KR102403486B1 - Organic electro luminescent device and method of fabricating thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명은 박막트랜지스터 완성 시점에서 이들 박막트랜지스터와 연결된 각 화소라인 별 전원배선의 쇼트 여부를 간단히 검사할 수 구조를 갖는 유기전계 발광소자에 관한 것으로, 복수의 부화소영역을 구비한 화소영역이 다수 구비된 표시영역과 상기 표시영역 외측의 비표시영역이 정의된 기판과, 상기 복수의 부화소영역 각각에 구비된 다수의 박막트랜지스터와, 상기 다수의 박막트랜지스터 중 어느 하나의 박막트랜지스터와 연결되며 제 1 전극과 유기 발광층 및 제 2 전극으로 구성된 유기전계 발광 다이오드와, 제 1 방향으로 연장되며, 상기 복수의 부화소영역 중 상기 제 1 방향과 교차하는 상기 제 2 방향으로 서로 인접하는 화소영역 사이에 구비된 전원배선 및 데이터 배선 및 상기 제 2 방향으로 연장되며, 상기 복수의 부화소영역 중 상기 제 1방향으로 서로 인접하는 부화소영역 사이에 구비된 게이트 배선을 포함하고, 상기 비표시영역에 상기 전원배선의 일끝단과 접촉하며 구비된 쇼팅바를 포함하는 유기전계 발광소자를 제공한다.
이러한 구성을 갖는 본 발명은 전원배선이 박막트랜지스터 및 배선의 불량 검사가 이루어지는 상기 박막트랜지스터의 완성 단계에서 각 화소영역 별로 분리된 구성을 이룸으로서 상기 불량 검사 실시 시 상기 전원배선의 단선 유무를 파악할 수 있게 됨으로서 리페어가 가능하게 되며, 이에 의해 최종 제품화시의 불량률을 저감시키는 효과가 있으며, 나아가 상기 전원배선이 제 1 전극을 형성하는 단계에서 상기 제 1 전극을 이루는 동일한 물질 및 동일층에 상기 각 전원배선의 일끝단과 연결되는 쇼팅바가 구비됨으로서 이에 의해 상기 전원배선은 모두 전기적으로 연결되어 등전위 상태가 되므로 전원배선 각각이 그 위치별 전압강하 현상이 억제되는 효과를 갖는다.The present invention relates to an organic electroluminescent device having a structure capable of simply inspecting whether a power supply wiring for each pixel line connected to the thin film transistor is short-circuited at the time of completion of the thin film transistor, wherein a plurality of pixel regions having a plurality of sub-pixel regions A substrate having a display area and a non-display area outside the display area defined thereon, a plurality of thin film transistors provided in each of the plurality of sub-pixel areas, and a thin film transistor connected to any one of the plurality of thin film transistors Between an organic light emitting diode comprising a first electrode, an organic light emitting layer, and a second electrode, and a pixel region extending in a first direction and adjacent to each other in the second direction intersecting the first direction among the plurality of subpixel regions a power line and a data line provided and a gate line extending in the second direction and provided between sub-pixel areas adjacent to each other in the first direction among the plurality of sub-pixel areas; Provided is an organic light emitting device including a shorting bar provided in contact with one end of a power wiring.
In the present invention having such a configuration, the power wiring is configured separately for each pixel area at the completion stage of the thin film transistor, where the thin film transistor and the wiring defect inspection are performed. As a result, repair is possible, thereby reducing the defect rate at the time of final production, and further, in the step of forming the first electrode in the power supply wiring, each power source is provided in the same material and on the same layer constituting the first electrode. Since the shorting bar connected to one end of the wiring is provided, all of the power wirings are electrically connected to an equipotential state, and thus each power wiring has an effect of suppressing a voltage drop phenomenon for each position.
Description
본 발명은 유기전계 발광소자(organic electro luminescent device)에 관한 것으로, 특히 박막트랜지스터 완성 시점에서 이들 박막트랜지스터와 연결된 각 화소라인 별 전원배선의 쇼트 여부를 간단히 검사할 수 구조를 갖는 유기전계 발광소자 및 그 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to an organic electroluminescent device, and in particular, an organic electroluminescent device having a structure capable of easily inspecting whether the power wiring for each pixel line connected to the thin film transistor is short-circuited at the time of completion of the thin film transistor; It relates to a manufacturing method thereof.
평판 디스플레이(FPD; Flat Panel Display)중 하나인 유기전계 발광소자는 높은 휘도와 낮은 동작 전압 특성을 갖는다. An organic light emitting diode, which is one of flat panel displays (FPDs), has high luminance and low operating voltage characteristics.
또한, 스스로 빛을 내는 자체발광형이기 때문에 명암대비(contrast ratio)가 크고, 초박형 디스플레이의 구현이 가능하며, 응답시간이 수 마이크로초(㎲) 정도로 동화상 구현이 쉽고, 시야각의 제한이 없으며 저온에서도 안정적이고, 직류 5V 내지 15V의 낮은 전압으로 구동하므로 구동회로의 제작 및 설계가 용이하다.In addition, since it is a self-luminous type that emits light by itself, the contrast ratio is large, it is possible to realize an ultra-thin display, and it is easy to implement a moving image with a response time of several microseconds (㎲), there is no limitation of the viewing angle, and even at low temperature. Since it is stable and driven with a low voltage of 5V to 15V of DC, it is easy to manufacture and design a driving circuit.
따라서 전술한 바와 같은 장점을 갖는 유기전계 발광소자는 최근에는 TV, 모니터, 핸드폰 등 다양한 IT기기에 이용되고 있다.Accordingly, the organic electroluminescent device having the above-described advantages has recently been used in various IT devices such as TVs, monitors, and mobile phones.
이러한 유기전계 발광소자는 풀 컬러 구현을 위하 하나의 화소영역은 적어도 적, 녹, 청색을 표시하기 위한 부화소영역을 포함하고 있으며, 각 부화소영역에는 2개 이상의 다수의 박막트랜지스터와 이들 박막트랜지스터와 연결되는 다수의 배선과 스토리지 커패시터 및 유기전계 발광 다이오드가 구비되고 있다.In such an organic light emitting device, one pixel region includes at least sub-pixel regions for displaying red, green, and blue for full color realization, and each sub-pixel region includes two or more plurality of thin film transistors and these thin film transistors. A plurality of wirings connected to and a storage capacitor and an organic light emitting diode are provided.
이때, 상기 박막트랜지스터는 스위칭 박막트랜지스터와 구동 박막트랜지스터로 구성될 수도 있으며, 보다 안정성 있는 부화소영역의 구동 및 유기전계 발광 다이오드의 수명을 연장시키기 위해 하나 이상의 보조 박막트랜지스터가 더 구비될 수 있다.In this case, the thin film transistor may be composed of a switching thin film transistor and a driving thin film transistor, and one or more auxiliary thin film transistors may be further provided in order to more stably drive the sub-pixel region and extend the lifespan of the organic light emitting diode.
한편, 상기 박막트랜지스터와 연결되는 배선은 게이트 배선과 데이터 배선과 전원배선을 주 배선으로 하고, 상기 보조 박막트랜지스터가 구비되는 경우 추가적으로 제 1 및 제 2 보조배선을 더 포함한다. On the other hand, the wiring connected to the thin film transistor has a gate wiring, a data wiring and a power wiring as main wiring, and when the auxiliary thin film transistor is provided, additionally first and second auxiliary wirings are further included.
이러한 구성을 갖는 유기전계 발광소자는 상기 박막트랜지스터를 완성하는 단계에서 상기 박막트랜지스터의 구동 여부와 각 배선의 단선 여부에 대해 검사를 실시하고 있다.In the organic light emitting device having such a configuration, in the step of completing the thin film transistor, the thin film transistor is tested whether the thin film transistor is driven and whether each wiring is disconnected.
헌데, 상기 다수의 배선 중 전원배선을 제외한 배선은 각 화소라인별로 혹은 각 부화소라인 별로 각각 형성됨으로서 각 배선의 화소라인별 혹은 부 화소라인별 단선 유무를 검사할 수 있다.However, among the plurality of wirings, wiring excluding the power wiring is formed for each pixel line or each sub-pixel line, so that the disconnection of each pixel line or each sub-pixel line of each wiring can be checked.
하지만, 상기 전원배선은 도 1(도 1은 종래의 유기전계 발광소자에 있어 전원배선만을 간략히 도시한 평면도) 및 도 2(도 1을 절단선 Ⅱ-Ⅱ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도)에 도시한 바와같이, 화소라인 별로 구비되고 있지만 각 전원배선(PL)의 일 끝단은 상기 전원배선(PL)이 형성된 동일한 층에 구비된 쇼팅바(STB)에 의해 모두 연결된 구조를 이룸으로서 각 화소라인별로 단선 여부의 검사가 불가능한 실정이다.However, the power wiring is shown in FIG. 1 (FIG. 1 is a plan view schematically showing only the power wiring in a conventional organic light emitting device) and FIG. As shown, although provided for each pixel line, one end of each power wiring PL is connected by a shorting bar STB provided on the same layer on which the power wiring PL is formed, so that each pixel line It is almost impossible to check for disconnection.
즉, 도 1에 도시한 바와같이 어느 하나의 화소라인에서 단선이 발생되는 경우, 상기 전원배선(PL)은 전기적으로 모두 연결된 상태이므로 배선의 단선 검사를 실시하더라도 어느 화소라인에 대응되는 전원배선(PL)이 단선되었는지 검출되지 않는다.That is, as shown in FIG. 1, when a disconnection occurs in any one pixel line, the power supply wiring PL is electrically connected to the power supply wiring (PL) corresponding to any pixel line even if the wiring disconnection test is performed. PL) is not detected.
따라서 상기 박막트랜지스터가 완성되는 시점에서 상기 박막트랜지스터 및 배선 불량 검사 진행 시 상기 전원배선(PL)에 대해서는 이의 단선 유무를 파악할 수 없으므로 불량이 내재된 상태로 최종 제품화 됨으로서 최종 제품의 불량률이 증가되고 있는 실정이다.
Therefore, when the thin film transistor and wiring defect inspection is performed at the time the thin film transistor is completed, it is not possible to determine whether or not the disconnection of the power wiring (PL) is in progress. the current situation.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 박막트랜지스터가 완성되는 시점에서 상기 박막트랜지스터와 더불어 이와 연결된 모든 배선의 단선 검사를 실시하여 단선 여부를 파악할 수 있는 구조를 갖는 유기전계 발광소자를 제공하는 것을 그 목적으로 하고 있다.
The present invention has been devised to solve the above problems, and at the time the thin film transistor is completed, the thin film transistor and all wiring connected thereto are inspected for disconnection to provide an organic electroluminescent device having a structure capable of determining whether disconnection is present. that is for that purpose.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 유기전계 발광소자는, 복수의 부화소영역을 구비한 화소영역이 다수 구비된 표시영역과 상기 표시영역 외측의 비표시영역이 정의된 기판과, 상기 복수의 부화소영역 각각에 구비된 다수의 박막트랜지스터와, 상기 다수의 박막트랜지스터 중 어느 하나의 박막트랜지스터와 연결되며 제 1 전극과 유기 발광층 및 제 2 전극으로 구성된 유기전계 발광 다이오드와, 제 1 방향으로 연장되며, 상기 복수의 부화소영역 중 상기 제 1 방향과 교차하는 상기 제2 방향으로 서로 인접하는 화소영역 사이에 구비된 전원배선 및 데이터 배선; 및 상기 제 2 방향으로 연장되며, 상기 복수의 부화소영역 중 상기 제 1방향으로 서로 인접하는 부화소영역 사이에 구비된 게이트 배선을 포함하고, 상기 비표시영역에 상기 전원배선의 일끝단과 접촉하며 구비된 쇼팅바를 포함하는 구성을 이루는 것이 특징이다. According to an embodiment of the present invention for achieving the above object, there is provided an organic electroluminescent device, comprising: a display area including a plurality of pixel areas including a plurality of sub-pixel areas, and a substrate in which a non-display area outside the display area is defined; , a plurality of thin film transistors provided in each of the plurality of sub-pixel regions, and an organic light emitting diode connected to any one of the plurality of thin film transistors and composed of a first electrode, an organic light emitting layer, and a second electrode; a power supply line and a data line extending in one direction and provided between pixel areas adjacent to each other in the second direction intersecting the first direction among the plurality of sub-pixel areas; and a gate line extending in the second direction and provided between sub-pixel areas adjacent to each other in the first direction among the plurality of sub-pixel areas, wherein one end of the power line is in contact with the non-display area And it is characterized in that it forms a configuration including the provided shorting bar.
