KR102426963B1 - Antistatic Sheet for Photomask Storage Case, Method for Preparing the Same, and Method for Recovering Antistatic Property - Google Patents

Antistatic Sheet for Photomask Storage Case, Method for Preparing the Same, and Method for Recovering Antistatic Property Download PDF

Info

Publication number
KR102426963B1
KR102426963B1 KR1020220016071A KR20220016071A KR102426963B1 KR 102426963 B1 KR102426963 B1 KR 102426963B1 KR 1020220016071 A KR1020220016071 A KR 1020220016071A KR 20220016071 A KR20220016071 A KR 20220016071A KR 102426963 B1 KR102426963 B1 KR 102426963B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
antistatic
resin
polyol
present
layer
Prior art date
Application number
KR1020220016071A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
함석헌
박전희
Original Assignee
(주)제이아이테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)제이아이테크 filed Critical (주)제이아이테크
Priority to KR1020220016071A priority Critical patent/KR102426963B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102426963B1 publication Critical patent/KR102426963B1/en
Priority to PCT/KR2022/013805 priority patent/WO2023153573A1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/24Electrically-conducting paints
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/04Carbon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/04Carbon
    • C08K3/041Carbon nanotubes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/04Carbon
    • C08K3/042Graphene or derivatives, e.g. graphene oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C08L101/12Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by physical features, e.g. anisotropy, viscosity or electrical conductivity
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04Polyurethanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/61Additives non-macromolecular inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22Plastics; Metallised plastics
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)

Abstract

The present invention relates to an antistatic sheet capable of exhibiting an excellent antistatic function without deterioration in performance by post-processing after manufacture and a method for manufacturing the same. In addition, the present invention is to improve or restore the antistatic function to an area where the antistatic property is reduced or lost by subsequent processing such as cutting or cutting in the process of processing an antistatic treated article into a product such as a photo mask storage case. The present invention is prepared by applying an adhesive on a polymer substrate or a processed area, and applying a thermosetting antistatic composition containing a carbon-based antistatic agent, a polyol, and a polyisocyanate. The antistatic sheet and method, according to the present invention, can be used for interior and exterior materials or packaging materials of semiconductors or electronic products sensitive to static electricity and contamination, storage cases for photomasks or pellicles, and the like.

Description

포토 마스크 보관 케이스용 대전 방지 시트, 이의 제조 방법, 및 대전 방지 특성의 회복 방법 {Antistatic Sheet for Photomask Storage Case, Method for Preparing the Same, and Method for Recovering Antistatic Property}Antistatic Sheet for Photomask Storage Case, Method for Preparing the Same, and Method for Recovering Antistatic Property}

본 발명은 포토 마스크 보관 케이스용 대전 방지 시트, 이의 제조 방법, 및 대전 방지 특성의 회복 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an antistatic sheet for a photomask storage case, a manufacturing method thereof, and a method for recovering antistatic properties.

디스플레이와 같은 전자 제품이나 반도체의 제조에서 정전기 발생이나 미립자 등에 의한 오염은 장비의 오작동, 제품 불량과 같은 문제를 발생시킬 수 있다. 예를 들어 포토마스크에 먼지가 부착되어 있으면, 이 먼지가 자외광을 차단하거나 반사하기 때문에, 전사한 패턴의 변형, 단락 등이 발생하여 품질이 손상된다고 하는 문제가 있다. In the manufacture of electronic products such as displays or semiconductors, generation of static electricity or contamination by particulates may cause problems such as malfunction of equipment and product defects. For example, when dust adheres to the photomask, since the dust blocks or reflects ultraviolet light, there is a problem that the transferred pattern is deformed, short-circuited, and the like, resulting in deterioration of quality.

이에 따라, 작업 환경, 포장, 운반 과정에서 정전기가 발생되거나 소재가 미립자 등의 오염 물질로 오염이 되어 제품불량이 발생하는 피해를 최소화할 필요가 있다. 이러한 피해를 방지하기 위해 포토마스크, 펠리클 등과 같은 전자부품을 보관 및 운반하는 케이스 및 반도체를 비롯한 전자부품 또는 전자제품 등의 내외부 소재나 포장재 등의 재료는 대전방지 기능이 요구된다. Accordingly, it is necessary to minimize the damage caused by product defects due to static electricity being generated in the working environment, packaging, and transportation process or the material being contaminated with contaminants such as particulates. In order to prevent such damage, the case for storing and transporting electronic components such as photomasks and pellicles, and materials such as electronic components or electronic products including semiconductors, and materials such as packaging materials, require an antistatic function.

대전방지 기능을 부여하는 방법으로서 제품의 표면 기재에 대전 방지제를 첨가하거나 제품의 표면 상에 대전 방지 시트를 코팅 또는 부착하는 방식이 사용되고 있다. 그러나, 대전 방지제를 첨가하는 경우 대전 방지제의 불균일한 분산성으로 인해 표면 저항이 고르지 못하게 되는 문제나 포토마스크와 같은 소재에서 투과도가 감소하는 문제가 있었으며, 대전 방지 시트를 코팅 또는 부착하는 방식의 경우, 세척, 문지름 등과 같은 후속 공정에 의해 대전 방지 효과가 급격히 감소하는 문제가 있었다. 또한, 포토마스크나 펠리클 등을 보관하는 케이스의 경우, 케이스 제작 동안의 절단, 절삭과 같은 후속 가공 처리 동안에 대전 방지막의 적어도 일부가 상실되어 대전 방지 기능이 급격히 감소하거나 상실되는데 이러한 가공 영역에 대전 방지 기능을 다시 회복시키는 방안이 필요로 하게 된다.As a method of imparting an antistatic function, a method of adding an antistatic agent to the surface substrate of a product or coating or attaching an antistatic sheet on the surface of the product is used. However, when an antistatic agent is added, there is a problem in that the surface resistance becomes uneven due to the non-uniform dispersibility of the antistatic agent or the transmittance decreases in a material such as a photomask, in the case of coating or attaching an antistatic sheet , there was a problem in that the antistatic effect was rapidly reduced by subsequent processes such as washing, rubbing, and the like. In addition, in the case of a case storing a photomask or a pellicle, at least a part of the antistatic film is lost during subsequent processing such as cutting and cutting during the manufacture of the case, so that the antistatic function is rapidly reduced or lost. There is a need for a way to restore function again.

본 발명의 목적은 제조 과정 중에 열 건조, 세척 등과 같은 후속 처리나 절단, 절삭과 같은 가공 처리로 인한 성능의 저감 없이 우수한 대전 방지 기능을 발휘할 수 있어서, 정전기 및 오염에 민감한 반도체 또는 전자 제품의 내외부 소재 또는 포장재, 포토마스크나 펠리클 등을 위한 보관 케이스 등에 사용될 수 있는 대전 방지 시트, 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to exhibit an excellent antistatic function during the manufacturing process without reduction in performance due to subsequent processing such as thermal drying and washing or processing such as cutting and cutting, To provide an antistatic sheet that can be used as a material or packaging material, a storage case for a photomask or a pellicle, and the like, and a manufacturing method thereof.

본 발명의 또다른 목적은 대전 방지 처리된 물품을 포토 마스크 보관 케이스와 같은 제품으로 가공하는 과정에서 절단, 절삭과 같은 후속 가공 처리에 의해 대전 방지 특성이 감소 또는 상실된 영역에 대전 방지 기능을 개선 또는 회복시킬 수 있는 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to improve the antistatic function in the area where the antistatic property is reduced or lost by subsequent processing such as cutting or cutting in the process of processing the antistatically treated article into a product such as a photomask storage case. It provides a way to recover.

