wafer cassette;
A cassette cleaning apparatus for wafers, comprising an internal air jet nozzle installed on each of the nozzle support blocks to jet air to the inner surfaces of both side plates of the wafer cassette.
 제4항에 있어서,
상기 내부 에어 클리닝 유닛은,
상기 노즐 지지 블록 각각의 전후 이동을 가이드 하는 레일이 형성된 레일 블록과,
상기 노즐 지지 블록 각각을 전후 이동시키는 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치.
5. The method of claim 4,
The internal air cleaning unit,
A rail block provided with rails for guiding the forward and backward movement of each of the nozzle support blocks;
Cassette cleaning apparatus for wafers, characterized in that it further comprises a driving unit for moving each of the nozzle support blocks back and forth.
 제2항에 있어서,
상기 내부 에어 클리닝 유닛을 제1 높이와 제2 높이 사이에서 상하 승강시키는 승강 유닛을 더 포함하며,
상기 제1 높이는 상기 내부 에어 클리닝 유닛이 상기 클린룸에 로딩된 웨이퍼용 카세트의 양 측판 사이에 위치하는 높이이고, 상기 제2 높이는 상기 내부 이송 유닛의 내부 이송 컨베이어보다 낮은 높이인 것을 특징으로 하는 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치.
3. The method of claim 2,
Further comprising a lifting unit for raising and lowering the internal air cleaning unit between a first height and a second height,
The first height is a height at which the internal air cleaning unit is positioned between both side plates of the cassette for wafers loaded into the clean room, and the second height is a height lower than the internal transfer conveyor of the internal transfer unit. Cassette cleaning device for
 제1항에 있어서,
상기 하우징은 상기 클린룸의 입구를 개폐하도록 형성된 입구 도어와, 상기 클린룸의 출구를 개폐하도록 형성된 출구 도어와, 상기 클린룸 내 보수 및 수리를 위해 개방되는 천장 도어와, 상기 클린룸 내부를 관찰하기 위한 투시창을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼용 카세트 클리닝 장치.According to claim 1,
The housing includes an entrance door formed to open and close the entrance of the clean room, an exit door formed to open and close the exit of the clean room, a ceiling door opened for maintenance and repair in the clean room, and observe the inside of the clean room Cassette cleaning apparatus for wafers, characterized in that it includes a see-through window for.
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