이때, 상기 표시영역 및 비표시영역에는 상기 다수의 박막트랜지스터와 상기 제 1 전극 사이에 상기 전원배선의 일끝단을 노출시키는 배선 콘택홀이 구비된 평탄화층이 구비되며, 상기 쇼팅바와 상기 전원배선의 일끝단은 상기 배선 콘택홀을 통해 서로 접촉하는 구성을 이룰 수도 있으며, 나아가 상기 쇼팅바는 상기 제 1 전극과 동일한 물질로 이루어질 수 있다. In this case, a planarization layer having a wiring contact hole exposing one end of the power wiring is provided between the plurality of thin film transistors and the first electrode in the display area and the non-display area, and between the shorting bar and the power wiring One end may be configured to contact each other through the wiring contact hole, and further, the shorting bar may be made of the same material as the first electrode.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기전계 발광소자는, 복수의 부화소영역을 구비한 화소영역이 다수 구비된 표시영역과 상기 표시영역 외측의 비표시영역이 정의된 기판과, 상기 복수의 부화소영역 각각에 구비된 다수의 박막트랜지스터와, 상기 다수의 박막트랜지스터 중 어느 하나의 박막트랜지스터와 연결되며 제 1 전극과 유기 발광층 및 제 2 전극으로 구성된 유기전계 발광 다이오드와, 제 1 방향으로 연장되며, 상기 복수의 부화소영역 중 상기 제 1 방향과 교차하는 상기 제2 방향으로 서로 인접하는 화소영역 사이에 구비된 전원배선 및 데이터 배선; 및 상기 제 2 방향으로 연장되며, 상기 복수의 부화소영역 중 상기 제 1방향으로 서로 인접하는 부화소영역 사이에 구비된 게이트 배선; 및 상기 비표시영역에 상기 전원배선의 일끝단과 이격하며 상기 전원배선이 형성된 동일한 층에 동일한 물질로 구비된 쇼팅바를 포함하고, 상기 비표시영역에 상기 전원배선의 일끝단 및 상기 쇼팅바와 접촉하며 구비된 연결패턴을 포함하는 구성을 이룬다. An organic electroluminescent device according to another embodiment of the present invention includes a substrate in which a display area including a plurality of pixel areas including a plurality of sub-pixel areas and a non-display area outside the display area are defined, and the plurality of sub-pixel areas. A plurality of thin film transistors provided in each pixel area, an organic light emitting diode connected to any one of the plurality of thin film transistors and comprising a first electrode, an organic light emitting layer, and a second electrode, and extending in a first direction, , a power line and a data line provided between pixel areas adjacent to each other in the second direction intersecting the first direction among the plurality of sub-pixel areas; and a gate line extending in the second direction and provided between sub-pixel regions adjacent to each other in the first direction among the plurality of sub-pixel regions. and a shorting bar spaced apart from one end of the power wiring in the non-display area and made of the same material on the same layer on which the power wiring is formed, and in contact with one end of the power wiring and the shorting bar in the non-display area It constitutes a configuration including the provided connection pattern.
이때, 상기 표시영역 및 비표시영역에는 상기 다수의 박막트랜지스터와 상기 제 1 전극 사이에 상기 전원배선의 일끝단을 노출시키는 배선 콘택홀과 상기 쇼팅바를 노출시키는 쇼팅바 콘택홀을 갖는 평탄화층이 구비되며, 상기 연결패턴은 상기 배선 콘택홀 및 쇼팅바 콘택홀을 통해 상기 전원배선의 일끝단 및 쇼팅바와 접촉하는 구성을 이룰 수도 있으며, 나아가, 상기 연결패턴은 상기 제 1 전극과 동일한 물질로 이루어질 수 있다.In this case, a planarization layer having a wiring contact hole exposing one end of the power wiring and a shorting bar contact hole exposing the shorting bar between the plurality of thin film transistors and the first electrode is provided in the display area and the non-display area and the connection pattern may be configured to contact one end of the power wiring and the shorting bar through the wiring contact hole and the shorting bar contact hole, and further, the connection pattern may be made of the same material as the first electrode have.
한편, 본 발명의 일 및 또 다른 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어서, 상기 부화소영역의 경계에 상기 제 1 방향으로 연장하는 제 1 보조배선과, 상기 화소영역의 경계에 상기 제 2 방향으로 연장하며 상기 게이트 배선과 이격하는 제 2 보조배선이 구비되며, 상기 다수의 박막트랜지스터는 상기 데이터 배선 및 게이트 배선과 연결된 스위칭 박막트랜지스터와, 상기 스위칭 박막트랜지스터 및 상기 전원배선과 연결된 구동 박막트랜지스터와, 상기 구동 박막트랜지스터 및 상기 제 2 보조배선과 연결된 센싱 박막트랜지스터인 것이 특징이다.Meanwhile, in the organic electroluminescent device according to one or another embodiment of the present invention, a first auxiliary wiring extending in the first direction to the boundary of the sub-pixel region and the second direction to the boundary of the pixel region and a second auxiliary wiring extending to and spaced apart from the gate wiring is provided, wherein the plurality of thin film transistors includes a switching thin film transistor connected to the data wiring and the gate wiring, and a driving thin film transistor connected to the switching thin film transistor and the power supply wiring; , a sensing thin film transistor connected to the driving thin film transistor and the second auxiliary wiring.
그리고, 상기 전원배선은 상기 다수의 박막트랜지스터의 소스 및 드레인 전극이 형성된 동일한 층에 구비되며 상기 소스 및 드레인 전극과 동일한 물질로 이루어질 수 있다.
In addition, the power wiring is provided on the same layer on which the source and drain electrodes of the plurality of thin film transistors are formed, and may be made of the same material as the source and drain electrodes.
본 발명의 각 제 1 실시예 및 이의 변형예에 따른 유기전계 발광소자는 전원배선이 박막트랜지스터 및 배선의 불량 검사가 이루어지는 상기 박막트랜지스터의 완성 단계에서 각 화소영역 별로 분리된 구성을 이룸으로서 상기 불량 검사 실시 시 상기 전원배선의 단선 유무를 파악할 수 있게 됨으로서 리페어가 가능하게 되며, 이에 의해 최종 제품화시의 불량률을 저감시키는 효과가 있다.The organic light emitting device according to each of the first embodiment of the present invention and its modifications is configured such that the power wiring is separated for each pixel area at the completion stage of the thin film transistor in which the thin film transistor and the wiring defect inspection are performed. When the inspection is carried out, it is possible to determine whether the power wiring is disconnected, thereby enabling repair, thereby reducing the defect rate at the time of final production.
나아가 본 발명의 제 1 실시예 및 이의 변형예에 따른 유기전계 발광소자는 상기 전원배선이 제 1 전극을 형성하는 단계에서 상기 제 1 전극을 이루는 동일한 물질 및 동일층에 상기 각 전원배선의 일끝단과 연결되는 쇼팅바가 구비됨으로서 이에 의해 상기 전원배선은 모두 전기적으로 연결되어 등전위 상태가 되므로 전원배선 각각이 그 위치별 전압강하 현상이 억제되는 효과를 갖는다.Furthermore, in the organic electroluminescent device according to the first embodiment of the present invention and its modifications, in the step of forming the first electrode of the power wiring, the same material and the same layer constituting the first electrode, one end of each power wiring Since the shorting bar connected to the power wiring is provided, all of the power wirings are electrically connected to an equipotential state, so that each power wiring has an effect of suppressing a voltage drop phenomenon for each position.
또한, 본 발명의 제 2 실시예 및 이의 변형예에 따른 유기전계 발광소자 역시 비록 쇼팅바가 전원배선 형성된 동일한 층인 층간절연막 상에 형성되고 있다 하더라도 박막트랜지스터의 소스 및 드레인 전극이 완성된 상태에서는 상기 각 전원배선의 일끝단과 상기 쇼팅바는 서로 접촉되어 전기적으로 연결된 상태가 아니므로 불량 검사 실시 시에 상기 각 전원배선의 단선 불량 여부를 알 수 있고 이에 의해 리페어가 가능하게 되며, 따라서 최종 제품화시의 불량률을 저감시키는 효과가 있다.In addition, although the organic light emitting device according to the second embodiment of the present invention and its modifications is also formed on the interlayer insulating film, which is the same layer on which the power wiring is formed, the shorting bar is formed on the same layer as the source and drain electrodes of the thin film transistor in the completed state. Since one end of the power wiring and the shorting bar are in contact with each other and are not electrically connected, it is possible to know whether the disconnection of each of the power wirings is defective when performing a defect inspection, thereby enabling repair, and thus It has the effect of reducing the defect rate.
또한, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자는 최종 제품으로 완성 시 각 전원배선은 쇼팅바에 의해 전기적으로 연결된 상태가 되므로 전원배선 각각의 위치별 전압강하를 억제하여 등전위를 구현할 수 있는 장점을 갖는다.
In addition, when the organic light emitting diode according to the second embodiment of the present invention is completed as a final product, each power wiring is electrically connected by a shorting bar, so it is possible to implement an equipotential by suppressing the voltage drop at each position of the power wiring. have an advantage
도 1은 종래의 유기전계 발광소자에 있어 전원배선만을 간략히 도시한 평면도.
도 2는 도 1을 절단선 Ⅱ-Ⅱ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어 표시영역의 일부로서 하나의 화소영역에 대한 평면도.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어 전원배선만을 간략히 도시한 평면도.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어 박막트랜지스터의 소스 및 드레인 전극이 완성된 상태에서의 전원배선을 도시한 평면도.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 하나의 부화소영역(제 1 부화소영역)에 대한 회로도.
도 7은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 도면으로서 도 3을 절단선 Ⅶ-Ⅶ을 따라 절단한 부분에 대한 단면도.
도 8은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 도면으로서 도 3을 절단선 Ⅷ-Ⅷ을 따라 절단한 부분에 대한 단면도.
도 9는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 도면으로서 도 4를 절단선 Ⅸ-Ⅸ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도.
도 10은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어 박막트랜지스터 및 전원배선을 형성한 직후 불량 검사를 실시하는 단계에서의 전원배선의 일 끝단에 대한 단면도로서, 도5를 절단선 Ⅹ-Ⅹ을 따라 절단한 부분에 대한 단면도.
도 11은 본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자의 전원배선과 쇼팅바의 평면 구조 도시한 도면.
도 12는 본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자의 전원배선과 쇼팅바의 단면 구조를 나타낸 도면으로도 도 11을 절단선 ⅩⅡ-ⅩⅡ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도.
도 13은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어 전원배선만을 간략히 도시한 평면도.
도 14는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 도면으로서 도 13을 절단선 ⅩⅣ-ⅩⅣ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도.
도 15는 본 발명의 제 2 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자의 전원배선과 쇼팅바의 평면 구조 도시한 도면.
도 16은 본 발명의 제 2 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자의 전원배선과 쇼팅바의 단면 구조를 나타낸 도면으로도 도 15를 절단선 ⅩⅥ-ⅩⅥ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도.1 is a plan view schematically illustrating only power wiring in a conventional organic electroluminescent device.
2 is a cross-sectional view of a portion of FIG. 1 taken along the cutting line II-II.
3 is a plan view of one pixel area as a part of the display area in the organic light emitting diode according to an embodiment of the present invention.
4 is a plan view schematically illustrating only the power wiring in the organic light emitting device according to an embodiment of the present invention.
5 is a plan view illustrating power wiring in a state in which the source and drain electrodes of the thin film transistor are completed in the organic electroluminescent device according to the embodiment of the present invention.
6 is a circuit diagram of one sub-pixel region (a first sub-pixel region) of an organic light emitting diode according to an embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view of a portion of FIG. 3 taken along a cutting line VII-VII as a view of an organic electroluminescent device according to a first embodiment of the present invention.
8 is a view of an organic light emitting diode according to a first embodiment of the present invention, and is a cross-sectional view of a portion of FIG.
9 is a cross-sectional view of the portion taken along the cutting line IX-IX of FIG. 4 as a view of the organic electroluminescent device according to the first embodiment of the present invention.
10 is a cross-sectional view of one end of the power wiring in the step of performing a defect inspection immediately after forming the thin film transistor and the power wiring in the organic electroluminescent device according to the first embodiment of the present invention. Sectional view of a section cut along X-X.
11 is a diagram illustrating a planar structure of power wiring and a shorting bar of an organic light emitting diode according to a modified example of the first embodiment of the present invention.
12 is a view showing a cross-sectional structure of a power wiring and a shorting bar of an organic light emitting diode according to a modified example of the first embodiment of the present invention.
13 is a plan view schematically illustrating only power wiring in the organic electroluminescent device according to the second embodiment of the present invention.
14 is a cross-sectional view of an organic electroluminescent device according to a second embodiment of the present invention, taken along the cutting line XIV-XIV of FIG. 13;
15 is a diagram illustrating a planar structure of a power supply wiring and a shorting bar of an organic light emitting diode according to a modified example of the second embodiment of the present invention.
16 is a view showing the cross-sectional structure of the power wiring and the shorting bar of the organic electroluminescent device according to a modified example of the second embodiment of the present invention.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, a preferred embodiment according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어 표시영역의 일부로서 하나의 화소영역에 대한 평면도이며, 도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어 전원배선만을 간략히 도시한 평면도이며, 도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어 박막트랜지스터의 소스 및 드레인 전극이 완성된 상태에서의 전원배선을 도시한 평면도이며, 도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 하나의 부화소영역(제 1 부화소영역)에 대한 회로도이다. 3 is a plan view of one pixel area as a part of the display area in the organic electroluminescent device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a plan view of the organic electroluminescent device according to the first embodiment of the present invention. It is a plan view schematically showing only the power wiring, and FIG. 5 is a plan view showing the power wiring in a state in which the source and drain electrodes of the thin film transistor are completed in the organic electroluminescent device according to the first embodiment of the present invention, FIG. is a circuit diagram of one sub-pixel region (first sub-pixel region) of the organic electroluminescent device according to the first embodiment of the present invention.
이때, 설명의 편의를 위해 각 화소영역(P) 내의 일 방향으로 이웃하여 위치하는 3개의 부화소영역(SP1, SP2, SP3)을 제 1, 2, 3 부화소영역(SP1, SP2, SP3)이라 정의하며, 이들 각 부화소영역(SP1, SP2, SP3)별로 구비되는 3개의 데이터 배선(DL)을 각각 제 1, 2, 3 데이터 배선(DL1, DL2, DL3)이라 정의한다. In this case, for convenience of explanation, the first, second, and third sub-pixel areas SP1, SP2, and SP3 are three sub-pixel areas SP1, SP2, and SP3 located adjacent to each other in one direction in each pixel area P. , and three data lines DL provided for each of these sub-pixel areas SP1, SP2, and SP3 are defined as first, second, and third data lines DL1, DL2, and DL3, respectively.
도시한 바와같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)는 각 화소영역(P)의 경계에 세로방향인 제 1 방향으로 연장하며 VDD 전압을 인가하기 위한 전원배선(PL)이 구비되고 있으며, 이러한 전원배선(PL)과 이격하여 상기 제 1 및 제 2 부화소영역(SP1, SP2) 간의 경계에 제 1 및 제 2 데이터 배선(DL1, DL2)이 서로 이격하여 이웃하여 구비되고 있으며, 상기 제 2 및 제 3 부화소영역(SP2, SP3)간의 경계에는 제 1 보조배선(AL1) 및 제 3 데이터 배선(DL3)이 서로 이격하여 이웃하여 구비되고 있다. As shown, the organic
이러한 제 1 방향으로 배치되는 상기 제 1, 2, 3 데이터 배선(DL1, DL2, DL3) 및 제 1 보조배선(AL1)은 모두 동일한 층에 동일한 금속물질 형성됨을 특징으로 하고 있으며, 이들 각 배선(DL1, DL2, DL3, AL1)은 각 화소라인별 혹은 각 부화소라인별로 하나씩 분리되며 형성되고 있는 것이 특징이다. The first, second, and third data lines DL1, DL2, DL3 and the first auxiliary line AL1 arranged in the first direction are all formed of the same metal material on the same layer, and each of these lines ( DL1, DL2, DL3, and AL1) are characterized in that they are formed separately for each pixel line or each sub-pixel line.
이때, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)에 있어 가장 특징적인 구성 중 하나로서 상기 전원배선(PL)도 상기 데이터 배선(DL) 및 제 1 보조배선(AL1)과 유사하게 상기 각 화소라인별로 각각 이격하며 그 일끝단의 서로 연결됨 없이 분리되어 형성되고 있는 것이 특징이다. At this time, as one of the most characteristic configurations of the organic
종래의 유기전계 발광소자의 경우, 전원배선(도 1의 PL)은 그 일끝단이 상기 전원배선(도 1의 PL)과 동일한 층에 동일한 금속물질로 이루어진 쇼팅바(도 1의 STB)에 의해 그 일끝단 모두 전기적으로 연결된 형태를 이루었다. In the case of a conventional organic light emitting device, the power wiring (PL of FIG. 1) has one end of the shorting bar (STB of FIG. 1) formed of the same metal material on the same layer as the power wiring (PL of FIG. 1). All of the ends were electrically connected.
하지만, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)의 경우, 상기 전원배선(PL) 각각은 상기 전원배선(PL)이 형성된 층 즉, 박막트랜지스터(STr, DTr, SeTr)의 소스 및 드레인 전극((133a, 133b, 133c), (136a, 136b, 136c))이 형성된 층에 있어서 각 일 끝단이 연결되지 않고, 상기 전원배선(PL) 각각이 분리된 형태를 이루고 있는 것이 특징이다. However, in the case of the organic
다음, 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로는 각 화소라인 별로 게이트 배선(GL)과 제 2 보조배선(AL2)이 서로 이격하며 구비되고 있다. Next, in a second direction intersecting the first direction, the gate line GL and the second auxiliary line AL2 are provided to be spaced apart from each other for each pixel line.
나아가 각 화소영역(P)에는 상기 제 1 보조배선(AL1)과 전기적으로 연결되며 각 부화소영역(SP1, SP2, SP3)으로 상기 제 1 보조배선(AL1)을 통해 인가되는 신호전압을 인가시키기 위한 제 1 보조패턴(AP1)과, 상기 전원배선(PL)과 전기적으로 연결되며 제 2 보조패턴(AP2)이 구비되고 있다.Further, to each pixel area P, the signal voltage applied through the first auxiliary line AL1 is applied to each of the subpixel areas SP1, SP2, and SP3, which is electrically connected to the first auxiliary line AL1. A first auxiliary pattern AP1 and a second auxiliary pattern AP2 electrically connected to the power supply line PL are provided.
이러한 게이트 배선(GL)과 제 2 보조배선(AL2)은 서로 동일한 층에 동일 물질로 이루어지며 상기 제 1 방향으로 연장하는 배선(DL1, DL2, DL3, AL1)들과는 적어도 하나의 절연층(미도시)이 사이에 두고 형성됨으로서 상기 제 1 방향으로 연장하는 배선(DL1, DL2, DL3, AL1)들과는 전기적으로 절연된 상태를 이룬다.The gate wiring GL and the second auxiliary wiring AL2 are made of the same material on the same layer and have at least one insulating layer (not shown) from the wirings DL1 , DL2 , DL3 , and AL1 extending in the first direction. .
이때, 상기 제 1 방향으로 연장하는 배선(DL1, DL2, DL3, AL1)들은 박막트랜지스터(STr, DTr, SeTr)의 소스 및 드레인 전극((133a, 133b, 133c), (136a, 136b, 136c))이 형성된 층에 이들 소스 및 드레인 전극((133a, 133b, 133c), (136a, 136b, 136c))을 이루는 동일한 금속물질로 이루어지고 있으며, 상기 제 2 방향으로 연장하는 배선(GL, AL2)들은 박막트랜지스터(STr, DTr, SeTr)의 게이트 전극(115a, 115b, 115c)이 형성된 층에 상기 게이트 배선(GL)을 이루는 동일한 금속물질로 이루어지고 있다.In this case, the wirings DL1, DL2, DL3, and AL1 extending in the first direction are the source and drain electrodes (133a, 133b, 133c), (136a, 136b, 136c) of the thin film transistors (STr, DTr, SeTr). ) is made of the same metal material constituting the source and drain electrodes (133a, 133b, 133c, 136a, 136b, 136c) on the formed layer, and the wirings GL and AL2 extending in the second direction Each of the thin film transistors (STr, DTr, SeTr) is made of the same metal material forming the gate wiring (GL) in the layer formed with the gate electrodes (115a, 115b, 115c).
한편, 각 부화소영역(SP1, SP2, SP3)에는 스위칭 박막트랜지스터(STr)와 구동 박막트랜지스터(DTr) 그리고 보조 박막트랜지스터로서 센스 박막트랜지스터(SeTr)가 구비되고 있다.Meanwhile, in each of the sub-pixel regions SP1, SP2, and SP3, a switching thin film transistor STr, a driving thin film transistor DTr, and a sense thin film transistor SeTr as auxiliary thin film transistors are provided.
즉, 상기 각 화소영역(P) 내에는 상기 게이트 배선(GL) 및 데이터 배선(DL)과 연결된 스위칭 박막트랜지스터(STr)와, 상기 스위칭 박막트랜지스터(STr)와 전원배선(PL)과 연결된 구동 박막트랜지스터(DTr)와, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)와 제 1 보조배선(AL1) 및 제 2 보조배선(AL2)과 연결된 센스 박막트랜지스터(SeTr)가 구비되고 있다.That is, in each pixel area P, a switching thin film transistor STr connected to the gate line GL and data line DL, and a driving thin film connected to the switching thin film transistor STr and a power supply line PL. The transistor DTr, the driving thin film transistor DTr, and the sense thin film transistor SeTr connected to the first auxiliary line AL1 and the second auxiliary line AL2 are provided.
이때, 상기 제 1 보조배선(AL1)(LS)은 센스 박막트랜지스터(SeTr)의 게이트 전극(115c)과 연결되고 있으며, 상기 제 2 보조배선(AL2)은 상기 센스 박막트랜지스터(SeTr)의 소스 전극(133c)과 전기적으로 연결되고 있다.In this case, the first auxiliary wiring AL1 (LS) is connected to the
상기 제 1 보조배선(AL1)(LS)은 상기 스위칭 박막트랜지스터(STr)의 게이트 전극(115a)에 스캔 전압(scan voltage)을 인가하는 게이트 배선(GL)과 동일한 역할을 하는 것으로 상기 센스 박막트랜지스터(SeTr)의 게이트 전극(115c)에 센스 전압(sense voltage)을 인가하는 센스 배선의 역할을 하는 것이다.The first auxiliary line AL1 (LS) has the same role as the gate line GL for applying a scan voltage to the
또한, 상기 제 2 보조배선(AL2)은 센스 박막트랜지스터(SeTr)를 통해 스토리지 커패시터(StgC) 충전된 전하 등을 주기적으로 배출시키는 통로의 역할을 하는 것이다. In addition, the second auxiliary wiring AL2 serves as a passage for periodically discharging charges charged in the storage capacitor StgC through the sense thin film transistor SeTr.
조금 더 구체적으로 각 부화소영역(SP1, SP2, SP3)에 구비된 구성요소간의 연결 관계를 살펴보면, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 소스 전극(133b)은 상기 전원배선(PL)과 연결되고 있으며, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인 전극(136b)은 상기 센스 박막트랜지스터(SeTr)의 드레인 전극(136c) 및 스토리지 커패시터(StgC)와 연결되고 있으며, 상기 스위칭 박막트랜지스터(STr)의 드레인 전극(136a)은 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 게이트 전극(115b)과 연결되고 있다. In more detail, looking at the connection relationship between the components provided in each of the sub-pixel regions SP1, SP2, and SP3, the
이때, 각 부화소영역(SP1, SP2, SP3) 내에 구비된 상기 각 스위칭 박막트랜지스터(STr)의 드레인 전극(136a)과 각 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인 전극(136b)은 절연층 즉, 게이트 절연막(미도시)과 층간절연막(미도시)을 사이에 두고 서로 중첩하며 구비됨으로서 스토리지 커패시터(StgC)를 이루고 있다. At this time, the
그리고 각 부화소영역(SP1, SP2, SP3) 내에 각각 구비된 발광영역(유기전계 발광 다이오드가 구비되는 영역)에는 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인 전극(136b)과 연결되며 제 1 전극(150)과 유기 발광층(155) 및 제 2 전극(160)으로 이루어진 유기전계 발광 다이오드(E)가 구비되고 있으며, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인 전극(136c)과 상기 유기전계 발광 다이오드(E)의 제 1 전극(150)이 서로 연결된 구성을 이루고 있다. In addition, in each of the light emitting regions (regions including organic light emitting diodes) provided in each of the sub-pixel regions SP1, SP2, and SP3, the
한편, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)에 있어 또 다른 특징적인 구성으로서 상기 각 전원배선(PL)의 일끝단과 연결되며 상기 각 전원배선(PL)이 형성된 층이 아닌 상기 유기전계 발광 다이오드(E)의 제 1 전극(150)이 형성된 층에는 상기 각 전원배선(PL)의 일 끝단이 위치하는 비표시영역(NA)에 대응하여 상기 각 전원배선(PL)의 일끝단과 중첩하는 쇼팅바(STB)가 구비되고 있으며, 이러한 쇼팅바(STB)는 상기 각 전원배선(PL)의 일 끝단을 각각 노출시키는 배선 콘택홀(Lch)을 통해 상기 각 전원배선(PL)과 접촉하는 구성을 이루고 있다.On the other hand, as another characteristic configuration in the
따라서 상기 각 전원배선(PL)은 상기 제 1 전극(150)이 형성되는 시점에서 상기 제 1 전극(150)과 동일한 층에 동일한 물질로 이루어진 쇼팅바(STB)에 의해 전기적으로 연결된 구성을 이루는 것이 특징이다.Therefore, each of the power wirings PL is electrically connected to the same layer as the
이렇게 각 전원배선(PL)을 이와 다른 층에 구비된 쇼팅바(STB)와 접촉하도록 하는 것은 상기 전원배선(PL)이 표시영역(DA) 전면에 대해 등전위를 이루도록 하기 위함이다. 상기 전원배선(PL)을 통해서는 표시영역(DA) 전면에 대해 동일한 전압이 인가되며, 이 경우 각 전원배선(PL)은 그 내부저항에 의해 표시영역(DA) 내 위치별로 전압 드롭핑 현상이 발생될 수 있으며, 이러한 것을 방지하기 위해 각 전원배선(PL)의 일 끝단을 쇼팅바(STB)를 개재하여 연결시키는 것이다.The reason that each power wiring PL is brought into contact with the shorting bar STB provided on a different layer is so that the power wiring PL achieves an equipotential with respect to the entire surface of the display area DA. The same voltage is applied to the entire surface of the display area DA through the power wiring PL. In this case, each power wiring PL has a voltage dropping phenomenon at each position in the display area DA due to its internal resistance. may occur, and in order to prevent this, one end of each power wiring PL is connected with a shorting bar STB interposed therebetween.
이때, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)는 상기 각 전원배선(PL)의 일 끝단을 전기적으로 연결시키면서도 박막트랜지스터(STr, DTr, SeTr)가 완성되는 시점에서 실시하는 불량 검사 진행 시 상기 각 전원배선(PL)의 단선 여부를 알 수 있도록 하기 위해 상기 쇼팅바(STB)를 상기 전원배선(PL)이 형성된 층이 아니라 상기 전원배선(PL)이 형성된 후 절연층(미도시)을 개재하여 형성되는 제 1 전극(150)이 형성된 층에 형성하고 있는 것이다.At this time, the organic
이렇게 각 전원배선(PL)과 쇼팅바(STB)를 이원화하여 서로 다른 층 더욱 정확히는 쇼팅바(STB)를 전원배선(PL) 상부에 위치하는 절연층(미도시) 상에 형성함으로서 상기 전원배선(PL)이 완성되는 시점, 즉 박막트랜지스터(STr, DTr, SeTr)의 소스 및 드레인 전극((133a, 133b, 133c), (136a, 136b, 136c))이 완성되는 시점에서 불량 검사 진행 시 상기 각 전원배선(PL)의 단선 여부를 알 수 있는 것이다.In this way, each power wiring (PL) and the shorting bar (STB) are dualized to form different layers, more precisely, the shorting bar (STB) on the insulating layer (not shown) located above the power wiring (PL), so that the power wiring ( PL) is completed, that is, at the time when the source and drain electrodes (133a, 133b, 133c), (136a, 136b, 136c) of the thin film transistors STr, DTr, SeTr are completed. It is possible to know whether the power wiring (PL) is disconnected.
종래의 유기전계 발광소자(도 1의 1)의 경우, 전원배선(도 1의 PL)은 이와 동일한 층에 쇼팅바(도 1의 STB)가 형성되어 상기 쇼팅바(도 1의 STB)에서 분기하는 형태로 상기 각 전원배선(PL)과 연결된 구성을 이룸으로서 박막트랜지스터(미도시)가 완성되는 시점에서 이미 상기 각 전원배선(도 1의 PL)은 상기 쇼팅바(도 1의 STB)에 의해 전기적으로 연결된 상태가 됨으로서 불량 검사 진행 시 상기 전원배선(도 1의 PL)의 단선 유무를 알 수 없었다.In the case of the conventional organic light emitting device (1 in FIG. 1), the power wiring (PL in FIG. 1) has a shorting bar (STB in FIG. 1) formed on the same layer, and branches from the shorting bar (STB in FIG. 1). When the thin film transistor (not shown) is completed by forming a configuration connected to each of the power wirings PL in the form of Since it was electrically connected, it was not possible to determine whether the power wiring (PL of FIG. 1) was disconnected during the defect inspection.
하지만 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)는 전원배선(PL)과 쇼팅바(STB)가 이원화되어 구비됨에 의해 박막트랜지스터(STr, DTr, SeTr)의 소스 및 드레인 전극((133a, 133b, 133c), (136a, 136b, 136c))이 완성되는 시점에서는 쇼팅바(STB)가 형성되지 않음으로서 각 전원배선(PL)은 각 화소라인 별로 분리 형성된 상태가 되므로 불량 검사를 진행하게 되면 전원배선(PL)의 단선 여부를 알 수 있는 것이다.However, in the organic
한편, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)에 있어서 상기 쇼팅바(STB)는 제 1 전극(150)을 이루는 동일한 물질로 이루어짐을 일례로 보이고 있지만, 상기 쇼팅바(STB)는 반드시 상기 제 1 전극(150)을 이루는 물질로 이루어질 필요는 없으며, 상기 전원배선(PL) 형성된 이후에 구비된다면 어떠한 도전성 물질 혹은 금속물질로 이루어져도 무방하다.Meanwhile, in the organic
이후에는 단면 구조를 통해 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)의 구성을 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the configuration of the
도 7은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 도면으로서 도 3을 절단선 Ⅶ-Ⅶ을 따라 절단한 부분에 대한 단면도이며, 도 8은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 도면으로서 도 3을 절단선 Ⅷ-Ⅷ을 따라 절단한 부분에 대한 단면도이며, 도 9는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 도면으로서 도 4를 절단선 Ⅸ-Ⅸ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도이며, 도 10은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)에 있어 박막트랜지스터 및 전원배선을 형성한 직후 불량 검사를 실시하는 단계에서의 전원배선의 일 끝단에 대한 단면도로서, 도5를 절단선 Ⅹ-Ⅹ을 따라 절단한 부분에 대한 단면도이다.7 is a view of an organic electroluminescent device according to a first embodiment of the present invention, and is a cross-sectional view of FIG. 3 taken along the cutting line VII-VII, and FIG. 8 is an organic light emitting diode according to the first embodiment of the present invention. As a drawing of the electroluminescent device, FIG. 3 is a cross-sectional view of a portion cut along the cutting line VIII-VIII, and FIG. 9 is a view of the organic electroluminescent device according to the first embodiment of the present invention, taken along the cutting line IX- It is a cross-sectional view of the part cut along IX, and FIG. 10 is a power supply in the step of performing a defect inspection immediately after forming the thin film transistor and the power wiring in the
이때, 각 부화소영역(SP1, 미도시)을 구동하기 위한 스위칭 및 구동 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr)와 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)는 모두 동일한 단면 구성을 가지므로 대표적으로 구동 박막트랜지스터(DTr)의 단면 구성에 대해서만 설명하며, 설명의 편의를 위해 스위칭 및 구동 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr)와 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)를 구성하는 구성요소 중 이들 각 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr, 도 3의 SeTr)에 대응해서만 형성되는 구성요소 즉, 게이트 전극(115)과 반도체층(120)과 서로 이격하는 소스 전극(133) 및 드레인 전극(136)에 대해서는 동일한 숫자의 도면부호를 부여함과 동시에 스위칭, 구동 및 센스 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr, 도 3의 SeTr) 순으로 각 숫자의 도면부호 끝에 a, b, c를 함께 부여하였으며, 게이트 절연막(118)과 층간절연막(123) 및 평탄화막(140)은 표시영역(DA)에 전면에 걸쳐 서로 연결된 상태로 형성되는 구성요소이므로 동일한 숫자의 도면부호만을 부여하였다. At this time, the switching and driving thin film transistors (STr and DTr in FIG. 3 ) and the sense thin film transistor (SeTr in FIG. 3 ) for driving each subpixel region SP1 (not shown) have the same cross-sectional configuration and are thus representatively driven Only the cross-sectional configuration of the thin film transistor (DTr) will be described, and for convenience of explanation, each of these thin film transistors among the components constituting the switching and driving thin film transistors (STr and DTr in FIG. 3) and the sense thin film transistor (SeTr in FIG. 3) Components formed only corresponding to the transistors (STr and DTr in FIG. 3 , and SeTr in FIG. 3 ), that is, the gate electrode 115 and the semiconductor layer 120 , and the source electrode 133 and the drain electrode 136 spaced apart from each other At the same time, a, b, and c are assigned at the end of each number in the order of switching, driving and sensing thin film transistors (STr, DTr in FIG. 3, SeTr in FIG. 3) at the same time, Since the
도시한 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)에 있어 각 부화소영역(SP1, 미도시)에는 다수의 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr, 도 3의 SeTr)와 유기전계 발광 다이오드(E)가 구비된 제 1 기판(110)과, 이와 대향하여 상기 유기전계 발광 다이오드(E)를 보호하고 외부로부터의 습기 또는 산소 유입을 방지하는 인캡슐레이션을 위한 제 2 기판(170)을 포함하여 구성되고 있다. As shown, in each sub-pixel region (SP1, not shown) in the
이때, 상기 제 2 기판(170)은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)에 있어서 상기 제 1 기판(110)과 마주하여 이격하는 형태로 구비된 것을 나타내고 있지만, 상기 제 2 기판(170)은 점착층을 포함하는 필름 형태로 상기 제 1 기판(110)의 최상층에 구비된 상기 제 2 전극(160)과 접촉하도록 구성될 수도 있으며, 또는 상기 제 2 전극(160) 상부로 유기절연막(미도시) 또는 무기절연막(미도시)이 더욱 구비되어 그 자체로 인캡슐레이션 막(미도시)으로 이용됨으로서 생략할 수도 있다.In this case, although the
본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)는 제 1 기판(110)에 구성적 특징이 있으므로 이후 제 1 기판(110)의 구성을 위주로 하여 설명한다. Since the
상기 제 1 기판(110)에는 각 화소영역(P) 내의 각 부화소영역(SP1, 미도시) 내부 또는 이의 경계에 스위칭, 구동 및 센스 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr, 도 3의 SeTr)의 3개의 박막트랜지스터가 구비되고 있으며, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)와 연결되는 유기전계 발광 다이오드(E)가 구비되고 있다. The
그리고 상기 스위칭 박막트랜지스터(미도시)와 연결되며 서로 교차하는 게이트 배선(GL) 및 데이터 배선(DL1, DL2, Dl3)이 구비되고 있으며, 상기 게이트 배선(GL)과 교차하며 상기 데이터 배선(DL1, DL2, Dl3)과 나란하게 이격하는 화소영역(P)의 경계에 전원배선(PL)이 구비되고 있고, 또한 각 화소영역(P)을 세로 방향인 제 1 방향으로 관통하며 제 2 및 제 3 부화소영역(도2의 SP2, 도2의 SP3)의 경계에 상기 데이터 배선(DL1, DL2, Dl3)과 나란하게 제 2 보조배선(AL2)이 구비되고 있다.In addition, a gate line GL and data lines DL1, DL2, and D13 that are connected to the switching thin film transistor (not shown) and cross each other are provided, and the data lines DL1 crossing the gate line GL and crossing each other are provided. A power supply line PL is provided at the boundary between the pixel regions P that are spaced apart from DL2 and D13 in parallel with the second and third parts passing through each pixel region P in the first vertical direction. A second auxiliary line AL2 is provided parallel to the data lines DL1, DL2, and D13 at the boundary of the pixel area (SP2 in FIG. 2 and SP3 in FIG. 2).
또한, 각 화소영역(P)에는 상기 제 1 보조배선(AL1)과 전기적으로 연결되며 각 부화소영역(SP1, 미도시)으로 상기 제 1 보조배선(AL1)을 통해 인가되는 신호전압을 인가시키기 위한 제 1 보조패턴(AP1)과, 상기 전원배선(PL)과 콘택홀(chl)을 통해 접촉하는 제 2 보조패턴(AP2)이 구비되고 있다.In addition, each pixel area P is electrically connected to the first auxiliary line AL1 and applies a signal voltage applied through the first auxiliary line AL1 to each subpixel area SP1 (not shown). There are provided a first auxiliary pattern AP1 for this purpose and a second auxiliary pattern AP2 in contact with the power wiring PL through a contact hole chl.
한편, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)는 상기 스위칭 박막트랜지스터(도 3의 STr) 및 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)와 연결되는 동시에 상기 전원배선(PL) 및 유기전계 발광 다이오드(E)와 연결되고 있으며, 상기 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)는 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)와 더불어 상기 제 1 보조배선(AL1)과 상기 제 2 보조패턴(AP2)을 매개로 하여 연결되고 있다.Meanwhile, the driving thin film transistor DTr is connected to the switching thin film transistor (STr in FIG. 3 ) and the sense thin film transistor (SeTr in FIG. 3 ) while being connected to the power supply wiring PL and the organic light emitting diode E The sense thin film transistor (SeTr in FIG. 3) is connected to the driving thin film transistor DTr through the first auxiliary line AL1 and the second auxiliary pattern AP2 as a medium.
상기 구동 박막트랜지스터(DTr)는 상기 제 1 기판(110) 상에 게이트 전극(115b)과, 게이트 절연막(118)과, 산화물 반도체층(120b)과, 반도체층 콘택홀(sch)이 구비된 층간절연막(123)과, 상기 층간절연막(123) 상에서 서로 이격하며 각각 상기 반도체층 콘택홀(sch)을 통해 상기 산화물 반도체층(120b)과 각각 접촉하는 소스 전극(133b) 및 드레인 전극(136b)이 순차 적층된 형태로 구성되고 있다. The driving thin film transistor DTr includes an interlayer having a
그리고 상기 스위칭 박막트랜지스터(도 3의 STr)와 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr) 또한 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)와 동일한 적층 구조를 이루고 있다. The switching thin film transistor (STr in FIG. 3 ) and the sense thin film transistor (SeTr in FIG. 3 ) also have the same stacked structure as the driving thin film transistor DTr.
또한, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 소스 전극(133b)은 상기 전원배선(PL)과 제 2 보조패턴(AP2)을 매개로 하여 연결되고 있다.In addition, the
한편, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 게이트 전극(115b)이 형성된 동일한 층 즉, 제 1 기판(1410) 상에는 상기 구동 게이트 전극(115b)과 동일한 금속물질로 이루어지며 게이트 배선(GL)과, 상기 제 2 보조배선(AL2)과 이와 이격하며 상기 제 2 보조패턴(AP2)이 형성되고 있으며, 각 부화소영역(SP1, 미도시)에는 구동 박막트랜지스터(DTr)의 구동 게이트 전극(115b)과 콘택홀(chl)을 통해 접촉하는 스토리지 커패시터(StgC)의 제 1 전극(116)이 구비되고 있다. On the other hand, on the same layer on which the
또한, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 소스 및 드레인 전극(133b, 136b)이 형성된 동일한 층 즉, 층간절연막(123) 상에는 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 소스 및 드레인 전극(133b, 136b)과 동일한 금속물질로 이루어지며 상기 게이트 배선(GL)과 교차하는 제 1 방향으로 연장하며 이격하며 상기 데이터 배선(DL1, DL2, DL3)이 형성되고 있으며, 각 화소영역(P)의 경계에는 전원배선(PL)이 형성되고 있다.In addition, on the same layer on which the source and drain
나아가 각 화소영역(P)에는 상기 제 3 데이터 배선(DL3)과 이웃하여 이격하며 제 1 보조배선(AL1) 형성되고 있으며, 상기 제 1 보조배선(AL1)과 접촉하며 제 1 보조패턴(AP1)이 형성되고 있다. Furthermore, in each pixel area P, a first auxiliary line AL1 is formed adjacent to and spaced apart from the third data line DL3, and a first auxiliary pattern AP1 is formed in contact with the first auxiliary line AL1. this is being formed
이러한 제 1 보조패턴(AP1)은 상기 제 1, 2, 3 데이터 배선(DL1, DL2, DL3)과 교차하는 부분에서는 제거되어 이격하는 형태를 이루며, 이러한 이격하는 제 1 보조패턴(AP1) 간에는 이의 끝단을 노출시키는 콘택홀(chl)을 통해 상기 게이트 전극(115b)과 동일한 층에 형성된 제 1 연결패턴(cp1)과 접촉하는 구성을 이루고 있는 것이 특징이다. 이에 의해 상기 제 1 보조패턴(AP1)은 각 화소영역(P) 내에서 각 부화소영역(SP1, 미도시)에 구비되는 각 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)의 소스 전극(도 3의 133c)으로 상기 제 1 보조배선(AL1)으로 인가되는 신호전압을 전달할 수 있는 구조를 이루게 된다. The first auxiliary pattern AP1 is removed from a portion intersecting the first, second, and third data lines DL1, DL2, and DL3 to form a spaced-apart shape. It is characterized in that it is in contact with the first connection pattern cp1 formed on the same layer as the
또한, 상기 층간절연막(123) 상의 각 부화소영역(SP1, 미도시)에 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 소스 및 드레인 전극(133b, 136b)과 동일한 금속물질로 이루어지며 상기 제 1 스토리지 전극(116)과 중첩하며 제 2 스토리지 전극(137)이 형성되고 있다. 이때, 상기 제 2 스토리지 전극(137)은 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인 전극(136b)과 및 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)의 드레인 전극(도 3의 136c)과 연결되고 있다. In addition, in each sub-pixel region SP1 (not shown) on the
한편, 상기 스위칭 박막트랜지스터(도 3의 STr)의 게이트 전극(도 3의 115a)은 상기 게이트 배선(GL)과 연결되고 있으며, 상기 스위칭 박막트랜지스터(도 3의 STr)의 소스 전극(도 3의 133a)은 상기 데이터 배선(DL1)과 연결되고 있다.On the other hand, the gate electrode (115a of FIG. 3) of the switching thin film transistor (STr in FIG. 3) is connected to the gate line GL, and the source electrode (STr in FIG. 3) of the switching thin film transistor (STr in FIG. 3) 133a) is connected to the data line DL1.
그리고 상기 게이트 배선(GL)과 이격하여 형성된 상기 제 2 보조배선(AL2)은 그 차제로서 상기 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)의 게이트 전극(도 3의 115c)을 이루고 있으며, 상기 제 1 보조배선(AL1)과 연결된 상기 제 1 보조패턴(AP1)은 상기 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)의 소스 전극(도 3의 133c)과 연결되고 있으며, 상기 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)의 드레인 전극(도 3의 136c)은 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인 전극(136b)과 연결되고 있다.In addition, the second auxiliary wiring AL2 formed to be spaced apart from the gate wiring GL constitutes a gate electrode (115c in FIG. 3) of the sense thin film transistor (SeTr in FIG. 3), and the first auxiliary wiring AL2. The first auxiliary pattern AP1 connected to the wiring AL1 is connected to the
그리고 상기 산화물 반도체층(120a, 도 3의 120b, 도 3의 120c)과 소스 전극(133a, 도 3의 133b, 도 3의 133c) 및 상기 산화물 반도체층(120a, 도 3의 120b, 도 3의 120c)과 드레인 전극(136a, 도 3의 136b, 도 3의 136c) 간은 상기 층간절연막(123)에 상기 산화물 반도체층(120a, 도 3의 120b, 도 3의 120c)을 노출시키는 반도체층 콘택홀(sch)이 구비됨으로서 이러한 반도체층 콘택홀(sch)을 통해 서로 접촉하는 구성을 이루고 있다.And the
즉, 층을 달리하서 형성되는 두 구성요소 간에는 이들 두 구성요소 사이에 개재된 절연층 예를들면 게이트 절연막(118) 또는(및) 층간절연막(123)에 콘택홀(chl) 또는 반도체층 콘택홀(sch)이 구비되고 있으며, 이러한 콘택홀(chl) 또는 반도체층 콘택홀(sch)을 통해 서로 다른 층에 구비된 두 구성요소는 접촉한 상태를 이룬다.That is, between two components formed by different layers, a contact hole chl or a semiconductor layer contact hole is formed in an insulating layer interposed between the two components, for example, the
한편, 도면에 있어서는 상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr)와 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)가 보텀 게이트(bottom gate) 구조를 이루는 것을 일례로 나타내었지만, 상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr)와 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)의 적층 구성은 다양하게 변형이 가능함은 자명하다 할 것이다.Meanwhile, in the drawings, the switching and driving thin film transistor (STr, DTr in FIG. 3) and the sense thin film transistor (SeTr in FIG. 3) form a bottom gate structure as an example, but the switching and driving thin film transistor It will be apparent that the stacked configuration of the transistor (STr and DTr in FIG. 3 ) and the sense thin film transistor (SeTr in FIG. 3 ) can be variously modified.
일례로, 상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr)와 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)는 폴리실리콘의 반도체층을 가지며 탑 게이트 타입(Top gate type)으로 구성될 수도 있다.For example, the switching and driving thin film transistors (STr and DTr in FIG. 3 ) and the sense thin film transistor (SeTr in FIG. 3 ) may have a polysilicon semiconductor layer and may be configured as a top gate type.
이러한 경우, 상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr)와 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr)는 순수 폴리실리콘의 액티브 영역과 이의 양측에 불순물이 도핑된 폴리실리콘의 소스 및 드레인 영역으로 이루어진 반도체층과, 게이트 절연막과, 상기 액티브영역과 중첩하여 형성된 게이트 전극과, 상기 소스 및 드레인 영역을 각각 노출시키는 반도체층 콘택홀을 갖는 층간절연막과, 상기 반도체층 콘택홀을 통해 각각 상기 소스 및 드레인 영역과 접촉하며 서로 이격하며 형성된 소스 및 드레인 전극을 포함하여 구성된다.In this case, the switching and driving thin film transistors (STr and DTr in Fig. 3) and the sense thin film transistor (SeTr in Fig. 3) are the active region of pure polysilicon and the source and drain regions of polysilicon doped with impurities on both sides thereof. An interlayer insulating film having a semiconductor layer, a gate insulating film, a gate electrode formed to overlap the active region, and a semiconductor layer contact hole exposing the source and drain regions, respectively, and the source and the source and the drain layer through the semiconductor layer contact hole, respectively It is configured to include source and drain electrodes that are in contact with the drain region and are spaced apart from each other.
한편, 상기 게이트 전극(115a, 도 3의 115b, 도 3의 115c)과 게이트 배선(GL), 데이터 배선(DL1, DL2, DL3)과 전원배선(PL), 소스 및 드레인 전극((도 3의 133a, 133b, 도 3의 133c), (도 3의 136a, 136b, 도 3의 136c))과, 제 1 및 제 2 보조배선(AL1, AL2) 및 제 1, 2 보조패턴(AP1, AP2)은 저저항 특성을 갖는 금속물질 예를들면 예를들면 구리(Cu), 구리 합금(AlNd), 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 몰리브덴(Mo) 및 몰리티타늄(MoTi) 중 선택된 하나 또는 둘 이상의 물질로 이루어짐으로서 단일층 또는 이중층 이상의 다중층 구조를 이루게 된다. Meanwhile, the
한편, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)에 있어 가장 특징적인 구성 중 하나인 상기 전원배선(PL)은 상기 층간절연막(123) 상에 각 화소영역(P)의 경계에 각 화소라인 별로 각각 분리된 상태로 형성되고 있으며, 상기 각 전원배선(PL)의 일 끝단이 위치하는 비표시영역(NA)에 있어서는 상기 층간절연막(123) 상에 쇼팅바(STB)가 형성되지 않아 각 전원배선(PL)의 일 끝단은 각 화소라인 별로 분리된 형태를 이루고 있는 것이 특징이다.On the other hand, in the organic
따라서 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)는 상기 층간절연막(123) 위로 각 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr, 도 3의 SeTr)의 소스 및 드레인 전극((도 3의 133a, 133b, 도 3의 133c), (도 3의 136a, 136b, 도 3의 136c))이 형성되어 각 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr, 도 3의 SeTr)가 완성된 시점에서 상기 각 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr, 도 3의 SeTr)와 각 배선의 단선 검사를 실시하는 경우, 상기 전원배선(PL) 또한 단선 검사를 실시할 수 있으며, 단선 불량 여부를 명확히 확인 할 수 있다. Accordingly, the
전원배선(PL)의 단선 불량이 확인 되는 경우, 현 상태 즉 박막트랜지스터가 완성된 상태에서 리페어 공정 일례로 웰딩을 진행하여 상기 전원배선(PL)의 단선된 부분을 리페어 함으로서 최종 제품화시 전원배선(PL)의 단선 불량을 방지할 수 있는 것이다.When a disconnection defect of the power supply wiring (PL) is confirmed, welding is performed as an example of a repair process in the current state, that is, in a state where the thin film transistor is completed, to repair the disconnected part of the power supply wiring (PL). It is possible to prevent disconnection of PL).
다음, 이렇게 각 화소영역라인 별로 분리 형성된 상태의 전원배선(PL)과 상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr)와 센스 박막트랜지스터(도 3의 SeTr) 위로 그 표면이 평탄한 상태의 평탄화층(140)이 표시영역(DA) 전면을 포함하여 상기 전원배선(PL)의 일끝단이 위치하는 비표시영역(NA)에 대해 형성되고 있다. Next, planarization of a flat surface over the power wiring PL, the switching and driving thin film transistors (STr, DTr in FIG. 3), and the sense thin film transistor (SeTr in FIG. 3) separated for each pixel area line in this way The
이때, 도면에 나타내지 않았지만, 상기 평탄화층(140)과 각 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr, 도 3의 SeTr) 사이에는 무기절연물질 예를들면 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)으로 이루어진 보호막(미도시)이 더욱 형성될 수 있다. At this time, although not shown in the drawings, an inorganic insulating material, for example, silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiNx) between the
상기 평탄화층(140)(보호막(미도시)이 형성되는 경우 상기 보호막(미도시) 포함)에는 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)에 대응하여 이의 드레인 전극(136b)을 노출시키는 드레인 콘택홀(143)이 구비되고 있다. 이러한 드레인 콘택홀(143)은 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인 전극(136b)에 대응해서만 구비되는 것이며, 스위칭 및 센스 박막트랜지스터(도 3의 STr, 도 3의 SeTr)의 드레인 전극(도 3의 136a, 도 3의 136c)에 대해서는 형성되지 않는다. 이러한 드레인 콘택홀(143)은 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인 전극(136b)과 유기전계 발광 다이오드(E)의 제 1 전극(150)을 전기적으로 연결시키기 위함이다.In the planarization layer 140 (including the passivation layer (not shown) when a passivation layer (not shown) is formed), a
이때, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)에 있어 또 다른 구성적 특징으로 상기 평탄화층(140)에는 표시영역(DA) 외측의 비표시영역(NA)에 있어 상기 각 전원배선(PL)의 일끝단에 대해 이들 각 전원배선(PL)의 일 끝단을 노출시키는 배선 콘택홀(Lch)이 구비되고 있는 것이 특징이다.At this time, as another structural feature of the
이렇게 각 전원배선(PL)의 일끝단 각각에 대해 이를 노출시키는 상기 배선 콘택홀(Lch)이 구비된 것은 추후 상기 각 전원배선(PL)의 일끝단을 연결시키는 쇼팅바(STB)와 접촉하는 구성을 이루도록 하기 위함이다. In this way, the wiring contact hole Lch for exposing one end of each power wiring PL is provided in contact with a shorting bar STB connecting one end of each power wiring PL later. in order to achieve
다음, 상기 평탄화층(140) 위로 각 부화소영역(SP1, 미도시)별로 상기 드레인 콘택홀(143)을 통해 상기 구동 드레인 전극(136b)과 접촉하는 제 1 전극(150)이 형성되고 있다.Next, a
도면에 있어서는 상기 제 1 전극(150)은 애노드 전극의 역할을 하도록 일함수 값이 비교적 큰 투명 도전성 물질 예를들면 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어지고 있음을 일례로 보이고 있다.In the drawing, the
하지만, 이러한 제 1 전극(150)은 유기전계 발광소자가 상부발광 방식을 동작하는 경우, 이중층 구조를 이룰 수 있으며, 이때, 상기 제 1 전극(150)의 상부층은 애노드 전극의 역할을 하며, 그 하부층은 반사층의 역할을 하도록 형성된다. However, this
즉, 상기 제 1 전극(150)의 상부층은 애노드 전극의 역할을 하도록 일함수 값이 비교적 큰 투명 도전성 물질 예를들면 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어지고, 상기 제 1 전극(150)의 하부층은 반사효율이 우수한 금속물질 혹은 합금인 알루미늄(Al), 알루미늄-네오디뮴(AlNd), 은(Ag), 은-팔라듐-구리(APC) 중 어느 하나로 이루어지도록 구성될 수도 있다. That is, the upper layer of the
이 경우, 상기 제 1 전극(150) 상부에 형성되는 유기 발광층(155)으로부터 발광된 빛을 상부로 반사시켜 재활용하여 발광효율을 향상시키는 역할을 하게 된다.In this case, the light emitted from the organic
하지만 상기 제 1 전극(150)은 반드시 이중층 구조를 이루도록 할 필요가 없으며 하부발광 방식으로 동작하는 경우 애노드 전극의 역할을 하도록 일함수 값이 비교적 큰 투명 도전성 물질 예를들면 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어진 단일층 구조를 이룰 수도 있다. However, the
도면에 있어서는 상기 제 1 전극(150)은 단일층 구조를 이루는 것을 일례로 나타내었다. In the drawings, the
그리고 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)의 특징적인 구성 중 하나로서 상기 전원배선(PL)의 일끝단이 위치하는 비표시영역(NA)에는 상기 전원배선(PL) 각각의 일끝단을 노출시키는 배선 콘택홀(Lch)을 통해 이들 각 전원배선(PL)의 일끝단과 접촉하는 쇼팅바(STB)가 형성되고 있다.And as one of the characteristic configurations of the organic
이러한 쇼팅바(STB)는 상기 평탄화층(140) 상에 상기 제 1 전극(150)을 이루는 동일한 물질로 이루어질 수 있으며, 이 경우, 상기 제 1 전극(150)이 단일층 구조를 갖는 경우 단일층을 이루며 상기 제 1 전극(150)이 이중층 구조를 갖는 경우 이중층 구조로 이루어질 수도 있다. The shorting bar STB may be formed of the same material constituting the
한편, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)에 있어서 상기 쇼팅바(STB)는 제 1 전극(150)을 이루는 동일한 물질로 이루어짐을 일례로 보이고 있지만, 상기 쇼팅바(STB)는 반드시 상기 제 1 전극(150)을 이루는 물질로 이루어질 필요는 없으며, 상기 전원배선(PL) 형성된 이후에 구비된다면 어떠한 도전성 물질 혹은 금속물질로 이루어져도 무방하다.Meanwhile, in the organic
본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)는 상기 제 1 전극(150)이 형성되는 단계에서 상기 각 전원배선(PL)의 일끝단을 전기적으로 연결시키는 쇼팅바(STB)가 형성됨으로서 최종적으로 완성된 단계에서는 각 전원배선(PL)은 실질적으로 상기 쇼팅바(STB)에 의해 전기적으로 연결된 상태를 이루게 되며, 이에 의해 전원배선(PL) 자체의 내부 저항에 기인되는 위치별 전압강하 현상을 억제시킬 수 있다.
In the
한편, 상기 제 1 전극(150) 위로 각 부화소영역(SP1, 미도시)의 경계에는 뱅크(153)가 형성되어 있다. Meanwhile, a
이때, 상기 뱅크(153)는 각 부화소영역(SP1, 미도시)을 둘러싸는 형태로 상기 제 1 전극(150)의 가장자리 소정폭과 중첩하며 상기 제 1 전극(150)의 중앙부를 노출시키며 형성되고 있다. In this case, the
이러한 구성을 갖는 상기 뱅크(153)는 투명한 유기절연물질 예를들면 폴리이미드(poly imide)로 이루어지거나, 또는 블랙을 나타내는 물질 예를들면 블랙수지로 이루어지고 있다. The
그리고 상기 각 부화소영역(SP1, 미도시)의 상기 뱅크(153)로 둘러싸인 제 1 전극(150)의 상부에는 유기 발광층(155)이 형성되어 있다. In addition, an
또한, 상기 유기 발광층(155)과 상기 뱅크(153) 상부로 표시영역(DA) 전면에 대해 캐소드 전극을 역할을 하도록, 일함수 값이 비교적 작은 금속물질 예를들면 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 은(Ag), 마그네슘(Mg), 금(Au), 알루미늄마그네슘 합금(AlMg) 중 어느 하나 또는 둘 이상의 섞인 물질로 이루어진 제 2 전극(160)이 형성되고 있다. In addition, a metal material having a relatively small work function value, for example, aluminum (Al), an aluminum alloy ( AlNd), silver (Ag), magnesium (Mg), gold (Au), aluminum magnesium alloy (AlMg) of any one or a mixture of two or more of the
한편, 각 부화소영역(SP1, 미도시)에 있어 상기 제 1, 2 전극(150, 160)과 그 사이에 형성된 상기 유기 발광층(155)은 유기전계 발광 다이오드(E)를 이루게 된다.Meanwhile, in each sub-pixel region SP1 (not shown), the first and
도면에 나타나지 않았지만, 상기 제 1 전극(150)과 유기 발광층(155) 사이 및 상기 유기 발광층(155)과 제 2 전극(160) 사이에는 각각 상기 유기 발광층(155)의 발광 효율 향상을 위해 다층 구조의 제 1 발광보상층(미도시)과 제 2 발광보상층(미도시)이 더욱 형성될 수도 있다. Although not shown in the drawing, between the
이때, 다층의 상기 제 1 발광보상층(미도시)은 상기 제 1 전극(150) 상부로 순차 적층되며 정공주입층(hole injection layer)과 정공수송층(hole transporting layer)으로 이루어질 수 있으며, 상기 제 2 발광보상층(미도시)은 상기 유기 발광층(155)으로부터 순차 적층되며 전자수송층(electron transporting layer)과 전자주입층(electron injection layer)으로 이루어질 수 있다.In this case, the multi-layered first emission compensation layer (not shown) is sequentially stacked on the
한편, 상기 제 1 발광보상층(미도시)과 제 2 발광보상층(미도시)은 이중층 구조를 이루는 것을 일례로 나타내었지만, 반드시 이중층 구조를 이룰 필요는 없다. 즉, 상기 제 1 발광보상층(미도시)은 정공주입층 또는 정공수송층이 되어 단일층 구조를 이룰 수도 있고, 상기 제 2 발광보상층(미도시) 또한 전자주입층 또는 전자수송층이 되어 단일층 구조를 이룰 수도 있다.Meanwhile, although the first emission compensation layer (not shown) and the second emission compensation layer (not shown) have a double-layer structure as an example, it is not necessarily necessary to form a double-layer structure. That is, the first emission compensation layer (not shown) may be a hole injection layer or a hole transport layer to form a single layer structure, and the second emission compensation layer (not shown) may also become an electron injection layer or an electron transport layer to form a single layer. structure can be achieved.
더불어 상기 제 1 발광보상층(미도시)은 전자블록킹층이 더욱 포함될 수도 있으며, 상기 제 2 발광보상층(미도시)은 정공블록킹층이 더욱 포함될 수도 있다. In addition, the first emission compensation layer (not shown) may further include an electron blocking layer, and the second emission compensation layer (not shown) may further include a hole blocking layer.
그리고 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)는 전술한 구성을 갖는 상기 제 1 기판(110)에 대응하여 상기 유기전계 발광 다이오드(E)의 인캡슐레이션을 위한 제 2 기판(170)이 구비되고 있다. And the organic
이 경우, 상기 제 1 기판(110)과 제 2 기판(170)은 그 가장자리를 따라 실란트 또는 프릿으로 이루어진 접착제(미도시)가 구비되고 있으며, 이러한 접착제(미도시)에 의해 상기 제 1 기판(110)과 제 2 기판(170)이 합착되어 패널상태를 유지하고 있다. In this case, the
이때, 서로 이격하는 상기 제 1 기판(110)과 제 2 기판(170) 사이에는 진공의 상태를 갖거나 또는 불활성 기체로 채워짐으로써 불활성 가스 분위기를 가질 수 있다. At this time, the space between the
상기 인캡슐레이션을 위한 상기 제 2 기판(170)은 유연한 특성을 갖는 플라스틱으로 이루어질 수도 있으며, 또는 유리기판으로 이루어질 수도 있다. The
한편, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)는 인캡슐레이션을 위한 상기 제 2 기판(170)이 생략된 구성을 이룰 수도 있다. Meanwhile, the
즉, 상기 제 2 기판(170)은 점착층을 포함하는 필름 형태로 상기 제 1 기판(110)의 최상층에 구비된 상기 제 2 전극(168)과 접촉하도록 구성될 수도 있으며, 또는 상기 제 2 전극(160) 상부로 유기절연막(미도시) 또는 무기절연막(미도시)이 더욱 구비되어 캡핑막이 형성될 수 있으며, 상기 유기절연막(미도시) 또는 무기절연막(미도시)은 그 자체로 인캡슐레이션 막(미도시)으로 이용될 수도 있으며, 이 경우 상기 제 2 기판(170)은 생략된다.That is, the
이러한 구성을 갖는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)는 전원배선(PL)이 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr, 도 3의 SeTr) 및 배선의 불량 검사가 이루어지는 상기 박막트랜지스터(도 3의 STr, DTr, 도 3의 SeTr)의 완성 단계에서 각 화소영역(P) 별로 분리된 구성을 이룸으로서 상기 불량 검사 실시시 상기 전원배선(PL)의 단선 유무를 파악할 수 있게 됨으로서 리페어가 가능하게 되며 이에 의해 최종 제품화시의 불량률을 저감시키는 효과가 있다.In the organic
나아가 상기 전원배선(PL)은 제 1 전극(150)을 형성하는 단계에서 상기 제 1 전극(150)을 이루는 동일한 물질 및 동일층에 상기 각 전원배선(PL)의 일끝단과 연결되는 쇼팅바(STB)가 구비됨으로서 이에 의해 상기 전원배선(PL)은 모두 전기적으로 연결되어 등전위 상태가 되므로 전원배선(PL) 각각이 그 위치별 전압강하 현상이 억제되는 효과를 갖는다.
Furthermore, in the step of forming the
한편, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)의 경우, 상기 각 전원배선(PL)은 그 일끝단이 평탄화층(140)에 구비된 각 전원배선(PL)의 일끝단을 노출시키는 배선 콘택홀(Lch)을 통해 상기 평탄화층(140) 상부에 구비되는 쇼팅바(STB)에 의해 연결된 구성을 이루는 것을 보이고 있지만, 상기 쇼팅바(STB)는 상기 평탄화층(140)이 아니라 상기 전원배선(PL)의 일끝단과 이들 전원배선(PL)이 위치하는 상기 층간절연막(123) 상에 형성되는 구성을 이룰 수도 있다.On the other hand, in the case of the organic
도 11은 본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자의 전원배선과 쇼팅바의 평면 구조 도시한 도면이며, 도 12는 본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자의 전원배선과 쇼팅바의 단면 구조를 나타낸 도면으로도 도 11을 절단선 ⅩⅡ-ⅩⅡ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도이다. 이때, 본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자는 전원배선(PL)의 일끝단이 위치하는 비표시영역(NA)에서의 구성만을 달리 할 뿐 그 외의 구성은 전술한 본 발명의 제 1 실시예와 동일하므로 차별점이 있는 부분을 위주로 설명한다.11 is a diagram illustrating a planar structure of power wiring and a shorting bar of an organic light emitting diode according to a modified example of the first embodiment of the present invention, and FIG. 12 is an organic light emitting diode according to a modified example of the first embodiment of the present invention. It is a cross-sectional view of the section cut along the cutting line XII-XII in FIG. 11 as a diagram showing the cross-sectional structure of the power wiring and the shorting bar. At this time, the organic light emitting device according to the modified example of the first embodiment of the present invention differs only in the configuration in the non-display area NA where one end of the power supply wiring PL is located, and the other configurations are the same as those of the present invention described above. Since it is the same as that of the first embodiment of , the parts with differences will be mainly described.
본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자(102)에 있어 각 박막트랜지스터(미도시)의 소스 및 드레인 전극(미도시)이 형성된 층간절연막(123) 상에 각 화소라인 별로 이격하며 전원배선(PL)이 분리 형성되고 있으며, 이때, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(도 3의 101)와는 달리 상기 각 박막트랜지스터(미도시)의 소스 및 드레인 전극(미도시) 위로 표시영역(DA)에 대해서만 구동 박막트랜지스터(미도시)의 드레인 전극(미도시)을 노출시키는 드레인 콘택홀(미도시)을 갖는 평탄화층(140)이 구비됨을 일 특징으로 하고 있다.In the
이때, 상기 평탄화층(140)이 표시영역(DA)에 대해서만 형성됨으로서 상기 각 전원배선(PL)은 비표시영역(NA)에 있어 그 일끝단이 상기 평탄화층(140) 외측으로 노출된 상태를 이루는 것이 특징이다.At this time, since the
그리고 상기 평탄화층(140) 위로 표시영역(DA)에 있어서는 상기 드레인 콘택홀(미도시)을 통해 상기 구동 박막트랜지스터(미도시)의 드레인 전극(미도시)과 접촉하며 각 부화소영역(미도시) 별로 제 1 전극(미도시)이 구비되고 있으며, 상기 비표시영역(NA)에 있어서는 상기 평탄화층(140) 외측으로 노출된 상기 각 전원배선(PL)의 일 끝단에 대해 상기 제 1 전극(미도시)을 이루는 동일한 물질로 상기 제 1 전극(미도시)과 동일한 적층 구조를 가지며 이들 각 전원배선(PL)의 일끝단과 직접 접촉하는 쇼팅바(STB)가 구비되고 있는 것이 특징이다.In addition, in the display area DA over the
한편, 본 발명의 제 1 실시예의 변형에에 따른 유기전계 발광소자(102)에 있어서 상기 쇼팅바(STB)는 제 1 전극(미도시)을 이루는 동일한 물질로 이루어짐을 일례로 보이고 있지만, 상기 쇼팅바(STB)는 반드시 상기 제 1 전극(미도시)을 이루는 물질로 이루어질 필요는 없으며, 상기 전원배선(PL) 형성된 이후에 구비된다면 어떠한 도전성 물질 혹은 금속물질로 이루어져도 무방하다.On the other hand, in the
이러한 구성을 갖는 본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자(102)는 각 전원배선(PL)의 끝단을 노출시키는 배선 콘택홀 없이 상기 쇼팅바(STB)가 각 전원배선(PL)의 일끝단과 상기 각 일끝단 사이로 노출된 층간절연막(123) 위로 형성되고 있는 바, 상기 박막트랜지스터(미도시)의 소스 및 드레인 전극(미도시)이 완성되는 시점에서는 각 전원배선(PL)이 분리된 형태가 되므로 불량 검사 시 상기 전원배선(PL)의 단선 유무를 파악할 수 있으며, 나아가 최종 제품으로 완성 시 각 전원배선(PL)은 쇼팅바(STB)에 의해 전기적으로 연결된 상태가 되므로 전원배선(PL) 각각의 위치별 전압강하를 억제하여 등전위를 구현할 수 있는 장점을 갖는다.In the organic
그 외의 구성요소는 전술한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)와 동일하므로 이하 생략한다.
Other components are the same as those of the
도 13은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어 전원배선만을 간략히 도시한 평면도이며, 도 14는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 도면으로서 도 13을 절단선 ⅩⅣ-ⅩⅣ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도이다.13 is a plan view schematically showing only the power wiring in the organic electroluminescent device according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 14 is a view of the organic electroluminescent device according to the second embodiment of the present invention. It is a cross-sectional view of the part cut along the line XIV-XIV.
본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자(201)는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(도 3의 101) 대비 각 전원배선(PL)의 일끝단과 이를 연결시키는 쇼팅바(STB)의 구조만을 달리하며, 그 외의 구성요소는 모두 동일하므로 차별점이 있는 부분에 대해서만 설명한다.The
본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자(201)에 있어 가장 특징적인 구성은 전원배선(PL)의 일끝단이 위치하는 비표시영역(NA)에 있어 표시영역(DA)의 각 부화소영역(미도시)에 구비되는 각 박막트랜지스터(미도시)의 소스 및 드레인 전극(미도시)이 형성되는 층간절연막(123) 상에 상기 각 전원배선(PL)의 일끝단과 이격하여 상기 전원배선(PL)을 이루는 동일한 물질로 쇼팅바(STB)가 구비되고 있다는 것과, 이러한 서로 이격하는 각 전원배선(PL)의 일끝단과 쇼팅바(STB)가 이의 상부에 구비된 평탄화층(140) 상에 위치하는 제 1 전극(미도시)과 동일한 물질로 이루어지며 상기 전원배선(PL) 각각과 제 2 연결패턴(cp2)에 의해 서로 접촉하는 구성을 이루고 있다는 것이다.The most characteristic configuration of the
이때, 상기 평탄화층(140)에는 각 전원배선(PL)의 일끝단을 노출시키는 배선 콘택홀(Lch)과 더불어 상기 쇼팅바(STB)에 대해 각 전원배선(PL)의 일끝단과 일대일 대응하도록 쇼팅바 콘택홀(Bch)이 구비되고 있으며, 상기 제 2 연결패턴(cp2)은 상기 각 전원배선(PL)의 일끝단과 일대일 대응하며 각각 상기 배선 콘택홀(Lch)과 쇼팅바 콘택홀(Bch)을 통해 상기 전원배선(PL) 및 쇼팅바(STB)과 동시에 접촉하는 구성을 이루는 것이 특징이다.At this time, the
한편, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자(201)에 있어서 상기 제 2 연결패턴(cp2)는 제 1 전극(미도시)을 이루는 동일한 물질로 이루어짐을 일례로 보이고 있지만, 상기 제 2 연결패턴(cp2)는 반드시 상기 제 1 전극(미도시)을 이루는 물질로 이루어질 필요는 없으며, 상기 전원배선(PL) 형성된 이후에 구비된다면 어떠한 도전성 물질 혹은 금속물질로 이루어져도 무방하다.
On the other hand, in the
이러한 구성을 갖는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자(201) 역시 비록 쇼팅바(STB)가 전원배선(PL)이 형성된 동일한 층인 층간절연막(123) 상에 형성되고 있다 하더라도 박막트랜지스터(미도시)의 소스 및 드레인 전극(미도시)이 완성된 상태에서는 상기 각 전원배선(PL)의 일끝단과 상기 쇼팅바(STB)는 서로 접촉되어 전기적으로 연결된 상태가 아니므로 불량 검사 실시 시에 상기 각 전원배선의 단선 불량 여부를 알 수 있고 이에 의해 리페어가 가능하게 되며, 따라서 최종 제품화시의 불량률을 저감시키는 효과가 있다.The organic
또한, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자(201)는 최종 제품으로 완성 시 각 전원배선(PL)은 쇼팅바(STB)에 의해 전기적으로 연결된 상태가 되므로 전원배선(PL) 각각의 위치별 전압강하를 억제하여 등전위를 구현할 수 있는 장점을 갖는다.In addition, when the organic
한편, 이러한 구성을 갖는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자(201) 또한 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자(도 11의 102)와 같이 그 변형예로서 도 15(본 발명의 제 2 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자의 전원배선과 쇼팅바의 평면 구조 도시한 도면) 및 도 16(본 발명의 제 2 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자의 전원배선과 쇼팅바의 단면 구조를 나타낸 도면으로도 도 15를 절단선 ⅩⅥ-ⅩⅥ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도)을 참조하면, 평탄화층(140)이 표시영역(DA)에만 형성되고 비표시영역(NA)에 대해서는 형성되지 않는 경우 제 1 전극(미도시)을 형성한 동일한 물질로 이루어진 상기 제 2 연결패턴(cp2)이 상기 평탄화층(140) 외측으로 노출된 상기 각 전원배선(PL)의 일끝단 및 이외 이격하는 쇼팅바(STB)에 대해 직접 접촉하며 상기 전원배선(PL)과 쇼팅바(STB) 상부 및 이들 두 구성요소가 이격한 영역에 대해 형성된 구성을 이룰 수도 있다.On the other hand, the
이러한 구성을 갖는 본 발명의 제 2 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자(202)는 각 전원배선(PL)의 끝단을 노출시키는 배선 콘택홀(Lch)과 쇼팅바(STB)를 노출시키는 쇼팅바 콘택홀 없이 상기 제 2 연결패턴(cp2)이 각 전원배선(PL)의 일끝단 및 쇼팅바(STB)와 상기 각 전원배선(PL)의 일끝단과 쇼팅바(STB) 사이로 노출된 층간절연막(123) 위로 형성되고 있는 바, 상기 박막트랜지스터(미도시)의 소스 및 드레인 전극(미도시)이 완성되는 시점에서는 각 전원배선(PL)이 분리된 형태가 되므로 불량 검사 시 상기 전원배선(PL)의 단선 유무를 파악할 수 있으며, 나아가 최종 제품으로 완성 시 각 전원배선(PL)은 제 2 연결패턴(cp2)을 매개로하여 쇼팅바(STB)와 전기적으로 연결된 상태가 되므로 전원배선(PL) 각각의 위치별 전압강하를 억제하여 등전위를 구현할 수 있는 장점을 갖는다.The
그 외의 구성요소는 전술한 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자(도 13의 201)와 동일하므로 이하 생략한다.
Other components are the same as those of the organic electroluminescent device (201 in FIG. 13) according to the second embodiment of the present invention described above, and thus will be omitted below.
본 발명은 전술한 실시예 및 변형예로 한정되지 않고, 본 발명의 취지 및 사상을 벗어나지 않는 한도내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다.
The present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, and can be implemented with various modifications without departing from the spirit and spirit of the present invention.
101: 유기전계 발광소자
Bch: 배선 콘택홀
DA: 표시영역
NA: 비표시영역
PL: 전원배선
STB: 쇼팅바101: organic electroluminescent device
Bch: wiring contact hole
DA: display area
NA: non-display area
PL: power wiring
STB: Shorting bar
Claims (11)
상기 복수의 부화소영역 각각에 구비된 다수의 박막트랜지스터;
상기 기판상에 형성되어 상기 박막트랜지스터를 덮는 평탄화층;
상기 다수의 박막트랜지스터 중 어느 하나의 박막트랜지스터와 연결되며, 상기 평탄화층 위에 배치된 제 1 전극과 유기 발광층 및 제 2 전극으로 구성된 유기전계 발광 다이오드;
상기 평탄화층 하부에 배치되며 서로 인접하는 화소영역 사이에 상기 제 2 방향으로 연장된 복수의 전원배선;
상기 비표시영역의 상기 평탄화층 위에 배치되어 상기 평탄화층에 형성된 콘택홀을 통해 상기 전원배선과 전기적으로 연결되는 쇼팅바를 포함하는 유기전계 발광소자.
A display area including a pixel area including a plurality of sub-pixel areas defined by a plurality of gate lines extending in a first direction and a plurality of data lines extending in a second direction, and a non-display area disposed outside the display area a substrate comprising a region;
a plurality of thin film transistors provided in each of the plurality of sub-pixel regions;
a planarization layer formed on the substrate and covering the thin film transistor;
an organic light emitting diode connected to any one of the plurality of thin film transistors and comprising a first electrode disposed on the planarization layer, an organic light emitting layer, and a second electrode;
a plurality of power wirings disposed under the planarization layer and extending in the second direction between adjacent pixel regions;
and a shorting bar disposed on the planarization layer in the non-display area and electrically connected to the power wiring through a contact hole formed in the planarization layer.
상기 쇼팅바는 상기 제 1 전극과 동일한 물질로 이루어진 유기전계 발광소자.
The method of claim 1,
The shorting bar is an organic electroluminescent device made of the same material as the first electrode.
상기 복수의 부화소영역 각각에 구비되며, 각각 상기 기판 위에 배치된 게이트 전극과, 상기 게이트 전극을 덮는 게이트 절연막과, 상기 게이트 절연막 위에 배치된 반도체층과, 상기 게이트 절연막 위에 형성되어 상기 반도체층을 덮는 층간절연막과, 상기 층간절연막 위에 배치된 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 다수의 박막트랜지스터;
상기 층간절연막 위에 서로 인접하는 화소영역 사이에 상기 제 2 방향을 따라 구비된 전원배선;
상기 층간절연막 위의 상기 비표시영역에 배치되며, 상기 전원배선과는 일정 거리 이격되어 배치된 쇼팅바;
상기 표시영역 및 비표시영역에 형성되어 상기 다수의 박막트랜지스터와 상기 전원배선 및 상기 쇼팅바를 덮는 평탄화층;
상기 복수의 부화소영역 각각의 상기 평탄화층 위에 형성되고 제 1 전극과 유기 발광층 및 제 2 전극을 포함하는 유기전계 발광 다이오드; 및
상기 비표시영역의 평탄화층 위에 형성되어 상기 평탄화층에 형성된 콘택홀을 통해 상기 전원배선과 상기 쇼팅바를 전기적으로 연결시키는 연결패턴을 포함하는 유기전계 발광소자.A ratio between a display area having a plurality of pixel areas and a display area having a plurality of pixel areas including a plurality of sub-pixel areas defined by a plurality of gate lines extending in the first direction and a plurality of data lines extending in the second direction a substrate on which a display area is defined;
a gate electrode disposed on the substrate, a gate insulating layer covering the gate electrode, a semiconductor layer disposed on the gate insulating layer, and a semiconductor layer disposed on the gate insulating layer provided in each of the plurality of subpixel regions a plurality of thin film transistors including an interlayer insulating film covering the interlayer insulating film, and a source electrode and a drain electrode disposed on the interlayer insulating film;
a power wiring provided along the second direction between adjacent pixel regions on the interlayer insulating layer;
a shorting bar disposed in the non-display area on the interlayer insulating layer and spaced apart from the power wiring by a predetermined distance;
a planarization layer formed in the display area and the non-display area to cover the plurality of thin film transistors, the power wiring, and the shorting bar;
an organic light emitting diode formed on the planarization layer in each of the plurality of subpixel regions and including a first electrode, an organic light emitting layer, and a second electrode; and
and a connection pattern formed on the planarization layer of the non-display area and electrically connecting the power wiring and the shorting bar through a contact hole formed in the planarization layer.
상기 제 1 전극은 상기 연결패턴과 동일 물질로 구성되어 상기 평탄화층에 배치되는 유기전계 발광소자.
5. The method of claim 4,
The first electrode is made of the same material as the connection pattern and is disposed on the planarization layer.
상기 부화소영역의 경계에 상기 제 1 방향으로 연장하는 제 1 보조배선과, 상기 화소영역의 경계에 상기 제 2 방향으로 연장하며 상기 게이트 배선과 이격하는 제 2 보조배선이 구비되며, 상기 다수의 박막트랜지스터는 상기 데이터 배선 및 게이트 배선과 연결된 스위칭 박막트랜지스터와, 상기 스위칭 박막트랜지스터 및 상기 전원배선과 연결된 구동 박막트랜지스터와, 상기 구동 박막트랜지스터 및 상기 제 2 보조배선과 연결된 센싱 박막트랜지스터인 유기전계 발광소자.
7. The method of any one of claims 1, 3, 4 and 6,
A first auxiliary line extending in the first direction is provided at the boundary of the sub-pixel area, and a second auxiliary line extending in the second direction and spaced apart from the gate line is provided at the boundary of the pixel area. The thin film transistor includes a switching thin film transistor connected to the data wiring and the gate wiring, a driving thin film transistor connected to the switching thin film transistor and the power supply wiring, and a sensing thin film transistor connected to the driving thin film transistor and the second auxiliary wiring. device.
상기 복수의 부화소영역 각각에 박막트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 박막트랜지스터가 형성된 상기 기판 위의 상기 복수의 부화소영역 각각에 제 1 전극과 유기 발광층 및 제 2 전극을 포함하는 유기전계 발광 다이오드를 형성하는 단계;
상기 표시영역의 상기 화소영역 사이에 제 2 방향으로 연장되는 복수의 전원배선을 형성하고 상기 비표시영역에 상기 전원배선과는 분리된 쇼팅바를 형성하는 단계;
상기 전원배선의 불량여부를 검사하는 단계; 및
상기 전원배선과 상기 쇼팅바를 연결하는 단계를 포함하는 유기전계 발광소자 제조방법.
A display area including a pixel area including a plurality of sub-pixel areas defined by a plurality of gate lines extending in a first direction and a plurality of data lines extending in a second direction, and a non-display area disposed outside the display area providing a substrate comprising a region;
forming a thin film transistor in each of the plurality of sub-pixel regions;
forming an organic light emitting diode including a first electrode, an organic light emitting layer, and a second electrode in each of the plurality of sub-pixel regions on the substrate on which the thin film transistor is formed;
forming a plurality of power wirings extending in a second direction between the pixel regions of the display area and forming a shorting bar separated from the power wirings in the non-display area;
checking whether the power wiring is defective; and
and connecting the power wiring and the shorting bar.
상기 전원배선과 상기 쇼팅바를 형성하는 단계는 상기 전원배선을 덮도록 평탄화층을 형성하고 상기 평탄화층 위에 상기 쇼팅바를 형성하는 단계를 포함하며,
상기 전원배선과 상기 쇼팅바를 연결하는 단계는 상기 평탄화층에 형성된 콘택홀을 통해 전원배선과 상기 쇼팅바를 연결하는 단계를 포함하는 유기전계 발광소자 제조방법.
10. The method of claim 9,
The step of forming the power wiring and the shorting bar includes forming a planarization layer to cover the power wiring and forming the shorting bar on the planarization layer,
The step of connecting the power wiring and the shorting bar includes connecting the power wiring and the shorting bar through a contact hole formed in the planarization layer.
층간절연막 위에 상기 표시영역 및 상기 비표시영역에 각각 상기 전원배선 및 상기 쇼팅바를 형성하는 단계;
상기 표시영역 및 상기 비표시영역에 평탄화층을 형성하는 단계; 및
상기 평탄화층 위에 연결패턴을 형성하여 상기 평탄화층에 형성된 콘택홀을 통해 상기 전원배선 및 상기 쇼팅바를 연결하는 단계를 포함하는 유기전계 발광소자 제조방법.
The method of claim 9, wherein the forming of the power wiring and the shorting bar and connecting the power wiring and the shorting bar include:
forming the power wiring and the shorting bar in the display area and the non-display area on an interlayer insulating layer, respectively;
forming a planarization layer in the display area and the non-display area; and
and forming a connection pattern on the planarization layer to connect the power wiring and the shorting bar through a contact hole formed in the planarization layer.
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