KR102412627B1 - 에어로졸 생성 장치 및 그 동작 방법 - Google Patents

Abstract

에어로졸 생성 장치는 디스플레이, 디스플레이에 접촉된 지문을 향하여 광을 조사하는 발광 소자, 지문을 향하여 조사된 광에 대응하는 반사광을 이용하여 접촉된 지문에 대응하는 이미지를 생성하는 센서, 에어로졸 생성 물질을 가열하는 히터, 메모리; 및 이미지에 기초하여 지문을 식별하고, 메모리에 저장된 복수의 기능들 중에서 식별된 지문에 대응하는 기능을 수행하는 프로세서를 포함할 수 있다.

Description

에어로졸 생성 장치 및 그 동작 방법{Aerosol generating apparatus and method for operating the same}

본 개시는 에어로졸 생성 장치 및 그 동작 방법에 관한 것이다.

근래에 일반적인 에어로졸 생성 물품의 단점들을 극복하는 대체 방법에 관한 수요가 증가하고 있다. 예를 들어, 에어로졸 생성 물품을 연소시켜 에어로졸을 생성시키는 방법이 아닌 에어로졸 생성 물품 내의 에어로졸 생성 물질이 가열됨에 따라 에어로졸이 생성하는 방법에 관한 수요가 증가하고 있다.

특히, 에어로졸 생성 장치에 대한 다양한 기능을 수행하기 위한 사용자의 입력에 응답하여 에어로졸 생성 장치를 통해 다양한 기능을 수행시키려는 연구가 진행되고 있다.

중국공개특허공보 제103948177호 (2014.07.30.)

에어로졸 생성 장치 및 그 동작 방법을 제공하는 데 있다. 구체적으로, 에어로졸 생성 장치를 사용하는 사용자의 지문을 식별하고, 식별된 지문에 기초하여 다양한 기능을 수행하는 장치를 제공하는 데 있다. 한편, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기된 바와 같은 기술적 과제들로 한정되지 않으며, 이하의 실시예들로부터 또 다른 기술적 과제들이 유추될 수 있다.

일 측면에 따른 에어로졸 생성 장치는 디스플레이; 상기 디스플레이에 접촉된 지문을 향하여 광을 조사하는 발광 소자; 상기 지문을 향하여 조사된 광에 대응하는 반사광을 이용하여 상기 접촉된 지문에 대응하는 이미지를 생성하는 센서; 에어로졸 생성 물질을 가열하는 히터; 메모리; 및 상기 이미지에 기초하여 상기 지문을 식별하고, 상기 메모리에 저장된 복수의 기능들 중에서 상기 식별된 지문에 대응하는 기능을 수행하는 프로세서를 포함한다.

다른 측면에 따른 에어로졸 생성 장치는 에어로졸 생성 장치에 접촉된 지문을 향하여 광을 조사하는 발광 소자; 상기 지문을 향하여 조사된 광에 대응하는 반사광을 이용하여 상기 접촉된 지문에 대응하는 이미지를 생성하는 센서; 에어로졸 생성 물질을 가열하는 히터; 메모리; 및 상기 이미지에 기초하여 상기 지문을 식별하고, 상기 메모리에 저장된 복수의 기능들 중에서 상기 식별된 지문에 대응하는 기능을 수행하는 프로세서를 포함한다.

또 다른 측면에 따른 에어로졸 생성 장치는 에어로졸 생성 장치에 접촉된 지문을 감지하기 위한 센서; 및 상기 센서에서 생성된 정보에 기초하여 상기 지문을 식별하고, 상기 식별된 지문이 상기 에어로졸 생성 장치를 사용하는 사용자의 오른손에 포함되는 지문인 경우 제1 기능을 수행하고, 상기 식별된 지문이 상기 사용자의 왼손에 포함되는 지문인 경우 제2 기능을 수행하는 프로세서를 포함한다.

또 다른 측면에 따른 에어로졸 생성 장치의 동작 방법은 에어로졸 생성 장치에 접촉된 지문을 향하여 광을 조사하는 단계; 상기 지문을 항하여 조사된 광에 대응하는 반사광을 수신하는 단계; 상기 반사광을 이용하여 상기 접촉된 지문에 대응하는 이미지를 생성하는 단계; 상기 이미지에 기초하여 상기 지문을 식별하는 단계; 및 기 저장된 복수의 기능들 중에서 상기 식별된 지문에 대응하는 기능을 수행하는 단계를 포함한다.

에어로졸 생성 장치는 에어로졸 생성 장치를 사용하는 사용자의 입력에 기초하여 다양한 기능을 수행함으로써, 사용자에게 만족감 및 편의성을 제공할 수 있다. 본 발명의 효과가 상술한 효과로 제한되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.

도 1은 에어로졸 생성 물품이 내부 가열형 에어로졸 생성 장치에 삽입된 일 예를 도시한 도면이다.
도 2는 에어로졸 생성 물품이 외부 가열형 에어로졸 생성 장치에 삽입된 일 예를 도시한 도면이다.
도 3은 에어로졸 생성 물품이 외부 가열형 에어로졸 생성 장치에 삽입된 다른 예를 도시한 도면이다.
도 4는 유도가열 방식을 이용한 에어로졸 생성 장치의 일 예를 도시한 도면이다.
도 5는 에어로졸 생성 장치의 하드웨어 구성의 일 예를 도시한 블록도이다.
도 6은 사용자의 지문이 접촉될 위치가 디스플레이에 표시된 에어로졸 생성 장치의 일 예를 도시한 도면이다.
도 7은 사용자의 지문이 접촉된 에어로졸 생성 장치의 일 예를 도시한 도면이다.
도 8은 오른손의 지문이 접촉된 에어로졸 생성 장치 및 왼손의 지문이 접촉된 에어로졸 생성 장치의 일 예를 도시한 도면이다.
도 9는 디스플레이에 표시되는 오른손 모드 및 왼손 모드의 사용자 인터페이스를 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 지문에 대응하는 이미지가 생성되는 방법의 일 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 에어로졸 생성 장치의 하드웨어 구성의 다른 예를 도시한 블록도이다.
도 12는 도 5에 따른 에어로졸 생성 장치의 동작 방법의 일 예를 나타내는 흐름도이다.

아래에서는 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.

실시예들에서 사용되는 용어는 본 발명에서의 기능을 고려하면서 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어들을 선택하였으나, 이는 당 분야에 종사하는 기술자의 의도 또는 판례, 새로운 기술의 출현 등에 따라 달라질 수 있다. 또한, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있으며, 이 경우 해당되는 발명의 설명 부분에서 상세히 그 의미를 기재할 것이다. 따라서 본 발명에서 사용되는 용어는 단순한 용어의 명칭이 아닌, 그 용어가 가지는 의미와 본 발명의 전반에 걸친 내용을 토대로 정의되어야 한다.

명세서 전체에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다.

아래에서는 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.

또한, 본 명세서에서 사용되는 '제1' 또는 '제2' 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용할 수 있지만, 구성 요소들은 용어들에 의해 한정되어서는 안된다. 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명한다.

도 1은 에어로졸 생성 물품이 내부 가열형 에어로졸 생성 장치에 삽입된 일 예를 도시한 도면이다.

도 1을 참조하면, 에어로졸 생성 장치(100)는 배터리(110), 프로세서(120) 및 히터(130)를 포함한다. 또한, 에어로졸 생성 장치(100)의 내부 공간에는 에어로졸 생성 물품(200)이 삽입될 수 있다.

도 1에 도시된 에어로졸 생성 장치(100)에는 본 실시예와 관련된 구성요소들이 도시되어 있다. 따라서, 도 1에 도시된 구성요소들 외에 다른 범용적인 구성요소들이 에어로졸 생성 장치(100)에 더 포함될 수 있음을 본 실시예와 관련된 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 수 있다.