본 발명의 일 양태에 따르면, (a) 고분자 기재 상에 점착제를 도포하여 점착층을 형성하는 단계; 및 (b) 상기 점착층 상에 탄소계 대전 방지제, 폴리올, 및 폴리이소시아네이트를 함유하는 열경화형 대전 방지 조성물을 도포하여 제1 대전 방지층을 형성하는 단계를 포함하는, 대전 방지 시트의 제조 방법이 제공된다.According to one aspect of the present invention, (a) applying an adhesive on a polymer substrate to form an adhesive layer; and (b) forming a first antistatic layer by applying a thermosetting antistatic composition containing a carbon-based antistatic agent, a polyol, and a polyisocyanate on the adhesive layer. do.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 점착제는 아크릴계, 우레탄계, 또는 고무계 점착제 중에서 선택될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the pressure-sensitive adhesive may be selected from acrylic, urethane, or rubber-based pressure-sensitive adhesives.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 탄소계 대전 방지제는 탄소나노튜브, 그래핀, 및 카본 블랙에서 선택되는 적어도 1종일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the carbon-based antistatic agent may be at least one selected from carbon nanotubes, graphene, and carbon black.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 폴리올은 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올, 폴리카프로락톤폴리올, 및 폴리카르보네이트폴리올로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the polyol may be at least one selected from the group consisting of polyester polyol, polyether polyol, polycaprolactone polyol, and polycarbonate polyol.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 폴리이소시아네이트는 톨루엔디이소시아네이트(TDI), 디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 나프탈렌디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 자일렌디이소시아 네이트, 4,4-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,3-(이소시아네이트메틸)시클로헥산, 및 트리페닐메탄트리이소시아네이트로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the polyisocyanate is toluene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), naphthalene diisocyanate, tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylene diisocyanate. It may be at least one selected from the group consisting of isocyanate, 4,4-methylenebis(cyclohexylisocyanate), trimethylhexamethylenediisocyanate, 1,3-(isocyanatemethyl)cyclohexane, and triphenylmethane triisocyanate.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 고분자 기재는 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS) 수지, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 수지, 내충격성 PMMA 수지, 스티렌-아크릴로니트릴(SAN) 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지, 폴리카보네이트(PC 수지), 및 메틸메타크릴레이트-스티렌 수지(MS 수지)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the polymer substrate is acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin, polymethyl methacrylate (PMMA) resin, impact-resistant PMMA resin, styrene-acrylonitrile (SAN) resin, At least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate (PET) resin, polycarbonate (PC resin), and methyl methacrylate-styrene resin (MS resin) may be included.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 대전 방지 시트는 포토 마스크 또는 펠리클의 보관용 케이스, 포토 마스크, 또는 펠리클에 사용되는 것일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the antistatic sheet may be used in a storage case for a photo mask or pellicle, a photo mask, or a pellicle.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 (a) 단계는 (a-1) 상기 고분자 기재 상에 고분자 수지 및 전도성 고분자를 함유하는 제2 대전 방지층을 형성하는 단계 및 (a-2) 상기 제2 대전 방지층 상에 점착제를 도포하여 점착층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the step (a) comprises (a-1) forming a second antistatic layer containing a polymer resin and a conductive polymer on the polymer substrate, and (a-2) the second It may include applying an adhesive on the antistatic layer to form an adhesive layer.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 (a-1) 단계는 100 내지 150 메쉬의 롤을 이용하여 코팅함으로써 실시될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, step (a-1) may be carried out by coating using a roll of 100 to 150 mesh.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 전도성 고분자는 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리아세틸렌, 및 이들의 유도체에서 선택되는 적어도 1종일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the conductive polymer may be at least one selected from polyaniline, polypyrrole, polythiophene, polyacetylene, and derivatives thereof.

본 발명의 일 양태에 따르면, 상기 제조 방법에 의해 제조된 대전 방지 시트를 포함하는 포토 마스크 보관용 케이스가 제공된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a case for storing a photo mask comprising an antistatic sheet manufactured by the manufacturing method.

본 발명의 일 양태에 따르면, 대전 방지 처리된 물품의 가공된 영역에 점착제를 도포하는 단계, 및 탄소계 대전 방지제, 폴리올, 및 폴리이소시아네이트를 함유하는 열경화형 대전방지 코팅 조성물을 도포하는 단계를 포함하는, 대전 방지 처리된 물품의 가공된 영역에 대전 방지 특성을 회복 또는 개선시키는 방법이 제공된다.According to one aspect of the present invention, the method comprises the steps of applying a pressure-sensitive adhesive to a processed area of an antistatically treated article, and applying a thermosetting antistatic coating composition comprising a carbon-based antistatic agent, a polyol, and a polyisocyanate. A method for restoring or improving antistatic properties in a processed area of an antistatic treated article is provided.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 가공된 영역은 대전 방지 처리된 물품을 절삭 처리 또는 절단 처리한 영역일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the processed region may be a region obtained by cutting or cutting the antistatic treated article.

본 발명에 따른 대전 방지 시트의 제조 방법에 의하면 표면 고유 저항 값이 매우 낮아서 대전 방지성이 뛰어날 뿐만 아니라 기계적 물성도 우수하여 제조 공정 중의 열처리, 세척과 같은 후속 처리나 추가의 가공 처리에 의해서도 대전 방지성이 유지될 수 있는 대전 방지 시트가 제공될 수 있다. According to the manufacturing method of the antistatic sheet according to the present invention, the surface resistivity value is very low, so the antistatic property is excellent, and the mechanical properties are also excellent. An antistatic sheet in which the performance can be maintained may be provided.

또한, 상기 제조 방법의 제조 단계는 손쉽게 이용이 가능하므로, 대전 방지 처리된 물품을 절단, 절삭과 같은 후속 가공 처리를 하는 과정에서 대전 방지 특성이 손상된 가공 영역이 발생할 경우, 상기 제조 단계를 이용하여 대전 방지 특성을 개선 또는 회복시킬 수도 있다.In addition, since the manufacturing step of the manufacturing method is easily available, if a processing area with damaged antistatic properties occurs during subsequent processing such as cutting and cutting the antistatic treated article, the manufacturing step is used to It is also possible to improve or restore antistatic properties.

본 발명의 대전 방지 시트는 포토마스크, 펠리클, 반도체와 같은 전자 부품의 소재, 이들의 보관 또는 운반용 케이스, 또는 대전 방지용 포장재에 사용될 수 있다.The antistatic sheet of the present invention may be used for materials of electronic components such as photomasks, pellicles, and semiconductors, their storage or transport cases, or antistatic packaging materials.

도 1 은 본 발명의 일 구현예에 따른 대전 방지 시트의 단면을 개략적으로 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing a cross-section of an antistatic sheet according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 구현예를 설명하기 위해 사용된 것으로서 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. The terminology used in this application is only used to describe specific embodiments and is not intended to limit the present invention. Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs.

본 발명의 구현예를 설명하기 위해 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로, 본 발명이 도면에 도시된 사항에 의해 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 구성 요소는 동일 참조 부호로 지칭될 수 있다.The shape, size, ratio, angle, number, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiment of the present invention are exemplary, and therefore the present invention is not limited by the matters shown in the drawings. Like elements may be referred to by the same reference numerals throughout the specification.

본 발명의 여러 구현예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 구현예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시될 수도 있다.Each feature of the various embodiments of the present invention may be partially or wholly combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each of the embodiments may be implemented independently of each other or may be implemented together in a related relationship. may be

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다, “함유”한다, “가지다”라고 할 때, 이는 특별히 달리 정의되지 않는 한, 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part "includes", "contains", or "has" a certain element, it means that other elements may be further included unless otherwise defined.

제1, 제2 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위해 사용되는 것으로, 구성요소가 전술한 용어들에 의해 제한되는 것은 아니다. Terms such as 1st, 2nd, etc. are used to distinguish one component from another component, and the component is not limited by the above-mentioned terms.

층, 막 등의 어떤 부분이 다른 부분 “위에/상에” 또는 “아래/하에” 있다고 할 때, 이는 다른 부분 “바로 위에/상에” 또는 “바로 아래/하에” 있어서 어떤 부분과 다른 부분이 서로 접해 있는 경우 뿐만 아니라 그 중간에 다른 부분이 존재하는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 “바로 위에/상에” 또는 “바로 아래/하에” 있다고 할 때는 중간에 다른 부분이 없는 것을 의미한다.When a part of a layer, membrane, etc. is said to be “above/above” or “below/below” another part, it means that the other part It includes not only cases where they are in contact with each other, but also cases where other parts exist in between. Conversely, when a part is said to be “just above/above” or “just below/below” another part, it means that there is no other part in the middle.

이하, 도 1을 참조하여 본 발명에 대해 보다 구체적으로 설명한다.'Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to FIG. 1.'

1. 대전 방지 시트의 제조 방법1. Manufacturing method of antistatic sheet

본 발명의 일 양태에 따른 대전 방지 시트의 제조 방법은 (a) 고분자 기재(110) 상에 점착제를 도포하여 점착층(130)을 형성하는 단계; 및 (b) 상기 점착층(130) 상에 탄소계 대전 방지제, 폴리올, 및 폴리이소시아네이트를 함유하는 열경화형 대전 방지 조성물을 도포하여 제1 대전 방지층(122)을 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing an antistatic sheet according to an aspect of the present invention comprises the steps of: (a) applying an adhesive on a polymer substrate 110 to form an adhesive layer 130 ; and (b) forming a first antistatic layer 122 by applying a thermosetting antistatic composition containing a carbon-based antistatic agent, polyol, and polyisocyanate on the adhesive layer 130 .

일 구현예에 따르면, 상기 (a) 단계는 (a-1) 상기 고분자 기재(110) 상에 고분자 수지 및 전도성 고분자를 함유하는 제2 대전 방지층(121)을 형성하는 단계 및 (a-2) 상기 제2 대전 방지층(121) 상에 점착제를 도포하여 점착층(130)을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the step (a) comprises the steps of (a-1) forming a second antistatic layer 121 containing a polymer resin and a conductive polymer on the polymer substrate 110, and (a-2) The method may include forming an adhesive layer 130 by applying an adhesive on the second antistatic layer 121 .

