KR101255523B1 - Urethane form polishing pad and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 우레탄폼으로 이루어진 연마패드 자체에 무기입자가 적절하게 포함되어 유연성을 갖는 것은 물론, 연마압력을 견딜 수 있는 충분한 지지력이 확보되어 수명이 연장될 수 있는 우레탄폼 연마패드 및 그 제조방법에 관한 것으로,
폴리에스테르 또는 폴리에테르계의 폴리올을 포함하는 발포조성물 100중량부에 대하여 1~400중량부의 무기입자가 첨가되어 발포성형된 것을 특징으로 하는 우레탄폼 연마패드를 제공한다.The present invention relates to a urethane foam polishing pad and a method for manufacturing the same, in which the inorganic pad is appropriately contained in the polishing pad itself made of urethane foam to have flexibility, as well as sufficient support force to withstand the polishing pressure, thereby extending its life. About
It provides a urethane foam polishing pad, characterized in that the foam is molded by adding 1 to 400 parts by weight of inorganic particles with respect to 100 parts by weight of the foam composition comprising a polyester or polyether polyol.
Description
본 발명은 우레탄폼 연마패드 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 우레탄폼으로 이루어진 연마패드 자체에 무기입자가 적절하게 포함되어 유연성을 갖는 것은 물론, 연마압력을 견딜 수 있는 충분한 지지력이 확보되어 수명이 연장될 수 있는 우레탄폼 연마패드 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a urethane foam polishing pad and a method of manufacturing the same, and more particularly, the inorganic pad is appropriately contained in the polishing pad itself made of urethane foam to have flexibility, as well as to secure sufficient supporting force to withstand the polishing pressure. It relates to a urethane foam polishing pad and its manufacturing method can be extended life.
일반적으로 연마패드는 고도의 평탄면이 요구되는 물품의 표면을 연마하기 위한 것으로서, 연마 대상 물품에 대응하여 원뿔, 원기둥, 평판 등 다양한 형상과 모양으로 제작될 수 있다. In general, the polishing pad is for polishing a surface of an article requiring a high flat surface, and may be manufactured in various shapes and shapes, such as a cone, a cylinder, and a flat plate, corresponding to the article to be polished.
연마작업의 대상은 반도체소자, TFT-LCD, 실리콘소자, 유리, 세라믹, 고분자, 금속 등 연마부위가 가루 상태로 분리되는 물품이다.The object of the polishing operation is an article in which polishing parts such as semiconductor devices, TFT-LCDs, silicon devices, glass, ceramics, polymers, and metals are separated in a powder state.
반도체 웨이퍼를 대상물품의 일 예로 하여 연마작업을 살펴보면, 연마작업은 연마 패드에 웨이퍼 표면을 접촉 또는 근접 대항하도록 위치시키고, 그 사이에 연마제를 포함하는 연마 슬러리를 공급한 다음, 연마패드 및 웨이퍼를 유동시키는 과정에서 이루어진다. Referring to the polishing operation using the semiconductor wafer as an example of the object, the polishing operation is to place the polishing pad in contact with or in proximity to the surface of the polishing pad, supplying the polishing slurry containing the abrasive therebetween, and then polishing the polishing pad and the wafer. In the process of flowing.
이때 연마 슬러리는 물, 또는 오일과 같은 액상 냉각제, 실리카, 산화 알루미늄, 실리콘 카바이드, 산화세륨 등과 같은 연마제, 유화제 및 그 외 물품 성질에 대응하는 각종 성분을 포함한다.At this time, the polishing slurry includes a liquid coolant such as water or oil, abrasives such as silica, aluminum oxide, silicon carbide, cerium oxide, and the like, and various components corresponding to the properties of other articles.
한편, 통상 연마패드는 돌로 만들어진 연마석이나 철부퍼쉬 등이 사용될 수 있다. 다만, 이러한 연마석이나 철부퍼쉬는 연마시 파편이 날리거나 피부 접촉으로 인하여 매우 위험할 뿐만 아니라 매우 단단하기 때문에 연마중 관절이나 인체에 충격이 크게 발생될 수 있으며, 직접 마찰에 의해 마모 속도가 매우 빨라 수명이 단축되는 문제점이 있었다. 더 나아가 연마시 연마용 액상 콤파운드를 추가로 사용해야만 하였다.On the other hand, in general, the polishing pad may be used, such as a stone polished stone or iron push push. However, such abrasive stone or iron bubush is not only very dangerous due to flying or skin contact during grinding, but also very hard, which can cause a great impact on the joints or the human body during polishing, and wear speed is very fast by direct friction. There was a problem that the life is shortened. Further polishing had to additionally use a polishing liquid compound.
이에 최근에는 우레탄 폼과 같은 다공성 구조를 갖거나 섬유재 등으로 이루어진 지지층과, 지지층의 상측에 구비되되 미시적 탄성을 갖는 다공성 우레탄 등으로 이루어진 연마층과, 상기 연마층의 표층을 이루며 연마대상과 직접 접촉되는 작업표면으로 구성된 연마패드가 제공된 바 있다.Recently, a polishing layer having a porous structure such as urethane foam or made of a fiber material, a polishing layer made of porous urethane, etc., which is provided on the upper side of the support layer and has microscopic elasticity, forms a surface layer of the polishing layer and directly contacts the polishing object. A polishing pad has been provided which consists of a working surface in contact.
이와 같은 우레탄으로 이루어진 연마패드는 탄성이 있어 파편이 튀거나 연마시 손 등에 무리가 가는 것을 방지할 수 있으나, 연마 작업시 작업표면에서 국부적 또는 광역적으로 마모되는 정도가 다름에 따라 불균일하게 연마가 이루어지고, 작업표면의 마모정도에 대응하여 그 표층을 소정의 두께로 연삭하여야 하는 등의 문제점이 있었다.Such a urethane polishing pad has elasticity to prevent debris from splashing or hand damage during polishing.However, the polishing pad may be unevenly polished according to the degree of local or regional wear on the work surface during polishing. There is a problem that the surface layer has to be ground to a predetermined thickness in accordance with the degree of wear of the working surface.
또한, 연마슬러리가 계속적으로 작업표면에 분포된 상태를 유지하도록 관리가 필요하였으며, 연마 압력에 대응할 수 있는 충분한 지지력이 확보되지 못함에 따라 작업표면이 밀려지는 등 연마 효율이 저하되는 등 연마성이 떨어졌으며, 이러한 문제의 반복적인 발생으로 연마패드의 수명이 단축되고, 잦은 연마패드 교체로 인하여 작업시간이 지연되는 등의 문제점이 있었다.
In addition, it was necessary to maintain the polishing slurry continuously distributed on the working surface, and the polishing efficiency was reduced such that the working surface was pushed down due to insufficient supporting force to cope with the polishing pressure. There was a problem that the life of the polishing pad is shortened due to the repeated occurrence of such a problem, and the work time is delayed due to frequent replacement of the polishing pad.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, The present invention is to solve the above problems,
연마작업시 파편이 튀지 않고, 피부에 접촉되어도 피부손상 없이 안전하며 연마입자가 적절하게 내포되어 단단함과 유연함이 조화를 이룸에 따라 관절에 무리가 없으면서도 사용수명이 연장될 수 있는 우레탄폼 연마패드 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. Urethane foam polishing pad that does not splatter during polishing and is safe without skin damage even when it comes into contact with the skin, and the abrasive grains are properly contained and the combination of firmness and softness can be extended to extend the service life without difficulty in joints. And it aims to provide the manufacturing method.
본 발명의 다른 목적은 무기입자가 연마패드 내에 보다 잘 분산될 수 있도록 하는데 있다.Another object of the present invention is to allow the inorganic particles to be better dispersed in the polishing pad.
본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여,According to an aspect of the present invention,
폴리에스테르 또는 폴리에테르계의 폴리올을 포함하는 발포조성물 100중량부에 대하여 1~400중량부의 무기입자가 첨가되어 발포성형된 것을 특징으로 하는 우레탄폼 연마패드를 제공한다.It provides a urethane foam polishing pad, characterized in that the foam is molded by adding 1 to 400 parts by weight of inorganic particles with respect to 100 parts by weight of the foam composition comprising a polyester or polyether polyol.
또한, 상기 발포조성물은 폴리올 100중량부에 대하여 이소시에나이트 0.1~80중량부, 가교제 0.1~20중량부, 촉매 0.1~10중량부, 정포제 0.1~10중량부, 셀 연통제 0.1~10중량부, 발포제 0.1~50중량부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the foamed composition is 0.1 to 80 parts by weight of isocenite, 0.1 to 20 parts by weight of crosslinking agent, 0.1 to 10 parts by weight of catalyst, 0.1 to 10 parts by weight of foam stabilizer, and 0.1 to 10 parts of cell communication agent based on 100 parts by weight of polyol. It is characterized by including 0.1 parts by weight to 50 parts by weight of the blowing agent.
또한, 상기 무기입자는 Al2O3, SiO2, ZrO2, ZnO, SiC, CeO2, SiC, WC, Si3N4, 유리분말 중에서 선택되는 하나 혹은 둘 이상의 혼합물이 사용된 것임을 특징으로 한다.In addition, the inorganic particles are characterized in that one or more mixtures selected from Al 2 O 3 , SiO 2 , ZrO 2 , ZnO, SiC, CeO 2 , SiC, WC, Si 3 N 4 , glass powder is used. .
또한, 폴리올을 포함하는 발포조성물 100중량부에 대하여 1~400중량부의 무기입자를 첨가 및 혼합하는 단계와;In addition, adding and mixing 1 to 400 parts by weight of the inorganic particles with respect to 100 parts by weight of the foam composition comprising a polyol;
무기입자가 혼합된 발포조성물을 발포틀에 부어 발포 및 경화시켜 성형체를 형성하는 단계와;Pouring a foamed composition mixed with inorganic particles into a foam mold to foam and harden to form a molded body;
상기 성형체를 발포틀로부터 탈착시킨 뒤, 50의 건조기에 넣어 10~30분간 건조시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 우레탄 폼 연마패드의 제조방법을 제공한다.After the molded body is detached from the foam mold, and put into a dryer of 50 provides a method for producing a urethane foam polishing pad comprising the step of drying for 10 to 30 minutes.
또한, 첨가 및 혼합하는 단계는 폴리올, 무기입자, 발포제를 혼합하여 제1혼합물을 제조하고,In addition, the step of adding and mixing, the first mixture is prepared by mixing the polyol, inorganic particles, blowing agent,
이소시아네이트, 무기입자를 혼합하여 제2혼합물을 제조한 뒤,Isocyanate and inorganic particles are mixed to prepare a second mixture,
상기 제1혼합물, 제2혼합물 및 가교제, 촉매, 정포제, 셀 연통제를 첨가하여 혼합하는 것임을 특징으로 한다.
The first mixture, the second mixture and a crosslinking agent, a catalyst, a foam stabilizer, and a cell communicating agent are added and mixed.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 우레탄폼 연마패드는 발포를 통해 유연성을 갖기 때문에 충격이 완화되어 연마시 파편이 튀거나 관절에 무리가 오는 것을 방지할 수 있고, 적절하게 혼합된 무기 입자로 인하여 단단하게 형성되기 때문에 연마성이 우수함은 물론, 마모손실이 적어 수명이 연장될 수 있고, 이에 따라 연마패드의 교체로 인한 작업손실이 적어 생산성이 향상될 수 있으며, 기공이 많이 함유된 우레탄폼으로 형성되므로 물을 잘 흡수하여 연마중 별도의 윤활유 대신 일반 물이나 계면활성제를 포함하는 물 등으로도 연마가 잘 된다는 효과를 갖는다.As described above, since the urethane foam polishing pad according to the present invention has flexibility through foaming, impact is alleviated to prevent splashing or frustration at the joint during polishing, and is hard due to appropriately mixed inorganic particles. Because it is formed to be excellent, as well as excellent abrasive, less wear loss can be extended life, thereby reducing the work loss due to replacement of the polishing pad can be improved productivity, formed of a lot of pores containing urethane foam Therefore, it absorbs water well and has the effect of polishing well with ordinary water or water containing a surfactant instead of a separate lubricant during polishing.
또한, 본 발명은 발포조성물과 무기입자의 혼합시 무기입자의 일부는 폴리올과 혼합하고, 일부는 이소시아네이트와 혼합한 뒤, 사용함으로써 상기 무기입자가 보다 고르게 발포조성물에 분산될 수 있고, 이를 통해 무기입자가 고르게 분포된 연마패드를 제조할 수 있다는 효과를 갖는다.
In addition, in the present invention, when mixing the foam composition and the inorganic particles, some of the inorganic particles are mixed with the polyol, and some are mixed with the isocyanate, the inorganic particles can be more evenly dispersed in the foam composition by using the inorganic, thereby The effect is that a polishing pad with evenly distributed particles can be produced.
도 1은 본 발명의 제2실시예에 따른 연마패드의 광학이미지 및 SEM이미지를 나타낸 사진.
도 2는 본 발명의 제1실시예 내지 제4실시예에 따른 연마패드를 보인 사진.
도 3은 본 발명의 제1실시예 내지 제4실시예를 이용하여 연마한 상태를 보인 사진.1 is a photograph showing an optical image and an SEM image of a polishing pad according to a second embodiment of the present invention.
Figure 2 is a photograph showing a polishing pad according to the first to fourth embodiments of the present invention.
Figure 3 is a photograph showing a polished state using the first to fourth embodiments of the present invention.
이하에서는 본 발명에 따른 우레탄 폼 연마패드에 대하여 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, the urethane foam polishing pad according to the present invention will be described in detail.
본 발명에 따른 우레탄폼 연마패드는 무기입자가 혼합된 발포조성물로 이루어져 유연성을 갖는 것은 물론, 연마 압력에 대응할 수 있는 충분한 강도를 갖을 수 있도록 하여 연마시 관절에 무리가 오거나, 파편이 튀는 등의 문제점을 개선하고, 마모속도가 느려 장기간 사용가능하며, 연마가 균일하게 이루어질 수 있도록 한 것이다.The urethane foam polishing pad according to the present invention is made of a foam composition in which inorganic particles are mixed, and has flexibility, as well as sufficient strength to cope with the polishing pressure, so that the joints or the fragments are splashed during polishing. To improve the problem, the wear rate is slow, can be used for a long time, it is to be uniformly polished.
이를 위하여 본 발명에서는 상기 연마패드가 폴리에스테르 또는 폴리에테르계의 폴리올을 포함하는 발포조성물 100중량부에 대하여 1~400중량부의 무기입자가 첨가되어 발포성형된다.To this end, in the present invention, the polishing pad is foamed by adding 1 to 400 parts by weight of inorganic particles with respect to 100 parts by weight of the foam composition including a polyester or polyether polyol.
여기서 상기 발포조성물은 폴리올 100중량부에 대하여 이소시에나이트 0.1~80중량부, 가교제 0.01~20중량부, 촉매 0.01~10중량부, 정포제 0.01~10중량부, 발포제 0.1~50중량부를 포함하는 것이다.Here, the foam composition includes 0.1 to 80 parts by weight of isocenite, 0.01 to 20 parts by weight of crosslinking agent, 0.01 to 10 parts by weight of catalyst, 0.01 to 10 parts by weight of foam stabilizer, and 0.1 to 50 parts by weight of foaming agent based on 100 parts by weight of polyol. It is.
각 성분에 대하여 구체적으로 살펴보면, 상기 폴리올은 프탈산, 아디핀산, 이량화리놀레인산, 말레인산 등의 유기산과 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 디에틸렌 등과의 에스테르화로 얻어진 폴리에스테르계 화합물이나, 솔비톨, 펜타에리트리톨과 같은 폴리에테르계 화합물이 사용될 수 있다. Specifically, the polyol is a polyester compound obtained by esterification of organic acids such as phthalic acid, adipic acid, dimerized linoleic acid and maleic acid with ethylene, propylene, butylene, diethylene, sorbitol, penta, etc. Polyether based compounds such as erythritol can be used.
이러한 폴리올은 반응시 이소시아네이트와의 연쇄반응을 통해 필요한 골격구조를 이룬다.These polyols form the necessary framework through chain reaction with isocyanates during the reaction.
상기 이소시에나이트는 상기한 폴리올과 함께 혼합되어 폴리우레탄을 형성하기 위한 원료로서, MDI(Diphenyl methane diisocyanate)나 TDI(Toluene diisocyanate) 등이 바람직하게 사용될 수 있다.The isocenite is mixed with the polyol as a raw material for forming a polyurethane, MDI (Diphenyl methane diisocyanate), TDI (Toluene diisocyanate) and the like may be preferably used.
이러한 이소시에나이트가 만약 폴리올 100중량부에 대하여 0.1 중량부 미만으로 혼합되면, 발포성형되기 위한 폴리우레탄이 형성되기 어렵고, 80중량부를 초과하여 혼합되면, 생성된 폴리우레탄폼의 강도 및 물성의 안정성이 저하될 수 있다.If such isocenite is mixed at less than 0.1 part by weight with respect to 100 parts by weight of polyol, it is difficult to form a polyurethane for foam molding, and if it is mixed in excess of 80 parts by weight, the strength and physical properties of the resulting polyurethane foam Stability may be degraded.
상기 가교제는 중합시 분자간 결합을 견고히 하기 위하여 사용되는 것으로, 폴리올 100중량부에 대하여 0.01중량부 미만으로 포함되면 분자가 결합시 견고하게 형성되지 않고, 20중량부를 초과하여 포함되면 그 사용량에 증대에 따른 효과 향상이 없어 바람직하지 않다.The crosslinking agent is used to strengthen the intermolecular bonds during the polymerization, and if it is included in less than 0.01 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polyol, the molecules are not formed rigidly when bonded, and if contained in excess of 20 parts by weight, the amount is increased. It is not preferable because there is no effect improvement.
상기 촉매는 폼 생성시 반응시간을 단축시키기 위하여 첨가되는 것으로, 아민촉매, 틴(TIN)촉매 등이 사용될 수 있다. 여기서 아민촉매는 주로 3급 아민이 사용될 수 있는 것으로, 이소시아네이트와 물 반응의 주촉매로서 발포공정의 수지화반응과 발포반응을 조절하여 균형을 이룰 수 있도록 하며, 틴촉매는 수지반응을 강력히 촉진시키며, 아민촉매와 병용함으로써 브로잉/겔반응의 균형을 맞추기 용이해져 반응성의 상승효과를 가져올 수 있다.The catalyst is added to shorten the reaction time during foam generation, amine catalyst, tin (TIN) catalyst and the like can be used. Here, the amine catalyst is mainly tertiary amine can be used as the main catalyst of the isocyanate and water reaction to achieve a balance by controlling the resination and foaming reaction of the foaming process, the tin catalyst strongly promotes the resin reaction In combination with the amine catalyst, it is easy to balance the blowing / gel reaction, resulting in synergistic effect of reactivity.
이와 같은 촉매는 상기 폴리올 100중량부에 대하여 0.01중량부 미만으로 포함되면 폼생성 반응시간을 단축시키는 효과가 나타나지 않으며, 10중량부를 초과하여 포함되면, 수지화 반응이 지나치게 빨라 셀벽이 강해지므로 크로즈셀(closed cell)이 많아져 수축이 발생할 수 있다.When the catalyst is contained in less than 0.01 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyol, there is no effect of shortening the foaming reaction time. When the catalyst is contained in an amount of more than 10 parts by weight, the resination reaction is too fast and the cell walls become strong, so that the cell is closed. (closed cells) can increase, causing shrinkage.
상기 정포제는 발포되는 동안 거품의 안정화로 폼셀의 크기를 조절하는데 도움을 주는 것으로, 얇은 셀 벽의 압박 정도를 감소시켜 폼이 성장할 때 안정화시켜주는 역할을 한다. The foam stabilizer helps to control the size of the foam cell by the stabilization of the foam while foaming, it serves to stabilize the foam as it grows by reducing the degree of compression of the thin cell wall.
이러한 정포제가 만약 폴리올 100중량부에 대하여 0.01중량부 미만으로 포함되면, 폼을 형성하는 성분들이 균일하게 분산되지 못하여 폼 형성이 안정화되지 못하고, 10중량부를 초과하여 포함되면 증가된 사용량에 따라 향상되는 효과가 없어 경제적이지 않다.If the foaming agent is included in less than 0.01 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polyol, the components forming the foam are not uniformly dispersed, the foam formation is not stabilized, if contained in excess of 10 parts by weight is improved according to the increased amount used It is not economical because it is ineffective.
상기 발포제는 폴리우레탄 폼으로 발포시키기 위한 것으로, 화학적 발포제인 물 등이 바람직하게 사용될 수 있다. 상기 물은 이소시아네이트와 반응하여 CO2 가스를 방출시켜 발포된다.The blowing agent is for foaming into a polyurethane foam, and water, which is a chemical blowing agent, may be preferably used. The water is foamed by reacting with isocyanates to release CO 2 gas.
이러한 발포제는 폴리올 100중량부에 대하여 0.1중량부 미만으로 포함되면, 상기한 성분의 반응에 따른 발포가 미미하고, 50중량부를 초과하여 포함되면 큰 발열로 인하여 폼의 물성이 저하되고, 폼 중심부에서 연소를 일으킬 염려가 있으므로 바람직하지 않다.If the foaming agent is included in less than 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polyol, the foaming according to the reaction of the above-described components are insignificant, and if contained in excess of 50 parts by weight, the physical properties of the foam is lowered due to a large heat generation, It is not preferable because it may cause combustion.
상기와 같은 성분으로 혼합된 발포조성물에 무기입자가 혼합되는데, 여기서 상기 무기입자는 발포를 통해 형성되는 우레탄 폼이 단단하게 형성되어 추후 연마시 연마 압력을 잘 견딜 수 있어 연마성이 향상되고, 마모속도가 느려 수명이 연장될 수 있도록 하기 위하여 포함되는 것이다.Inorganic particles are mixed with the foamed composition mixed with the above components, wherein the inorganic particles are formed with a urethane foam that is formed through foaming firmly so that it can withstand the polishing pressure during the subsequent polishing to improve polishing properties and wear It is included in order to extend the service life due to the slow speed.
이러한 무기입자는 Al2O3, SiO2, ZrO2, ZnO, SiC, CeO2, SiC, WC, Si3N4, 유리분말 중에서 선택되는 하나 혹은 둘 이상의 혼합물이 바람직하게 사용될 수 있으며, 상기 발포조성물 100중량부에 대하여 1중량부 미만으로 포함되면 무기입자 첨가가 낮아 연마효과가 매우 낮아지며, 400중량부를 초과하여 포함되면 발포가 잘 이루어지지 않으며 입자의 균질한 분산정도가 낮아 오히려 연마가 잘되지 않을 수 있다.
As the inorganic particles, one or more mixtures selected from Al 2 O 3 , SiO 2 , ZrO 2 , ZnO, SiC, CeO 2 , SiC, WC, Si 3 N 4 , and glass powder may be preferably used. If the amount is less than 1 part by weight based on 100 parts by weight of the composition, the addition of inorganic particles is very low, and the polishing effect is very low. If the content is more than 400 parts by weight, foaming is not performed well. You may not.
상기와 같은 성분 및 배합비로 혼합된 무기입자 및 발포조성물의 혼합물은 발포성형을 통해 연마패드로 제조될 수 있는 것이며, 이러한 연마패드는 발포를 통해 유연성을 갖기 때문에 충격이 완화되어 연마시 파편이 튀거나 관절에 무리가 오는 것을 방지할 수 있고, 적절하게 혼합된 무기 입자로 인하여 단단하게 형성되기 때문에 연마성이 우수함은 물론, 마모손실이 적어 수명이 연장될 수 있고, 이에 따라 연마패드의 교체로 인한 작업손실이 적어 생산성이 향상될 수 있으며, 기공이 많이 함유된 우레탄폼으로 형성되므로 물을 잘 흡수하여 연마중 별도의 윤활유 대신 일반 물이나 계면활성제를 포함하는 물 등으로도 연마가 잘될 수 있다.
The mixture of the inorganic particles and the foaming composition mixed with the above components and the compounding ratio can be produced by the polishing pad through the foam molding, since the polishing pad is flexible through foaming, the impact is alleviated and the fragments are splashed during polishing. It can be prevented from coming into the joints or joints, and because it is formed hard by the appropriately mixed inorganic particles, it is excellent in polishing property, and wear life is low, and the life can be extended. Productivity can be improved due to less work loss due to, and since it is formed of urethane foam containing a lot of pores, the water can be absorbed well so that it can be polished well with ordinary water or water containing surfactant instead of a separate lubricant during polishing. .
이러한 본 발명에 따른 우레탄 폼 연마패드는 하기와 같은 방법으로 용이하게 제조가능하다.The urethane foam polishing pad according to the present invention can be easily manufactured by the following method.
먼저, 폴리올을 포함하는 발포조성물 100중량부에 대하여 1~400중량부의 무기입자가 첨가 및 혼합하는 단계를 수행한다. 이때 상기 발포조성물의 성분 및 배합비는 전술한 바와 동일하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. First, 1 to 400 parts by weight of inorganic particles are added and mixed with respect to 100 parts by weight of the foamed composition including the polyol. At this time, the components and the blending ratio of the foamed composition are the same as described above, detailed description thereof will be omitted.
이때 상기 발포조성물과 무기입자의 첨가 및 혼합은 무기입자가 발포조성물 내에서 보다 잘 분산 및 혼합되어 추후 발포시 무기입자가 고르게 분포될 수 있도록 하기 위하여 폴리올, 무기입자, 발포제를 혼합하여 제1혼합물을 제조하고, 이소시아네이트, 무기입자를 혼합하여 제2혼합물을 제조한 뒤, 상기 제1혼합물, 제2혼합물 및 가교제, 촉매, 정포제, 셀 연통제를 첨가하여 혼합하는 것이 바람직하다.At this time, the addition and mixing of the foam composition and the inorganic particles is a first mixture by mixing the polyol, inorganic particles, foaming agent in order that the inorganic particles are better dispersed and mixed in the foam composition so that the inorganic particles can be evenly distributed in the future foaming It is preferable to prepare a second mixture by mixing the isocyanate and the inorganic particles, and then adding and mixing the first mixture, the second mixture and the crosslinking agent, the catalyst, the foam stabilizer, and the cell communicating agent.
이때 배합비는 전술한 각 성분의 배합비 내에서 이루어지도록 하며, 더욱 고르게 분산되도록 교반기 등을 통해 빠르게 혼합하여 준다.At this time, the compounding ratio is to be made in the compounding ratio of each of the above-described components, it is mixed quickly through a stirrer or the like to more evenly dispersed.
이와 같이 무기입자와 발포조성물을 혼합한 뒤, 이를 발포틀에 부어 발포 및 경화시켜 성형체를 형성하는 단계를 수행한다. 소정시간이 지나 경화가 완료되면, 상기 성형체를 발포틀로부터 탈착시킨 뒤, 50의 건조기에 넣어 10~30분간 건조시키는 단계를 수행함으로써 우레탄 폼 연마패드의 제조가 완료되는 것이다.
After mixing the inorganic particles and the foaming composition in this way, it is poured into a foaming mold and foamed and cured to perform a step of forming a molded body. When the curing is completed after a predetermined time, the molded body is detached from the foaming frame, and then put into a dryer of 50 to dry for 10 to 30 minutes to complete the manufacture of the urethane foam polishing pad.
이하, 본 발명에 따른 우레탄폼 연마패드의 연마효과를 하기 실시예를 통하여 확인하기로 하며, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로, 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the polishing effect of the urethane foam polishing pad according to the present invention will be confirmed through the following examples, which are intended to illustrate the present invention, and the present invention is not limited to the following examples.
<실시예 1 내지 실시예 4><Examples 1 to 4>
하기 표 1과 같은 배합비로 발포조성물 및 무기입자를 혼합하여 유리 막대를 사용하여 빠르게 혼합한 뒤, 발포되기 전에 발포틀에 붓는다. 그런 다음 발포틀을 밀폐시키고 2분정도 발포가 되며, 완전히 경화되면 발포틀에서 성형체를 탈착시킨 뒤, 50℃로 유지된 건조기에 넣어 10~30분 가량 건조시킨다. 그 후 건조된 성형체에 마무리작업으로써 통상의 모서리 가공을 수행하고 밑면에 부직포를 부착시킨다.
The foaming composition and the inorganic particles are mixed at a compounding ratio as shown in Table 1 below, rapidly mixed using a glass rod, and then poured into a foaming mold before foaming. Then, the foam mold is sealed and foamed for about 2 minutes, and when completely cured, the molded body is detached from the foam mold and placed in a drier maintained at 50 ° C. for 10-30 minutes to dry. Thereafter, the dried molded body is subjected to a normal edge processing by finishing, and a nonwoven fabric is attached to the bottom.
(g)Polyol
(g)
(g)Al 2 O 3
(g)
(g)water
(g)
(g)MDI
(g)
(g)Cross-linking agent
(g)
(g)catalyst
(g)
(g)Foam stabilizer
(g)
(g)blowing agent
(g)
여기서 상기 Al2O3의 종류는 평균 입경이 45㎛(#1000), 5㎛(#2000), 4㎛(#3000), 2㎛(#7000)를 사용하였다.
The Al 2 O 3 was used as an average particle diameter of 45 μm (# 1000), 5 μm (# 2000), 4 μm (# 3000), or 2 μm (# 7000).
<실험예 1><Experimental Example 1>
실시예 2에서 제조된 연마패드의 광학이미지 및 SEM 이미지를 측정하여 각각 도 1에 나타내었다.Optical images and SEM images of the polishing pad prepared in Example 2 were measured and shown in FIG. 1.
이에 도시된 바와 같이 연마패드의 우레탄 포함 내부에는 연마입자로 사용되는 Al2O3가 고르게 분산되어 포함되어 있음을 확인할 수 있다.
As shown in the figure, it can be seen that Al 2 O 3 used as abrasive particles is evenly dispersed in the urethane-containing polishing pad.
<실험예 2><Experimental Example 2>
도 2에 도시된 바와 같은 실시예1 내지 실시예 4에서 제조된 연마패드를 글라인드기에 장착시켜 순차적으로 연마대상을 연마한 뒤, 연마대상의 표면을 비교하여 그 결과를 도 3에 나타내었다.The polishing pads prepared in Examples 1 to 4 as shown in FIG. 2 were mounted on a grinder to sequentially polish the polishing objects, and then the surfaces of the polishing objects were compared. The results are shown in FIG. 3. .
도 3에 도시된 바와 같이 #1000pad부터 #7000pad로 교체하며 순차적으로 연마시킨 결과 그 표면이 매우 매끄럽고 균일하게 연마되었음을 확인할 수 있다.
As shown in FIG. 3, the surface was smoothly and uniformly polished from # 1000pad to # 7000pad and sequentially polished.
이상으로 본 발명에 관한 바람직한 실시 예를 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시 예에 한정되지 아니하며, 본 발명의 실시 예로부터 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의한 용이하게 변경되어 균등하다고 인정되는 범위의 모든 변경을 포함한다.
While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, And all changes to the scope that are deemed to be valid.
Claims (5)
0.1 to 80 parts by weight of isocenite, 0.01 to 20 parts by weight of crosslinking agent, 0.01 to 10 parts by weight of catalyst, 0.01 to 10 parts by weight of foam stabilizer, based on 100 parts by weight of a foam composition containing a polyester or polyether polyol, 1 to 400 parts by weight of ZnO, WC, Si 3 N 4 and the glass powder containing 0.01 to 50 parts by weight of the blowing agent, the inorganic particles using one or two or more mixtures selected from foaming is added to the foam molding pad.
상기 무기입자가 혼합된 발포조성물을 발포틀에 부어 발포 및 경화시켜 성형체를 형성하는 단계와;
상기 성형체를 발포틀로부터 탈착시킨 뒤, 50℃의 건조기에 넣어 10~30분간 건조시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 우레탄 폼 연마패드의 제조방법.0.1 to 80 parts by weight of isocenite, 0.01 to 20 parts by weight of crosslinking agent, 0.01 to 10 parts by weight of catalyst, 0.01 to 10 parts by weight of foam stabilizer, and 0.01 to 50 parts by weight of foaming agent based on 100 parts by weight of the foaming composition containing polyol Adding and mixing inorganic particles using one or two or more mixtures selected from 1 to 400 parts by weight of ZnO, WC, Si 3 N 4 and glass powder;
Forming a molded article by pouring the foam composition mixed with the inorganic particles into a foam mold and foaming and curing the foam composition;
After detaching the molded body from the foam mold, putting in a dryer at 50 ℃ drying step for 10 to 30 minutes comprising the step of manufacturing a polishing pad.
첨가 및 혼합하는 단계는 폴리올, 무기입자, 발포제를 혼합하여 제1혼합물을 제조하고,
이소시아네이트, 무기입자를 혼합하여 제2혼합물을 제조한 뒤,
상기 제1혼합물, 제2혼합물 및 가교제, 촉매, 정포제, 셀 연통제를 첨가하여 혼합하는 것임을 특징으로 하는 우레탄 폼 연마패드의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Adding and mixing step is to mix the polyol, inorganic particles, blowing agent to prepare a first mixture,
Isocyanate and inorganic particles are mixed to prepare a second mixture,
Method for producing a urethane foam polishing pad, characterized in that for mixing by adding the first mixture, the second mixture and the crosslinking agent, catalyst, foam stabilizer, cell communication agent.
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| KR1020110032543A KR101255523B1 (en) | 2011-04-08 | 2011-04-08 | Urethane form polishing pad and method of manufacturing the same |
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|---|---|---|---|---|
| KR102435240B1 (en) | 2021-03-09 | 2022-08-24 | 엘피티 주식회사 | A polishing sponge dedicated to polishing the surface of thin-walled glass with folding function |
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- 2011-04-08 KR KR1020110032543A patent/KR101255523B1/en not_active IP Right Cessation
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