도 1에는 배터리(110), 프로세서(120) 및 히터(130)가 일렬로 배치된 것으로 도시되어 있다. 그러나, 에어로졸 생성 장치(100)의 내부 구조는 도 1에 도시된 것에 한정되지 않는다. 다시 말해, 에어로졸 생성 장치(100)의 설계에 따라, 배터리(110), 프로세서(120) 및 히터(130)의 배치는 변경될 수 있다.

에어로졸 생성 물품(200)이 에어로졸 생성 장치(100)에 삽입되면, 에어로졸 생성 장치(100)는 히터(130)를 작동시켜, 에어로졸을 발생시킬 수 있다. 히터(130)에 의하여 발생된 에어로졸은 에어로졸 생성 물품(200)을 통과하여 사용자에게 전달된다.

필요에 따라, 에어로졸 생성 물품(200)이 에어로졸 생성 장치(100)에 삽입되지 않은 경우에도 에어로졸 생성 장치(100)는 히터(130)를 가열할 수 있다.

배터리(110)는 에어로졸 생성 장치(100)가 동작하는데 이용되는 전력을 공급한다. 예를 들어, 배터리(110)는 히터(130)가 가열될 수 있도록 전력을 공급할 수 있고, 프로세서(120)가 동작하는데 필요한 전력을 공급할 수 있다. 또한, 배터리(110)는 에어로졸 생성 장치(100)에 설치된 디스플레이, 센서, 모터 등이 동작하는데 필요한 전력을 공급할 수 있다.

프로세서(120)는 에어로졸 생성 장치(100)의 동작을 전반적으로 제어한다. 구체적으로, 프로세서(120)는 배터리(110) 및 히터(130)뿐 만 아니라 에어로졸 생성 장치(100)에 포함된 다른 구성들의 동작을 제어한다. 또한, 프로세서(120)는 에어로졸 생성 장치(100)의 구성들 각각의 상태를 확인하여, 에어로졸 생성 장치(100)가 동작 가능한 상태인지 여부를 판단할 수도 있다.

프로세서(120)는 다수의 논리 게이트들의 어레이로 구현될 수도 있고, 범용적인 마이크로 프로세서와 이 마이크로 프로세서에서 실행될 수 있는 프로그램이 저장된 메모리의 조합으로 구현될 수도 있다. 또한, 다른 형태의 하드웨어로 구현될 수도 있음을 본 실시예가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 수 있다.

히터(130)는 배터리(110)로부터 공급된 전력에 의하여 가열될 수 있다. 예를 들어, 에어로졸 생성 물품이 에어로졸 생성 장치(100)에 삽입되면, 히터(130)는 에어로졸 생성 물품의 외부에 위치할 수 있다. 따라서, 가열된 히터(130)는 에어로졸 생성 물품 내의 에어로졸 생성 물질의 온도를 상승시킬 수 있다.

히터(130)는 전기 저항성 히터일 수 있다. 예를 들어, 히터(130)에는 전기 전도성 트랙(track)을 포함하고, 전기 전도성 트랙에 전류가 흐름에 따라 히터(130)가 가열될 수 있다. 그러나, 히터(130)는 상술한 예에 한정되지 않으며, 희망 온도까지 가열될 수 있는 것이라면 제한 없이 해당될 수 있다. 여기에서, 희망 온도는 에어로졸 생성 장치(100)에 기 설정되어 있을 수도 있고, 사용자에 의하여 원하는 온도로 설정될 수도 있다.

예를 들어, 히터(130)는 세장형(예를 들어, 봉형, 침형, 블레이드형)이거나, 원통형일 수 있으며, 가열 요소의 모양에 따라 에어로졸 생성 물품(200)의 내부 또는 외부를 가열할 수 있다.

또한, 에어로졸 생성 장치(100)에는 히터(130)가 복수 개 배치될 수도 있다. 이때, 복수 개의 히터(130)들은 에어로졸 생성 물품(200)의 내부에 삽입되도록 배치될 수도 있고, 에어로졸 생성 물품(200)의 외부에 배치될 수도 있다. 또한, 복수 개의 히터(130)들 중 일부는 에어로졸 생성 물품(200)의 내부에 삽입되도록 배치되고, 나머지는 에어로졸 생성 물품(200)의 외부에 배치될 수 있다. 또한, 히터(130)의 형상은 도 1에 도시된 형상에 한정되지 않고, 다양한 형상으로 제작될 수 있다.

한편, 에어로졸 생성 장치(100)는 배터리(110), 프로세서(120) 및 히터(130) 외에 범용적인 구성들을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 에어로졸 생성 장치(100)는 시각 정보의 출력이 가능한 디스플레이 및/또는 촉각 정보의 출력을 위한 모터를 포함할 수 있다. 또한, 에어로졸 생성 장치(100)는 적어도 하나의 센서(퍼프 감지 센서, 온도 감지 센서, 에어로졸 생성 물품 삽입 감지 센서 등)를 포함할 수 있다. 또한, 에어로졸 생성 장치(100)는 에어로졸 생성 물품(200)이 삽입된 상태에서도 외부 공기가 유입되거나, 내부 기체가 유출될 수 있는 구조로 제작될 수 있다.

도 1에는 도시되지 않았으나, 에어로졸 생성 장치(100)는 별도의 크래들과 함께 시스템을 구성할 수도 있다. 예를 들어, 크래들은 에어로졸 생성 장치(100)의 배터리(110)의 충전에 이용될 수 있다. 또는, 크래들과 에어로졸 생성 장치(100)가 결합된 상태에서 히터(130)가 가열될 수도 있다.

에어로졸 생성 물품(200)은 일반적인 궐련과 유사할 수 있다. 예를 들어, 에어로졸 생성 물품(200)은 에어로졸 생성 물질을 포함하는 제1 부분과 필터 등을 포함하는 제2 부분으로 구분될 수 있다. 또는, 에어로졸 생성 물품(200)의 제2 부분에도 에어로졸 생성 물질이 포함될 수도 있다. 예를 들어, 과립 또는 캡슐의 형태로 만들어진 에어로졸 생성 물질이 제2 부분에 삽입될 수도 있다.

에어로졸 생성 장치(100)의 내부에는 제1 부분의 전체가 삽입되고, 제2 부분은 외부에 노출될 수 있다. 또는, 에어로졸 생성 장치(100)의 내부에 제1 부분의 일부만 삽입될 수도 있고, 제1 부분의 전체 및 제2 부분의 일부가 삽입될 수도 있다. 사용자는 제2 부분을 입으로 문 상태에서 에어로졸을 흡입할 수 있다. 이때, 에어로졸은 외부 공기가 제1 부분을 통과함으로써 생성되고, 생성된 에어로졸은 제2 부분을 통과하여 사용자의 입으로 전달된다.

일 예로서, 외부 공기는 에어로졸 생성 장치(100)에 형성된 적어도 하나의 공기 통로를 통하여 유입될 수 있다. 예를 들어, 에어로졸 생성 장치(100)에 형성된 공기 통로의 개폐 및/또는 공기 통로의 크기는 사용자에 의하여 조절될 수 있다. 이에 따라, 무화량, 끽연감 등이 사용자에 의하여 조절될 수 있다. 다른 예로서, 외부 공기는 에어로졸 생성 물품(200)의 표면에 형성된 적어도 하나의 구멍(hole)을 통하여 에어로졸 생성 물품(200)의 내부로 유입될 수도 있다.

도 2는 에어로졸 생성 물품이 외부 가열형 에어로졸 생성 장치에 삽입된 예들을 도시한 도면이다.