(a-1) 단계: 제2 대전 방지층(121)의 형성Step (a-1): Formation of the second antistatic layer 121

상기 (a-1) 단계에서 제2 대전 방지층(121)은 고분자 수지 및 전도성 고분자를 함유하는 대전 방지용 조성물을 상기 고분자 기재(110) 상에 도포하여 형성될 수 있다. In step (a-1), the second antistatic layer 121 may be formed by applying an antistatic composition containing a polymer resin and a conductive polymer on the polymer substrate 110 .

상기 대전 방지용 조성물의 도포는 상기 조성물을 상기 고분자 기재(110)에 도포한 후, 건조 및 열처리하여 수행될 수 있다. 상기 건조 단계에서 용매가 제거되며 상기 열처리 단계에 의해 열 경화성 수지의 경화가 이루어질 수 있다. 상기 열처리는 상압 하에 또는 가압 하에 수행될 수 있다. 상기 건조 온도, 건조 시간, 열처리 온도, 열처리 시간, 가압 압력 등은 사용되는 성분의 종류와 함량 등을 고려하여 통상의 기술자가 적절히 선택할 수 있다. The application of the antistatic composition may be performed by applying the composition to the polymer substrate 110 and then drying and heat treatment. In the drying step, the solvent is removed, and the thermosetting resin can be cured by the heat treatment step. The heat treatment may be performed under normal pressure or under pressure. The drying temperature, drying time, heat treatment temperature, heat treatment time, pressurization pressure, etc. may be appropriately selected by those skilled in the art in consideration of the type and content of the components used.

대안적으로, 상기 제2 대전 방지층(121)은 별도의 장치에서 제2 대전 방지 시트로 준비된 후, 상술한 고분자 기재(110)에 가압 하에 적층하여도 된다.Alternatively, the second antistatic layer 121 may be prepared as a second antistatic sheet in a separate device and then laminated on the above-described polymer substrate 110 under pressure.

상기 제2 대전 방지층(121)은 제품의 절삭, 절단에 의해 적어도 일부 이상이 제거되거나 필요한 경우 생략할 수도 있으나, 대전 방지 시트(10), 특히 대전 방지 시트의 양면 모두에 포함되는 것이 대전 방지 특성 등의 측면에서 바람직하다. 다만, 상기 제2 대전 방지층(121)만 단독으로 기재 고분자 시트 상에 적층하여 대전 방지 시트로 할 경우, 상기 제2 대전 방지층(121)의 적층 후에 이어지는 일련의 후속 공정, 예를 들어 열처리, 세척 등과 같은 후속 공정의 수행 동안에 대전 방지성이 감소할 수가 있다. 본 발명자들은 상기 제2 대전 방지층(121) 상에 점착층(130)과 제1 대전 방지층(122)을 적층하였으며, 이를 통해 후속 공정이나 가공에 의한 대전 방지성의 저하 문제를 적어도 감소시킬 수 있었다.At least a part of the second antistatic layer 121 may be removed by cutting or cutting of the product or may be omitted if necessary. It is preferable from the viewpoints of. However, when only the second antistatic layer 121 is laminated alone on the base polymer sheet to form an antistatic sheet, a series of subsequent processes following lamination of the second antistatic layer 121, for example, heat treatment, washing Antistatic properties may decrease during performance of subsequent processes such as, for example. The present inventors laminated the adhesive layer 130 and the first antistatic layer 122 on the second antistatic layer 121, and through this, it was possible to at least reduce the problem of deterioration of antistatic properties due to subsequent processes or processing.

한편, 본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 (a-1) 단계 이전에 고분자 기재(110)를 준비하는 단계를 추가로 포함할 수 있으며, 상기 고분자 기재(110)는 후술하는 열가소성 수지 또는 열가소성 수지와 열가소성 탄성체의 혼합물을 예를 들어 압출기에서 압출하여 제조할 수 있다.On the other hand, according to one embodiment of the present invention, it may further include the step of preparing the polymer substrate 110 before the step (a-1), the polymer substrate 110 is a thermoplastic resin or thermoplastic to be described later. A mixture of the resin and the thermoplastic elastomer can be produced by extruding, for example, in an extruder.

또한, 본 발명의 일 구현예에 따르면 본 발명의 제조 방법에서 각 단계는 연속 공정 (즉, 인라인(in-line) 공정)으로 이루어질 수 있다. 이에, 상기 고분자 기재를 압출에 의해 준비하는 것과 동시에 상기 (a-1) 단계의 제2 대전 방지층(121)을 형성할 수 있다.In addition, according to one embodiment of the present invention, each step in the manufacturing method of the present invention may be made as a continuous process (ie, in-line process). Accordingly, the second antistatic layer 121 of step (a-1) may be formed at the same time as preparing the polymer substrate by extrusion.

한편, 상기 (a-1) 단계에서 상기 제2 대전 방지용 조성물의 도포는 메쉬(mesh) 롤을 이용하여 수행될 수 있다. 예를 들어 고분자 기재가 압출되어 이송되는 이송 수단에 메쉬 롤이 설치되어 상기 메쉬 롤을 통해 대전 방지용 조성물이 상기 고분자 기재 상에 도포할 수 있다. 상기 메쉬 롤로는 100 내지 150 메쉬의 롤을 사용하면 코팅막의 적절한 두께 및 균일성 조절, 대전 방지제의 균일한 분산, 및 이에 따른 대전 방지성 개선 등의 측면에서 바람직하다. 상기 100 내지 150 메쉬의 롤을 사용하지 않으면 시트 표면에 얼룩이 발생하면서 대전 방지가 균일하게 이루어지지 않을 수 있다.Meanwhile, the application of the second antistatic composition in step (a-1) may be performed using a mesh roll. For example, a mesh roll may be installed in a transport means through which the polymer substrate is extruded and transferred, and the antistatic composition may be applied on the polymer substrate through the mesh roll. As the mesh roll, when a roll of 100 to 150 mesh is used, it is preferable in terms of appropriate thickness and uniformity control of the coating film, uniform dispersion of the antistatic agent, and thus improved antistatic properties. If the roll of 100 to 150 mesh is not used, antistatic protection may not be uniformly performed while staining occurs on the sheet surface.

본 단계에서 사용되는 각 성분을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Each component used in this step will be described in detail as follows.

상기 고분자 기재(110)는 열가소성 수지 또는 열가소성 수지와 열가소성 탄성체의 혼합물을 포함하는 것일 수 있다. 또한, 상기 고분자 기재는 열가소성 수지층 또는 열가소성 수지에 열가소성 탄성체를 혼합한 혼합 수지층의 단층 구조일 수 있거나, 또는 복층 구조, 예를 들어 서로 다른 2종의 열가소성 수지층의 2층 구조, 제1 열가소성 수지층, 열가소성 수지와 열가소성 탄성체의 혼합층, 제2 열가소성 수지층의 3층 구조일 수 있다. 상기 고분자 기재(110)의 두께는, 대전 방지 시트(10)이 부착되는 제품에 따라 다양할 수 있다.The polymer substrate 110 may include a thermoplastic resin or a mixture of a thermoplastic resin and a thermoplastic elastomer. In addition, the polymer substrate may have a single-layer structure of a thermoplastic resin layer or a mixed resin layer in which a thermoplastic elastomer is mixed with a thermoplastic resin, or a multi-layer structure, for example, a two-layer structure of two different types of thermoplastic resin layers, the first It may have a three-layer structure of a thermoplastic resin layer, a mixed layer of a thermoplastic resin and a thermoplastic elastomer, and a second thermoplastic resin layer. The thickness of the polymer substrate 110 may vary depending on the product to which the antistatic sheet 10 is attached.

일 구현예에 따르면, 상기 고분자 기재(110)는 투명성을 가지는 열가소성 수지의 시트가 바람직하다. 상기 열가소성 수지로는 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS) 수지, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 수지, 내충격성 PMMA 수지 (PMMA에 예를 들어 탄성체 고무를 사용하여 내충격성을 부여한 수지), 스티렌-아크릴로니트릴(SAN) 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지, 폴리카보네이트(PC 수지), 메틸메타크릴레이트-스티렌 수지(MS 수지) 등을 사용할 수 있다. 일 구현예에 따르면, 상기 고분자 기재는 ABS 수지, PMMA 수지, 내충격성 PMMA 수지, SAN 수지, PET 수지, PC 수지, 및 MS 수지로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하거나, 상기 군에서 선택되는 1종으로 이루어진 것일 수 있다. 다른 일 구현예에 따르면, 상기 고분자 기재는 ABS 수지, PMMA 수지, 내충격성 PMMA 수지, PET 수지, 및 PC 수지로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것일 수 있다. 상기 열가소성 수지의 시트에 필요에 따라 더 첨가될 수 있는 열가소성 탄성체는 유연성과 탄성이 우수한 플라스틱으로서, 사용 조건 하에서는 고무 탄성을 나타내지만 성형 조건 하에서는 열가소성 플라스틱과 같이 성형이 가능한 고분자 재료이다. 상기 열가소성 탄성체의 예로는 우레탄계 수지를 들 수 있다.According to one embodiment, the polymer substrate 110 is preferably a sheet of a thermoplastic resin having transparency. Examples of the thermoplastic resin include acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin, polymethyl methacrylate (PMMA) resin, impact-resistant PMMA resin (a resin in which impact resistance is imparted to PMMA by using, for example, an elastic rubber), styrene -Acrylonitrile (SAN) resin, polyethylene terephthalate (PET) resin, polycarbonate (PC resin), methyl methacrylate-styrene resin (MS resin), etc. can be used. According to one embodiment, the polymer substrate comprises at least one selected from the group consisting of ABS resin, PMMA resin, impact-resistant PMMA resin, SAN resin, PET resin, PC resin, and MS resin, or selected from the group It may be composed of one type. According to another embodiment, the polymer substrate may include at least one selected from the group consisting of an ABS resin, a PMMA resin, an impact-resistant PMMA resin, a PET resin, and a PC resin. The thermoplastic elastomer, which may be further added to the sheet of the thermoplastic resin as needed, is a plastic having excellent flexibility and elasticity, and is a polymer material that exhibits rubber elasticity under use conditions but can be molded like a thermoplastic plastic under molding conditions. Examples of the thermoplastic elastomer include a urethane-based resin.

상기 제2 대전 방지용 조성물에 함유되는 고분자 수지는 열 경화성 수지일 수 있다. 구체적으로, 상기 고분자 수지는 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 우레탄-아크릴계 공중합체, 에스테르계 수지, 에테르계 수지, 아미드계 수지, 및 에폭시계 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종일 수 있다. 대안적으로, 상기 고분자 수지는 상기 고분자 기재에 사용된 수지, 예를 들어 ABS 수지 또는 PMMA 수지와 동일한 수지를 사용하여도 된다.The polymer resin contained in the second antistatic composition may be a thermosetting resin. Specifically, the polymer resin may be at least one selected from the group consisting of acrylic resins, urethane-based resins, urethane-acrylic copolymers, ester-based resins, ether-based resins, amide-based resins, and epoxy-based resins. Alternatively, the polymer resin may use the same resin as the resin used for the polymer substrate, for example, an ABS resin or a PMMA resin.

상기 제2 대전 방지용 조성물에 함유되는 전도성 고분자는 대전 방지 기능을 갖는 전도성 고분자이다. 상기 전도성 고분자는 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리아세틸렌, 및 이들의 유도체에서 선택되는 적어도 1종일 수 있다. 상기 유도체로는 폴리(3,4-에틸렌티오펜), 폴리에틸렌디옥시티오펜 등을 들 수 있다. 상기 전도성 고분자로 폴리티오펜을 사용하는 경우 소량으로도 충분한 저항을 얻을 수 있어 경제적이다. 상기 전도성 고분자는 고분자 수지 100 중량부에 대하여 1 내지 500 중량부, 20 내지 200 중량부, 또는 50 내지 100 중량부의 양으로 사용될 수 있다. 상기 전도성 고분자는 양으로 하전되어 있는 경우가 있으므로, 이러한 양 전하와 균형을 이루는 이온 쌍을 형성시켜주기 위해 유기산 음이온을 갖는 고분자 또는 비고분자성 유기산과 조합하여 사용되는 것이 바람직할 수 있다. 이러한 유기산 음이온으로는 술포네이트, 카르복실레이트, 포스페이트, 포스포네이트, 아크릴레이트 등이 있다. 상기 전도성 고분자와 함께 조합하여 사용될 수 있는 고분자 또는 비고분자성 유기산의 예로는 폴리스티렌술폰산, 폴리(2-아크릴아미도-2-메틸-1-프로판술폰산), 폴리아크릴산, 폴리메타크릴산, 폴리말레인산, 아세트산, p-톨루엔술폰산, 캠퍼술폰산, p-도데실벤젠술폰산, 메탄술폰산, 트리플루오로메탄술폰산 등을 들 수 있다.The conductive polymer contained in the second antistatic composition is a conductive polymer having an antistatic function. The conductive polymer may be at least one selected from polyaniline, polypyrrole, polythiophene, polyacetylene, and derivatives thereof. Examples of the derivative include poly(3,4-ethylenethiophene) and polyethylenedioxythiophene. When polythiophene is used as the conductive polymer, sufficient resistance can be obtained even with a small amount, which is economical. The conductive polymer may be used in an amount of 1 to 500 parts by weight, 20 to 200 parts by weight, or 50 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin. Since the conductive polymer is positively charged in some cases, it may be preferably used in combination with a polymer having an organic acid anion or a non-polymeric organic acid to form an ion pair that balances the positive charge. Examples of such organic acid anions include sulfonate, carboxylate, phosphate, phosphonate, and acrylate. Examples of polymers or non-polymeric organic acids that can be used in combination with the conductive polymer include polystyrenesulfonic acid, poly(2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid), polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polymaleic acid. , acetic acid, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, p-dodecylbenzenesulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and the like.

상기 제2 대전 방지용 조성물은 도포성 향상 등의 목적으로 추가로 용매를 함유할 수 있으며, 상기 용매로는 다른 성분과의 상용성에 문제가 없고 대전 방지성과 같은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 당업계에서 통상 사용되는 임의 용매를 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 상기 용매로서 예를 들어 알코올계(메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 프로필렌글리콜 메톡시 알코올 등), 케톤계(메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤 등), 아세테이트계(메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 프로필렌글리콜 메톡시 아세테이트 등), 셀로솔브계(메틸 셀로솔브, 에틸 셀로솔브, 프로필 셀로솔브 등), 탄화수소계(노말 헥산, 노말 헵탄, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등) 등의 용매들이 사용될 수 있으며, 이들은 단독으로 혹은 2종 이상이 조합되어 사용될 수 있다. 상기 용매의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 상술한 성분들을 제외한 잔량으로 포함될 수 있다. 다만, 연속 공정(인라인 코팅법)에 적용할 경우, 유기 용매가 다량 사용되면 건조, 열처리 공정에서 폭발의 위험성이 있으므로 그 함유량은 조성물 중에 10중량% 이하, 더욱 바람직하게는 5중량% 이하로 제어한다.The second antistatic composition may further contain a solvent for the purpose of improving applicability, etc., as long as the solvent does not have a problem with compatibility with other components and does not impair the effects of the present invention such as antistatic properties, Any solvent commonly used in the art may be appropriately selected and used. Examples of the solvent include alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, propylene glycol, methoxy alcohol, etc.), ketones (methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, etc.) , acetate type (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol methoxy acetate, etc.), cellosolve type (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propyl cellosolve, etc.), hydrocarbon type (normal hexane, normal heptane, benzene, toluene, xylene, etc.) may be used, and these may be used alone or in combination of two or more. The content of the solvent is not particularly limited, and may be included in the remaining amount excluding the above-described components. However, when applied to a continuous process (inline coating method), if a large amount of organic solvent is used, there is a risk of explosion in the drying and heat treatment process, so the content is controlled to 10 wt% or less, more preferably 5 wt% or less in the composition do.

(a-2) 단계 또는 (a) 단계: 점착층(130)의 형성Step (a-2) or step (a): Formation of the adhesive layer 130

상기 (a-2) 단계 및 (a) 단계 ((a-1) 단계가 생략되는 경우)에서 상기 점착층(130)은 점착제를 도포함으로써 형성될 수 있다.In steps (a-2) and (a) (when step (a-1) is omitted), the adhesive layer 130 may be formed by applying an adhesive.

상기 점착제는 아크릴계, 우레탄계, 또는 고무계 점착제 중에서 선택될 수 있다. 상기 점착제 중에서 내구성의 관점에서 아크릴계 점착제를 사용할 수 있다. 상기 아크릴계 점착제는 예를 들어 (메타)아크릴레이트 중합체 또는 공중합체를 가교제에 의해 가교한 것을 사용할 수 있으며, 상기 가교제의 예로는 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 멜라민 화합물 등을 들 수 있다. 일 구현예에 따르면, 상기 점착층은 구체적으로 대전 방지제를 포함하지 않는 것일 수 있다.The pressure-sensitive adhesive may be selected from acrylic, urethane, or rubber-based pressure-sensitive adhesives. Among the pressure-sensitive adhesives, an acrylic pressure-sensitive adhesive may be used from the viewpoint of durability. The acrylic pressure-sensitive adhesive may be, for example, a (meth)acrylate polymer or copolymer crosslinked by a crosslinking agent, and examples of the crosslinking agent include an isocyanate compound, an epoxy compound, a melamine compound, and the like. According to one embodiment, the adhesive layer may specifically not include an antistatic agent.

(b) 단계: 제1 대전 방지층(122)의 형성(b) step: formation of the first antistatic layer 122

상기 (b) 단계에서 제1 대전 방지층(122)은 상기 점착층(130) 상에 탄소계 대전 방지제, 폴리올, 및 폴리이소시아네이트를 함유하는 열경화형 대전 방지 조성물을 도포하여 형성될 수 있다.In step (b), the first antistatic layer 122 may be formed by applying a thermosetting antistatic composition containing a carbon-based antistatic agent, polyol, and polyisocyanate on the adhesive layer 130 .

상기 열경화성 대전 방지용 조성물의 도포는 상기 조성물을 상기 점착층(130)에 도포한 후, 열처리하여 수행될 수 있다. 상기 열처리 단계에 의해 폴리올과 폴리이소시아네이트 사이의 반응 및 열 경화가 이루어질 수 있다. 상기 열처리는 상압 하에 또는 가압 하에 수행될 수 있다. 상기 열처리 온도, 열처리 시간, 가압 압력 등은 사용되는 성분의 종류와 함량 등을 고려하여 통상의 기술자가 적절히 선택할 수 있다. 통상적으로, 상기 열처리는 50 내지 100℃ 에서 수행될 수 있으며, 열처리 시간은 1분 내지 150분일 수 있다.Application of the thermosetting antistatic composition may be performed by applying the composition to the adhesive layer 130 and then heat-treating the composition. Reaction and thermal curing between the polyol and the polyisocyanate may be achieved by the heat treatment step. The heat treatment may be performed under normal pressure or under pressure. The heat treatment temperature, heat treatment time, pressurization pressure, etc. may be appropriately selected by those skilled in the art in consideration of the type and content of the components used. Typically, the heat treatment may be performed at 50 to 100 ℃, the heat treatment time may be 1 minute to 150 minutes.

상기 열경화형 대전 방지용 조성물 중의 각 성분에 대해 보다 자세히 설명하면 다음과 같다.Each component in the thermosetting antistatic composition will be described in more detail as follows.

상기 탄소계 대전 방지제는 탄소나노튜브, 그래핀, 및 카본 블랙에서 선택되는 적어도 1종일 수 있다. 상기 탄소계 대전 방지제는 폴리올과 폴리이소시아네이트의 합계 100 중량부에 대하여 1 내지 500 중량부, 20 내지 200 중량부, 또는 50 내지 100 중량부의 양으로 사용될 수 있다. The carbon-based antistatic agent may be at least one selected from carbon nanotubes, graphene, and carbon black. The carbon-based antistatic agent may be used in an amount of 1 to 500 parts by weight, 20 to 200 parts by weight, or 50 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the polyol and polyisocyanate.

카본 블랙은 케첸 블랙 EC, 케첸 블랙 300j, 케첸 블랙 600j, 발칸 XC, 발칸 CSX, 덴카블랙, 아세틸렌 블랙, 컨덕티브 퍼네이스 블랙 등이 있다. 다만, 카본 블랙은 분산성이 우수하지 못하고 대전 방지 성능의 발현을 위해서는 많은 양을 사용해야 한다는 단점이 있다. 탄소나노튜브 및 그래핀이 카본 블랙에 비해 더 적은 첨가량으로 대전 방지성을 나타낼 수 있다는 점에서 더 바람직하다. Carbon black includes Ketjen Black EC, Ketjen Black 300j, Ketjen Black 600j, Vulcan XC, Vulkan CSX, Denka Black, Acetylene Black, Conductive Furnace Black, etc. However, carbon black has a disadvantage in that it does not have excellent dispersibility and needs to be used in a large amount for the expression of antistatic performance. Carbon nanotubes and graphene are more preferable in that they can exhibit antistatic properties in a smaller amount than carbon black.

탄소나노튜브는 탄소 6 개로 이루어진 육각형 고리가 서로 연결되어 이루어진 흑연판 상을 둥글게 말아서 생긴 튜브 형태의 분자이다. 상기 탄소나노튜브는 강성 및 전기 전도성이 우수하므로 막 경도가 증가하고 대전 방지 기능이 향상된다. 또한, 자외선 또는 열 등에 노출시에 분해되지 않으므로 내후성이 증가한다. 상기 탄소나노튜브는 단일벽 구조를 갖는 단일벽 탄소나노튜브 (single-walled carbon nanotube; SWNT). 이중벽 탄소나노튜브(double wall carbon nanotube; DWCNT), 또는 다중벽 구조를 갖는 다중벽 탄소 나노튜브(multi-walled carbon nanotube; MWNT)가 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 탄소 나노튜브는 바람직하게는 길이가 1 내지 60 ㎛ 이고, 직경이 0.1 내지 50 nm 인 것을 사용할 수 있다.A carbon nanotube is a tube-shaped molecule formed by rolling a graphite plate made up of hexagonal rings made of 6 carbons connected to each other. Since the carbon nanotube has excellent rigidity and electrical conductivity, the film hardness is increased and the antistatic function is improved. In addition, since it does not decompose when exposed to ultraviolet rays or heat, the weather resistance is increased. The carbon nanotube is a single-walled carbon nanotube (SWNT) having a single-wall structure. A double wall carbon nanotube (DWCNT) or a multi-walled carbon nanotube (MWNT) having a multi-wall structure may be used, but is not limited thereto. The carbon nanotubes may preferably have a length of 1 to 60 μm and a diameter of 0.1 to 50 nm.

그래핀은 산화흑연의 표면의 각 층들이 박리된 시트 형상의 흑연이다. 보다 상세하게, 흑연분말을 산화시켜 산화흑연을 제조한 후, 산화흑연을 순간적으로 고온으로 가열하면 산화에 의해 생성된 산화흑연 표면의 수개의 층, 예를 들어 1 내지 5개의 층들이 각각 박리되어 시트 형상의 흑연이 되는데, 이것이 그래핀이다. 본 발명의 일 구현예에 따르면, 그래핀으로서 단층(mono layer) 그래핀 또는 복층(few layer) 그래핀, 예를 들어 2층 그래핀, 3층 그래핀, 4층 그래핀 또는 5층 그래핀을 사용할 수 있다. 이러한 그래핀은 저가의 흑연으로부터 간단한 방법으로 얻을 수 있어 경제적이며, 탄소나노튜브와 비교하여 매우 낮은 저항값을 나타낼 뿐만 아니라 결정 방향성을 조절함에 따라 전기적 특성을 변화시킬 수 있다는 특징이 있다. 또한, 그래핀은 안정한 구조를 가지고 있기 때문에, 특히 고온 환경에서 방치한 후에도 우수한 대전방지성을 유지할 수 있으며, 시트 형상의 크기를 조절함으로써 빛의 반사 및 산란을 효과적으로 방지할 수 있어 광투과율의 저하도 방지할 수 있게 된다. 본 발명의 일 구현예에 따르면 그래핀은 시트 형상의 그래핀이다.Graphene is graphite in the form of a sheet in which each layer on the surface of graphite oxide is peeled off. More specifically, after oxidizing graphite powder to produce graphite oxide, and then heating the graphite oxide to a high temperature instantaneously, several layers, for example, 1 to 5 layers, on the surface of the graphite oxide generated by oxidation are peeled off, respectively. It becomes a sheet of graphite, which is graphene. According to an embodiment of the present invention, as graphene, mono-layer graphene or few layer graphene, for example, two-layer graphene, three-layer graphene, four-layer graphene, or five-layer graphene can be used Such graphene is economical because it can be obtained from low-cost graphite by a simple method, and has a characteristic that it not only exhibits a very low resistance value compared to carbon nanotubes, but also can change the electrical properties by controlling the crystal orientation. In addition, since graphene has a stable structure, excellent antistatic properties can be maintained even after being left in a high temperature environment, and reflection and scattering of light can be effectively prevented by adjusting the size of the sheet shape, thereby reducing light transmittance can also be prevented. According to an embodiment of the present invention, graphene is graphene in the form of a sheet.

상기 제1 대전 방지층(122)은 탄소계 대전 방지제를 함유함으로써 우수한 대전 방지 기능을 발휘할 수 있다.The first antistatic layer 122 may exhibit an excellent antistatic function by containing a carbon-based antistatic agent.

상기 폴리올은 하나의 분자 내에 2개 이상의 다수의 히드록시기(-OH)를 갖는 유기 화합물이다. 상기 폴리올은 예를 들어, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올, 폴리카프로락톤폴리올, 및 폴리카르보네이트폴리올 등을 들 수 있다. 본 발명의 일 구현예에 따르면 상기 폴리올은 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올, 폴리카프로락톤폴리올, 및 폴리카보네이트폴리올로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종일 수 있다.The polyol is an organic compound having two or more plural hydroxyl groups (-OH) in one molecule. Examples of the polyol include polyester polyol, polyether polyol, polycaprolactone polyol, and polycarbonate polyol. According to one embodiment of the present invention, the polyol may be at least one selected from the group consisting of polyester polyol, polyether polyol, polycaprolactone polyol, and polycarbonate polyol.

상기 폴리에스테르폴리올은 예를 들어 다가 알코올 성분과 산 성분의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 것일 수 있다. 여기서 상기 폴리올 성분은 예를 들어 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 부탄디올, 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 폴리프로필렌글리콜 등을 들 수 있고, 상기 산 성분은 예를 들어 숙신산, 메틸숙신산, 아디프산, 피멜산, 아젤라산, 세바스산, 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산 등을 들 수 있다. 상기 폴리에테르폴리올은 예를 들어 다가 알코올 등에 알킬렌 옥사이드를 부가 중합함으로써 얻어지는 것일 수 있다. 상기 폴리카프로락톤폴리올은 예를 들어 ε-카프로락톤, σ-발레로락톤 등의 환상 에스테르 모노머의 개환 중합에 의해 얻어지는 카프로락톤계 폴리에스테르디올 등을 들 수 있다. 상기 폴리카보네이트폴리올은 다가 알코올 성분과 카르보네이트계 화합물과 반응시켜 얻어지는 것일 수 있다.The polyester polyol may be obtained by, for example, an esterification reaction between a polyhydric alcohol component and an acid component. Here, the polyol component may include, for example, ethylene glycol, diethylene glycol, butanediol, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, polypropylene glycol, and the like, and the acid component is, for example, succinic acid, methylsuccinic acid, adipic acid acid, pimelic acid, azelaic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, and the like. The polyether polyol may be obtained, for example, by addition polymerization of an alkylene oxide to a polyhydric alcohol or the like. Examples of the polycaprolactone polyol include caprolactone-based polyester diols obtained by ring-opening polymerization of cyclic ester monomers such as ε-caprolactone and σ-valerolactone. The polycarbonate polyol may be obtained by reacting a polyhydric alcohol component with a carbonate-based compound.

상기 폴리이소시아네이트는 하나의 분자 내에 2개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 유기 화합물이다. 상기 폴리이소시아네이트는 예를 들어, 톨루엔디이소시아네이트(TDI), 디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 나프탈렌디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 자일렌디이소시아 네이트, 4,4-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,3-(이소시아네이트메틸)시클로헥산, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 등을 들 수 있다.The polyisocyanate is an organic compound having two or more isocyanate groups in one molecule. The polyisocyanate is, for example, toluene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), naphthalene diisocyanate, tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylene diisocyanate, 4, 4-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), trimethyl hexamethylene diisocyanate, 1, 3- (isocyanate methyl) cyclohexane, triphenylmethane triisocyanate, etc. are mentioned.

상기 폴리올과 폴리이소시아네이트는 당량비 1:1 내지 1:0.5의 비로 배합될 수 있다.The polyol and polyisocyanate may be blended in an equivalent ratio of 1:1 to 1:0.5.

상기 열경화성 대전 방지 조성물은 추가로 용매를 함유할 수 있다. 상기 용매는 제2 대전 방지층용 조성물에 함유되는 용매에 대한 설명을 참조한다. 또한, 상기 열경화형 대전 방지 조성물은 개시제, 촉매, 안정화제 등과 같은 다른 첨가제를 더 함유하고 있어도 된다. The thermosetting antistatic composition may further contain a solvent. For the solvent, refer to the description of the solvent contained in the composition for the second antistatic layer. Moreover, the said thermosetting type antistatic composition may further contain other additives, such as an initiator, a catalyst, and a stabilizer.

2. 대전 방지 시트 및 이를 포함하는 제품2. Antistatic sheet and products containing the same

본 발명의 일 양태에 따르면 전술한 제조 방법에 의해 제조된 대전 방지 시트가 제공된다. According to one aspect of the present invention, there is provided an antistatic sheet manufactured by the above-described manufacturing method.

일 구현예에 따르면 상기 대전 방지 시트 (10)는, 고분자 기재(110); 상기 고분자 기재(110)의 일면 또는 양면 상의, 점착층(130); 및 상기 점착층(130) 상의, 탄소계 대전방지제 및 폴리올과 폴리이소시아네이트의 반응 생성물을 함유하는 제1 대전 방지층(122)을 포함한다.According to an embodiment, the antistatic sheet 10 includes a polymer substrate 110; an adhesive layer 130 on one or both sides of the polymer substrate 110; and a first antistatic layer 122 containing a carbon-based antistatic agent and a reaction product of a polyol and polyisocyanate on the adhesive layer 130 .

본 발명의 다른 일 구현예에 따르면 상기 대전 방지 시트(10)는, 고분자 기재(110); 상기 고분자 기재(110)의 일면 또는 양면 상의, 고분자 수지 및 전도성 고분자를 함유하는 제2 대전 방지층(121); 상기 제2 대전 방지층(121) 상의 점착층(130); 및 상기 점착층(130) 상의, 탄소계 대전방지제 및 폴리올과 폴리이소시아네이트의 반응 생성물을 함유하는 제1 대전 방지층(122)을 포함한다.According to another embodiment of the present invention, the antistatic sheet 10 includes a polymer substrate 110; a second antistatic layer 121 containing a polymer resin and a conductive polymer on one or both sides of the polymer substrate 110; an adhesive layer 130 on the second antistatic layer 121; and a first antistatic layer 122 containing a carbon-based antistatic agent and a reaction product of a polyol and polyisocyanate on the adhesive layer 130 .

본 발명의 다른 일 구현예에 따르면 상기 대전 방지 시트(10)는, 고분자 기재(110); 상기 고분자 기재(110)의 일면 상의, 고분자 수지 및 전도성 고분자를 함유하는 제2 대전 방지층(121); 상기 고분자 기재(110)의 다른 일면 상의 점착층(130); 및 상기 점착층(130) 상의, 탄소계 대전방지제 및 폴리올과 폴리이소시아네이트의 반응 생성물을 함유하는 제1 대전 방지층(122)을 포함한다.According to another embodiment of the present invention, the antistatic sheet 10 includes a polymer substrate 110; a second antistatic layer 121 containing a polymer resin and a conductive polymer on one surface of the polymer substrate 110; an adhesive layer 130 on the other surface of the polymer substrate 110; and a first antistatic layer 122 containing a carbon-based antistatic agent and a reaction product of a polyol and polyisocyanate on the adhesive layer 130 .

본 발명의 다른 일 구현예에 따르면 상기 대전 방지 시트(10)는, 고분자 기재(110); 상기 고분자 기재(110)의 양면 상의, 고분자 수지 및 전도성 고분자를 함유하는 제2 대전 방지층(121); 상기 제2 대전 방지층(121) 중 어느 하나 상의 점착층(130); 및 상기 점착층(130) 상의, 탄소계 대전방지제 및 폴리올과 폴리이소시아네이트의 반응 생성물을 함유하는 제1 대전 방지층(122)을 포함한다.According to another embodiment of the present invention, the antistatic sheet 10 includes a polymer substrate 110; a second antistatic layer 121 containing a polymer resin and a conductive polymer on both sides of the polymer substrate 110; an adhesive layer 130 on any one of the second antistatic layers 121; and a first antistatic layer 122 containing a carbon-based antistatic agent and a reaction product of a polyol and polyisocyanate on the adhesive layer 130 .

상기 제2 대전 방지층(121), 상기 점착층(130), 및 상기 제1 대전 방지층(122)을 구성하는 각 성분에 대한 상세한 설명은 앞서 제조 방법에서 설명한 내용을 참고할 수 있으므로 생략한다. 상기 제2 대전 방지층(121) 및 상기 제1 대전 방지층(122)은 각각, 두께가 0.08 내지 0.1 ㎛의 범위일 수 있다.A detailed description of each component constituting the second antistatic layer 121 , the adhesive layer 130 , and the first antistatic layer 122 will be omitted because the content described in the manufacturing method may be referred to. Each of the second antistatic layer 121 and the first antistatic layer 122 may have a thickness in a range of 0.08 to 0.1 μm.

본 발명에 따른 대전 방지 시트(10)는 포토마스크, 펠리클, 반도체와 같은 전자 부품의 소재, 이들의 보관용 케이스, 또는 대전 방지용 포장재에 사용될 수 있다. 예를 들어 본 발명의 일 구현예에 따르면 본 발명의 전술한 대전 방지 시트를 포함하는 포토마스크 보관용 케이스가 제공될 수 있다.The antistatic sheet 10 according to the present invention may be used for a photomask, a pellicle, a material for electronic components such as semiconductors, a storage case thereof, or an antistatic packaging material. For example, according to an embodiment of the present invention, a photomask storage case including the above-described antistatic sheet of the present invention may be provided.

3. 대전 방지 특성의 회복 또는 개선 방법3. Method of recovery or improvement of antistatic properties

본 발명의 일 양태에 따르면, 대전 방지 처리된 물품의 가공된 영역에 점착제를 도포하는 단계, 및 탄소계 대전 방지제, 폴리올, 및 폴리이소시아네이트를 함유하는 열경화형 대전방지 코팅 조성물을 도포하는 단계를 포함하는, 대전 방지 처리된 물품의 가공된 영역에 대전 방지 특성을 회복 또는 개선시키는 방법이 제공된다.According to one aspect of the present invention, the method comprises the steps of applying a pressure-sensitive adhesive to a processed area of an antistatically treated article, and applying a thermosetting antistatic coating composition comprising a carbon-based antistatic agent, a polyol, and a polyisocyanate. A method for restoring or improving antistatic properties in a processed area of an antistatic treated article is provided.

본 발명의 대전 방지 시트는 추가의 가공 처리를 필요로 할 수 있다. 예를 들어, 대전 방지 시트는 다양한 규격으로 압출, 압착 등의 방식으로 시트 형태로 가공되어지는데, 두께 5~20mm, 폭 ~1200mm, 길이 ~2400mm의 형태의 다양한 규격으로 제조할 수 있다. 이러한 시트 형태의 제품은 절단, 절삭 등의 공정을 거쳐, 다양한 부품으로 가공되어지는데, 이 때, 대전 방지 시트 단면 또는 양면에서 코팅되어진 층의 적어도 일부가 손상되거나 제거되어 대전 방지 기능이 급격히 감소하거나 상실될 수 있다.The antistatic sheet of the present invention may require additional processing treatment. For example, the antistatic sheet is processed in the form of a sheet by extrusion, compression, etc. in various specifications, and can be manufactured in various specifications in the form of a thickness of 5 to 20 mm, a width of ~1200 mm, and a length of ~2400 mm. These sheet-shaped products are processed into various parts through processes such as cutting and cutting. can be lost

전술한 본 발명의 대전 방지 시트의 제조 방법에서 사용된 탄소계 대전 방지제, 폴리올, 및 폴리이소시아네이트를 함유하는 열경화형 대전 방지 조성물은 바람직하게는 액상이며 비교적 낮은 온도, 예를 들어 50 내지 100℃에서의 열처리에 의해 폴리올과 폴리이소시아네이트가 반응 및 경화하여 대전 방지층을 손쉽게 형성할 수 있다. 다만, 절삭, 절단과 같이 가공된 영역의 경우 상기 대전 방지층이 균일하고 내구성 있게 형성되기 힘들 수 있으며, 이에 점착제를 먼저 도포한 후에 상기 열경화성 대전 방지 조성물을 도포하여 대전 방지층을 형성하는 것이 바람직할 수 있다. The thermosetting antistatic composition containing the carbon-based antistatic agent, polyol, and polyisocyanate used in the method for producing the antistatic sheet of the present invention described above is preferably in a liquid state and at a relatively low temperature, for example, 50 to 100°C. By the heat treatment of the polyol and polyisocyanate react and harden, it is possible to easily form an antistatic layer. However, in the case of areas processed such as cutting and cutting, it may be difficult to form the antistatic layer uniformly and durable. have.

본 발명에 따라 상기 가공 처리된 영역에 점착제를 도포한 후 대전 방지 코팅 조성물을 도포하여 줌으로써 대전 방지 특성이 개선 또는 회복될 수 있게 된다.Antistatic properties can be improved or restored by applying an antistatic coating composition after applying an adhesive to the processed area according to the present invention.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 실시예를 참고하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 하기 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples to help the understanding of the present invention. However, the following examples are only provided for easier understanding of the present invention, and the contents of the present invention are not limited by the following examples.

[실시예 1] [Example 1]

고분자 기재의 양면 상에 전도성 고분자를 함유하는 대전 방지층을 100 내지 150 메쉬롤을 이용하여 코팅한 후 그 위에 아크릴계 점착제를 도포하고, 이어서 그래핀, 폴리올 및 폴리이소시아네이트를 함유하는 대전 방지 코팅 조성물을 도포하고 60 내지 80℃에서 열처리하여 대전방지 시트를 제조하였다. After coating an antistatic layer containing a conductive polymer on both sides of a polymer substrate using a 100 to 150 mesh roll, an acrylic adhesive is applied thereon, and then an antistatic coating composition containing graphene, polyol and polyisocyanate is applied and heat treatment at 60 to 80° C. to prepare an antistatic sheet.

[비교예][Comparative example]

상기 실시예 1에서 제조한 대전방지 시트를 세척 및 절단 처리하였다.The antistatic sheet prepared in Example 1 was washed and cut.

[실시예 2][Example 2]

상기 비교예의 대전방지 시트에서 절단 처리된 영역 상에 아크릴 점착제를 도포한 후, 그래핀, 폴리올 및 폴리이소시아네이트를 함유하는 대전 방지 코팅 조성물을 도포하고 60 내지 80℃에서 열처리하였다.After applying the acrylic adhesive on the cut-treated area in the antistatic sheet of Comparative Example, an antistatic coating composition containing graphene, polyol and polyisocyanate was applied and heat-treated at 60 to 80°C.

[실험예] 표면 저항의 측정[Experimental Example] Measurement of surface resistance

실시예 1, 2 및 비교예의 대전 방지 시트에 대해 표면 저항을 아래의 [표 1]에 나타낸 기기 및 방법을 이용하여 측정하였으며 그 결과를 아래의 [표 2]에 나타낸다.The surface resistance of the antistatic sheets of Examples 1 and 2 and Comparative Example was measured using the apparatus and method shown in [Table 1] below, and the results are shown in [Table 2] below.

측정기기measuring instrument 측정 방법 및 측정 조건Measurement method and measurement conditions

Figure 112022013887320-pat00001
Figure 112022013887320-pat00001
SIMCO ST-4 Surface Resistance Measurement

측정 범위
10³에서 10E13 Ω / □ (또는 Ω)
측정 환경
15 ℃ ~ 25℃, 60 % RH 이하
전극 재질
특수 전도성 고무 (체적 저항 0.02 Ωㆍ㎝ MAX)
측정 정밀도
지수 표시 값 ± 0.5 (지수) (예; 10E8.5 , 10E0.5 )
측정 전압
자동으로 전압을 전환
① 3 승에서 6 승 : 10V, 10mA max
② 6 승에서 13 승 : 100V, 1mA max
SIMCO ST-4 Surface Resistance Measurement

Measuring range
10E13 Ω/□ (or Ω) at 10³
measurement environment
15 ℃ ~ 25 ℃, 60% RH or less
electrode material
Special conductive rubber (volume resistance 0.02 Ω·cm MAX)
Measurement precision
Exponential display value ± 0.5 (exponent) (eg 10E8.5 , 10E0.5 )
Measured voltage
automatically switch voltage
① 3rd to 6th: 10V, 10mA max
② 6th to 13th: 100V, 1mA max

실시예 1Example 1 비교예comparative example 실시예 2Example 2 평균 표면 저항값Average surface resistance value 10E5.7 Ω~10E7 Ω10E5.7 Ω~10E7 Ω 10E13.5 Ω10E13.5 Ω 10E6 Ω~10E7.5 Ω10E6 Ω~10E7.5 Ω

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만, 상기한 실시예는 본 발명의 특정한 일 예로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명의 권리범위는 후술할 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although the preferred embodiment of the present invention has been described in detail above, the above-described embodiment is presented as a specific example of the present invention, and the present invention is not limited thereto. Various modifications and improvements by those skilled in the art using the basic concept of the present invention as defined in are also within the scope of the present invention.

10: 대전 방지 시트
110: 고분자 기재
121: 제2 대전 방지층 122: 제1 대전 방지층
130: 점착층
10: antistatic sheet
110: polymer substrate
121: second antistatic layer 122: first antistatic layer
130: adhesive layer

Claims (13)

(a-1) 고분자 기재 상에 고분자 수지 및 전도성 고분자를 함유하는 대전 방지 조성물을 메쉬 롤을 이용하여 도포하여 제2 대전 방지층을 형성하는 단계;
(a-2) 상기 제2 대전 방지층 상에 점착제를 도포하여 점착층을 형성하는 단계; 및
(b) 상기 점착층 상에 탄소계 대전 방지제, 폴리올, 및 폴리이소시아네이트를 함유하는 열경화형 대전 방지 조성물을 도포 및 열처리하여 제1 대전 방지층을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 (a-1) 단계에서 상기 고분자 기재는 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS) 수지, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 수지, 내충격성 PMMA 수지, 스티렌-아크릴로니트릴(SAN) 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지, 폴리카보네이트(PC 수지), 및 메틸메타크릴레이트-스티렌 수지(MS 수지)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종이고,
상기 고분자 수지는 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 우레탄-아크릴계 공중합체, 에스테르계 수지, 에테르계 수지, 아미드계 수지, 및 에폭시계 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종이거나 상기 고분자 기재에 사용된 수지와 동일한 수지인,
포토 마스크 또는 펠리클의 보관 케이스 제조용 대전 방지 시트의 제조 방법.
(a-1) forming a second antistatic layer by applying an antistatic composition containing a polymer resin and a conductive polymer on a polymer substrate using a mesh roll;
(a-2) forming an adhesive layer by applying an adhesive on the second antistatic layer; and
(b) forming a first antistatic layer by applying and heat-treating a thermosetting antistatic composition containing a carbon-based antistatic agent, polyol, and polyisocyanate on the adhesive layer,
In step (a-1), the polymer substrate is acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin, polymethyl methacrylate (PMMA) resin, impact-resistant PMMA resin, styrene-acrylonitrile (SAN) resin, polyethylene At least one selected from the group consisting of terephthalate (PET) resin, polycarbonate (PC resin), and methyl methacrylate-styrene resin (MS resin),
The polymer resin is at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, a urethane-based resin, a urethane-acrylic copolymer, an ester-based resin, an ether-based resin, an amide-based resin, and an epoxy-based resin, or the same as the resin used in the polymer substrate Suzy,
A method for manufacturing an antistatic sheet for manufacturing a storage case for a photomask or pellicle.
제1항에 있어서,
상기 점착제는 아크릴계, 우레탄계, 또는 고무계 점착제 중에서 선택되는, 방법.
According to claim 1,
The pressure-sensitive adhesive is selected from acrylic, urethane-based, or rubber-based pressure-sensitive adhesives, the method.
제1항에 있어서,
상기 탄소계 대전 방지제는 탄소나노튜브, 그래핀, 및 카본 블랙에서 선택되는 적어도 1종인, 방법.
According to claim 1,
The method of claim 1, wherein the carbon-based antistatic agent is at least one selected from carbon nanotubes, graphene, and carbon black.
제1항에 있어서,
상기 폴리올은 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올, 폴리카프로락톤폴리올, 및 폴리카르보네이트폴리올로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인, 방법.
According to claim 1,
The polyol is at least one selected from the group consisting of polyester polyol, polyether polyol, polycaprolactone polyol, and polycarbonate polyol.
제1항에 있어서,
상기 폴리이소시아네이트는 톨루엔디이소시아네이트(TDI), 디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 나프탈렌디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 자일렌디이소시아 네이트, 4,4-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,3-(이소시아네이트메틸)시클로헥산, 및 트리페닐메탄트리이소시아네이트로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인, 방법.
According to claim 1,
The polyisocyanate is toluene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), naphthalene diisocyanate, tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylene diisocyanate, 4,4-methylenebis (Cyclohexyl isocyanate), trimethyl hexamethylene diisocyanate, 1,3- (isocyanate methyl) cyclohexane, and at least one selected from the group consisting of triphenylmethane triisocyanate, the method.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 (a-1) 단계는 100 내지 150 메쉬의 롤을 이용하여 도포함으로써 실시되는, 방법.
According to claim 1,
The (a-1) step is carried out by applying using a roll of 100 to 150 mesh, the method.
제1항에 있어서,
상기 전도성 고분자는 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리아세틸렌, 및 이들의 유도체에서 선택되는 적어도 1종인, 방법.
According to claim 1,
The method, wherein the conductive polymer is at least one selected from polyaniline, polypyrrole, polythiophene, polyacetylene, and derivatives thereof.
제1항에 기재된 제조 방법에 의해 제조된 대전 방지 시트를 가공하여 제조된 포토 마스크 보관용 케이스.A case for storing a photo mask manufactured by processing the antistatic sheet manufactured by the manufacturing method according to claim 1 . 삭제delete 삭제delete
KR1020220016071A 2022-02-08 2022-02-08 Antistatic Sheet for Photomask Storage Case, Method for Preparing the Same, and Method for Recovering Antistatic Property KR102426963B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220016071A KR102426963B1 (en) 2022-02-08 2022-02-08 Antistatic Sheet for Photomask Storage Case, Method for Preparing the Same, and Method for Recovering Antistatic Property
PCT/KR2022/013805 WO2023153573A1 (en) 2022-02-08 2022-09-15 Antistatic sheet for photomask storage case, manufacturing method therefor, and method for allowing antistatic characteristics to be recovered

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220016071A KR102426963B1 (en) 2022-02-08 2022-02-08 Antistatic Sheet for Photomask Storage Case, Method for Preparing the Same, and Method for Recovering Antistatic Property

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102426963B1 true KR102426963B1 (en) 2022-07-29

Family

ID=82606374

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220016071A KR102426963B1 (en) 2022-02-08 2022-02-08 Antistatic Sheet for Photomask Storage Case, Method for Preparing the Same, and Method for Recovering Antistatic Property

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR102426963B1 (en)
WO (1) WO2023153573A1 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090070652A (en) * 2007-12-27 2009-07-01 에스케이유티스 (주) Conductive sheet for absorbing impact and sealing
KR20100133075A (en) * 2009-06-11 2010-12-21 장관식 Antistatic coating composition, antistatic sheet and sheet employing the same, method of manufacturing the same and antistatic product employing the same
KR20180134142A (en) * 2017-06-08 2018-12-18 동우 화인켐 주식회사 Anti-static adhesive composition and protective sheet prepared from the same
KR20180136674A (en) * 2017-06-15 2018-12-26 동우 화인켐 주식회사 Anti-static adhesive composition and protective sheet prepared from the same
KR20200026704A (en) * 2018-09-03 2020-03-11 하현대 Antistatic multi-layer sheet and manufacturing method thereof

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000272056A (en) * 1999-03-29 2000-10-03 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd Multilayered sheet made of thermoplastic resin
KR101516312B1 (en) * 2013-10-11 2015-05-04 주식회사 엔에스엠 Method of producing a tray for transferring cells

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090070652A (en) * 2007-12-27 2009-07-01 에스케이유티스 (주) Conductive sheet for absorbing impact and sealing
KR20100133075A (en) * 2009-06-11 2010-12-21 장관식 Antistatic coating composition, antistatic sheet and sheet employing the same, method of manufacturing the same and antistatic product employing the same
KR20180134142A (en) * 2017-06-08 2018-12-18 동우 화인켐 주식회사 Anti-static adhesive composition and protective sheet prepared from the same
KR20180136674A (en) * 2017-06-15 2018-12-26 동우 화인켐 주식회사 Anti-static adhesive composition and protective sheet prepared from the same
KR20200026704A (en) * 2018-09-03 2020-03-11 하현대 Antistatic multi-layer sheet and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
WO2023153573A1 (en) 2023-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9278856B2 (en) Flexible sensing material containing carbon nanotubes
KR20140011390A (en) Releasing film for ceramic green sheet production rrocesses
KR100661806B1 (en) Antistatic polyester film
US8298676B2 (en) Electroconductive material and method of producing the same
US20100085319A1 (en) Organic electroconductive polymer coating liquid, organic electroconductive polymer film, electric conductor, and resistive film touch panel
US20180222135A1 (en) Rotor blade element with anti-icing surface for wind turbine rotor blades
KR100902033B1 (en) Manufacturing method of anti-static polyester film
US9580564B2 (en) Transparent polyurethane protective coating, film and laminate compositions with enhanced electrostatic dissipation capability, and methods for making same
KR100902463B1 (en) Anti-static composition and method for production thereof
KR100650152B1 (en) Radiation curable antistatic hard coating composition and antistatic sheet and antistatic tray using it
JP2016523296A (en) Heatable moldings made from conductive thermoplastic polyurethane
CN103552334A (en) Antistatic pad and tray as well as manufacturing method thereof
KR101516312B1 (en) Method of producing a tray for transferring cells
KR101176709B1 (en) Anti-static horizontal piling support for display glass
KR20100133075A (en) Antistatic coating composition, antistatic sheet and sheet employing the same, method of manufacturing the same and antistatic product employing the same
KR102426963B1 (en) Antistatic Sheet for Photomask Storage Case, Method for Preparing the Same, and Method for Recovering Antistatic Property
JPH05331431A (en) Electrically conductive, transparent film for protection purposes
KR101548670B1 (en) Antistatic sheet, tray and method of preparing the same
KR100803782B1 (en) Surface protective film
KR200388860Y1 (en) Bendable antistatic sheet and Antistatic tray for electronic parts using it
JP5753750B2 (en) Laminated film and hard coat film
KR101243050B1 (en) Composition for Anti-Static Coating, Anti-Static Polyester Film Using the Same and Manufacturing Method thereof
TW202311465A (en) Surface-protective film and optical component
JP4784550B2 (en) Transparent conductive paint and transparent conductive film
JP3140258B2 (en) Release film

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant