KR102414089B1 - Diiodosilane producing method - Google Patents

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KR102414089B1 KR1020190114744A KR20190114744A KR102414089B1 KR 102414089 B1 KR102414089 B1 KR 102414089B1 KR 1020190114744 A KR1020190114744 A KR 1020190114744A KR 20190114744 A KR20190114744 A KR 20190114744A KR 102414089 B1 KR102414089 B1 KR 102414089B1
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Abstract

[과제] 페닐실란과 요오드의 반응에 의한 디요오도실란의 공업 스케일에서의 제조를 안전하게 효율적으로 행하는 것을 목적으로 한다.
[해결 수단] 페닐실란과 요오드의 반응을 저온에서 개시하고, 적하, 혼합 공정이 종료된 후, 반응 용액을 소량씩 연속적으로 승온시키면서 이송하는 공정을 적어도 포함하는 디요오도실란의 제조 방법을 제공한다.
[Project] An object of the present invention is to safely and efficiently produce diiodosilane on an industrial scale by reaction of phenylsilane and iodine.
[Solutions] To provide a method for producing diiodosilane, comprising at least a step of starting the reaction of phenylsilane with iodine at a low temperature, and after the dropping and mixing steps are completed, the reaction solution is transferred while continuously increasing the temperature little by little do.

Description

디요오도실란의 제조 방법{DIIODOSILANE PRODUCING METHOD}Method for producing diiodosilane {DIIODOSILANE PRODUCING METHOD}

본 발명은 요오도실란, 특히 전자재료 용도의 성막 재료로서 사용되는 요오도실란의 공업적 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an industrial method for producing iodosilane, particularly iodosilane used as a film forming material for electronic material applications.

요오도실란을 포함하는 할로실란류는 반도체 제조 시, 질화규소 등의 규소 함유막을 CVD법(화학 기상 성장법)이나 ALD법(원자층 퇴적법)에 의해 형성하는 경우의 원재료로서 널리 사용되고 있다.Halosilanes including iodosilane are widely used as raw materials for forming a silicon-containing film such as silicon nitride by a CVD method (chemical vapor deposition method) or ALD method (atomic layer deposition method) during semiconductor manufacturing.

특히, 디요오도실란은, 그 반응성의 높이나, 증기압의 관점에서 주목받고 있으며, 근래 수요가 높아지고 있다.In particular, diiodosilane attracts attention from the viewpoint of high reactivity and vapor pressure, and the demand is increasing in recent years.

디요오도실란의 합성 방법은 예로부터 알려져 있으며, 페닐실란과 요오드의 반응에 의해 2단계로 생성하는 것이 보고되어 있다.The synthesis method of diiodosilane has been known for a long time, and it has been reported that it is produced in two steps by the reaction of phenylsilane and iodine.

페닐실란과 요오드의 반응은, 고액 반응이기 때문에 반응이 개시되기 어렵고, 나아가 발열 반응인 점에서, 안정적인 반응의 계속될 수 있는 조건이 어렵다. 특히, 반응 종반은 요오드의 고체가 작아지고, 비표면적이 커져, 고활성이 되어 있기 때문에 안정적으로 반응을 컨트롤하는 것이 매우 곤란해져 있다.Since the reaction of phenylsilane and iodine is a solid-liquid reaction, it is difficult to initiate the reaction, and furthermore, since it is an exothermic reaction, the conditions under which the stable reaction can be continued are difficult. In particular, at the end of the reaction, since the solid of iodine becomes small, the specific surface area increases, and it becomes highly active, it is very difficult to stably control the reaction.

Keinan들은, 이 반응을 무용매로 행하고 있었는데, 그 스케일은 NMR 튜브 내(내경 4mm 정도)라는 작은 규모로, -20℃라는 저온 반응으로 행하고 있다(하기 비특허문헌 1 참조). Kerrigan들은, 3L 스케일에서의 제조 방법을 제안하고 있는데, 반응은 -65℃의 저온 배스에서 냉각하면서, -6℃~+6℃로 컨트롤하고, 그 후, 15시간을 들여 주의 깊게 실온까지 되돌리고 있다(하기 특허문헌 1). 이것은, 반응 종반에도 아직 미반응의 원료가 잔존하고 있는 것을 나타내고 있다. Kerrigan들의 제조 방법은, Keinan들과 비교하면, 스케일 업되어 있다고는 해도, 공업적 스케일로 행하려면, 여전히 많은 과제가 남아 있다.Keinans performed this reaction without a solvent, but the scale is a small scale inside an NMR tube (about 4 mm inner diameter), and it is carried out by a low-temperature reaction of -20°C (refer to Non-Patent Document 1 below). Kerrigan et al. propose a manufacturing method on a 3L scale, in which the reaction is controlled to -6°C to +6°C while cooling in a low-temperature bath of -65°C, and then carefully returned to room temperature for 15 hours ( The following patent document 1). This indicates that unreacted raw materials still remain even at the end of the reaction. Although the manufacturing method of Kerrigans is scaled up compared to Keinans, there are still many challenges to be carried out on an industrial scale.

미국 특허 출원 공개 제2016/0264426호 명세서Specification of US Patent Application Publication No. 2016/0264426

J. Org. Chem. Vol. 52, 1987, pp. 4846-4851J. Org. Chem. Vol. 52, 1987, pp. 4846-4851

디요오도실란을 공업적으로 적합한 규모로 제조하려면, 최저라고 해도 예를 들면, 10L 이상, 바람직하게는 30L 이상, 경우에 따라서는 100L 또는 그 이상의 큰 스케일로 제조하는 등, 대량으로 원료를 주입하고, 게다가, 반응 시간을 단축할 수 있는 것 등의 조건을 채용할 수 있는 것이 바람직하다. 그 때, 대량으로 원료를 주입하여 반응시키면, 급격하게 발열하여, 반응이 폭주할 가능성이 크고, 반응의 폭주를 억제하기 위한 반응 온도의 컨트롤 방법의 재검토가 필요하다.In order to manufacture diiodosilane on an industrially suitable scale, even if it is the minimum, for example, 10L or more, preferably 30L or more, and in some cases, 100L or more, raw materials are injected in large quantities, such as production on a large scale. In addition, it is preferable that conditions such as being able to shorten the reaction time can be adopted. In that case, when a large amount of raw materials are injected and reacted, the reaction temperature is highly likely to be rapidly exothermic and runaway of the reaction, and it is necessary to review the method for controlling the reaction temperature for suppressing runaway of the reaction.

반응 시간의 단축에는, 어느 정도의 높은 반응 온도로 행함으로써, 반응의 진행을 촉진하는 것이 알려져 있는데, 대량으로 원료를 주입하여 반응시키는 경우의 반응의 폭주를 억제할 수 없으면 중대한 사고로 이어질 우려가 있다.It is known to accelerate the progress of the reaction by carrying out the reaction at a certain high reaction temperature to shorten the reaction time. have.

페닐실란과 요오드의 반응에 의해 디요오도실란을 제조하는 반응은 하기 식과 같은 2단계 반응이지만, 고액 반응인 제1단째가 율속이 되고, 2단째의 요오드화수소에 의한 탈페닐 반응은 1단째에 비해 빠르게 진행된다. 따라서, 요오드화수소의 계내로의 축적은 적다고 생각할 수 있다. 그러나, 1단째의 반응도 2단째의 반응도 모두 발열 반응이며, 제1단의 반응이 진행되면 즉시 1단째와 2단째를 합친 발열이 일어난다는 상황이 되며, 이에 대한 대처는 매우 중요하다.The reaction for producing diiodosilane by the reaction of phenylsilane and iodine is a two-step reaction as shown in the following formula, but the first step, which is a solid-liquid reaction, is the rate-controlled, and the dephenyl reaction by hydrogen iodide in the second step is performed in the first step. progresses faster than Accordingly, it is considered that the accumulation of hydrogen iodide in the system is small. However, both the reaction of the 1st stage and the reaction of the 2nd stage are exothermic reactions, and when the reaction of the 1st stage proceeds, it becomes a situation that the combined exotherm of the 1st stage and the 2nd stage immediately occurs, and it is very important to deal with this.

Ph-SiH3+I2→Ph-SiH2-I+HIPh-SiH 3 +I 2 →Ph-SiH 2 -I+HI

Ph-SiH2-I+HI→I-SiH2-I+H-PhPh-SiH 2 -I+HI→I-SiH 2 -I+H-Ph

또한, 상기 반응 화학식 중, Ph는 페닐기를 나타낸다.In addition, in the said reaction formula, Ph represents a phenyl group.

발열 반응의 컨트롤은 얼마나 반응을 유지시키면서, 반응열을 제거하여 반응의 폭주를 방지하는지가 열쇠가 되는데, 반응 스케일이 커짐에 따라, 발열하는 체적은 세제곱으로 증가하는데 반해서, 냉각되는 표면적은 제곱으로밖에 증가하지 않기 때문에, 냉각 방법, 온도의 컨트롤이 대단히 중요하게 된다.The key to controlling an exothermic reaction is how much the reaction is maintained and how much heat is removed to prevent runaway of the reaction. Since it does not increase, the control of cooling method and temperature becomes very important.

본 발명자들은 예의 검토를 행한 결과, 반응액을 소량씩 온도가 컨트롤된 배관을 연속적으로 통과시킴으로써, 안전하게 스케일 업을 행할 수 있는 것을 찾아내어, 본 발명에 이르렀다.As a result of earnest examination, the present inventors found that scale-up could be safely performed by continuously passing a reaction solution through a pipe whose temperature was controlled little by little, and led to the present invention.

즉, 본 발명은, 페닐실란과 요오드를 용매의 존재 하에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 디요오도실란의 제조 방법이다.That is, the present invention is a method for producing diiodosilane characterized in that phenylsilane and iodine are reacted in the presence of a solvent.

또한, 특히 바람직하게는 반응조 중의 용매와 요오드의 혼합물에 페닐실란과 촉매를 적하하여 디요오도실란을 제조하는 방법으로서, 반응조 중의 상기 용매, 요오드, 페닐실란, 촉매 및 반응 생성물을 포함하는 반응 혼합물을 반응조 중으로부터 소량씩 연속적으로 또는 간헐적으로 취출(取出)하여 승온시키면서 이송하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 디요오도실란의 제조 방법이다.Also, particularly preferably, it is a method for producing diiodosilane by dropping phenylsilane and a catalyst to a mixture of a solvent and iodine in a reaction tank, and a reaction mixture comprising the solvent, iodine, phenylsilane, a catalyst and a reaction product in the reaction tank It is a method for producing diiodosilane, comprising the step of continuously or intermittently taking out a small amount from the reactor and transferring it while raising the temperature.

본 발명에 의해, 페닐실란과 요오드의 반응에 의한 디요오도실란의 공업 스케일에서의 제조를 안전하게 효율적으로 행할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, manufacture on the industrial scale of diiodosilane by reaction of phenylsilane and iodine can be performed safely and efficiently.

특히, 반응조 중의 용매와 요오드의 혼합물에 페닐실란과 촉매를 적하하여 디요오도실란을 제조하는 방법에 있어서 반응조 중의 상기 용매, 요오드, 페닐실란, 촉매 및 반응 생성물을 포함하는 반응 혼합물을 반응조 중으로부터 소량씩 연속적으로 또는 간헐적으로 취출하여 승온시키면서 이송하는 공정을 포함함으로써, 온도 상승에 의해 반응 속도를 빠르게 하고, 게다가, 반응조 중으로부터 소량씩 연속적으로 또는 간헐적으로 취출하여 승온시키면서 이송하므로, 온도 상승에 의해 반응 속도를 빠르게 해도, 반응 온도의 컨트롤이 용이하게 되어, 반응이 폭주하는 위험을 줄일 수 있다.In particular, in the method for producing diiodosilane by dropping phenylsilane and a catalyst to a mixture of solvent and iodine in a reaction tank, the reaction mixture containing the solvent, iodine, phenylsilane, catalyst and reaction product in the reaction tank is removed from the reaction tank. By including the step of taking out small portions continuously or intermittently and transferring the temperature while raising the temperature, the reaction rate is increased by increasing the temperature, and, in addition, small portions are taken out continuously or intermittently from the reaction tank and transferred while the temperature is raised. Even if the reaction rate is increased by this, control of the reaction temperature becomes easy, and the risk of runaway reaction can be reduced.

또한, 바람직하게는, 반응조 중으로부터 소량씩 연속적으로 또는 간헐적으로 취출하여 승온시키면서 이송하는 공정의 온도를 +20~+60℃로 하는 양태를 채용함으로써, 반응 속도를 빠르게 할 수 있으며, 반응 온도의 컨트롤이 용이하게 되어, 반응이 폭주하는 위험을 보다 적게 할 수 있어, 보다 바람직하다.Further, preferably, by adopting an aspect in which the temperature of the step of continuously or intermittently taking out small portions from the reaction tank and transferring it while raising the temperature is +20 to +60°C, the reaction rate can be increased, and the control of the reaction temperature is It becomes easy, and the risk of a runaway reaction can be reduced less, and it is more preferable.

또한, 바람직하게는, 반응조 중의 용매와 요오드의 혼합물이 -20℃~-100℃의 저온에서 반응조에 주입되는 양태를 채용함으로써, 페닐실란과 촉매를 적하했을 경우에, 반응 온도가 급상승하여, 반응이 폭주하는 것을 방지할 수 있어, 보다 바람직하다.In addition, preferably, by adopting an embodiment in which a mixture of a solvent and iodine in the reaction tank is injected into the reaction tank at a low temperature of -20 ° C. to -100 ° C., when phenylsilane and a catalyst are added dropwise, the reaction temperature rises rapidly, and the reaction This runaway can be prevented, and it is more preferable.

또한, 바람직하게는, 용매가, 디요오도실란과 반응하지 않고, 디요오도실란과 비점의 차가 있는 아프로틱 용매인 양태를 채용함으로써, 증류에 의해, 목적의 디요오도실란을 용이하게, 양호한 수율로 채취할 수 있어, 보다 바람직하다.Further, preferably, by employing an aspect in which the solvent is an aprotic solvent that does not react with diiodosilane and has a difference in boiling point from diiodosilane, the target diiodosilane can be easily obtained by distillation, It can extract|collect with a favorable yield, and it is more preferable.

또한, 바람직하게는, 용매를, 클로로폼으로 함으로써, 반응 종료 후, 증류에 의해, 용매와 벤젠을 제거하고, 디요오도실란을 정제하는 경우에, 목적의 디요오도실란을 용이하게, 또한, 양호한 수율로 채취할 수 있어, 보다 바람직하다.Preferably, the solvent is chloroform, and after completion of the reaction, the solvent and benzene are removed by distillation, and when the diiodosilane is purified, the target diiodosilane can be easily and , which can be collected in a good yield, which is more preferable.

도 1은, 본 발명의 디요오도실란을 제조하기 위한 반응 장치의 일례의 개략도이다.
도 2는, 본 발명의 디요오도실란을 제조하기 위한 반응 장치의 다른 일례의 개략도이다.
도 3은, 본 발명의 디요오도실란을 제조하기 위한 반응 장치의 또 다른 일례의 개략도이다.
1 is a schematic diagram of an example of a reaction apparatus for producing the diiodosilane of the present invention.
2 is a schematic diagram of another example of a reaction apparatus for producing the diiodosilane of the present invention.
3 is a schematic diagram of another example of a reaction apparatus for producing the diiodosilane of the present invention.

본 발명의 디요오도실란의 공업적인 제조 방법은, 페닐실란과 요오드를 용매의 존재 하에서 반응시키는 것인데, 이 때 이용하는 반응조의 크기는 특별히 한정하는 것은 아니지만, 공업적인 제조를 위해서는, 반응조의 내부 용적이 10L 이상, 바람직하게는 30L 이상, 보다 바람직하게는 40L 이상이고, 상한은 특별히 규제되지 않는데, 너무 커지면 반응조 내의 온도를 반응이 폭주하지 않도록, 예를 들면, 요오드와 용매가 도입된 반응조에 페닐실란과 촉매를 적하하여 반응을 개시시키는 경우나, 그 후, 반응을 속행할 때의 반응조 내의 온도를 비교적 낮은 온도로 유지하는데, 막대한 에너지가 필요하게 되므로, 200L 이하, 바람직하게는 100L 이하가 바람직하다.The industrial method for producing diiodosilane of the present invention is to react phenylsilane and iodine in the presence of a solvent. The size of the reaction tank used in this case is not particularly limited, but for industrial production, the internal volume of the reaction tank This 10L or more, preferably 30L or more, more preferably 40L or more, and the upper limit is not particularly regulated, but if it becomes too large, the temperature in the reaction tank does not runaway, for example, phenyl in a reaction tank to which iodine and a solvent are introduced. In the case of starting the reaction by dropping the silane and the catalyst, or maintaining the temperature in the reaction tank at a relatively low temperature when the reaction is continued thereafter, enormous energy is required, so 200 L or less, preferably 100 L or less do.

반응은, 반응 개시 시에는, 요오드와 용매를 반응조에 주입한다. 반응조의 온도는 -100~+10℃, 바람직하게는 -30~0℃, 보다 바람직하게는 -20~-10℃의 저온을 유지할 수 있도록, 칠러의 냉매를 반응조의 재킷에 순환하여 온도를 조정한다. 그 후 반응조 중에, 통상은 실온의 페닐실란과 촉매를 적하하여 반응을 개시하는데, 이 때는, 반응조 내의 온도가 상승하지만, 페닐실란과 촉매의 적하 시에 있어서는, 반응조 내의 온도는 -100℃~+30℃로 컨트롤되어 있는 것이 바람직하다.In the reaction, iodine and a solvent are injected into the reaction tank at the start of the reaction. The temperature of the reactor is adjusted by circulating the refrigerant of the chiller through the jacket of the reactor to maintain a low temperature of -100 to +10 °C, preferably -30 to 0 °C, more preferably -20 to -10 °C. . After that, in the reaction tank, usually phenylsilane and catalyst at room temperature are added dropwise to start the reaction. At this time, the temperature in the reaction tank rises, but when phenylsilane and the catalyst are added dropwise, the temperature in the reaction tank is -100°C to +30 It is preferable that it is controlled at °C.

페닐실란과 촉매의 적하 종료 후에는, 반응조 내의 온도는, -100~+10℃, 바람직하게는 -30~0℃, 보다 바람직하게는 -20~-10℃로 유지하는 것이 바람직하다. 이와 같이 하여 반응을 개시하는데, 본 발명에 있어서는 반응조 중의 상기 용매, 요오드, 페닐실란, 촉매 및 반응 생성물을 포함하는 반응 혼합물을 반응조 중으로부터 소량씩 연속적으로 또는 간헐적으로 취출하여 승온시키면서 이송하는 공정을 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 승온 이송 공정을 거쳐도, 또한 반응이 완결되지 않은 경우에는, 이 반응 혼합물을, 같은 반응조로 되돌리거나, 다른 반응조에 도입하여, 당해 반응조로부터 반응 혼합물을 반응조 중으로부터 소량씩 연속적으로 또는 간헐적으로 취출하여 승온시키면서 이송하는 공정을 반응이 종료할 때까지 반복하는데, 이 경우의 반응조 내의 온도는, -100~+10℃, 바람직하게는 -30~0℃, 보다 바람직하게는 -20~-10℃로 유지하는 것이 바람직하다.After completion of the dropwise addition of the phenylsilane and the catalyst, the temperature in the reaction tank is preferably maintained at -100 to +10°C, preferably -30 to 0°C, more preferably -20 to -10°C. In this way, the reaction is started. In the present invention, the reaction mixture containing the solvent, iodine, phenylsilane, catalyst and reaction product in the reaction tank is continuously or intermittently taken out in small portions from the reaction tank and transferred while the temperature is raised. It is preferable to include If the reaction is not completed even after passing through such a temperature increase transfer step, the reaction mixture is returned to the same reaction tank or introduced into another reaction tank, and the reaction mixture is continuously or intermittently transferred from the reaction tank to the reaction tank in small portions. The process of taking out and transferring while raising the temperature is repeated until the reaction is complete. In this case, the temperature in the reaction tank is -100 to +10°C, preferably -30 to 0°C, more preferably -20 to -10°C. It is preferable to keep it as

또한, 본 발명의 디요오도실란의 제조 방법의 설명을 속행해 나감에 있어서, 사용하는 반응 장치의 일례를 인용하면서 본 발명을 설명하는데, 반응 장치를 인용하여 설명하는 것은, 본 발명의 이해를 용이하게 하기 위한 것이며, 본 발명은, 이들 도시한 장치의 사용에만 한정되는 것은 아니다.Further, in continuing the description of the method for producing diiodosilane of the present invention, the present invention will be described while citing an example of the reaction apparatus used, but citing and explaining the reaction apparatus will enhance the understanding of the present invention. For ease of use, the present invention is not limited to the use of these illustrated devices.

본 발명에서 이용하는 반응 장치의 일례의 개략도를 도 1에 나타냈다(얻어진 디요오도실란과 부생성물 벤젠, 용매 등으로부터, 디요오도실란을 분리하려면 통상, 증류에 의해 분리하는데, 증류 장치는 도시하지 않았다. 다른 도면에 있어서도 마찬가지이다.).A schematic diagram of an example of the reaction apparatus used in the present invention is shown in FIG. The same is true for other drawings).

도 1 중, 1이 측면과 하면에 냉각용의 항온 재킷이 설치된 반응조, 2가 모터 구동의 교반기, 3이 항온 재킷의 냉매의 온도를 제어하기 위한 칠러, 4는 콘덴서(냉각용 열교환기), 5는 압력 해방 밸브, 6은 배기관, 7은 질소 가스나 아르곤 가스 등의 불활성 가스 공급기(봄베여도 가능), 8은 밸브(불활성 가스 공급용), 9는 적하 깔때기, 10은 밸브(반응 혼합물 이송용), 11은 순환 펌프, 12는 파이프형 배관(이 예에서는 스태틱 믹서가 내장), 13은 반응조에서 저온으로 유지된 반응 혼합물의 반응을 촉진하기 위한 소망하는 온도(예를 들면, +20~+30℃)로 온도를 높여 유지하기 위한 항온조, 14는 반응을 진정화하기 위한 소망하는 온도(예를 들면, -50~+10℃)로 온도를 낮추어 유지하기 위한 항온조, 15는 밸브(미반응물을 포함하는 반응 혼합물을 반응조에 넣기 위한 밸브[도 1의 경우에는 반응조(1)로 되돌리기 위한 밸브]), 16은 원료 투입구(용매와 요오드를 투입. 또한, 덮개를 닫을 수 있도록 되어 있다.), 17은 반응 종료 시점에서 반응 혼합물을 취출하기 위한 밸브(단, 밸브(10이나 15)를 삼방 밸브로 하여, 반응 종료 시점에서 반응 혼합물을 취출해도 된다.)이다. 상기에 있어서, 항온조(14)는, 도면에서는 도시되어 있는데, 항온조(13)에서 승온된 반응 혼합물의 온도가 별로 높아지지 않는 조건으로 운전하는 경우에는, 존재하지 않아도 된다(도 2나 도 3의 항온조(14a, 14b, 14c)도 마찬가지이다.).In Fig. 1, reference numeral 1 denotes a reaction tank provided with a constant temperature jacket for cooling on the side and bottom surfaces, reference numeral 2 a motor driven stirrer, reference numeral 3 a chiller for controlling the temperature of the coolant in the constant temperature jacket, reference numeral 4 a condenser (a heat exchanger for cooling), 5 is a pressure relief valve, 6 is an exhaust pipe, 7 is a supply of an inert gas such as nitrogen gas or argon gas (can be a cylinder), 8 is a valve (for inert gas supply), 9 is a dropping funnel, 10 is a valve (transfer reaction mixture) for), 11 is a circulation pump, 12 is a pipe pipe (in this example, a static mixer is built in), and 13 is a desired temperature for accelerating the reaction of the reaction mixture kept at a low temperature in the reactor (for example, +20 to +30) ℃) a constant temperature bath to keep the temperature raised, 14 is a thermostat to lower the temperature to a desired temperature (eg, -50 ~ +10 ℃) to calm the reaction, 15 is a valve (containing unreacted substances) A valve for putting the reaction mixture into the reaction tank [a valve for returning the reaction tank 1 in the case of Fig. 1]), 16 is a raw material inlet (solvent and iodine are put in. Also, the cover can be closed), 17 is It is a valve for taking out the reaction mixture at the end of the reaction (however, the valve 10 or 15 may be a three-way valve, and the reaction mixture may be taken out at the end of the reaction). In the above, the constant temperature bath 14 is shown in the drawings, but it does not need to exist when the temperature of the reaction mixture heated in the constant temperature bath 13 is operated under a condition that does not increase much (FIG. 2 or FIG. 3). The constant temperature baths 14a, 14b, 14c are also the same).