도 2를 참조하면, 에어로졸 생성 장치(100)는 도 1에 도시된 구성들 외에 증기화기(140)를 더 포함한다. 도 2의 에어로졸 생성 물품(200), 배터리(110), 프로세서(120) 및 히터(130)는 도 1의 에어로졸 생성 물품(200), 배터리(110), 프로세서(120) 및 히터(130)에 대응될 수 있다. 따라서, 중복되는 설명은 생략한다.

도 2에 도시된 에어로졸 생성 장치(100)에는 본 실시예와 관련된 구성요소들이 도시되어 있다. 따라서, 도 2에 도시된 구성요소들 외에 다른 범용적인 구성요소들이 에어로졸 생성 장치(100)에 더 포함될 수 있음을 본 실시예와 관련된 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 수 있다.

또한, 도 2에는 에어로졸 생성 장치(100)에 히터(130)가 포함되어 있는 것으로 도시되어 있으나, 필요에 따라, 히터(130)는 생략될 수도 있다.

도 2에는 배터리(110), 프로세서(120), 증기화기(140) 및 히터(130)가 일렬로 배치된 것으로 도시되어 있다.

에어로졸 생성 물품(200)이 에어로졸 생성 장치(100)에 삽입되면, 에어로졸 생성 장치(100)는 히터(130) 및/또는 증기화기(140)를 작동시켜, 에어로졸을 발생시킬 수 있다. 히터(130) 및/또는 증기화기(140)에 의하여 발생된 에어로졸은 에어로졸 생성 물품(200)을 통과하여 사용자에게 전달된다.

배터리(110)는 증기화기(140)가 가열될 수 있도록 전력을 공급할 수 있다. 프로세서(120)는 증기화기(140)의 동작을 제어한다.

증기화기(140)는 액상 조성물을 가열하여 에어로졸을 생성할 수 있으며, 생성된 에어로졸은 에어로졸 생성 물품(200)을 통과하여 사용자에게 전달될 수 있다. 다시 말해, 증기화기(140)에 의하여 생성된 에어로졸은 에어로졸 생성 장치(100)의 기류 통로를 따라 이동할 수 있고, 기류 통로는 증기화기(140)에 의하여 생성된 에어로졸이 에어로졸 생성 물품을 통과하여 사용자에게 전달될 수 있도록 구성될 수 있다.

예를 들어, 증기화기(140)는 액체 저장부, 액체 전달 수단 및 가열 요소를 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 액체 저장부, 액체 전달 수단 및 가열 요소는 독립적인 모듈로서 에어로졸 생성 장치(100)에 포함될 수도 있다.

액체 저장부는 액상 조성물을 저장할 수 있다. 예를 들어, 액상 조성물은 휘발성 담배 향 성분을 포함하는 담배 함유 물질을 포함하는 액체일 수 있고, 비 담배 물질을 포함하는 액체일 수도 있다. 액체 저장부는 증기화기(140)로부터 탈/부착될 수 있도록 제작될 수도 있고, 증기화기(140)와 일체로서 제작될 수도 있다.

예를 들어, 액상 조성물은 물, 솔벤트, 에탄올, 식물 추출물, 향료, 향미제, 또는 비타민 혼합물을 포함할 수 있다. 향료는 멘솔, 페퍼민트, 스피아민트 오일, 각종 과일향 성분 등을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 향미제는 사용자에게 다양한 향미 또는 풍미를 제공할 수 있는 성분을 포함할 수 있다. 비타민 혼합물은 비타민 A, 비타민 B, 비타민 C 및 비타민 E 중 적어도 하나가 혼합된 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 또한, 액상 조성물은 글리세린 및 프로필렌 글리콜과 같은 에어로졸 형성제를 포함할 수 있다.

액체 전달 수단은 액체 저장부의 액상 조성물을 가열 요소로 전달할 수 있다. 예를 들어, 액체 전달 수단은 면 섬유, 세라믹 섬유, 유리 섬유, 다공성 세라믹과 같은 심지(wick)가 될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.

가열 요소는 액체 전달 수단에 의해 전달되는 액상 조성물을 가열하기 위한 요소이다. 예를 들어, 가열 요소는 금속 열선, 금속 열판, 세라믹 히터 등이 될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 또한, 가열 요소는 니크롬선과 같은 전도성 필라멘트로 구성될 수 있고, 액체 전달 수단에 감기는 구조로 배치될 수 있다. 가열 요소는, 전류 공급에 의해 가열될 수 있으며, 가열 요소와 접촉된 액체 조성물에 열을 전달하여, 액체 조성물을 가열할 수 있다. 그 결과, 에어로졸이 생성될 수 있다.

예를 들어, 증기화기(140)는 카토마이저(cartomizer) 또는 무화기(atomizer)로 지칭될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.

도 3은 에어로졸 생성 물품이 외부 가열형 에어로졸 생성 장치에 삽입된 다른 예를 도시한 도면이다.

도 3의 에어로졸 생성 물품(200), 배터리(110), 프로세서(120), 히터(130) 및 증기화기(140)는 도 2의 에어로졸 생성 물품(200), 배터리(110), 프로세서(120), 히터(130) 및 증기화기(140)에 대응될 수 있다. 따라서, 중복되는 설명은 생략한다.

도 3에는 증기화기(140) 및 히터(130)가 병렬로 배치된 예가 도시되어 있다. 다시 말해, 증기화기(140) 및 히터(130)는, 도 2에 도시된 바와 같이 일렬로 배치될 수도 있고, 도 3에 도시된 바와 같이 병렬로 배치될 수도 있다. 그러나, 에어로졸 생성 장치(100)의 내부 구조는 도 2 및 도 3에 도시된 것에 한정되지 않는다. 다시 말해, 에어로졸 생성 장치(100)의 설계에 따라, 배터리(110), 프로세서(120), 히터(130) 및 증기화기(140)의 배치는 변경될 수 있다.

도 4는 유도가열 방식을 이용한 에어로졸 생성 장치의 일 예를 도시한 도면이다.

도 4를 참조하면, 에어로졸 생성 장치(100)는 배터리(110), 프로세서(120), 코일(410) 및 서셉터(420)를 포함한다. 또한, 에어로졸 생성 장치(100)의 공동(430)에는 에어로졸 생성 물품(200)의 적어도 일부가 수용될 수 있다. 도 4의 에어로졸 생성 물품(200), 배터리(110) 및 프로세서(120)는 도 1 내지 도 3의 에어로졸 생성 물품(200), 배터리(110) 및 프로세서(120)에 대응될 수 있다. 또한 코일(410) 및 서셉터(420)는 히터(130)에 포함될 수 있다. 따라서, 중복되는 설명은 생략한다.

도 4에 도시된 에어로졸 생성 장치(100)에는 본 실시예와 관련된 구성요소들이 도시되어 있다. 따라서, 도 4에 도시된 구성요소들 외에 다른 범용적인 구성요소들이 에어로졸 생성 장치(100)에 더 포함될 수 있음을 본 실시예와 관련된 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 수 있다.

코일(410)은 공동(430) 주변에 위치할 수 있다. 도 4에는 코일(410)이 공동(430)을 둘러싸도록 배치되는 것으로 도시되어 있으나, 이에 한정되지 않는다.

에어로졸 생성 물품(200)이 에어로졸 생성 장치(100)의 공동(430)에 수용되면, 에어로졸 생성 장치(100)는 코일(410)이 자기장을 발생시키도록 코일(410)에 전력을 공급할 수 있다. 코일(410)에 의해 발생된 자기장이 서셉터(420)를 관통함에 따라 서셉터(420)가 가열될 수 있다.

이러한 유도 가열 현상은 패러데이의 유도 법칙(Faraday's Law of induction)으로 설명되는 공지된 현상이다. 구체적으로, 서셉터(420) 내의 자기 유도가 변화하는 경우, 전기장이 서셉터(420) 내에 생성됨으로써, 와전류(eddy current)가 서셉터(420) 내에 흐르게 된다. 와전류는 서셉터(420) 내에서 전류 밀도 및 전도체 저항에 비례하는 열을 발생시킨다.

서셉터(420)가 와전류에 의해 가열되고, 에어로졸 생성 물품(200) 내의 에어로졸 생성 물질은 가열된 서셉터(420)에 의하여 가열됨에 따라 에어로졸이 생성될 수 있다. 에어로졸 생성 물질로부터 생성된 에어로졸은 에어로졸 생성 물품(200)을 통과하여 사용자에게 전달된다.

배터리(110)는 코일(410)이 자기장을 발생시킬 수 있도록 전력을 공급할 수 있다. 프로세서(120)는 코일(410)과 전기적으로 연결될 수 있다.

코일(410)은 배터리(110)로부터 공급된 전력에 의해 자기장을 발생시키는 전기 전도성 코일일 수 있다. 코일(410)은 공동(430)의 적어도 일부를 둘러싸도록 배치될 수 있다. 코일(410)에 의해 발생된 자기장은 공동(430)의 내측 단부에 배치되는 서셉터(420)에 인가될 수 있다.

서셉터(420)는 코일(410)로부터 발생되는 자기장이 관통됨에 따라 가열되며, 금속 또는 탄소를 포함할 수 있다. 예를 들어, 서셉터(420)는 페라이트(ferrite), 강자성 합금(ferromagnetic alloy), 스테인리스강(stainless steel) 및 알루미늄(aluminum) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

또한, 서셉터(420)는 흑연(graphite), 몰리브덴(molybdenum), 실리콘 카바이드(silicon carbide), 니오븀(niobium), 니켈 합금(nickel alloy), 금속 필름(metal film), 지르코니아(zirconia) 등과 같은 세라믹, 니켈(Ni)이나 코발트(Co) 등과 같은 전이 금속 및 붕소(B)나 인(P)과 같은 준금속 중 적어도 하나를 포함할 수도 있다. 그러나, 서셉터(420)는 전술한 예에 한정되지 않으며, 자기장이 인가됨에 따라 희망 온도까지 가열될 수 있는 것이라면 제한 없이 해당될 수 있다. 여기에서, 희망 온도는 에어로졸 생성 장치(100)에 기 설정되어 있을 수도 있고, 사용자에 의하여 원하는 온도로 설정될 수도 있다.

에어로졸 생성 물품(200)이 에어로졸 생성 장치(100)의 공동(430)에 수용되면, 서셉터(420)는 에어로졸 생성 물품(200)의 적어도 일부를 둘러싸도록 배치될 수 있다. 따라서, 가열된 서셉터(420)는 에어로졸 생성 물품(200) 내의 에어로졸 생성 물질의 온도를 상승시킬 수 있다.

도 4에는 서셉터(420)가 에어로졸 생성 물품의 적어도 일부를 둘러싸도록 배치되는 것으로 도시되어 있으나, 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 서셉터(420)는 관 형 가열 요소, 판 형 가열 요소, 침 형 가열 요소 또는 봉 형의 가열 요소를 포함할 수 있으며, 가열 요소의 모양에 따라 에어로졸 생성 물품(200)의 내부 또는 외부를 가열할 수 있다.

또한, 에어로졸 생성 장치(100)에는 서셉터(420)가 복수 개 배치될 수도 있다. 이때, 복수 개의 서셉터(420)들은 에어로졸 생성 물품(200)의 외부에 배치될 수도 있고, 내부에 삽입되도록 배치될 수도 있다. 또한, 복수 개의 서셉터(420)들 중 일부는 에어로졸 생성 물품(200)의 내부에 삽입되도록 배치되고, 나머지는 에어로졸 생성 물품(200)의 외부에 배치될 수 있다. 또한, 서셉터(420)의 형상은 도 4에 도시된 형상에 한정되지 않고, 다양한 형상으로 제작될 수 있다.

도 5는 에어로졸 생성 장치의 하드웨어 구성의 일 예를 도시한 블록도이다.

도 5를 참조하면, 에어로졸 생성 장치(100)는 프로세서(120), 히터(130), 디스플레이(510), 발광 소자(520), 센서(530) 및 메모리(540)를 포함할 수 있다. 도 5의 프로세서(120) 및 히터(130)는 도 1 내지 도 4의 프로세서(120) 및 히터(130)에 대응될 수 있다. 따라서, 중복되는 설명은 생략한다.

도 5에 도시된 에어로졸 생성 장치(100)에는 본 실시예와 관련된 구성요소들이 도시되어 있다. 따라서, 도 5에 도시된 구성요소들 외에 다른 범용적인 구성요소들이 에어로졸 생성 장치(100)에 더 포함될 수 있음을 본 실시예와 관련된 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 수 있다.

디스플레이(510)는 에어로졸 생성 장치(100)와 관련된 정보를 출력한다. 여기에서, 에어로졸 생성 장치(100)와 관련된 정보는 에어로졸 생성 장치(100)의 동작과 관련된 모든 정보를 포함한다. 예를 들어, 디스플레이(510)는 에어로졸 생성 장치(100)의 상태에 대한 정보(예를 들어, 에어로졸 생성 장치(100)의 사용 가능 여부 등), 히터(130)에 대한 정보(예를 들어, 예열 시작, 예열 진행, 예열 완료 등), 배터리(110)와 관련된 정보(예를 들어, 배터리(110)의 잔여 용량, 사용 가능 여부 등), 에어로졸 생성 장치(100)의 리셋과 관련된 정보(예를 들어, 리셋 시기, 리셋 진행, 리셋 완료 등), 에어로졸 생성 장치(100)의 청소와 관련된 정보(예를 들어, 청소 시기, 청소 필요, 청소 진행, 청소 완료 등), 에어로졸 생성 장치(100)의 충전과 관련된 정보(예를 들어, 충전 필요, 충전 진행, 충전 완료 등), 퍼프와 관련된 정보(예를 들어, 퍼프 횟수, 퍼프 종료 예고 등) 또는 안전과 관련된 정보(예를 들어, 사용시간 경과 등) 등을 전달 할 수 있다.

디스플레이(510)는 터치 센서 또는 터치 패널을 포함할 수 있으며, 터치 센서 또는 터치 패널은 디스플레이(510)와 함께 일체로 형성될 수 있다. 디스플레이(510)가 터치 센서 또는 터치 패널을 포함함에 따라 디스플레이(510)는 사용자의 터치를 감지할 수 있다. 사용자는 디스플레이(510)를 터치함으로써 에어로졸 생성 장치(100)를 제어하거나 작동시킬 수 있고, 에어로졸 생성 장치(100)에 대한 정보를 획득할 수 있다. 또한, 디스플레이(510)에는 사용자의 지문이 접촉될 수 있고, 사용자의 지문 접촉으로부터 생성되는 신호는 프로세서(120)에 전달될 수 있다. 디스플레이(510)가 동작하는 일 예는 도 6 및 도 9를 참조하여 후술한다.

발광 소자(520)는 전력을 공급받아 광을 발산할 수 있다. 발광 소자(520)로부터 발산된 광의 적어도 일부는 디스플레이(510)에 접촉된 지문을 향하여 조사될 수 있다. 발광 소자(520)는 예를 들어, OLED(Organic Light Emitting Diode) 등과 같은 LED(Light Emitting Diode)에 해당할 수 있다.

센서(530)는 지문을 향하여 조사된 광에 대응하는 반사광을 수신할 수 있다. 센서(530)는 수신한 반사광을 이용하여 접촉된 지문에 대응하는 이미지를 생성할 수 있다. 발광 소자(520) 및 센서(530)의 구체적인 동작에 관해서는 도 10을 참조하여 후술한다.

메모리(540)는 에어로졸 생성 장치(100) 내에서 처리되는 각종 데이터들을 저장하는 하드웨어로서, 메모리(540)는 프로세서(120)에서 처리된 데이터들 및 처리될 데이터들을 저장할 수 있다. 메모리(540)는 에어로졸 생성 장치(100)의 동작 시간, 적어도 하나의 온도 프로파일, 사용자의 흡연 패턴에 대한 데이터 등을 저장할 수 있다. 또한, 메모리(540)는 사용자의 적어도 하나의 손가락에 대한 지문 및 각 지문에 대응하는 기능 등을 저장할 수 있다.

메모리(540)는 DRAM(dynamic random access memory), SRAM(static random access memory) 등과 같은 RAM(random access memory), ROM(read-only memory), EEPROM(electrically erasable programmable read-only memory) 등의 다양한 종류들로 구현될 수 있다.

프로세서(120)는 에어로졸 생성 장치(100)의 동작을 전반적으로 제어한다. 구체적으로, 프로세서(120)는 히터(130), 디스플레이(510), 발광 소자(520), 센서(530) 및 메모리(540)뿐만 아니라 에어로졸 생성 장치(100)에 포함될 수 있는 다른 구성들의 동작을 제어한다. 또한, 프로세서(120)는 에어로졸 생성 장치(100)의 구성들 각각의 상태를 확인하여, 에어로졸 생성 장치(100)가 동작 가능한 상태인지 여부를 판단할 수도 있다.

프로세서(120)는 센서(530)로부터 생성된 이미지에 기초하여 지문을 식별할 수 있다. 프로세서(120)는 메모리(540)에 저장된 복수의 기능들 중에서 식별된 지문에 대응하는 기능을 수행할 수 있다. 프로세서(120)는 지문이 식별된 경우, 식별된 지문에 대응하는 명칭 및 식별된 지문에 대응하는 기능의 명칭을 디스플레이(510)에 표시할 수 있다. 프로세서(120)가 지문을 식별하는 구체적인 과정에 대해서는 도 10을 참조하여 후술한다.

지문에 대응하는 기능은 사용자의 설정에 따라 결정될 수 있고, 에어로졸 생성 장치(100)의 생산 과정에서 설정될 수도 있다. 다만, 지문에 대응하는 기능의 설정의 주체 및 방식에 대한 설명은 상술한 예로 한정되지 않으며 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다.

일 실시예에서, 에어로졸 생성 장치(100)는 디스플레이(510)를 포함하지 않을 수 있다. 이 경우, 발광 소자(520)는 에어로졸 생성 장치(100)에 접촉된 지문을 향하여 광을 조사할 수 있다. 에어로졸 생성 장치(100)에 접촉된 지문으로부터의 반사광을 이용하여 이미지 생성 및 지문 식별이 수행될 수 있다.

도 6은 사용자의 지문이 접촉될 위치가 디스플레이에 표시된 에어로졸 생성 장치의 일 예를 도시한 도면이다.

프로세서(120)는 에어로졸 생성 장치(100)를 사용하는 사용자의 지문이 접촉될 위치(610)가 표시되도록 디스플레이(510)를 제어할 수 있다. 프로세서(120)는 지문이 접촉될 위치(610)를 디스플레이(510) 상에 표시함으로써 사용자가 지문을 접촉했을 때 지문이 식별될 수 있는 디스플레이(510) 상의 위치를 사용자에게 알릴 수 있다.

예를 들어, 사용자의 입력에 반응하여 프로세서(120)는 지문이 접촉될 위치(610)를 디스플레이(510)에 표시할 수 있다. 에어로졸 생성 장치(100)의 사용이 완료된 후에 프로세서(120)는 지문이 접촉될 위치(610)를 디스플레이(510)에 표시하지 않을 수 있다.

지문이 접촉될 위치(610)는 센서(530)의 위치에 대응하여 결정될 수 있다. 지문으로부터의 반사광이 센서(530)에 수신되어야 지문에 대한 식별이 이루어질 수 있으므로, 지문이 접촉될 위치(610)는 에어로졸 생성 장치(100) 내부의 센서(530)의 위치에 대응하는 디스플레이(510) 상의 위치로 결정될 수 있다.

도 7은 사용자의 지문이 접촉된 에어로졸 생성 장치의 일 예를 도시한 도면이다.

프로세서(120)는 디스플레이(510)에 접촉되는 각 지문마다 기 설정된 별개의 기능을 수행할 수 있다.

특정 지문에 대응하는 기능이 소정의 온도 프로파일에 따라 히터(130)를 가열하는 기능인 경우, 프로세서(120)는 식별된 특정 지문에 대응하는 온도 프로파일에 따라 가열되도록 히터(130)를 제어할 수 있다.

한편, 온도 프로파일이란 시간 경과에 따른 히터(130)의 온도 변화를 지칭하며, 히터(130)가 가열되는 온도 프로파일에 따라 에어로졸 생성 장치(100)는 사용자에게 상이한 흡연 경험을 제공할 수 있다. 프로세서(120)는 식별된 지문에 대응하는 온도 프로파일에 따라 히터(130)를 가열함으로써, 사용자에게 최적의 흡연 경험을 제공할 수 있다.

예를 들어, 제1 지문에 대응하는 기능이 제1 온도 프로파일에 따라 히터(130)를 가열하는 기능이고, 제2 지문에 대응하는 기능이 제2 온도 프로파일에 따라 히터(130)를 가열하는 기능일 수 있다.

다른 특정 지문에 대응하는 기능이 디스플레이(510)에 시각 정보가 출력되지 않는 기능인 경우, 프로세서(120)는 식별된 특정 지문에 대응하여 디스플레이(510)에 시각 정보를 출력하기 위한 전력을 공급하지 않을 수 있다. 프로세서(120)는 디스플레이(510)에 전력을 공급하지 않음으로써, 배터리(110)의 전력 소모를 감소시킬 수 있다. 예를 들어, 사용자는 배터리(110)의 잔량이 부족한 경우, 에어로졸 생성 장치(100)를 사용하는 도중에 특정 지문을 접촉함으로써 디스플레이(510)에 전력이 공급되지 않도록 제어할 수 있다.

프로세서(120)는 식별된 지문이 메모리(540)에 저장된 적어도 하나의 지문과 일치하지 않는 경우, 에어로졸 생성 물질을 가열하지 않도록 히터(130)를 제어할 수 있다. 프로세서(120)는 식별된 지문이 메모리(540)에 저장된 적어도 하나의 지문 중 어느 하나와 일치하는 경우에만 히터(130)에 전력을 공급함으로써 지정된 사용자만 에어로졸 생성 장치(100)를 사용할 수 있도록 제한할 수 있다.

도 8은 오른손의 지문이 접촉된 에어로졸 생성 장치 및 왼손의 지문이 접촉된 에어로졸 생성 장치의 일 예를 도시한 도면이다. 도 8의 좌측의 에어로졸 생성 장치는 사용자의 왼손에 포함된 지문이 접촉된 에어로졸 생성 장치의 일 예이고, 도 8의 우측의 에어로졸 생성 장치는 사용자의 오른손에 포함된 지문이 접촉된 에어로졸 생성 장치의 일 예이다.

프로세서(120)는 식별된 지문이 사용자의 오른손에 포함되는 지문인지 왼손에 포함되는 지문인지 결정할 수 있다. 프로세서(120)는 사용자의 지문을 메모리(540)에 저장하는 과정에서 사용자의 선택에 따라 지문을 오른손의 지문 또는 왼손의 지문으로 구별하여 저장할 수 있다.

프로세서(120)는 식별된 지문이 에어로졸 생성 장치(100)를 사용하는 사용자의 오른손에 포함되는 지문인 경우 제1 기능을 수행하고, 식별된 지문이 사용자의 왼손에 포함되는 지문인 경우 제2 기능을 수행할 수 있다. 사용자가 오른손으로 에어로졸 생성 장치(100)를 사용하는 경우, 오른손의 지문이 디스플레이(510)에 접촉될 수 있고, 이에 따라 제1 기능이 수행될 수 있다. 제1 기능 및 제2 기능은 설정에 따라 상이하거나 동일할 수 있다.

예를 들어, 오른손의 지문에 대응하는 기능이 제1 온도 프로파일에 따라 히터(130)를 가열하는 기능이고, 왼손의 지문에 대응하는 기능이 제2 온도 프로파일에 따라 히터(130)를 가열하는 기능일 수 있다.

예를 들어, 오른손의 지문에 대응하는 온도 프로파일이 고온 프로파일이고, 왼손의 지문에 대응하는 온도 프로파일이 상온 프로파일일 수 있다. 사용자가 오른손으로 에어로졸 생성 장치(100)를 사용하는 경우, 고온 프로파일로 히터(130)가 가열됨에 따라 에어로졸 생성 장치(100)는 사용자에게 강한 타격감 및 풍부한 연무량을 제공할 수 있다. 사용자가 왼손으로 에어로졸 생성 장치(100)를 사용하는 경우, 상온 프로파일로 히터(130)가 가열됨에 따라 에어로졸 생성 장치(100)는 사용자에게 부드러운 흡연감을 제공할 수 있다.

예를 들어, 오른손의 지문에 대응하는 기능이 제1 온도 프로파일에 따라 히터(130)를 가열하는 기능이고, 왼손의 지문에 대응하는 기능이 히터(130)를 가열하지 않는 기능일 수 있다. 사용자가 오른손으로 에어로졸 생성 장치(100)를 파지하는 경우 히터(130)가 가열됨에 따라 사용자는 에어로졸 생성 장치(100)를 사용할 수 있고, 에어로졸 생성 장치(100)의 사용을 완료한 사용자가 에어로졸 생성 장치(100)를 왼손으로 파지함으로써 히터(130)의 가열을 중단시킬 수 있다.

도 9는 디스플레이에 표시되는 오른손 모드 및 왼손 모드의 사용자 인터페이스를 설명하기 위한 도면이다. 도 9의 좌측의 에어로졸 생성 장치는 왼손 모드의 사용자 인터페이스가 디스플레이에 표시된 에어로졸 생성 장치의 일 예이고, 도 9의 우측의 에어로졸 생성 장치는 오른손 모드의 사용자 인터페이스가 디스플레이에 표시된 에어로졸 생성 장치의 일 예이다.

디스플레이(510)는 사용자 인터페이스를 표시할 수 있다. 사용자 인터페이스는 디스플레이(510) 상에 표시되는 아이콘 등을 포함하는 그래픽이, 사용자가 에어로졸 생성 장치(100)를 편리하게 사용할 수 있도록 구성된 것이다.

오른손의 지문에 대응하는 기능이 디스플레이(510)에 오른손 모드의 사용자 인터페이스(920)를 표시하는 기능이고, 왼손의 지문에 대응하는 기능이 디스플레이(510)에 왼손 모드의 사용자 인터페이스(910)를 표시하는 기능일 수 있다. 프로세서(120)는 디스플레이(510)에 접촉된 지문이 오른손인지 또는 왼손인지 결정하고, 결정된 손에 대응하는 모드의 사용자 인터페이스를 디스플레이(510)에 표시할 수 있다.

사용자가 오른손으로 에어로졸 생성 장치(100)를 사용하는 경우, 오른손의 지문이 디스플레이(510)에 접촉될 수 있고, 사용자의 별도의 설정 없이도 디스플레이(510)에는 오른손 모드의 사용자 인터페이스(920)가 표시될 수 있다. 사용자가 왼손으로 에어로졸 생성 장치(100)를 사용하는 경우에도 이와 마찬가지이다.

예를 들어, 오른손 모드의 사용자 인터페이스(920)에는 도 9의 우측의 에어로졸 생성 장치에서와 같이 사용자가 터치할 수 있는 아이콘들이 오른쪽에 배치됨으로써 사용자의 엄지 손가락으로 터치가 용이하도록 사용자 인터페이스가 형성될 수 있다. 또한, 오른손 모드의 사용자 인터페이스(920)에서는 디스플레이(510)의 우측에서 좌측으로 스와이프할 경우 특정 기능이 수행되도록 사용자 인터페이스가 형성됨으로써 사용자의 오른손의 엄지 손가락으로의 제어가 용이해질 수 있다. 왼손 모드의 사용자 인터페이스(910)에도 위의 예시들이 대응되어 적용될 수 있다. 다만, 각 모드에 따른 사용자 인터페이스에 대한 설명은 상술한 예로 한정되지 않으며 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다.

도 10은 지문에 대응하는 이미지가 생성되는 방법의 일 예를 설명하기 위한 도면이다.

도 10을 참조하면, 에어로졸 생성 장치(100)는 디스플레이(510), 발광 소자(520), 센서(530), 렌즈(1030) 및 필터(1040)를 포함할 수 있다. 도 10의 디스플레이(510), 발광 소자(520) 및 센서(530)는 도 9의 디스플레이(510), 도 5의 발광 소자(520) 및 센서(530)에 대응될 수 있다. 따라서, 중복되는 설명은 생략한다.

일 실시예에서, 디스플레이(510)는 지문이 접촉될 수 있는 커버 글래스를 의미할 수 있고, 발광 소자(520)는 디스플레이(510)와 분리되어 배치될 수 있다. 다른 실시예에서, 디스플레이(510)는 지문이 접촉될 수 있는 커버 글래스 및 발광 소자(520)를 포함하는 구성일 수 있다.

발광 소자(520)는 복수 개일 수 있다. 각각의 발광 소자(520)는 예를 들어, 적색, 녹색 및 청색 중 어느 하나의 색의 광을 발산할 수 있다. 또 다른 예에서, 발광 소자(520)는 흰색의 광을 발산하고, 흰색의 광이 컬러 필터에 통과됨으로써 적색, 녹색 또는 청색의 광으로 변환될 수 있다.

발광 소자(520)는 디스플레이(510)에 접촉된 지문을 향하여 광(1010)을 조사할 수 있다. 발광 소자(520)로부터 지문에 조사된 광(1010)의 반사광(1020)은 지문의 골(valley)과 융선(ridge)에 대한 정보를 포함할 수 있다. 반사광(1020)은 렌즈(1030)에 투과됨으로써 센서(530)에 전달될 수 있다.

렌즈(1030)는 디스플레이(510)와 센서(530) 사이에 배치되고, 지문으로부터 반사된 반사광(1020)을 투과시킬 수 있다. 렌즈(1030)는 넓은 면적의 지문에 대한 정보를 작은 면적의 센서(530)에서 획득할 수 있도록 넓은 면적으로부터 반사된 반사광(1020)을 굴절시킴으로써 센서(530)의 면적 내에 수집될 수 있도록 모을 수 있다. 렌즈(1030)의 화각에 따라 반사광(1020)의 굴절률이 상이하고, 화각이 클수록 지문을 식별하는 데에는 작은 크기의 센서(530)가 사용될 수 있다.

필터(1040)는 렌즈(1030)와 센서(530) 사이에 배치되고, 센서(530)에서 지문에 대한 정확한 이미지가 생성될 수 있도록 센서(530)에 수신될 수 있는 불필요한 광을 제거할 수 있다. 필터(1040)는 예를 들어, IR(infrared cut-off) 필터(1040) 등에 해당할 수 있다.

센서(530)는 렌즈(1030) 및 필터(1040)를 투과한 반사광(1020)을 수신할 수 있다. 센서(530)는 수신한 반사광(1020)을 이용하여 접촉된 지문에 대응하는 이미지를 생성할 수 있다. 예를 들어, 센서(530)는 디스플레이(510)에 접촉된 지문의 골로부터 반사된 반사광(1020)과 융선으로부터 반사된 반사광(1020)의 차이에 기초하여 지문에 대응하는 이미지를 생성할 수 있다. 센서(530)에서 생성된 이미지는 프로세서(120)로 전송되어 지문 식별에 이용될 수 있다.

프로세서(120)는 센서(530)에서 생성된 이미지에 기초하여 지문을 식별할 수 있다. 프로세서(120)는 수신한 이미지에서 융선 및 골 등의 특징점들을 추출할 수 있다. 프로세서(120)는 융선 및 골 외에도 분기점, 끝점, 중심점 삼각 및 땀샘 등에 대한 특징점들을 추출할 수 있다.

프로세서(120)는 식별된 지문과 메모리(540)에 저장된 지문과의 유사도를 검증하기 위해 식별된 지문에서 추출된 특징점들과 기 저장된 지문에서 추출된 특징점들 사이의 유사여부를 판별하는 정합(matching)과정을 수행할 수 있다. 프로세서(120)는 정합과정을 수행하는데 있어, 식별된 지문과 기 저장된 지문을 대응되는 위치로 정렬하고, 두 지문들에 대한 동일한 종류의 특징점들을 분석함으로써 두 지문들에 대한 유사도를 계산할 수 있다. 프로세서(120)는 유사도에 기초하여 식별된 지문과 메모리(540)에 저장된 지문과의 일치 여부를 결정할 수 있다.

도 11은 에어로졸 생성 장치의 하드웨어 구성의 다른 예를 도시한 블록도이다.

도 11을 참조하면, 에어로졸 생성 장치(100)는 프로세서(120) 및 센서(530)를 포함할 수 있다. 도 11의 프로세서(120)는 도 5 내지 도 10의 프로세서(120)에 대응될 수 있다. 따라서, 중복되는 설명은 생략한다.

도 11에 도시된 에어로졸 생성 장치(100)에는 본 실시예와 관련된 구성요소들이 도시되어 있다. 따라서, 도 11에 도시된 구성요소들 외에 다른 범용적인 구성요소들이 에어로졸 생성 장치(100)에 더 포함될 수 있음을 본 실시예와 관련된 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 수 있다.

센서(530)는 에어로졸 생성 장치(100)에 접촉된 지문에 기초하여 지문에 대한 정보를 생성할 수 있다.

일 실시예에서, 센서(530)는 에어로졸 생성 장치(100)에 접촉된 지문에 대응하는 커패시턴스(capacitance)에 대한 정보를 생성할 수 있다. 센서(530)는 에어로졸 생성 장치(100)의 표면에 직접 접촉되는 지문의 융선 부분에서 측정되는 커패시턴스를 획득할 수 있다. 또한, 센서(530)는 에어로졸 생성 장치(100)의 표면에 직접 접촉되지 않는 골 부분에 대해, 에어로졸 생성 장치(100)의 표면과 골 사이에 존재하는 공간에서 측정되는 커패시턴스를 획득할 수 있다. 그리고, 센서(530)는 커패시턴스에 대한 정보를 프로세서(120)로 전송할 수 있다.

일 실시예에서, 프로세서(120)는 센서(530)로부터 입력 받은 정보에 기초하여 에어로졸 생성 장치(100)에 접촉된 지문의 골과 융선의 커패시턴스의 차이를 획득할 수 있다. 프로세서(120)는 에어로졸 생성 장치(100)의 표면 외부의 공간에서 커패시턴스가 획득되지 않은 부분을 융선으로 인식하고, 에어로졸 생성 장치(100)의 표면 외부의 공간에서 커패시턴스가 획득된 부분을 골로 인식할 수 있다. 프로세서(120)는 인식된 골과 융선을 패턴화하여 이미지를 생성하고 지문을 식별할 수 있다.

프로세서(120)는 이미지에서 융선 및 골 등의 특징점들을 추출할 수 있다. 프로세서(120)는 융선 및 골 외에도 분기점, 끝점, 중심점 삼각 및 땀샘 등에 대한 특징점들을 추출할 수 있다.

프로세서(120)는 식별된 지문과 기 저장된 지문과의 유사도를 검증하기 위해 식별된 지문에서 추출된 특징점들과 기 저장된 지문에서 추출된 특징점들 사이의 유사여부를 판별하는 정합과정을 수행할 수 있다. 프로세서(120)는 정합과정을 수행하는데 있어, 식별된 지문과 기 저장된 지문을 대응되는 위치로 정렬하고, 두 지문들에 대한 동일한 종류의 특징점들을 분석함으로써 두 지문들에 대한 유사도를 계산하여 유사도를 검증할 수 있다.

프로세서(120)는 식별된 지문이 에어로졸 생성 장치(100)를 사용하는 사용자의 오른손에 포함되는 지문인 경우 제1 기능을 수행하고, 식별된 지문이 사용자의 왼손에 포함되는 지문인 경우 제2 기능을 수행할 수 있다.

일 실시예에서, 도 11의 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치(100)는 디스플레이(510)를 더 포함할 수 있고, 디스플레이(510)는 도 5 내지 도 9에 전술한 디스플레이(510)에 대응될 수 있다.

도 12는 도 5에 따른 에어로졸 생성 장치의 동작 방법의 일 예를 나타내는 흐름도이다.

도 12를 참조하면, 에어로졸 생성 장치(100)의 동작 방법의 일 예는 도 5에 도시된 에어로졸 생성 장치(100)에서 시계열적으로 처리되는 단계들로 구성된다. 따라서, 이하에서 생략된 내용이라 하더라도 도 1 내지 도 11에 도시된 에어로졸 생성 장치(100)에 관하여 이상에서 기술된 내용은 도 12의 에어로졸 생성 장치(100)의 동작 방법에도 적용됨을 알 수 있다.

단계 1210에서, 에어로졸 생성 장치(100)는 에어로졸 생성 장치(100)에 접촉된 지문을 향하여 광(1010)을 조사할 수 있다.

예를 들어, 사용자의 지문은 디스플레이(510)에 접촉될 수 있다.

단계 1220에서, 에어로졸 생성 장치(100)는 지문을 항하여 조사된 광(1010)에 대응하는 반사광(1020)을 수신할 수 있다.

단계 1230에서, 에어로졸 생성 장치(100)는 반사광(1020)을 이용하여 접촉된 지문에 대응하는 이미지를 생성할 수 있다.

단계 1240에서, 에어로졸 생성 장치(100)는 이미지에 기초하여 지문을 식별할 수 있다.

단계 1250에서, 에어로졸 생성 장치(100)는 기 저장된 복수의 기능들 중에서 식별된 지문에 대응하는 기능을 수행할 수 있다.

에어로졸 생성 장치(100)는 식별된 지문이 상기 에어로졸 생성 장치(100)를 사용하는 사용자의 오른손에 포함되는 지문인 경우 제1 기능을 수행하고, 상기 식별된 지문이 상기 사용자의 왼손에 포함되는 지문인 경우 제2 기능을 수행할 수 있다.

일 실시예에서, 제1 기능은 제1 온도 프로파일에 따라 히터(130)를 가열하는 기능이고, 제2 기능은 제2 온도 프로파일에 따라 히터(130)를 가열하는 기능일 수 있다.

다른 실시에에서, 제1 기능은 디스플레이(510)에 오른손 모드의 사용자 인터페이스(920)를 표시하는 기능이고, 제2 기능은 디스플레이(510)에 왼손 모드의 사용자 인터페이스(910)를 표시하는 기능일 수 있다.

또 다른 실시예에서, 에어로졸 생성 장치(100)는 식별된 지문에 대응하는 온도 프로파일에 따라 가열되도록 히터(130)를 제어할 수 있다.

또 다른 실시예에서, 에어로졸 생성 장치(100)는 식별된 지문에 대응하여 시각 정보가 출력되기 위한 전력을 디스플레이(510)에 공급하지 않을 수 있다.

또 다른 실시예에서, 에어로졸 생성 장치(100)는 식별된 지문이 메모리(540)에 저장된 적어도 하나의 지문과 일치하지 않는 경우, 에어로졸 생성 물질을 가열하지 않도록 히터(130)를 제어할 수 있다.

에어로졸 생성 장치(100)는 에어로졸 생성 장치(100)를 사용하는 사용자의 지문이 접촉될 위치(610)를 디스플레이(510)에 표시할 수 있다. 사용자의 지문이 접촉될 위치(610)는 센서(530)의 위치에 대응하여 결정될 수 있다.

상술한 실시예들에 대한 설명은 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구범위에 의해 정해져야 할 것이며, 청구범위에 기재된 내용과 동등한 범위에 있는 모든 차이점은 청구범위에 의해 정해지는 보호 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

100: 에어로졸 생성 장치 200: 에어로졸 생성 물품
110: 배터리 120: 프로세서
130: 히터 140: 증기화기
410: 코일 420: 서셉터
430: 공동 510: 디스플레이
520: 발광 소자 530: 센서
540: 메모리 610: 지문이 접촉될 위치
910: 왼손 모드의 사용자 인터페이스 920: 오른손 모드의 사용자 인터페이스
1010: 지문을 향하여 조사되는 광 1020: 반사광
1030: 렌즈 1040: 필터

Claims (14)

1. 에어로졸 생성 장치에 있어서,
   디스플레이;
   상기 디스플레이에 접촉된 지문을 향하여 광을 조사하는 발광 소자;
   상기 지문을 향하여 조사된 광에 대응하는 반사광을 이용하여 상기 접촉된 지문에 대응하는 이미지를 생성하는 센서;
   에어로졸 생성 물질을 가열하는 히터;
   사용자의 지문 및 상기 지문에 대응되는 기능이 저장되는 메모리; 및
   프로세서를 포함하고,
   상기 프로세서는,
   상기 센서에서 생성된 이미지에 기초하여 식별된 지문이 상기 에어로졸 생성 장치를 사용하는 사용자의 오른손에 포함되는 지문인 경우 제1 기능을 수행하고,
   상기 센서에서 생성된 이미지에 기초하여 식별된 지문이 상기 에어로졸 생성 장치를 사용하는 사용자의 왼손에 포함되는 지문인 경우 제2 기능을 수행하는, 에어로졸 생성 장치.
2. 삭제
3. 제 1항에 있어서,
   상기 제1 기능은 제1 온도 프로파일에 따라 상기 히터를 가열하는 기능이고,
   상기 제2 기능은 제2 온도 프로파일에 따라 상기 히터를 가열하는 기능인, 에어로졸 생성 장치.
4. 제 1항에 있어서,
   상기 제1 기능은 상기 디스플레이에 오른손 모드의 사용자 인터페이스(User Interface, UI)를 표시하는 기능이고,
   상기 제2 기능은 상기 디스플레이에 왼손 모드의 사용자 인터페이스를 표시하는 기능인, 에어로졸 생성 장치.
5. 제 1항에 있어서,
   상기 프로세서는,
   상기 식별된 지문에 대응하는 온도 프로파일에 따라 가열되도록 상기 히터를 제어하는, 에어로졸 생성 장치.
6. 제 1항에 있어서,
   상기 제1 기능 또는 상기 제2 기능은,
   상기 디스플레이에 시각 정보가 출력되지 않는 기능인, 에어로졸 생성 장치.
7. 제 1항에 있어서,
   상기 프로세서는,
   상기 식별된 지문이 상기 메모리에 저장된 적어도 하나의 지문과 일치하지 않는 경우, 상기 에어로졸 생성 물질을 가열하지 않도록 상기 히터를 제어하는, 에어로졸 생성 장치.
8. 제 1항에 있어서,
   상기 프로세서는,
   상기 에어로졸 생성 장치를 사용하는 사용자의 지문이 접촉될 위치를 상기 디스플레이에 표시하고,
   상기 위치는 상기 센서의 위치에 대응하여 결정되는, 에어로졸 생성 장치.
9. 제 1항에 있어서,
   상기 에어로졸 생성 장치는,
   상기 디스플레이와 상기 센서 사이에 배치되고, 상기 반사광이 투과되는 렌즈를 더 포함하는, 에어로졸 생성 장치.
10. 에어로졸 생성 장치에 있어서,
    상기 에어로졸 생성 장치에 접촉된 지문을 향하여 광을 조사하는 발광 소자;
    상기 지문을 향하여 조사된 광에 대응하는 반사광을 이용하여 상기 접촉된 지문에 대응하는 이미지를 생성하는 센서;
    에어로졸 생성 물질을 가열하는 히터;
    사용자의 지문 및 상기 지문에 대응되는 기능이 저장되는 메모리; 및
    프로세서를 포함하고,
    상기 프로세서는,
    상기 센서에서 생성된 이미지에 기초하여 식별된 지문이 상기 에어로졸 생성 장치를 사용하는 사용자의 오른손에 포함되는 지문인 경우 제1 기능을 수행하고,
    상기 센서에서 생성된 이미지에 기초하여 식별된 지문이 상기 에어로졸 생성 장치를 사용하는 사용자의 왼손에 포함되는 지문인 경우 제2 기능을 수행하는, 에어로졸 생성 장치.
11. 삭제
12. 에어로졸 생성 장치에 있어서,
    상기 에어로졸 생성 장치에 접촉된 지문을 감지하기 위한 센서;
    사용자의 지문 및 상기 지문에 대응되는 기능이 저장되는 메모리; 및
    상기 센서에서 생성된 정보에 기초하여 상기 지문을 식별하고,
    상기 식별된 지문이 상기 에어로졸 생성 장치를 사용하는 사용자의 오른손에 포함되는 지문인 경우 제1 기능을 수행하고, 상기 식별된 지문이 상기 사용자의 왼손에 포함되는 지문인 경우 제2 기능을 수행하는 프로세서를 포함하는, 에어로졸 생성 장치.
13. 에어로졸 생성 장치의 동작 방법에 있어서,
    상기 에어로졸 생성 장치에 접촉된 지문을 향하여 광을 조사하는 단계;
    상기 지문을 항하여 조사된 광에 대응하는 반사광을 수신하는 단계;
    상기 반사광을 이용하여 상기 접촉된 지문에 대응하는 이미지를 생성하는 단계;
    상기 이미지에 기초하여 상기 지문을 식별하는 단계; 및
    상기 식별된 지문이 상기 에어로졸 생성 장치를 사용하는 사용자의 오른손에 포함되는 지문인 경우 제1 기능을 수행하고, 상기 식별된 지문이 상기 사용자의 왼손에 포함되는 지문인 경우 제2 기능을 수행하는 단계를 포함하는, 방법.
    
14. 삭제

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