KR102428562B1 - pH measuring device with pH sensor cleaning and calibration system - Google Patents

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KR102428562B1
KR102428562B1 KR1020220040053A KR20220040053A KR102428562B1 KR 102428562 B1 KR102428562 B1 KR 102428562B1 KR 1020220040053 A KR1020220040053 A KR 1020220040053A KR 20220040053 A KR20220040053 A KR 20220040053A KR 102428562 B1 KR102428562 B1 KR 102428562B1
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Abstract

Provided is a pH measuring device with a pH sensor cleaning and calibration system, wherein a sensor unit (100) of a pH sensor device according to the present invention comprises: a chamber (200) which can clean contaminants of a pH detection unit (110) and can perform calibration; and a moving device (300) which can move the pH detection unit (110) in and out of the chamber (200). The pH detection unit (110) may be moved from the outside of the chamber (200) to the inside of the chamber (200) by means of the moving device (300) to clean the contaminants of the pH detection unit (110) by using a cleaning solution and pressurized air. The pH measuring device further comprises: a spray cleaning unit (210) which is provided at the lower side of the chamber (200) to spray the compressed air and the cleaning solution to the pH detection unit (110); and a cleaning solution cleaning unit (220) which is provided at the upper side of the chamber (200) to clean the pH detection unit (110) which is cleaned in the spray cleaning unit (210) by means of the cleaning solution. The pH detection unit (110) is sequentially moved from the outside of the chamber (200) to the spray cleaning unit (210) and the cleaning solution cleaning unit (220) by means of the moving device (300). Therefore, the pH sensor may be cleaned and calibrated.

Description

pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치{ pH measuring device with pH sensor cleaning and calibration system } pH measuring device with pH sensor cleaning and calibration system

본 발명은 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 pH 센서의 표면에 부착하는 오염물질을 제거하기 위하여,The present invention relates to a pH measuring device having a pH sensor cleaning and calibration system, and more particularly, in order to remove contaminants adhering to the surface of the pH sensor,

pH 센서가 세척쳄버 내부로 인입되기 전에 세정액과 가압공기를 이용하여 1차 세척하고, 1차 세척된 pH 센서가 세척쳄버 내부로 인입되면, 쳄버 내부에서 세정액이 와류에 의하여 세척되고, 세척된 pH 센서를 교정할 수 있는 교정 시스템을 구비한 pH 센서 장치에 관한 것이다Before the pH sensor is introduced into the washing chamber, it is first washed using a cleaning solution and pressurized air. It relates to a pH sensor device having a calibration system capable of calibrating the sensor.

일반적으로, 화학, 반도체, 환경, 의약 등 여러 분야에서 pH의 측정은 기초적인 분석항목에 속하며, 이를 측정하기 위한 pH 센서가 활용되고 있다.In general, measurement of pH in various fields such as chemistry, semiconductor, environment, and medicine is a basic analysis item, and a pH sensor for measuring it is used.

pH를 측정하기 위해서는 pH센서가 반응담체에 노출되어야만 한다. 따라서 pH 센서의 표면에는 반응담체에 의해 오염물질이 부착하게 된다. pH 센서의 표면에 부착된 오염물질, 즉, pH센서의 표면 오염에 따라 pH 센서의 오작동 및 비활성 문제가 발생하여 주기적인 세척 및 센서의 교체가 필요하다. 더욱이 pH 센서의 표면 오염은 시간이 경과할수록 점점 더 고착화되어 제거하기 어렵다는 문제가 있다.In order to measure the pH, the pH sensor must be exposed to the reaction carrier. Therefore, contaminants are attached to the surface of the pH sensor by the reaction carrier. Depending on the contaminants attached to the surface of the pH sensor, that is, the surface contamination of the pH sensor, malfunctions and inactivation problems of the pH sensor occur, requiring periodic cleaning and replacement of the sensor. Moreover, the surface contamination of the pH sensor has a problem that it is difficult to remove because it becomes more and more fixed as time goes by.

특히 하수 및 폐수처리시설에서는 pH 센서가 사용되는 환경이 가혹하여 pH 센서의 오염에 따른 비활성정도가 높으며 이를 해결하고자 현장에서 다양한 방법이 시도되었다.In particular, in sewage and wastewater treatment facilities, the environment in which the pH sensor is used is harsh, and the degree of inactivity due to contamination of the pH sensor is high, and various methods have been tried in the field to solve this problem.

오염물질을 제거하는 방법은 pH 센서 하부 측에 고압의 공기와 황산용액을 분사시키고 브러시로 자동 세척하는 방식이다. 이러한 방식은 세척효율이 떨어지는 것뿐만 아니라, 오염물질을 녹이기 위해 황산 분사시 pH센서의 정확도가 떨어 져 즉시 교정을 해야 하는 문제점이 있다. 또한, 센서 하부 측으로만 고압의 공기와 황산용액을 분사시키고 자동세척하기 때문에 pH 센서의 본체에 오염물질이 지속적으로 고착화되는 문제가 있다.The method to remove contaminants is to spray high-pressure air and sulfuric acid solution on the lower side of the pH sensor and automatically clean it with a brush. This method has a problem that not only the cleaning efficiency is lowered, but also the accuracy of the pH sensor when spraying sulfuric acid to dissolve contaminants is lowered, so that it must be corrected immediately. In addition, since high-pressure air and sulfuric acid solution are sprayed only to the lower side of the sensor and automatically cleaned, there is a problem in that contaminants are continuously fixed to the body of the pH sensor.

이러한 문제점을 개선하기 위하여 초음파를 센서하부에 부착하여 오염물질을 제거하는 방법이다. 초기에는 오염물질의 부착이 감소되기는 하나 시간이 지날수록 표면부에 오염물질이 고착화되며, 센서하부에서 멀어질수록 오염물질의 제거가 어렵다는 또 다른 문제점이 있다.In order to improve this problem, it is a method of removing contaminants by attaching ultrasonic waves to the lower part of the sensor. Although the adhesion of contaminants is reduced in the beginning, there is another problem that contaminants are fixed to the surface as time passes, and it is difficult to remove contaminants as the distance from the lower part of the sensor is increased.

따라서 이러한 종래의 방안들을 개선하고, 나아가 자동으로 pH 센서를 세척할 뿐만 아니라, 교정도 할 수 있는 새로운 방안이 필요한 실정이다.Therefore, there is a need for a new method capable of improving these conventional methods and further automatically cleaning the pH sensor as well as calibrating it.

한국 등록특허공보 제10-2248985호Korean Patent Publication No. 10-2248985 한국 공개특허공보 제10-2021-0014352호Korean Patent Publication No. 10-2021-0014352

따라서 본 발명은 전술한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 하수 및 폐수처리시설, 환경, 의약, 반도체시설 등에 사용되는 pH 센서의 표면에 오염물질이 고착화되기 전에 주기적으로 pH 센서의 표면을 세정할 수 있으며, 나아가 세척된 pH 센서를 교정할 수 있는 교정 시스템을 제공하는 것에 있다.Therefore, the present invention has been devised to solve the problems of the prior art as described above, and periodically before contaminants are fixed on the surface of the pH sensor used in sewage and wastewater treatment facilities, the environment, medicine, semiconductor facilities, etc. It is possible to clean the surface of the and further to provide a calibration system capable of calibrating the cleaned pH sensor.

한편, 본 발명의 명시되지 않은 또 다른 목적들은 하기의 상세한 설명 및 그 효과로부터 용이하게 추론할 수 있는 범위 내에서 추가적으로 고려될 것이다.On the other hand, other objects not specified in the present invention will be further considered within the range that can be easily inferred from the following detailed description and effects thereof.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 pH 센서 장치의 센서 부(100)는 pH 감지부(110)의 오염물질을 세척하고, 교정할 수 있는 쳄버(chamber;200)와, 상기 쳄버(200) 내외부로 상기 pH 감지부(110)를 이동할 수 있는 이동장치(300)를 구비하고,The sensor unit 100 of the pH sensor device of the present invention for achieving the above object includes a chamber 200 capable of cleaning and correcting contaminants of the pH sensing unit 110, and the chamber 200. A moving device 300 capable of moving the pH sensing unit 110 in and out is provided,

상기 이동장치(300)로 상기 pH 감지부(110)가 쳄버(chamber;200) 외측에서 내측으로 이동하면서 세정액과 가압공기를 이용하여 오염물질을 세척할 수 있도록 이루어진 것을 특징으로 하는 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치로 한다.The pH sensor cleaning and the cleaning and the A pH measuring device equipped with a calibration system shall be used.

이를 더욱 상세하게 설명하면, 상기 쳄버(chamber;200)는, 하측에 상기 pH 감지부(110)에 압축공기와 세정액을 동시에 분사하는 분사세척부(210)와, 상측에는 상기 분사세척부(210)에서 세척된 상기 pH 감지부(110)를 세정액으로 2차 세척하는 세정액세척부(220)를 구비하고, 상기 pH 감지부(110)는 상기 이동장치(300)에 의하여 쳄버(chamber;200)의 외측에서 분사세척부(210)와 세정액세척부(220)를 순차적으로 이동한다. To explain this in more detail, the chamber 200 includes a spray cleaning unit 210 that simultaneously sprays compressed air and a cleaning liquid to the pH sensing unit 110 on the lower side, and the spray cleaning unit 210 on the upper side ) and a cleaning solution washing unit 220 for secondarily washing the pH sensing unit 110 with a washing solution, and the pH sensing unit 110 is a chamber 200 by the moving device 300 . The spray washing unit 210 and the washing liquid washing unit 220 are sequentially moved from the outside.

또한, 상기 쳄버(chamber;200)는 원통형상의 쳄버외통(230) 중심에 원주 형상의 상기 pH 감지부(110)의 센서 가이드(120)가 삽입되고, 상기 쳄버외통(230)의 내측에는 센서 가이드(120)의 외주면(130)에 일정크기의 공간부(240)가 구비된 쳄버내통(250)과, 상기 쳄버내통(250)의 상부 및 하부에는 상기 쳄버외통(230)의 내측과 센서 가이드(120)의 외주면(130) 사이에서 누설을 방지하는 오링이 삽입된 상부 오링부(310) 및 하부 오링부(320)와, 상기 하부 오링부(320)의 하측에는 상측의 직경보다 하측의 직경이 크게 형성되어 경사면(260)을 가지는 원추형으로 이루어진 분사세척부(210)로 이루어진다.In addition, the sensor guide 120 of the pH sensing unit 110 of the cylindrical shape is inserted into the center of the chamber outer cylinder 230 in the chamber 200, and the sensor guide is inside the chamber outer cylinder 230. A chamber inner tube 250 having a space portion 240 of a certain size on the outer peripheral surface 130 of 120, and the upper and lower portions of the chamber inner tube 250, the inner side of the chamber outer tube 230 and a sensor guide ( The upper O-ring part 310 and the lower O-ring part 320 into which an O-ring for preventing leakage is inserted between the outer circumferential surface 130 of 120 and the lower side of the lower O-ring part 320 have a lower diameter than the upper diameter. It is formed large and consists of a spray cleaning unit 210 made of a conical shape having an inclined surface (260).

그리고 상기 쳄버내통(250)의 내측에서 나선형의 세정액 이동홈(270)이 형성되되, 상기 세정액 이동홈(270)에서 센서 가이드(120)의 외주면(130)과 맞닿는 부분에는 세정액 분사구(280)가 구비되어 세정액이 상측으로 이동되면서 와류가 이루어질 수 있도록 형성된다.And a spiral cleaning liquid moving groove 270 is formed inside the chamber inner tube 250, and in the cleaning liquid moving groove 270, the cleaning liquid injection hole 280 is in contact with the outer peripheral surface 130 of the sensor guide 120. It is provided so that a vortex can be formed while the cleaning liquid is moved upward.

또한, 상기 분사세척부(210)의 경사면(260)에는 일정한 간격으로 다수개의 분사구(290)가 구비되어, 상기 다수개의 분사구(290)를 통하여 압축공기와 세정액이 분사되어 상기 pH 감지부(110)의 오염물질을 세척할 수 있도록 형성된다.In addition, a plurality of injection holes 290 are provided on the inclined surface 260 of the spray cleaning unit 210 at regular intervals, and compressed air and cleaning liquid are sprayed through the plurality of injection holes 290 to the pH sensing unit 110 . ) is formed to wash contaminants of

또한, 상기 pH 감지부(110)가 구비된 센서 가이드(120)의 단부에는 상기 분사세척부(210)의 경사면(260)과 맞닿아 밀착될 수 있도록 상측의 직경보다 하측의 직경이 크게 형성되어 경사면(140)을 가지는 원추형 형상으로 이루어져 상기 pH 감지부(110)가 상기 쳄버내통(250) 내측으로 이동하면 쳄버내통(250)이 밀폐될 수 있도록 형성된다.In addition, at the end of the sensor guide 120 provided with the pH sensing unit 110, the lower diameter is formed larger than the upper diameter so as to be in close contact with the inclined surface 260 of the spray washing unit 210. It is formed in a conical shape having an inclined surface 140 so that when the pH sensing unit 110 moves to the inside of the chamber inner tube 250, the chamber inner tube 250 can be sealed.

상기 pH 감지부(110)는 상기 쳄버내통(250) 내측에서 세정액세척이 이루어진 후에는 상기 쳄버내통(250) 내측으로 교정액을 유입하여 교정할 수 있도록 이루어진다.The pH sensing unit 110 is configured to be calibrated by introducing a calibration solution into the chamber inner tube 250 after the cleaning liquid is washed inside the chamber inner tube 250 .

또한, 상기 pH 측정장치에는 제어부(400)를 구비하고, 상기 제어부(400)는 외부 제어신호에 의하여 상기 pH 감지부(110)를 상기 쳄버내통(250) 외측으로 유출하여 pH를 측정하는 제1공정과, 상기 제1공정 후에 상기 pH 감지부(110)가 이동하여 분사세척부(210)의 경사면(260)과 일정거리로 유지 후에 압축공기와 세정액이 분사되어 상기 pH 감지부(110)의 오염물질을 세척하는 제2공정과, 상기 제2공정 후에 상기 pH 감지부(110)가 상기 쳄버내통(250) 내측으로 이동한 후 세정액 세척하는 제3공정과, 상기 제3공정 후에 쳄버내통(250) 내측으로 교정액을 유입하여 교정하는 제4공정이 순차적으로 이루어질 수 있도록 구비한다.In addition, the pH measuring device includes a control unit 400, and the control unit 400 flows out the pH sensing unit 110 to the outside of the chamber inner tube 250 according to an external control signal to measure the pH. After the process and the first process, the pH sensing unit 110 is moved and maintained at a predetermined distance from the inclined surface 260 of the spray washing unit 210, and then compressed air and a cleaning solution are sprayed into the pH sensing unit 110. A second process of washing contaminants, a third process of washing the cleaning liquid after the pH sensing unit 110 moves to the inside of the chamber inner tube 250 after the second process, and the third process after the third process 250) It is provided so that the fourth process of calibrating by introducing the calibrating solution to the inside can be sequentially performed.

또한, 상기 제4공정 후에는 쳄버내통(250) 내측으로 가압공기를 유입하여 교정액을 제거하는 제5공정이 추가될 수 있다.In addition, after the fourth process, a fifth process of removing the calibration solution by introducing pressurized air into the chamber inner tube 250 may be added.

본 발명의 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치는 하수 및 폐수처리시설, 환경, 의약, 반도체시설 등에 사용되는 pH 센서의 표면에 오염물질이 고착화되기 전에 압축공기와 세정액을 분사하여 세척하는 분사세척과, pH 센서의 표면을 세정액에 침지하여 세정하는 침지세정을 통하여 pH 센서의 표면을 세정할 수 있으며, 나아가 세척된 pH 센서를 교정함으로써 pH 센서 장치의 측정 신뢰성을 향상시킬 수 있다는 장점이 있다.The pH measuring device having a pH sensor cleaning and calibration system of the present invention is cleaned by spraying compressed air and a cleaning solution before contaminants are fixed on the surface of the pH sensor used in sewage and wastewater treatment facilities, environment, medicine, semiconductor facilities, etc. The advantage of being able to clean the surface of the pH sensor through spray cleaning and immersion cleaning in which the surface of the pH sensor is immersed in a cleaning solution, and furthermore, to improve the measurement reliability of the pH sensor device by calibrating the cleaned pH sensor There is this.

또한, 발명의 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치는 pH 센서를 사용하지 않을 때에는 pH 감지부(110)를 쳄버(chamber;200) 내측으로 이동하여 밀폐된 상태로 보관할 수 있어 내구성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.In addition, the pH measuring device having the pH sensor cleaning and calibration system of the present invention can be stored in a sealed state by moving the pH sensor 110 to the inside of the chamber 200 when the pH sensor is not used, thereby improving durability. There are benefits that can be improved.

그리고 본 발명의 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치는 자동화할 수 있는 제어부를 구비하여 분사세척과, 침지세정과 세척된 pH 센서를 교정하는 교정과정을 자동화하여 원가절감과 인건비를 절감할 수 있는 장점이 있다.And the pH measuring device having the pH sensor cleaning and calibration system of the present invention includes an automated control unit to automate the calibration process of spray cleaning, immersion cleaning and calibrating the washed pH sensor, thereby reducing cost and labor costs. There are advantages to doing.

도 1은 본 발명에 따른 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치를 설명하기 위한 개략적이 단면도이다.
도 2는 본 발명의 압축공기와 세정액을 동시에 분사하는 분사세척부의 개략적이 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 pH 감지부를 세척하고, 교정할 수 있는 쳄버(chamber;200)의 수직단면도이다
도 4는 본 발명에 따른 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치의 구성도이다.
1 is a schematic cross-sectional view for explaining a pH measuring device having a pH sensor cleaning and calibration system according to the present invention.
Figure 2 is a schematic cross-sectional view of the spray cleaning unit for spraying the compressed air and the cleaning liquid at the same time of the present invention.
3 is a vertical sectional view of a chamber 200 capable of cleaning and calibrating the pH sensor according to the present invention.
4 is a configuration diagram of a pH measuring device having a pH sensor cleaning and calibration system according to the present invention.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치에 대해 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, a pH measuring device having a pH sensor cleaning and calibration system according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

하기의 설명에서는 본 발명의 실시예에 따른 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치를 이해하는데 필요한 부분만이 설명되며 그 이외 부분의 설명은 본 발명의 요지를 흩뜨리지 않도록 생략될 수 있다.In the following description, only the parts necessary for understanding the pH measuring device having the pH sensor cleaning and calibration system according to the embodiment of the present invention will be described, and the description of other parts may be omitted so as not to obscure the gist of the present invention. .

또한, 이하에서 설명되는 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 본 발명을 가장 적절하게 표현할 수 있도록 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.In addition, the terms or words used in the present specification and claims described below should not be construed as being limited to conventional or dictionary meanings, and meanings consistent with the technical spirit of the present invention so that the present invention can be most appropriately expressed. and should be interpreted as a concept.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서에 기재된 "…부", "…기" 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미한다. Throughout the specification, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated. In addition, terms such as "... unit" and "... group" described in the specification mean a unit for processing at least one function or operation.

여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 실시예의 구성에 대해서 설명하기로 한다.In various embodiments, components having the same configuration will be described by using the same reference numerals to representatively describe the configuration of the embodiment.

도 1에 본 발명에 따른 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치를 설명하기 위한 개략적이 단면도가 도시되어 있다.1 is a schematic cross-sectional view for explaining a pH measuring device having a pH sensor cleaning and calibration system according to the present invention.

발명에 따른 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치는 pH를 측정하기 위한 pH센서 pH 감지부(110)를 포함하는 pH 센서 장치의 센서부(100)와, A pH measuring device having a pH sensor cleaning and calibration system according to the present invention comprises: a sensor unit 100 of a pH sensor device including a pH sensor pH sensing unit 110 for measuring pH;

상기 pH 감지부(110)의 오염물질을 세척하고, 교정할 수 있는 쳄버(chamber;200)와, 상기 pH 감지부(110)를 상기 쳄버(200) 내외부로 이동할 수 있는 이동장치(300)를 구비하는 있다.A chamber 200 capable of cleaning and correcting contaminants of the pH sensing unit 110, and a moving device 300 capable of moving the pH sensing unit 110 in and out of the chamber 200 There is provision.

상기 이동장치(300)는 통상의 에어실린더등으로 제어신호에 의하여 일정한 거리를 왕복할 수 있는 구성으로 한다.The mobile device 300 has a configuration capable of reciprocating a predetermined distance by a control signal using a conventional air cylinder or the like.

이와 같이 고정된 쳄버(chamber;200) 내부에서 상기 이동장치(300)에 의하여 상기 pH 감지부(110)가 쳄버(chamber;200) 외측으로 돌출된 상태로 pH를 측정하며,The pH is measured in a state in which the pH sensing unit 110 protrudes to the outside of the chamber 200 by the moving device 300 inside the fixed chamber 200,

상기 pH 측정에 의하여 상기 pH 감지부(110)가 오염되거나, 휴지 상태로 유지하기 위해서는 상기 pH 감지부(110)가 쳄버(chamber;200) 외측에서 내측으로 이동하게 되며,The pH sensing unit 110 is contaminated by the pH measurement, or in order to keep it in a dormant state, the pH sensing unit 110 moves from the outside of the chamber 200 to the inside,

상기 pH 감지부(110)가 쳄버(chamber;200) 외측에서 내측으로 이동하면서 세정액과 가압공기를 이용하여 오염물질을 세척하는 과정과, 세척된 pH센서를 교정하고, 이후 상기 pH 감지부(110)를 즉시 사용 가능한 상태로 휴지(休止)할 수 있도록 이루어진 것을 특징으로 하는 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치로 한다.A process of washing contaminants using a cleaning solution and pressurized air while the pH sensing unit 110 moves from the outside to the inside of the chamber 200, calibrating the washed pH sensor, and then the pH sensing unit 110 ) as a pH measuring device equipped with a pH sensor cleaning and calibration system, characterized in that it can be rested in a ready-to-use state.

이를 더욱 상세하게 설명하면, 위치의 표현은 도면을 기준으로 설명하고,To explain this in more detail, the expression of the position is described with reference to the drawings,

도 2는 본 발명의 압축공기와 세정액을 동시에 분사하는 분사세척부의 개략적이 단면도이고, 도 3은 본 발명에 따른 pH 감지부를 세척하고, 교정할 수 있는 쳄버(chamber;200)의 수직단면도이며, 도 4는 본 발명에 따른 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치의 작동 구성도를 참고하여 설명한다.2 is a schematic cross-sectional view of a spray cleaning unit that simultaneously sprays compressed air and a cleaning solution of the present invention, and FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of a chamber 200 capable of cleaning and correcting the pH sensor according to the present invention, 4 is a description with reference to the operation configuration of the pH measuring device having a pH sensor cleaning and calibration system according to the present invention.

상기 쳄버(chamber;200)는, 하측에 상기 pH 감지부(110)에 압축공기와 세정액을 동시에 분사하는 분사세척부(210)와, 상측에는 상기 분사세척부(210)에서 세척된 상기 pH 감지부(110)를 세정액으로 2차 세척하는 세정액세척부(220)를 구비한다.The chamber (chamber; 200), the lower side of the spray cleaning unit 210 that simultaneously sprays compressed air and the cleaning liquid to the pH sensing unit 110, and the upper side, the pH sensing unit washed by the spray washing unit 210 A cleaning liquid cleaning unit 220 for secondarily cleaning the unit 110 with a cleaning liquid is provided.

또한, 상기 pH 감지부(110)는 상기 이동장치(300)에 의하여 쳄버(chamber;200)의 하부에서 상측으로 이동하면서 분사세척부(210)와 세정액세척부(220)로 순차적으로 이동한다. In addition, the pH sensing unit 110 sequentially moves to the spray washing unit 210 and the washing liquid washing unit 220 while moving from the lower part of the chamber 200 to the upper side by the moving device 300 .

또한, 상기 쳄버(chamber;200)는 원통형상의 쳄버외통(230) 중심에 원주 형상의 상기 pH 감지부(110)의 센서 가이드(120)가 삽입되고, 상기 센서 가이드(120)의 일단부에 상기 이동장치(300)가 부착되어, 센서 가이드(120)의 이동에 의하여 pH 감지부(110)도 이동하게 된다.In addition, the chamber (chamber; 200) is a cylindrical chamber outer cylinder 230, the sensor guide 120 of the cylindrical shape of the pH sensor 110 is inserted into the center, and the sensor guide 120 at one end of the The moving device 300 is attached, and the pH sensing unit 110 also moves by the movement of the sensor guide 120 .

상기 쳄버외통(230)의 내측에는 센서 가이드(120)의 외주면(130)에 일정크기의 공간부(240)가 구비된 쳄버내통(250)이 구비된다.An inner chamber inner tube 250 having a space portion 240 of a predetermined size is provided on the outer peripheral surface 130 of the sensor guide 120 inside the chamber outer tube 230 .

즉, 쳄버내통(250)의 내경은 센서 가이드(120)의 외경보다 크게 형성되어 센서 가이드(120)의 외주면(130)과 쳄버내통(250)의 내경면 사이에 공간부(240)가 구비되고, 오염물질을 세척하는 과정과, 세척된 pH센서를 교정하고, 이후 상기 pH 감지부(110)를 즉시 사용 가능한 휴지(休止)상태에서는 상기 pH 감지부(110)가 쳄버내통(250)의 공간부(240)에 위치하게 된다.That is, the inner diameter of the chamber inner tube 250 is formed larger than the outer diameter of the sensor guide 120, and a space portion 240 is provided between the outer peripheral surface 130 of the sensor guide 120 and the inner diameter surface of the chamber inner tube 250, and , the process of washing contaminants, calibrating the washed pH sensor, and then in a resting state in which the pH sensing unit 110 can be used immediately, the pH sensing unit 110 is the space of the chamber inner tube 250 It is located in the unit 240 .

이와 같이 쳄버내통(250)에 센서 가이드(120)가 왕복 이동함에 따라 상기 쳄버내통(250)의 상부 및 하부에는 상기 쳄버외통(230)의 내측과 센서 가이드(120)의 외주면(130) 사이에서 누설을 방지하는 오링이 삽입된 상부 오링부(310) 및 하부 오링부(320)와, 상기 하부 오링부(320)의 하측에는 상측의 직경보다 하측의 직경이 크게 형성되어 경사면(260)을 가지는 원추형으로 이루어진 분사세척부(210)로 이루어진다.As described above, as the sensor guide 120 reciprocates in the chamber inner tube 250, the upper and lower portions of the chamber inner tube 250 are located between the inner side of the chamber outer tube 230 and the outer peripheral surface 130 of the sensor guide 120. The upper O-ring part 310 and the lower O-ring part 320 into which the O-ring to prevent leakage is inserted, and the lower side of the lower O-ring part 320 is formed with a lower diameter larger than the upper diameter, and has an inclined surface 260. It consists of a spray cleaning unit 210 made of a cone.

또한, 상기 pH 감지부(110)가 구비된 센서 가이드(120)의 하측 단부에는 상기 분사세척부(210)의 경사면(260)과 맞닿아 밀착될 수 있도록 상측의 직경보다 하측의 직경이 크게 형성되어 경사면(140)을 가지는 원추형 형상으로 이루어져 상기 pH 감지부(110)가 상기 쳄버내통(250) 내측으로 이동하면 쳄버내통(250)의 경사면(260)과 센서 가이드(120)의 경사면(140)이 맞닿아 면접촉되게 되고, 접촉면에 의하여 밀폐될 수 있도록 형성된다.In addition, the lower end of the sensor guide 120 provided with the pH sensing unit 110 has a lower diameter than the upper diameter so as to be in close contact with the inclined surface 260 of the spray cleaning unit 210 . and has a conical shape having an inclined surface 140 and when the pH sensing unit 110 moves to the inside of the chamber inner tube 250, the inclined surface 260 of the chamber inner tube 250 and the inclined surface 140 of the sensor guide 120 The abutment is made to be in surface contact, and is formed to be sealed by the contact surface.

이와 같이 센서 가이드(120) 단부에 형성된 센서 가이드(120)의 경사면(140)이 이동장치(300)에 의하여 쳄버내통(250)의 경사면(260)측으로 이동하게 되면 쳄버내통(250)의 경사면(260)과 센서 가이드(120)의 경사면(140)이 맞닿아 면접촉되는 밸브가 형성되어 쳄버내통(250)은 밀폐된다.As such, when the inclined surface 140 of the sensor guide 120 formed at the end of the sensor guide 120 is moved toward the inclined surface 260 of the chamber inner tube 250 by the moving device 300, the inclined surface of the chamber inner tube 250 ( 260) and the inclined surface 140 of the sensor guide 120 are in contact with each other to form a valve that makes surface contact, so that the chamber inner cylinder 250 is sealed.

또한, 상기 쳄버(chamber;200)에서 이루어지는 분사세척부(210)와 세정액세척부(220)에 대하여 살펴보면, In addition, looking at the spray washing unit 210 and the washing liquid washing unit 220 made in the chamber 200,

상기 세정액세척부(220)는 상기 쳄버내통(250)의 내측에서 나선형의 세정액 이동홈(270)이 형성되되, 상기 세정액 이동홈(270)에서 센서 가이드(120)의 외주면(130)과 맞닿는 부분에는 세정액 분사구(280)가 구비되어 세정액이 상측으로 이동되면서 와류가 이루어질 수 있도록 형성된다.The cleaning liquid cleaning unit 220 has a spiral cleaning liquid moving groove 270 formed inside the chamber inner cylinder 250, and the portion in contact with the outer peripheral surface 130 of the sensor guide 120 in the cleaning liquid moving groove 270 The cleaning liquid injection port 280 is provided in the cleaning liquid is formed so that a vortex can be formed as the cleaning liquid moves upward.

즉, 상기 쳄버(chamber;200) 외측에서 공기, 세정액, 교정액을 공급할 수 있도록 제2 공급구(420)가 구비되어 쳄버내통(250)의 나선형의 세정액 이동홈(270)의 하측에 연결되어, 세정액 이동홈(270)을 따라 상측으로 이동하면서 세정액 분사구(280)를 통하여 센서 가이드(120) 내측의 상기 pH 감지부(110)에 분사되고, 분사된 세정액이 상측으로 이동하면서 와류가 형성되어 오염물질을 세척하고, 세척된 세정액은 세정액 이동홈(270)의 일측 단부에 연결된 배출구(430)를 통하여 외부로 배출된다.That is, the second supply port 420 is provided so as to supply air, cleaning solution, and calibration solution from the outside of the chamber 200 and is connected to the lower side of the spiral cleaning solution moving groove 270 of the chamber inner tube 250 . , while moving upward along the cleaning liquid moving groove 270, it is sprayed to the pH sensing unit 110 inside the sensor guide 120 through the cleaning liquid injection hole 280, and as the sprayed cleaning liquid moves upward, a vortex is formed. The contaminants are washed, and the washed cleaning solution is discharged to the outside through the outlet 430 connected to one end of the cleaning solution moving groove 270 .

또한, 세정액으로 세척된 상기 pH 감지부(110)는 상기 쳄버(chamber;200) 내부로 온수로 재 세정한 후에 교정액을 순차적으로 공급되여 교정하게 된다.In addition, the pH sensing unit 110 washed with the cleaning solution is calibrated by sequentially supplying the calibration solution after being re-washed with hot water into the chamber 200 .

상기 온수로 재 세정하는 과정은 생략될 수 있다.The process of re-cleaning with the hot water may be omitted.

또한, 필요에 따라서는 상기 교정 후에 공기를 공급하여 pH 감지부(110)를 건조 후에 휴지(休止)상태로도 유지할 수 있다.In addition, if necessary, after the calibration, air may be supplied to maintain the pH sensor 110 in a resting state after drying.

또한 필요에 따라서는 상기 공기, 온수, 세척액, 교정액의 공급순서를 바꿀 수 있고, 공급횟수를 조정하거나 균등물로 교체할 수 있다.In addition, if necessary, the supply order of the air, hot water, cleaning solution, and calibration solution may be changed, and the supply frequency may be adjusted or replaced with an equivalent.

또한, 분사세척부(210)에 대하여 살펴보면, 상기 쳄버내통(250) 하측의 경사면(260)에는 일정한 간격으로 다수개의 분사구(290)가 구비되어, 상기 분사구(290)는 외부에서 공급되는 제1 공급구(410)로 압축공기와 세정액인 온수가 공급된다.In addition, looking at the spray cleaning unit 210, a plurality of injection holes 290 are provided at regular intervals on the inclined surface 260 of the lower side of the chamber inner tube 250, and the injection holes 290 are first supplied from the outside. Compressed air and hot water, which is a cleaning liquid, are supplied to the supply port 410 .

이와 같이 제1 공급구(410)와 연결된 다수개의 분사구(290)를 통하여 압축공기와 세정액이 분사되도록 형성되어 있다.As described above, the compressed air and the cleaning liquid are sprayed through the plurality of injection ports 290 connected to the first supply port 410 .

상기 pH 감지부(110)가 구비된 센서 가이드(120)의 단부에는 상기 분사세척부(210)의 경사면(260)과 대응되도록 상측의 직경보다 하측의 직경이 크게 형성되어 경사면(140)을 가지는 원추형 형상으로 이루어져 다수개의 분사구(290)를 통해 분사되는 압축공기와 세정액은 센서 가이드(120)의 경사면(140)과 pH 감지부(110)의 오염물질을 세척한다. At the end of the sensor guide 120 provided with the pH sensing unit 110 , the lower diameter is formed larger than the upper diameter to correspond to the inclined surface 260 of the spray washing unit 210 , and the inclined surface 140 is provided. Compressed air and a cleaning liquid, which are formed in a conical shape and injected through a plurality of injection holes 290 , wash the contaminants of the inclined surface 140 of the sensor guide 120 and the pH sensor 110 .

이와 같이 센서 가이드(120)의 경사면(140)과 pH 감지부(110)의 오염물질을 세척한 후에 pH 감지부(110)가 구비된 센서 가이드(120)의 경사면(140)은 쳄버내통(250) 내측으로 이동하면서 쳄버내통(250)의 경사면(260)과 센서 가이드(120)의 경사면(140)이 맞닿아 면접촉되어 pH 감지부(110)는 쳄버내통(250)에서 외부와 차단되고 밀폐된다. After washing the contaminants of the inclined surface 140 of the sensor guide 120 and the pH sensing unit 110 as described above, the inclined surface 140 of the sensor guide 120 provided with the pH sensing unit 110 is formed in the chamber inner tube (250). ) while moving inward, the inclined surface 260 of the chamber inner tube 250 and the inclined surface 140 of the sensor guide 120 come into surface contact, so that the pH sensor 110 is blocked from the outside in the chamber inner tube 250 and sealed do.

또한, 상기 pH 측정장치에는 제어부(400)를 구비하고, 상기 제어부(400)는 외부 제어신호에 의하여 상기 pH 감지부(110)를 상기 쳄버내통(250) 외측으로 도출되게 하여 pH를 측정하는 제1공정과, In addition, the pH measuring device includes a control unit 400, and the control unit 400 causes the pH sensing unit 110 to come out to the outside of the chamber inner tube 250 by an external control signal to measure the pH. 1 process,

상기 제1공정 후에 상기 pH 감지부(110)가 이동하여 분사세척부(210)의 경사면(260)과 일정거리로 유지 후에 압축공기와 세정액이 분사되어 상기 pH 감지부(110)의 오염물질을 세척하는 제2공정과, 상기 제2공정 후에 상기 pH 감지부(110)가 상기 쳄버내통(250) 내측으로 이동한 후 세정액 세척하는 제3공정과, 상기 제3공정 후에 쳄버내통(250) 내측으로 교정액을 유입하여 교정하는 제4공정이 순차적으로 이루어질 수 있도록 구비한다.After the first process, the pH sensing unit 110 moves and maintains a certain distance from the inclined surface 260 of the spray washing unit 210, and then compressed air and cleaning liquid are sprayed to remove the contaminants of the pH sensing unit 110. A second process of washing, a third process of washing the cleaning solution after the pH sensing unit 110 moves to the inside of the chamber inner tube 250 after the second process, and the inner chamber of the chamber inner tube 250 after the third process It is provided so that the fourth process of calibrating by introducing the calibrating solution can be sequentially performed.

또한, 상기 제4공정 후에는 쳄버내통(250) 내측으로 가압공기를 유입하여 교정액을 제거하는 제5공정이 추가될 수 있다. In addition, after the fourth process, a fifth process of removing the calibration solution by introducing pressurized air into the chamber inner tube 250 may be added.

도4에는 본 발명에 따른 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치의 센서부와 외부의 구성이 연결된 구성도가 구비되어 있다.4 is a configuration diagram in which the sensor unit and the external configuration of the pH measuring device having the pH sensor cleaning and calibration system according to the present invention are connected.

이동장치(300)인 에어실린더에는 제어신호에 의하여 일정한 거리를 이동할 수 있도록 가압공기가 공급된다.Pressurized air is supplied to the air cylinder which is the moving device 300 so as to move a predetermined distance according to a control signal.

pH 감지부(110)는 외부의 트랜스미터와 연결되고, 쳄버(chamber;200)에 연결된 제2 공급구(420)로는 공기, 세정액, 교정액을 공급할 수 있도록 형성된다.The pH sensor 110 is connected to an external transmitter, and the second supply port 420 connected to the chamber 200 is formed to supply air, a cleaning solution, and a calibration solution.

또한, 제1 공급구(410)는 쳄버내통(250) 하측의 경사면(260)에는 일정한 간격으로 다수개의 분사구(290)를 통하여 압축공기와 세정액인 온수가 공급된다.In addition, the first supply port 410 is supplied with compressed air and hot water as a cleaning liquid through a plurality of injection holes 290 at regular intervals on the inclined surface 260 of the lower side of the chamber inner tube 250 .

이상 본 발명을 구체적인 실시 예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.Although the present invention has been described in detail through specific examples, this is for the purpose of describing the present invention in detail, and the present invention is not limited thereto, and by those of ordinary skill in the art within the technical spirit of the present invention. It is clear that the modification or improvement is possible.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 범주에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 명확해질 것이다.All simple modifications and variations of the present invention fall within the scope of the present invention, and the specific protection scope of the present invention will be clarified by the appended claims.

100 : 센서부 110 : pH 감지부
120 : 센서 가이드 130 : 센서 가이드 외주면
140 : 경사면 200 : 쳄버(chamber)
210 : 분사세척부 220: 세정액세척부
230 : 쳄버외통 240 : 공간부
250 : 쳄버내통 260 : 경사면
270 : 세정액 이동홈 280 : 세정액 분사구
290 : 분사구 300 : 이동장치
310 : 상부 오링부 320 : 하부 오링부
410 : 제1 공급구 420 : 제2 공급구
430 : 배출구
100: sensor unit 110: pH sensing unit
120: sensor guide 130: sensor guide outer peripheral surface
140: slope 200: chamber (chamber)
210: spray washing unit 220: washing liquid washing unit
230: chamber outer cylinder 240: space part
250: chamber inner tube 260: slope
270: cleaning liquid moving groove 280: cleaning liquid injection port
290: nozzle 300: moving device
310: upper o-ring part 320: lower o-ring part
410: first supply port 420: second supply port
430: outlet

Claims (5)

pH 센서 장치의 센서부(100)는 pH 감지부(110)의 오염물질을 세척하고, 교정할 수 있는 쳄버(chamber;200)와, 상기 쳄버(200) 내외부로 상기 pH 감지부(110)를 이동할 수 있는 이동장치(300)를 구비하고,
상기 이동장치(300)에 의해 상기 pH 감지부(110)가 쳄버(chamber;200) 외측에서 쳄버(chamber;200) 내부로 이동하면서 세정액과 가압공기를 이용하여 pH 감지부(110)의 오염물질을 세척할 수 있도록 이루어지며,
또한, 상기 쳄버(chamber;200)의 하측에 상기 pH 감지부(110)에 압축공기와 세정액을 분사하는 분사세척부(210)와,
상기 쳄버(chamber;200)의 상측에는 상기 분사세척부(210)에서 세척된 pH 감지부(110)를 세정액으로 세척하는 세정액세척부(220)를 구비하고,
상기 pH 감지부(110)는 상기 이동장치(300)에 의하여 쳄버(200)의 외측에서 분사세척부(210)와 세정액세척부(220)로 순차적으로 이동하며,
상기 쳄버(chamber;200)는
원통형상의 쳄버외통(230) 중심에 원주 형상의 상기 pH 감지부(110)의 센서 가이드(120)가 삽입되고,
상기 쳄버외통(230)의 내측에 센서 가이드(120)의 외주면(130)에 일정크기의 공간부(240)가 구비된 쳄버내통(250)과,
상기 쳄버내통(250)의 상부 및 하부에는 쳄버내통(250) 내측과 센서 가이드(120)의 외주면(130) 사이에서 누설을 방지하는 오링이 삽입된 상부 오링부(310) 및 하부 오링부(320)가 구비되고,
상기 하부 오링부(320)의 하측에는 상측의 직경보다 하측의 직경이 크게 형성되면서 경사면(260)을 가지는 원추형으로 이루어진 분사세척부(210)로 이루어진 것을 특징으로 하는 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치.
The sensor unit 100 of the pH sensor device includes a chamber 200 capable of cleaning and correcting contaminants of the pH sensing unit 110, and the pH sensing unit 110 into and out of the chamber 200. Provided with a movable device 300 that can move,
Contaminants of the pH sensing unit 110 by using the cleaning liquid and pressurized air while the pH sensing unit 110 moves from the outside of the chamber 200 to the inside of the chamber 200 by the moving device 300 It is made to be washed,
In addition, a spray cleaning unit 210 for spraying compressed air and a cleaning solution to the pH sensing unit 110 on the lower side of the chamber 200 and,
A washing liquid washing unit 220 for washing the pH sensing unit 110 washed in the spray washing unit 210 with a washing solution is provided on the upper side of the chamber 200,
The pH sensing unit 110 sequentially moves from the outside of the chamber 200 to the spray washing unit 210 and the washing liquid washing unit 220 by the moving device 300 ,
The chamber (chamber; 200) is
The sensor guide 120 of the pH sensor 110 having a cylindrical shape is inserted into the center of the cylindrical outer cylinder 230,
A chamber inner tube 250 having a space portion 240 of a predetermined size on the outer peripheral surface 130 of the sensor guide 120 inside the chamber outer tube 230,
An upper O-ring portion 310 and a lower O-ring portion 320 into which an O-ring for preventing leakage is inserted between the inner side of the chamber inner tube 250 and the outer peripheral surface 130 of the sensor guide 120 in the upper and lower portions of the chamber inner tube 250 ) is provided,
A pH sensor cleaning and calibration system, characterized in that the lower side of the lower O-ring part 320 is formed with a larger diameter than the upper diameter, and a spray washing part 210 having a conical shape having an inclined surface 260. A pH measuring device.
제1항에 있어서,
상기 쳄버내통(250)의 내측에 나선형의 세정액 이동홈(270)이 형성되되,
상기 세정액 이동홈(270)에 쳄버(200) 외측에서 공기 또는 세정 또는, 교정액을 선택하여 공급할 수 있도록 제2 공급구(420)가 구비되고,
상기 세정액 이동홈(270)에서 센서 가이드(120)의 외주면(130)과 맞닿는 부분에는 세정액 분사구(280)가 구비되어 세정액이 상측으로 이동되면서 와류가 이루어질 수 있도록 형성되고,
세정액 이동홈(270)의 일측 단부에 연결된 배출구(430)를 통하여 외부로 배출되는 것을 특징으로 하는 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치.
According to claim 1,
A spiral cleaning liquid moving groove 270 is formed on the inner side of the chamber inner cylinder 250,
A second supply port 420 is provided in the cleaning solution moving groove 270 to supply air or cleaning or calibration solution from the outside of the chamber 200,
A cleaning liquid injection hole 280 is provided at a portion in contact with the outer peripheral surface 130 of the sensor guide 120 in the cleaning liquid moving groove 270 so that a vortex can be formed while the cleaning liquid moves upward,
A pH measuring device having a pH sensor cleaning and calibration system, characterized in that it is discharged to the outside through an outlet 430 connected to one end of the cleaning liquid moving groove 270.
제1항에 있어서,
상기 분사세척부(210)의 경사면(260)에는 일정한 간격으로 다수 개의 분사구(290)가 구비되어,
상기 다수 개의 분사구(290)를 통하여 압축공기와 세정액이 분사되어 상기 pH 감지부(110)의 오염물질을 세척할 수 있도록 형성된 것을 특징으로 하는 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치.
According to claim 1,
A plurality of injection holes 290 at regular intervals are provided on the inclined surface 260 of the spray cleaning unit 210,
A pH measuring device having a pH sensor cleaning and calibration system, characterized in that it is formed so that compressed air and a cleaning liquid are sprayed through the plurality of injection holes (290) to wash contaminants of the pH sensing unit (110).
제1항에 있어서,
상기 pH 감지부(110)가 구비된 센서 가이드(120)의 단부에는 상기 분사세척부(210)의 경사면(260)과 맞닿아 밀착될 수 있도록 상측의 직경보다 하측의 직경이 크게 형성되어 경사면(140)을 가지는 원추형 형상으로 이루어져 상기 pH 감지부(110)가 상기 쳄버내통(250) 내측으로 이동하면 쳄버내통(250)의 경사면(260)과 센서 가이드(120)의 경사면(140)이 맞닿아 면접촉되어 pH 감지부(110)는 쳄버내통(250)에서 외부와 차단되고 밀폐될 수 있도록 형성된 것을 특징으로 하는 pH센서 세척 및 교정 시스템을 구비한 pH 측정장치.
According to claim 1,
At the end of the sensor guide 120 provided with the pH sensing unit 110, the lower diameter is formed to be larger than the upper diameter so as to be in contact with the inclined surface 260 of the spray washing unit 210 and to be in close contact with the inclined surface ( 140), and when the pH sensing unit 110 moves inside the chamber inner tube 250, the inclined surface 260 of the chamber inner tube 250 and the inclined surface 140 of the sensor guide 120 are in contact. A pH measuring device having a pH sensor cleaning and calibration system, characterized in that the surface contact is made so that the pH sensing unit 110 is formed to be blocked and sealed from the outside in the chamber inner tube (250).
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