KR102435240B1 - A polishing sponge dedicated to polishing the surface of thin-walled glass with folding function - Google Patents

A polishing sponge dedicated to polishing the surface of thin-walled glass with folding function Download PDF

Info

Publication number
KR102435240B1
KR102435240B1 KR1020210030695A KR20210030695A KR102435240B1 KR 102435240 B1 KR102435240 B1 KR 102435240B1 KR 1020210030695 A KR1020210030695 A KR 1020210030695A KR 20210030695 A KR20210030695 A KR 20210030695A KR 102435240 B1 KR102435240 B1 KR 102435240B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polishing
sponge
embossed
abrasive
folding function
Prior art date
Application number
KR1020210030695A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
박효중
Original Assignee
엘피티 주식회사
박효중
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘피티 주식회사, 박효중 filed Critical 엘피티 주식회사
Priority to KR1020210030695A priority Critical patent/KR102435240B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102435240B1 publication Critical patent/KR102435240B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/02Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
    • B24D3/20Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially organic
    • B24D3/28Resins or natural or synthetic macromolecular compounds
    • B24D3/32Resins or natural or synthetic macromolecular compounds for porous or cellular structure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B29/00Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents
    • B24B29/005Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents using brushes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/24Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
    • B24B7/242Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass for plate glass

Abstract

The present invention relates to a polishing sponge for a polishing device, which allows for obtaining a clean surface by mass precision polishing of thin sheet glass made of glass material which can be folded through a post-processing process, thereby removing foreign substances which occur in the form of concave or convex shapes on the surface of the sheet glass. The polishing sponge used in a precise polishing device for the surface of the sheet glass in the folded state after primary polishing and the remaining concave surface, convex surface, and boundary surface includes brushes composed of several notches in an area which is in friction with the surfaces. Each of these brushes is provided in such a way that a uniform polishing surface can be obtained by friction with the surfaces. Therefore, the present invention can achieve precise sheet glass surface polishing quality by providing a polishing sponge capable of precisely polishing concave, convex, or sloped surfaces of the surface of sheet glass with a folding function, and the underside of the polishing sponge is each equipped with a brush having notches, enabling the sponge body of the polishing sponge to be attached to a rotary shaft rod of the polishing device, allowing for use without damage by twisting in both normal and reverse rotations, thereby prolonging the lifespan.

Description

접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지{A polishing sponge dedicated to polishing the surface of thin-walled glass with folding function} A polishing sponge dedicated to polishing the surface of thin-walled glass with folding function

본 발명은 접힘기능이 부여된 유리 형태의 박판글라스의 표면을 폴리싱장치에 적용하여 사용하는 폴리싱 전용 연마스폰지에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 후처리 공정을 통해 접힘이 가능하게 되는 얇은 두께로 된 유리재질의 박판글라스를 대량으로 정밀 폴리싱하여 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 형태로 발생되는 이물질은 정밀하면서도 신속하게 제거하여 깨끗한 표면을 얻을 수 있도록 하는 폴리싱 전용 연마스폰지에 관한 것이다. The present invention relates to a polishing sponge exclusively for polishing used by applying the surface of a glass-type thin plate glass to which a folding function is imparted to a polishing apparatus, and more specifically, to a thin glass that can be folded through a post-processing process. It relates to an abrasive sponge dedicated to polishing that allows a clean surface to be obtained by precisely and quickly removing foreign substances generated in the form of engraving or embossing on the surface of the thin glass by precision polishing in large quantities.

일반적으로 최근 전자기기는 다양한 크기의 유리재질의 박판글라스를 이용하여 시각적으로 각종정보를 제공하는 부품으로 사용되고 있고, 최근 관련분야 기술이 발달하고 사용분야가 다양해짐에 따라 TV, 모바일폰, 테블릿등 다양한 제품에 유리재질의 박판글라스가 부착되어 사용되고 있다.In general, recent electronic devices are used as parts that visually provide various information using thin glass sheets of various sizes. Glass-made thin plate glass is attached and used in various products such as

또, 최근에는 소재 및 기술의 발전에 따라 유리재질의 박판글라스의 재질적 특성을 후처리 공정을 통해 일정한 각도로 구부리거나 접힘 회전이 될 수 있도록 한 소재들을 전자기기에 적용시켜 다양한 접힘 동작이 구현될 수 있는 전자기기들이 출시되고 있다.In addition, in recent years, with the development of materials and technologies, various folding operations are realized by applying materials that allow the material properties of glass-made thin glass to be bent or rotated at a certain angle through a post-processing process. Electronic devices that can become

이러한 접힘 동작이 구형되는 전자기기에 접목되어 사용되는 박판글라스는 재질적 특성으로 인해 임의각도로 접힘 동작이 이루어지는 부위에 많은 피로압력과 피로강도가 누적되어 접힘 동작이 일정 횟수 이상이 되면 크랙 또는 파손되는 문제점을 최소화시킬 수 있도록 폴리싱장치를 통해 음각 형태로의 폴리싱이 필수적으로 이루어진다.Due to the material characteristics of the thin glass glass used in grafting the folding action into outdated electronic devices, a lot of fatigue pressure and fatigue strength are accumulated in the area where the folding action is made at an arbitrary angle. Polishing in the form of intaglio through a polishing device is essential to minimize the problem.

그러나 기존 폴리싱장치로는 접힘 부위만을 정밀하게 폴리싱하기 위해 기구적 장치와 연마자의 특성상 음각 형태로 폴리싱 가공후 후공정에서 박판글라스 음각 또는 양각 형태 전체 표면을 안정적으로 만들 수 없는 문제점이 있다.However, in order to precisely polish only the folded part with the existing polishing device, there is a problem that the entire surface of the thin glass engraved or embossed shape cannot be stably made in the post process after polishing in the engraved form due to the characteristics of the mechanical device and the abrasive.

이러한 기술과 관련하여 종래 박판글라스를 폴리싱할 수 있는 다양한 방법 및 연마재에 관련된 기술이 공개되어 있다.In relation to this technique, various methods for polishing a conventional thin glass and a technique related to an abrasive are disclosed.

한 예로 국내 등록특허공보 제10-1186531호(공개일자: 2012.10.08)에서는 “As an example, in Korean Patent Publication No. 10-1186531 (published on October 8, 2012), “

(a) 활성수소기 함유화합물을 포함하는 액상 경화제, 수산기를 함유하는 실리콘계 계면활성제, 발포조제인 물 및 연마제를 혼합하는 단계; (b) 상기 액상의 혼합물과 이소시아네이트기 말단 우레탄 프리폴리머 및 활성수소기 함유화합물을 포함하는 고 상 경화제를 교반 혼합하면서 비반응성 기체를 주입 혼합하는 단계; (c) 상기 비반응성 기체가 주입된 혼합물을 주형에 토출 주입하여 시트를 성형하는 단계; (d) 상기 성형된 시트를 경화시키는 단계; 및 (e) 상기 경화된 시트에 마이크로 홀을 형성하는 단계를 포함하고, 그리고 상기 액상 경화제는 상기 고상 경화제를 합한 전체 경화제 100 중량부를 기준으로 10~70 중량부의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 폴리우레탄 다공질체 제조방법”이 있고,(a) mixing a liquid curing agent containing an active hydrogen group-containing compound, a silicone-based surfactant containing a hydroxyl group, water as a foaming aid, and an abrasive; (b) injecting and mixing a non-reactive gas while stirring and mixing the liquid mixture with a solid-phase curing agent containing an isocyanate group-terminated urethane prepolymer and an active hydrogen group-containing compound; (c) discharging and injecting the mixture into which the non-reactive gas is injected into a mold to form a sheet; (d) curing the molded sheet; and (e) forming micro holes in the cured sheet, and wherein the liquid curing agent is included in an amount of 10 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the total curing agent including the solid curing agent. There is a method for manufacturing a urethane porous body”,

