KR102419561B1 - Method of making synthetic silica deposits to improve surface defects - Google Patents

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KR102419561B1
KR102419561B1 KR1020210186460A KR20210186460A KR102419561B1 KR 102419561 B1 KR102419561 B1 KR 102419561B1 KR 1020210186460 A KR1020210186460 A KR 1020210186460A KR 20210186460 A KR20210186460 A KR 20210186460A KR 102419561 B1 KR102419561 B1 KR 102419561B1
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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a synthetic silica deposition agent to improve surface defects, and more specifically, to a method for manufacturing a silica deposition agent capable of discharging particles inside a chamber during a deposition process by blocking outside air and using a gas flow rate and an exhaust hood, and improving the surface defects. The present invention performs the deposition process by including a chamber for blocking inflow of the outside air, a mandrel, a burner, and the exhaust hood. The method for manufacturing a synthetic silica deposition agent to improve surface defects according to the present invention can reduce pores on a surface of the deposition agent, pores inside the deposition agent, and white spots when the deposition process is performed. In addition, by rapidly removing the particles such as silica particles inside, the present invention can reduce maintenance time inside the chamber between deposition processes. Therefore, productivity can be improved by increasing a yield.

Description

표면 결함을 개선시키기 위한 합성 실리카 증착체 제조 방법{Method of making synthetic silica deposits to improve surface defects}Method of making synthetic silica deposits to improve surface defects

본 발명은 표면 결함을 개선시키기 위한 합성 실리카 증착체 제조 방법에 관한 것으로, 상세하게 외기를 차단하고 가스 유속과 배기 후드의 배기량을 활용하여 증착공정 중 챔버 내부에 체류하는 입자를 배출하여 완제품의 표면결함을 개선하기 위한 실리카 증착제 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a synthetic silica deposited material for improving surface defects, in detail, blocking the outside air, utilizing the gas flow rate and the exhaust amount of the exhaust hood to discharge the particles remaining in the chamber during the deposition process to the surface of the finished product It relates to a method of manufacturing a silica deposition agent for improving defects.

합성 쿼츠 제조공정 중 증착공정에서 원료가 버너를 통하여 분출되어 공급되어 증착이 진행되는데, 이때 미처 증착되지 못한 실리카 입자들은 챔버 내부의 압력차를 이용하여 집진기를 통해 외부로 배출되게 된다. 그러나 배출되는 양보다 많은 미분이 생성되는 경우, 배출되지 못한 입자는 챔버 외부에서 들어오는 외기와 내부 가스의 흐름으로 인하여 맨드릴 근처에서 체공하며 잔류하게 된다.During the deposition process of the synthetic quartz manufacturing process, the raw material is ejected and supplied through a burner to proceed with deposition. At this time, the silica particles that have not been deposited are discharged to the outside through the dust collector using the pressure difference inside the chamber. However, when more fine particles than the discharged amount are generated, the particles that have not been discharged remain suspended near the mandrel due to the flow of outside air and internal gas coming from outside the chamber.

이때, 배출되지 못한 큰 입자들이 맨드릴에 증착 되어 공정이 끝나면 증착체 외부에 반점, 곰보자국, 기공 등의 모양으로 생성되며 증착체의 품질을 저하시켜 가공 시 손실이 발생하거나 수트를 폐기하게 되는 문제점이 있다.At this time, the large particles that could not be discharged are deposited on the mandrel and when the process is finished, they are created in the form of spots, burrs, and pores on the outside of the deposited body. There is this.

선행문헌 1 : 대한민국 등록특허 10-1725359 (2017.04.04. 등록)Prior Document 1: Republic of Korea Patent Registration 10-1725359 (Registered on April 4, 2017)

본 발명의 기술적 목적은 챔버 내부의 체류하는 실리카 입자와 같은 파티클을 제거하여 증착체의 품질을 향상하고, 증착되지 못하고 챔버 내에서 잔여하는 불균일한 작은 입자들인 미분을 외기를 사용하지 않는 복수개의 후드, 복수개의 버너를 사용하여 효율적으로 챔버 외부로 방출해서 챔버의 정비시간을 단축시켜 생산성을 향상하는 것이다.A technical object of the present invention is to remove particles such as silica particles remaining in the chamber to improve the quality of the deposited body, and to remove fine particles, which are non-uniform small particles remaining in the chamber without being deposited, in a plurality of hoods that do not use external air. , it is to efficiently discharge to the outside of the chamber by using a plurality of burners to shorten the maintenance time of the chamber and to improve productivity.