상기 도 1에 나타낸 반응 장치를 사용하는 경우, 질소 가스나, 아르곤 가스(바람직하게는 질소 가스) 등의 불활성 가스를 불활성 가스 공급기(7)로부터 밸브(8)를 열어, 반응 장치 내에 충전한 후, 용매와 요오드를 원료 투입구(16)로부터 반응조(1)에 주입한다. 반응조의 온도는 -100~+10℃, 바람직하게는 -30~0℃, 보다 바람직하게는 -20~-10℃의 저온을 유지할 수 있도록, 칠러의 냉매를 반응조의 재킷에 순환하여 온도를 조정한다. 그 후 페닐실란과 촉매를 적하 깔때기(9)로부터 적하하여 반응을 개시하는데, 반응 개시 시에 있어서는, 반응조의 온도는 상승하는 경향이 있는데, 전술한 바와 같이, 페닐실란과 촉매의 적하 시에 있어서는, 반응조 내의 온도는 -100℃~+30℃로 컨트롤되어 있는 것이 바람직하다. 페닐실란과 촉매의 적하 종료 후에는, 반응조 내의 온도는 -100~+10℃, 바람직하게는 -30~0℃, 보다 바람직하게는 -20~-10℃의 저온을 유지할 수 있도록, 칠러의 냉매를 반응조의 재킷에 순환하여 온도를 조정한다. 이 때, 반응조 내는, 상시 교반기(2)로 교반해 두는 것이 바람직하다.In the case of using the reaction apparatus shown in FIG. 1, after opening the valve 8 from the inert gas supply 7 and the inert gas such as nitrogen gas or argon gas (preferably nitrogen gas) to the inside of the reaction apparatus, , the solvent and iodine are injected into the reactor 1 from the raw material inlet 16 . The temperature of the reactor is adjusted by circulating the refrigerant of the chiller through the jacket of the reactor to maintain a low temperature of -100 to +10 °C, preferably -30 to 0 °C, more preferably -20 to -10 °C. . Thereafter, phenylsilane and the catalyst are added dropwise from the dropping funnel 9 to start the reaction. At the start of the reaction, the temperature of the reaction tank tends to rise. As described above, when the phenylsilane and the catalyst are added dropwise, , it is preferable that the temperature in the reaction tank is controlled to -100°C to +30°C. After the addition of the phenylsilane and the catalyst is finished, the temperature in the reaction tank is -100 to +10 ° C, preferably -30 to 0 ° C, more preferably -20 to -10 ° C. The temperature is adjusted by circulation in the jacket of the reactor. At this time, the inside of the reaction tank is preferably stirred with the stirrer 2 at all times.

반응에 사용하는 요오드는 고체형으로 사용하고, 건조한 불활성 기체 중에서 세립화한 것이 바람직하다. 고형 입상의 요오드는, 구형의 입형인 것이, 배관(12) 등을 흐르기 쉬워 바람직하다. 입경도 특별히 한정되는 것은 아니지만, 너무 크면, 비표면적이 작아져 반응이 느려지고, 주입 시부터 분말상의 입도가 너무 미세한 것을 이용하면, 반응에 의해 급속히 온도가 상승할 우려가 있으므로, 입경(최장 직경)이 0.1~10mm인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1~5mm, 더욱 바람직하게는 0.1~3mm인 것을 이용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use the iodine used for reaction in a solid form, and to refine it in dry inert gas. It is preferable that solid granular iodine flows easily through the pipe 12 etc. that it is a spherical granular thing. The particle size is also not particularly limited, but if it is too large, the specific surface area becomes small and the reaction slows down. It is preferable that it is this 0.1-10 mm, More preferably, it is 0.1-5 mm, It is preferable to use the thing of 0.1-3 mm more preferably.

용매로서는 디요오도실란과 공비(共沸)하지 않는 아프로틱 용매(aprotic solvent)가 이용되고, 반응 생성물과 비점차가 있는 것이면 되고, 비점차는 상압의 경우에서, 예를 들면, +1~+100℃, 바람직하게는 +20~+100℃, 보다 바람직하게는 +60~+100℃인 것이 바람직하고, 디요오도실란의 비점 140℃보다 높은 것이어도 되고 낮은 것이어도 된다. 또한, 아프로틱 용매로서는, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 비점 범위가 상압인 경우의 비점으로, +50~+120℃인 것이 보다 바람직하다.As the solvent, an aprotic solvent that does not azeotrope with diiodosilane is used, as long as it has a boiling point difference from the reaction product, and the boiling point difference is in the case of atmospheric pressure, for example, +1 to +100 °C, preferably +20 to +100 °C, more preferably +60 to +100 °C, and the boiling point of diiodosilane may be higher or lower than 140 °C. In addition, although it does not specifically limit as an aprotic solvent, It is a boiling point in case a boiling point range is normal pressure, It is more preferable that it is +50-+120 degreeC.

용매의 구체예로서는, 탄화수소계 용매 외, 할로겐화탄화수소계 용매 등이 이용되고, 예를 들면, 클로로폼(비점 61℃), 디클로로메탄(비점 40℃), 헵타플루오로헥산(비점 71℃), 데카플루오로펜탄(비점 55℃) 등을 들 수 있고, 특히 클로로폼이 비점차, 인화성, 요오드의 용해성, 디요오도실란과 공비하지 않는 점 및 비용의 관점에서 바람직하다. 또한, 아프로틱 용매는, 통상, 요오드에 대해서 별로 용해성이 없는데, 할로겐계 용매의 경우는 약간의 용해성을 볼 수 있다. 입상의 요오드를 사용하는 것은 교반성을 좋게 하기 위해서이다.As specific examples of the solvent, other than hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbon solvents and the like are used, for example, chloroform (boiling point 61 ° C.), dichloromethane (boiling point 40 ° C.), heptafluorohexane (boiling point 71 ° C.), deca. Fluoropentane (boiling point 55°C) and the like are mentioned, and in particular, chloroform is preferable from the viewpoint of boiling point, flammability, solubility of iodine, not azeotroping with diiodosilane, and cost. In addition, an aprotic solvent is usually not very soluble in iodine, but in the case of a halogen-based solvent, some solubility can be seen. The use of granular iodine is to improve the stirrability.

용매의 사용량은 특별히 한정하는 것은 아니지만, 바람직하게는 요오드의 중량에 대해, 50~500중량%, 보다 바람직하게는 100~200중량%이다.Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, Preferably it is 50 to 500 weight% with respect to the weight of iodine, More preferably, it is 100 to 200 weight%.

반응조의 온도는 -100~+10℃, 바람직하게는 -30~0℃, 보다 바람직하게는 -20~-10℃의 저온을 유지할 수 있도록, 칠러의 냉매를 반응조의 재킷에 순환하여 온도를 조정한다.The temperature of the reactor is adjusted by circulating the refrigerant of the chiller through the jacket of the reactor to maintain a low temperature of -100 to +10 °C, preferably -30 to 0 °C, more preferably -20 to -10 °C. .

다음으로 페닐실란과 촉매를 적하 깔때기(9)로부터 적하하여 교반기(2)로 교반하고, 반응을 개시시키는데, 반응조 내의 온도는 상술한 바와 같이 페닐실란과 촉매의 적하 시에는, 온도가 상승하지만, 반응조 내의 온도를, -100~+30℃로 유지하는 것이 바람직하고, 적하 종료 후의 반응을 숙성시키는 공정에 있어서는, 교반하면서 반응조 내의 온도를, -100~+10℃, 바람직하게는 -30~0℃, 보다 바람직하게는 -20~-10℃로 유지하는 것이 바람직하다.Next, phenylsilane and the catalyst are dropped from the dropping funnel 9, stirred with the stirrer 2, and the reaction is started. As described above, when the phenylsilane and the catalyst are added dropwise, the temperature in the reaction tank rises. It is preferable to maintain the temperature in the reaction tank at -100 to +30 ° C, and in the step of aging the reaction after the dropping, the temperature in the reaction tank is adjusted to -100 to +10 ° C, preferably -30 to 0 ° C, while stirring; More preferably, it is preferable to maintain at -20 to -10 °C.

이용하는 촉매로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 아세트산에틸, 아세트산팔라듐(II), 트리페닐포스핀옥시드, 염화팔라듐 등을 들 수 있고, 아세트산에틸이 바람직하다.Although it does not specifically limit as a catalyst to be used, Ethyl acetate, palladium (II) acetate, a triphenylphosphine oxide, palladium chloride, etc. are mentioned, Ethyl acetate is preferable.

페닐실란과 요오드의 사용 비율은, 통상, 페닐실란의 몰수에 대해서 요오드의 몰수가 80~150%, 바람직하게는 90~120%, 보다 바람직하게는 100~110%의 범위이다.The use ratio of phenylsilane and iodine is 80-150% of moles of iodine with respect to the number of moles of phenylsilane normally, Preferably it is 90-120%, More preferably, it is the range of 100-110%.

촉매의 사용량은, 촉매의 종류에 따라서도 다르지만, 바람직하게는, 페닐실란의 중량에 대해서 5~10중량% 정도이다.Although the usage-amount of a catalyst also changes with the kind of catalyst, Preferably, it is about 5 to 10 weight% with respect to the weight of phenylsilane.

교반기(2)의 교반 속도는, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 통상, 100~500rpm 정도이다.Although the stirring speed of the stirrer 2 is not specifically limited, Usually, it is about 100-500 rpm.

반응 혼합물을 반응조 중으로부터 소량씩 연속적으로 또는 간헐적으로 취출하여 승온시키면서 이송하는 공정은, 바람직하게는, 반응조에 부설된 반응 혼합물을 이송하는 배관 중에서 행해지는 공정이며, 상기 반응 혼합물을 이송, 승온하는 공정을 행하는 배관이The step of continuously or intermittently taking out the reaction mixture from the reactor in small amounts and transferring it while raising the temperature is preferably a process performed in a pipe for transporting the reaction mixture installed in the reactor, and the reaction mixture is transported and heated Pipes that carry out the process

(a) 2개 이상의 반응조를 이용하여, 인접하는 반응조 사이를 연결하는 배관 중에서 행해지는 공정(일방통행:예, 도 3 참조, 단, 도 3은 3개의 반응조를 이용했을 경우의 예시),(a) a process performed in a pipe connecting between adjacent reaction tanks using two or more reaction tanks (one-way: e.g., refer to FIG. 3, however, FIG. 3 is an example when three reaction tanks are used);

(b) 상기 (a) 공정에 있어서, 최종의 반응조로부터 상기 반응 혼합물을 상기 반응조 중 어느 하나로 되돌리고, 상기 최종의 반응조로부터 반응 혼합물을 취출할 때까지 각 배관 중에서 반응 혼합물을 이송, 승온하는 공정을 반복하여 행하는 공정(반복 운전:예, 도 2 참조, 단, 도 2는 2개의 반응조를 이용했을 경우의 예시) 또는,(b) in the step (a), returning the reaction mixture from the final reaction tank to any one of the reaction tanks, and transferring the reaction mixture in each pipe until the reaction mixture is taken out from the final reaction tank and raising the temperature; Repeatedly performed process (repetitive operation: eg, refer to FIG. 2, however, FIG. 2 is an example when two reactors are used); or

(c) 한개의 반응조를 이용하여, 상기 반응조로부터 반응 혼합물을 취출하고, 다시 상기 반응조로 되돌리는 배관 중에서 반응 혼합물을 이송, 승온하는 공정을 반복하여 행하는 공정(순환 운전:예, 도 1 참조)(c) repeating the steps of taking out the reaction mixture from the reaction tank using one reaction tank, and transferring the reaction mixture in a pipe returning to the reaction tank and raising the temperature (circulation operation: see FIG. 1 )

중 어느 하나가 바람직하다.Either one is preferred.

또한, 어느 공정에 있어서도, 최종의 반응조로부터 반응 혼합물을 취출하기 위한 배관 중에서, 추가로 반응 혼합물의 이송, 승온하는 공정을 행해도 된다.Moreover, in any process, you may carry out the process of conveying and raising the temperature of the reaction mixture further in the piping for taking out the reaction mixture from the last reaction tank.

반응의 스케일에도 따르지만, 반응 초기는 숙성 공정으로서 반응조 내의 온도-20℃ 이하에서의 저온 교반을 수시간 계속해도 된다.Depending on the scale of the reaction, in the initial stage of the reaction, as an aging step, low-temperature stirring at a temperature of -20°C or less in the reaction tank may be continued for several hours.

다음으로, 추가로 도면을 인용하면서 각 공정을 보다 구체적으로 설명한다.Next, each process will be described in more detail with reference to the drawings.

도 1에 있어서, 원료 투입구(16)로부터 용매와 요오드를 반응조에 주입하고, -100~+10℃, 바람직하게는 -30~0℃, 보다 바람직하게는 -20~-10℃로 유지한다. 적하 깔때기(9)로부터 페닐실란과 촉매의 혼합액을 적하하면, 반응이 개시되고, 온도가 상승하는데, 전술한 바와 같이 페닐실란과 촉매의 적하 시에는, 온도가 상승하는데, 반응조 내의 온도를, -100~+30℃로 유지하는 것이 바람직하고, 그 후에는, 상기 범위 내의 온도로 유지된 반응 혼합물이 1의 반응조 내부에서 교반 숙성되어 있다. 밸브(10)를 열어, 간헐적으로 또는 연속적으로 반응 혼합물을 파이프형 배관(12)에 소량씩 흐르게 하여, 순환 펌프(11)를 작동시키고, 항온조(13)에서 소망하는 온도로 높여 반응을 가속한다. 통상, 이 항온조(13)에 있어서의 배관 내 온도는 +20℃~+60℃, 바람직하게는 +20℃~+50℃, 보다 바람직하게는 +20℃~+30℃로 유지하는 것이 바람직하다. 온도가 컨트롤된 배관은, 항온조(13)에 침지시킨 지름이 가는 파이프형의 배관이어도 되고 열교환기를 이용해도 된다. 경우에 따라서는 배관 내부의 온도 구배를 없애는 스태틱 믹서로 대표되는 내부 구조가 있어도 된다. 스태틱 믹서는, 구동부가 없는 정지(靜止)형 혼합기(라인 믹서)이며, 믹서 내로 들어간 유체는, 엘리먼트에 의해 순차 교반 혼합되는 기능을 갖고 있다.1, the solvent and iodine are injected into the reaction tank from the raw material inlet 16, and are maintained at -100 to +10°C, preferably -30 to 0°C, more preferably -20 to -10°C. When the mixture solution of phenylsilane and catalyst is dropped from the dropping funnel 9, the reaction starts and the temperature rises. As described above, when the phenylsilane and the catalyst are added dropwise, the temperature rises. It is preferably maintained at 100 to +30°C, and after that, the reaction mixture maintained at a temperature within the above range is stirred and aged in the reaction tank No. 1. By opening the valve (10), the reaction mixture flows intermittently or continuously in small portions through the pipe-type pipe (12), thereby operating the circulation pump (11) and raising the temperature to the desired temperature in the constant temperature bath (13) to accelerate the reaction. . Usually, the internal temperature of the piping in this thermostat 13 is +20 degreeC - +60 degreeC, Preferably it is +20 degreeC - +50 degreeC, It is preferable to maintain at +20 degreeC - +30 degreeC more preferably. The pipe in which the temperature is controlled may be a pipe-shaped pipe having a diameter immersed in the constant temperature tank 13, or a heat exchanger may be used. In some cases, there may be an internal structure typified by a static mixer that eliminates a temperature gradient inside the pipe. A static mixer is a static mixer (line mixer) without a drive part, and has a function in which the fluid which entered the mixer is sequentially stirred and mixed by an element.

또한, 여기서 「반응 혼합물」이라는 용어는 원료 혼합물(촉매도 포함한다)로부터, 반응이 진행하여 반응이 완료할 때까지의 반응계 내에 있는 물질을 의미하고, 반응 상황에 의해 그 내용이나 조성은 바뀐다. 즉, 반응 개시 시에는, 원료와 용매의 혼합물이 주체이며, 약간의 반응 생성물이 포함되고, 반응이 진행하여 반응 완료 시에 가까워짐에 따라, 원료 그대로의 비율이 적어지고, 용매와 반응 생성물의 비율이 증가하여, 최종적으로 반응 완료 시점에서는, 수율에 따라서 다르지만, 반응계 내에 있는 물질은 반응 생성물과 용매 등이 대부분이 된다. 이들 각 단계도 포함하여 「반응 혼합물」이라는 용어는 원료 혼합물로부터, 반응이 진행하여 반응이 완료할 때까지의 사이의 반응계 내에 있는 물질을 의미하고 있다.In addition, the term "reaction mixture" here means a substance in the reaction system from the raw material mixture (including the catalyst) until the reaction proceeds and the reaction is completed, and the content and composition change depending on the reaction situation. That is, at the start of the reaction, the mixture of the raw material and the solvent is the main component, a small amount of the reaction product is included, and as the reaction progresses and approaches the completion of the reaction, the ratio of the raw material as it is decreases, and the ratio of the solvent and the reaction product This increases, and finally, at the completion of the reaction, the majority of the substances in the reaction system are the reaction product and the solvent, although it varies depending on the yield. The term "reaction mixture" including each of these steps means a substance in the reaction system from the raw material mixture until the reaction proceeds and the reaction is completed.

배관(12)의 재질은, 유리, PFA(테트라플루오로에틸렌·퍼플루오로알콕시에틸렌 공중합 수지), 세라믹, SUS, 티탄, 하스텔로이(Ni/Cr/Mo/Fe 합금) 등 반응 혼합물과 반응이 발생하지 않는 불활성인 재질의 것이 바람직하고, 배관(12)의 굵기는, 반응조의 크기에도 따르므로, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 통상, 내경으로 2mm~30mm, 바람직하게는 3mm~20mm인 것이 바람직하고, 너무 가늘면, 생산성이 저하하는 경향이 되고, 너무 굵으면, 온도의 제어성이 저하하는 경향이 된다. 경우에 따라서는, 세관(細管)을 복수 병렬로 늘어놓거나, 유사한 형태의 열교환기를 사용해도 된다. 배관의 길이는 특별히 한정하는 것은 아니지만, 10cm~10m로 하고, 내부에 교반 효율을 향상시키는 내부 구조, 예를 들면, 전술한 스태틱 믹서 등을 갖고 있어도 된다.The material of the pipe 12 is glass, PFA (tetrafluoroethylene/perfluoroalkoxyethylene copolymer resin), ceramic, SUS, titanium, hastelloy (Ni/Cr/Mo/Fe alloy) and the like reaction mixture. It is preferable that it is made of an inert material that does not occur, and the thickness of the pipe 12 is not particularly limited because it also depends on the size of the reaction tank, but is usually 2 mm to 30 mm in inner diameter, preferably 3 mm to 20 mm. , when it is too thin, productivity tends to fall, and when it is too thick, it becomes a tendency for temperature controllability to fall. In some cases, a plurality of tubules may be arranged in parallel, or a heat exchanger of a similar type may be used. Although the length of the pipe is not particularly limited, it may be 10 cm to 10 m, and may have an internal structure that improves stirring efficiency inside, for example, the static mixer described above.

그 후, 반응 혼합물은 밸브(15)를 거쳐 다시 반응조로 되돌려진다. 전술한 바와 같이, 도 1이나 그 외의 도면에는 항온조(14나 14a, 14b, 14c) 등이 도시되어 있는데, 냉각의 필요성이 낮은 경우에는, 이러한 항온조(14나 14a, 14b, 14c)는, 불필요하다.The reaction mixture is then returned back to the reactor via valve 15 . As described above, the constant temperature baths 14, 14a, 14b, and 14c are shown in FIG. 1 or other drawings, but when the need for cooling is low, these constant temperature baths 14, 14a, 14b, 14c are unnecessary. do.

반응 혼합물을 소량씩 +20℃~+60℃의 항온조(13)에 의해 항온으로 유지된 배관(12)을 통과시키는 공정은, 연속적으로 행해도 되고, 항온조(13)의 온도 상승 상태를 확인하면서 단속적으로 행해도 된다.The step of passing the reaction mixture through the pipe 12 maintained at a constant temperature by the constant temperature bath 13 at +20° C. to +60° C. in small portions may be performed continuously or intermittently while checking the temperature rise state of the constant temperature bath 13. may be done

반응 혼합물을 소량씩 +20℃~+60℃의 항온으로 유지된 배관을 통과시키는 공정은, 2개 이상의 반응조 사이를 통과시키면서 행해도 되고(예:도 3 참조), 경우에 따라서는 2개 이상의 반응조 사이를 반복하여 통과시켜도 된다(예:도 2 참조). 또한 1개의 반응조에서, 반응 혼합물을 리사이클시켜도 된다(예:도 1 참조). 연속적으로 승온시키면서 배관 내를 이송하는 공정의 온도 범위는 +20~+60℃, 바람직하게는, +20℃~+50℃, 보다 바람직하게는 +20℃~+30℃이다. 반응이 충분히 진행되어 있지 않은 단계에서는, 반응조에 반응 혼합물을 되돌리기 전에 상술한 반응조 내의 온도와 동일한 온도, 즉 -100~+10℃, 바람직하게는 -30~0℃, 보다 바람직하게는 -20~-10℃로 냉각하는 공정을 항온조(14) 등에 의해 설치해도 된다.The step of passing the reaction mixture through a pipe maintained at a constant temperature of +20°C to +60°C in small portions may be performed while passing between two or more reaction tanks (eg, see FIG. 3 ), and in some cases, between two or more reaction tanks may be repeatedly passed through (eg, see FIG. 2 ). In addition, in one reaction tank, the reaction mixture may be recycled (see, for example, FIG. 1 ). The temperature range of the process of conveying the inside of piping while heating up continuously is +20 - +60 degreeC, Preferably it is +20 degreeC - +50 degreeC, More preferably, it is +20 degreeC - +30 degreeC. In the stage where the reaction does not proceed sufficiently, before returning the reaction mixture to the reaction tank, the same temperature as the temperature in the reaction tank, that is, -100 to +10°C, preferably -30 to 0°C, more preferably -20 to- You may provide the process of cooling to 10 degreeC with the thermostat 14 etc.

반응 혼합물을 소량씩 항온으로 유지된 배관을 통과시키는 공정에 있어서의 통과 속도는, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 반응 혼합물 총량에 대해서 통상 0.1~50중량%/min, 바람직하게는 1~30중량%/min, 보다 바람직하게는 5~20중량%/min 정도가 바람직하다.Although the passage rate in the step of passing the reaction mixture through a pipe maintained at constant temperature in small portions is not particularly limited, it is usually 0.1 to 50 wt%/min, preferably 1 to 30 wt%/min relative to the total amount of the reaction mixture. min, more preferably about 5 to 20 wt%/min.

또한, 유속은 특별히 한정하는 것은 아니지만, 반응 혼합물을 매분 100ml~50L(단, 상기의 반응 혼합물 총량에 대해서 통상 0.1~50중량%/min, 바람직하게는 1~30중량%/min, 보다 바람직하게는 5~20중량%/min 정도와 모순되지 않는 범위)로 흐르게 할 수 있다.In addition, the flow rate is not particularly limited, but 100 ml to 50 L of the reaction mixture per minute (however, with respect to the total amount of the above reaction mixture, usually 0.1 to 50 weight % / min, preferably 1 to 30 weight % / min, more preferably can be made to flow in a range not inconsistent with about 5 to 20 wt%/min).

반응의 완료는, 고형의 요오드가 반응조로부터 없어진 시점이며, 밸브(17)를 열어 반응 혼합물을 채취하는데, 전술한 바와 같이, 밸브(10)나 밸브(15) 등을 삼방 밸브로 해 두고 거기에서 채취하는 등, 채취할 수 있는 장소가 있으면, 특별히 한정되지 않는다. 그 때문에, 고형의 요오드가 반응조로부터 없어졌는지 여부는, 육안으로 확인하므로, 반응조 혹은 배관 중 적어도 일부는 투명한 유리제 혹은 PFA제인 것이 바람직하다. 유리제 혹은 유리 라이닝제의 반응조는, 이용하는 원료나 생성물과도 반응하지 않으므로 바람직하다.The completion of the reaction is the point at which solid iodine is removed from the reaction tank, and the valve 17 is opened to collect the reaction mixture. It will not specifically limit, if there exists a place where extraction|collection can be carried out, such as extraction|collection. Therefore, since it is visually confirmed whether solid iodine has disappeared from the reaction tank, it is preferable that at least a part of the reaction tank or piping is made of transparent glass or PFA. A reaction tank made of glass or a glass lining is preferable because it does not react with the raw material or product to be used either.

얻어진 반응 혼합물은, 디요오도실란을 용매와 부생성물인 벤젠과 분리하여 정제하기 때문에 통상, 증류로 분리한다. 보다 고순도의 디요오도실란을 얻으려면, 2단계 증류가 바람직하다.Since the obtained reaction mixture is purified by separating diiodosilane from a solvent and benzene as a by-product, it is usually separated by distillation. In order to obtain a higher purity diiodosilane, two-stage distillation is preferred.

증류는 반응조로부터 내용물을 증류 가마로 이송하여 행해도 되고, 반응조로부터 직접 단증류를 행해도 된다. 반응조로부터 내용물을 증류 가마로 이송할 때는, 반응조 하부에 있는 밸브(17)로부터 취출해도 되고, 밸브(10) 혹은 밸브(15)를 삼방 밸브로 하여 거기에서 취출해도 된다.Distillation may be performed by transferring the contents from the reaction tank to a distillation kiln, or short distillation may be performed directly from the reaction tank. When transferring the contents from the reactor to the distillation kiln, it may be taken out from the valve 17 at the lower part of the reactor, or the valve 10 or the valve 15 may be used as a three-way valve and taken out from there.

다음으로, 도 2에 나타낸 본 발명에서 이용할 수 있는 또 다른 실시 형태예의 반응 장치의 예를 설명한다.Next, an example of a reaction apparatus according to another embodiment that can be used in the present invention shown in FIG. 2 will be described.

도 2에 나타낸 반응 장치는, 반응 혼합물을 소량씩 배관을 통과시키는 공정이, 2개 이상의 반응조(제1 반응조(1a), 제2 반응조(1b)) 사이를 통과시키면서 행하는 루트(10a 밸브, 11a 순환 펌프, 12a 파이프형 배관, 13a 온도를 높여 유지하기 위한 항온조, 14a 반응을 진정화하기 위한 소망하는 온도로 온도를 낮추어 유지하기 위한 항온조(통상, 온도를 저하시킬 필요가 없는 경우는 불필요), 15a는 밸브(미반응물을 포함하는 반응 혼합물을 제2 반응조(1b)에 도입하기 위한 밸브)와, 제2 반응조(1b)로부터 상기 반응 혼합물을 제1 반응조(1a)로 되돌리는 루트(10b 밸브, 11b 순환 펌프, 12b 파이프형 배관, 13b 온도를 높여 유지하기 위한 항온조, 14b 반응을 진정화하기 위한 소망하는 온도로 온도를 낮추어 유지하기 위한 항온조(통상, 온도를 저하시킬 필요가 없는 경우는 불필요), 15b는 밸브(미반응물을 포함하는 반응 혼합물을 제1 반응조(1a)로 되돌리기 위한 밸브)의 2개의 배관 루트를 갖고 있다. 도면 중의 도 1과 같은 부재에 대해서는 같은 부호를 붙여 설명을 생략하고 있다. 또한, 알파벳 부호를 제외한 같은 숫자 부호는, 상술에서 설명한 점을 제외하고, 도 1에 나타낸 같은 숫자 부호를 붙인 부재와 거의 같은 기능을 갖는 부재이며, 이 경우도 배관 중의 온도나 반응조의 온도 조건 등의 각종 조건은 도 1을 이용하여 상술한 전술의 실시 형태예와 동일하므로 설명을 생략하고 있다. 도 1의 경우와 마찬가지로 반응이 충분히 진행되어 있지 않은 단계에서는, 반응조에 반응 혼합물을 되돌리기 전에 상술한 반응조 내의 온도와 동일한 온도, 즉, -100~+10℃, 바람직하게는 -30~0℃, 보다 바람직하게는 -20~-10℃로 냉각하는 공정을 항온조(14a 및 14b) 등에 의해 설치해도 된다.In the reaction apparatus shown in FIG. 2, a route (10a valve, 11a) in which the step of passing the reaction mixture through a pipe in small portions is performed while passing between two or more reaction tanks (the first reaction tank 1a, the second reaction tank 1b) Circulation pump, 12a piped tubing, 13a thermostat to keep the temperature elevated, 14a thermostat to keep the temperature down to the desired temperature to calm the reaction (usually not needed if lowering the temperature is not necessary), 15a is a valve (a valve for introducing the reaction mixture containing unreacted into the second reaction tank 1b), and a route 10b valve for returning the reaction mixture from the second reaction tank 1b to the first reaction tank 1a; 11b circulation pump, 12b pipe-type piping, 13b thermostat to keep the temperature elevated, 14b thermostat to keep the temperature down to the desired temperature to quench the reaction (usually not required if lowering the temperature is not necessary); 15b has two piping routes of a valve (a valve for returning the reaction mixture containing unreacted substances to the first reaction tank 1a) In the drawings, the same reference numerals are attached to the same members as in FIG. In addition, the same numerals except for the alphabetic symbols are members having substantially the same functions as the members to which the same numerals are shown in Fig. 1, except for the points described above, and in this case as well, the temperature in the piping and the temperature conditions of the reaction tank Various conditions, such as, are the same as those of the above-described embodiment described with reference to Fig. 1. As in the case of Fig. 1, in a stage where the reaction does not proceed sufficiently, the above-mentioned description is given before returning the reaction mixture to the reaction tank. Even if the process of cooling to the same temperature as the temperature in one reaction tank, that is, -100 to +10 °C, preferably -30 to 0 °C, more preferably -20 to -10 °C, is installed by the thermostats 14a and 14b, etc. do.

또한, 제2 반응조에는 적하 깔때기(9) 및 원료 투입구(16)는 존재하지 않지만, 적하 깔때기나 원료 투입구(16)가 있어도 된다.In addition, although the dropping funnel 9 and the raw material inlet 16 do not exist in the 2nd reaction tank, the dripping funnel and the raw material inlet 16 may be present.

또한, 반응조의 수는, 도시한 것보다 필요에 따라서 늘려도 된다. 또한, 복수의 반응조 중 제1 반응조 이외의 반응조에는, 적하 깔때기나 원료 투입구는 통상 없어도 된다.In addition, you may increase the number of reaction tanks as needed rather than what is shown in figure. In addition, in a reaction tank other than the 1st reaction tank among a plurality of reaction tanks, a dropping funnel or a raw material input port may not normally be required.

다음으로, 도 3에 나타낸 다른 실시 형태예의 반응 장치에 대해 설명한다.Next, a reaction apparatus according to another embodiment shown in FIG. 3 will be described.

도 3에 나타낸 반응 장치는, 반응 혼합물을 소량씩 배관을 통과시키는 공정이, 2개 이상의 반응조 사이를 통과시키면서 행하는 경우의 일례의 장치이며, 도 1과 같은 부재에 대해서는 같은 부호를 붙여 설명을 생략하고 있다.The reaction apparatus shown in FIG. 3 is an example of a case in which the step of passing the reaction mixture through a pipe in small portions is performed while passing between two or more reaction tanks. are doing

도 3에 있어서, 제1 반응조(1a)의 배관(12a)을 통과한 반응 혼합물은, 제1 반응조(1a)로 되돌려지는 것이 아니라, 다른 제2 반응조(1b)로 밸브(15a)를 통하여 도입된다. 이 경우의 배관 중(12a, 13a)의 온도나 반응조(1a, 1b)의 온도 조건 등의 각종 조건은 도 1을 이용하여 상술한 전술의 실시 형태예와 동일하므로 설명을 생략하고 있다. 제2 반응조(1b)의 배관 중(12b, 13b)을 통과한 반응 혼합물은, 다른 제3 반응조(1c)로 밸브(15b)를 통하여 도입된다. 이 경우도 배관 중의 온도나 반응조의 온도 조건 등의 각종 조건은 도 1을 이용하여 상술한 전술의 실시 형태예와 동일하므로 설명을 생략하고 있다. 그리고, 최종적으로 반응이 완료된 반응 혼합물을 제3 반응조(1c)의 밸브(17)로부터 취출하거나, 경우에 따라서 제3 반응조(1c)의 배관 중(12c, 13c)을 통과시켜 채취한다. 도 1, 도 2의 경우와 마찬가지로 반응이 충분히 진행되어 있지 않은 단계에서는, 반응조에 반응 혼합물을 되돌리기 전에 상술한 반응조 내의 온도와 동일한 온도, 즉, -100~+10℃, 바람직하게는 -30~0℃, 보다 바람직하게는 -20~-10℃로 냉각하는 공정을 항온조(14a 및 14b) 등에 의해 설치해도 된다. 14a, 14b, 14c는 반응을 진정화할 필요가 있는 경우에 상술의 소망하는 온도로 온도를 낮추어 유지하기 위한 항온조이지만, 통상, 온도를 저하시킬 필요가 없는 경우에는 불필요하다.In FIG. 3 , the reaction mixture that has passed through the pipe 12a of the first reaction tank 1a is not returned to the first reaction tank 1a, but is introduced into the other second reaction tank 1b through a valve 15a. do. In this case, various conditions such as the temperature in the pipes 12a and 13a and the temperature conditions in the reaction tanks 1a and 1b are the same as those of the embodiment described above with reference to FIG. The reaction mixture that has passed through the pipes 12b and 13b of the second reaction tank 1b is introduced into the other third reaction tank 1c through a valve 15b. In this case as well, various conditions, such as the temperature in the piping and the temperature condition of the reaction tank, are the same as those of the embodiment described above with reference to FIG. 1 , and thus description is omitted. Then, the reaction mixture in which the reaction is finally completed is taken out from the valve 17 of the third reaction tank 1c or, in some cases, is collected by passing through the pipes 12c and 13c of the third reaction tank 1c. As in the case of FIGS. 1 and 2 , in the stage where the reaction does not proceed sufficiently, the temperature is the same as the temperature in the above-described reaction tank before returning the reaction mixture to the reaction tank, that is, -100 to +10° C., preferably -30 to 0 °C, more preferably, the step of cooling to -20 to -10 °C may be provided by the thermostats 14a and 14b or the like. 14a, 14b, and 14c are thermostats for lowering and maintaining the temperature to the desired temperature described above when it is necessary to calm the reaction, but is usually unnecessary when the temperature does not need to be lowered.

이 도면에서는 3개의 반응조를 통과시켜 반응을 완료시키고 있는데, 반응이 완료되지 않는 경우에는, 추가로 반응조와 배관을 증설하는 설계로 해도 된다. 혹은, 제3 반응조로부터 제2 반응조로 되돌리거나, 추가로 제2와 제3 반응조의 사이에서 반응 혼합물을 순환시켜도 된다. 연속 생산의 경우에는, 이 도 3의 타입이 적합하지만, 비용이 든다.In this figure, the reaction is completed by passing three reaction tanks, but when the reaction is not completed, it is good also as a design in which a reaction tank and piping are additionally extended. Alternatively, the reaction mixture may be returned from the third reaction tank to the second reaction tank, or the reaction mixture may be circulated between the second and third reaction tanks. In the case of serial production, this type of Fig. 3 is suitable, but at a cost.

도 3에 나타낸 반응 장치에 있어서도, 도면 중의 도 1과 같은 부재에 대해서는 같은 부호를 붙여 설명을 생략하고 있다. 또한, 알파벳 부호를 제외한 같은 숫자 부호는, 상술에서 설명한 점을 제외하고, 도 1에 나타낸 같은 숫자 부호를 붙인 부재와 거의 같은 기능을 갖는 부재이며, 이 경우도 배관 중의 온도나 반응조의 온도 조건 등의 각종 조건은 도 1을 이용하여 상술한 전술의 실시 형태예와 동일하므로 설명을 생략하고 있다.Also in the reaction apparatus shown in FIG. 3, the same reference numerals are given to the same members as those in FIG. 1 in the drawing, and explanations are omitted. In addition, the same numerals except for the alphabetic symbols are members having substantially the same functions as the members to which the same numerals are shown in Fig. 1, except for the points described above, and in this case as well, the temperature in the piping, the temperature conditions of the reaction tank, etc. Various conditions of are the same as those of the above-described embodiment described above with reference to FIG. 1 , and thus description thereof is omitted.

또한, 복수의 반응조 중 제1 번째의 반응조 이외의 반응조에는 적하 깔때기(9)나 원료 투입구(16)는 존재하지 않지만, 적하 깔때기 및 원료 투입구가 있어도 된다.In addition, although the dropping funnel 9 and the raw material inlet 16 do not exist in the reaction tank other than the 1st reaction tank among a plurality of reaction tanks, a dropping funnel and a raw material inlet may be present.

[실시예][Example]

이하 실시예에 의해 본 발명을 추가로 설명하는데, 본 발명은 이것에 의해 한정되는 것은 아니다.The present invention is further illustrated by the following examples, but the present invention is not limited thereto.

(실시예 1)(Example 1)

(10L 반응조 클로로폼 용매에 의한 합성)(Synthesis by chloroform solvent in 10L reactor)

온도계, 콘덴서(-40℃에서 냉각), 적하 깔때기, 모터 교반기를 세팅한 10000ml 플라스크에 합성 용매로서 클로로폼 용매 3000ml와 요오드 3012.5g(11.87mol)을 주입하고, 칠러로부터의 냉매로 반응조 내를 -30℃로 냉각하고, 교반기로 교반하면서 페닐실란 1214.0g(11.22mol)과 아세트산에틸 40ml의 혼합액을 140분에 걸쳐 적하하였다. 적하 중에 액체의 온도가 -10℃ 정도까지 서서히 상승했는데, 급격한 온도 상승은 인정되지 않았다. 적하 종료 후, 반응 혼합액을 펌프로 +30℃로 유지한 항온조 중을 통과하는 배관 안에 설치한 스태틱 믹서 중을 300ml/min의 속도로 통과시키고, 이어서, -30℃의 항온조 중을 통과하는 배관 중을 지나게 한 후, 반응조로 되돌리는 조작을 6시간 계속하였다. 요오드의 소실을 확인한 후, 반응조의 냉각을 정지함과 더불어, 재차 +20℃로 유지한 항온조(13)를 지나게 하여 반응 혼합액의 온도가 실온 이상으로 상승하지 않는 것을 확인하고 반응을 정지하였다. 또한, 이 장치에서는 도 1의 부호(14)로 나타낸 반응을 진정화하기 위한 항온조는 존재하지 않는 케이스이다. 채취한 액체의 2단계의 감압 증류(농축 온도 45℃(51.3kPa), 증류 온도 60℃(6.9kPa))를 행하여, 2277.3g(수율 = 72%)의 디요오도실란이 얻어졌다.3000 ml of chloroform solvent and 3012.5 g (11.87 mol) of iodine as synthetic solvents were injected into a 10000 ml flask set with a thermometer, condenser (cooled at -40 ° C), dropping funnel, and motor stirrer, and the inside of the reactor was cooled with the refrigerant from the chiller - It cooled to 30 degreeC, and the liquid mixture of 1214.0 g (11.22 mol) of phenylsilane and 40 ml of ethyl acetate was dripped over 140 minutes, stirring with a stirrer. The temperature of the liquid gradually rose to about -10°C during dripping, but a rapid temperature rise was not recognized. After completion of the dropwise addition, the reaction mixture was passed through a static mixer installed in a pipe passing through a constant temperature bath maintained at +30 ° C with a pump at a speed of 300 ml/min, and then passed through a pipe passing through a constant temperature bath at -30 ° C. After passing, the operation of returning to the reaction tank was continued for 6 hours. After confirming the disappearance of the iodine, cooling of the reaction tank was stopped, and the reaction mixture was passed through a constant temperature tank 13 maintained at +20°C again to confirm that the temperature of the reaction mixture did not rise above room temperature, and the reaction was stopped. In addition, in this device, there is no thermostat for calming the reaction indicated by reference numeral 14 in Fig. 1 . Two steps of vacuum distillation (concentration temperature: 45°C (51.3 kPa), distillation temperature: 60°C (6.9 kPa)) of the collected liquid was performed to obtain 2277.3 g (yield = 72%) of diiodosilane.

(실시예 2)(Example 2)

(50L 반응조 클로로폼 용매에 의한 합성)(Synthesis by chloroform solvent in 50L reactor)

온도계, 콘덴서(-40℃에서 냉각), 적하 깔때기, 모터 교반기를 세팅하고 질소 가스를 충전한 도 1에 기재된 50L 반응조에 합성 용매로서 클로로폼 용매 15L와 요오드 15.08kg(59.42mol)을 주입하고, 칠러로부터의 냉매로 반응조 내를 -30℃로 냉각하고, 교반하면서 페닐실란 6.07kg(56.09mol)과 아세트산에틸 200ml의 혼합액을 300분에 걸쳐 적하하였다. 적하 중에 액체의 온도가 0℃ 정도까지 서서히 상승했는데, 급격한 온도 상승은 인정되지 않았다. 적하 종료 후, 반응 혼합액을 펌프로 30℃로 유지한 항온조(13) 중을 통과하는 배관 안에 설치한 스태틱 믹서 중을 1L/min의 속도로 통과시키고, 이어서, -30℃의 항온조(14) 중을 통과하는 배관 중을 지나게 한 후, 반응조로 되돌리는 조작을 12시간 계속하였다. 요오드의 소실을 확인한 후, 반응조의 냉각을 정지함과 더불어, 재차 20℃로 유지한 항온조(13) 및 20℃로 유지한 항온조(14) 중을 통과하는 배관 중을 지나게 한 후, 반응 혼합액의 온도가 실온 이상으로 상승하지 않는 것을 확인하고 반응을 정지하였다. 채취한 액체의 감압 증류(실시예 1과 동일한 조건)를 행하여, 11.62kg(수율 = 73%)의 디요오도실란이 얻어졌다.A thermometer, a condenser (cooled at -40 ° C), a dropping funnel, and a motor stirrer were set, and 15 L of chloroform solvent and 15.08 kg (59.42 mol) of iodine were injected as synthesis solvents into the 50 L reactor described in FIG. 1 filled with nitrogen gas, The inside of the reaction tank was cooled to -30°C with a refrigerant from a chiller, and a mixture of 6.07 kg (56.09 mol) of phenylsilane and 200 ml of ethyl acetate was added dropwise over 300 minutes while stirring. Although the temperature of the liquid gradually rose to about 0 degreeC during dripping, a rapid temperature rise was not recognized. After completion of the dropwise addition, the reaction mixture is passed through a static mixer installed in a pipe passing through a thermostat 13 maintained at 30° C. with a pump at a rate of 1 L/min, and then in a thermostat 14 at -30° C. After passing through the pipe passing through, the operation of returning to the reaction tank was continued for 12 hours. After confirming the disappearance of iodine, the cooling of the reaction tank is stopped, and after passing through the pipe passing through the thermostat 13 maintained at 20°C and the thermostat 14 maintained at 20°C, the reaction mixture It was confirmed that the temperature did not rise above room temperature, and the reaction was stopped. The collected liquid was subjected to vacuum distillation (same conditions as in Example 1) to obtain 11.62 kg (yield = 73%) of diiodosilane.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

(NEAT 무용매 합성)(NEAT solvent-free synthesis)

온도계, 콘덴서(-40℃에서 냉각. 콘덴서 상부에 Ar 가스 풍선 설치), 적하 깔때기, 모터 교반기를 세팅한 500ml 플라스크에 요오드 118.2g(0.47mol)을 주입하고, -78℃로 냉각(드라이아이스/메탄올 배스), 교반하면서 페닐실란 46.5g(0.43mol)을 적하하였다. 페닐실란이 동결한 것을 확인 후, 아세트산에틸 1.2ml를 적하하고 실온까지 교반을 계속하였다. 교반 중에 -20℃ 부근에서 급격한 온도 상승이 인정되고 40℃ 근처까지 상승했는데, 서서히 온도가 저하하였다(-5℃까지). 이 때, 풍선이 서서히 팽창하였다. 실온까지 교반을 계속, 실온이 되고 나서 추가로 24시간 교반을 계속하고 교반을 정지하였다. 채취한 액체의 감압 증류(증류 온도 60℃(6.9kPa))를 행하여, 59.5g(수율 = 49%)의 디요오도실란이 얻어졌다.118.2 g (0.47 mol) of iodine was injected into a 500 ml flask set with a thermometer, condenser (cooled at -40 ° C. Ar gas balloon installed on top of the condenser), dropping funnel, and motor stirrer, and cooled to -78 ° C (dry ice/ methanol bath) and 46.5 g (0.43 mol) of phenylsilane were added dropwise while stirring. After confirming that the phenylsilane had frozen, 1.2 ml of ethyl acetate was added dropwise, and stirring was continued to room temperature. During stirring, a rapid temperature rise was observed at around -20°C and increased to near 40°C, but the temperature gradually decreased (up to -5°C). At this time, the balloon slowly inflated. Stirring was continued until room temperature, and after reaching room temperature, stirring was continued for an additional 24 hours, and stirring was stopped. The collected liquid was subjected to vacuum distillation (distillation temperature: 60°C (6.9 kPa)) to obtain 59.5 g (yield = 49%) of diiodosilane.

이 결과로부터 분명한 바와 같이, 소량 밖에 제조하지 못하고, 수율도 나쁘며, 제조 공정에 필요로 하는 시간이 길어, 공업적 생산에는 적합하지 않았다.As is clear from this result, only a small amount can be produced, the yield is also poor, the time required for the manufacturing process is long, and it is not suitable for industrial production.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

(클로로폼 용매에 의한 합성 500ml 반응조)(Synthesis 500ml reactor using chloroform solvent)

온도계, 콘덴서(-40℃에서 냉각. 콘덴서 상부에 Ar 가스 풍선 설치), 적하 깔때기, 모터 교반기를 세팅한 500ml 플라스크에 합성 용매로서 클로로폼 100ml와 요오드 103.7g(0.41mol)을 주입하고, -76℃로 냉각(드라이아이스/메탄올 배스), 교반하면서 페닐실란 44.4g(0.41mol)과 아세트산에틸 3.0ml의 혼합액을 20분에 걸쳐 적하하였다. 교반 중에 급격한 온도 상승은 인정되지 않고, 교반을 실온까지 계속하였다. 실온이 되고 나서 추가로 24시간 교반을 계속하고 교반을 정지하였다. 채취한 액체의 감압 증류(실시예 1과 동일한 조건)를 행하여, 70.0g(수율 = 60%)의 디요오도실란이 얻어졌다.100ml of chloroform and 103.7g (0.41mol) of iodine as synthetic solvents were injected into a 500ml flask set with a thermometer, condenser (cooled at -40℃, Ar gas balloon installed on top of the condenser), a dropping funnel, and a motor stirrer, -76 A mixture of 44.4 g (0.41 mol) of phenylsilane and 3.0 ml of ethyl acetate was added dropwise over 20 minutes while cooling to °C (dry ice/methanol bath) and stirring. A rapid temperature rise was not recognized during stirring, and stirring was continued to room temperature. After reaching room temperature, stirring was continued for an additional 24 hours, and stirring was stopped. The collected liquid was subjected to reduced pressure distillation (same conditions as in Example 1) to obtain 70.0 g (yield = 60%) of diiodosilane.

이 결과로부터 분명한 바와 같이, 용매를 사용하여, 비교예 1보다 스케일을 업시켰지만, 장시간 걸린 것에 비해서는, 비교적 소량 밖에 제조하지 못하고, 수율도 나빠, 공업적 규모에서의 생산에는 적합하지 않았다.As is clear from this result, although the scale was increased compared to Comparative Example 1 using a solvent, only a relatively small amount could be produced compared to the one that took a long time, the yield was also poor, and it was not suitable for production on an industrial scale.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

(클로로폼 용매에 의한 합성 3000ml 반응조)(3000 ml reaction tank for synthesis using chloroform solvent)

온도계, 콘덴서(-40℃에서 냉각), 적하 깔때기, 모터 교반기를 세팅한 3000ml 플라스크에 질소 가스를 충전하고, 합성 용매로서 클로로폼 용매 1400ml와 요오드 1518.4g(5.98mol)을 주입하고, 칠러로부터의 냉매로 반응조 내를 -30℃로 냉각하고, 교반하면서 페닐실란 611.6g(5.65mol)과 아세트산에틸 24.0ml의 혼합액을 -30℃에서 130분에 걸쳐 적하하였다. 적하 중에 액체의 온도가 -10℃ 정도까지 서서히 상승했는데, 급격한 온도 상승은 인정되지 않았다. 적하 종료 후, 1℃/min으로 5℃ 승온시키고, 그 온도로 10분 유지하며, 이어서 실온에 이를 때까지 교반을 계속하였다. 실온이 되고 나서 추가로 24시간 교반을 계속하고 교반을 정지하였다. 채취한 액체의 감압 증류(실시예 1과 동일한 조건)를 행하여, 1220.1g(수율 = 76%)의 디요오도실란이 얻어졌다.Nitrogen gas was filled in a 3000 ml flask set with a thermometer, a condenser (cooled at -40 ° C), a dropping funnel, and a motor stirrer, 1400 ml of chloroform solvent and 1518.4 g (5.98 mol) of iodine were injected as synthesis solvents, The inside of the reaction tank was cooled to -30°C with a refrigerant, and a mixture of 611.6 g (5.65 mol) of phenylsilane and 24.0 ml of ethyl acetate was added dropwise at -30°C over 130 minutes while stirring. The temperature of the liquid gradually rose to about -10°C during dripping, but a rapid temperature rise was not recognized. After completion of the dropping, the temperature was raised to 5°C at 1°C/min, maintained at that temperature for 10 minutes, and then stirring was continued until it reached room temperature. After reaching room temperature, stirring was continued for an additional 24 hours, and stirring was stopped. The collected liquid was subjected to vacuum distillation (same conditions as in Example 1) to obtain 1220.1 g (yield = 76%) of diiodosilane.

이 결과로부터 분명한 바와 같이, 용매를 사용하여, 비교예 2보다 더욱 스케일을 업시켰지만, 극히 장시간 걸린 것에 비해서는, 공업 생산에 적합한 정도의 양의 생산물을 얻지 못하여, 공업적 규모에서의 생산에는 적합하지 않았다.As is clear from this result, although the scale was further increased than in Comparative Example 2 by using a solvent, a product in an amount suitable for industrial production was not obtained compared to the one that took an extremely long time, so it is suitable for production on an industrial scale Did not do it.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

(클로로폼 용매에 의한 합성 3000ml 적하 온도 = -20℃)(Synthesis with chloroform solvent 3000 ml dripping temperature = -20°C)

페닐실란과 아세트산에틸의 혼합액의 적하 시의 반응조(플라스크) 내의 온도를 -20℃로 변경한 이외는, 비교예 3과 동일한 합성을 행하였다. 적하 중, 액체의 온도가 0℃ 정도까지 서서히 상승했는데, 급격한 온도 상승은 인정되지 않았다. 감압 증류 후(실시예 1과 동일한 조건), 1211.3g(수율 = 75%)의 디요오도실란이 얻어졌다.The same synthesis as in Comparative Example 3 was performed except that the temperature in the reaction tank (flask) was changed to -20°C at the time of dripping the mixed solution of phenylsilane and ethyl acetate. During dripping, the temperature of the liquid gradually rose to about 0°C, but a rapid temperature rise was not recognized. After distillation under reduced pressure (same conditions as in Example 1), 1211.3 g (yield = 75%) of diiodosilane was obtained.

이 결과로부터 분명한 바와 같이, 페닐실란과 아세트산에틸의 적하 온도를 비교예 3보다 높은 온도로 해 보았는데, 얻어지는 디요오도실란의 양은, 비교예 3의 경우와 별로 다르지 않고, 제조 공정에 필요로 하는 시간이 길어, 공업적 규모에서의 생산에는 적합하지 않았다.As is clear from this result, when the dropping temperature of phenylsilane and ethyl acetate was set to a temperature higher than that of Comparative Example 3, the amount of diiodosilane obtained was not much different from that of Comparative Example 3, It took a long time and was not suitable for production on an industrial scale.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

(클로로폼 용매에 의한 합성 3000ml 적하 온도 = -10℃)(Synthesis with chloroform solvent 3000 ml dropping temperature = -10°C)

페닐실란과 아세트산에틸의 혼합액의 적하 시의 반응조(플라스크) 내의 온도를 -10℃로 변경한 이외는, 비교예 3과 동일한 합성을 행하였다. 적하 중, 액체의 온도가 0℃ 정도까지 서서히 상승했는데, 급격한 온도 상승은 인정되지 않았다. 감압 증류 후(실시예 1과 동일한 조건), 1219.1g(수율 = 76%)의 디요오도실란이 얻어졌다.The same synthesis as in Comparative Example 3 was performed except that the temperature in the reaction tank (flask) was changed to -10°C at the time of dripping the mixed solution of phenylsilane and ethyl acetate. During dripping, the temperature of the liquid gradually rose to about 0°C, but a rapid temperature rise was not recognized. After distillation under reduced pressure (same conditions as in Example 1), 1219.1 g (yield = 76%) of diiodosilane was obtained.

이 결과로부터 분명한 바와 같이, 페닐실란과 아세트산에틸의 적하 온도를 비교예 4보다 더욱 높은 온도로 해 보았는데, 얻어지는 디요오도실란의 양은, 비교예 3이나, 비교예 4의 경우와 별로 다르지 않고, 공업 생산에 적합한 정도의 양의 생산물을 얻지 못하며, 제조 공정에 필요로 하는 시간이 길어, 공업적 규모에서의 생산에는 적합하지 않았다. 페닐실란과 아세트산에틸의 적하 온도의 상승은 생산량 향상에 별로 기여하지 않는 것을 알 수 있었다.As is clear from this result, when the dropping temperature of phenylsilane and ethyl acetate was set to a temperature higher than that of Comparative Example 4, the amount of diiodosilane obtained was not much different from that of Comparative Example 3 or Comparative Example 4, It is not possible to obtain a product in an amount suitable for industrial production, and the time required for the manufacturing process is long, which is not suitable for production on an industrial scale. It was found that an increase in the dropping temperature of phenylsilane and ethyl acetate did not contribute much to the improvement in production.

(비교예 6)(Comparative Example 6)

(클로로폼 용매에 의한 합성 페닐실란 적하 시간의 단축)(Shortening of synthetic phenylsilane dripping time using chloroform solvent)

페닐실란과 아세트산에틸의 혼합액의 적하 시간을 60min으로 변경한 이외는 비교예 3과 동일한 합성을 행하였다. 적하 중, 액체의 온도가 10℃ 정도까지 서서히 상승하였다. 급격한 온도 상승은 볼 수 없었지만, 더욱 올라가는 경향이 보였기 때문에 적하를 정지, 액체의 온도가 저하한 것을 확인 후, 추가로 적하를 계속하였다. 감압 증류 후(실시예 1과 동일한 조건), 1250.1g(수율 = 78%)의 디요오도실란이 얻어졌다.The same synthesis as in Comparative Example 3 was performed except that the dripping time of the mixed solution of phenylsilane and ethyl acetate was changed to 60 min. During dripping, the temperature of the liquid rose gradually to about 10 degreeC. Although a rapid temperature rise was not observed, since the tendency to rise further was seen, dripping was stopped, and after confirming that the temperature of a liquid fell, dripping was continued further. After distillation under reduced pressure (same conditions as in Example 1), 1250.1 g (yield = 78%) of diiodosilane was obtained.

이 결과로부터 분명한 바와 같이, 페닐실란과 아세트산에틸의 적하 시간을 비교예 3보다 단축하면, 반응계 내 온도가 상승하는 위험성이 감지되고, 생산에 꽤 장시간이 걸리는 것에 비해서는, 얻어지는 디요오도실란의 양은, 비교예 3의 경우와 별로 다르지 않고, 공업 생산에 적합한 정도의 양의 생산물을 얻지 못하여, 공업적 규모에서의 생산에는 적합하지 않았다. 페닐실란과 아세트산에틸의 적하 속도의 상승(적하 시간의 단축)은 생산량 향상에 기여하지 않는 것을 알 수 있었다.As is clear from this result, when the dropping time of phenylsilane and ethyl acetate is shortened compared to Comparative Example 3, the risk of increasing the temperature in the reaction system is sensed, and compared to the fact that production takes quite a long time, the diiodosilane obtained is The amount was not very different from the case of Comparative Example 3, and a product in an amount suitable for industrial production could not be obtained, so it was not suitable for production on an industrial scale. It was found that an increase in the dropping rate (reduction of the dropping time) of phenylsilane and ethyl acetate did not contribute to the improvement in production.

(비교예 7)(Comparative Example 7)

(클로로폼 용매에 의한 합성 페닐실란 적하 시간의 증가)(Increase of synthetic phenylsilane dropping time by chloroform solvent)

페닐실란과 아세트산에틸의 혼합액의 적하 시간을 240min으로 변경한 이외는 비교예 3과 동일한 합성을 행하였다. 적하 중, 액체의 온도는 거의 일정, 급격한 온도 상승은 볼 수 없었다. 감압 증류 후(실시예 1과 동일한 조건), 1220.1g(수율 = 76%)의 디요오도실란이 얻어졌다.The same synthesis as in Comparative Example 3 was performed except that the dripping time of the mixed solution of phenylsilane and ethyl acetate was changed to 240 min. During the dropping, the liquid temperature was almost constant, and no rapid temperature rise was observed. After distillation under reduced pressure (same conditions as in Example 1), 1220.1 g (yield = 76%) of diiodosilane was obtained.

이 결과로부터 분명한 바와 같이, 페닐실란과 아세트산에틸의 적하 시간을 비교예 3보다 길게 해도, 반응계 내 온도가 상승하는 위험성은 완화되지만, 생산에 꽤 장시간이 걸리는 것에 비해서는, 얻어지는 디요오도실란의 양은, 비교예 3의 경우와 별로 다르지 않고, 공업 생산에 적합한 정도의 양의 생산물을 얻지 못하여, 공업적 규모에서의 생산에는 적합하지 않았다. 페닐실란과 아세트산에틸의 적하 속도의 저하(적하 시간의 증가)는 생산량 향상에 기여하지 않는 것을 알 수 있었다.As is clear from this result, even if the dropping time of phenylsilane and ethyl acetate is longer than that of Comparative Example 3, the risk of increasing the temperature in the reaction system is alleviated, but compared to the fact that production takes quite a long time, the diiodosilane obtained The amount was not very different from the case of Comparative Example 3, and a product in an amount suitable for industrial production could not be obtained, so it was not suitable for production on an industrial scale. It turned out that the fall (increase of the dripping time) of the dropping rate of phenylsilane and ethyl acetate does not contribute to the improvement of the production volume.

(비교예 8)(Comparative Example 8)

(클로로폼 용매에 의한 합성 실온에서의 교반 시간의 증가)(Increase of stirring time at room temperature for synthesis with chloroform solvent)

페닐실란과 아세트산에틸의 혼합액의 적하 후, 실온이 되고 나서의 교반 시간을 48시간으로 변경한 이외는 비교예 3과 동일한 공정을 행하여, 1253.6g(수율 = 78%)의 디요오도실란이 얻어졌다.After the mixture of phenylsilane and ethyl acetate was dripped, 1253.6 g (yield = 78%) of diiodosilane was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that the stirring time after reaching room temperature was changed to 48 hours. lost.

이 결과로부터 분명한 바와 같이, 상기의 교반 시간을 비교예 3보다 길게 2배로 해도, 생산 시간이 극히 장시간이 걸리는 것에 비해서는, 얻어지는 디요오도실란의 양은, 비교예 3의 경우와 별로 다르지 않고, 공업 생산에 적합한 정도의 양의 생산물을 얻지 못하여, 공업적 규모에서의 생산에는 적합하지 않았다. 반응계 내가 실온이 되고 나서의 교반 시간을 길게 해도 생산량 향상에 기여하지 않는 것을 알 수 있었다.As is clear from this result, even if the stirring time is doubled longer than that of Comparative Example 3, the amount of diiodosilane obtained is not much different from that of Comparative Example 3, compared to that the production time is extremely long, The amount of product suitable for industrial production was not obtained, so it was not suitable for production on an industrial scale. It turned out that even if it lengthens the stirring time after the inside of a reaction system becomes room temperature, it does not contribute to the improvement of production volume.

(비교예 9)(Comparative Example 9)

(클로로폼 용매에 의한 합성 10000ml 반응조)(10000ml reaction tank for synthesis using chloroform solvent)

온도계, 콘덴서(-40℃에서 냉각), 적하 깔때기, 모터 교반기를 세팅하고, 질소 가스를 충전한 10000ml 플라스크에 합성 용매로서 클로로폼 용매 3000ml와 요오드 3012.5g(11.87mol)을 주입하고, 칠러로부터의 냉매로 반응조 내를 -30℃로 냉각하고, 교반하면서 페닐실란 1214.0g(11.22mol)과 아세트산에틸 40ml의 혼합액을 140분에 걸쳐 적하하였다. 적하 중에 액체의 온도가 -10℃ 정도까지 서서히 상승했는데, 급격한 온도 상승은 인정되지 않았다. 적하 종료 후, 1℃/min으로 5℃ 승온시키고, 그 온도로 10분 유지하며, 이어서 실온에 이를 때까지 교반을 계속하였다. 이 때, 액체의 온도가 15℃ 부근에서 약 30℃까지 단번에 온도 상승이 보였다. 칠러의 온도를 0℃까지 저하시키면 액체의 온도는 저하했으므로, 0℃에서 1시간 교반을 계속시키고 나서 1℃/min으로 5℃까지 승온, 1시간 교반을 행하였다. 이 때, 액체의 온도는 10℃를 나타내 칠러 온도(5℃)와 명확한 차가 보였다. 그 후, 1℃/min으로 20℃까지 승온, 추가로 24시간 교반을 계속하고 교반을 정지하였다. 채취한 액체의 감압 증류(실시예 1과 동일한 조건)를 행하여, 1834.5g(수율 = 58%)의 디요오도실란이 얻어졌다.A thermometer, a condenser (cooled at -40 ° C), a dropping funnel, and a motor stirrer were set, and 3000 ml of a chloroform solvent and 3012.5 g (11.87 mol) of iodine were injected as a synthesis solvent into a 10000 ml flask filled with nitrogen gas, and from the chiller The inside of the reaction tank was cooled to -30°C with a refrigerant, and a mixture of 1214.0 g (11.22 mol) of phenylsilane and 40 ml of ethyl acetate was added dropwise over 140 minutes while stirring. During the dripping, the temperature of the liquid gradually rose to about -10°C, but a rapid temperature rise was not recognized. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 5°C at 1°C/min, maintained at that temperature for 10 minutes, and then stirring was continued until it reached room temperature. At this time, the temperature of the liquid increased from around 15°C to about 30°C at once. When the temperature of the chiller was lowered to 0°C, the liquid temperature was lowered. After continuing stirring at 0°C for 1 hour, the temperature was raised to 5°C at 1°C/min and stirred for 1 hour. At this time, the liquid temperature was 10°C, and a clear difference was observed from the chiller temperature (5°C). Thereafter, the temperature was raised to 20°C at 1°C/min and stirring was continued for an additional 24 hours, and stirring was stopped. The collected liquid was subjected to vacuum distillation (same conditions as in Example 1) to obtain 1834.5 g (yield = 58%) of diiodosilane.

실시예 1과 거의 동일한 규모로 제조했지만, 비교예 9는, 반응 혼합물을 반응조 중으로부터 소량씩 연속적으로 또는 간헐적으로 취출하여 승온시키면서 이송하는 공정을 갖지 않으므로, 실시예 1과 비교하여, 공정 시간도 길고, 수량(收量)도 적으며 수율도 나빠, 공업적 생산에는 적합하지 않았다.Although prepared on the same scale as Example 1, Comparative Example 9 does not have a step of continuously or intermittently taking out the reaction mixture in small portions from the reactor and transferring it while raising the temperature, so compared with Example 1, the process time is also It was long, the quantity was small, and the yield was also bad, so it was not suitable for industrial production.

(비교예 10)(Comparative Example 10)

(클로로폼 용매에 의한 합성 10000ml 반응조 온도 컨트롤하여 실온까지 교반)(Synthesis using chloroform solvent 10000ml reaction tank temperature control and stirring to room temperature)

비교예 9와 동일한 공정을 행하여, 페닐실란과 아세트산에틸의 혼합액의 적하를 종료시켰다. 페닐실란 적하 후의 실온까지 승온, 교반시키는 공정에서, 1℃/min으로 5℃ 승온시키고, 그 온도로 10분 유지하며, 0℃까지 승온, 5시간 유지하였다. 그 후, 1℃/min으로 5℃까지 승온시키고, 2시간 유지 후, 1℃/min으로 10℃까지 승온, 1시간 유지하였다. 거기에서 1℃/min으로 20℃까지 승온, 20℃가 되고 나서 24시간 교반을 계속하였다. 이 때, 액체의 온도가 칠러 온도를 초과하여 온도 상승하는 경우는 없었다. 그것 이외는 비교예 9와 동일한 공정을 행하여, 1819.4g(수율 = 57%)의 디요오도실란이 얻어졌다.The same process as in Comparative Example 9 was followed, and the dripping of the mixed solution of phenylsilane and ethyl acetate was terminated. In the step of raising the temperature to room temperature after the phenylsilane dropwise addition and stirring, the temperature was raised to 5°C at 1°C/min, held at that temperature for 10 minutes, and then heated to 0°C and maintained for 5 hours. Then, it heated up to 5 degreeC at 1 degreeC/min, and after holding for 2 hours, the temperature was raised to 10 degreeC at 1 degreeC/min, and it hold|maintained for 1 hour. From there, the temperature was raised to 20°C at 1°C/min and stirring was continued for 24 hours after reaching 20°C. At this time, the temperature of the liquid did not exceed the chiller temperature and the temperature did not rise. Except for that, the same steps as in Comparative Example 9 were followed to obtain 1819.4 g (yield = 57%) of diiodosilane.

비교예 9에 비하여, 보다 단계적으로 실온까지 되돌릴 수는 있었지만, 공정 시간이 길어지고, 또한, 실시예 1과 동일한 장치를 이용하고 있지만, 실시예 1에 비하여 수량도 적고 수율도 나빠, 공업적 생산에는 적합하지 않았다.Compared with Comparative Example 9, it was possible to return to room temperature in a more stepwise manner, but the process time was long, and although the same apparatus as in Example 1 was used, the quantity was less and the yield was poor compared to Example 1, and industrial production was not suitable for

[표 1][Table 1]

Figure 112019095368791-pat00001
Figure 112019095368791-pat00001

주의) 표 중, 「이론 배치 수량」이란, 투입한 원료가 전부 100% 반응했다고 가정했을 경우의 수량이며, 실제로는 전부 100%는 반응하지 않으므로, 수율도 고려할 필요가 있다.Note) In the table, "theoretical batch quantity" refers to the quantity when it is assumed that all of the input materials reacted 100%, and in reality, all 100% did not react, so it is necessary to consider the yield.

표 중의 비고란의 「적하」란 페닐실란과 아세트산에틸의 혼합액의 적하를 의미한다."Drop" in the remarks column in a table|surface means dripping of the liquid mixture of phenylsilane and ethyl acetate.

[산업상의 이용 가능성][Industrial Applicability]

본 발명의 디요오도실란의 제조 방법은, 반도체 제조 때, 질화규소 등의 규소 함유막을 CVD법(화학 기상 성장법)이나 ALD법(원자층 퇴적법)에 의해 형성하는 경우의 원재료가 되는 디요오도실란의 제조 공정 시간의 단축에도 기여할 수 있어, 공업적인 제조에 유용하게 적용할 수 있다.In the method for producing diiodosilane of the present invention, diiodo as a raw material for forming a silicon-containing film such as silicon nitride by a CVD method (chemical vapor deposition method) or ALD method (atomic layer deposition method) during semiconductor manufacturing It can also contribute to shortening of the manufacturing process time of dosilane, and can be usefully applied to industrial manufacture.

1 반응조
1a 제1 반응조
1b 제2 반응조
1c 제3 반응조
2 교반기
3 칠러
4 콘덴서(냉각용 열교환기)
5 압력 해방 밸브
6 배기관
7 불활성 가스 공급기
8 밸브
9 적하 깔때기
10, 10a, 10b, 10c 밸브
11, 11a, 11b, 11c 순환 펌프
12, 12a, 12b, 12c 배관
13, 13a, 13b, 13c 항온조
14, 14a, 14b, 14c 항온조
15, 15a, 15b, 15c 밸브
16 원료 투입구
17 밸브
1 reactor
1a first reactor
1b second reactor
1c third reactor
2 stirrer
3 chiller
4 Condenser (heat exchanger for cooling)
5 pressure relief valve
6 exhaust pipe
7 Inert gas supply
8 valve
9 drip funnel
10, 10a, 10b, 10c valves
11, 11a, 11b, 11c circulation pump
12, 12a, 12b, 12c piping
13, 13a, 13b, 13c thermostat
14, 14a, 14b, 14c bath
15, 15a, 15b, 15c valves
16 Raw material inlet
17 valve

Claims (4)

반응조 중의 용매와 요오드의 혼합물에 페닐실란과 촉매를 적하하여 디요오도실란을 제조하는 방법으로서, 반응조 중의 상기 용매, 요오드, 페닐실란, 촉매 및 반응 생성물을 포함하는 반응 혼합물을 반응조 중으로부터 소량씩 연속적으로 또는 간헐적으로 취출(取出)하여 승온시키면서 이송하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 디요오도실란의 제조 방법으로서,
상기 용매는 디요오도실란과 공비(共沸)하지 않는 아프로틱 용매(aprotic solvent)이고, 반응 생성물과 비점차가 있는 것이며,
상기 촉매는 아세트산에틸, 아세트산팔라듐(II), 트리페닐포스핀옥시드, 및 염화팔라듐으로 이루어진 군에서 선택되는 것이고,
반응조 중으로부터 소량씩 연속적으로 또는 간헐적으로 취출하여 승온시키면서 이송하는 공정의 온도를 +20~+60℃로 하고,
상기 "소량씩"은 반응 혼합물 총량에 대해서 0.1~50중량%/min의 속도를 의미하는, 디요오도실란의 제조 방법.
A method for producing diiodosilane by dropping phenylsilane and a catalyst to a mixture of a solvent and iodine in a reaction tank, wherein the reaction mixture including the solvent, iodine, phenylsilane, catalyst and reaction product in the reaction tank is added little by little from the reaction tank A method for producing diiodosilane comprising the step of continuously or intermittently taking out and transferring while raising the temperature,
The solvent is an aprotic solvent that does not azeotrope with diiodosilane, and has a boiling point difference from the reaction product,
The catalyst is selected from the group consisting of ethyl acetate, palladium (II) acetate, triphenylphosphine oxide, and palladium chloride,
The temperature of the process of taking out small amounts continuously or intermittently from the reactor and transferring it while raising the temperature is +20 to +60 ° C,
The "in small amounts" means a rate of 0.1 to 50% by weight/min with respect to the total amount of the reaction mixture, the method for producing diiodosilane.
청구항 1에 있어서,
반응 혼합물을 반응조 중으로부터 소량씩 연속적으로 또는 간헐적으로 취출하여 승온시키면서 이송하는 공정이, 반응조에 부설된 반응 혼합물을 이송하는 배관 중에서 행해지는 공정이며, 상기 반응 혼합물을 이송, 승온하는 공정이, 하기 (a), (b), (c) 중 어느 하나로부터 선택된 공정인, 디요오도실란의 제조 방법.
(a) 2개 이상의 반응조를 이용하여, 인접하는 반응조 사이를 연결하는 배관 중에서 행해지는 공정, 또는,
(b) 상기 (a) 공정에 있어서, 최종의 반응조로부터 상기 반응 혼합물을 상기 반응조 중 어느 하나로 되돌리고, 상기 최종의 반응조로부터 반응 혼합물을 취출할 때까지 각 배관 중에서 반응 혼합물을 이송, 승온하는 공정을 반복하여 행하는 공정, 또는,
(c) 한개의 반응조를 이용하여, 상기 반응조로부터 반응 혼합물을 취출하고, 다시 상기 반응조로 되돌리는 배관 중에서 반응 혼합물을 이송, 승온하는 공정을 반복하여 행하는 공정.
The method according to claim 1,
The step of continuously or intermittently taking out the reaction mixture in small portions from the reactor and transferring it while raising the temperature is a process performed in a pipe for transporting the reaction mixture installed in the reaction tank, and the process of transporting and raising the temperature of the reaction mixture is as follows (a), (b), a process selected from any one of (c), a method for producing diiodosilane.
(a) a process performed in a pipe connecting between adjacent reaction tanks using two or more reaction tanks; or
(b) in the step (a), returning the reaction mixture from the final reaction tank to any one of the reaction tanks, and transferring the reaction mixture in each pipe until the reaction mixture is taken out from the final reaction tank and raising the temperature; a process to be repeated, or
(c) repeating the steps of taking out the reaction mixture from the reaction tank using a single reaction tank, and transferring the reaction mixture in a pipe returning to the reaction tank and raising the temperature.
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