또, 국내 공개특허공보 제10-2017-0140501호(공개일자: 2017.12.21)에서는 “연마재 입자; 에폭시수지, 우레탄수지, ABS수지 및 페놀수지로 이루어진 군으로부터 하나이상 선택된 열경화성수지; 탈크, 산화세륨, 산화티탄, 동, 산화코발트 및 탄산칼슘로 이루어진 군으로부터 하나이상 선택된 내열재 및 윤활재; 및 안료를 혼합한 연마수지를 제공하는 단계; 베이스 천을 평면으로 형성된 유리면 위에 고정시키고, 상기 베이스 천위에 연마용 팁 모양이 천공된 금속 또는 테프론수지로 구성된 성형 틀을 위치시키는 단계; 상기 연마수지를 상기 성형 틀에 주입시켜 베이스 천위에 연마용 팁을 형성하는 단계; 상기 틀을 제거하고 연마 팁이 성형된 상기 베이스 천을 110∼130℃에서 2∼ 4시간동안 1차 경화시킨 다음, 140∼160℃에서 2∼4시간동안 2차 경화시키는 단계; 상기 건조된 베이스 천을 원하는 형태로 절단하는 단계; 및 상기 베이스 천 뒷면에 공구와의 부착수단을 부착시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 연마 패드의 제조방법”이 있으며,In addition, in Korean Patent Publication No. 10-2017-0140501 (published date: 2017.12.21), “abrasive particles; At least one thermosetting resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a urethane resin, an ABS resin, and a phenol resin; at least one selected from the group consisting of talc, cerium oxide, titanium oxide, copper, cobalt oxide and calcium carbonate; and providing an abrasive resin mixed with a pigment; Fixing a base cloth on a glass surface formed in a plane, and positioning a forming frame made of a metal or Teflon resin perforated in the shape of a polishing tip on the base cloth; forming a polishing tip on a base cloth by injecting the polishing resin into the molding mold; removing the mold and first curing the base cloth with the abrasive tip formed thereon at 110-130° C. for 2-4 hours, followed by secondary curing at 140-160° C. for 2-4 hours; cutting the dried base fabric into a desired shape; and attaching an attachment means with a tool to the back surface of the base fabric.

또, 국내 등록특허공보 제10-1941083호(공개일자: 2019.01.29)에서는 “수지(resin)와 필러(filler)가 혼합되어 구성되는 매체(media)와, 상기 매체에 분산 배치되는 연마입자들을 포함하며, 상기 수지는 열 경화성 및 내열성 수지인 실리콘 수지로 구현되고, 상기 필러는 실리콘 카바이드, 산화세륨, 건식 실리카를 포함함을 특징으로 하는 연마재”가 있고,In addition, in Korea Patent Publication No. 10-1941083 (published on January 29, 2019), “media composed of a mixture of resin and filler, and abrasive particles dispersed in the medium There is an abrasive, wherein the resin is implemented with a silicone resin that is a thermosetting and heat-resistant resin, and the filler includes silicon carbide, cerium oxide, and fumed silica.

또, 국내 등록특허공보 제10-1255523호(공개일자: 2013.04.23)에서는 “폴리에스테르 또는 폴리에테르계의 폴리올을 포함하는 발포조성물 100중량부에 대하여 이소시에나이트 01~80중량부, 가교제 001~20중량부, 촉매 001~10중량부, 정포제 001~10중량부, 발포제 001~50중량부를 포함하는 1~400중량부의 ZnO, WC, Si3N4 및 유리분말 중에서 선택되는 하나 혹은 둘 이상의 혼합물이 사용된 무기입자가 첨가되어 발포성형된 것을 특징으로 하는 우레탄폼 연마패드”이 있다.In addition, in Korea Patent Publication No. 10-1255523 (published on April 23, 2013), “01 to 80 parts by weight of isocenite, a crosslinking agent with respect to 100 parts by weight of a foaming composition containing a polyester or polyether-based polyol. 001 to 20 parts by weight, catalyst 001 to 10 parts by weight, foam stabilizer 001 to 10 parts by weight, foaming agent 1 to 400 parts by weight including 001 to 50 parts by weight of ZnO, WC, Si3N4, and one or a mixture of two or more selected from glass powder There is a urethane foam polishing pad characterized in that the used inorganic particles are added and foamed.

상기와 같이 글라스 연마장치와 관련된 선행기술들이 공지되어 있으나,As described above, the prior art related to the glass polishing apparatus is known,

상기 등록특허공보 제10-1186531호의 에서는 다공질 형태의 우레판폼에 지지패드를 선택적으로 부착하여 X-Y축 직교형상으로 형성된 마크로 그루브와, 상기 마크로 그루브 사이에 X-Y 직교형상으로 형성되고, 상기 마크로 그루브와는 다른 깊이로 형성되는 마이크로 그루브를 제공하는 것을 목적으로 하고 있으나, In Patent Publication No. 10-1186531, a macro groove formed in an X-Y axis orthogonal shape by selectively attaching a support pad to a porous urethane foam, and an X-Y orthogonal shape between the macro grooves, and with the macro groove It aims to provide micro grooves formed with different depths,

상기 마이크로 그루브는 연마패트의 외면에 단순히 X-Y 직교형태로 구비하여 연마시 마찰효율을 높일 수 있도록 구비하지만 접힘이 발생되는 박판글라스의 특정 부위에는 마찰 효율만을 증대시켜 특히 음각홈 주면의 꺾임형태의 연마면 연마에서는 연마효율이 떨어지는 문제점이 있고,The micro-groove is provided on the outer surface of the polishing pad in an X-Y orthogonal shape to increase frictional efficiency during polishing, but only increases frictional efficiency in a specific area of the thin plate glass where folding occurs. There is a problem in that polishing efficiency is lowered in surface polishing,

또, 연마패드의 마찰면 전체가 접힘부위에 연마가 이루어진 상태에서 마찰면의 연마효율이 다른 주변 마찰면에 의해 굴곡부위가 마찰과 음각된 부위에 마찰이 원화하게 연마되지 못하는 문제점이 있다.In addition, in a state in which the entire friction surface of the polishing pad is polished on the folded portion, there is a problem in that the friction of the curved portion and the friction on the intaglio portion cannot be smoothly polished due to the peripheral friction surface having different polishing efficiency of the friction surface.

상기 공개특허공보 제10-2017-0140501호의 연마재 입자, 열경화성수지, 내열성 증가 및 윤활재 및 안료 등을 믹싱하여 연마수지를 만들고, 연마 팁 모양이 형성된 틀에 상기 혼합수지를 주입하여 성형한 다음, 수지가 성형된 베이스천을 열경화시키는 구성을 목적으로 하고 있고,After mixing the abrasive particles, thermosetting resin, heat resistance increase, lubricant, and pigment of the Laid-Open Patent Publication No. 10-2017-0140501 No. 10-2017-0140501 to make an abrasive resin, the mixed resin is injected into a mold in which the shape of the abrasive tip is formed, and then the resin It aims to thermoset the molded base cloth,

또, 등록특허공보 제10-1941083호의 수지(resin), 연마입자, 필러(filler)가 소정의 체적 비율로 배합되고 스크린 인쇄 방식을 통해 상기 배합물이 분리, 경화됨으로써, 미세한 표면 처리에 적합한 특성(중량, 탄성, 크기 등)을 갖도록 형성되는 연마재 및 그 제조방법을 목적으로 하고 있으며,In addition, the resin, abrasive particles, and fillers of Patent Registration No. 10-1941083 are blended in a predetermined volume ratio, and the blend is separated and cured through screen printing, so that it is suitable for fine surface treatment ( An abrasive formed to have weight, elasticity, size, etc.) and a manufacturing method thereof,

또한, 등록특허공보 제10-1255523호의 연마작업시 파편이 튀지 않고, 피부에 접촉되어도 피부손상 없이 안전하며 연마입자가 적절하게 내포되어 단단함과 유연함이 조화를 이룸에 따라 관절에 무리가 없으면서도 사용수명이 연장될 수 있는 우레탄폼 연마패드 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있으나, In addition, it is safe to use without damaging the skin even when it comes into contact with the skin, and there is no strain on the joints as the abrasive particles are properly contained so that hardness and flexibility are harmonized. An object of the present invention is to provide a urethane foam polishing pad capable of extending the lifespan and a method for manufacturing the same,

상기 연마재가 혼합된 연마패트는 마찰효율을 높일 수 있도록 구비하지만 접힘이 발생되는 박판글라스의 특정 부위에는 마찰 효율만을 증대킬 수 없을 뿐만 아니라 음각형태로 가동된 주면의 꺾임면의 연마가 기존 스폰지형태의 연마패드로는 효율이 떨어지는 문제점이 있어 이에 대한 개선안이 요구되고 있는 실정에 있다.The abrasive pad mixed with the abrasive is provided to increase frictional efficiency, but it is not possible to increase only the frictional efficiency in a specific area of the thin plate glass where folding occurs, and the polishing of the bent surface of the main surface operated in an intaglio form is a conventional sponge type. There is a problem in that the efficiency of the polishing pad is lowered, so an improvement plan for this is required.

문헌1 등록특허공보 제10-1186531호 (공고일자 2012.10.08)Document 1 Registered Patent Publication No. 10-1186531 (published on Oct. 8, 2012) 문헌2 공개특허공보 제10-2017-0140501호(공고일자 2017.12.21)Document 2 Laid-open Patent Publication No. 10-2017-0140501 (published on December 21, 2017) 문헌3 등록특허공보 제10-1941083호 (공고일자 2019.01.29)Document 3 Registered Patent Publication No. 10-1941083 (published on January 29, 2019) 문헌4 등록특허공보 제10-1255523호 (공고일자 2013.04.23)Document 4 Registered Patent Publication No. 10-1255523 (published on April 23, 2013)

없음doesn't exist

이에 본 발명에서는 상기한 문제점을 일소하기 위해 창안한 것으로서, 구부리거나 접힘 동작이 수행될 수 있는 박판글라스를 접힘 영역에 1차 폴리싱을 통해 발생되는 음각면, 양각면 및 경계면의 표면을 정밀 폴리싱할 수 있도록 연마스폰지를 구비하고,Accordingly, in the present invention, as devised to eliminate the above problems, the surface of the intaglio, embossed, and boundary surfaces generated through primary polishing of a thin plate glass that can be bent or folded in a folded area can be precisely polished. An abrasive sponge is provided to

상기 연마스폰지는 표면과 마찰되는 부위에 수개의 절개홈을 갖는 브러쉬들을 구비하여 폴리싱중에 상호 인접마찰 및 표면성질에 의해 다양한 형태의 표면마찰을 발생시킬 수 있도록 하여 폴리싱 효율을 높이도록 구비하며,The abrasive sponge is provided with brushes having several incision grooves in a portion that rubs against the surface so that various types of surface friction can be generated during polishing by mutual adjacent friction and surface properties to increase polishing efficiency,

상기 브러쉬에는 다양한 형태의 절개면을 구비하여 폴리싱 공정시 폴리싱 효율을 극대화 시킬 수 있는 형태로 구비한 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지를 제공함에 주안점을 두고 그 기술적 과제로서 완성한 것이다.The brush is provided with various types of cut surfaces to maximize the polishing efficiency during the polishing process, focusing on providing a polishing sponge dedicated to engraved or embossed polishing of the thin plate glass surface having a folding function. it will be completed

위 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명은 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이 박판글라스의 접힘 영역에 1차 폴리싱된 상태의 표면에 잔존해 있는 음각면, 양각면 및 경계면을 정밀 폴리싱장치에 사용되는 연마스폰지에 있어서, 상기 연마스폰지는 상기 표면과 마찰되는 부위에 수개의 절개홈으로 구성된 브러쉬가 마찰 되도록 구비하고, 상기 각 브러쉬는 표면과의 마찰에 의해 균일한 폴리싱면을 얻을 수 있도록 구비한다.The present invention for achieving the above technical problem, as shown in Figs. 1 to 6, the intaglio, embossed, and interface remaining on the surface of the first polished state in the folded region of the thin glass is used in a precision polishing apparatus In the polishing sponge to be used, the abrasive sponge is provided so that a brush composed of several incision grooves is rubbed at a portion rubbed with the surface, and each brush is provided to obtain a uniform polishing surface by friction with the surface .

상기 연마스폰지는 원형 형태로 직경이 10~260mm 범위 내에서 스폰지바디을 구비하되, 그 스폰지바디의 높이는 20~60mm 범위 내에서 구비하며, 상기 스폰지바디의 하측에는 6~20mm 간격으로 격자형태의 절개홈을 구비하고, 상기 절개홈의 내부 거리는 0.5~5mm 범위 내에서 구비하며, 상기 절개홈의 깊이는 10~25mm 범위 내에서 구비하고, 상기 스폰지바디의 중앙에는 10~30mm 직경의 절개구멍을 구비한 것과,The abrasive sponge has a circular shape and a sponge body with a diameter within a range of 10 to 260 mm, and the height of the sponge body is provided within a range of 20 to 60 mm, and at the lower side of the sponge body, a grid-shaped incision groove is provided at intervals of 6 to 20 mm. and, the inner distance of the incision groove is provided within the range of 0.5 to 5 mm, the depth of the incision groove is provided within the range of 10 to 25 mm, and a cut hole with a diameter of 10 to 30 mm is provided in the center of the sponge body. and,

상기 스폰지바디의 상면에는 에폭시 종류의 접착제를 도포하여 그 상측에 연결플레이트와 본딩 되도록 구비한 것과,An epoxy type adhesive is applied to the upper surface of the sponge body and provided so as to be bonded to a connection plate on the upper side thereof;

상기 연결플레이트는 상부 중앙에 수용홈을 구비한 원형 바디를 구비하되, 그 외면에는 수개의 나사홈을 구비됨이 바람직하고,The connection plate is provided with a circular body having a receiving groove in the center of the upper portion, the outer surface is preferably provided with several screw grooves,

상기 스폰지바디는 우레탄 100 중량부에서 세륨입자 200~500 중량부를 포함하도록 구비될 수 있으며,The sponge body may be provided to include 200 to 500 parts by weight of cerium particles in 100 parts by weight of urethane,

상기 브러쉬 외면에는 각형 또는 원형 형태로 수직면을 구비됨이 바람직하고,Preferably, a vertical surface is provided on the outer surface of the brush in a square or circular shape,

또, 상기 브러쉬 외면에는 상부 측은 좁고 하부 측은 넓어지는 사다리꼴 형태의 절개면을 구비될 수 있으며,In addition, the outer surface of the brush may be provided with a trapezoidal-shaped incision in which the upper side is narrow and the lower side is widened,

또한, 상기 브러쉬 외면에는 상부에서 하부로 일정한 간격으로 엠보싱 형태의 절개면을 구비됨이 바람직하고,In addition, it is preferable that the outer surface of the brush is provided with an embossed cut surface at regular intervals from the top to the bottom,

또, 상기 브러쉬 외면에는 상부와 하부의 간격은 동일하고 그 사이 중심에는 음각경사면을 갖는 경사면을 구비될 수 있으며,In addition, the outer surface of the brush may be provided with an inclined surface having an intaglio inclined surface in the center of which the upper and lower intervals are the same,

상기 브러쉬 외면에는 상부와 하부의 간격은 일정하되, 그 사이 중심에는 톱니형태의 돌출면이 서로 대칭되도록 구비하되, 상기 각 돌출면은 서로 마찰 될 때 맞물려 지도록 구비됨이 바람직하고,On the outer surface of the brush, the distance between the upper and lower portions is constant, and the protruding surfaces of the sawtooth shape are symmetrical to each other in the center therebetween.

상기 브러쉬는 상기 박판글라스의 표면 폴리싱 단차는 ±2mm 범위 내에서 정밀폴리싱이 이루어질 수 있도록 구비됨이 바람직하며,Preferably, the brush is provided so that the surface polishing step of the thin glass can be precisely polished within a range of ±2 mm,

상기 연마스폰지는 상기 박판글라스의 접힘 영역에 1차 폴리싱된 표면에 마찰될 때에는 쇼어C 경도기 기준 60~70 HW 범위 내에서 마찰이 이루어질 수 있도록 구비됨이 바람직하고,Preferably, the polishing sponge is provided so that friction can be achieved within the range of 60 to 70 HW based on the Shore C hardness scale when rubbed against the primary polished surface in the folded region of the thin glass,

상기 연마스폰지는 상기 연결플레이트와 접착제에 의해 본딩된 상태에서, 폴리싱장치의 회전축봉에 체결되어 정·역회전력에 의한 뒤틀림 파손 및 변형을 최소화시킬 수 있도록 뒤틀림방지수단을 구비됨이 바람직하며,The abrasive sponge is fastened to the rotating shaft of the polishing apparatus in a state where the connection plate and the adhesive are bonded, and it is preferable to be provided with a distortion prevention means to minimize distortion damage and deformation caused by forward and reverse rotational force,

상기 뒤틀림방지수단은 연결플레이트의 수용홈에 원방향으로 수개의 관통구멍을 구비하고, 상기 관통구멍에 축삽되어 상·하로 움직이는 수직가이드축봉을 구비하되, 그 상측에는 걸림원형턱을 구비하며, 상기 수직가이드축봉은 그 하측으로 접착제를 관통되도록 구비하고, 상기 접착제에 의해 본딩된 연마스폰지의 스폰지바디에는 가이드구멍에 축삽되어 상기 스폰지바디에 전해지는 응력에 따라 상기 수직가이드축봉에 의해 조절되도록 구비한다.The distortion preventing means is provided with several through-holes in the receiving groove of the connecting plate in a circular direction, and is provided with a vertical guide shaft rod that is inserted into the through-hole and moves up and down, and has a locking circular jaw on the upper side thereof, The vertical guide shaft is provided to penetrate the adhesive downward, and the sponge body of the abrasive sponge bonded by the adhesive is inserted into the guide hole and adjusted by the vertical guide shaft according to the stress transmitted to the sponge body. .

위와 같은 본 발명의 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지는 전술된 바와 같이, As described above, the polishing sponge for intaglio or embossed polishing of the thin plate glass surface having the folding function of the present invention as described above,

접힘 기능이 부여된 박판글라스의 표면의 음각, 양각 또는 경사면을 정밀하게 폴리싱할 수 있는 연마스폰지를 구비하여 정밀한 박판글라스 표면 폴리싱 품질을 얻을 수 있는 이점이 있고,There is an advantage in that it is possible to obtain precise polishing quality of the surface of the thin plate glass by having a polishing sponge that can precisely polish the intaglio, embossed or inclined surface of the surface of the thin plate glass to which the folding function is given,

상기 연마스폰지의 하부는 절개홈을 구비한 브러쉬를 각각 구비하여 상기 연마스폰지의 스폰지바디가 상기 폴리싱장치의 회전축봉에 체결되어 정·역회전에도 뒤틀림에 의한 파손 없이 사용하여 수명을 장구히 할 수 있는 이점이 있으며,The lower portion of the abrasive sponge is provided with a brush having an incision groove, respectively, so that the sponge body of the abrasive sponge is fastened to the rotating shaft of the polishing device, so that it can be used without damage due to distortion even in forward and reverse rotation to prolong the lifespan There are advantages to

또, 상기 스폰지바디의 하부에는 절개홈에 의해 각각 독립적으로 구비된 브러쉬의 표면마찰이 개별적 폴리싱 효과를 얻을 수 있는 이점이 있고,In addition, there is an advantage that the surface friction of the brushes provided independently by the incision grooves in the lower part of the sponge body can obtain an individual polishing effect,

또한, 우레탄 형태의 스폰지바디를 구비하여 박판글라스의 표면의 미세한 높이 단차에 맞도록 우레탄 재질로 구비하여 브러쉬의 가압압력이 골고루 작용하여 다양한 표면에 적용시켜 사용할 수 있는 이점이 있으며,In addition, it has a sponge body in the form of urethane and is made of urethane material to match the fine height difference of the surface of the thin glass, so that the pressure of the brush works evenly, so it can be applied to various surfaces and used.

특히 음각, 양각 또는 경사면이 동시에 적용시켜 쉽게 대응마찰을 통해 정밀한 폴리싱이 이루어질 수 있는 이점이 있는 등 그 기대된 바가 실로 다대한 발명이다.In particular, there is an advantage that precise polishing can be easily achieved through counter friction by applying engraved, embossed, or inclined surfaces at the same time.

도 1은 본 발명의 연마스폰지가 폴리싱장치에 적용되어 사용되는 실시상태를 나타낸 예시도
도 2는 본 발명의 연마스폰지의 분해조립예시도
도 3은 본 발명의 연마스폰지의 측 단면 및 저면 예시도
도 4 내지 도 5는 본 발명의 브러쉬의 응용실시 상태를 나타낸 예시도
도 6은 본 발명의 뒤틀림방지수단을 나타낸 측 단면 예시도임.
1 is an exemplary view showing an embodiment in which the polishing sponge of the present invention is applied and used in a polishing apparatus;
Figure 2 is an exploded assembly view of the abrasive sponge of the present invention;
Figure 3 is a side cross-section and bottom view of the polishing sponge of the present invention
4 to 5 are exemplary views showing an application embodiment of the brush of the present invention
6 is an exemplary side cross-sectional view showing the distortion prevention means of the present invention.

본 발명의 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지는 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이,As shown in Figs. 1 to 6, the polishing sponge for intaglio or embossed polishing of the surface of the thin plate glass having a folding function of the present invention is shown in Figs.

박판글라스(G)의 접힘 영역에 1차 폴리싱된 상태의 표면(G-1)에 잔존해 있는 음각면(G-3), 양각면(G-2) 및 경계면(G-4)을 정밀 폴리싱장치(A)에 사용되는 연마스폰지(1)에 있어서,Precision polishing of the intaglio (G-3), embossed (G-2) and interface (G-4) remaining on the surface (G-1) of the primary polished state in the folded area of the thin glass (G) In the abrasive sponge (1) used in the apparatus (A),

도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이 상기 연마스폰지(1)는,1 to 3, the polishing sponge 1 is

상기 표면(G-1)과 마찰되는 부위에 수개의 절개홈(110)으로 구성된 브러쉬(120)가 마찰 되도록 구비하고,A brush 120 composed of several incision grooves 110 is provided to rub against the surface G-1 and the rubbing portion,

상기 각 브러쉬(120)는 표면(G-1)과의 마찰에 의해 균일한 폴리싱면(G-5)을 얻을 수 있도록 구비한다.Each of the brushes 120 is provided to obtain a uniform polishing surface G-5 by friction with the surface G-1.