본 발명은 증착이 진행되는 내부공간이 구비되고 외기 유입을 차단하는 챔버, 챔버 내부에 구비되는 막대 형상의 외면을 따라 증착이 진행되는 맨드릴, 맨드릴의 외면을 따라 화염을 분사하여 증착을 진행하는 버너 및 버너에서 방출되어 증착 되지 못하고 체류하는 불균일한 입자가 상기 맨드릴에 증착 되기 전에 상기 챔버에서 배출시키기 위한 배기후드를 포함하는 반도체용 합성 쿼츠 제조장치를 제공한다.The present invention is a chamber having an internal space in which deposition is carried out and blocking the inflow of external air, a mandrel in which deposition is carried out along a rod-shaped outer surface provided inside the chamber, and a burner in which deposition is carried out by spraying flames along the outer surface of the mandrel. and an exhaust hood for discharging the non-uniform particles that are emitted from the burner and are not deposited and remain in the chamber before being deposited on the mandrel.

또한, 버너는 복수개가 구비되어 원료를 분사하고, 흐르는 가스 유속을 조정하여 챔버 내부에 체류하는 불균일한 입자를 외부로 배출하는 반도체용 합성 쿼츠 제조장치를 제공한다.In addition, a plurality of burners are provided to inject raw materials, and adjust the flow rate of a flowing gas to discharge non-uniform particles remaining in the chamber to the outside.

또한, 배기후드는, 복수개가 구비되어 챔버 내부에 체류하는 입자를 차압을 조정하여 외부로 배출시키는 반도체용 합성 쿼츠 제조장치를 제공한다.In addition, a plurality of exhaust hoods are provided to provide an apparatus for manufacturing synthetic quartz for semiconductors for discharging particles remaining in the chamber to the outside by adjusting the differential pressure.

본 발명에 따르면 증착체 표면의 곰보자국(Pore) 및 내부의 기공(Hole)과 백색반점을 감소시킬 수 있다. 또한, 증착 시 증착층에 잔여하는 불균일한 크기를 가진 실리카 입자와 같은 파티클을 효과적으로 제거하여 제품의 수율 뿐 아니라 증착 공정과 증착 공정 사이의 챔버 내부 정비시간의 단축 효과를 볼 수 있어 생산성을 향상할 수 있다.According to the present invention, it is possible to reduce pores and internal pores and white spots on the surface of the deposition body. In addition, by effectively removing particles such as silica particles having a non-uniform size remaining in the deposition layer during deposition, it is possible to see the effect of shortening not only the product yield but also the maintenance time in the chamber between the deposition process and the deposition process, thereby improving productivity. can

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 챔버와 그 내부를 나타내는 정면도이다.
도 2는 기존 발명에서 외기를 유입시키는 방식의 챔버와 그 내부를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 챔버와 그 내부의 측면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 복수 개의 배기후드를 구비한 챔버와 그 내부를 나타내는 도면이다.1 is a front view showing a chamber and the interior according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a view showing the chamber and the inside of the method of introducing the outside air in the conventional invention.
3 is a side view of a chamber and its interior according to an embodiment of the present invention;
4 is a view showing a chamber having a plurality of exhaust hoods and an inside thereof according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한 도면에서 본 발명을 명확하게 개시하기 위해서 본 발명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 도면에서 동일하거나 유사한 부호들은 동일하거나 유사한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those of ordinary skill in the art can easily carry out the embodiments of the present invention. However, the present invention may be implemented in several different forms and is not limited to the embodiments disclosed below. In addition, in order to clearly disclose the present invention in the drawings, parts irrelevant to the present invention are omitted, and the same or similar symbols in the drawings indicate the same or similar components.

본 발명의 목적 및 효과는 하기의 설명에 의해서 자연스럽게 이해되거나 보다 분명해질 수 있으며, 하기의 기재만으로 본 발명의 목적 및 효과가 제한되는 것은 아니다.Objects and effects of the present invention can be naturally understood or more clearly understood by the following description, and the objects and effects of the present invention are not limited only by the following description.

본 발명의 목적, 특징 및 장점은 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해질 것이다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명하기로 한다.The objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description. In addition, in the description of the present invention, if it is determined that a detailed description of a known technology related to the present invention may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. Hereinafter, an embodiment according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 4에 나타낸 화살표는 챔버 내부의 공기 흐름을 나타낸 것이다.The arrows shown in FIGS. 1 to 4 indicate the air flow inside the chamber.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 챔버(100)와 그 내부를 나타내는 정면도이다. 도 1을 참고하면 본 발명의 일 실시예는 챔버(100), 맨드릴(200), 버너(300), 배기후드(400)로 구성된다.1 is a front view showing a chamber 100 and the inside according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1 , an embodiment of the present invention includes a chamber 100 , a mandrel 200 , a burner 300 , and an exhaust hood 400 .

챔버(100)는 내부공간을 가지고 내부공간에 맨드릴(200) 버너(300) 배기후드(400) 등을 구비하여 증착 공정이 이루어지도록 환경을 제공하는 구성이다.The chamber 100 has an internal space and is configured to provide an environment for the deposition process by providing a mandrel 200, a burner 300, an exhaust hood 400, and the like in the internal space.

도 2는 기존 발명에서 외기를 유입시키는 방식의 챔버(100)와 그 내부를 나타내는 도면이다. 도 2를 참고하면, 기존 발명에서는 외기유입덕트(110)를 구비하는 등의 방법으로 외기를 유입시키는 방식을 통해 내부에 유속과 차압을 제어하여 증착공정 중 생기는 수트 입자와 같은 파티클 들이 빠져나갈 수 있도록 한다. 외기를 유입시키면 다른 파티클이 외기와 함께 유입되어 불순물이 될 수도 있으며. 외기를 유입하기 위한 통로가 있으면, 외기가 유입되기만 하는 것이 아니라 내부의 공기가 나갈 수 있는 통로가 되어 내부 압력이 낮아져서 내부의 공기가 외부로 나가기 힘들어질 수 있다.2 is a view showing the chamber 100 and the inside of the conventional method for introducing outside air in the present invention. Referring to FIG. 2, in the existing invention, by controlling the flow rate and differential pressure inside through a method of introducing outside air by a method such as having an outside air inlet duct 110, particles such as soot particles generated during the deposition process can escape. let it be If outside air is introduced, other particles may be introduced together with the outside air and become impurities. If there is a passage for introducing the outside air, it becomes a passage through which the inside air can go out rather than just the outside air being introduced, so that the internal pressure may be lowered, making it difficult for the inside air to go out.

본 발명의 일 실시예에서는 외기를 차단하도록 챔버(100)를 구성하여 외기유입덕트(110)를 없애고, 내부에 버너(300)와 가스흐름을 통해 내부에 생기는 파티클 등의 입자들이 외부로 빠져나갈 수 있도록 구비된다.In one embodiment of the present invention, the chamber 100 is configured to block the outside air, the outside air inlet duct 110 is eliminated, and particles such as particles generated inside through the burner 300 and the gas flow inside will escape to the outside. provided so that

이처럼 외기를 차단하는 챔버(100)를 구성하여 내부 버너(300)의 가스흐름을 제어하여 내부 압력의 조절을 통해 파티클 등의 입자들이 효율적으로 외부로 빠져갈 수 있어서, 증착 공정 시 생기는 증착체의 표면과 내부의 곰보자국 및 백색반점 등과 같은 문제를 방지할 수 있다.In this way, by configuring the chamber 100 to block the outside air, the gas flow of the internal burner 300 is controlled so that particles such as particles can efficiently escape to the outside through the control of the internal pressure, so that the deposits generated during the deposition process It can prevent problems such as burrs and white spots on the surface and inside.

맨드릴(200)은 막대 형상의 외면을 따라 증착이 진행되는 구성이며, 증착을 진행하여 합성 쿼츠를 제조하게 된다. 이때, 맨드릴(200)의 외면에 증착이 된 합성 쿼츠를 증착체라고 한다.The mandrel 200 has a configuration in which deposition is carried out along the outer surface of the rod shape, and synthetic quartz is manufactured by deposition. At this time, the synthetic quartz deposited on the outer surface of the mandrel 200 is referred to as a deposition body.

맨드릴(200)은 막대 형상과 같이 길이를 가지는 원기둥, 사각기둥, 직사각기둥 등의 다양한 형상으로 구비될 수 있다. 다만, 후가공 시 낭비되는 내부 자재를 최소화하기 위해서 실린더 형상의 합성 쿼츠를 제작하는 것이 효율적이며, 이를 위해 맨드릴(200)은 소정의 직경을 갖는 원기둥 형상으로 구비되어 증착체가 실린더 형상이 되도록 하는 것이 바람직하고, 소정의 직경은 최종적으로 만들게 되는 완성품의 내경 크기와 같거나 이보다 더 큰 크기인 것이 더욱 효율적이다.The mandrel 200 may be provided in various shapes such as a cylinder having a length such as a rod shape, a square pillar, a rectangular pillar, and the like. However, it is efficient to manufacture a cylindrical synthetic quartz in order to minimize wasted internal materials during post-processing. And, it is more efficient that the predetermined diameter is the same as or larger than the inner diameter of the finished product to be finally made.

또한, 맨드릴(200)은 원기둥 형상의 옆면을 따라 증착이 진행되게 되는데, 후술할 버너(300)는 맨드릴(200)의 하부에 위치하여 화염을 분출하므로 원기둥 형상의 옆면에 버너(300)의 화염을 공급받아 증착이 진행될 수 있도록 원기둥을 옆으로 눕힌 형상으로 구비되게 된다. 이와 같이 원기둥을 눕힌 상태에서 맨드릴(200)의 원기둥 형상의 옆면에 증착이 될 때, 원기둥 형상의 높이가 옆면의 길이가 되고 이를 증착길이라고 한다.In addition, the mandrel 200 is deposited along the side surface of the cylindrical shape, and the burner 300 to be described later is located below the mandrel 200 to eject a flame, so the flame of the burner 300 is located on the side of the cylinder shape. It is provided in a shape in which the cylinder is laid on its side so that the deposition can proceed. When deposition is performed on the side surface of the cylindrical shape of the mandrel 200 in a state in which the cylinder is laid down as described above, the height of the cylinder shape becomes the length of the side surface, and this is referred to as a deposition length.

이와 같이 맨드릴(200)이 구성되면 실린더 형상의 합성 쿼츠를 제작할 수 있어 코어링을 생략하고 내부 자재가 낭비되는 것을 방지하여 생산성을 증대하고 비용을 절감하는 효과가 있다.When the mandrel 200 is configured in this way, it is possible to manufacture a synthetic quartz having a cylindrical shape, thereby omitting coring and preventing wastage of internal materials, thereby increasing productivity and reducing costs.

버너(300)는 맨드릴(200)의 외면을 따라 화염과 가스, 원료를 공급하여 맨드릴(200)의 외면에 증착이 진행되도록 하는 구성이다.The burner 300 is configured to supply flame, gas, and raw materials along the outer surface of the mandrel 200 so that deposition is performed on the outer surface of the mandrel 200 .

화염 및 가스는 온도가 높아서 지면에서 지상으로 올라가는 방향으로 이동하기 때문에, 버너(300)는 회전하는 맨드릴(200)의 하부에 위치하여 위쪽에 위치한 맨드릴(200)의 맨드릴(200)을 향해 화염을 방출하여 증착을 진행하도록 구비된다. 이때, 버너(300)의 상부에 위치하는 맨드릴(200)은 버너(300)에서 방출되는 화염을 잘 받아서 증착할 수 있도록 원기둥이 누워있는 형태로 옆면이 버너(300) 방향으로 향하게 구비하게 되며, 맨드릴(200)의 원기둥 형상의 높이가 증착이 진행되는 증착길이가 되게 된다.Since the flame and gas move from the ground to the ground due to the high temperature, the burner 300 is located below the rotating mandrel 200 and fires the flame toward the mandrel 200 of the mandrel 200 located above. It is provided to proceed with the deposition by emitting. At this time, the mandrel 200 located on the upper part of the burner 300 is provided with the side face toward the burner 300 in the form of a cylinder lying so that it can receive the flame emitted from the burner 300 and deposit it well, The height of the cylindrical shape of the mandrel 200 becomes the deposition length during which deposition is carried out.

한편, 버너(300)는 맨드릴(200)의 증착길이와 동일한 길이로 구비될 수 있으며, 더 길거나 짧게도 구비될 수 있다. 다만, 버너(300)가 맨드릴(200)의 증착길이보다 더 짧게 형성되는 경우에는 버너(300)가 고정되어 있으면, 맨드릴(200)의 증착길이를 모두 증착 시킬 수 없기 때문에 맨드릴(200)의 길이방향을 따라 이동하며 모두 증착 시키도록 구비될 수 있다.Meanwhile, the burner 300 may be provided with the same length as the deposition length of the mandrel 200 , and may be longer or shorter. However, when the burner 300 is formed to be shorter than the deposition length of the mandrel 200, if the burner 300 is fixed, since it is impossible to deposit all the deposition length of the mandrel 200, the length of the mandrel 200 It may be provided to move along the direction and deposit all of them.

버너(300)는 한 개 또는 복수 개로 구비될 수 있고, 복수 개가 구비되는 경우 가스 유속이 증가되어 챔버(100) 내부에 체류하는 입자가 배기후드(400)를 통해 외부로 더 빨리 배출되도록 할 수 있다. 다만, 동일한 유속을 가지는 버너(300)를 복수 개 구비하여 유속을 증가시키는 것뿐만 아니라 한 개의 버너(300)의 유속을 증가시켜서 복수 개의 버너(300)를 구비한 효과를 낼 수도 있다. 또한, 복수개가 구비된 버너(300)의 유속을 조절하도록 구비하여 증착 과정에 따라 필요한 적절한 유속을 갖도록 제어하는 것 또한 가능하다. 이때, 복수개의 버너 전체의 유속을 조절하기 위해 각각의 버너 모두의 유속을 일정한 비율로 조절하거나, 전체 유속 조절을 위해 복수개의 버너 중 일부만의 유속을 조절하는 방법도 가능하다.One or a plurality of burners 300 may be provided, and when a plurality of burners are provided, the gas flow rate is increased so that the particles remaining in the chamber 100 are discharged to the outside through the exhaust hood 400 faster. have. However, by providing a plurality of burners 300 having the same flow rate to increase the flow rate, it is also possible to increase the flow rate of one burner 300 to obtain the effect of having a plurality of burners 300 . In addition, it is also possible to control the flow rate of the plurality of burners 300 to have an appropriate flow rate required according to the deposition process. In this case, it is also possible to adjust the flow rates of all of the burners at a constant ratio in order to control the flow rates of all of the plurality of burners, or to adjust the flow rates of only some of the plurality of burners to control the total flow rates.

이와 같이 버너(300)가 구성되면 화염과 가스 및 원료를 공급하여 맨드릴(200) 외면에 증착이 진행되도록 할 수 있고, 가스 유속의 조정을 통해 도 1의 화살표 방향과 같이 공기의 흐름을 만들어 내부에 잔류하는 수트 등의 파티클 입자를 배기후드(400) 방향으로 보내서 배기후드(400)를 통해 외부로 효율적으로 배출되도록 할 수 있다.When the burner 300 is configured in this way, it is possible to supply a flame, gas, and raw material to the mandrel 200 so that deposition proceeds, and by adjusting the gas flow rate, the air flow is made as shown in the arrow direction of FIG. It is possible to send particle particles such as soot remaining in the exhaust hood 400 in the direction of the exhaust hood 400 to be efficiently discharged to the outside through the exhaust hood 400 .

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 챔버(100)와 그 내부의 측면도이다. 도 3을 참고하면, 배기후드(400)는 챔버(100) 내부에 잔류하는 불균일한 입자인 실리카 입자 등의 파티클을 외부로 배출하기 위한 구성이다.3 is a side view of the chamber 100 and its interior according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3 , the exhaust hood 400 is configured to discharge particles such as silica particles, which are non-uniform particles remaining inside the chamber 100 , to the outside.

배기후드(400)는 맨드릴(200)의 상부에 구비되어 챔버(100) 내부에 잔류하는 실리카 입자 등의 파티클을 외부로 방출하도록 구성된다. 상술한바와 같이 맨드릴(200) 하부에 구성된 버너(300)가 방출하는 화염과 가스에 의해 만들어진 압력과 기류를 통해 챔버(100) 내부의 공기를 배기후드(400)가 구비된 맨드릴(200)의 상부 측으로 이동시켜서 배기후드(400)를 통해 실리카 입자 등의 파티클 입자들을 외부로 배출하게 된다.The exhaust hood 400 is provided on the mandrel 200 and is configured to discharge particles such as silica particles remaining in the chamber 100 to the outside. As described above, the air inside the chamber 100 is evacuated through the pressure and airflow created by the flame and gas emitted by the burner 300 configured under the mandrel 200 as described above. By moving to the upper side, the particle particles such as silica particles are discharged to the outside through the exhaust hood 400 .

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 복수 개의 배기후드(400)를 구비한 챔버(100)와 그 내부를 나타내는 도면이다. 도 4를 참고하면, 배기후드(400)는 한 개 또는 복수 개로 구비될 수 있고, 복수개가 구비되는 경우에는 챔버(100) 내부에 체류하는 입자를 외부로 배출시키는 압력을 증가시킬 수 있고, 따라서 챔버 내부와 외부의 차압을 조정하여 챔버(100) 내부에 체류하는 입자를 외부로 더 빨리 배출할 수 있다. 또한, 복수 개의 배기후드(400)가 구비되면, 도 4의 화살표와 같이 내부를 순환하는 공기의 흐름이 생성되어 챔버(100)의 중심에서 먼 쪽에 부유하는 불균일한 입자 등도 배기후드(400)를 향해 이동하여 방출될 수 있다.4 is a view showing a chamber 100 having a plurality of exhaust hoods 400 and an inside thereof according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4 , one or a plurality of exhaust hoods 400 may be provided, and when a plurality of exhaust hoods 400 are provided, it is possible to increase the pressure for discharging particles remaining in the chamber 100 to the outside, thus By adjusting the pressure difference between the inside and the outside of the chamber, the particles remaining in the chamber 100 can be discharged to the outside more quickly. In addition, when a plurality of exhaust hoods 400 are provided, a flow of air circulating inside is generated as shown by the arrow in FIG. 4 , so that non-uniform particles floating on the far side from the center of the chamber 100 also remove the exhaust hood 400 . It can be released by moving towards it.

한편, 배기후드(400)는 내부의 입자를 외부로 배출하는 단순한 통로로 구비될 수 있고, 내부의 입자를 빨아들여 외부로 배출하도록 공기의 흐름을 제어하는 팬(Fan)과 같은 설비를 더 포함하여 외부로 입자를 더욱 효율적으로 내보낼 수 있도록 구비될 수 있다.On the other hand, the exhaust hood 400 may be provided as a simple passage for discharging particles from the inside to the outside, and further includes equipment such as a fan for controlling the flow of air to suck inside particles and discharge them to the outside. Thus, it may be provided to more efficiently export the particles to the outside.

이와 같이 배기후드(400)가 구성되면 챔버(100) 내부에 존재하는 실리카 입자 등의 파티클을 외부로 방출시켜서 곰보자국(Pore), 기공(Hole) 및 백색반점을 방지할 수 있어서 증착체의 품질을 향상할 수 있다. 또한, 증착 공정과 증착공정 사이에 챔버(100) 내부를 정비하는 시간을 단축하여 생산성을 높일 수 있다.When the exhaust hood 400 is configured in this way, particles such as silica particles present inside the chamber 100 can be emitted to the outside to prevent pores, holes, and white spots, so that the quality of the deposited body can improve In addition, it is possible to increase productivity by shortening the time for maintaining the interior of the chamber 100 between the deposition process and the deposition process.

상기한 본 발명의 바람직한 실시 예는 예시의 목적으로 개시된 것이고, 본 발명에 대해 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경 및 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 상기의 특허청구 범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다. The above-described preferred embodiments of the present invention are disclosed for purposes of illustration, and those skilled in the art with ordinary skill in the art will be able to make various modifications, changes and additions within the spirit and scope of the present invention, and such modifications, changes and additions should be considered to be within the scope of the above claims.

본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서, 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로, 본 발명은 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니다.Those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains, within the scope of not departing from the technical spirit of the present invention, various substitutions, modifications and changes are possible, so the present invention is described in the above-described embodiments and the accompanying drawings. not limited by

상술한 예시적인 시스템에서, 방법들은 일련의 단계 또는 블록으로써 순서도를 기초로 설명되고 있지만, 본 발명은 단계들의 순서에 한정되는 것은 아니며, 어떤 단계는 상술한 바와 다른 단계와 다른 순서로 또는 동시에 발생할 수 있다. 또한, 당업자라면 순서도에 나타낸 단계들이 배타적이지 않고, 다른 단계가 포함되거나 순서도의 하나 또는 그 이상의 단계가 본 발명의 범위에 영향을 미치지 않고 삭제될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.In the exemplary system described above, the methods are described on the basis of a flowchart as a series of steps or blocks, but the present invention is not limited to the order of steps, and some steps may occur in a different order or concurrently with other steps as described above. can In addition, those skilled in the art will understand that the steps shown in the flowchart are not exhaustive and that other steps may be included or that one or more steps in the flowchart may be deleted without affecting the scope of the present invention.

100: 챔버 110: 외기유입덕트
200: 맨드릴
300: 버너
400: 배기후드100: chamber 110: outside air inlet duct
200: mandrel
300: burner
400: exhaust hood

Claims (3)

증착이 진행되는 내부공간이 구비되고 외기 유입을 차단하는 챔버(100);
상기 챔버(100) 내부에 구비되는 막대 형상의 외면을 따라 증착이 진행되는 맨드릴(200);
상기 맨드릴(200)의 외면을 따라 화염을 분사하여 증착을 진행하는 버너(300); 및
상기 버너(300)에서 방출되어 증착 되지 못하고 체류하는 불균일한 입자가 상기 맨드릴(200)에 증착 되기 전에 상기 챔버(100)에서 배출시키기 위한 배기후드(400);를 포함하며,
상기 버너(300)는,
복수개가 구비되어 원료를 분사하고, 흐르는 가스 유속을 조정하여 챔버(100) 내부에 체류하는 불균일한 입자를 외부로 배출하는 반도체용 합성 쿼츠 제조장치.A chamber 100 having an internal space in which deposition is performed and blocking the inflow of external air;
a mandrel 200 on which deposition is performed along a rod-shaped outer surface provided in the chamber 100;
a burner 300 for depositing by spraying a flame along the outer surface of the mandrel 200; and
Exhaust hood 400 for discharging from the chamber 100 before the non-uniform particles that are emitted from the burner 300 and remain undeposited are deposited on the mandrel 200;
The burner 300 is
A synthetic quartz manufacturing apparatus for semiconductors that is provided with a plurality of raw materials and discharges the non-uniform particles remaining in the chamber 100 by adjusting the flow rate of the flowing gas. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 배기후드(400)는,
복수개가 구비되어 챔버(100) 내부에 체류하는 입자를 차압을 조정하여 외부로 배출시키는 반도체용 합성 쿼츠 제조장치.
The method of claim 1,
The exhaust hood 400,
A synthetic quartz manufacturing apparatus for semiconductors, which is provided in plurality and discharges particles remaining in the chamber 100 to the outside by adjusting the differential pressure.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20060078001A (en) * 2004-12-30 2006-07-05 삼성전자주식회사 Optical fiber fabrication apparatus
JP2014514236A (en) * 2011-04-08 2014-06-19 ヘレウス クオーツ ユーケー リミティド Manufacture of silica housing
KR101725359B1 (en) 2009-11-09 2017-04-10 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 ＆ 컴파니 케이지 Process for producing a quartz glass cylinder and also surpport for carrying out the process

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