도 3에 도시된 바와 같이 상기 연마스폰지(1)는,As shown in FIG. 3, the polishing sponge 1 is

원형 형태로 직경(D)이 10~260mm 범위 내에서 스폰지바디(101)을 구비하되, 그 스폰지바디(101)의 높이(H)는 20~60mm 범위 내에서 구비하며, In a circular shape, the diameter (D) is provided with the sponge body 101 within the range of 10 to 260 mm, the height (H) of the sponge body 101 is provided within the range of 20 to 60 mm,

상기 스폰지바디(101)의 하측에는 6~20mm 간격(S)으로 격자형태의 절개홈(110)을 구비하고, On the lower side of the sponge body 101, a grid-shaped incision groove 110 is provided at intervals of 6 to 20 mm (S),

상기 절개홈(110)의 내부 거리(D1)는 0.5~5mm 범위 내에서 구비하며, The inner distance D1 of the incision groove 110 is provided within the range of 0.5 to 5 mm,

상기 절개홈(110)의 깊이(H1)는 10~25mm 범위 내에서 구비하고, The depth (H1) of the incision groove 110 is provided within the range of 10 to 25 mm,

상기 스폰지바디(101)의 중앙에는 10~30mm 직경(D2)의 절개구멍(109)을 구비한 것과,In the center of the sponge body 101, the incision hole 109 having a diameter of 10 to 30 mm (D2) is provided;

상기 스폰지바디(101)의 상면에는 에폭시 종류의 접착제(140)를 도포하여 그 상측에 연결플레이트(130)와 본딩 되도록 구비한 것과,An epoxy type adhesive 140 is applied to the upper surface of the sponge body 101 to be bonded to the connection plate 130 on the upper side thereof;

상기 연결플레이트(130)는 상부 중앙에 수용홈(133)을 구비한 원형 바디(132)를 구비하되, 그 외면에는 수개의 나사홈(135)을 구비하고,The connection plate 130 is provided with a circular body 132 having a receiving groove 133 in the center of the upper portion, the outer surface is provided with several screw grooves 135,

상기 스폰지바디(101)는,The sponge body 101,

우레탄 100 중량부에서 세륨입자 200~500 중량부를 포함하도록 구비될 수 있으며, It may be provided to include 200 to 500 parts by weight of cerium particles in 100 parts by weight of urethane,

도 4의 (가)에 도시된 바와 같이 상기 브러쉬(120) 외면에는 각형 또는 원형 형태로 수직면(110-1)을 구비될 수 있고,As shown in (a) of Figure 4, the outer surface of the brush 120 may be provided with a vertical surface 110-1 in the form of a square or circular shape,

도 4의 (나)에 도시된 바와 같이 상기 브러쉬(120) 외면에는 상부 측은 좁고 하부 측은 넓어지는 사다리꼴 형태의 절개면(110-2)을 구비될 수 있으며,As shown in (b) of Figure 4, the outer surface of the brush 120 may be provided with a trapezoidal incision surface 110-2 in which the upper side is narrow and the lower side is widened,

도 4의 (다)에 도시된 바와 같이 상기 브러쉬(120) 외면에는 상부에서 하부로 일정한 간격으로 엠보싱 형태의 절개면(110-3)을 구비될 수 있고,As shown in (c) of Figure 4, the outer surface of the brush 120 may be provided with an embossed cut-out surface 110-3 at regular intervals from the top to the bottom,

도 5의 (라)에 도시된 바와 같이 상기 브러쉬(120) 외면에는 상부와 하부의 간격은 동일하고 그 사이 중심에는 음각경사면(110-4a)을 갖는 경사면(110-4)을 구비될 수 있으며,As shown in (d) of FIG. 5, the upper and lower intervals are the same on the outer surface of the brush 120, and an inclined surface 110-4 having an intaglio inclined surface 110-4a may be provided in the center therebetween. ,

도 5의 (마)에 도시된 바와 같이 상기 브러쉬(120) 외면에는 상부와 하부의 간격은 일정하되, 그 사이 중심에는 톱니형태의 돌출면(110-5a)이 서로 대칭되도록 구비하되, 상기 각 돌출면(110-5a)은 서로 마찰 될 때 맞물려 지도록 구비됨이 바람직하고,As shown in (e) of FIG. 5, the distance between the upper and lower portions is constant on the outer surface of the brush 120, and the protruding surfaces 110-5a of the sawtooth shape are provided so as to be symmetrical to each other in the center therebetween. It is preferable that the protruding surfaces (110-5a) are provided to be engaged when rubbed against each other,

상기 브러쉬(120)는 상기 박판글라스(G)의 표면(G-1) 폴리싱 단차는 ±2mm 범위 내에서 정밀폴리싱이 이루어질 수 있도록 구비될 수 있으며,The brush 120 may be provided such that the polishing step of the surface (G-1) of the thin glass (G) can be precisely polished within the range of ±2mm,

상기 연마스폰지(1)는 상기 박판글라스(G)의 접힘 영역에 1차 폴리싱된 표면(G-1)에 마찰될 때에는 쇼어C 경도기 기준 60~70 HW 범위 내에서 마찰이 이루어질 수 있도록 구비됨이 바람직하고,The abrasive sponge 1 is provided so that friction can be made within the range of 60 to 70 HW based on the Shore C hardness scale when rubbed against the surface G-1 polished first in the folded region of the thin glass G This is preferable,

도 6에 도시된 바와 같이 상기 연마스폰지(1)는 상기 연결플레이트(130)와 접착제(140)에 의해 본딩된 상태에서, 폴리싱장치(A)의 회전축봉에 체결되어 정·역회전력에 의한 뒤틀림 파손 및 변형을 최소화시킬 수 있도록 뒤틀림방지수단(200)을 구비됨이 바람직하며,As shown in FIG. 6 , the abrasive sponge 1 is fastened to the rotating shaft rod of the polishing apparatus A in a state where the connection plate 130 and the adhesive 140 are bonded to each other and is twisted by forward and reverse rotational force. It is preferable that the distortion prevention means 200 be provided to minimize damage and deformation,

상기 뒤틀림방지수단(200)은 연결플레이트(130)의 수용홈(133)에 원방향으로 수개의 관통구멍(138)을 구비하고,The distortion preventing means 200 is provided with several through-holes 138 in the receiving groove 133 of the connection plate 130 in a circular direction,

상기 관통구멍(138)에 축삽되어 상·하로 움직이는 수직가이드축봉(220)을 구비하되, 그 상측에는 걸림원형턱(210)을 구비하며,A vertical guide shaft rod 220 that is inserted into the through hole 138 and moves up and down is provided, and a locking circular jaw 210 is provided on the upper side thereof,

상기 수직가이드축봉(220)은 그 하측으로 접착제(140)를 관통되도록 구비하고,The vertical guide shaft rod 220 is provided to penetrate the adhesive 140 to the lower side thereof,

상기 접착제(140)에 의해 본딩된 연마스폰지(1)의 스폰지바디(101)에는 가이드구멍(108)에 축삽되어 상기 스폰지바디(101)에 전해지는 응력에 따라 상기 수직가이드축봉(220)에 의해 조절되도록 구비한다.In the sponge body 101 of the abrasive sponge 1 bonded by the adhesive 140, the vertical guide shaft rod 220 is inserted into the guide hole 108 according to the stress transmitted to the sponge body 101. provided to be adjusted.

이하, 본 발명의 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지의 각 도면에 의거하여 보다 구체적으로 설명하면 하기와 같다.Hereinafter, based on the drawings of the polishing sponge dedicated to engraving or embossed polishing of the surface of the thin plate glass having a folding function of the present invention, it will be described in more detail as follows.

일반적으로 세륨은 무르고 연성이 있는 은회색의 금속이며 녹는점은 795℃이고, 끓는점은 3443℃ 으로 구성되어 화합물 중 가장 널리 사용되는 화합물로써 화학적-기계적 폴리싱과 같은 공정에 연마제로 사용되고 있다.In general, cerium is a soft and ductile silver-gray metal with a melting point of 795°C and a boiling point of 3443°C.

또, 세륨은 150℃에서 쉽게 연소하여 세리아(ceria, CeO2)로 알려진 엷은 황색의 세륨 산화물을 형성하여 물과 쉽게 반응하기도 하는데 차가운 물에서는 상대적으로 반응이 느리게 일어나지만, 온도가 증가함에 따라 반응 속도가 빨라져 수산화 세륨과 수소 기체를 쉽게 생성될 수 있다.In addition, cerium easily burns at 150°C to form a pale yellow cerium oxide known as ceria (CeO2) and reacts easily with water. , so that cerium hydroxide and hydrogen gas can be easily produced.

특히 고품질의 광학 표면을 제조하기 위한 공정에서는 다른 금속 산화물의 대체물로 사용되고 있다.In particular, it is used as a substitute for other metal oxides in processes for producing high-quality optical surfaces.

본 발명은 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이 접힘 영역에 1차 폴리싱된 상태의 박판글라스(G)의 표면(G-1)에 잔존해 있는 음각면(G-3), 양각면(G-2) 및 경계면(G-4)을 형성된 이물질을 우레탄과 세륨이 혼합된 연마스폰지(1)를 이용하여 쇼어C 경도기 기준 60~70 HW 범위 내에서 경도로 폴리싱장치(A)에 의해 정밀하게 폴리싱하도록 작동하고,The present invention is an intaglio surface (G-3), an embossed surface (G) remaining on the surface (G-1) of the thin glass (G) in a state of primary polishing in the folded region as shown in FIGS. 1 to 6 -2) and the foreign material formed at the interface (G-4), using a polishing sponge (1) mixed with urethane and cerium, with a hardness within the range of 60 to 70 HW based on the Shore C hardness scale, precision by polishing device (A) Works to polish gently,

도 2 내지 도 3에 도시된 바와 같이 상기 연마스폰지(1)는 원형 형태로 직경(D)이 10~260mm 범위 내에서 스폰지바디(101)을 구비하여 다양한 박판글라스(G)를 폴리싱 시킬 수 있도록 하며,2 to 3, the abrasive sponge 1 has a circular shape and a diameter D within a range of 10 to 260 mm to provide a sponge body 101 to polish various thin glass sheets (G). and

상기 스폰지바디(101)의 높이(H)는 20~60mm 범위 내에서 구비하여 상기 폴리싱장치(A)를 통해 일정한 속도로 정·역회전될 때 상기 스폰지바디(1)의 내구성과 폴리싱 연마 효율성을 극대화시켜 폴리싱할 수 있도록 작동하고,The height (H) of the sponge body 101 is provided within the range of 20 to 60 mm to improve the durability and polishing efficiency of the sponge body 1 when it is rotated forward and reverse at a constant speed through the polishing device A. It works to maximize and polish,

상기 스폰지바디(101)의 하측에는 6~20mm 간격(S)으로 격자형태의 절개홈(110)을 구비하되, 그 절개홈(110)의 깊이(H1)는 10~25mm 하고 내부 거리(D1)는 0.5~5mm 범위 내에서 구비하여 각 절개홈(110)에 의해 각 수개의 브러쉬(120)들의 탄성 및 폴리싱 효율성을 극대화 시킬 수 있도록 작동하며, On the lower side of the sponge body 101, a grid-shaped incision groove 110 is provided at intervals of 6 to 20 mm (S), the depth (H1) of the incision groove 110 is 10 to 25 mm, and the inner distance (D1) is provided within the range of 0.5 to 5 mm and operates to maximize the elasticity and polishing efficiency of each of several brushes 120 by each incision groove 110,

상기 스폰지바디(101)의 중앙에는 10~30mm 직경(D2)의 절개구멍(109)을 구비하여 불필요한 마찰을 방지하여 상기 표면(G-1)의 균일한 폴리싱면(G-5)을 얻을 수 있도록 작동하고,In the center of the sponge body 101, an incision hole 109 having a diameter of 10 to 30 mm (D2) is provided to prevent unnecessary friction to obtain a uniform polishing surface (G-5) of the surface (G-1). works so that

상기 스폰지바디(101)의 상면에는 완충기능이 잇는 에폭시 수지형태의 접착제(140)를 도포하여 그 상측에 폴리싱장치(A)의 회전축봉과 체결수단들에 의해 탈부착 형태로 체결될 수 있도록 수용홈(133)을 구비한 원형 바디(132)를 구비하되, 그 외면에는 수개의 나사홈(135)을 구비한 연결플레이트(130)와 본딩 되도록 구비하여 상기 연마스폰지(1)의 사용과 교체를 용이하게 할 수 있도록 하며,On the upper surface of the sponge body 101, an epoxy resin type adhesive 140 having a buffer function is applied, and a receiving groove ( 133) provided with a circular body 132, the outer surface of which is provided to be bonded with the connection plate 130 having several screw grooves 135 to facilitate the use and replacement of the abrasive sponge (1). make it possible,

도 5 내지 도 6에 도시된 바와 같이 상기 브러쉬(120) 외면에는 각형 또는 원형 형태로 수직면(110-1)을, 5 to 6, a vertical surface 110-1 is formed on the outer surface of the brush 120 in a square or circular shape,

또, 상부 측은 좁고 하부 측은 넓어지는 사다리꼴 형태의 절개면(110-2)을,In addition, the upper side is narrow and the lower side is widened trapezoidal incision surface 110-2,

또한, 상부에서 하부로 일정한 간격으로 엠보싱 형태의 절개면(110-3)을,In addition, the cut surface 110-3 of the embossed form at regular intervals from the top to the bottom,

또, 상부와 하부의 간격은 동일하고 그 사이 중심에는 음각경사면(110-4a)을 갖는 경사면(110-4)을,In addition, the upper and lower intervals are the same, and the inclined surface 110-4 having an intaglio inclined surface 110-4a in the center therebetween,

또한, 상부와 하부의 간격은 일정하되, 그 사이 중심에는 톱니형태의 돌출면(110-5a)이 서로 대칭되도록 구비하되, 상기 각 돌출면(110-5a)은 서로 마찰 될 때 맞물려 지도록 각각 선택적으로 구비하여 상기 박판글라스(G)의 표면(G-1)과의 마찰 효율을 높일 수 있도록 작동하고,In addition, the distance between the upper and lower parts is constant, and the protrusion surfaces 110-5a of the sawtooth shape are provided so as to be symmetrical to each other in the center therebetween. Operates to increase the frictional efficiency with the surface (G-1) of the thin glass (G) provided with

도 1에 도시된 바와 같이 상기 브러쉬(120)는 상기 박판글라스(G)의 표면(G-1) 폴리싱 단차(P)는 ±2mm 범위 내에서 정밀폴리싱이 이루어질 수 있도록 작동하며,As shown in Figure 1, the brush 120 operates so that the surface (G-1) polishing step (P) of the thin glass (G) can be precisely polished within the range of ±2mm,

도 6에 도시된 바와 같이 상기 연마스폰지(1)는 상기 연결플레이트(130)와 접착제(140)에 의해 본딩된 상태에서,As shown in FIG. 6, the polishing sponge 1 is bonded by the connecting plate 130 and the adhesive 140,

폴리싱장치(A)의 회전축봉에 체결되어 정·역회전력에 의한 뒤틀림 파손 및 변형을 최소화시킬 수 있도록 뒤틀림방지수단(200)을 구비하여 회전시 발생되는 피로누적에 의한 우레탄 재질의 스폰지바디(101)의 파손을 방지할 수 있도록 하고,It is fastened to the rotary shaft rod of the polishing device (A) and provided with a warping prevention means 200 to minimize warping damage and deformation caused by forward and reverse rotational force. ) to prevent damage to

상기 뒤틀림방지수단(200)은 연결플레이트(130)의 수용홈(133)에 원방향으로 수개의 관통구멍(138)을 구비하여 그 관통구멍(138)에 끼워져 상·하로 가이딩되는 수직가이드축봉(220)이 걸림고정되는 걸림원형턱(210)을 구비하여 상기 스폰지바디(101)에는 가이드구멍(108)에 축삽되어 내부 마찰에 의해 발생되는 내부 밀림에 대응하여 위치가 조절되면서도 축봉기능이 정상적으로 작동되어 뒤틀림을 방지하도록 작동한다.The twist preventing means 200 is provided with several through-holes 138 in the receiving groove 133 of the connection plate 130 in a circular direction, and is inserted into the through-holes 138 to guide the vertical guide shaft rod up and down. 220 is provided with a locking circular jaw 210 to be caught and fixed, and the sponge body 101 is inserted into the guide hole 108 so that the position is adjusted in response to the internal push generated by internal friction while the shaft sealing function is normally It works to prevent distortion.

A: 폴리싱장치 D,D2 : 직경
D1: 거리 G: 박판글라스
G-1: 표면 G-3: 음각면
G-2: 양각면 G-4: 경계면
G-5: 폴리싱면 H: 높이
H1: 깊이 S: 간격
1: 연마스폰지 110: 절개홈
120: 브러쉬 101: 스폰지바디
110: 절개홈 108: 가이드구멍
109: 절개구멍 110-1: 수직면
110-2: 절개면 110-3: 절개면
110-4a: 음각경사면 110-4: 경사면
110-5a: 돌출면 120: 브러쉬
130: 연결플레이트 133: 수용홈
132: 바디 135: 나사홈
138: 관통구멍 140: 접착제
200: 뒤틀림방지수단 220: 수직가이드축봉
210: 걸림원형턱 220: 수직가이드축봉


A: Polishing device D, D2: Diameter
D1: Distance G: Laminate Glass
G-1: Surface G-3: Engraved surface
G-2: double face G-4: interface
G-5: Polishing surface H: Height
H1: Depth S: Gap
1: abrasive sponge 110: incision groove
120: brush 101: sponge body
110: incision groove 108: guide hole
109: cut hole 110-1: vertical plane
110-2: cut surface 110-3: cut surface
110-4a: concave inclined surface 110-4: inclined surface
110-5a: protruding surface 120: brush
130: connection plate 133: receiving groove
132: body 135: screw groove
138: through hole 140: adhesive
200: twist preventing means 220: vertical guide shaft bar
210: jamming circular jaw 220: vertical guide shaft bar


Claims (12)

박판글라스(G)의 접힘 영역에 1차 폴리싱된 상태의 표면(G-1)에 잔존해 있는 음각면(G-3), 양각면(G-2) 및 경계면(G-4)을 정밀 폴리싱장치(A)에 사용되는 연마스폰지(1)에 있어서,

상기 연마스폰지(1)는 상기 표면(G-1)과 마찰되는 부위에 수개의 절개홈(110)으로 구성된 브러쉬(120)가 마찰 되도록 구비하고, 상기 각 브러쉬(120)는 표면(G-1)과의 마찰에 의해 균일한 폴리싱면(G-5)을 얻을 수 있도록 구비한 것과,

상기 연마스폰지(1)는 원형 형태로 직경(D)이 10~260mm 범위 내에서 스폰지바디(101)을 구비하되, 그 스폰지바디(101)의 높이(H)는 20~60mm 범위 내에서 구비하며, 상기 스폰지바디(101)의 하측에는 6~20mm 간격(S)으로 격자형태의 절개홈(110)을 구비하고, 상기 절개홈(110)의 내부 거리(D1)는 0.5~5mm 범위 내에서 구비하며, 상기 절개홈(110)의 깊이(H1)는 10~25mm 범위 내에서 구비하고, 상기 스폰지바디(101)의 중앙에는 10~30mm 직경(D2)의 절개구멍(109)을 구비한 것과,

상기 스폰지바디(101)의 상면에는 에폭시 종류의 접착제(140)를 도포하여 그 상측에 연결플레이트(130)와 본딩 되도록 구비한 것과,

상기 연결플레이트(130)는 상부 중앙에 수용홈(133)을 구비한 원형 바디(132)를 구비하되, 그 외면에는 수개의 나사홈(135)을 구비한 것을 특징으로 한 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지
Precision polishing of the intaglio (G-3), embossed (G-2) and interface (G-4) remaining on the surface (G-1) of the primary polished state in the folded area of the thin glass (G) In the abrasive sponge (1) used in the apparatus (A),

The abrasive sponge 1 is provided such that a brush 120 composed of several incision grooves 110 is rubbed on a portion rubbed with the surface G-1, and each brush 120 is a surface G-1 ) to obtain a uniform polishing surface (G-5) by friction with

The abrasive sponge (1) is provided with a sponge body 101 in a circular shape and a diameter (D) within the range of 10 to 260 mm, the height (H) of the sponge body 101 is provided within the range of 20 to 60 mm, , the lower side of the sponge body 101 is provided with a grid-shaped incision grooves 110 at intervals of 6 to 20 mm (S), and the inner distance (D1) of the incision grooves 110 is provided within the range of 0.5 to 5 mm. And, the depth (H1) of the incision groove 110 is provided within the range of 10 to 25 mm, and the center of the sponge body 101 is provided with an incision hole 109 having a diameter of 10 to 30 mm (D2),

An epoxy type adhesive 140 is applied to the upper surface of the sponge body 101 to be bonded to the connection plate 130 on the upper side thereof;

The connection plate 130 is provided with a circular body 132 having a receiving groove 133 in the upper center, but on the outer surface of the thin plate glass having a folding function, characterized in that provided with several screw grooves 135. Abrasive sponge for engraved or embossed polishing of the surface
제1항에 있어서,
상기 스폰지바디(101)는,
우레탄 100 중량부에서 세륨입자 200~500 중량부를 포함하도록 구비한 것을 특징으로 한 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지
According to claim 1,
The sponge body 101,
Polishing sponge for engraved or embossed polishing of the thin plate glass surface having a folding function, characterized in that it contains 200 to 500 parts by weight of cerium particles in 100 parts by weight of urethane
제1항에 있어서,
상기 브러쉬(120) 외면에는,
각형 또는 원형 형태로 수직면(110-1)을 구비한 것을 특징으로 한 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지
According to claim 1,
On the outer surface of the brush 120,
Abrasive sponge for engraved or embossed polishing of a thin plate glass surface having a folding function, characterized in that it has a vertical surface 110-1 in a square or circular shape
제1항에 있어서,
상기 브러쉬(120) 외면에는,
상부 측은 좁고 하부 측은 넓어지는 사다리꼴 형태의 절개면(110-2)을 구비한 것을 특징으로 한 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지
According to claim 1,
On the outer surface of the brush 120,
Abrasive sponge for intaglio or embossed polishing of the thin plate glass surface having a folding function, characterized in that the upper side is narrow and the lower side has a trapezoidal incision surface 110-2 that is widened
제1항에 있어서,
상기 브러쉬(120) 외면에는,
상부에서 하부로 일정한 간격으로 엠보싱 형태의 절개면(110-3)을 구비한 것을 특징으로 한 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지
According to claim 1,
On the outer surface of the brush 120,
Abrasive sponge for engraved or embossed polishing of the thin plate glass surface having a folding function, characterized in that it has an embossed cut-out surface (110-3) at regular intervals from the top to the bottom
제1항에 있어서,
상기 브러쉬(120) 외면에는,
상부와 하부의 간격은 동일하고 그 사이 중심에는 음각경사면(110-4a)을 갖는 경사면(110-4)을 구비한 것을 특징으로 한 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지
According to claim 1,
On the outer surface of the brush 120,
An abrasive sponge for engraved or embossed polishing of a thin plate glass surface having a folding function, characterized in that the upper and lower portions are the same and the center has an inclined surface 110-4 having an intaglio inclined surface 110-4a in the center.
제1항에 있어서,
상기 브러쉬(120) 외면에는,
상부와 하부의 간격은 일정하되, 그 사이 중심에는 톱니형태의 돌출면(110-5a)이 서로 대칭되도록 구비하되, 상기 각 돌출면(110-5a)은 서로 마찰 될 때 맞물려 지도록 구비한 것을 특징으로 한 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지
According to claim 1,
On the outer surface of the brush 120,
The spacing between the upper and lower portions is constant, and the protrusion surfaces 110-5a of the sawtooth shape are provided to be symmetrical to each other in the center therebetween, and the respective projection surfaces 110-5a are provided to be engaged when rubbed against each other. Polishing sponge for engraved or embossed polishing of thin glass surface with folding function
제1항에 있어서,
상기 브러쉬(120)는,
상기 박판글라스(G)의 표면(G-1) 폴리싱 단차는 ±2mm 범위 내에서 정밀폴리싱이 이루어질 수 있도록 구비한 것을 특징으로 한 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지
According to claim 1,
The brush 120 is
Polishing sponge for intaglio or embossed polishing of the surface of the thin plate glass (G) having a folding function, characterized in that the polishing step of the surface (G-1) of the thin plate glass (G) is provided so that precision polishing can be made within the range of ±2 mm
제1항에 있어서,
상기 연마스폰지(1)는,
상기 박판글라스(G)의 접힘 영역에 1차 폴리싱된 표면(G-1)에 마찰될 때에는 쇼어C 경도기 기준 60~70 HW 범위 내에서 마찰이 이루어질 수 있도록 구비한 것을 특징으로 한 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지
According to claim 1,
The abrasive sponge (1),
When rubbing against the surface (G-1) polished first in the folded area of the thin glass (G), a folding function characterized in that it is provided so that friction can be made within the range of 60 to 70 HW based on the Shore C hardness scale. Polishing sponge for engraved or embossed polishing of thin glass surface with
제1항에 있어서,
상기 연마스폰지(1)는,
상기 연결플레이트(130)와 접착제(140)에 의해 본딩된 상태에서,
폴리싱장치(A)의 회전축봉에 체결되어 정·역회전력에 의한 뒤틀림 파손 및 변형을 최소화시킬 수 있도록 뒤틀림방지수단(200)을 구비한 것을 특징으로 한 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지
According to claim 1,
The abrasive sponge (1),
In the state bonded by the connection plate 130 and the adhesive 140,
Intaglio or embossing on the surface of a thin plate glass having a folding function, characterized in that it is fastened to the rotary shaft rod of the polishing device (A) and provided with a warping prevention means 200 to minimize warping damage and deformation caused by forward and reverse rotational force Abrasive sponge for polishing
제10항에 있어서,
상기 뒤틀림방지수단(200)은,
연결플레이트(130)의 수용홈(133)에 원방향으로 수개의 관통구멍(138)을 구비하고,
상기 관통구멍(138)에 축삽되어 상·하로 움직이는 수직가이드축봉(220)을 구비하되, 그 상측에는 걸림원형턱(210)을 구비하며,
상기 수직가이드축봉(220)은 그 하측으로 접착제(140)를 관통되도록 구비하고,
상기 접착제(140)에 의해 본딩된 연마스폰지(1)의 스폰지바디(101)에는 가이드구멍(108)에 축삽되어 상기 스폰지바디(101)에 전해지는 응력에 따라 상기 수직가이드축봉(220)에 의해 조절되도록 구비한 것을 특징으로 한 접힘 기능을 갖는 박판글라스 표면의 음각 또는 양각 폴리싱 전용 연마스폰지







11. The method of claim 10,
The distortion preventing means 200,
A number of through-holes 138 are provided in the receiving groove 133 of the connection plate 130 in a circular direction,
A vertical guide shaft rod 220 that is inserted into the through hole 138 and moves up and down is provided, and a locking circular jaw 210 is provided on the upper side thereof,
The vertical guide shaft rod 220 is provided to penetrate the adhesive 140 to the lower side thereof,
In the sponge body 101 of the abrasive sponge 1 bonded by the adhesive 140, the vertical guide shaft rod 220 is inserted into the guide hole 108 according to the stress transmitted to the sponge body 101. Abrasive sponge for engraved or embossed polishing of thin glass surface with folding function, characterized in that it is adjustable







삭제delete
KR1020210030695A 2021-03-09 2021-03-09 A polishing sponge dedicated to polishing the surface of thin-walled glass with folding function KR102435240B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210030695A KR102435240B1 (en) 2021-03-09 2021-03-09 A polishing sponge dedicated to polishing the surface of thin-walled glass with folding function

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210030695A KR102435240B1 (en) 2021-03-09 2021-03-09 A polishing sponge dedicated to polishing the surface of thin-walled glass with folding function

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102435240B1 true KR102435240B1 (en) 2022-08-24

Family

ID=83112042

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210030695A KR102435240B1 (en) 2021-03-09 2021-03-09 A polishing sponge dedicated to polishing the surface of thin-walled glass with folding function

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102435240B1 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070086274A (en) * 2004-12-16 2007-08-27 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 Resilient structured sanding article
KR101186531B1 (en) 2009-03-24 2012-10-08 차윤종 Polyurethane porous product and manufacturing method thereof and Polishing pad having Polyurethane porous product
KR101255523B1 (en) 2011-04-08 2013-04-23 노태욱 Urethane form polishing pad and method of manufacturing the same
KR20170132411A (en) * 2016-05-24 2017-12-04 (주) 피다텍 Curved glass surface polishing pad
KR20170140501A (en) 2016-06-13 2017-12-21 노원우 Method of manufacturing multiple polishing pad
KR101941083B1 (en) 2017-04-24 2019-01-29 (주)디에스텍 Abrasive and method for manufacturing the same

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070086274A (en) * 2004-12-16 2007-08-27 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 Resilient structured sanding article
KR101186531B1 (en) 2009-03-24 2012-10-08 차윤종 Polyurethane porous product and manufacturing method thereof and Polishing pad having Polyurethane porous product
KR101255523B1 (en) 2011-04-08 2013-04-23 노태욱 Urethane form polishing pad and method of manufacturing the same
KR20170132411A (en) * 2016-05-24 2017-12-04 (주) 피다텍 Curved glass surface polishing pad
KR20170140501A (en) 2016-06-13 2017-12-21 노원우 Method of manufacturing multiple polishing pad
KR101941083B1 (en) 2017-04-24 2019-01-29 (주)디에스텍 Abrasive and method for manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101735567B1 (en) Polishing pad having polishing surface with continuous protrusions
TWI496660B (en) Retaining ring with shaped surface
US10569387B2 (en) Polishing disc for a tool for fine processing of optically effective surfaces on spectacle lenses
EP2857145B1 (en) Polishing pad with homogeneous body having discrete protrusions thereon
US7458885B1 (en) Chemical mechanical polishing pad and methods of making and using same
KR100485847B1 (en) Improved Polishing Pads and Methods Relating Thereto
KR101283001B1 (en) Pad conditioner, pad conditioning method, and polishing apparatus
CN104661794B (en) Nonplanar glass polishing pad and manufacture method
JP2016511162A (en) Polishing pad having a polishing surface with continuous protrusions having tapered sidewalls
KR102435240B1 (en) A polishing sponge dedicated to polishing the surface of thin-walled glass with folding function
CN102883644A (en) Floor-polishing and -cleaning body
KR100963968B1 (en) Polishing pad and manufacturing method of the same
JP4986129B2 (en) Polishing pad
KR101633745B1 (en) Polishing pad
KR101080572B1 (en) Polishing pad and manufacturing method thereof
WO2016031467A1 (en) Polishing brush
EP2025455A2 (en) Chemical mechanical polishing method
KR102581160B1 (en) Methods of making chemical mechanical polishing layers having improved uniformity
CN108136563A (en) It polymerize polishing material, the medium comprising polymerization polishing material and system and its formation and application method
JP2007105817A (en) Resin grinding wheel
JP2004209580A (en) Polyurea elastic abrasive and method of manufacturing the same
US20200205560A1 (en) Porous polymeric polishing bristles and methods for their manufacture
JP2004023038A (en) Grinding device of semiconductor wafer
JP7212242B2 (en) Holder for object to be polished
JP6292397B2 (en) Polishing pad

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant